| infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪：FMM
摘要 !Q-h#']~L
f W /G_
[attachment=124503] ! v^{n+
+Ce[OG.
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 j@yK#==k
Dt1v`T~=?
元件内部场分析仪：FMM N^G
$:GC
[attachment=124504] j41) X'MgJ
,r$k79TI
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 hxwo<wEg
:5Y
yI.T
评估模式的选择 MCPVql`+`q
[attachment=124505] M
@|n"(P
b n$('
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 Qq p_(5S|>
x,CTB
评价区域的选择 Y]zy=8q
NNKI+!vg
[attachment=124506] :K:oH}4oh
{yl Y"FA
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 -?jI{].:8
(d>
M/x?W
不同光栅结构的场分布 74[wZDW|(
H@+1I?l
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： pUGFQ." \
[attachment=124507] LB(I^
6MewQ{h i
光栅结构的采样 xz$-_NWW
UN
FQ`L
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 l** gM
jT R>H bh
[attachment=124508] $nkvp`A
J AQ y
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 _Q9 Mn-&qQ
{ V8yJ{.G
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 a Uy!(Y
[attachment=124509] |S0w>VH>
eD (;W n
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） >,Z[IAU.x5
p)u?x)w=
[attachment=124510] D(E3{\*R
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 e9LP!"@EY
P{bRRn4Z
输出数据的采样：二维周期光栅 p#\JKx
BR*'SF\T
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] 8 vp*U
[attachment=124512]
|
|