| infotek |
2024-03-27 08:03 |
通过高NA浸没显微镜进行聚焦
摘要 P>0j]?RB
+d2+w1o^V
在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 jgs kK
LGgEq -
[attachment=127373] 4&R\6!*s
场景 `Z{;
c
|0b$60m$!t
[attachment=127374] E JNj.c-#
VjMd&>G
在VirtualLab Fusion中构建系统 k&n7 _[]n
FJ!N)`[
系统构建块 q@8Rlc&
Ni"fV]'
[attachment=127375] KVSy^-."
%&V<kH"7Q{
组件求解器 '4L
i
F'C ]OMBE
[attachment=127376] H)
m!)=\'
c 5mv4 MC
系统构建块 ZBJ.dK?Ky|
b0rC\^x
[attachment=127377] <$Q&n{
~*L H[l>K
总结 oMkB!s
xPq3Sfg`A
[attachment=127378] <Zl0$~B:5
'"GdO; }&
几何光学仿真 f|m.v
+7k
通过光线追迹 :* /<eT_
b1\z&IdC
结果：光线追迹 f2uog$H k
Mf f_j0D
[attachment=127379] E4T?8TO$o%
QbV)+7II=
快速物理光学仿真 \X
Nb 9-
通过场追迹 8{4I6;e -
y!blp>V6
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 rZKv:x}{6
c ?V,a`6
[attachment=127380] : b $
M
cK@O)Ko}
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 E 7;KG^
E36<Wog
[attachment=127381] hy
W4=
0}Kl47 }aD
在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 |pq z( j7
M}(4> W
[attachment=127382] ]r'b(R; S
_q3SR[k+`
聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 N^%[
B9D
cvn,&G -`
[attachment=127383] P@k
;Lg"
| +suGqo
总结 k(u W( 6
'9{H(DA
[attachment=127384]
|
|