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2024-01-03 08:01 |
元件内部场分析仪:FMM
摘要 /XS}<!)% tP"C>#LO [attachment=124503] <[ 8at6; tL 3]9qfj 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 o" &7$pAh -+Kx^V#'R 元件内部场分析仪:FMM \[B5j0vV, [attachment=124504] => )l6**UE [,8@oM# 元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 -%5*c61 D;.-e 评估模式的选择 ou6yi;
l% [attachment=124505] i0v;mc uPr@xff 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 oa}-=hG HP:ee+n 评价区域的选择 ucL}fnY1 Xb?P'nD [attachment=124506] ^0pd- n@pn (}V.xi 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 ,=Xr'7w, |k^'}n 不同光栅结构的场分布 =Qsh3b&<P Ra%RcUf~sh 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: ymrmvuh [attachment=124507] %qV=PC .Quu_S_vH 光栅结构的采样 +Hc[5WL X#Y0g`muW 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 A Ns.`S mHM38T9C% [attachment=124508] :p;!\4)u Z[)t34EY" 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 D\}^<HW x{*g^f 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 t:eZ`6o$T\ [attachment=124509] %nSm 32/t3 S*Qip,u 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) IGV @tI hxP%m4xF + [attachment=124510] 3%bCv_6B 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 0BMKwZg V:fz 输出数据的采样:二维周期光栅 =3]}87 b^~ keQ 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。[attachment=124511] P(l$5x]g, [attachment=124512]
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