线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： .Sjg  
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课程大纲 2U`g[1  
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第一天 UaV8!Z>  
光学和光线追迹的入门概念； J2Z?}5>  
ASAP 简介； u4.2u}A/R%  
ASAP 新版本功能； Ls(l  
程序检查和3D 查看器； DjQgF=;  
ASAP 数据输入； 7xjihl3  
单透镜辐射计示例； Bz*6M  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； \6K1Z!*;  
照明系统示例； -{s9PZ3~_  
基本脚本操作； [rtMx8T  
几何规范和通用几何设置； .V?>Jhok  
光学特性； f&L8<ASFo  
光源设置；
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光线追迹概念； 53)*i\9&  
系统分析与评价。 :tcqb2p  
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第二天 d}(b!q9  
脚本和 ASAP 编辑器； A!fRpN  
几何可视化与验证； <+)B8I^  
显示模式； B5H=#  
辐射强度分布； Cy'! >  
光源切趾； nj5Hls  
光线分裂和接收属性； [Cf{2WB:7  
ASAP 宏语言； :dj=kuUTbu  
ASAP 优化功能； Qvhz$W[P>  
散射模型和重点采样； ]8ob`F`m,  
光线路径。 Wc!.
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第三天 OIdoe0JR:O  
散射杂散光： pm k;5 d  
杂散光术语 C{P:1ELYXH  
辐射度学基础 F@u>5e^6  
杂散光的成因和影响 |g8Q.*"l[  
杂散光分析和评价方法 |aMeh;X t  
ASAP杂散光分析流程、步骤 #JW~&;  
关键和照明表面 f,QBj{M,  
重点采样位置和大小计算 j<C p&}X  
杂散光PST计算 [pYjH+<  
光学表面粗糙、污染和微粒 mUjM5ceAXO  
表面黑化处理 xr).
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h$rk]UM/Q  
第四天 zTS#o#`!\  
鬼像： Xhm)K3RA*T  
鬼像的来源 4'BZ+A,p  
ASAP膜层 b 3i34,  
ZEMAX导入的鬼像分析 GMQKR,6VM  
鬼像路径分析案例 &1$|KbmV4  
鬼像的控制 9Jj:d)E>o  
衍射和红外杂散光： `CF.-Vl3J#  
孔径衍射和边缘衍射 ^A' Bghy  
衍射光学元件的杂散光 W+D{4:  
红外系统杂散光特征 h;S?  
红外热辐射  a5@XD_b  
自发辐射杂散光 nh?~S`  
红外冷反射 8$C?j\J|*  
Y!w {,\3  
第五天 ]Wdnr1d~8  
杂散光工程： ^P}c0}^  
杂散光的控制方法 ]gG&X3jaKq  
挡板和叶片的设计 >}'WL($5U  
散射测量 jRYW3a_7  
杂散光的评价方法  ua]?D2  
杂散光工程流程 C}8 3t~Q  
总结和答疑 WDq~mi  
培训说明 ,%E
GM+  
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• 0>)F+QC  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。