培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 3|Y2BAd
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 -q30tO.
培训日程和内容 {|B 2$1':
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
01 01 课程介绍； ><xJQeW
02 非序列光线追迹； HChlkj'7w0
03 光源物体； G{74o8
04 探测器物体； {,B.OM)J
n{I1ZlEeh
17 抛物面反射器； 1t/mq?z:
18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； `-w,6
20 复合抛物面聚光器 CPC； t{-*@8Ke
0uu)0:
33 故障排查：光线追迹中止条件； 1*f*}M
34 故障排查：几何错误； @TJ2 |_s6]
35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； }R!t/8K
02 05 分辨率 VS 噪声； @|:yK|6O
06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； pIHpjx
08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； Vg~10Q
_>J`e7j+
21 背光模组物体阵列 & 光源阵列]； .hRtQU
22 复杂几何体； '#a;n
23 嵌套规则； &NX7
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体； 37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； `=lo.c
38 序列模式转换成非序列模式； u7SC_3R
39 杂散光分析介绍；40 散射； /@64xrvIl=
12:00-14:00 午休时间
03 09 光源建模：内置几何模型； c_T+T/O
10 光源建模：使用测量数据； a@^)?cH!z
11 生成 Source Model 光线； !0_/=mA^
12 模拟光源光谱； sIMN""@Y^
25 CAD 导入 & 导出； :_|Xr'n`A
26 使用混合模式； PqMu2 e
27 偏振光线追迹； _jb&=f8
28 物体属性：面分组 & 属性； J1w,;T\55
41 杂散光分析工具； Dy*K;e-+
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； 67Ev$a_d"
44 非序列系统公差分析；
04 %\L{Ud%7
13 色度学；14 建模彩色光源； jx}7/
15 测量颜色数据； ?pWda<&
16 照明系统； rZ&li/Z
29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； WfHa
31 简单光线分裂实例； LYr9a(
32 非序列设置； 45 答疑与交流讨论
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培训信息 Aho-\9/x%

主办单位：武汉宇熠科技有限公司
培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
培训形式：线下培训
培训地点：湖北武汉
培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
培训费用：¥ 3980元 / 人
(三人及以上组团报名可享八折优惠)、
报名方式：点击这里报名

注意
1、本次培训统一发送配套的培训教材。
2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。
3、为提高培训效率，采用小班授课模式。名额有限，欲报从速。
4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠将取消或延迟本门课程，具体情况以开课前一周通知为准。

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