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2023-12-25 08:04 |
TRCX：掺杂过程分析
在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。 \z6UWZ
D=vw0Q_3Y3
[attachment=124235] pam9wfP
(a) )c*xKi j
FIB[attachment=124236] 5m'AT]5Tn_
(b) 掺杂前后对比
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