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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 PSy=O\ 7%F9.h [attachment=124503] [}VEDx Oi{jzP 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 )qxL@w. dFS+O;zE\ 元件内部场分析仪:FMM @ojn<7W [attachment=124504] w.V8-9{ ?^6RFbke+ 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 '7xY,IY \dCdyl6V 评估模式的选择 )>?K:y8I~ [attachment=124505] OgzPX^q/= d:j$!@o 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 3)`}#` T >=B8PK+< 评价区域的选择 SIg=_oa L1 J"_.=P [attachment=124506] y6Rg@L&U h?idRaN_ 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 Dui<$jl0b }5%!:= 不同光栅结构的场分布 DsP+#PX ]~|zY5i!
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: UyvFR@ [attachment=124507] dM$]OAT 5jbd!t@L 光栅结构的采样 he!e~5<@y V862(y 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 2'/ ip@ uODpIxN [attachment=124508] ,qC_[PUT BG=h1ybz 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 0/),ylCj Ye,E7A*L 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 ~s
!+9\Fi [attachment=124509] `s.y!(`q >
^D10Nf* 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) l3.HL> o \.}* s]6 [attachment=124510] :r!nz\%WW 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 (h2bxfV~+ 2!l)%F` 输出数据的采样:二维周期光栅 PInU-"gG fD
V:ueO 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] i8EMjLBUR [attachment=124512]
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