华海清科“一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备”

据国家知识产权局公告，华海清科股份有限公司取得一项名为“一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备”，授权公告号CN220389073U，申请日期为2023年7月。 NFc8"7Mz}  
专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备，所述光学测量装置包括：在线光学测量组件和参考光学测量组件，所述在线光学测量组件包括用于测量晶圆的非金属膜厚的第一光学传感器和第一窗口，所述参考光学测量组件包括用于获得校准光强的第二光学传感器、第二窗口、校准片和遮挡组件。 Pvw%,=41O