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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 p7Yej(B %y~=+Sm%m [attachment=124503] */Oq$3QGsV y ?FKou' 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 $/%|0tQ (hefpqpi 元件内部场分析仪:FMM 5$Yt@8; [attachment=124504] C3af>L@} 1"r6qYN!> 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 $cri"G tVUoUl 评估模式的选择 Mg.xGST [attachment=124505] S1pikwB Be{7Rj v 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 hlxZq 7FMg6z8~ 评价区域的选择 odPq<'V|AY NZ`( d [attachment=124506] A]2zK?|s Qo{Ez^q@J 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 5taYm' U}7a;4? 不同光栅结构的场分布 NZ/>nNs DCv~^ 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: y; Up@.IG [attachment=124507] rrei6$H& f)\ =LV 光栅结构的采样 xX`P-h>V`c <qs>c<Vj 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 ~xqRCf{8 5V\\w~&/ [attachment=124508] 08&DP^NS S,LW/:, 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 +(VHnxNQs Hq h 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 bZk7)b;1o [attachment=124509] -.:[a3c? Vd[[< 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) k41lw^Jh a!}.l< ) [attachment=124510] <4,>`#NEo 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 NrVrR80Y _ 97 输出数据的采样:二维周期光栅 F.mS,W] eLcP.;Z 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] Q>u$tLX& [attachment=124512]
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