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ueotek 2023-11-06 09:41

Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型

本文建立了楔形LCD背光源模型,并对其进行分析,并按照照明输出标准对其进行优化。 s01$fFJgO  
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简介 S w "|iBZ@  
液晶显示器 (LCDs) 作为一种显示技术,在当今社会中已经得到了广泛的应用。在商业领域中最突出的应用包括计算机显示器、移动电话、电视和手持数字设备。 .+uVgSN  
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当环境光照条件不足时,大多数LCD都是接收后方照明以提供光照的。采用的两种照明方案为:底部照明和边缘照明,OpticStudio能够对这两种照明方案进行建模,且边缘照明方案中存在更复杂的设计问题,本文将重点对此进行介绍。 kA,4$ 2_o  
I+~\ w N  
LCD 照明方案 gix>DHq$k  
@Yarz1  
LCD底部照明方案使用阵列光源,如发光二极管,或均匀光源(如放置在LCD后面的电致发光面板)。此方案具有良好的均匀性和亮度,但需要更多的能量和更厚的保护壳。 B[7A  
d~/xGB`<  
[attachment=122112]
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本文的重点内容是边缘照明设计,使用楔形导光板对放置于LCD显示器旁边的光源发出的光进行分布。与底部照明方案相比,此方案消耗的能量更少,且封装更薄,但是均匀性和亮度较差。 Bxt_a.LthH  
Di])<V  
[attachment=122113]
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本文中忽略实际的液晶层,只考虑背光源设计。 cf&C|U  
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建立背光源模型 e sGlMq  
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边缘照明LCD的详细布局图如下图所示: D:6N9POB  
QU%N*bFW%P  
[attachment=122114]
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光源通常是冷阴极荧光灯管 (CCFL) 或一系列发光二极管 (LED) ,且在光源的后面放置反射器可以提高系统的效率。楔形光波导利用全内反射 (TIR) 使光更均匀地分布在显示区域。用反射镜围绕光波导,也可以提高系统效率。使用不同增亮膜 (BEF) 的阵列模式,可用于控制发射光的发光强度和偏振特性。 BiE$mM  
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在此设计案例中假设一些约束条件:将基于标准的移动电话选择显示屏的面积,并根据整体封装高度的限制选择光波导厚度。 vhX-Qkt}  
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显示区域面积:75 mm x 75 mm w&9F>`VET  
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楔形板厚度:输入面 4 mm ,端面 1 mm wvX"D0eVn  
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BEF:Vikuiti™ T-BEF 90/24 +Bn?-{h=  
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下载本文附件,将玻璃库放在{Zemax}\Glasscat目录中。这个材料库包含了改性丙烯酸和PMMA,可用来模拟这些塑料的内部近似传输值 (93%超过25毫米) 。基本设计和参数在“Starting Point.zmx” 文件中定义。请留意非序列元件编辑器 (Non-Sequential Component Editor,NSCE) 中用于建模不同背光元件的光源/物体类型。 VrudR#q  
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[attachment=122115]
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当被激发的电子撞击阴极管表面的涂层材料时,冷阴极荧光灯管发光。使用“管光源”对此类光源发射方式而言是非常理想。可以通过交替使用“二极管光源”来模拟一维二极管阵列作为光源。 y^, "gD  
