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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 :L 3&FA   
n& $^04+i  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 c '\SfW<  
|([R'Orm  
[attachment=127373] Xes|[*Y!V  
场景 D?M!ra  
C;~*pMAYe  
[attachment=127374] *U#m+@\0  
-@&1`@):{  
在VirtualLab Fusion中构建系统 fj,m  
cubUq5  
系统构建块 q_Lo3|t i  
q:8_]Qt  
[attachment=127375] jtm?z c  
G9g6.8*&  
组件求解器 ^ZTGJ(j7~  
H UWxPIu  
[attachment=127376] @InZ<AW>|  
V#q}Wysft  
系统构建块 4Tct  
0D~ C 5}/4  
[attachment=127377] _DP|-bp D  
iK_c.b  
总结 +2C?9:bH  
s:y ^_W)d  
[attachment=127378]  8%RI7Mg  
b @;.F!x  
几何光学仿真 <f~Fl^^8  
通过光线追迹 VK3it3FI>3  
u2(eaP8d  
结果:光线追迹 `3q;~ 9  
TQ9D68 ,  
[attachment=127379] <EO<x D=:  
k6\^p;!Y  
快速物理光学仿真 ]|:uU  
通过场追迹 )fU(AXSP  
"?.~/@  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9j|gdfb%ml  
Cpx+qQt0  
[attachment=127380] q\9d6u=Gm  
AN9[G  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 'q%%m/,VPQ  
o!&W sD  
[attachment=127381] v@EQ^C2.&  
gd6Dm4q(  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 gd^Js 1Z  
X21dX`eMN  
[attachment=127382] s.jO<{  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 t0m*PJcF  
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[attachment=127383] D>wZ0p b-  
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总结 :]eb<J  
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[attachment=127384]
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