培训招生 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》精华班即将开启！

武汉墨光将于2024年4月17日-19日开展《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训精华班。本次培训共计3天时间，时间缩短，课程凝练，培训涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： CDy^UQb  
课程大纲 cFd >oDS  
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第一天： HHk)ZfWRo  
• 光学和光线追迹的入门概念 Ma-\^S=  
• ASAP 简介 a)-FGP^  
• ASAP 数据输入 2Nc>6  
• 单透镜辐射计示例 1[nG}  
• ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 }}{!u0N},V  
• 几何规范和通用几何设置 1{"ll
D  
• 光学特性 ;+"f  
• 光源设置 woH)0v  
• 光线追迹 5wtTP ;P  
• 系统分析与评价 Q'B6^%:<~  
• 光线分裂和接收属性 5m$2Ku  
• ASAP 宏语言 >"X\>M`"  
• 散射模型和重点采样 c/W=$
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• 光线路径 |Yi)"-  
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第二天： 3M*Bwt;F_  
散射杂散光： Si}HX!s  
• 杂散光术语 Mc sTe|X  
• 杂散光的成因和影响 !v#xb3"/  
• 杂散光分析和评价方法 [(LV
  
• ASAP杂散光分析流程、步骤 Z5G!ct:W  
• 关键和照明表面 j|.} I  
• 重点采样位置和大小计算 {-zMHVw=}  
• 杂散光PST计算 y
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• 光学表面粗糙、污染和微粒 FeJr\|FT  
• 表面黑化处理 iyx>q!P  
鬼像： L7Dh(y=;7  
• 鬼像的来源 "HMP$)d  
• ASAP膜层 C}g9'jY  
• ZEMAX导入的鬼像分析鬼像路径分析案例 "T/>d%O1b  
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第三天： "+"{+k5t  
衍射和红外杂散光： `A%^UCd  
• 孔径衍射 =#5D(0Ab  
• 衍射光学元件的杂散光 dB
CbL.!  
• 红外系统杂散光特征 -!qu"A:  
• 红外热辐射 z(RL<N%  
• 自发辐射杂散光 mumXUX  
• 红外冷反射 I lR\  #  
杂散光工程： > Vb@[  
• 杂散光的控制方法 rk2xKm^w  
• 散射测量 |Q~cX!;  
• 杂散光工程流程总结和答疑 HYr}wG  
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培训详情 s,VXc/  
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培训时间：2024年4月17日-19日  /RZR}  
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培训地点：湖北武汉 pI+!92Z  
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主办单位：武汉墨光科技有限公司 |C \}P  
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培训讲师：武汉墨光资深光学设计工程师 Q3W#`6jpF  
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培训说明： rf+:=|/_3  
• 为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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• 培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材； Z]w#vL
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• 学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书。 "tit\a6\(  
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培训费用：按2800元/人的标准进行收费； =`n]/L"Q  
团体（3人及以上）报名享八五折优惠，不与墨光其他优惠同时使用； +#@"*yj3  
提供服务性发票，项目“培训费”。 ^he=)rBb?  
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报名方式：电话：13396044940