线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： uPa/,"p  
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课程大纲 )2iM<-uB  
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第一天 xI=}z
 
光学和光线追迹的入门概念； s`$NW^']
 
ASAP 简介； o0zc}mm  
ASAP 新版本功能； XkMs
  
程序检查和3D 查看器； }"F ?H:\  
ASAP 数据输入； 8[6ny=S`  
单透镜辐射计示例； J!21`M-Ue  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； N&6_8=3z  
照明系统示例； o|R*POM  
基本脚本操作； -ET*M
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几何规范和通用几何设置； }*fW!(*  
光学特性； CL)1Q  
光源设置； \_m\U.*  
光线追迹概念； Z!C`f/h9  
系统分析与评价。 2ApDpH`fiJ  
+-Z"H)  
第二天 *u|lmALs  
脚本和 ASAP 编辑器； {0NsDi>(2  
几何可视化与验证； Ze[g0"  
显示模式； eT7!a']x  
辐射强度分布； m#5|J@]  
光源切趾； *G%1_   
光线分裂和接收属性； \_*?R,$3Y,  
ASAP 宏语言； 1g~Dm}m  
ASAP 优化功能； bE7(L $UF  
散射模型和重点采样； n/9 LRZD|w  
光线路径。 D..{|29,:  
AijPN  
第三天 u)q2YLK8  
散射杂散光： p56KS5duI.  
杂散光术语 .4S^nP  
辐射度学基础 }};j2  
杂散光的成因和影响 J6*\>N5W  
杂散光分析和评价方法 SY!`a:It  
ASAP杂散光分析流程、步骤 { 4_I7r  
关键和照明表面 &A ;3; R  
重点采样位置和大小计算 #}[Sj-Vp  
杂散光PST计算 &^CL]&/  
光学表面粗糙、污染和微粒 [?|l X$<  
表面黑化处理 tJ?qcT?  
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pM  
第四天 ?V&Ld$db  
鬼像： /t$+Af,}  
鬼像的来源 o1 hdO  
ASAP膜层 i#pjv'C  
ZEMAX导入的鬼像分析 p=8M0k  
鬼像路径分析案例 jQ.>2-;H9  
鬼像的控制 )1ZJ  
衍射和红外杂散光： 5
t"bCzp  
孔径衍射和边缘衍射 &X#x9|=&O  
衍射光学元件的杂散光 ;ZxK3/(7  
红外系统杂散光特征 ?MV[=LPL  
红外热辐射 ^F0k2
pB  
自发辐射杂散光 'NQMZfz  
红外冷反射 7 SjF9x  
OBKC$e6I  
第五天 t7C!}'g&'  
杂散光工程： 7':5  
杂散光的控制方法 *@bg/S K%  
挡板和叶片的设计 )[y!m9Vn  
散射测量 WryW3];0OR  
杂散光的评价方法 2R_opbw  
杂散光工程流程 N[+o[%A  
总结和答疑 3<KZ.hr  
培训说明 \28b_,i+  
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• KV^:sxU  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• *7xQp!w^  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。