线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： 2~BId&]  
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课程大纲 8LouCv(>  
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第一天 0o+2]`q)Q  
光学和光线追迹的入门概念； q>X%MN y  
ASAP 简介； {V)Z!D  
ASAP 新版本功能； Tfba3+V  
程序检查和3D 查看器； |Skxa\MI  
ASAP 数据输入； &%/kPF~<  
单透镜辐射计示例； *0aU(E#  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； P{!r<N
  
照明系统示例； D; 0iNcit  
基本脚本操作； i C nWb  
几何规范和通用几何设置； utz!ElzA  
光学特性； ,Uh7Q-vd  
光源设置； 5YG?m{hyn_  
光线追迹概念； C$1}c[  
系统分析与评价。 LOkNDmj  
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第二天 Yy"05V.  
脚本和 ASAP 编辑器； 9rn[46s`  
几何可视化与验证； ?`oCc[hY  
显示模式； =O)dHY}  
辐射强度分布； b%fn1Ag9  
光源切趾； fi2@`37PM  
光线分裂和接收属性； b]NSCu*)s  
ASAP 宏语言； ;J[1S  
ASAP 优化功能； )&j4F)  
散射模型和重点采样； `.FvuwP  
光线路径。 :(|;J<R%_  
]tVU$9D   
第三天 &a>fZ^Y=k  
散射杂散光： x"Hi!h)v  
杂散光术语 L.[ H   
辐射度学基础 ,4-)  e  
杂散光的成因和影响 yB7=8 Pcx  
杂散光分析和评价方法 WJ9=hr  
ASAP杂散光分析流程、步骤 }/yhwijg  
关键和照明表面 oXc!JZ^  
重点采样位置和大小计算 *:q3<\y{  
杂散光PST计算 !`k{Ga  
光学表面粗糙、污染和微粒 }'mBqn  
表面黑化处理 _U.D*f<3)  
_91g=pM   
第四天 /.<T^p@\&  
鬼像： z\,g %u41  
鬼像的来源 (>x4X@b  
ASAP膜层 DAG2pc8zA  
ZEMAX导入的鬼像分析 @N,EoSb :  
鬼像路径分析案例 9=j"kXFf  
鬼像的控制 Y{TzN%|LV  
衍射和红外杂散光： ThX%Uzd"[;  
孔径衍射和边缘衍射 }jM&GH1  
衍射光学元件的杂散光 *v[WJ"8@  
红外系统杂散光特征 *7Ct#GC  
红外热辐射 8'Z#sM^E  
自发辐射杂散光 I_(
'M
r)  
红外冷反射 #7IM#tc@  
(bxSN@hp2  
第五天 ]ZGP  
杂散光工程： C:/O]slH  
杂散光的控制方法 gRS}Y8  
挡板和叶片的设计 6.},y<E  
散射测量 GqXnOmk  
杂散光的评价方法  y#5xS  
杂散光工程流程 m]8rljo  
总结和答疑 (c ?OcwTH  
培训说明 <FIc!  
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• H3YFbR  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• Z5re F
  ok  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• <=A1d\   
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。