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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 /)`]p1c1%w  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 |o'r?"  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 L27WDm^)  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 2e03m62*  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /Gn0|]KI  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
zx*D)i5-  
特邀专家介绍 e m0 hTxb  
[attachment=121028] i0J`{PbI  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 B^/k`h6J  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 6As%<g=  
课程概要 g/i%XTX>  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 <]X 6%LX  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 yqVoedN  
课程大纲 M{)&SNI*C  
1. Essential Macleod软件介绍 (E,Ibz2G:e  
1.1 介绍软件 s`0IyQXVU  
1.2 创建一个简单的设计 M"bG(a(6:  
1.3 绘图和制表来表示性能 q ]VB}nO  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 #9F>21UU  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) u[oV Jvc  
1.6 特定设计的公式技术 E!BzE_|i  
1.7 交互式绘图 $EEn]y  
2. 光学薄膜理论基础 &flRrJ  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 =p"ma83  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _zi| GD  
3. 材料管理 &U7h9o H  
3.1 材料模型 sriDta?Cz  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 j>uu3ADd2  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 WiZTE(NM`  
3.4 基板光学常数的提取 1 ltW9^cF}  
4. 光学薄膜设计优化方法 [HUK 9hG  
4.1 参考波长与g f-ceDn  
4.2 四分之一规则 x<' $  
4.3 导纳与导纳图 |0?v4%g  
4.4 斜入射光学导纳 U_ j[<.aN)  
4.5 光学薄膜设计的进展 #NYHwO<0-  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 #fHnM+  
4.6.1 优化目标设置 $mE3 FJP>  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 6EO@ Xf7,  
4.6.3 膜层锁定和链接 SMJRoK3  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 BG= J8  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 oif|X7H;  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 &43c/T Sb  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +6 =lN[b  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 8DY:a['-d  
5.5 如何在Function中编写脚本 Cl-P6NlR".  
6. 光学薄膜系统案例  OK8Ho"  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 &q9=0So4\  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 nk7>iK!i  
6.3 Stack应用范例说明 t|h c`|  
7. 薄膜性能分析 5E1`qof  
7.1 电场分布 @rDBK] V  
7.2 公差与灵敏度分析 LME&qKe5  
7.3 反演工程 6H5o/)Q~  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 &5${k'  
8. 真空技术 nE*S3  
8.1 常用真空泵介绍 VB#&`]r do  
8.2 真空密封和检漏 4Orq;8!BW  
9. 薄膜制备技术 \AH5 zdK  
9.1 常见薄膜制备技术 4,Oa(b  
10. 薄膜制备工艺 F:q8.^HTJ  
10.1 薄膜制备工艺因素 1X5Yp|Ho  
10.2 薄膜均匀性修正技术 EhM=wfGKw  
10.3 光学薄膜监控技术 :z&kbG  
11. 激光薄膜 v'b%m8  
11.1 薄膜的损伤问题 P=KhR&gwV~  
11.2 激光薄膜的制备流程 %7P]:G+Y\  
11.3 激光薄膜的制备技术 |+::sL\r  
12. 光学薄膜特性测量 :KA)4[#;W  
12.1 薄膜光谱测量 $/tj<++W  
12.2 薄膜光学常数测量 jC>#`gD  
12.3 薄膜应力测量 mH0OW  
12.4 薄膜损伤测量 O-K*->5S  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 kWVk^ ,  
[attachment=121029]
I`rN+c:  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
sxph#E%  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
-]Su+/3(,  
内容简介 yiI oqvP  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #asi%&3pP  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 %.r \P@7/Q  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2IRARZ,3  
qHdUnW  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
G9LWnyQt  
目录 KV|D]}  
Preface 1 "aCB}  
内容简介 2 !rAH@y.l  
目录 i V| kN 1 A  
1  引言 1 6SH0 y  
2  光学薄膜基础 2 ?%qaoxG37  
2.1  一般规则 2 zGyRzxFN  
2.2  正交入射规则 3 &Tuj`DL  
2.3  斜入射规则 6 &*ocr&  
2.4  精确计算 7 n7K%lj-.P  
2.5  相干性 8 9T5 F0?qd  
2.6 参考文献 10 jOrfI-&.G  
3  Essential Macleod的快速预览 10 l&U$L N$*e  
4  Essential Macleod的特点 32 ![\P/1p  
4.1  容量和局限性 33 ej&.tNvq  
4.2  程序在哪里? 33 saP%T~  
4.3  数据文件 35 G dNhEv  
4.4  设计规则 35 fxoEK}TM  
4.5  材料数据库和资料库 37 7x>^ip"7  
4.5.1材料损失 38 T)7U+~nQ"  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 WQ[n K5#  
4.5.2 材料库 41 r(uo-/7z  
4.5.3导出材料数据 43 `x#S. b  
