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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 f_Wn[I{  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 xHD!8 B)  
培训日程和内容   ?[m5|ty#  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍; E"L'm0i[[  
02 非序列光线追迹; xFpJ#S&  
03 光源物体; e;!<3b  
04 探测器物体; >`oO(d}n[0  
^eZqsd8a  
17 抛物面反射器; %+pXzw`B  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; VJ=!0v  
20 复合抛物面聚光器 CPC; (>;~((2  
u[dI81`  
33 故障排查:光线追迹中止条件; q5HHMHB  
34 故障排查:几何错误; G53!wIW2:  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; niA{L:4  
0205 分辨率 VS 噪声; M2oKLRt)L  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; X;6X K$"  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; GbL,k? ey  
E* lqCh  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; %"KBX~3+Kj  
22 复杂几何体; *S=v1 s/  
23 嵌套规则; ~z< ? Wh  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; ~V./*CQ\c  
38 序列模式转换成非序列模式; KRXe\Sx  
39 杂散光分析介绍;40 散射; `mWg$e,  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; oa9T3gQ?  
10 光源建模:使用测量数据; CV& SNA  
11 生成 Source Model 光线; S8]g'!  
12 模拟光源光谱;
V'6%G:?0a  
25 CAD 导入 & 导出; }NYsKu_cM  
26 使用混合模式; zF{ z_c#3@  
27 偏振光线追迹; ^T<<F}@q  
28 物体属性:面分组 & 属性;
_C*}14 "3  
41 杂散光分析工具; L^0jyp  
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; T %cN(0 @  
44 非序列系统公差分析;
04 ZAiQofQ:2  
13 色度学;14 建模彩色光源; J7l1-  
15 测量颜色数据; ml3]CcKn  
16 照明系统;
9^aMmN&6N2  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; 1$ l3-x  
31 简单光线分裂实例; 4)"jg[  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
`U;4O)`n  
培训信息 \y0abxIHS  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
(>Tu~Vo  
注意 >yL8C: J9  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 .IYE"0)wJ  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 IB?5y~+h  
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 K}wUM^  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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