培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 }vP(SF6
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 @>ys,dy
培训日程和内容 FnOahLS
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
01 01 课程介绍； a)S6Z
02 非序列光线追迹； <ir]bQT
03 光源物体； op-\|<i
04 探测器物体； ql5&&e=-
b O}&i3.L;
17 抛物面反射器； hDg"?{
18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； \AI-x$5R*
20 复合抛物面聚光器 CPC； +>yh`Zb
C %j%>X`
33 故障排查：光线追迹中止条件； :!$+dr(d
34 故障排查：几何错误； ^g2Vz4u
35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； X<W${L$G
02 05 分辨率 VS 噪声； @|w/`!}9q
06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； /`#JM
08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； vqoK9
h{\S'8
21 背光模组物体阵列 & 光源阵列]； aS>cXJ;=
22 复杂几何体； 9zx9t
23 嵌套规则； hH05p!2
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体； 37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； g^po$%I '
38 序列模式转换成非序列模式； G<rAM+B*g
39 杂散光分析介绍；40 散射； plr3&T~,&S
12:00-14:00 午休时间
03 09 光源建模：内置几何模型； e`JWY9%
10 光源建模：使用测量数据； ~-sG&u>
11 生成 Source Model 光线； LV$Ko_9eA
12 模拟光源光谱； HHgv,bC!
25 CAD 导入 & 导出； rkdA4'66w
26 使用混合模式； XXwo(trs~=
27 偏振光线追迹； {{pN7Z
28 物体属性：面分组 & 属性； ;1_3E2E$
41 杂散光分析工具； &oZU=CN
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； b o_`P3
44 非序列系统公差分析；
04 _ q>|pt.W
13 色度学；14 建模彩色光源； c;a<nTLn
15 测量颜色数据； IZQ*D)
16 照明系统； EKQ>hww8
29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； M,oZ_tY%
31 简单光线分裂实例； E 8$S0u;`
32 非序列设置； 45 答疑与交流讨论
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培训信息 1@TL>jq

主办单位：武汉宇熠科技有限公司
培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
培训形式：线下培训
培训地点：湖北武汉
培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
培训费用：¥ 3980元 / 人
(三人及以上组团报名可享八折优惠)、
报名方式：点击这里报名

注意
1、本次培训统一发送配套的培训教材。
2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。
3、为提高培训效率，采用小班授课模式。名额有限，欲报从速。
4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠将取消或延迟本门课程，具体情况以开课前一周通知为准。

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