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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 Z '>eT)  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 K&D}!.~/  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 }d~FTre  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ZTBFV/{  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ^zWO[$n}tP  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
/qkIoF2  
特邀专家介绍 0m+5Zn  
[attachment=121028] !{]v='   
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 vn%U;}  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 bZOy~F|  
课程概要 L$u&~"z-  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 kkE)zF   
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 xZ @O"*{  
课程大纲 AXU!-er$  
1. Essential Macleod软件介绍 ^cmP  
1.1 介绍软件 FvI0 J  
1.2 创建一个简单的设计 E'BH7JV  
1.3 绘图和制表来表示性能 ,~N+?k_  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /"%IhX-  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) :AE;x&  
1.6 特定设计的公式技术 ^`>Ysc(@&  
1.7 交互式绘图 w`#0 Y9O  
2. 光学薄膜理论基础 kJ<Xq   
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ;AL@<,8  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 U9p.Dh~)vG  
3. 材料管理 w6In{uO-Z  
3.1 材料模型 KlqJ EtO_  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 zS"zb  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 hPXVPLm7I  
3.4 基板光学常数的提取 4\'81"e i  
4. 光学薄膜设计优化方法 *6x^w%=A  
4.1 参考波长与g C(|T/rQ-  
4.2 四分之一规则 ^Lv ^W  
4.3 导纳与导纳图 `E0.PV  
4.4 斜入射光学导纳 #2vG_B<M)  
4.5 光学薄膜设计的进展 Oi%~8J>  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Y %D*O  
4.6.1 优化目标设置 PN^1  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) dZiWVa  
4.6.3 膜层锁定和链接 gK#fuQ$hH  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ZNC?Ntw  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 CT:eV7<>s  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 gZ >orZL'  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 -^xKG'uth  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 xE-`Bb  
5.5 如何在Function中编写脚本 &{4Mo,x  
6. 光学薄膜系统案例 A&lgiR*ObT  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 09;'z  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 4k2c mM$  
6.3 Stack应用范例说明 dj&m  
7. 薄膜性能分析 N9h@1'>  
7.1 电场分布 a~eLkWnh<k  
7.2 公差与灵敏度分析 f, j(uP  
7.3 反演工程 H6CGc0NS+  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 8J?`_  
8. 真空技术 "JLhOTPaHf  
8.1 常用真空泵介绍 Hkz~9p  
8.2 真空密封和检漏 {f-/,g~  
9. 薄膜制备技术 =^AZx)Kwd  
9.1 常见薄膜制备技术 Yl~?MOk  
10. 薄膜制备工艺 iGeT^!N  
10.1 薄膜制备工艺因素 -5_xI)i  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Qnb?hvb"d  
10.3 光学薄膜监控技术 Eno2<<  
11. 激光薄膜 )qP{X,Uf  
11.1 薄膜的损伤问题 83,1d*`  
11.2 激光薄膜的制备流程 XoQk'7"f  
11.3 激光薄膜的制备技术 v4a4*rBI"  
12. 光学薄膜特性测量 CJtjn  
12.1 薄膜光谱测量 J8?6G&0H  
12.2 薄膜光学常数测量 +X(^Q@  
12.3 薄膜应力测量 =2)$|KC  
12.4 薄膜损伤测量 F`V[G(f+r  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 {s'_zS z  
[attachment=121029]
DMZ aMY|  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
Qg$Nj=Cw  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
B|$13dHfa  
内容简介 R$&&kmJ  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 12' (MAP  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 V42*4hskL  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]S aH/$  
!vp!\Zj7o  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
~dr1Qi#j?  
目录 N4DDH^h  
Preface 1 L[r0UXYLV  
内容简介 2 +4nR&1z$  
目录 i n)!_HNc9  
1  引言 1 ,fJ(.KI0  
2  光学薄膜基础 2 LtWU"42  
2.1  一般规则 2 mKn357:  
2.2  正交入射规则 3 dq/?&X  
2.3  斜入射规则 6 "g1;TT:1~  
2.4  精确计算 7 yBh"qnOT  
2.5  相干性 8 I>o; %}  
2.6 参考文献 10 2.2a2.I1  
3  Essential Macleod的快速预览 10 hg=G//  
4  Essential Macleod的特点 32 m_I$"ge  
4.1  容量和局限性 33 >$52B9ie  
4.2  程序在哪里? 33 D % ,yA  
4.3  数据文件 35 t% B!\]  
4.4  设计规则 35 ZDJWd=E  
4.5  材料数据库和资料库 37 J15T!_AW<  
4.5.1材料损失 38 v+bjC  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 .p~;U|h"  
4.5.2 材料库 41 =>%%]0  
4.5.3导出材料数据 43 FtDA k?  
