线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： sW[4
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课程大纲 <&:3|2p  
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第一天 >GqIpfn  
光学和光线追迹的入门概念； d ;
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ASAP 简介； Dz.U&+*  
ASAP 新版本功能； y![h  
程序检查和3D 查看器； =PXNg!B}D*  
ASAP 数据输入； Rnj2Q!C2  
单透镜辐射计示例； !5x"d7  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； eQzTb91  
照明系统示例； ZSxKk6n}J  
基本脚本操作； IhUuL0  
几何规范和通用几何设置； |IZG`
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光学特性； `lr\V;o!  
光源设置； K&Zdk (l)  
光线追迹概念； tw^V?4[Miu  
系统分析与评价。 g=a-zg9LX  
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第二天 (gz|6N  
脚本和 ASAP 编辑器； }k'8*v}8  
几何可视化与验证； \\)3:1X  
显示模式； &AA u:  
辐射强度分布； tBdvk>d  
光源切趾； (n#  
光线分裂和接收属性； =yk#z84<  
ASAP 宏语言； MwXgaSV  
ASAP 优化功能； ^k~{6S,  
散射模型和重点采样； QTM+WD  
光线路径。 L[rJ7:  
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第三天 jt;68SA P  
散射杂散光： DtyT8kr  
杂散光术语 Xo}w$q5  
辐射度学基础 CEt_wKzf  
杂散光的成因和影响 HH8a"Hq)  
杂散光分析和评价方法 ePB=aCZ  
ASAP杂散光分析流程、步骤 e(j"u;=  
关键和照明表面 lYU_uFOs\  
重点采样位置和大小计算 (Z sdj  
杂散光PST计算 !j [U  
光学表面粗糙、污染和微粒 L2AZ0E"ub  
表面黑化处理 [96|xe\s  
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第四天 *COr^7Kf5  
鬼像： E9QNx62  
鬼像的来源 /
\h&t6B1  
ASAP膜层 lLoFM  
ZEMAX导入的鬼像分析 Eo)n( Z9  
鬼像路径分析案例 NcRY Ch  
鬼像的控制 KG)Y{-Ao  
衍射和红外杂散光： oQFpIX;\m  
孔径衍射和边缘衍射 ?\.P  
衍射光学元件的杂散光 ^P(HX  
红外系统杂散光特征 znX2W0V  
红外热辐射 4e1Zyi!  
自发辐射杂散光 GiI2nHZc  
红外冷反射 q48V|6X'q  
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第五天 rn U2EL  
杂散光工程： KYd2=P6  
杂散光的控制方法 kQwBrb4  
挡板和叶片的设计 f`P%aX'cBQ  
散射测量 `fc2vaSH =  
杂散光的评价方法 +*~?JT  
杂散光工程流程 8BC}D+q  
总结和答疑 |_ E)2b:h  
培训说明 \*1pFX#  
G)iV  

• tb^3-ZUb  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• L0_R2EA  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• PtwE[YDu  
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。