| infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 ,znL,%s uz8nRS s [attachment=124503] c'SM>7L #i6[4X? 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 Qve`k<Cj" JW2W>6Dgv[ 元件内部场分析仪:FMM @i;L Za [attachment=124504] PVS\, 9
4 "f 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 zC[i <'h!T >Y44{D\` 评估模式的选择 x`wZtv\ [attachment=124505] [Q7`RB F@oT7NB/n 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 H;4oZ[g i_'|:Uy*F 评价区域的选择 !N@Yh"c ^a: Saq-} [attachment=124506] 9(V=Ubj h4B+0 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 QJb7U5:B+ \nn56o@eN 不同光栅结构的场分布 A632 :V ,%&
LG],6 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: b6
J2*;XG [attachment=124507] ] `b<" +F#=`+V 光栅结构的采样 56/.*qa |E>v~qD8I 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 ;F"
kD ;))[P_$zB [attachment=124508] _:/Cl9~ h'z+8X_t 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 $sB48LJuU' &6=TtTp"9 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 qJe&jLZa [attachment=124509] 11^ {WF )m$1al 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) `Pz!SJ|
!;BZ# tF& [attachment=124510] eHfG;NsV/ 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 *+4>iL*: d|D'&&&c 输出数据的采样:二维周期光栅 7zz(# %FXI lH5 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] WHdqO8 [attachment=124512]
|
|