4.6  常用单位 43 |aJ6363f.  
4.7  插值和外推法 46 wO)KQ~yX  
4.8  材料数据的平滑 50 oxXW`C<  
4.9 更多光学常数模型 54 L;7mt 4H  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Xb]?/7 X  
4.11 撤销和重做 56 n<&R"89  
4.12  设计文档 57 -"K:ve(K  
4.10.1  公式 58 IqKXFORiNI  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [IA==B7  
4.10.3  沉积密度 59 7lPk~0  
4.10.4 平行和楔形介质 60 6YGr"Kj &  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ;*H~Yb0  
4.10.4  性能 61 =u"|qD  
4.10.5  保存设计和性能 64 # h|< >  
4.10.6  默认设计 64 K"$ky,tU  
4.11  图表 64 .3&OFM  
4.11.1  合并曲线图 67 x#mk[SV  
4.11.2  自适应绘制 68 Vho0f<`E  
4.11.3  动态绘图 68 4!%LD(jB`B  
4.11.4  3D绘图 69 OVf|4J/Yx  
4.12  导入和导出 73 :E`l(sI7J}  
4.12.1  剪贴板 73 M= _CqK*  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 i>zyn-CuW  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Nj8)HR  
4.13  背景 77 <qt%MM [Y  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &B7KWvAy  
4.15  生成Rugate 84 ]%hI-  
4.16  参考文献 91 (1]@ fCd +  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 y36aoKH  
5.1  Jobs 92 O#Hz5 A5  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Y2&6xTh  
5.3  输入材料 94 7gaC)j&  
5.4  设计数据文件夹 95 P~Owvs/=  
5.5  默认设计 95 Te#[+B?  
6  细化和合成 97 h9nCSj  
6.1  优化介绍 97 rdg1<Z  
6.2  细化 (Refinement) 98 H`@7o8oj1  
6.3  合成 (Synthesis) 100 t[,\TM^h}0  
6.4  目标和评价函数 101 E#p6A5  
6.4.1  目标输入 102 N3RwcM9+;  
6.4.2  目标 103 %*=FLtBjo  
6.4.3  特殊的评价函数 104 >z$|O>j  
6.5  层锁定和连接 104 a9Rh  
6.6  细化技术 104 ^o:5B%}#[  
6.6.1  单纯形 105 QLl44*@  
6.6.1.1 单纯形参数 106 SUhP e+  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 P 'k39  
6.6.2.1 Optimac参数 108 i+3b)xtW7  
6.6.3  模拟退火算法 109 ZVU)@[s  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ]F! h~>  
6.6.4  共轭梯度 111 R8*4E0\br  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *CSFkWVa  
6.6.5  拟牛顿法 112 rE~O}2a#H  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 8/v_uEG  
6.6.6  针合成 113 `#F>?g$2  
6.6.6.1 针合成参数 114 "&F/'';0}E  
6.6.7 差分进化 114 r$zXb9a|<  
6.6.8非局部细化 115 s]OXB {M  
6.6.8.1非局部细化参数 115 m%puD 9  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 '"a8<7  
6.7.1  细化 116 7\lc aC@  
6.7.2  合成 117 8nM]G4H.f  
6.8  参考文献 117 '#?hm-Ga  
7  导纳图及其他工具 118 5Z{[.&x  
7.1  简介 118 Ye\%o[X  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 `h#JDcT;a  
7.2.1  四分之一波长规则 119 >EjBk nl  
7.2.2  导纳图 120 up6LO7drW/  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 QH:i)v*  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 j!pxG5%  
7.5  斜入射导纳图 141 ?jnEHn  
7.6  对称周期 141 0)#I5tEre  
7.7  参考文献 142 u#QQCgrs  
8  典型的镀膜实例 143 oT w1w  
8.1  单层抗反射薄膜 145 FS[CUoA  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 UF4QPPH4  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 gV0ZZ"M  
8.4  W-膜层 148 1Mqz+@~11  
8.5  V-膜层 149 :tMWy m  
8.6  V-膜层高折射基底 150 = 8n*%NC  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 #'T@mA  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 APy a&TG  
8.9  四层抗反射薄膜 153 NH/H+7,o  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 @EvnV.  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 <?eZ9eB  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 k<y$[xV  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ~W4<M:R  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 5UqCRz<,R  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Qw ED>G|  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :iJ= 9  
8.17  1/4波长堆栈 162 >r3Wo%F'  
8.18  陷波滤波器 163 aOOY_S E  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 `YJ`?p  
8.20  褶皱 165 MLJ8m  
8.21  消偏振分光器1 169 RV~w+%f  
8.22  消偏振分光器2 171 uAJC Q)@  
8.23  消偏振立体分光器 172 ,}<v:!  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v^pE= f*/  
