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2023-11-23 09:59 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=122946] ^Y |s^N 内容简介 ?K#$81;[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 u9(AT>HxT 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 fXj 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \[jItg,+ $Yc9><i
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1)ne-e
目录 gV BV@v!W Preface 1 M?lr#}d 内容简介 2 X=~QE}x 目录 i v2R:=d
')> 1 引言 1 !y.7"G* 2 光学薄膜基础 2 r>o6}Mx$ 2.1 一般规则 2 9b6h!( 2.2 正交入射规则 3 hI0l2OE 2.3 斜入射规则 6 K6oLSr+EAK 2.4 精确计算 7 I^=M>_s4 2.5 相干性 8 jRc#>;dN 2.6 参考文献 10 ~ .-'pdz% 3 Essential Macleod的快速预览 10 L zC~> Uj 4 Essential Macleod的特点 32 f5Oh# 4.1 容量和局限性 33 &baY[[N 4.2 程序在哪里? 33 g.Q ?Z{ 4.3 数据文件 35 KivzgNz 4.4 设计规则 35 C/G[B?:h 4.5 材料数据库和资料库 37 8pk">"#s 4.5.1材料损失 38 /FY_LM 4.5.1材料数据库和导入材料 39 |.5d ^z 4.5.2 材料库 41 IT|CfQ [D 4.5.3导出材料数据 43 X,~C 4.6 常用单位 43 mDUS9> 4.7 插值和外推法 46 4<|]k?@ 4.8 材料数据的平滑 50 *v&RGY[> 4.9 更多光学常数模型 54 |EunDb[Y 4.10 文档的一般编辑规则 55 &/p9+gd 4.11 撤销和重做 56 [PT}!X7h 4.12 设计文档 57 Tec6]
: 4.10.1 公式 58 X@rAe37h+ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 NG ~sE&,7 4.10.3 沉积密度 59 KC'{>rt7 4.10.4 平行和楔形介质 60 gC_U7a w 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 q=U=Y
n 4.10.4 性能 61 #%~wuCn<K 4.10.5 保存设计和性能 64 ,
{^g}d8 4.10.6 默认设计 64 p{U ro!J,K 4.11 图表 64 Wp $\> 4.11.1 合并曲线图 67 ?uQpt( 4.11.2 自适应绘制 68 eo!{rs@f 4.11.3 动态绘图 68 ja2LXM 4.11.4 3D绘图 69 ?~"RCZ[;.f 4.12 导入和导出 73 ~7|z 2L 4.12.1 剪贴板 73 ~p&sd) 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 rnUe/HjH 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 >K3Lww)Ln 4.13 背景 77 =x>KA*O1 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 '0+-Hit? 4.15 生成Rugate 84 >
ewcD{bt 4.16 参考文献 91 Yyf8B 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 G9;WO* 5.1 Jobs 92 =>9`qcNW_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 idHBz*3~ps 5.3 输入材料 94 Onao'sjY 5.4 设计数据文件夹 95 yd$y\pN=< 5.5 默认设计 95 pnWDsC~) 6 细化和合成 97 pV_2JXM~@ 6.1 优化介绍 97 d}1R<Q;F 6.2 细化 (Refinement) 98 ] '..G- 6.3 合成 (Synthesis) 100 bLg1Dd7Q 6.4 目标和评价函数 101 )9s[-W,e 6.4.1 目标输入 102 k#
/_Zd 6.4.2 目标 103 %j
yLRT]H 6.4.3 特殊的评价函数 104 EG,RlmcPp 6.5 层锁定和连接 104 qbjRw!2?w 6.6 细化技术 104 wml`3$"cf 6.6.1 单纯形 105 5=eGiF;0\ 6.6.1.1 单纯形参数 106 =Z 2sQQVS 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 >Tw|SK+3 6.6.2.1 Optimac参数 108 Gmc0yRN 6.6.3 模拟退火算法 109 z'
@F@k6 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Zi^&x6y^ 6.6.4 共轭梯度 111 8d-_'MXk3 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ZDlMkHJ 6.6.5 拟牛顿法 112 \%UA6uj 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "~tEmMz 6.6.6 针合成 113 N
G4wtDa 6.6.6.1 针合成参数 114 *x$\5;A 6.6.7 差分进化 114 P:=3;d{v 6.6.8非局部细化 115 I%|W
O*x 6.6.8.1非局部细化参数 115 fU,sn5zZ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 tcfUhSz,I 6.7.1 细化 116 dI3U*:$X
6.7.2 合成 117 #8cY,%<S] 6.8 参考文献 117 ydw')Em 7 导纳图及其他工具 118 IL\#!|> 7.1 简介 118 M^a QH/=:" 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 w _n)*he)z 7.2.1 四分之一波长规则 119 QHOem=B 7.2.2 导纳图 120 u>}k+8~ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 m8.sHw 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 |dXmg13( - 7.5 斜入射导纳图 141 {/N4/gu 7.6 对称周期 141 _&P![o)x 7.7 参考文献 142 3eD#[jkAI; 8 典型的镀膜实例 143 v*kTTaU& 8.1 单层抗反射薄膜 145 'F1NBL 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 UW!!! 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 1qtu,yIf 8.4 W-膜层 148 z6\Y& { 8.5 V-膜层 149 C,.$g>)MZK 8.6 V-膜层高折射基底 150 0Db#W6*^ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 lj(}{O 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |oa9 g2 8.9 四层抗反射薄膜 153 \)pk/ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 bmFnsqo 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 lIz"mk
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 |,|b~> 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 k1W
q$KCwG 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <rNCb; 8.15十五层宽带抗反射膜 159 1 %K^(J; 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Qn_*(CSp 8.17 1/4波长堆栈 162 d
H]'&&M 8.18 陷波滤波器 163 5^+>*z 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Mz_*`lRN 8.20 褶皱 165 _Uc le 8.21 消偏振分光器1 169 I8rtta 8.22 消偏振分光器2 171 Nw*
>$v 8.23 消偏振立体分光器 172 zQ&`|kS 8.24 消偏振截止滤光片 173 a~jM^b;VN 8.25 立体偏振分束器1 174 @#xh)"} 8.26 立方偏振分束器2 177 w|7<y8#qC 8.27 相位延迟器 178 n]jZ2{g+ 8.28 红外截止器 179 k%Jv%m}aB 8.29 21层长波带通滤波器 180 y
~7]9?T 8.30 49层长波带通滤波器 181 lku}I4 8.31 55层短波带通滤波器 182 r&U | |