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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 z9P;HGuZ `|g*T~;
kC [attachment=124503] ]x`I@vSf7R zoO9N oUHW 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 [iT#Pu5 2:D1<z6RQ 元件内部场分析仪:FMM 2 NrMse [attachment=124504] ]QK@zb}x xN]88L}Tn 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 J3# h?2 :'Vu] 评估模式的选择 pxO?:B [attachment=124505] 'UL"yM $XO#qOW 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 Tq=OYJq5U !mtX*;b(e 评价区域的选择 uZ7~E._ $ h<l [attachment=124506] _b1w<T
` 4?F7% ^vr 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 )4/227b/( dr8`;$;G* 不同光栅结构的场分布 97n@HL1 *C n `pfO 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: =/]d\JSp [attachment=124507] 1%,AU 2t7Hu)V 光栅结构的采样 STH?X]
/ tlz)V1L 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 v5!G/TZ1 <xWBS/K [attachment=124508] ^6[o$eY3 }v?_.MtS 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 Sx%vJYH0 GMO|A.bzzN 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 =7WE [attachment=124509] 56R)631]p }R -azN; 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) 4 9zOhG
| d5ivtK? [attachment=124510] t6H9Q>* 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 ,awp)@VG7 P6cc8x9g( 输出数据的采样:二维周期光栅 (ON_(MN
,wvzY7% 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] !@<>S>uGG [attachment=124512]
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