培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 SWUHHl  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 qCSJ=T
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培训日程和内容   {CR~G2Z  

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； W)1)zOD   02 非序列光线追迹； Yb%H9A   03 光源物体； ;i^p6b j   04 探测器物体； m'KY;C	(u@[}!   17 抛物面反射器； Z8(1QU,~2   18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； `^9 Zbwq   20 复合抛物面聚光器 CPC； zwN;CD1	t]P[>{y   33 故障排查：光线追迹中止条件； mG7Wu{~=U   34 故障排查：几何错误； Ljq/f& c   35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； oR5hMu;j+
02	05 分辨率 VS 噪声； sDK lbb   06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； +G"=1sxJ   08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； <wFR%Y/j	49bzHEqZ   21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]； /v:g' #n   22 复杂几何体； sVZb[|zSri   23 嵌套规则； j,80EhZ   24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； pB|L%#.cW   38 序列模式转换成非序列模式； (;$J5   39 杂散光分析介绍；40 散射； }.3F|H
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； k[6@\D-   10 光源建模：使用测量数据； -?!|W-}@G=   11 生成 Source Model 光线； #57nm]?   12 模拟光源光谱；	V=VL@=   25 CAD 导入 & 导出； A, W-=TC   26 使用混合模式； H?sl_3-#   27 偏振光线追迹； pL]C]HGv   28 物体属性：面分组 & 属性；	Dp6]!;kx   41 杂散光分析工具； bESmKe(   42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； m( C7Fa   44 非序列系统公差分析；
04	 02Ur'|   13 色度学；14 建模彩色光源； T[N:X0   15 测量颜色数据； xQ>c.}J/i   16 照明系统；	' jZ2^   29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； [y\ZnoB   31 简单光线分裂实例； b3wE8Co   32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

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培训信息 df nmUE  

• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
• 培训形式：线下培训
• 培训地点：湖北武汉
• 培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
• 培训费用：¥ 3980元 / 人
• (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
• 报名方式：点击这里报名