培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 !td!">r46e  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 V[.{cY?6  
培训日程和内容   /gu VA  

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； EE'2<"M   02 非序列光线追迹； *8)?ZZMM   03 光源物体； ,ojJ;w5D   04 探测器物体； 1EV bGe%b	L\4rvZa   17 抛物面反射器； sPK]:iC   18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； b()8l'x_|K   20 复合抛物面聚光器 CPC； ?^|[Yzk	I!/EQO|   33 故障排查：光线追迹中止条件； KGJSGvo+y   34 故障排查：几何错误； @*hv|zjs   35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； QbdXt%gZe
02	05 分辨率 VS 噪声； URVW5c   06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； @JSWqi>   08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； xI<l1@	s$(%]~P   21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]； bm;iX*~   22 复杂几何体； w^L`"   23 嵌套规则； `)O9 '568   24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； IEm?'o:   38 序列模式转换成非序列模式； z"6o|]9I   39 杂散光分析介绍；40 散射； MQ =x:p{
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； 1'~+.92Y   10 光源建模：使用测量数据； Ow-ejo   11 生成 Source Model 光线； f?Ex$gnI   12 模拟光源光谱；	VY/r2o#   25 CAD 导入 & 导出； ,q* |R  O   26 使用混合模式； n*GB`I*g   27 偏振光线追迹； $U,]c   28 物体属性：面分组 & 属性；	z\v   41 杂散光分析工具； +Vg(2Xt   42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； =F[M>o   44 非序列系统公差分析；
04	,GWa3.&.d   13 色度学；14 建模彩色光源； OC5oxL2HTe   15 测量颜色数据； YEV;GFI1   16 照明系统；	Wda?$3!^q   29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； x6>WvFZ   31 简单光线分裂实例； T \34<+n1N   32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

,pcyU\68v  
培训信息 FBNi (D  

• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
• 培训形式：线下培训
• 培训地点：湖北武汉
• 培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
• 培训费用：¥ 3980元 / 人
• (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
• 报名方式：点击这里报名