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使用由丙烯酸材料制成的矩形体物体建立楔形光波导模型。该物体可以存在不同的端面尺寸和倾斜。请注意,只有倾斜物体才能保持光波导的上表面与X-Z平面平行。由于物体是围绕光波导输入面的中心旋转,而不是顶部边缘,所以Y的位置也需要略做改变。在物体倾斜的前后表面上都设置拾取 (Pickup) 求解以确保他们与Y-Z平面保持平行。 ~V!EtZG$  
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[attachment=122116]
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BEF是系统中最复杂的元件。手动复制父棱镜将非常耗时,且在光线追迹时需要大量内存。可以用阵列物体来替代复制棱镜,因为它只需要与父物体相同的内存,并且可以通过调整父物体的参数来改变整个阵列。同时,请注意存在阵列时的光线追迹速度,即使它内部仅仅含有几何物体。 HoMQt3C  
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确定初始性能 2,+@# q  
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现在已经搭建了基本系统,接下来查看其初始性能。通常用于确定设计优劣的标准是能量传递效率和均匀性(照度和发光强度)。能量传递效率的定义是显示器发出的能量与光源发出的能量之比。在空间位置中,期望整个显示器上的输出是均匀一致的(每像素最小通量的偏差)。在角度空间中,输出在(~30度)半锥角内应该均匀。请注意,此系统是为小型数字设备所设计的。如果此设计要用于电视或电脑显示器,则需要更大的半锥角(~90度)。 :^K~t!@  
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使用下图所示的光线追迹控件 (Ray Trace Control) 进行光线追迹的相关设置,并注意阈值造成的能量损失。 YdPlN];[  
i4 P$wlO  
[attachment=122117]
*P&OxVz  
查看探测器查看器,可以看到大约40%的光源能量到达探测器;由于蒙特卡罗 (Monte Carlo) 光线追迹的随机性,这个值可能会变化几个百分点。光线错误会导致一些能量损失,但在此应用场景中这是无关紧要的。大部分的能量损失是由于光波导中的体吸收造成的,且近10%的能量损失是由于阈值,这在光线要经过多次反射的系统中很常见。如果能量损失很大,可以通过将最小相对光线强度降低几个数量级来消除这种能量损失,但它会明显地减慢光线追迹的速度。将阈值降低到1E-6可以将能量损失降低到1%,并将效率提高到46%左右。  I8:"h  
7%W!k zp>  
[attachment=122118]
 h=:*7>}  
查看照度和发光强度的分布。光源对面的显示屏照度最高,这是由于光波导造成入射角变大,使TIR更接近光源造成的。发光强度图上显示了几个峰值,而不是在较小角度内具有理想的均匀分布。可以看出,这种强度分布是楔形光波导和BEF的特点。 Qb@BV&^y&  
l DgzM3  
[attachment=122119]
Mp!2`4rD  
根据目前的定义,系统中几乎没有几何参数可以修正这些分布。最有效的方法是在楔形光波导中引入散射特性。并且,输入面、顶面和底面对照度和发光强度分布的影响最大。 oJhEHx[f  
>Zi|$@7t-  
使用以下设置将朗伯散射配置文件应用于光波导的输入面。 b$IY2W<Ln  
bn5"dxV  
[attachment=122120]
$4ka +nfU  
进行光线追迹并观察输出特性的差异。确保在光线追迹控件对话框选中“散射光线 (Scatter Rays)”! _CHKh*KHML  
5/*)+  
[attachment=122121]
hU |LFjc  
该系统的效率提高了几个百分点,照明均匀性得到了很大的改善。发光强度略有改善,但仍存在一些重要问题有待解决。 4U_rB9K$  
&mCs%l  
现在,从光波导的前表面移除散射配置文件,并应用到顶面。默认情况下,使用三个面组定义矩形体,因此不能仅将顶面或底面设置为漫反射板。取而代之,将放置与顶面一致的散射矩形体并为该表面添加散射配置文件。如果该物体与非序列元件编辑器中的矩形体相同,则嵌套规则将使界面中的新物体处于优先地位。在物体7处插入矩形体物体,该矩形体的参数如下: 5L/Yi  
?SBh^/zf  
Y-坐标 = 2 g]:..W7  
"X\q%%P=?  
Z-坐标 = 38.5 BASO$?jf4  
M|5^':Y  
X-倾斜 = -90 ~Ay  
F I80vV7  
材料:空白(空气) @oUf}rMiDa  
avF&F  
X1、 X2、Y1、 Y2 半宽 = 37.5 xKRfl1  
V*0Y_T{_  
Z 长度 = 0.01 B(HNB\3u  
= .fc"R|<K  
朗伯散射配置文件:只用于前表面 Yk(NZ3O  
`PXoJl  
保留其他参数的默认值。运行光线追迹并记录输出的变化。 Rt*-#`I $  
E;ndw/GZjR  
[attachment=122122]
Ly@U\%.  
