培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！
武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： hv_XP,1K
课程大纲 WWHoi{ q
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第一天： qVw Io.g!
• 光学和光线追迹的入门概念 _Qi&J.U>
• ASAP 简介 rFYWs6
• ASAP 数据输入 HATA- M
• 单透镜辐射计示例 ]Nl=wZ#`
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 }i`PGx
• 几何规范和通用几何设置 9@52Fg ;mj
• 光学特性 2?,EzBeal
• 光源设置 8`
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• 光线追迹 W# BM(I
• 系统分析与评价 I8<,U!$
• 光线分裂和接收属性 <]4i`6{v
• ASAP 宏语言 CkD#/
• 散射模型和重点采样 s#DaKPC
• 光线路径 H5]^
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第二天： 1Q4}'0U4
散射杂散光： t{FlB!jv
• 杂散光术语 R~jHr
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• 杂散光的成因和影响 {h2TD
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• 杂散光分析和评价方法 >O?U= OeD
• ASAP杂散光分析流程、步骤 Q7C ;1aO
• 关键和照明表面 _~tEw.fM5
• 重点采样位置和大小计算 C,NxE5?h
• 杂散光PST计算 w'fT=v)
• 光学表面粗糙、污染和微粒 B`o]*"xkB
• 表面黑化处理 :ORR_f`>
鬼像： Nl9I*x^e
• 鬼像的来源 )+"'oY$]}
• ASAP膜层 f<*Js)k
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 R8UYP=Kp
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第三天： nF4a-H&Fo
衍射和红外杂散光： /K{9OT@>
• 孔径衍射 V$ic Wu
• 衍射光学元件的杂散光 x ^y" <
• 红外系统杂散光特征 E55 t*^`
• 红外热辐射 `S.ZS}~!F
• 自发辐射杂散光 bY2 C]r(n
• 红外冷反射 a9Z%JS]
杂散光工程： O Xi@c;F
• 杂散光的控制方法 1q3(
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• 散射测量 gE hN3(
• 杂散光工程流程总结和答疑 zBp{K@U[|M
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培训详情 {
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培训时间：2024年4月17日-19日 }^*F59>H
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培训地点：湖北武汉
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 B_l {<
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 L0]_hxE?
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培训说明： Xy5s^82?
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； y "<))-MH
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； Hiv! BV|
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 G"59cv8z4R
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； <{:
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； 70Yjv 1 i
提供服务性发票，项目“培训费”。 %q322->Z
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报名方式：电话：13396044940
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