线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： gWPa8q<b  
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课程大纲 }A^,y  
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第一天 g{(nt5|^l  
光学和光线追迹的入门概念； -/?<@*n  
ASAP 简介； tsD^8~ t|h  
ASAP 新版本功能； .@V>p6MV  
程序检查和3D 查看器； _%B`Y ?I`  
ASAP 数据输入； kRPg^Fw"Vw  
单透镜辐射计示例； :Yqa[._AF  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； U @|_5[nl  
照明系统示例； uUs>/+  
基本脚本操作； U4JN
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几何规范和通用几何设置； ?CDq^)T[  
光学特性； }XU- JAn  
光源设置； ks$G6WC  
光线追迹概念； 5c8x: e@  
系统分析与评价。 l<?wB|1'  
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第二天 8),Y|4  
脚本和 ASAP 编辑器； wxxC&
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几何可视化与验证； R2@u[  
显示模式； a$m?if=  
辐射强度分布； J)o%83//  
光源切趾； ).xWjVC  
光线分裂和接收属性； Dl{Pd`D  
ASAP 宏语言； 3OlY Ml  
ASAP 优化功能； 5"U7I{\  
散射模型和重点采样； +fN0>@s  
光线路径。 T~>:8i  
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第三天 [qB=OxH?  
散射杂散光： ^(R gSMuT`  
杂散光术语 Pl4d(2 7  
辐射度学基础 /Y:
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杂散光的成因和影响 p
20Nk$.  
杂散光分析和评价方法 O/Vue  
ASAP杂散光分析流程、步骤 4tjRju?  
关键和照明表面 p WHu[Fu  
重点采样位置和大小计算 6%-2G@6d  
杂散光PST计算 Ai;Pht9qi  
光学表面粗糙、污染和微粒 R#>E{[9  
表面黑化处理 {YFru6$  
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第四天 Alz#zBGb  
鬼像： =[kv@
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鬼像的来源 S5JnJkNn  
ASAP膜层 zPe .  
ZEMAX导入的鬼像分析 x/~M=][tN  
鬼像路径分析案例 5|Qr"c$p  
鬼像的控制 J']W7!p  
衍射和红外杂散光： XJ"9D#"a>  
孔径衍射和边缘衍射 Dts:$PlCk  
衍射光学元件的杂散光 kVY@q&p  
红外系统杂散光特征 Hg4Ut/0  
红外热辐射 2k_Bo~.  
自发辐射杂散光 Vq\6c  
红外冷反射 ~X/T6(n$  
15COwc*k  
第五天 l-&f81W  
杂散光工程： vjpe'zx  
杂散光的控制方法 %}/)_RzQ  
挡板和叶片的设计 L@wnzt  
散射测量 JsV#:  
杂散光的评价方法 7j+.H/2  
杂散光工程流程 pmC@ fB  
总结和答疑 X^ovP'c2  
培训说明 g!$ "CX%8  
L>B0%TP^  

• 
  IH5thL@D  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
• 7?Fl [FW$  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。