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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 :T~  [  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 2<3K3uz  
培训日程和内容   : Dp0?&_  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍; 6LhTBV  
02 非序列光线追迹; 5r0YA IJ  
03 光源物体; KPki}'GO  
04 探测器物体; 'GScszz  
$[|mGae  
17 抛物面反射器; I^]nqK  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; ^zr`;cJ+c  
20 复合抛物面聚光器 CPC; dr"1s-D4IQ  
<3 uNl  
33 故障排查:光线追迹中止条件; gG uO  
34 故障排查:几何错误; jiGTA:v  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; S jj6q`  
0205 分辨率 VS 噪声; Wn6Sn{8W{  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; Gm`8q}<I  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; (k P9hcV  
{`_i`  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; +7a6*;\ y  
22 复杂几何体; a9Vi];  
23 嵌套规则; \<K5ZIWV  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; I+(nu47ZT  
38 序列模式转换成非序列模式; ^rz_f{c]-  
39 杂散光分析介绍;40 散射; N>E_%]Ch  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; gDzK{6Z}  
10 光源建模:使用测量数据; )5H?Vh>36  
11 生成 Source Model 光线; VN.Je: Ju  
12 模拟光源光谱;
YYS0`  
25 CAD 导入 & 导出; fV~~J2IK  
26 使用混合模式; @9:uqsL  
27 偏振光线追迹; |[lKY+26:{  
28 物体属性:面分组 & 属性;
(?];VG  
41 杂散光分析工具; (At$3b6  
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; 8,|kao:  
44 非序列系统公差分析;
04 bd`P0f?  
13 色度学;14 建模彩色光源; R!1p^~/  
15 测量颜色数据; r|Z{-*`  
16 照明系统;
cb bFw  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; WzWX E(  
31 简单光线分裂实例; 0`H# '/  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
.]Z"C&"N]  
培训信息 Zd&S@Z  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
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注意 |uDdHX8T  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 ULW~90  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 4K74=r),i  
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 P2Y^d#jO  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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