infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 aA`eKy) \ :;+!ID_ [attachment=124503] *G58t`]r .@VZ3" 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 iq; |
i! |
&X<- 元件内部场分析仪:FMM I=0c\ U} [attachment=124504] *2/Jg'de L`+[mX&2B 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 }_D.Hy5 <0CjEsAB] 评估模式的选择 mU/o%|h [attachment=124505] o:d7IL Rt8[P6e"q 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 ?:;;0kSk V\L;EHtc$ 评价区域的选择 rqamBm 5 j6qtR$l| [attachment=124506] kKyU?/aj l]]NVBA]) 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 7Nq<
o5 h.\I
tK{) 不同光栅结构的场分布 qOo4T@t3 sVFO&|L 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: 4Q|>k)H [attachment=124507] z=D5* t#NPbLZ 光栅结构的采样 R]"Zv'M(AM !M~:#k 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 ,>j3zjf^ Sy8t2lk [attachment=124508] Q0J1"*P0 n8,%<!F^ 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 EG{+Sz >dAl*T 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 vpu#!(N [attachment=124509] AzU:Dxr>.G \Id8X`,eD 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) u+)!C*ho KXPCkNIN! [attachment=124510] UFB|IeX?q 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 ?{J1&;j* %S312=w 输出数据的采样:二维周期光栅 Vl5r~+$| K$S0h-?9]O 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] {Ydhplg{ [attachment=124512]
|
|