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infotek 2024-01-03 08:01

元件内部场分析仪:FMM

摘要 aA`eKy) \  
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元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 iq; | i!  
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元件内部场分析仪:FMM I=0c\ U}  
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元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 }_D.Hy5  
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评估模式的选择 mU/o%|h  
  
[attachment=124505]
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为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 ?:;;0kSk  
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评价区域的选择 rqamBm 5  
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[attachment=124506] kKyU?/aj  
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元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 7Nq< o5  
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不同光栅结构的场分布 qOo4T@ t3  
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任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: 4Q|>k )H  
[attachment=124507]
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光栅结构的采样 R]"Zv'M(AM  
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虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 ,>j3zjf^  
Sy8t2lk  
[attachment=124508] Q0J1"*P0  
n8,%<!F^  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 EG{+Sz  
>dAl*T  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 vpu#!(N  
[attachment=124509]
AzU:Dxr>.G  
\Id8X`,eD  
输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) u+)!C*ho  
KXPCkNIN!  
[attachment=124510]
UFB|IeX?q  
对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 ?{J1&;j*  
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输出数据的采样:二维周期光栅 Vl5r~+$|  
K$S0h-?9]O  
当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
[attachment=124511]
{Ydhplg{  
[attachment=124512]
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