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2024-03-27 08:03 |
通过高NA浸没显微镜进行聚焦
摘要 mFpj@=^_G
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 6EWCJ%_
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场景 U GOe(JB
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在VirtualLab Fusion中构建系统 @ux g;dyI~
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系统构建块 " H=fWz5z
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组件求解器 0,LUi*10
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系统构建块 H/#WpR g
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总结 w/0;N`YB
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几何光学仿真 z\IZ5'
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结果：光线追迹 No/D"S#
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快速物理光学仿真 0c#|LF_
通过场追迹 tUFXx\p
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 M <)Vtn
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 zL:k(7E
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 zU>bT20x/
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ^t)alN Gos
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总结 K}Pi"Le@W
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