培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： )[b\wrc  
课程大纲 gn//]|#H+  
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第一天： uB=DC'lkg  
• 光学和光线追迹的入门概念 1;v,rs M  
• ASAP 简介 >Nam@,hm  
• ASAP 数据输入 :$6mS[@|  
• 单透镜辐射计示例 :+_uyp2V  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ~=GwNo_  
• 几何规范和通用几何设置 
[KQ#b  
• 光学特性 a = *'  
• 光源设置 f9K+o-P.h  
• 光线追迹 +D+v j|fn  
• 系统分析与评价 'VpzB s#  
• 光线分裂和接收属性 *{:Zdg'~E
 
• ASAP 宏语言 V15/~  
• 散射模型和重点采样 ;!S i_b2  
• 光线路径 &|-jU+r}B  
ZH)Jq^^RI  
第二天： A)#w~X4  
散射杂散光： ~xLo0EV"  
• 杂散光术语 ;nq"jm  
• 杂散光的成因和影响 #<K'RJ
n  
• 杂散光分析和评价方法 u>ZH-nw O  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 8vkCmV  
• 关键和照明表面 ' !2NSv  
• 重点采样位置和大小计算 redMlHM  
• 杂散光PST计算 4A`U [r_>D  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 S5BS![-QK  
• 表面黑化处理 dQn,0  
鬼像： `pb=y}  
• 鬼像的来源 cYgd1  
• ASAP膜层 ToK=`0#LNK  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 z"nMR_TTu  
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第三天： f AY(ro9Q(  
衍射和红外杂散光： A]laS7Q  
• 孔径衍射 }<q
ZXb1  
• 衍射光学元件的杂散光 ,|g&v/WlC%  
• 红外系统杂散光特征 MQe|\SMd  
• 红外热辐射 (A )f r4  
• 自发辐射杂散光 Nwj M=GG  
• 红外冷反射 q`VkA \  
杂散光工程： x4i&;SP0  
• 杂散光的控制方法 \9fJ)*-  
• 散射测量 ;m=k FZ?  
• 杂散光工程流程总结和答疑 Yl&bv#[z  
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培训详情 }uwZS=pw  
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培训时间：2024年4月17日-19日 75pn1*"gQ  
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培训地点：湖北武汉 ]VR79l  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 K]1|#`n  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 jM-7  
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培训说明： ? o&goiM  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； 4k9$' k  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； HVdB*QEH  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 t33\f<e  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； # 0d7
  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； HzL~B#  
提供服务性发票，项目“培训费”。 JqUft=p5  
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报名方式：电话：13396044940