OptiBPM:创建一个简单的多模干涉(MMI)耦合器
主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: c&T14!lfn • 定义MMI耦合器的材料; k&>l#oH • 定义布局设定; |Zo_x}0 • 创建一个MMI耦合器; DLrG-C33 • 插入输入面; K\GIh8L • 运行模拟; .cX,"2;n • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 hrr ;=q$ ,w/f:-y 1. 定义MMI耦合器的材料 .DkDMg1US 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: 4c_F>Jw[ 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ 6}6ky9 |fk,&5s
[attachment=127413] 图1.初始性能对话框 <.<Q.z 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” xR,;^R|C "rA:;ntz
[attachment=127414] 图2.轮廓设计窗口 x{|n>3l`b9 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 w5(GRAH $PQlaivA
[attachment=127415] 图3.电介质材料创建窗口 5}4MXI4 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: J}.y+b>8\ − Name : Guide =9;jVaEMJL − Refractive Index (Re) : 3.3 = *A_{u;E − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 aUy=D:\ p3eJFg$
[attachment=127416] 图4.创建Guide材料 r} ~l( 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: O:a$ U:
− Name : Cladding 6]}Xi:I − Refractive Index (Re) : 3.27 Fq5);sX= − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 }m<)$.x|P u0J+Nj9
[attachment=127417] 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 1LjYV 6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: H\3CvFm − Name : Guide_Channel wz!]]EQ!o − 2D profile definition: Guide GfQP@R" − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 o+O\VNW w
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图6.构建通道 2. 定义布局设定 7OOB6[.fu 为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: < |