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2023-11-23 09:59 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=122946] Swg%[r=p= 内容简介 q-)Ynp4' Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 8h| 9;% 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 3m9ab" 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 49m}~J=* $"G=r(MW
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IrZ!.5%tV 目录 ,>Lj>g{~ Preface 1 zgh~P^Z 内容简介 2 @on\@~Ug 目录 i M}
{'kK 1 引言 1 XY1eeB- 2 光学薄膜基础 2 $-:j'e:j 2.1 一般规则 2 /Sag_[i 2.2 正交入射规则 3 ?pJUbZ#J 2.3 斜入射规则 6 j\S}TaH0e 2.4 精确计算 7 aV'r
oxM 2.5 相干性 8 rFPfTpS 2.6 参考文献 10
,m-/R 3 Essential Macleod的快速预览 10 NlnmeTLO5 4 Essential Macleod的特点 32 ADQ#qA,/ 4.1 容量和局限性 33 )+ss)LEC 4.2 程序在哪里? 33 lZa L=HS#L 4.3 数据文件 35 C_JDQByfL 4.4 设计规则 35 $J]b+Bp 4.5 材料数据库和资料库 37 fq2t^c|$ 4.5.1材料损失 38 L~])?d 4.5.1材料数据库和导入材料 39 e:&(y){n( 4.5.2 材料库 41 h7h[!> 4.5.3导出材料数据 43 MSw:Ay[9 4.6 常用单位 43 7sci&!.2` 4.7 插值和外推法 46 jg_##Oha 4.8 材料数据的平滑 50 `Ko6;s# 4.9 更多光学常数模型 54 lrXi*u] 4.10 文档的一般编辑规则 55 &>.
w* 4.11 撤销和重做 56 OYsG# 4.12 设计文档 57 ZV;lr Vv 4.10.1 公式 58 c5t],P 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 C=z7Gk= 4.10.3 沉积密度 59 yA/b7x-c 4.10.4 平行和楔形介质 60 '&.QW$B\B_ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 U[Pll~m2b 4.10.4 性能 61 LmKG6>Q1#1 4.10.5 保存设计和性能 64 9Xv>FVG! 4.10.6 默认设计 64 ma<+!*| 4.11 图表 64 0rtP :Nj$ 4.11.1 合并曲线图 67 `f9I#B
4.11.2 自适应绘制 68 _m+64qG_8' 4.11.3 动态绘图 68 LS=HX~5C 4.11.4 3D绘图 69 )Bq~1M 2 4.12 导入和导出 73 :i4>&4j 4.12.1 剪贴板 73 _k,/t10 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 3 oG5E"G 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 l$_Yl&!q$ 4.13 背景 77 <opBOZ
d 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 W\tSXM-Hg 4.15 生成Rugate 84 ]i3 1@O 4.16 参考文献 91 x[,HK{U|t 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 <3;Sq~^ 5.1 Jobs 92 qDQ$Zq[ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 )9L:^i6 5.3 输入材料 94 )K4A-9pC 5.4 设计数据文件夹 95 -}B&>w,5 5.5 默认设计 95 =vv4;az
X 6 细化和合成 97 ZPT6
pJ 6.1 优化介绍 97 0koC;(<n 6.2 细化 (Refinement) 98 .5',w"R 6.3 合成 (Synthesis) 100 #N=!O/Y 6.4 目标和评价函数 101 PN!NB. 6.4.1 目标输入 102 ` R;6]/I? 6.4.2 目标 103 3}@!TI 6.4.3 特殊的评价函数 104 <3wfY
#;>< 6.5 层锁定和连接 104 (qDu|S3P 6.6 细化技术 104 V'";u?h#S 6.6.1 单纯形 105 D=w5Lks 6.6.1.1 单纯形参数 106 JY+ N+c\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ov{ 6.6.2.1 Optimac参数 108 VFZ_Vw 6.6.3 模拟退火算法 109 }=':)?'-. 6.6.3.1 模拟退火参数 109 F9sVMV 6.6.4 共轭梯度 111 |G+6R-_ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 e%(,)WlTaU 6.6.5 拟牛顿法 112 M>pcG.6V 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 V Q6&7@
c 6.6.6 针合成 113 6iiH+Nc 6.6.6.1 针合成参数 114 ltKUpRE\? 6.6.7 差分进化 114 hcvWf\4'#q 6.6.8非局部细化 115 .Y8z3O 6.6.8.1非局部细化参数 115 !+;'kI2 6.7 我应该使用哪种技术? 116 p nS{W
\Q 6.7.1 细化 116 e5!LbsJv 6.7.2 合成 117 ?h;Zdv>`xz 6.8 参考文献 117 ?N
6'*2{NT 7 导纳图及其他工具 118 (RP"VEVR 7.1 简介 118 q;dg,Om 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 $"d< F3k 7.2.1 四分之一波长规则 119 U*.Wx0QM 7.2.2 导纳图 120 E,]G Ek 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 wzr3y}fCe 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 jt?937{ 7.5 斜入射导纳图 141 Tl.dr 7.6 对称周期 141 ,4bqjkX5q 7.7 参考文献 142 x
\.qzi 8 典型的镀膜实例 143 6!|-,t>< 8.1 单层抗反射薄膜 145 b< | |