线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： !&=%#i  
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课程大纲 c?1:='MC  
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第一天 HxmCKW
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光学和光线追迹的入门概念； S3(2.c~  
ASAP 简介； *;I F^u1  
ASAP 新版本功能； WP-'gC6K=  
程序检查和3D 查看器； }:5>1FfX=  
ASAP 数据输入；
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单透镜辐射计示例； gUq)M  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； LN?b6s75U  
照明系统示例； ?fXlrJ  
基本脚本操作； V^^nJs tV  
几何规范和通用几何设置； LbeMP  
光学特性； Mi5"XQ>/  
光源设置； 7:_\t!]  
光线追迹概念； G$buZspL'd  
系统分析与评价。 s3LR6Z7;i  
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第二天 @Fl&@ $  
脚本和 ASAP 编辑器； 5E#koy7 $s  
几何可视化与验证； pdrF/U+  
显示模式； UkY `&&ic  
辐射强度分布； jSj (ZU6  
光源切趾； G)E#wh_S^  
光线分裂和接收属性； G*f5B  
ASAP 宏语言； |F'k5Lh  
ASAP 优化功能； K)!?np{km  
散射模型和重点采样； V %cU@  
光线路径。 U/JeEI%L  
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第三天 |Gw[vY  
散射杂散光： f'\NGL  
杂散光术语  t: =  
辐射度学基础 PG1#Z?_  
杂散光的成因和影响 cXJtNW@  
杂散光分析和评价方法 ?6bk&"T?  
ASAP杂散光分析流程、步骤 @lau?@$ja  
关键和照明表面 ve#cz2Z  
重点采样位置和大小计算 V^t5 Y+7  
杂散光PST计算 U?6YY`A8  
光学表面粗糙、污染和微粒 hr<E%J1k%  
表面黑化处理 #@m*yJg<  
S"iQQV{)Z  
第四天 NAj1ORy4pX  
鬼像： X^#.4:>.  
鬼像的来源  ,T{(t@  
ASAP膜层 m4@y58n=  
ZEMAX导入的鬼像分析 C/Ig.KmXF{  
鬼像路径分析案例 
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鬼像的控制 ]
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衍射和红外杂散光： ,uD>.->  
孔径衍射和边缘衍射 #zcp!WE.OI  
衍射光学元件的杂散光 bl>MD8bzLE  
红外系统杂散光特征
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红外热辐射 xw5E!]~D  
自发辐射杂散光 #N|)hBz9-  
红外冷反射 mmXLGLMd  
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第五天 T[=XGAJ  
杂散光工程： o_gpBaWD  
杂散光的控制方法 <?P UF,  
挡板和叶片的设计 >qn@E?Uf  
散射测量 kNW&rg  
杂散光的评价方法 g S;p::  
杂散光工程流程 unmuY^+<  
总结和答疑 }[PbA4l.g  
培训说明 ^sq3@*hCw  
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• V9"Kro  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。