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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 ^\(<s e+TSjm [attachment=124503] |ee A>z"I z^FJ 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 OsrHA 2FE13{+f 元件内部场分析仪:FMM WA?We7m$ [attachment=124504] 2]UwIxzR (i1q ". 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 x@p1(V. j=up7395 评估模式的选择 )Y](Mj!D [attachment=124505] 2{6%+>jB `'vNHY 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 JYK4/gJ 4}r.g0L 评价区域的选择 INRP@Cp1 ]}Jb'(gMO4 [attachment=124506] ev[!:*6P mD_sf_2> 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 }nK=~Wcu\ 0PdX>h.t 不同光栅结构的场分布 -%_v b6u wlEmy.)H 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: "+Kp8n6 [attachment=124507] c?%}J\<n m5%E1k$= 光栅结构的采样 6[3>[ej:x 1uJpn 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 ,KaO8^PB R/\ qDY,@ [attachment=124508] FfM,~s<Efz mNPz%B 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 bcUa'ZfN< bqwn_=. 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 [N_)V kpr [attachment=124509] *XkgwJq | E\ u 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) b" kL)DL1L mc|8t0+1` [attachment=124510] ]?k\ qS 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 Ih%LKFT nyx(0 输出数据的采样:二维周期光栅 \os"j \^Z DH 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] G8@LH [attachment=124512]
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