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ueotek 2024-03-11 10:25

培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要,提高我国光学设计人员的专业水平,武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 7;TMxO=bra  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 kFkI[WKyZ  
培训日程和内容   u Uq= L  
Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时第一天第二天第三天
0101 课程介绍; <"p-0=IgJ  
02 非序列光线追迹; #d[Nm+~ko  
03 光源物体; 5/ U{b5  
04 探测器物体; 5"b1: w@  
SzeY?04zj:  
17 抛物面反射器; Ug0c0z!b  
18 Sobol 采样;19 BMP 位图优化; %o\+R0K  
20 复合抛物面聚光器 CPC; dJrUcZBr  
rZB='(?  
33 故障排查:光线追迹中止条件; r~QE}00@^  
34 故障排查:几何错误; ^%Y-~yB-  
35 “Inside of”标识;36 故障排查:胶合距离; iE;F=Rb  
0205 分辨率 VS 噪声; hop| xtai;  
06 照明单位 & 几何量;07 光源建模; 4|cRYZj5  
08 光源建模:IESNA & EULUMDAT 模型; jFKp~`/#  
s}UJv\*  
21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]; RRQv<x  
22 复杂几何体; ?9eiT:2  
23 嵌套规则; .C+(E@eyA  
24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体;
37 故障排查:面元物体 & 绘图精度; NB^Al/V@  
38 序列模式转换成非序列模式; ,1CmB@  
39 杂散光分析介绍;40 散射; tG9C(D`G  
12:00-14:00 午休时间
0309 光源建模:内置几何模型; hCgk78O?  
10 光源建模:使用测量数据; t(6i4c>  
11 生成 Source Model 光线; 6~{'\Z  
12 模拟光源光谱;
6q`)%"4k  
25 CAD 导入 & 导出; ui`EODhA(  
26 使用混合模式; sieC7raO  
27 偏振光线追迹; >e-0A  
28 物体属性:面分组 & 属性;
16@<G  
41 杂散光分析工具; Zi\ex\ )5  
42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析; "8?Fl&=Q  
44 非序列系统公差分析;
04 PC255  
13 色度学;14 建模彩色光源; 6v%ePFul  
15 测量颜色数据; n dN*X'  
16 照明系统;
Jwj=a1I 53  
29 光线分裂;30 X-Cube 棱镜; PMbq5  
31 简单光线分裂实例; ;[P>  
32 非序列设置;
45 答疑与交流讨论
d>MDC . j  
培训信息 e_!Z-#\J%  

  • 主办单位:武汉宇熠科技有限公司
  • 培训主题:Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
  • 培训形式:线下培训
  • 培训地点:湖北武汉
  • 培训时间:2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
  • 培训费用:¥ 3980元 / 人
  • (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
  • 报名方式:点击这里报名  
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注意 Q;q{1M>  
1、本次培训统一发送配套的培训教材。 "dOQ)<;  
2、学员自备笔记本电脑,培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 y|0/;SjV  
3、为提高培训效率,采用小班授课模式。名额有限,欲报从速。 ofz?L#:2  
4、如报名人数未达最低开课标准,武汉宇熠将取消或延迟本门课程, 具体情况以开课前一周通知为准。

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