线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： Jt~Ivn,  
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课程大纲 +pofN-*%  
*~rj!N?;  
第一天 }Zhe%M=}G  
光学和光线追迹的入门概念； TlG>)Z@/  
ASAP 简介； J<)qw  
ASAP 新版本功能； _Q V=3UWP  
程序检查和3D 查看器； B2`S0 H  
ASAP 数据输入； } ueFy<F  
单透镜辐射计示例； 1? >P3C  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； `lhw*{3A  
照明系统示例； 4kOO3[r  
基本脚本操作； GP:<h@:798  
几何规范和通用几何设置； ,_z79tC{s  
光学特性； of
vR0yV  
光源设置； t
,/ G  
光线追迹概念； "*g+qll!5d  
系统分析与评价。 z8kO)'  
K)Y& I  
第二天 Qg>NJ\*Q  
脚本和 ASAP 编辑器； Psb !Z(  
几何可视化与验证； QcegT/vO  
显示模式； %?~'A59  
辐射强度分布； s%[F,hQRk  
光源切趾； WQ|:TLQ  
光线分裂和接收属性； ZOK!SBn^?  
ASAP 宏语言； l#)X/(?;  
ASAP 优化功能； P.~UUS  
散射模型和重点采样； -D^I;[j_  
光线路径。 sXLW';Fz  
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第三天 _nGx[1G( 5  
散射杂散光： -V$|t<  
杂散光术语 >P6"-x,["  
辐射度学基础 2.qPMqH  
杂散光的成因和影响 oO}g~<fYG  
杂散光分析和评价方法 r>mBe;[TX  
ASAP杂散光分析流程、步骤 _,3ljf?WQM  
关键和照明表面 2+]5}'M  
重点采样位置和大小计算 !R{IEray  
杂散光PST计算 `sjY#U
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光学表面粗糙、污染和微粒 !$I~3_c  
表面黑化处理 5eAZfe%H  
(leX` SN0u  
第四天 %h.zkocM  
鬼像： S"bN9?;#u  
鬼像的来源 vu0Ql1  
ASAP膜层 6)[moR{N1  
ZEMAX导入的鬼像分析 %G?@H
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鬼像路径分析案例 Y,L`WeQY.  
鬼像的控制 `IHP_IfR  
衍射和红外杂散光： D?Oe";"/  
孔径衍射和边缘衍射 /<[0o]  
衍射光学元件的杂散光
B4s$| i{D  
红外系统杂散光特征 UB~K/r`.|
 
红外热辐射 eqtZU\GI>  
自发辐射杂散光 J+D|/^  
红外冷反射 O>`k@X@9/  
>`QBN1 Y  
第五天 HG"ZN)~  
杂散光工程： .G/Rh92  
杂散光的控制方法 M1jT+  
挡板和叶片的设计 '1u?-2  
散射测量 :8S;34Y;  
杂散光的评价方法 :>-zT[Lcn  
杂散光工程流程 UiU/p
 
总结和答疑 vNi;)"&*  
培训说明 q@.>eB'92P  
>Eh U{@Y  

• s,R:D).  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• n%Oi~7>  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
• 5Fydh0.  
  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。