培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 PVSz%"
 
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 TSH'OW !b  
培训日程和内容   3TRG] 5  

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； bZ#5\L2   02 非序列光线追迹； f#\Nz>tOhE   03 光源物体； !tSh9L;<O   04 探测器物体； )XDbg>	92ngSaNC   17 抛物面反射器； oS~;>]W   18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； (K('@W%\?   20 复合抛物面聚光器 CPC； AYAbq}'Yt	k3T374t1b   33 故障排查：光线追迹中止条件； Mzw:c#   34 故障排查：几何错误； rYM@e   35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； ~ \b~
02	05 分辨率 VS 噪声； 'A9Z ((   06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； 30O7u3Zrb   08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； ;?v&=Z't.	V}ls|B$Y   21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]； T_d)1m fl   22 复杂几何体； J(SGaHm@   23 嵌套规则； \zeuvD   24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； |-HNHUF   38 序列模式转换成非序列模式； MS]Q\g}U   39 杂散光分析介绍；40 散射； rN,T}M=2
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； /I:&P Pff   10 光源建模：使用测量数据； Y8h 96   11 生成 Source Model 光线； dU2:H}   12 模拟光源光谱；	k\r^GB   25 CAD 导入 & 导出； C#B|^A_   26 使用混合模式； eCiI=HcW;   27 偏振光线追迹； j^/=.cD|   28 物体属性：面分组 & 属性；	W![~"7?   41 杂散光分析工具； ltKMvGEF   42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； %/d1x   44 非序列系统公差分析；
04	'>HLE)l   13 色度学；14 建模彩色光源； j.[W] EfL~   15 测量颜色数据； ^b4i9n,t1   16 照明系统；	0lOR.}]q   29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； cdN=HM~I   31 简单光线分裂实例； f`iDF+h<6   32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

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培训信息 .#Z"Sj  

• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
• 培训形式：线下培训
• 培训地点：湖北武汉
• 培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
• 培训费用：¥ 3980元 / 人
• (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
• 报名方式：点击这里报名