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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 _Gi4A  
x$.^"l-vX  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 $)ijN^hV  
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场景 { VfXsI  
H.|#c^I  
[attachment=127374] RSyUaA  
%G/ hD  
在VirtualLab Fusion中构建系统 e L^ |v  
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系统构建块 t?-n*9,#S  
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组件求解器 WwBOM~/`2  
p{ Yv3dNl  
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系统构建块 9`A;U|~E@  
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[attachment=127377] 0KcyLAJ  
+mmSfuO&\  
总结 V6&!9b  
2G67NC?+  
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UXc-k  
几何光学仿真 0d"[l@UU0  
通过光线追迹 u~M q*  
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结果:光线追迹 Q_Q''j(r6b  
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快速物理光学仿真 (cAIvgI  
通过场追迹 M=.n7RY-  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 /7nb,!~~l  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Xtq_y'I  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 RE7?KR>  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 jiV<+T?  
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总结 =V, mtT  
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