infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 @ra^0 7Gh+EJJ3I [attachment=124503] kh4., \' yN@3uYBF 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 ()}(3>O- y
-6{>P/ 元件内部场分析仪:FMM 1j_gQ,'20 [attachment=124504] SAVA6
64 b#%$y 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 s!IX3rz kJ'rtz4QO 评估模式的选择 02$d [attachment=124505] AONEUSxJ ohJo1}{ 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 8(zE^W,[8"
N%f%
U 评价区域的选择 PtTL
tiE~ fzdWM:g [attachment=124506] w!%"b03q PQd*)6K:A 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 oNEjlV* +dG3/vV 不同光栅结构的场分布 &wa2MNCG8 ^j!2I&h1 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: MvKr~ [attachment=124507] ^?V9 FoQy@GnM5 光栅结构的采样 >d3`\(v- ;7>k[?'e 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 x%'5rnm| <*Gd0 v% [attachment=124508] pi|=3W [C#H _y( 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 XfQK
kol F~$ay@g 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 vbh 5 [attachment=124509] $L4h'(s ge4Qa K 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) cx~XG cC*H.N [attachment=124510] 7>V*gV?v 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 . 3'U(U M<nH 输出数据的采样:二维周期光栅 *e25!#o1 :w<Ga8\tZ 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] K`0'2 [attachment=124512]
|
|