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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 2dB]Lw@s  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 L?M x"  
培训日程和内容   ] M#LB&Pe  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍;  JJs*2y  
02 非序列光线追迹; 1A* "v  
03 光源物体; L&=r-\.ev  
04 探测器物体; g-ZXj4Ph!  
Y]`o-dV  
17 抛物面反射器; e_l|32#/  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; rf`xY4I\  
20 复合抛物面聚光器 CPC; dK8dC1@,X;  
}}rp/16  
33 故障排查:光线追迹中止条件; tv~Y5e&8  
34 故障排查:几何错误; / $s(OFbi#  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; X(.[rC>  
0205 分辨率 VS 噪声; f `}/^*D  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; +T4}wm  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; @w(|d<5l:L  
|TQ4:P1T  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; %<p/s;eu  
22 复杂几何体; k=d0%} `M(  
23 嵌套规则; $Xu/P5  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; qu'D"0  
38 序列模式转换成非序列模式; K3WaBcm  
39 杂散光分析介绍;40 散射; @Cx goX^  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; 4#:Eq=(W  
10 光源建模:使用测量数据; #W.vX=/*  
11 生成 Source Model 光线; yc`3)  
12 模拟光源光谱;
fz8 41 <Y  
25 CAD 导入 & 导出; VfDa>zV3  
26 使用混合模式; G;[O~N3n.  
27 偏振光线追迹; 4b, +;  
28 物体属性:面分组 & 属性;
.LnknjC  
41 杂散光分析工具; , )TnIByM  
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; 9HPwl  
44 非序列系统公差分析;
04 9x8Vsd  
13 色度学;14 建模彩色光源; \~Ml<3Zd:  
15 测量颜色数据; je3Qq1  
16 照明系统;
Ro `Xs.X  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; O(e!Vx{t!  
31 简单光线分裂实例; f#7=N{wm  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
>#gDk K  
培训信息 gNDMJ^`  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
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注意 yOAC<<Tzus  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 5DkEJk7a  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 BnDCK@+|Q  
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 6V@_?a-K  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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