4.6  常用单位 43 {.A N4  
4.7  插值和外推法 46 /KF@Un_Ow  
4.8  材料数据的平滑 50 2&n6:"u|  
4.9 更多光学常数模型 54 ;<Hk Cd  
4.10  文档的一般编辑规则 55 @0 P4pt;(  
4.11 撤销和重做 56 ox&? `DO  
4.12  设计文档 57 ,3T"fT-(  
4.10.1  公式 58 hx9t{Zi  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 rDbtT*vN  
4.10.3  沉积密度 59 {cOx0=  
4.10.4 平行和楔形介质 60 df@NV Ld  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 v+in:\Dv  
4.10.4  性能 61 E]/2 u3p  
4.10.5  保存设计和性能 64 {G x=QNd  
4.10.6  默认设计 64 d wG!]j>:_  
4.11  图表 64 76@W:L*J$J  
4.11.1  合并曲线图 67 Z^%a 1>`  
4.11.2  自适应绘制 68 5G\OINxy  
4.11.3  动态绘图 68 %\sE\]K  
4.11.4  3D绘图 69 !(?7V  
4.12  导入和导出 73 1_q!E~)  
4.12.1  剪贴板 73 K'J_AMBL  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 #U L75  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 hIV]ZYbH  
4.13  背景 77 \zg R]|  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 }aE'  
4.15  生成Rugate 84 ZM-P  
4.16  参考文献 91 cYg J}(>}  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Y=G`~2Pr=  
5.1  Jobs 92 kOD=H-vSi  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 dLb$3!3  
5.3  输入材料 94 &(Fm@ksh\  
5.4  设计数据文件夹 95 Qw2-Vv4!"  
5.5  默认设计 95 }vU/]0@,E  
6  细化和合成 97 /KOI%x  
6.1  优化介绍 97 1mJUl x  
6.2  细化 (Refinement) 98 uBt ]4d*  
6.3  合成 (Synthesis) 100 +vxf_*0;  
6.4  目标和评价函数 101 Kq Jln)7  
6.4.1  目标输入 102 |"9&F  
6.4.2  目标 103 !nkIXgWz  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Uvm.|p_V  
6.5  层锁定和连接 104 [>a3` 0M  
6.6  细化技术 104 dFw+nGN  
6.6.1  单纯形 105 LJPJENtFIs  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Fy<:iv0>t  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 NN'pBU R  
6.6.2.1 Optimac参数 108 {v]L|e%{  
6.6.3  模拟退火算法 109 B <r0y  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ef '?O  
6.6.4  共轭梯度 111 NO[A00m|OL  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ro9:kEG$  
6.6.5  拟牛顿法 112 'a+^= c  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 vA_,TS#Bo  
6.6.6  针合成 113 "y"oV[`  
6.6.6.1 针合成参数 114 "i#g [x  
6.6.7 差分进化 114 hGV_K"~I0  
6.6.8非局部细化 115 )e3w-es~4  
6.6.8.1非局部细化参数 115 zCo$YP#5_  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 t{iRCj  
6.7.1  细化 116 2@Yu: |d4U  
6.7.2  合成 117 $%bd`d*S  
6.8  参考文献 117 , p}:?uR  
7  导纳图及其他工具 118 Izu____  
7.1  简介 118 V~KWy@7  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 %<DdX*Qp  
7.2.1  四分之一波长规则 119 v.8kGF  
7.2.2  导纳图 120 59 g//;35@  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [XI:Yf  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 0;><@{'  
7.5  斜入射导纳图 141 ?sdSi--  
7.6  对称周期 141 lq_UCCnv5  
7.7  参考文献 142 Mo N/?VA  
8  典型的镀膜实例 143 *s 4Ym  
8.1  单层抗反射薄膜 145 hR|xUp  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 5[X%17&t  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 | 8mWR=9fs  
8.4  W-膜层 148 vv,<#4d  
8.5  V-膜层 149 ,yNuz@^ P  
8.6  V-膜层高折射基底 150 CtN\-E-  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 PRiE2Di2S  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 q>'#;QA  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ^"|q~2  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 V1M|p!  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .-HM{6J  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 azIhp{rH w  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 x1g-@{8]j  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 t^MTR6y+8  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 jSvq1$U  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 z{Yfiv\-r  
8.17  1/4波长堆栈 162 p%*s3E1.D  
8.18  陷波滤波器 163 ,^e2ma|z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3AdYZ7J  
8.20  褶皱 165 ?m~1b_@A{  
8.21  消偏振分光器1 169 Lb Jf5xdi  
8.22  消偏振分光器2 171 ?`xF>P]M  
8.23  消偏振立体分光器 172  ]'% iR  
8.24  消偏振截止滤光片 173 >F7HKwg}Z  
8.25  立体偏振分束器1 174 rQT%~oM:  
8.26  立方偏振分束器2 177 #J/RI[a  
8.27  相位延迟器 178 bnkZWw'9  
8.28  红外截止器 179 `~d7l@6F  
8.29  21层长波带通滤波器 180 +p>h` fc  
8.30  49层长波带通滤波器 181 (|AZO!  
