线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： ty,oj33  
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课程大纲 sG`x |%t  
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第一天 dipfsH]p  
光学和光线追迹的入门概念； fkZHy|m  
ASAP 简介； F@u7Oel@m  
ASAP 新版本功能； |Mb{0mKb  
程序检查和3D 查看器； "U
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ASAP 数据输入； 9r?Z'~,Za  
单透镜辐射计示例； <l<O2l  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； /}m)FaAi  
照明系统示例； Te-p0x?G.  
基本脚本操作； 7l53&,s   
几何规范和通用几何设置； PR@6=[|d  
光学特性； 6$R9Y.s>Z  
光源设置； Pf[E..HF*d  
光线追迹概念； sUG!dwqqd  
系统分析与评价。 g$K\rA  
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第二天 3YvKHn|V"  
脚本和 ASAP 编辑器； t1?aw<  
几何可视化与验证； .?45:Ey~g  
显示模式； Ek L2nI  
辐射强度分布； %+~\I\)1  
光源切趾； D~C'1C&W  
光线分裂和接收属性； ab6I*DbF  
ASAP 宏语言； [|Qzx w9  
ASAP 优化功能； <8:h%%$?  
散射模型和重点采样； Pu3oQDldV  
光线路径。 %hVR|K|J  
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第三天 P 2WAnm  
散射杂散光： 3k1e  
杂散光术语 ["3dr@T9Z  
辐射度学基础 K?uZIDo  
杂散光的成因和影响 3uuIISK  
杂散光分析和评价方法 L_Ok?9$  
ASAP杂散光分析流程、步骤 K0.aU  
关键和照明表面 9nG^_.}|  
重点采样位置和大小计算 y#GHmHeh  
杂散光PST计算 FP=B/!g  
光学表面粗糙、污染和微粒 L I<S  
表面黑化处理 >bW=oTFz  
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第四天 L2XhrLK.|  
鬼像： :F:1(FDP  
鬼像的来源 ?h}NL5a  
ASAP膜层  cyl%p$  
ZEMAX导入的鬼像分析 \BnU?z  
鬼像路径分析案例 : B^"V\WE  
鬼像的控制 ZwUBeyxS=c  
衍射和红外杂散光： jYp!?%!  
孔径衍射和边缘衍射 i7#4&r  
衍射光学元件的杂散光 d>p' A_  
红外系统杂散光特征 m]n2wmE3n  
红外热辐射 x%EGxs;>^  
自发辐射杂散光 ^p
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红外冷反射 4#IT" i  
GLf!i1Z  
第五天 dxX`\{E  
杂散光工程： G[k3`  
杂散光的控制方法 H,(vTthd  
挡板和叶片的设计 ~F,~^r!Jtu  
散射测量 w ,j*I7V  
杂散光的评价方法 Q!+AiSTU  
杂散光工程流程 s47R,K$  
总结和答疑 aC,adNub  
培训说明 Blxa0&3  
qX@e+&4P0  

• QY;(Ny/(y  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• e0P[,e*0  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• D{+@ ,C7B  
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。