8.25  立体偏振分束器1 174 _\"?:~rUN  
8.26  立方偏振分束器2 177 MTQdyTDHl  
8.27  相位延迟器 178 DF#Ob( 1  
8.28  红外截止器 179 GlaWBF#  
8.29  21层长波带通滤波器 180 /bVI'fT  
8.30  49层长波带通滤波器 181 |h;MA,qva  
8.31  55层短波带通滤波器 182 #nnP.t m  
8.32  47 红外截止器 183 eL],\\q  
8.33  宽带通滤波器 184 *fx<>aK  
8.34  诱导透射滤波器 186 r$+9grm<  
8.35  诱导透射滤波器2 188 E: %%Dm  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ,]+6kf5  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 jtA Yp3M-$  
8.35  增益平坦滤波器 193 e3[N#ryt  
8.38  啁啾反射镜 1 196 2'++G[z  
8.39  啁啾反射镜2 198 _)ERi*}x8  
8.40  啁啾反射镜3 199 n1v%S"^  
8.41  带保护层的铝膜层 200 y|X[NSA  
8.42  增加铝反射率膜 201 %'P58  
8.43  参考文献 202 +Q{jV^IT9  
9  多层膜 204 1iz\8R:0  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ,5nrovv  
9.2  内部透过率 204 V&gUxS]*  
9.3 内部透射率数据 205 >:s:`Au  
9.4  实例 206 Lz4iLLP  
9.5  实例2 210 \2T@]!n  
9.6  圆锥和带宽计算 212 7;Wj ^#  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 K,J:i^2  
10  光学薄膜的颜色 216 rZ^DiFR  
10.1  导言 216 b afYjF< 3  
10.2  色彩 216 e-Eoe_k  
10.3  主波长和纯度 220 [ %r :V"  
10.4  色相和纯度 221 H4)){\  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;i1H {hB  
10.6 色差 226 ~$+9L2gz  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Z_S~#[\7^]  
10.8  颜色渲染指数 234 norWNm(n  
10.9  色差计算 235 I'C{=?  
10.10  参考文献 236 {>Zc#U'  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 7Rq;V=2YV  
11.1  短脉冲 238 Lt_7pb%  
11.2  群速度 239 kz+P?mopm  
11.3  群速度色散 241 '9-8_;  
11.4  啁啾(chirped) 245 .HMO7n6)8l  
11.5  光学薄膜—相变 245 v50=D/&w  
11.6  群延迟和延迟色散 246 sz_|py?0  
11.7  色度色散 246 C:W}hA!  
11.8  色散补偿 249 8J Gt|,  
11.9  空间光线偏移 256 R}BHRmSQ  
11.10  参考文献 258 D guAeK  
12  公差与误差 260 ;g*ab  
12.1  蒙特卡罗模型 260 MAhcwmZNy  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 0IxXhu6v  
12.2.1  误差工具 267 |eJ4"OPC  
12.2.2  灵敏度工具 271 oC"c%e8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 m@)K]0g<f  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 J'|qFS  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 nRJcYl~ Y  
12.3  参考文献 276 }h>QkV,{2  
13  Runsheet 与Simulator 277 }_Jr[iaB  
13.1  原理介绍 277 @MS;qoc  
13.2  截止滤光片设计 277 nUD)G<v  
14  光学常数提取 289 g*TAaUs|n  
14.1  介绍 289 {!@Pho)Q  
14.2  电介质薄膜 289 pX+`qxF\  
14.3  n 和k 的提取工具 295 94LFElE3  
14.4  基底的参数提取 302 EJ"[{AV  
14.5  金属的参数提取 306 3w#kvtDVm  
14.6  不正确的模型 306 1 f).J  
14.7  参考文献 311 JiCDY)bu  
15  反演工程 313 lt[{u$  
15.1  随机性和系统性 313 ~Qeyh^wo  
15.2  常见的系统性问题 314  5k{a(I  
15.3  单层膜 314 w-pdpbHV  
15.4  多层膜 314 QD-#sU]  
15.5  含义 319 e}D#vPaSY  
15.6  反演工程实例 319 9;NR   
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 _py%L+&{  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 43^%f-J 5  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 F_$eu-y  
16.1  光学性质的热致偏移 329 -=I*{dzly  
16.2  应力工具 335 0ZlF#PJA  
16.3  均匀性误差 339 y".uu+hL`  
16.3.1  圆锥工具 339 *2Il{KO A^  
16.3.2  波前问题 341 "WV]| TS"]  
16.4  参考文献 343 i!@L`h!rw  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 B0T[[%~3M  
17.1  引言 345 [/.o>R#J(  
17.2  操作数 345 % V/J6  
18  如何在Function中编写脚本 351 3V>2N)3`A  
18.1  简介 351 +pURF&Pr  
18.2  什么是脚本? 351 X!Xl  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 UEbRg =6  
18.4  基础 352 g-q~0  
18.4.1  Classes(类别) 352 VQI  
18.4.2  对象 352 <nOK#;O)  
18.4.3  信息(Messages) 352 O'a Srjl  
18.4.4  属性 352 ZnVi.s ~1V  
18.4.5  方法 353 +ffs{g{  
18.4.6  变量声明 353 D7T(B=S6  
18.5  创建对象 354 J39,x=8LL  
18.5.1  创建对象函数 355 *_ {w0U)  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 t>:2F,0K9  
18.5.3 丢弃对象 356 ]-FK6jw  
18.5.4  总结 356 EW7heIT$  
18.6  脚本中的表格 357 }%Dsy2:y  
18.6.1  方法1 357 q{?Po;\D  
18.6.2  方法2 357 Q5b~5a  
