线下培训 | 第32届《ASAP光学系统杂散光分析与控制》招生中

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2024年3月18日-22日开展第32届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。以下是本次培训的课程详情： PL%_V ?z  
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课程大纲 *,@dt+H!y  
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第一天 T+N%KRl  
光学和光线追迹的入门概念； WPpl9)Qc  
ASAP 简介； EcBSi995dj  
ASAP 新版本功能； Lc0^I<Y  
程序检查和3D 查看器； |f?tyQ  
ASAP 数据输入； 7L? ~;;L$  
单透镜辐射计示例； "4oY F:h  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据； %j{gZ
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照明系统示例； kImS'i{A  
基本脚本操作； !1w=_  
几何规范和通用几何设置； )TBBYCL3  
光学特性；
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光源设置； bjZcWYT  
光线追迹概念； /mo
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系统分析与评价。 ^e8~e
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第二天 'k{pWfn=<  
脚本和 ASAP 编辑器； Z Z\,iT  
几何可视化与验证； RxjC sjg  
显示模式； Wg3y y8vIW  
辐射强度分布； E#Smi507p  
光源切趾； gp$oQh#37;  
光线分裂和接收属性； Q]uxZ;}aF  
ASAP 宏语言； Y?{L:4cRX  
ASAP 优化功能； am]$`7R5d  
散射模型和重点采样； ts<5%{M(  
光线路径。 Ugp[Ugr  
U^-:qT;CX  
第三天 ]bz']`  
散射杂散光： /EZF5_`bT  
杂散光术语 PmZ-H>  
辐射度学基础 b
%IRIi&,  
杂散光的成因和影响 iSCv/Gb:,  
杂散光分析和评价方法 O-[lL"T  
ASAP杂散光分析流程、步骤 &^=6W3RD  
关键和照明表面 hX#y7m  
重点采样位置和大小计算 Q=}p P*  
杂散光PST计算 .DR^<Qy  
光学表面粗糙、污染和微粒 Ikv@}^p 7  
表面黑化处理 80TSE*  
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第四天 ;7Cb!v1
 
鬼像： kq&xH;9=.  
鬼像的来源 H`odQkZ!  
ASAP膜层 `O4Ysk72x9  
ZEMAX导入的鬼像分析 q,w8ca4~y  
鬼像路径分析案例 mxt fKPb  
鬼像的控制 ?:73O`sX:  
衍射和红外杂散光： CT(VV6I\  
孔径衍射和边缘衍射 Eh/B[u7T[  
衍射光学元件的杂散光 {>$i)B  
红外系统杂散光特征 AJ1(q:P  
红外热辐射 xXkP(^ Y  
自发辐射杂散光 wq+%O,  
红外冷反射 -]HPDN,OB  
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第五天 - "`5r6  
杂散光工程： 3Run.Gv\  
杂散光的控制方法 J=v" HeVm  
挡板和叶片的设计 [HNWM/ff7+  
散射测量 %N``EnF2  
杂散光的评价方法 G- nS0Kn:  
杂散光工程流程 ^U1@ hq*u  
总结和答疑 G?Fqm@J{XT  
培训说明 7tbM~+<0  
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• ~\HGV+S!g}  
  为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速；
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  学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者颁发培训证书；
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  培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。