| infotek |
2023-11-23 09:59 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=122946] C
rfRLsN] 内容简介 L:i+}F;M)s Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 jJc07r'] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 @sdS0pC 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 EP(Eq 8J):\jAZ6
^X^,>Z|
jNIUsM8e 目录 WDvV
LU` Preface 1 !")WZq^` 内容简介 2 @C07k^j=U 目录 i p&uCp7]U 1 引言 1 q#|r 2 光学薄膜基础 2 M_; w%FV 2.1 一般规则 2 hRLKb} 2.2 正交入射规则 3 cP J7E 2.3 斜入射规则 6 ,$ mLL 2.4 精确计算 7 ^9s"FdB]24 2.5 相干性 8 uD[^K1Ag]^ 2.6 参考文献 10 YLigP"*~^ 3 Essential Macleod的快速预览 10 3r`<(%\ 4 Essential Macleod的特点 32 6$DG.p 4.1 容量和局限性 33 aTX]+tBoe 4.2 程序在哪里? 33 ^7<[}u;qF 4.3 数据文件 35 !YIb 4.4 设计规则 35 Stt* 1gT 4.5 材料数据库和资料库 37 g&XhQ.aa 4.5.1材料损失 38 {n6\g]p3 4.5.1材料数据库和导入材料 39 zG<0CZQ8 4.5.2 材料库 41 (<n>EF# 4.5.3导出材料数据 43 |w4(rs- 4.6 常用单位 43 u,\xok" 4.7 插值和外推法 46 p[b7E`7 4.8 材料数据的平滑 50 -C=]n<ak 4.9 更多光学常数模型 54 ZRUh/<\[ 4.10 文档的一般编辑规则 55 wCC-Y kA 4.11 撤销和重做 56 }Py<qXH 4.12 设计文档 57 "`[ $&:~ 4.10.1 公式 58 -h=c=P 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 jXtLo,km 4.10.3 沉积密度 59 (%.</|u 4.10.4 平行和楔形介质 60 ti+pUlVrM 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 _m" ^lo 4.10.4 性能 61 Na-q%ru 4.10.5 保存设计和性能 64 e`vUK.UoW 4.10.6 默认设计 64 yTP[,bM 4.11 图表 64 2=Jmi?k 4.11.1 合并曲线图 67 9W$mDw6f 4.11.2 自适应绘制 68 6OMb`A@/2 4.11.3 动态绘图 68 JTjzT2`A. 4.11.4 3D绘图 69 ?F9hDLX 4.12 导入和导出 73 [q
w 4.12.1 剪贴板 73 k -io$ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 s!NisF
4.12.3 不通过剪贴板导出 76 9*f2b.Aj 4.13 背景 77 7G?Ia%u 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 )ynA:LXx 4.15 生成Rugate 84 j\nE8WH 4.16 参考文献 91 gW/QFZjY 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 G[vUOEU~O 5.1 Jobs 92 ^GrNfB[Qu 5.2 创建一个新Job(工作) 93 %}\ vW 5.3 输入材料 94 J6= w:c 5.4 设计数据文件夹 95 t
CkoYrvT 5.5 默认设计 95 DS.39NY 6 细化和合成 97 ,.J<.#D3J 6.1 优化介绍 97 C:WtCAm( 6.2 细化 (Refinement) 98 )`e^F9L 6.3 合成 (Synthesis) 100 3x,Aczb 6.4 目标和评价函数 101 M^Q&A R'F 6.4.1 目标输入 102 [8xeQKp4 6.4.2 目标 103 nl.~^CP 6.4.3 特殊的评价函数 104 ^
yY{o/6 6.5 层锁定和连接 104 lR|$*:+ 6.6 细化技术 104 Jii?r*"d 6.6.1 单纯形 105 []^PJ 6.6.1.1 单纯形参数 106 z<FV1niE 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 iH($rSE 6.6.2.1 Optimac参数 108 D>psh-,1 6.6.3 模拟退火算法 109 cC7"J\+r* 6.6.3.1 模拟退火参数 109 QJ[(Y@ O6a 6.6.4 共轭梯度 111 07~pf} 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 g%@]z8L 6.6.5 拟牛顿法 112 /e;e\k_}' 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |`N$>9qN 6.6.6 针合成 113 Sn_z 6.6.6.1 针合成参数 114 U`?zC~ 6.6.7 差分进化 114 \=HfO?$ Ro 6.6.8非局部细化 115 4`?sE*P@` 6.6.8.1非局部细化参数 115 B:.;,@r] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 3s88#_eT 6.7.1 细化 116 ~e,f )? 6.7.2 合成 117 PR48~K,? 6.8 参考文献 117 #fJ/KYJU 7 导纳图及其他工具 118 /zChdjz 7.1 简介 118 H>gWxJ
5 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <=B1"'\ 7.2.1 四分之一波长规则 119 +!mNm?H[! 7.2.2 导纳图 120 vHZX9LQU0+ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 g~bf! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 kKFuTem_3 7.5 斜入射导纳图 141 Ek gZxT_& 7.6 对称周期 141 l}U~I
3}). 7.7 参考文献 142 1]a*Oer} 8 典型的镀膜实例 143 :)^#
xE( 8.1 单层抗反射薄膜 145
6E)uu; 8 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ?NL&x 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [Gh%nsH 8.4 W-膜层 148 x= vE&9_u 8.5 V-膜层 149 t?3{s\z 8+ 8.6 V-膜层高折射基底 150 n1k$)S$iiy 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
tH< | |