18.7 2D Plots in Scripts 358 O RAKg.49  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Lwm2:_\_b  
18.9  注释 360 (P&~PJH  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 AX! YB'm-  
18.11  一个更高级的脚本 362 Au(zvgP  
18.12  <esc>键 364 Q{F*%X  
18.13 包含文件 365 >jMq-#*4  
18.14  脚本被优化调用 366 D^V0kC p!F  
18.15  脚本中的对话框 368 /X>Fn9 mM  
18.15.1  介绍 368 x2/L`q"M?=  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 u?6L.^Op  
18.15.3  输入框函数 370 2YI#J.6]H  
18.15.4  自定义对话框 371 ?$ T! =e"  
18.15.5  对话框编辑器 371 9un* 1%  
18.15.6  控制对话框 377 *Y(v!x \L  
18.15.7  更高级的对话框 380 '_!j9A]g  
18.16 Types语句 384 A82Bn|J  
18.17 打开文件 385 "5Orj*{  
18.18 Bags 387 n<\ W Vi  
18.13  进一步研究 388 }+";W)R  
19  vStack 389 *;b.x"  
19.1  vStack基本原理 389 Q[?O+  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ~u| k1  
19.3  五棱镜 393 "|<6 bA  
19.4 光束距离 396 ?`T< sk8c  
19.5 误差 399 `D)ay  
19.6  二向分色棱镜 399 k=">2!O/  
19.7  偏振泄漏 404 el GP2x#:  
19.8  波前误差—相位 405 M\\t)=q  
19.9  其它计算参数 405 ;{'{*g[  
20  报表生成器 406 AfAg#75q  
20.1  入门 406 =xz Dpn>f  
20.2  指令(Instructions) 406 J?4aSssE  
20.3  页面布局指令 406 ]r++YIg!j  
20.4  常见的参数图和三维图 407 )Lt|]|1B{  
20.5  表格中的常见参数 408 ^Qrezl&  
20.6  迭代指令 408 IoUQ~JviA  
20.7  报表模版 408 "o" ujQ(v  
20.8  开始设计一个报表模版 409 c *<"&  
21  一个新的project 413 qIEe7;DO  
21.1  创建一个新Job 414 R1$O)A}k  
21.2  默认设计 415 F-K=Ot j  
21.3  薄膜设计 416 iEd%8 F h  
21.4  误差的灵敏度计算 420 f%r0K6p  
21.5  显色指数计算 422 ACQbw)tiv}  
21.6  电场分布 424 ND);7  
后记 426 15PFnk6E|  
oJ|8~:)  
Oa7x(wS  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 8w,U[aJm  
`U:W(\L  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
:9`'R0=i^  
8$Igo$U-  
目  录 2BTFK"=U  
w#V{'{DKp  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 |.kYomJ   
第1章 介绍 ..........................................................1 d V+%x"[:  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 fa#xEWaFr  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 }*vUOQQp*  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 0Vu&UD  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 A4!IbJD,0  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 q:Lw!'Z h  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 d) V"tSC,  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 'EF\=o)^Y  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 iCA!=%M@D  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 GL4-v[]6I  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 \ ) H}  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 fAx7_}k/ m  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 aDJ\%  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 N^,@s"g  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 #is1y3yh  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ;^QG>OP$  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 z\iz6-\&y  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 [Yt!uhww  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 w-~u[c  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 7D5;lM[_  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 #ma#oWqF}  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 i21ybXA=Z  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 Obl']Hr{y9  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 /SLAg&  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ~(%TQY5  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 y\}39Z(]  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 P(z#Wk  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 :Ja]Vt  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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