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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 A!1;}x  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 jYNrD"n  
l & Dxg  
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场景 iy""(c  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 8* Jw0mSw  
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系统构建块 -OSa>-bzNx  
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组件求解器 1CLL%\V  
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系统构建块 <w3!!+oK"  
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总结 @k&qb!Qah  
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I%urz!CNE*  
几何光学仿真 ^n0]dizB  
通过光线追迹 @JdZ5Q  
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结果:光线追迹 uslQ*7S[^  
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快速物理光学仿真 T0]MuIJ).  
通过场追迹 v+9 9 -.  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 (h:Rh  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 o.I6ulY8  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =hl}.p  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0wS+++n$5  
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总结 5xL~`-IA&v  
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