培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： sR83e|4I  
课程大纲 %HtgZeY  
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第一天： Gos#=H  
• 光学和光线追迹的入门概念 %xG
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• ASAP 简介 yvzH}$!]  
• ASAP 数据输入 *s"OqTM]x  
• 单透镜辐射计示例 IQtQf_"e1  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 3)#Nc|  
• 几何规范和通用几何设置 l4U*Lv>   
• 光学特性 Cd=$XJ-b  
• 光源设置 {~FPvmj&  
• 光线追迹 !03JA9lo  
• 系统分析与评价 N\Lu+ x5  
• 光线分裂和接收属性 XMkRYI1~  
• ASAP 宏语言 Ai[@2AyU  
• 散射模型和重点采样 -ZSN0Xk  
• 光线路径 |te=DCO  
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第二天： F<6(Hw#>  
散射杂散光： x*'H@!!G  
• 杂散光术语 D84&=EpVZ  
• 杂散光的成因和影响 F7*)u-4Yn  
• 杂散光分析和评价方法 X
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• ASAP杂散光分析流程、步骤 [:gg3Qzx  
• 关键和照明表面 u*I'c2m  
• 重点采样位置和大小计算 D]*|Zmr+}  
• 杂散光PST计算 %bF157X5An  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 umq6X8K  
• 表面黑化处理 S ;rd0+J  
鬼像： *VJISJC  
• 鬼像的来源 zng.(]U/?H  
• ASAP膜层 4TPdq&';C:  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 Haktr
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C,eP!_O  
第三天： RC1bTM  
衍射和红外杂散光： N*&T)
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• 孔径衍射 Z#Nw[>NN*  
• 衍射光学元件的杂散光 M@h"FuX:  
• 红外系统杂散光特征 1 /{~t[*.  
• 红外热辐射 ]*mUc`  
• 自发辐射杂散光 )~R[aXkvY  
• 红外冷反射 V?G%-+^  
杂散光工程： =:w,wI.  
• 杂散光的控制方法 (2>q  
• 散射测量 OOXSJE1  
• 杂散光工程流程总结和答疑 Xy K,  
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培训详情 w*/@|r39  
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培训时间：2024年4月17日-19日 O<L=N-  
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培训地点：湖北武汉 PpG;5  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 AQQa6Ce*  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 ~>9G\/u j  
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培训说明： LkzA_|8:D  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； SZrc-f_  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； I9+h-t  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 )mwwceN  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； Fs4shrt  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； M_%
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提供服务性发票，项目“培训费”。 )mOM!I7D@  
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报名方式：电话：13396044940