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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 4jefU}e9# ,<*n>W4| [attachment=124503] O,6Upk .C(Ir 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 laN:H mR8 u5^fiw]C 元件内部场分析仪:FMM 44 ,:@ [attachment=124504] @.ebQR-:H @'`!2[2'? 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 }N^.4HOS8
>oi`%V 评估模式的选择 =zBcfFii`w [attachment=124505] o5KpiibFM 1P(rgn:8e 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 ;Ut0tm |SC^H56+ 评价区域的选择 r#
MJ S05+G}[$ [attachment=124506] rlr)n\R# ScU?T<u:i 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 0FmYM@Wc O\;Z4qn2= 不同光栅结构的场分布 tZmo= 3+: "mc/fp 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: y?j#;n 0 [attachment=124507] g*69TqO^ s>(OK.o 光栅结构的采样 xayo{l=uGv XB*)d
9'8 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 !Kr|04Qp#x asqbLtQ [attachment=124508] p\OUx Am [sJ f)< 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 f tW- SskvxH+7 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 i356m9j [attachment=124509] {/`iZzPg /NfuR$oMd 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) h`n,:Y^++P 7/QQ&7+NkS [attachment=124510] =W'a6)WE 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 *TQXE:vZ[ :N$^x /{ 输出数据的采样:二维周期光栅 ;0DTf nNJU@<|{* 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] F#_JcEE [attachment=124512]
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