培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： d'HOpJE  
课程大纲 [
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第一天： w2"]Pl  
• 光学和光线追迹的入门概念 TZB+lj1  
• ASAP 简介 /i
M$Tb5  
• ASAP 数据输入 <8
o(CA\  
• 单透镜辐射计示例 UTk r.T+2X  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 >Hwc,j q  
• 几何规范和通用几何设置 \8b6\qF/\  
• 光学特性 m *X7T  
• 光源设置 WS0JS'  
• 光线追迹 F9Z@x)  
• 系统分析与评价 ?&c:q3_-Z  
• 光线分裂和接收属性 \2!!L=&4G  
• ASAP 宏语言 'Cg{_z.~c  
• 散射模型和重点采样 f}fsoDoQ=  
• 光线路径 Je7RrCz  
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第二天： Nw<P bklz  
散射杂散光： Dgi~rr1`'s  
• 杂散光术语 Zz"}Cz:bX  
• 杂散光的成因和影响 \C|cp|A*&  
• 杂散光分析和评价方法 #Ob]]!y  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 mN}7H:,  
• 关键和照明表面 IB$7`7  
• 重点采样位置和大小计算 (Wj2?k/]  
• 杂散光PST计算 Ill[]O  
• 光学表面粗糙、污染和微粒 fC<m^%*zgA  
• 表面黑化处理 Fwfo2  
鬼像： tL(BpL'  
• 鬼像的来源
O6c\KFBSJ  
• ASAP膜层 _"N\b%CkO  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 >- Bg%J9  
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第三天： S%6
U~@hig  
衍射和红外杂散光： hx!7w}[A  
• 孔径衍射 =nRuY'  
• 衍射光学元件的杂散光 u<Xog$esu  
• 红外系统杂散光特征 .ER98  
• 红外热辐射 %'ZN`XftG  
• 自发辐射杂散光 VXKT\9g3A  
• 红外冷反射 b:MG@Hxc  
杂散光工程： ]7/gJ>g,  
• 杂散光的控制方法 W|R-J  
• 散射测量 cyF4iG'M,y  
• 杂散光工程流程总结和答疑 La,QB3K/  
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培训详情 ]((i?{jb(  
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培训时间：2024年4月17日-19日 %_f;G+fK\p  
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培训地点：湖北武汉 AU{:;%.g  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 r6Nm!Bq7  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 G$=-,6kZO  
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培训说明： =*MR(b>  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速； Z)9R9s  
• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； kC$I2[t!  
• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 Ft-6m%  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； TOT PzB  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； .Q\\dESn"  
提供服务性发票，项目“培训费”。 '2v f|CX  
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报名方式：电话：13396044940