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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 g3?U#7i  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 3LlU]  
培训日程和内容   0D)`2W  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍; Eb.;^=x  
02 非序列光线追迹; 04 y!\  
03 光源物体; "6I[4U"@  
04 探测器物体; }&G]0hCT!  
LBX%HGH  
17 抛物面反射器; <Ns &b.\h6  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; (buw^ ,NwZ  
20 复合抛物面聚光器 CPC; sS,#0Qt.  
.T3=Eq&"W  
33 故障排查:光线追迹中止条件; jFj~]]j  
34 故障排查:几何错误; B2hfD-h,>  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; d]M[C[TOX  
0205 分辨率 VS 噪声; MtG_9-  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; o1YU_k<#  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; &jJckT  
6f}e+80  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; ~Ob8i1S>  
22 复杂几何体; cjg=nTsBA  
23 嵌套规则; dB`b9)Tk0z  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; ^"tqdeCb=  
38 序列模式转换成非序列模式; O: u%7V/  
39 杂散光分析介绍;40 散射; UpeQOC  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; 0QR.   
10 光源建模:使用测量数据; {aJz. `u\  
11 生成 Source Model 光线; kukaim>K  
12 模拟光源光谱;
lCE2SKj  
25 CAD 导入 & 导出; &PWf:y{R`  
26 使用混合模式; )_O.{$ to  
27 偏振光线追迹; #KJZR{  
28 物体属性:面分组 & 属性;
/'+4vXc@  
41 杂散光分析工具; O<a3DyUa;  
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; o*)@oU  
44 非序列系统公差分析;
04 36i_D6  
13 色度学;14 建模彩色光源; `1_FQnm)  
15 测量颜色数据; Heohe|an  
16 照明系统;
ct.Bg)E  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; ws().IZ  
31 简单光线分裂实例; />!!ch  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
;.r2$/E  
培训信息 > ";%2 u1  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
*e,CDV  
注意 6DO0zNTY  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 /W``LK>;?  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 &{hc   
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 eAU"fu6d  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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