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infotek 2024-01-03 08:01

元件内部场分析仪:FMM

摘要 /XS}<!)%  
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[attachment=124503]
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元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 o" &7$pAh  
-+Kx^V#'R  
元件内部场分析仪:FMM \[B5j0vV,  
[attachment=124504]
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[,8@oM#  
元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 -% 5*c61  
D;.-e  
评估模式的选择 ou6yi; l%  
  
[attachment=124505]
i0v;mc  
uPr@xff  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 oa}-=hG  
HP:ee+n  
评价区域的选择 ucL}fnY1  
   Xb?P'nD  
[attachment=124506] ^0pd- n@pn  
(}V.xi  
元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 ,=Xr'7w,  
|k^'}n  
不同光栅结构的场分布 =Qsh3b&<P  
Ra%RcUf~sh  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: ymrmvuh  
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%qV=PC  
.Quu_S_ vH  
光栅结构的采样 + Hc[5WL  
X#Y0g`muW  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 A Ns.`S  
mHM38T9C%  
[attachment=124508] :p;!\4)u  
Z[)t34EY"  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 D\}^<HW  
x{*g^f  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 t:eZ`6o$T\  
[attachment=124509]
%nSm 32/t3  
S*Qip,u  
输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) IGV@tI  
hxP%m4xF +  
[attachment=124510]
3%bCv_6B  
对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 0BMKwZg  
V: fz  
输出数据的采样:二维周期光栅 =3]}87  
b^~ keQ  
当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
[attachment=124511]
P(l$5x]g,  
[attachment=124512]
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