| wavelab86 | 2024-02-26 11:14 |
Ansys ZEMAX标准成像+照明设计课程邀请函（2024年3月25-30日）开课地点：上海 主办单位：光研科技南京有限公司 课程形式： 现场小班互动式，教材与PPT同步，安装新正版软件，上机操作练习  课程说明： 1.名额上限10人，人满截止报名 2.课堂上提供新版的Ansys ZEMAX正版软件，统一发送配套的培训教材 3.学员自带笔记本电脑，课程结束后颁发培训证书 4.标准成像课程是3月25-27日，照明课程是3月28-30日。两个班可以单独报名，也可以一起报名。 Ansys Zemax标准成像课程  1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因及平衡像差的方法。 2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘光线等光学术语解释。 3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。 4、Zemax的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。 5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计，像模拟功能实现对成像的实时模拟。 6、新功能复合表面功能介绍，在序列模式中通过叠加多个表面的Sag分布来定义整体的面型，也打破了TEZI，TEXI，TIRR等操作数之前版本中只针对特定表面公差分析的局限。 7、非旋转对称系统、反射镜系统在Zemax中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合扫描系统和离轴三反系统实例精细讲解分析。 8、多重组态介绍及多重组态系统案例分析，变焦系统、变倍系统案例分析，消热差分析。 9、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析及阐释。 Ansys Zemax照明设计课程  1、光源的精确建立、复杂物体的各种构建方式、探测器的建立和分析。 2、分光案例分析，散射模型分析，膜层的光学属性设定，投影系统中X棱镜的模拟。 3、马克斯托夫望远镜的杂散光分析案例，成像镜头鬼影分析等高级光路分析。 4、抛物面反光杯的计算及光研技术团队编写的鳞甲反光杯ZPL实例剖析。 5、色度学混光分析，多色光源混光优化方法；光栅分光模拟，真实LED模拟，光致发光模拟。 6、LCD背光照明和匀光分析，投影系统的整机设计等内容。 7、非序列优化方法及技巧，包含匀光优化，准直优化等。 8、非序列中多模光纤耦合方法，自由曲面优化方法。 费用及优惠： 标准班：4500元/人照明班：4500元/人 ☆同时报6个课程享8折加送一个课程，同时报10个课程享8折加送两个课程 ☆光研软件购买客户或者同一单位有三人以上报名可享受8折优惠（未购买光研软件用户工程师推荐购买光研软件或仪器全额返还一期培训费用） ☆同时报两门课程或者两人一起报名可享受85折优惠 ☆光研书籍购买客户或者提前一个月报名可享受9折优惠 ☆OPSS新加坡光学与光子学学会会员报名可享受9折优惠 以上费用含培训、教材、发票、证书和午餐，其他费用自理。发票统一开“培训服务费”。 报名方式： 打电话或添加微信 （号码：15051868232）进行报名与咨询 |
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