| infotek |
2024-03-27 08:03 |
通过高NA浸没显微镜进行聚焦
摘要 A!1;}x +_-bJo2a 在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 jYNrD"n l
& Dxg [attachment=127373] k
X {0y 场景 iy""(c w[P4&?2: [attachment=127374] Em[DHfu1Q 9@Cv5L?p\ 在VirtualLab Fusion中构建系统 8* Jw0mSw %s19KGpA 系统构建块 -OSa>-bzNx Jk,;JQ [attachment=127375] Z{'i F U]a*uF~h 组件求解器 1CLL%\V boG_f@dv( [attachment=127376] NnVnUgx s+tGFjq 系统构建块 <w3!!+oK" \"hJCP?, [attachment=127377] D7_*k%;@ 0p89: I*0 总结 @k&qb!Qah |Ph3#^rM? [attachment=127378] 'vN G(h#%d I%urz!CNE* 几何光学仿真 ^n0]dizB 通过光线追迹 @JdZ5Q \W1/p` 结果:光线追迹 uslQ*7S[^ ^pHq66d%Z [attachment=127379] 6;b~Ht ;;&}5jcV 快速物理光学仿真 T0]MuIJ). 通过场追迹 v+99
-. Uix6GT; 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 (h:Rh >LDhU%bH [attachment=127380] V')0 Mr utr:J 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 o.I6ulY8 \6\<~UX^ [attachment=127381] ,0LU~AGe
B#9{-t3Vf 在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 =hl }.p mc4i@<_? [attachment=127382] CirZ+o GgKEP,O 聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 0wS+++n$5 .9.2Be [attachment=127383]
W%\C_ av~5l4YL 总结 5xL~`-IA&v }NB}"%2 [attachment=127384]
|
|