培训 | Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析线下课程即将开班

为适应我国光电行业飞速发展的需要，提高我国光学设计人员的专业水平，武汉宇熠将在2024年3月20日-22日举办线下培训 —— 『Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析』。 f3oGB*5>  
培训将为大家系统性地介绍非序列模式的建模逻辑、光源建模、优化方法、杂散光分析等主题。 D4
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培训日程和内容   `&w{-om\  

Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
2024年3月20日-22日
课时	第一天	第二天	第三天
01	01 课程介绍； Wz&[cj   02 非序列光线追迹； ~9ynlVb7)r   03 光源物体； ~pWV[oUD   04 探测器物体； c5- 56Q	GJj}|+|   17 抛物面反射器； 3;Y9<   18 Sobol 采样；19 BMP 位图优化； 6z2WN|78   20 复合抛物面聚光器 CPC； c\DMeYrg	bx ._,G   33 故障排查：光线追迹中止条件； 5lrjM^E|   34 故障排查：几何错误； 3](At%ss   35 “Inside of”标识；36 故障排查：胶合距离； ?)V|L~/
02	05 分辨率 VS 噪声； \PL0-.t,   06 照明单位 & 几何量；07 光源建模； ,vs#(d6G   08 光源建模：IESNA & EULUMDAT 模型； WWgJ !Uz	7w5C NV   21 背光模组 物体阵列 & 光源阵列]； 5iZx -M   22 复杂几何体； ln*jakRrC   23 嵌套规则；  sDl@   24 原生布尔物体和布尔 CAD 物体；	37 故障排查：面元物体 & 绘图精度； |YcYWok   38 序列模式转换成非序列模式； G}LOQ7   39 杂散光分析介绍；40 散射； dj2w_:&W
12:00-14:00 午休时间
03	09 光源建模：内置几何模型； x%`tWE|   10 光源建模：使用测量数据； ,"U|gJn|^   11 生成 Source Model 光线； Dj9ecV`   12 模拟光源光谱；	)Nt'Z*K*   25 CAD 导入 & 导出； n=A}X4^   26 使用混合模式； apwA   27 偏振光线追迹； 1TlMB   28 物体属性：面分组 & 属性；	)~be<G( a   41 杂散光分析工具； vn1*D-?   42 Marksutov 杂散光分析43 非序列鬼像分析； XDyFe'1I   44 非序列系统公差分析；
04	F~C7$   13 色度学；14 建模彩色光源； &6&$vF65c   15 测量颜色数据； $J9/AFzO"   16 照明系统；	;MH_pE/m   29 光线分裂；30 X-Cube 棱镜； ]FEs N6   31 简单光线分裂实例； OMm'm\+/   32 非序列设置；	45 答疑与交流讨论

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培训信息 <tgfbY^nL  

• 主办单位：武汉宇熠科技有限公司
• 培训主题：Ansys Zemax 照明设计与杂散光分析
• 培训形式：线下培训
• 培训地点：湖北武汉
• 培训时间：2024年3月20~22日 (9:00-17:00)
• 培训费用：¥ 3980元 / 人
• (三人及以上组团报名可享八折优惠)、
• 报名方式：点击这里报名