线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： QcWg  
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课程大纲 n
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第一天 cQ$[Ba  
光学和光线追迹的入门概念； 6 JI8l`S  
ASAP 简介； ")9^  
ASAP 新版本功能； oM1C/=8   
程序检查和3D 查看器； ?Xpk"N7  
ASAP 数据输入； n
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单透镜辐射计示例； t[;-gi,,  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； !'!\>x$  
照明系统示例； "KF]s.  
基本脚本操作； c)Ng9p  
几何规范和通用几何设置； a`:F07r  
光学特性； !d 4DTo  
光源设置； >'#vC]@  
光线追迹概念； <FR!x#!   
系统分析与评价。 #"oLz"{  
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第二天 W)Mz1v #s  
脚本和 ASAP 编辑器； +9]t]Vrw  
几何可视化与验证； Mi NEf  
显示模式； Mq\?J{E  
辐射强度分布； \0Xq&CG=E  
光源切趾； )" Z|x  
光线分裂和接收属性； <iH
   
ASAP 宏语言； vH}Vi
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ASAP 优化功能； Vo[.^0  
散射模型和重点采样； 4h?@
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光线路径。 uEh
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第三天 H6 ,bpjY  
散射杂散光： \PZ;y=]p}  
杂散光术语 #lik: ?  
辐射度学基础 [OPF3W3z  
杂散光的成因和影响 Ya~Th)'>q  
杂散光分析和评价方法 OZz/ip-!lc  
ASAP杂散光分析流程、步骤 \d.\M  
关键和照明表面 -|u yJh  
重点采样位置和大小计算 5{
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杂散光PST计算 ?ec
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光学表面粗糙、污染和微粒 3A0Qjj=  
表面黑化处理 mQt0?c _  
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第四天 K[?@nl?,z  
鬼像： v.sjWF  
鬼像的来源 mm*nXJ  
ASAP膜层 g/FT6+&T.  
ZEMAX导入的鬼像分析 "Q\b6 7Ch  
鬼像路径分析案例 yW*,Llb5  
鬼像的控制 Rxr?T-  
衍射和红外杂散光： UCj<FN `  
孔径衍射和边缘衍射 M@G\b^"  
衍射光学元件的杂散光 TtWzjt  
红外系统杂散光特征 vqVwo\oEdU  
红外热辐射 /V2yLHm  
自发辐射杂散光 mBB"e
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红外冷反射 n
'j}u  
Xwu&K8q21  
第五天 *aFh*-Sj2I  
杂散光工程： #RyTa /L  
杂散光的控制方法 Y~*aA&D  
挡板和叶片的设计 F.@|-wq&  
散射测量 u] G  
杂散光的评价方法 y\
CxdTs  
杂散光工程流程 {wk#n.c  
总结和答疑 !,Cbb }  
培训说明 8$RiFD,  
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• (7&b)"y  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
•  >T:0  
  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。