培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： <aa#OX  
课程大纲 s`xp6\$  
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第一天： ;%2/  
• 光学和光线追迹的入门概念 7{f&L'  
• ASAP 简介 4][m!dsU  
• ASAP 数据输入 '#$%f  
• 单透镜辐射计示例 G40,KCa  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 hXM8`iFW5  
• 几何规范和通用几何设置 xksQMS2#  
• 光学特性 CeS8I-,  
• 光源设置 )u]J`.OA  
• 光线追迹 #)q}Jw4]j  
• 系统分析与评价 1;3oGuHj8  
• 光线分裂和接收属性 +l@H[r;$  
• ASAP 宏语言 xB3;%Lc  
• 散射模型和重点采样 rZ 9bz}K  
• 光线路径 Ya*lq! u  
+mhYr]Z  
第二天： 5+rYk|*D+k  
散射杂散光： 0#F3@/1h  
• 杂散光术语 pSkP8' ?  
• 杂散光的成因和影响 (~xFd^W9o  
• 杂散光分析和评价方法 VYTdK"%  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 LW?] ~|  
• 关键和照明表面 X'.}#R1  
• 重点采样位置和大小计算 QD]Vfj4+  
• 杂散光PST计算 l"RX`N@In  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 rJ
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• 表面黑化处理 yw"FI!M  
鬼像： cy*Td7)/  
• 鬼像的来源 xb0hJ~e  
• ASAP膜层 _X;^'mqf~  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 Jx1oK  
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第三天： VE4!=4  
衍射和红外杂散光： ]8ua>1XS  
• 孔径衍射 W*;~(hDz  
• 衍射光学元件的杂散光 `GC7o DL  
• 红外系统杂散光特征 ].]yqD4P  
• 红外热辐射 '@2pOq  
• 自发辐射杂散光 HKv:)h{?  
• 红外冷反射 tf|/_Y2  
杂散光工程： $5r[YdnY<  
• 杂散光的控制方法 | ctGxS9  
• 散射测量 d~C YZ  
• 杂散光工程流程总结和答疑 ncb
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培训详情 K8Gc5#OF  
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培训时间：2024年4月17日-19日 gC;y
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培训地点：湖北武汉 m46Q%hwV  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 YoGnk^$  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 5g&.P\c{  
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培训说明： Mr<2I  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； CY)/1 # J  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； B@HW@j  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 dl'
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； uT8/xNB!  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； 5,I'6$J  
提供服务性发票，项目“培训费”。 &BqRyUM$F  
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报名方式：电话：13396044940