线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： c0qv11,:t  
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课程大纲 H3c=B /+  
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第一天 y="SzPl  
光学和光线追迹的入门概念； k,@J&  
ASAP 简介； dikWk  
ASAP 新版本功能； 0%qUTGj  
程序检查和3D 查看器； .3U[@*b(  
ASAP 数据输入； op|mRJBq;  
单透镜辐射计示例； g_>ZE  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； !Q(xOc9>Ug  
照明系统示例； #pe{:f?  
基本脚本操作； cV{ZDq  
几何规范和通用几何设置； J
@GfO\ o  
光学特性； O9|'8"AF  
光源设置； ,SyUr/D  
光线追迹概念； eTF8B<?  
系统分析与评价。 7XDV=PQ[  
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第二天 v2n0[b0  
脚本和 ASAP 编辑器； gZjO
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几何可视化与验证； `es($7}P_W  
显示模式； l'W+^  
辐射强度分布； {a3kn\6H0  
光源切趾； pq[mM!;#v  
光线分裂和接收属性； V{h@nhq  
ASAP 宏语言； bNROXiX  
ASAP 优化功能； AIm$in`P  
散射模型和重点采样； /SXz_e  
光线路径。 nFfCw%T?  
YF -w=Y6  
第三天 
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散射杂散光： mU=6"A0 U  
杂散光术语 IPO[J^#Me  
辐射度学基础 s
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杂散光的成因和影响 8`G{1
lr4o  
杂散光分析和评价方法 lkfFAwnc  
ASAP杂散光分析流程、步骤 U  R@BSK'  
关键和照明表面 &{ {DS  
重点采样位置和大小计算 \B2d(=~4  
杂散光PST计算 ~+#--BhV  
光学表面粗糙、污染和微粒 |"yf@^kdC  
表面黑化处理 ]|N4 #4  
X[Ek'=}  
第四天 iw fp'  
鬼像： M_1Tx  
鬼像的来源 , Ln   
ASAP膜层 x~;EH6$5'/  
ZEMAX导入的鬼像分析 z`/.v&<>V  
鬼像路径分析案例 @E}
X-r.^f  
鬼像的控制 r.W,-%=bL  
衍射和红外杂散光： I/Jp,~JT*  
孔径衍射和边缘衍射 "F"_G  
衍射光学元件的杂散光 >J}n@MZ  
红外系统杂散光特征 {(OIu]:  
红外热辐射 bV`C;RPn  
自发辐射杂散光 sdf%  
红外冷反射 >C3NtGvy  
V->%)d3i  
第五天 T;4`wB8@  
杂散光工程： <s8? Z1  
杂散光的控制方法 P=^#%7J/l  
挡板和叶片的设计 ;:Z=%R$wJ  
散射测量 P;[Y42\z|  
杂散光的评价方法 ]&:b<]K3  
杂散光工程流程 #jZ@l3  
总结和答疑 oM<!I0"gC+  
培训说明 14D7U/zer  
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• y|.fR>5  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。