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infotek 2024-03-27 08:03

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 iDej{95  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 @#[<5ld  
V~p/P  
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场景 .T0w2Dv/  
N3 qtq9{  
[attachment=127374] Yg@k +  
V;$ME4B\{  
在VirtualLab Fusion中构建系统 m~a'  
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系统构建块 v:0.  
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组件求解器 hd*bPj ;  
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[attachment=127376] YB{hQ<W  
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系统构建块 O!#yP Sq?  
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[attachment=127377] t.'|[pOV  
=8BMCedH|  
总结 &c<0g`x  
Cz@[l=-T7  
[attachment=127378] zFVNb  
Q _Yl:c  
几何光学仿真 c\.Hs9T >  
通过光线追迹 Q; DN*  
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结果:光线追迹 3 D<s #  
FJ]BB4 K  
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快速物理光学仿真 U1zcJ l^  
通过场追迹 R:49Gn:F  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 t# cm |  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方   -58  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 3|1ug92  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 k e$g[g  
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总结 vFuf{ @P  
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