培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 {r].SrW9s9  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 lR@i`)'?U  
培训日程和内容   }$0xt'q&  

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； 3?*M{Y|   02 非序列光线追迹； Y0X"Zw   03 光源物体； ^QXw[th!d   04 探测器物体； \Sw+]pr~	HL(U~Q6JQ   17 抛物面反射器； 3u?`q%Y-e   18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； {n'qKurxY   20 复合抛物面聚光器 CPC； .W@(nQ-<	i (%tHa37   33 故障排查：光线追迹中止条件； &weY8\HD   34 故障排查：几何错误； vlPl(F1   35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； I| W'n-4Y
02	05 分辨率 VS 噪声； }dd k}wga   06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； %CxEZPe$   08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； \=w'HZH#+	G+hF [b44'   21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]； yWv<A^C&   22 复杂几何体； S7UZGGjTk   23 嵌套规则； )H;pGM:   24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； XJ:>UNf5;   38 序列模式转换成非序列模式； Y3P. |   39 杂散光分析介绍；40 散射； t":W.q <
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； dcl.wD0~V   10 光源建模：使用测量数据； $*A C>i\   11 生成 Source Model 光线； >&<<8Ln   12 模拟光源光谱；	eC>"my`   25 CAD 导入 & 导出； |-(IJG#)   26 使用混合模式； yV J dZI   27 偏振光线追迹； c?!YFm   28 物体属性：面分组 & 属性；	2/v35 | ?   41 杂散光分析工具； e~+(7_2   42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； " K 8&{=   44 非序列系统公差分析；
04	1jH7<%y   13 色度学；14 建模彩色光源；  cS D._"P   15 测量颜色数据； \);.0   16 照明系统；	6%g B E   29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； 9^ >M>f"   31 简单光线分裂实例； AezvBY0'`z   32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

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培训信息 xH_A@hf;  

• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
• 培训形式：线下培训
• 培训地点：湖北武汉
• 培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
• 培训费用：¥ 3980元 / 人
• (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
• 报名方式：点击这里报名