| infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪：FMM
摘要 U4h5K}j4
n4 o}}tI
[attachment=124503] {GG;/Ns{f-
newURb,-!
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 Tb!jIe
:~' R| l
元件内部场分析仪：FMM 98lz2d/Fcq
[attachment=124504] U&gI_z[
(1Klj+"p%
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 y0,>_MS
KdC'#$
评估模式的选择 e,T^8_>
[attachment=124505] y':65NMda
mj&$+z M>
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 c1 Hp
Rl n% Y
评价区域的选择 W ntolYd
zG\: #,9
[attachment=124506] K$5mDScoJ
i)7B :uA
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 I.ku Y D62
H H|N~pBJB
不同光栅结构的场分布 J6Nhpzp
LQJC ]*b1
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： jQ dIeQD+
[attachment=124507] oq2-)F2/
Dmr3r[
光栅结构的采样 YA~ `R~9d
1:Wl/9mL
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 d?N[bA
D(#6H~QN%
[attachment=124508] ?7TuE!!M
<STE~Zm O
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 n T =XW M
S. !K
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 K/z2.Npn
[attachment=124509] `Af5%m[
="
pNE#
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） S+G W}?!
lCGEd 3
[attachment=124510] {}"a_L&[;
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 DtkOb,wY
EXti
输出数据的采样：二维周期光栅 eHU b4,%P
.@ @&q4= &
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] na_Wp^;
[attachment=124512]
|
|