8.31  55层短波带通滤波器 182 L;*7p9  
8.32  47 红外截止器 183 u =L Dfn  
8.33  宽带通滤波器 184 %`s#p` Ol1  
8.34  诱导透射滤波器 186 2>X yrG  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ygja{W.  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 T&/ n.-@nk  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192  #9}1Lo>  
8.35  增益平坦滤波器 193 0sw;h.VY  
8.38  啁啾反射镜 1 196 xPm{'J+b~  
8.39  啁啾反射镜2 198 O95gdxc  
8.40  啁啾反射镜3 199 i^:#*Q-co  
8.41  带保护层的铝膜层 200 pe,y'w{  
8.42  增加铝反射率膜 201 93.\.&L\  
8.43  参考文献 202 FsOJmWZ  
9  多层膜 204 i75\<X  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 r$4d4xtK  
9.2  内部透过率 204 5V(#nz  
9.3 内部透射率数据 205 7P2(q  
9.4  实例 206 F|+B8&-v  
9.5  实例2 210 a(yWIgD\\  
9.6  圆锥和带宽计算 212 o` QH8  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 aJ=)5%$6kc  
10  光学薄膜的颜色 216 H1?C:R  
10.1  导言 216 ~kV>nx2  
10.2  色彩 216 *wx%jbJo  
10.3  主波长和纯度 220 $Lfbt=f  
10.4  色相和纯度 221 B+Qo{-  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 H~#$AD+H  
10.6 色差 226 E|-5=!]fX  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 32 j){[PL3  
10.8  颜色渲染指数 234 v~AshmP  
10.9  色差计算 235 f-i5tnh  
10.10  参考文献 236 ]Q.S Is  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 X7K{P_5l  
11.1  短脉冲 238 ]b;a~Y0  
11.2  群速度 239 F ]D^e{y  
11.3  群速度色散 241 wpN [0^M-0  
11.4  啁啾(chirped) 245 @mu{*. &  
11.5  光学薄膜—相变 245  y"Fu=  
11.6  群延迟和延迟色散 246 WN|_IJR~  
11.7  色度色散 246 yMkR)HY  
11.8  色散补偿 249 ,@ p4HN*  
11.9  空间光线偏移 256 E*T6kp^b  
11.10  参考文献 258 XD6Kp[s  
12  公差与误差 260 Z3wdk6%:}  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ?r)>SB3(e  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 )!VJ\  
12.2.1  误差工具 267  = v?V  
12.2.2  灵敏度工具 271 U3]/ NV*   
12.2.2.1 独立灵敏度 271 4Hyp]07  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 3:$@DZT$  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 9+ve0P7$  
12.3  参考文献 276 ZBU<L+#  
13  Runsheet 与Simulator 277 &09~ D8f'  
13.1  原理介绍 277 \jZmu  
13.2  截止滤光片设计 277 ".AW   
14  光学常数提取 289 Cv>~%<   
14.1  介绍 289 4\V/A+<W  
14.2  电介质薄膜 289 d8 v9[ 4  
14.3  n 和k 的提取工具 295 H%=;pD>o  
14.4  基底的参数提取 302 2XUIC^<@s  
14.5  金属的参数提取 306 w0=/V[fs  
14.6  不正确的模型 306 t=:5?}J.Q$  
14.7  参考文献 311 SMB&sl  
15  反演工程 313 F|VHr@%  
15.1  随机性和系统性 313 1:DA{ejS  
15.2  常见的系统性问题 314 0#8lg@e8  
15.3  单层膜 314 rOUQg_y  
15.4  多层膜 314 eln$,zK/b  
15.5  含义 319 71<4q {n  
15.6  反演工程实例 319 MfI+o<{r  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ZX+0{E8a  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Om7 '_}  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 h3\(660>$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 +WR'\15u   
16.2  应力工具 335 (yT&&_zY4  
16.3  均匀性误差 339 j{t r''yN  
16.3.1  圆锥工具 339 Q0 ezeo  
16.3.2  波前问题 341 ei]Q<vT6  
16.4  参考文献 343 !qH)ttW  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Bbb":c6w0  
17.1  引言 345 ]E.FBGT  
17.2  操作数 345 #w^Ot*{!N  
18  如何在Function中编写脚本 351 _S &6XNV  
18.1  简介 351 WwKpZ67$R  
18.2  什么是脚本? 351 a9 S&n5  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 .",BLuce  
18.4  基础 352 Mg^A,8lrm  
18.4.1  Classes(类别) 352 G%jV}7h  
18.4.2  对象 352 Hp(41Eb,  
18.4.3  信息(Messages) 352 5Tidb$L;Du  
18.4.4  属性 352 }Vm'0  
18.4.5  方法 353 :de4Fje/4y  
18.4.6  变量声明 353 }U%E-:  
18.5  创建对象 354 =(,kjw88w  
18.5.1  创建对象函数 355 mxc^IRj  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 JV2[jo}0 N  
18.5.3 丢弃对象 356 ady SwB  
18.5.4  总结 356 sG|,#XQ  
18.6  脚本中的表格 357 $S/WAw,/  
18.6.1  方法1 357 0o.h{BN  
18.6.2  方法2 357 dleLX%P  
18.7 2D Plots in Scripts 358 d(Yuz#Qcrh  
18.8 3D Plots in Scripts 359 sv\=/F@n  
