线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： pe).  
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课程大纲 =i2]qj\  
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第一天 VG$%Vs  
光学和光线追迹的入门概念； nJ1<8 p  
ASAP 简介； p]toDy-}  
ASAP 新版本功能； ]n'.}"8Kn  
程序检查和3D 查看器； =+<DNW@%  
ASAP 数据输入； jH;L7
 
单透镜辐射计示例； Q&PEO%/D  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； OU^I/TU  
照明系统示例；  (tT%rj!  
基本脚本操作； DGz}d,ie  
几何规范和通用几何设置； 8Bxb~*  
光学特性； s%m?Yh3  
光源设置； eSW}H_3  
光线追迹概念； <K/iX%b?  
系统分析与评价。 9`@}KnvB?  
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第二天 !NKPy+v  
脚本和 ASAP 编辑器； jCg4$),b  
几何可视化与验证； 1pN8,[hyR7  
显示模式； G!Y7RjWD  
辐射强度分布； qV``' _=<  
光源切趾； ?8<R)hJa<  
光线分裂和接收属性； uhwCC  
ASAP 宏语言； tqKX\N=5^  
ASAP 优化功能； nA=E|$1  
散射模型和重点采样； bZ+Hu~  
光线路径。 jq|fIP  
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第三天  %Rm
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散射杂散光： i^4i]+  
杂散光术语 UVsF !0  
辐射度学基础 \#"&S@%c  
杂散光的成因和影响 KJV],6d  
杂散光分析和评价方法 3YEw7GIO-  
ASAP杂散光分析流程、步骤 .[6T7fdi  
关键和照明表面 >k~3W> D  
重点采样位置和大小计算 VrT0S  
杂散光PST计算 A{DE7gp!
 
光学表面粗糙、污染和微粒 G49`
a*Jn  
表面黑化处理 
;`a~9uG  
i*+N[#yp  
第四天 /AUX7 m.8  
鬼像： quq!Jswn  
鬼像的来源 o4aFgal1  
ASAP膜层 UGA``;f  
ZEMAX导入的鬼像分析 #!4 HSBf  
鬼像路径分析案例 QKt{XB6Y  
鬼像的控制 <2^ F'bQV  
衍射和红外杂散光： U{9yfy  
孔径衍射和边缘衍射 pJ@->V_  
衍射光学元件的杂散光 eTY(~J#'  
红外系统杂散光特征 buMST&  
红外热辐射 O[9A}g2~  
自发辐射杂散光 zZPXI&,  
红外冷反射 9t&m\J >8;  
]sB%j@G  
第五天 Cs^'g'  
杂散光工程： -&np/tEu&  
杂散光的控制方法 (Lkcx06e  
挡板和叶片的设计 zf[KZ\6H  
散射测量 ,T+.xB;Q@  
杂散光的评价方法 *1U"uJno  
杂散光工程流程 $~1~+s0$  
总结和答疑 vUJQ<D  
培训说明 ;n/04z  
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• WiF6*]oI  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。