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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 .)8 %XXkVK` [attachment=124503] 1}`LTPW9 [7"}=9 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 Gbd?%{Xc- <qiICb)~ 元件内部场分析仪:FMM |r~
uos [attachment=124504] A1,4kqmE liNON 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 c%YDt` It
2UfW 评估模式的选择 ~2N-k1'-' [attachment=124505]
'=TTa u2`xC4>c 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 3GmK3uM 9 |K*G~J 评价区域的选择 m(3);)d s%dF~DSK [attachment=124506] y=o=1( )Ul&1UYA 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 ] EyeBF)$ f
Lk"tW 不同光栅结构的场分布 O=O(3Pf> V}`M<A6: 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: pa]
TeH [attachment=124507] mvf
_@2^ jCWu\Oe 光栅结构的采样 c=t*I0-OVS nJ# XVlHc 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 .D@/y uV `p"U [attachment=124508] l Z~+u UIw?;:Y 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 gLCz]D.' *Ypq q 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 !\w\ ]7ls [attachment=124509] U~g@TfU; S1>Z6 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) <<BQYU)Ig )%|r>{ [attachment=124510] Gt.*_E 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 CI1m5g [P bVmvjY4 输出数据的采样:二维周期光栅 w})NmaT;YF ]EX--d<_` 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] H5^Y-> [attachment=124512]
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