培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： @5GBuu^j  
课程大纲 9[,s4sxH  
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第一天： 'FqEB]gu  
• 光学和光线追迹的入门概念 tU(y~)]  
• ASAP 简介 CX.SYr&!R  
• ASAP 数据输入 RCQAtBd  
• 单透镜辐射计示例 kI<WvgoL  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 G#'Q~N  
• 几何规范和通用几何设置 TIETj~+  
• 光学特性 $59nu7yr  
• 光源设置 |a>}9:g,=*  
• 光线追迹 8T<@ @6`T  
• 系统分析与评价 y]<#%Fh  
• 光线分裂和接收属性 J2'W =r_#  
• ASAP 宏语言 htV#5SUx&  
• 散射模型和重点采样 NA=#>f+U%  
• 光线路径 /M]eZ~QKD  
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第二天： 5^b i 7J  
散射杂散光： e& p_f<  
• 杂散光术语 CJm.K  
• 杂散光的成因和影响 / =-6:L  
• 杂散光分析和评价方法 RrKfTiK H  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 TbMdQbj}  
• 关键和照明表面 hR!}u}ECd  
• 重点采样位置和大小计算 T0YDfo  
• 杂散光PST计算 UKOFT6|  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 XzW
7eO,A  
• 表面黑化处理 -.^
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鬼像： eQ$e*|}"m  
• 鬼像的来源 Oy:QkV9  
• ASAP膜层 fEB195#@9  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 F. }l(KuJ  
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第三天： >dyhox2*"  
衍射和红外杂散光： 6$;L]<$W>  
• 孔径衍射 {x7=;-  
• 衍射光学元件的杂散光 FOeVRq:#  
• 红外系统杂散光特征 sr;:Dvx~  
• 红外热辐射 VccM=w%*  
• 自发辐射杂散光 0r0c|*[+4z  
• 红外冷反射 hHCzj*5  
杂散光工程： Hw
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• 杂散光的控制方法 <{E;s)hD?  
• 散射测量 Q! Kn|mnN  
• 杂散光工程流程总结和答疑 c6t2Q6zV  
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培训详情 Ir!2^:]!  
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培训时间：2024年4月17日-19日 Cca6L9%  
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培训地点：湖北武汉 n"mJEkHE  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 w~4 z@/^"p  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师
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培训说明： tp#Z@5=  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； MJ1W*'9</W  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； wTHK=n\i  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 _t$lcOT  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； 1a5?)D  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； 03~+-h&n  
提供服务性发票，项目“培训费”。 Ok*VQKyDLH  
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报名方式：电话：13396044940