照度均匀性下降,但是影响光照强度的重点问题得到解决,效率也大大提高了。从结果中发现:需要在输出的空间分布和角分布的均匀性之间做出权衡;如果在底面使用相似的散射函数会使效率降低。 pmE1EDPag  
qdg= Imx  
根据结果显示,理想的散射配置文件应该用于光波导的顶面上,使得在光源附近的光线散射较少,而在相反方向的光散射较多。阵列物体能够对非线性图样进行建模。 &QiAM`MbC=  
Ke'YM{  
优化背光源 XyN`BDFi  
C`=`Ce~|d  
目前在楔形光波导中最常用的微观结构制造方式是模压拉伸/挤出,其优点是不需要额外的处理步骤,比如在光波导上打印散射点。本设计将每个微观结构都做成球形,尽管其他任何物体(本地、导入、布尔等物体)也都可以使用。这是通过将球体阵列放置在光波导的上表面上实现的。通过在非序列元件编辑器中将这些物体放置在光波导之后,并将它们的材料定义为空气,其效果是在光波导上浮雕出球体(注意嵌套规则)。将父球体和阵列物体添加到“ Mid Point..zmx ”中(此文件在本文的附件中)。 DR#3njjEC  
rElG7[+)p  
打开文件时,注意阵列物体12的画图极限参数设置得非常低,是因为阵列中有大量的元素,绘制所有元素需要大量时间。取而代之的是OpticStudio在整个阵列周围绘制了包围框。 BbXmT"@  
oZ|{J  
通过优化阵列参数以达到上述的最佳性能标准。所需的优化函数已经在当前文件中定义,打开评价函数编辑器如下图所示:  uhPIV\  
CJ37:w{%*Y  
[attachment=122123]
NpjsZcA  
用操作数5和8分别用于最大化空间均匀性和总光通量,用操作数10和11来控制光强分布的质心,用操作数13用来控制光强分布的均方根半径。希望输出光线不是完全平行的,而是限制在一定的视角范围内,因此,指定了30°作为目标视角。最后一组操作数 (15-18) 是边界约束,以防止阵列变得太大或太小,当无边界约束时,优化会有产生极限解的趋势。注意这些操作数的负数权重,它们就像拉格朗日乘数一样工作,迫使目标得以实现。 R$~JhcX*l'  
4jI*Y6Wkz  
优化分配的变量如下: 0hEF$d6U  
PDa06(t7  
球面物体:半径 ePFC$kMn  
)[a?J,  
阵列物体:Number X’ & Y’, Delta1 X’ & Y’, Delta2 Y’ 2l;ge>D J  
x %!OP\  
由于对称性的考虑,阵列只需要在y方向上是非线性的。因此只在X方向上分配线性阵列的间距 (Delta1 X ') 。此外,优化时很可能不需要阵列的三阶和四阶参数可变,所以不将其设为变量。 u!156X?[eU  
+#2@G}j  
如果给变量一个有限初始值,而不是从零开始,通常会使优化更有效。为了确定二阶y方向的起始点,查看通用绘图并与评价函数中的值进行对比。打开一维通用图(分析 (Analysis) >通用绘图 (Universal Plot))并应用以下设置。 ?L.p9o-S0  
p)AvG;  
[attachment=122124]
WoN]eO  
点击OK键,并进行绘图更新;这个过程可能需要几分钟,具体所需时长取决于电脑的速度。根据下图,将阵列物体上的“ Delta2 Y ”参数设置为5E-3。 l-JKcsM  
V3. vE,  
[attachment=122125]
W"DxIy  
背光源设计形式是固定的,只需要优化阵列参数。考虑到这一事实,使用正交下降 (OD) 算法进行锤形优化对于达到目标非常有效。锤形优化在长时间运行时性能最好,完成之后可以确定没有与起点相似的更好的设计。在运行锤形优化约20小时后,OpticStudio得出了具有良好空间均匀性和可接受的发光强度的解。请注意,此种发光强度是此类光波导的特性,不可能在不大幅度改变设计参数的情况下产生显著变化。优化后的系统见附件:“End Point.zmx”。 ?N9adL &b  
./z"P]$  
[attachment=122126]
FZLzu  
还要注意,系统效率已经上升到大约60%。如果降低最小相对光线强度阈值,得到的效率接近62%。有可能可以通过在系统中再添加散射和/或膜层属性进一步提升其性能。
ronehwa 2023-12-11 16:52
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