线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： S{7A3 x'B  
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课程大纲 %l(qyH)*  
-O:+?gG  
第一天 2I* 7?`  
光学和光线追迹的入门概念； d@<(Z7|  
ASAP 简介； =rMT1  
ASAP 新版本功能； $0~H~-  
程序检查和3D 查看器； ~DPjTR  
ASAP 数据输入； ba^B$$?Bo  
单透镜辐射计示例； 
tXV9+AJ  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； 1>r7s*  
照明系统示例； s{4|eYR  
基本脚本操作； }_vE lBh6$  
几何规范和通用几何设置； 0,1:l3iu1M  
光学特性； oJA%t-&%R  
光源设置； %QCh#v=ks  
光线追迹概念； ELZCrh6*  
系统分析与评价。 FctqE/>}I  
B"ZW.jMaI  
第二天 )7l+\t  
脚本和 ASAP 编辑器； 4C\>JGZvq  
几何可视化与验证； 7O^ySy"l  
显示模式； ;P3sDN
  
辐射强度分布； xDD3Y{K  
光源切趾； F[BJhN*]a  
光线分裂和接收属性；  G?AZ%Yx  
ASAP 宏语言； q|;_G#4  
ASAP 优化功能； <csz4tL}P  
散射模型和重点采样； D~E1hr&Vd>  
光线路径。 #  -e  
;[V_w/-u  
第三天 XkLl(uyh  
散射杂散光： BQu_)@  
杂散光术语 /Uth#s:  
辐射度学基础 KCu@5`p  
杂散光的成因和影响 >>oR@  
杂散光分析和评价方法 J6r"_>)z  
ASAP杂散光分析流程、步骤 ,7&`V=C  
关键和照明表面 ?f<JwF<  
重点采样位置和大小计算 +LuGjDn0  
杂散光PST计算 1RpTI7  
光学表面粗糙、污染和微粒 `?r]OVe{y  
表面黑化处理 Dvbrpn!sk  
G5a PjP  
第四天 KE!aa&g  
鬼像： ?a?i8rnWo  
鬼像的来源 &'4{/Gz  
ASAP膜层 a$H*C(wL  
ZEMAX导入的鬼像分析 . J[2\"W  
鬼像路径分析案例 2[6>h)  
鬼像的控制 &D0suK#  
衍射和红外杂散光： ChO?Lm$y  
孔径衍射和边缘衍射 __o`+^FS  
衍射光学元件的杂散光 = }0M^F  
红外系统杂散光特征 B7BXS*_b  
红外热辐射 hqrI%%  
自发辐射杂散光 A[)od  
红外冷反射 29]-s Utqv  
XHU&ix{Od  
第五天 7ADh  
杂散光工程： Mwp[?#1j  
杂散光的控制方法 xEdCGwgp#  
挡板和叶片的设计 .#0),JJZ[  
散射测量 65X31vU  
杂散光的评价方法 pie<jZt  
杂散光工程流程 f0H 5 )DJf  
总结和答疑 pn3f{fQ  
培训说明 /^ *GoB  
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• H^_]' ~.  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• {];4  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。