| infotek |
2024-03-27 08:03 |
通过高NA浸没显微镜进行聚焦
摘要 k?z98 >4 {
Q`QX`# 在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 rZfN+S,g OV%Q3$15 [attachment=127373] 9v}G{mQ# 场景 7A\~)U@ zSSB>D [attachment=127374] bV8!"{ N#Zhxu,g! 在VirtualLab Fusion中构建系统 \yd
s5g!: @:U+9[ 系统构建块 \z$p%4`E@ KTn}w:+B\ [attachment=127375] <0QH<4 1e>s{ 组件求解器 NDs!a sp5eVAd [attachment=127376] u)V#S:9] `S2[5i 系统构建块 .GsO.#p{ n%k!vJ)] [attachment=127377] +[R/=$ 5o6>T! 总结 h~p>re m^H21P"z [attachment=127378] #%D_Y33; +> WM[o^I 几何光学仿真 Q"t<3-" 通过光线追迹 z j/!In $zyIuJN# 结果:光线追迹 VH(S=G5Yb 8:#rA*Y [attachment=127379] 5Pd"h S aAA9$ 快速物理光学仿真 CWNx4)ZGw 通过场追迹 K)-m*#H&uw "7v @Rye 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 m^#rB`0;L 66'?&Xx' [attachment=127380] <6fv1d+v Oer^Rk 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 /-qxS <?o FP>)&3>_ [attachment=127381] V
hk_ )DeA}e?F 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9:!gI|C ]\xy\\b/` [attachment=127382] OI?K/rn N @#c,, 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 h?f>X"*|( svuq gSn [attachment=127383] Pf_S[
sm m@Qt.4m%g 总结 /MF!GM l6~-8d+lfN [attachment=127384]
|
|