线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： ~>
ACMO  
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课程大纲 ^YKEc0"w(  
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第一天 }o?@  
光学和光线追迹的入门概念； ^r$P&}Z\b  
ASAP 简介； =2{^qvP  
ASAP 新版本功能； m`-{ V<(M  
程序检查和3D 查看器； TP oP%Yj"  
ASAP 数据输入； hun/H4f|  
单透镜辐射计示例； Y]nY.5irL  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； BaTE59W  
照明系统示例； A=|&N%lP'  
基本脚本操作； >9|/sH@W  
几何规范和通用几何设置； *A O/$K@Ma  
光学特性； !K1[o'o#  
光源设置； \ey3i(
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光线追迹概念； Uw][U  
系统分析与评价。 #G
s] u  
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第二天 z}N=Oe  
脚本和 ASAP 编辑器； -mG3#88*  
几何可视化与验证； !B(6  
显示模式； 4RNB\D
 
辐射强度分布； Jpws1~  
光源切趾； 2rf-pdOvG  
光线分裂和接收属性； }0|,*BkI m  
ASAP 宏语言； grnlJ=  
ASAP 优化功能； qv=i eU  
散射模型和重点采样； Z@ *^4Ve  
光线路径。 a%sr*`  
W)?B{\  
第三天 S!k cC-7  
散射杂散光： NS;,(v{*N  
杂散光术语 SV}I+O_w  
辐射度学基础 sUcx;<|BC  
杂散光的成因和影响 c:4M|t
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杂散光分析和评价方法 c63DuHA*C  
ASAP杂散光分析流程、步骤 }^^X-_XT  
关键和照明表面 f 6Bx>lh  
重点采样位置和大小计算 Y:oL  
杂散光PST计算 Id(L}i(X  
光学表面粗糙、污染和微粒 Y dmYE$  
表面黑化处理 ub6=
^`>h  
[F/>pL5U$  
第四天 4WZ:zr N
 
鬼像： cWP34;NNM  
鬼像的来源 ^N _kiSr  
ASAP膜层 uMtq4.  
ZEMAX导入的鬼像分析 u!];RHOp|  
鬼像路径分析案例 ne4hR]:  
鬼像的控制 l_y:IY$"  
衍射和红外杂散光： 34Q l7LQp[  
孔径衍射和边缘衍射 &[}bHX/  
衍射光学元件的杂散光 r:2G11[  
红外系统杂散光特征 +HQX]t:Y  
红外热辐射 3G dWq*  
自发辐射杂散光 %:sQ[^0  
红外冷反射 Tf)qd\  
7/w)^&8  
第五天 9"
KEHf!  
杂散光工程： 61HU_!A8S  
杂散光的控制方法 UYn5Pix  
挡板和叶片的设计 hW6og)x  
散射测量 [nB[]j<R*  
杂散光的评价方法 +Fp8cT=1  
杂散光工程流程 )"q$g&  
总结和答疑 ,&rlt+wE  
培训说明 Ly0^ L-~|  
UmcPpZ  

• 4R0'$Ld4  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• Stq&^S\x69  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• N?TXPY  
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。