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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 1:YDN.*  
JPQ02&e  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 /UyW&]nK  
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[attachment=127373] 2SG|]=  
场景 G&C)`};  
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[attachment=127374] ~ezCE4^&  
cIM5;"gLP  
在VirtualLab Fusion中构建系统 (-dJ0!  
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系统构建块 MiRH i<g0  
4vqu(w8 L  
[attachment=127375] DA@ { d-A  
8QC:ro  
组件求解器 W]Ph:O ^5c  
3}twWnQZJ  
[attachment=127376] ?U-p jjM  
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系统构建块 RB &s$6A  
^* DKF  
[attachment=127377] 3'/wRKl  
s vo^#V~h'  
总结 1~7y]d?%  
=?*V3e3{  
[attachment=127378] }|SVt`n  
J.?p?-"  
几何光学仿真 cQ+, F2  
通过光线追迹 Jb tbW &EH  
:cC`wX$  
结果:光线追迹 -;~_]t^a  
?q,x?`|(8  
[attachment=127379] $(CHwG-  
R*&3i$S  
快速物理光学仿真 i;dr(c/ft  
通过场追迹 UT{N ly8u  
>LLzG  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 [e^i".  
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R,^FJ  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 @K+u+} R  
5cE[s<=  
[attachment=127381] z.H`a+cl  
g)p[A 4  
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 u8,T>VNVw  
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n&V(c&C  
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 1Gqtd^*;  
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[attachment=127383] \Fe5<G'v  
B"B  
总结 1b D c ct  
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