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2024-03-27 08:03 |
通过高NA浸没显微镜进行聚焦
摘要 Ugt/rf5n K Hu+9eX 在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 m@F`!qY~Y\ n)e
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9A 场景 #PW9:_BE TG?brgW [attachment=127374] $q{!5-e *NaB#;+|k` 在VirtualLab Fusion中构建系统 ")5":V~fN T#Z^s~7&I 系统构建块 ,vawzq[oSy :$|HNeDO [attachment=127375] KVaiugQ r~8 $1" 组件求解器 ?V.cOR`6 $am$EU?s [attachment=127376] beGa#JH, uc\Kg1{ 系统构建块 b<ZIWfs ^_W#+>&-- [attachment=127377] Tc:)-
z[o qLG&WB 总结 A#<? 4& c )g\/ [attachment=127378] 7#a-u<HF" rJTa 几何光学仿真 @)M9IOR 通过光线追迹 [Ek7b* QXFo1m 结果:光线追迹 $G+@_' vF+7V*< [attachment=127379] IdYt\^@> yYYSeH 快速物理光学仿真 ncdKj} 通过场追迹 [ 5b--O |F[+k e 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 KC6.Fr{ 5m 4P\y^a [attachment=127380] Y=I'czg 7U"g3a)= 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 qgHWUwr+n U_Ptqqt% [attachment=127381] q`7PhA LA5(sp@O 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ZJJY8k ` 1(R}tRR7 R [attachment=127382] @Uvz8*b6 _ <V)-Y 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;[YG@-"XZ BwpqNQN [attachment=127383] ,/2Vt/lt Iyn(?w 总结 |SSSH
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