18.9  注释 360 ~dsx|G?p  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 VdL }$CX$  
18.11  一个更高级的脚本 362 yaI jXv  
18.12  <esc>键 364 ,mD$h?g  
18.13 包含文件 365 JQ]MkP  
18.14  脚本被优化调用 366 P^BSl7cT  
18.15  脚本中的对话框 368 @Js@\)P79  
18.15.1  介绍 368 <V8=*n"mR  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 OtT*)8*c  
18.15.3  输入框函数 370 0|rdI,z  
18.15.4  自定义对话框 371 3/su1M[  
18.15.5  对话框编辑器 371 DxP65wU  
18.15.6  控制对话框 377 7:C2xC  
18.15.7  更高级的对话框 380 0}Q d  
18.16 Types语句 384 V4gvKWc  
18.17 打开文件 385 cyI:dvg  
18.18 Bags 387 DeN$YE#*  
18.13  进一步研究 388 g*%o%Lv  
19  vStack 389 <ou=f'  
19.1  vStack基本原理 389 {~=gKZ:-@  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ev yA#~o  
19.3  五棱镜 393 Xpmi(~n  
19.4 光束距离 396 z8PV&o  
19.5 误差 399 H)+wkR!~  
19.6  二向分色棱镜 399 MWn []'TpH  
19.7  偏振泄漏 404 ?=Mg"QU  
19.8  波前误差—相位 405 f[$Z<:D-ve  
19.9  其它计算参数 405 4}^\&K&t{  
20  报表生成器 406 ;q2e[y  
20.1  入门 406 yjChnp Cc  
20.2  指令(Instructions) 406 j&,%v+x  
20.3  页面布局指令 406 3.04Toq!  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ]=5D98B  
20.5  表格中的常见参数 408 e]l.m!,r  
20.6  迭代指令 408 k/%n7 ;1  
20.7  报表模版 408 be&,V_F  
20.8  开始设计一个报表模版 409 L?hWH0^3  
21  一个新的project 413 ARid   
21.1  创建一个新Job 414 ]~m2#g%  
21.2  默认设计 415 eJZt&|7N  
21.3  薄膜设计 416 ]1KF3$n0  
21.4  误差的灵敏度计算 420 </h}2x  
21.5  显色指数计算 422 myWa>Mvb  
21.6  电场分布 424 {(`xA,El  
后记 426 =q*j". <  
&28%~&L  
)u5+<OG}=  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 7Dx <Sr!  
h@(S];.  
《Essential Macleod中文手册》
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k*= #XbX  
目  录 ?{-y? %y  
_WHGd&u  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 G9a6 $K)b  
第1章 介绍 ..........................................................1 |1"n\4$  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 | <l=i(  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 NT [~AK9M  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 i}e OWi  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 g E;o_~  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 THDyb9_g  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $r= tOD4;  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ."JtR  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 A;C)#Q/  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 G>c:+`KS  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 +`~6Weay  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 yixAG^<  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Q"sszz  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 .Zv uhOn^  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 +HNM$yp  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 H~r":A'"*  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 "iTi+UZxe  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 !%%(o%bi~  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 @t?uhT*Z=  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 yMbg1+:   
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 B1Cu?k);.  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 *.F4?i2D  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 2uM\?*T@  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 I9;,qd%<T  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 jz72~+)T  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 P+t`Rw  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 lcYjwA  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 &x<y4ORH|  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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