| infotek |
2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪：FMM
摘要 c:Nm!+5_(
J4"Fj, FS
[attachment=124503] x~!|F5JbM
g gx _h
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 6D`n^ uoP
aY>v
元件内部场分析仪：FMM ,dCEy+
[attachment=124504] i9DD)Y<
-PE_q Z ^
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 ?!U[~Gq
]$[sfPKA
评估模式的选择 )_=2lu3%{
[attachment=124505] c
Rq2 re
x 1.S+:
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 5o d T\>Sn
!ka* rd
评价区域的选择 7t:RQ`$:
M}V!;o<t^
[attachment=124506] MxIa,M <
5FoZ$I
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 WK >|IgK
WR"D7{>tw
不同光栅结构的场分布 J{1H$[W~}
Y"GNJtsL "
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： #4m sBax4
[attachment=124507] &xQM !f
+ O.-o /
光栅结构的采样 Go)$LC0Mi
t~->&Ja
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 I 4X9RYB6c
T$xB H
[attachment=124508] l4oyF|oJTH
`GCoi ?n7
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 ~P1~:AT
YB5"i9T2
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 3 !@
[attachment=124509] /uwi$~Ed
0D s3wNz
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ?BnU0R_r]
Fz%;_%j
[attachment=124510] D0r viO
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 y>P+"Z.K%}
MEiP&=gX!
输出数据的采样：二维周期光栅 YA4 D? '
o8bd L<
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] 6}"c4 ^k6
[attachment=124512]
|
|