培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： 4:g:$s|SE[  
课程大纲 o|q#A3%?  
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第一天： In M'zAhb  
• 光学和光线追迹的入门概念 Yg?{x@  
• ASAP 简介 TJ:Lz]l >  
• ASAP 数据输入 !I_
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• 单透镜辐射计示例 $7d"9s\$"  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ;g
]+MLV9  
• 几何规范和通用几何设置 zAUfd[g  
• 光学特性 ^0-=(JrC  
• 光源设置 oH"N>@Vl  
• 光线追迹 {2@96o2}  
• 系统分析与评价 G3?z.5,Q  
• 光线分裂和接收属性 c$fM6M }  
• ASAP 宏语言 =T$- #bA)  
• 散射模型和重点采样 ),,vu  
• 光线路径 l:f sZO4  
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第二天： j]&{ @Y  
散射杂散光： Zh
^w)}(W  
• 杂散光术语 OhEL9"\<  
• 杂散光的成因和影响 o7zfD94I  
• 杂散光分析和评价方法
?~IZ{!  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 M7 !" t  
• 关键和照明表面 fif<[Ax  
• 重点采样位置和大小计算 Shz;)0To  
• 杂散光PST计算 F9W5x=EK\  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 Kx0dOkE  
• 表面黑化处理 `f]O  
鬼像： ]EQ/*ct  
• 鬼像的来源 ^ BKr0~4A  
• ASAP膜层 nT"z(\i.!J  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 6<Z9p@6  
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第三天： >B7OTGw  
衍射和红外杂散光： ;zDc0qpw  
• 孔径衍射 Uw"  
• 衍射光学元件的杂散光 7i.aZ2a%  
• 红外系统杂散光特征 Vk-_H)*r  
• 红外热辐射 a0.XJR{T"  
• 自发辐射杂散光 pdSyx>rJ  
• 红外冷反射 ^h=kJR9  
杂散光工程： e$=|-Jz  
• 杂散光的控制方法 LKcrr
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• 散射测量 9OUhV[D  
• 杂散光工程流程总结和答疑 h# 8b#  
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培训详情 if>] )g2lr  
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培训时间：2024年4月17日-19日 #SueT"F  
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培训地点：湖北武汉 v0=~PN~E  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 FhGbQJ?[3  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 X6RM2  
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培训说明： CR<l"~X  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； qM+T Wp  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； xh0!H| R  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 xXZN<<f59  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； x%1Rp[  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； ]7;;uhn`  
提供服务性发票，项目“培训费”。 |UG)*t/  
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报名方式：电话：13396044940