线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： lqPRUkin  
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课程大纲 _p{ag 1gP  
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第一天 dQA J`9B  
光学和光线追迹的入门概念； ,=>O/!s  
ASAP 简介； A"eT@  
ASAP 新版本功能； _}Jz_RS2`  
程序检查和3D 查看器； UR-e'Z&]  
ASAP 数据输入； ?Z!itB~  
单透镜辐射计示例； 9>le-}~  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； 8%7H F:  
照明系统示例； ^f!d8 V  
基本脚本操作； #eE:hiu<v  
几何规范和通用几何设置； 4$.UVW\  
光学特性； )." zBc#  
光源设置； y>8!qVX  
光线追迹概念； \@OKB<ra  
系统分析与评价。 SVXey?A;CJ  
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第二天 6@o_MtI  
脚本和 ASAP 编辑器； $yaE!.Kc  
几何可视化与验证； +cy(}Vp  
显示模式； /[nt=#+   
辐射强度分布； >E"FoZM=  
光源切趾； XrSqUD   
光线分裂和接收属性； a(
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ASAP 宏语言； E_?3<)l)RI  
ASAP 优化功能； *JO"8iLw  
散射模型和重点采样； {yVi/*;f^  
光线路径。 &$hfAG]"  
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第三天 `-ENKr]  
散射杂散光： R52q6y:<x  
杂散光术语 "@`
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辐射度学基础 #FaR?L![Y  
杂散光的成因和影响 j- F=5)A  
杂散光分析和评价方法 3CQpe  
ASAP杂散光分析流程、步骤 FG#E?G  
关键和照明表面 *
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重点采样位置和大小计算 i8HSYA  
杂散光PST计算 'U}i<^,c  
光学表面粗糙、污染和微粒 y''?yr  
表面黑化处理 [zf9UUc~  
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第四天 nk-6W4  
鬼像： Y]8l]l 1  
鬼像的来源 Gq-U}r
  
ASAP膜层 9lTA/-  
ZEMAX导入的鬼像分析 ~sSB.g  
鬼像路径分析案例 5W<BEcV\  
鬼像的控制 B0Z*YsbXL  
衍射和红外杂散光： j?z(fs-  
孔径衍射和边缘衍射 i-E&Y*\^9H  
衍射光学元件的杂散光 9@D,Z
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红外系统杂散光特征 vgE5(fJh  
红外热辐射 :^iR&`2~  
自发辐射杂散光 OgHWmb  
红外冷反射 XTW/3pB  
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第五天 "t_]Qu6  
杂散光工程： +oQ@E<)H  
杂散光的控制方法 3'&]v6|  
挡板和叶片的设计 k,v.U8  
散射测量 X#eVw|  
杂散光的评价方法 yY_]YeeR  
杂散光工程流程 QT%&vq  
总结和答疑 O4$: xjs  
培训说明 ^O892
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• ?'_iqg3  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。