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2024-03-27 08:03 |
通过高NA浸没显微镜进行聚焦
摘要 Vc Z3
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。
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场景 y<Ot)fa$
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在VirtualLab Fusion中构建系统 O\ r0bUPE
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系统构建块 S,he6zS
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组件求解器 b>ySv
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系统构建块 +M/ %+ l
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总结 O=7CMbS3
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几何光学仿真 X &H"51
通过光线追迹 f/?P514h
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结果：光线追迹 !4+<<(B=E
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快速物理光学仿真 Ny/MJ#Lq
通过场追迹 z
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 J{G?-+`
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Ow ,b^|
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 K3uRs{l|
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 5"H=zJ=r
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总结 8 Fbo3
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