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optotek 2023-10-14 14:02

ThinFilmView光学薄膜软件

TFV薄膜设计软件是用于设计、分析和优化光学薄膜层结构的工具，通常被广泛应用于光学、电子、能源等领域，开发具有特定光学性能的材料和器件，如滤光片、反射镜、透射镜等。 9CwtBil<#g  
;IPk+,hpmi  
下面我们将列举出它的特征和几个重点功能。 yF|yZ{  
特征：
Bo ywgL|  
qycf;Kl:6  
新类型最适化方法 Q8l vwip  
Freehand mode!
[attachment=121150] FR'Nzi$  
8VG~n?y  
`]19}GK~xo  
实时计算 vYLspZ;S  
实时运算系统，立即显示运算结果。以鼠标控制滑动尺、上下键，可快速变更膜厚、折射率。膜厚亦可用键盘来做变更(箭头键，PgUp，PgDn键)。 +B+cN[d  
图纸格式编辑屏幕 ;cL+= !  
多张标签工作表，最多可同时设计20个膜数据。每张纸的计算结果迭加在波长图和入射角图上。 ca0vN^Ji  
多窗口 o^d|/;  
可以同时显示图形和数值，例如波长特性，入射角特性，颜色计算和光学沉积监视器。 W>{&" 5  
多语言 r0&LjH&R  
您可以在英语，日语和繁体中文之间切换。 dn42'(p@G  
高分辨率显示兼容 Q-G8Fo%#,E  
即使是具有高分辨率显示的字符也不会模糊。根据Windows缩放设置缩放字符。您还可以设置字体和字体大小。
功能：
16z Wm JH  
T51oNO%^  
基本操作 ~pI`_3  
以鼠标控制滑动尺、上下键，可快速变更膜厚、折射率。 K'"s9b8  
就能同时显示多种曲线图，从各种视点进行薄膜设计。 J- l[dC  
多张标签工作表，最多可同时设计20个膜资料。
[attachment=121151] "<&o ;x<  
%M^Q{` :5  
~% ]V,-4  
波长、入射角的3D图表显示 f<<$!]\  
等高线显示。回转、zoom可以。
[attachment=121152] ~_ovQ4@  
q~AvxO  
I%j]pY4  
光学式蒸镀监控 v=uQ8_0~N  
通常监控的膜厚和制品基板的膜厚会不同，且设计上的折射率(大气中)和成膜中(真空中)的折射率也不一样。而TFV软件则能考虑上述问题进行模拟。
[attachment=121153] NFur+zwv  
             光学测光方式
[attachment=121154] O7&OCo|b%>  
>: @\SU  
DEfhR?v  
电场强度分布 bgInIe  
可选择欲显示的偏振光种类。
[attachment=121155] _\,4h2(  
vKkvB;F41  
根据选择「反面」，由表面侧的入射光与反面测的入射光电场强度将可同时显示。
[attachment=121156] 3],(oQq^  
fl_a@QdB#  
F*:H&,  
颜色计算 W^H[rX}=  
显示所有工作表的计算结果，因此能够计算各膜数据之间的色差。
[attachment=121157] :2{ [f+  
=7 -k D3  
aH500  
表色系统 t3Iij0b~  
XYZxy, CIE L*a*b*, L*C*h, Hunter Lab, L*u*v*, UCS, Whiteness Index, Yellowness Index, sRGB, CIE2000, Dominant Wavelength。 bX%4[BKP  
对应的光源种类 k5)IBO  
A, B, C, D50, D55, D65, D75, E, F1, F2, F3, F4, F5, F6, F7, F8, F9, F10, F11, F12, ID50, ID65。 3`"k1W  
您也可以将自己的光源数据注册为csv文件。 k.Z?BNP  
制造误差分析 Jx4~o{Z}c  
某层的膜厚、折射率、吸收系数的误差，于调查会对光学特性会造成多少程度影响时及调查设计值与实际成形薄膜的光学特性的乖离发生在哪一层时(Mismatch解析)、及依据Monte Carlo simulation调查制造变异时(制造误差解析)使用。
[attachment=121158] ]HG> Og  
,zBc-Cm  
波长曲线图Monte Carlo simulation
[attachment=121159] diw5h};W  
xkaed  
颜色计算Monte Carlo simulation
[attachment=121160] qNkX:|j  
"KY]2v.  
%Si3LQf  
您可以为每个图层指定每个薄膜厚度，折射率和吸收系数的变化量。 b0/[+OY   
变化量可以从绝对值的均匀分布，％的均匀分布和正常(Gaussian)分布(σ)中选择。 K~8!Gh{h]  
这个软件是用 Mersenne Twister 随机数发生器。 <S@2%%W  
反面测的特性 U4e9[=q`'  
可以同时观察有吸收的膜的表面侧、反面侧的特性来做设计。
[attachment=121161] \]L h a  
kN vNV(4  
O=Vj*G ,  
Stack(两面的合计特性) `zcpaE.@  
平行边面基板的两面(又或单面)附着于膜时的合计特性。
[attachment=121162] 6y@o[=m  
F2=#\U$  
}-WuHh#  
不均匀 @y# u!}  
不均匀(折射率斜面)设定 \'nE{  
将游标放置在不均质的字段上，将会跳出不均匀数据数据。
[attachment=121163] D4+OWbf6  
LkXF~  
@hOY&  
周期层 4-xg+*()  
可设定周期层内的膜厚倍率。
[attachment=121164] maQOU1  
Vao3 &#D8  
D_I_=0qNd  
设计最适化 d8f S79  
设计最适化 - 标准MODE - -EU~ %/=m+  
由Local search、Global search、Needle search三种最适化手法中选取实行最适化。 tpKQ$) ed  
Local search YW-Ge  
使用Levenberg-Marquardt法，借着边变更膜厚边找寻最适当解析。 YccD ^w[`B  
Global search {E>(%vD  
Simulated Annealing Method法与Levenberg-Marquardt法组合的手法，在local search的途中，将膜厚随意变更､避免陷入非本来解的局部解结果。 p:|p?  
