线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： 3ar=1_Ar  
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课程大纲 g4:VR:o
  
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第一天 v@8S5KJ  
光学和光线追迹的入门概念； FU
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ASAP 简介； #>8T*B  
ASAP 新版本功能； u12zRdn  
程序检查和3D 查看器； ,0!uem}1i  
ASAP 数据输入； -@''[m.*  
单透镜辐射计示例； J=UZ){c>:.  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； fyI_  
照明系统示例； i`prv&  
基本脚本操作； Tu]&^[B('  
几何规范和通用几何设置； V: ^JC>6  
光学特性； n6b3E*  
光源设置； ]7a;jNQu  
光线追迹概念； 9~@<-6jE3b  
系统分析与评价。 ,e9CJ~a  
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第二天 C"6Amnj  
脚本和 ASAP 编辑器； #gh p/YoTq  
几何可视化与验证； K~c^*;F  
显示模式； <rNtY,  
辐射强度分布； 4s9c#nVlu  
光源切趾； /b.$jnqL  
光线分裂和接收属性； ~&1KrUu&  
ASAP 宏语言； ,I]7g4~  
ASAP 优化功能； hwiKOP  
散射模型和重点采样； 6wPeb~{  
光线路径。 D7)(D4S4  
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第三天 Bg-VCJI<  
散射杂散光： 9"~9hOEct  
杂散光术语 QwBXlO?  
辐射度学基础 JwZ?hc  
杂散光的成因和影响 xw?CMA  
杂散光分析和评价方法 zK=dzoy  
ASAP杂散光分析流程、步骤 o]A XT
8  
关键和照明表面 tJ"az=?  
重点采样位置和大小计算 A8J8u,u9  
杂散光PST计算 5O&d3;p'  
光学表面粗糙、污染和微粒 C` pp  
表面黑化处理 &.zj5*J  
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第四天 Y)|~:& tZ  
鬼像： @%c81rv?  
鬼像的来源 !2z!8kI  
ASAP膜层 u+i(";\  
ZEMAX导入的鬼像分析 !#?8BwnaZ  
鬼像路径分析案例 YgEM:'1f  
鬼像的控制 hyfR9~  
衍射和红外杂散光： ~ FGe~  
孔径衍射和边缘衍射 E/ijvuO  
衍射光学元件的杂散光 22>;vM."  
红外系统杂散光特征 !i^]UN   
红外热辐射 >8|+%pK8<  
自发辐射杂散光 402x<H  
红外冷反射 jeq:  
(3VGaUlx  
第五天 z>G;(F2  
杂散光工程： qIh #~  
杂散光的控制方法 ;UrK{>B  
挡板和叶片的设计 >B_n/v3P(M  
散射测量 ^_68]l=  
杂散光的评价方法 [![ G7H%f  
杂散光工程流程 H-(q#?:  
总结和答疑 77*qkKr  
培训说明 rnO0-h-;  
JS!*2*Wr  

• zI^Da!r.  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• dv, C6t2  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• e0 u,zg+m  
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。