首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 元件内部场分析仪:FMM [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2024-01-03 08:01

元件内部场分析仪:FMM

摘要 .)8   
%XXkVK`  
[attachment=124503]
1}`LTPW9  
[7"}=9  
元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 Gbd?%{Xc-  
<qiICb)~  
元件内部场分析仪:FMM |r~ uos  
[attachment=124504]
A1,4kqmE  
liNON  
元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 c%YDt`  
It 2UfW  
评估模式的选择 ~2N-k1'-'  
  
[attachment=124505]
'=TTa  
u2`xC4>c  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 3GmK3uM  
9|K*G~J  
评价区域的选择 m(3);)d  
   s%dF~DSK  
[attachment=124506] y=o=1(  
)Ul&1UYA  
元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 ] EyeBF)$  
f Lk"tW  
不同光栅结构的场分布 O=O(3Pf>  
V}`M<A6:  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: pa] TeH  
[attachment=124507]
mvf _@2^  
jCWu\Oe  
光栅结构的采样 c=t*I0-OVS  
nJ# XVlHc  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 .D@/y uV  
`p"U  
[attachment=124508] l Z~+u  
UIw?;:Y  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 gLCz]D.'  
*Yp qq  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 !\w\ ]7 ls  
[attachment=124509]
U~g@TfU;  
S 1>Z6  
输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) <<BQYU)Ig  
)% |r>{  
[attachment=124510]
Gt.*_E  
对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 CI1m5g [P  
bVmvjY4  
输出数据的采样:二维周期光栅 w})NmaT;YF  
]EX--d<_`  
当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
[attachment=124511]
H5^Y->  
[attachment=124512]
查看本帖完整版本: [-- 元件内部场分析仪:FMM --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计