Needle search (K> 4^E8  
插入针状的薄层，让多层膜成长，藉此搜寻解。 &R}2/Mt  
Needle层的插入→local search→needle层的插入→local search的反复循环。 HG})V PBa  
设计最适化 - 手动mode - DzvGR)>/  
手动mode，用鼠标将图表上的特性拖曳变更形状，使用那个能使之变形的local search进行最优化的新类型最优化方法。 }nNCgH  
计算基板及薄膜nk的功能 =ThacZHb8  
由分光亮度计测量的光谱反射率和光谱透射率计算出基板或薄膜的nk。 MqswYK-s  
1. 计算无吸收的基板的折射率(n) )G9,5[  
计算没有膜的基板的折射率。 :WN*wd  
在基板上无吸收时使用。 [ Q20c<,  
需要是单面mat基板或双面研磨基板。 {UEZ:a  
2. 计算具有吸收作用的基板的折射率(n)，吸收系数(k)和内部透射率(Ti) N%QVkuCbM  
在基板上有吸收时使用。 ;KW}F|  
需要是单面mat基板或双面研磨基板。 -B#>Jn#F  
3. 单层膜的nk分析 V 8J!8=2  
从光谱反射率和光谱透射率，通过对色散公式进行曲线拟合来分析膜的n，k和膜厚度(d)。 +Tp>3Jh2  
添加了仅分析正常色散(折射率随波长变短而增加色散)的选项。 9xUAfU  
4. 单层金属薄膜的nk计算 ?bK^IHh  
由正面反射率和背面反射率算出金属膜的nk。 lA7\c#  
膜必须足够厚且透射率为零。 / CVhvK  
分光光度计测定资料 Y- c_ 2 )  
读写分光光度计测定文件夹，将可显示于坡长曲线图。 既可将使用分光光度计分光光度计测定的数据与设计值放于同一曲线图做比较。 &r !*Y&  
测定值为相对值时，可变换为绝对值。
[attachment=121165] Zo36jSrCL  
9.$k^|~  
w#`E;fN'  
对应的档案形式 Y+#Vz IZw  
Hitachi UV1 files and UV-Solutions files(*.UDS, *.UDA), WJ$!W  
Shimadzu SPC files, 4P}<86xk  
Olympus-USPM files(*.dat, *.csv), pWXoJ0N  
Jasco JWS files, L(eLxw e%  
Ocean-Optics OOi-Base32 files, Q68q76  
csv files, &p#.m"Oon  
tab separated text files. V@Fj!/  
色散资料 Q+'QJ7fw'|  
基板data 8;]U:tv  
1381基板data为事先预设。 ojZvgF  
SCHOTT, OHARA, HOYA, SUMITA, HIKARI, CDGM(成都光明) k9?fE  
APEL, ZEONEX, PMMA, Polycarbonate, etc. F2RU7o'f.  
您也可以注册自己的数据。 3]}wZY0  
膜物质data $17utJ 58  
下记膜物质data为事先预设。 }*I:0"WH  
Ag, Al2O3, AL, Au, Cr, Cu, H2, H4, LaF3, M3, M3-RT, MgF2, Nb2O5, Nb2O5-RT, OH5, OH5-RT, OS50, OS50-RT, SiO2, Ta2O5, Ta2O5-RT, Ti, TiO2, Zn, ZnS, ZrO2, Cytop .#y.:Pb|e  
Al2O3(KTM), HfO2(KTM), LaF3(KTM), Ti3O5(KTM), ZrO2(KTM), ZRT2(KTM) -%^KDyZ<&  
KTM: Kyoto Thin-Film Materials Institute v9s /!<j  
您也可以注册自己的数据。 !Wz%Hy:ZK  
薄膜计算工具 li?RymlF  
附有简易计算关于薄膜的「薄膜计算工具」。 c:MP^PWc  
λ/4膜的折射率 h*9s^`9)  
由单层膜的反射率测定Peek值來计算折射率的功能率。 fPW(hb;  
[attachment=121166]
w{; esU  
48 `k"Uy   
厚膜的反射率 t LZ4<wc  
计算两个面的合计反射率功能。 <Sx-Ca7  
[attachment=121167]
z tLP {q#  
xr*hmp1  
3层等价膜 EpCsJ08K  
将某折射率的λ/4膜，移至另2种折射率的3层膜里，呈现与反射率相同一般的功能。作为实际的膜材料，欲将不存在的折射率λ/4膜与已存在的两种类膜材料做交换时膜使用。
[attachment=121168] L^zF@n^5A  
[attachment=121169]
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