培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： kCLz@9>FQ  
课程大纲 to]1QjW-  
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第一天： 4CfPa6_  
• 光学和光线追迹的入门概念 V= !!;KR0  
• ASAP 简介 E3;[*ve  
• ASAP 数据输入 ~.yt  
• 单透镜辐射计示例 +hV7o!WxC  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 MU%C_d%.  
• 几何规范和通用几何设置 0rjx
WPc  
• 光学特性 1+.(N:) +  
• 光源设置 &37QUdp+p  
• 光线追迹 zF3fpEKe  
• 系统分析与评价 /wH]OD{  
• 光线分裂和接收属性 Rco#?'  
• ASAP 宏语言 g}P.ksM  
• 散射模型和重点采样 f9X*bEl9;`  
• 光线路径 UIovv%7zZ  
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第二天： WFsa8qv  
散射杂散光： pDrM8)r
 
• 杂散光术语 YeptYW@xfw  
• 杂散光的成因和影响 Mw*R~OX  
• 杂散光分析和评价方法 rRly0H  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 ~X*)gS-=  
• 关键和照明表面 V)f/umT%g  
• 重点采样位置和大小计算 4{[Df$'e>  
• 杂散光PST计算 L6J=m#Ld  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 nO,<`}pV  
• 表面黑化处理 iRBUX`0  
鬼像： !#5RP5,,Y  
• 鬼像的来源 OB>Pk_eQK  
• ASAP膜层 |!aMj8i2  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 g3Xq@RAJc  
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第三天：
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衍射和红外杂散光： - b:&ACY  
• 孔径衍射 J-au{eP^  
• 衍射光学元件的杂散光 Y2"X;`<  
• 红外系统杂散光特征 wFnIM2a,  
• 红外热辐射 R%"wf   
• 自发辐射杂散光 1I<D `H%  
• 红外冷反射 &CV%+  
杂散光工程： [x kbzJ  
• 杂散光的控制方法 ^uD r
  
• 散射测量  ?;ZTJ  
• 杂散光工程流程总结和答疑 4'cdV0]  
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培训详情 W`*S?QGzl@  
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培训时间：2024年4月17日-19日 N2 wBH+3w  
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培训地点：湖北武汉 WV]Si2pOZ  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 PmZ-H>  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 f R$E*Jd  
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培训说明： 6FFQoE|n
 
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； suC]  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； mJ2>#j;5f  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 *yN+Xm8o  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； P:eY>~m<;  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； jQxv`H  
提供服务性发票，项目“培训费”。 $!h21  
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报名方式：电话：13396044940