线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 1^![8>u"
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 o$sD9xx 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 1
:p' 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 nn_O"fZi 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 %N*[{j= ^ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) CO='[1"_5 特邀专家介绍 o utJ/~9; [attachment=121028] j Q5 F} 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 u
]e-IYH 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 s5nw<V9$] 课程概要 L0fe 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 GfE>?mG 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 0Z1ksfLU 课程大纲 !C#oZU]P 1. Essential Macleod软件介绍 [iub}e0 1.1 介绍软件 mgAjD. 1.2 创建一个简单的设计 V`^*Z}d9 1.3 绘图和制表来表示性能 eU1F7LS 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ]F4QZV(
M 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) nK1eh@a9Qv 1.6 特定设计的公式技术 WigtTAh4 1.7 交互式绘图 S hI1f 2. 光学薄膜理论基础 R| ?Q&F_$ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 J\L'HIs 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 MJXnAIG?2 3. 材料管理 WHdM P 3.1 材料模型 EZ)b E9 3.2 介质薄膜光学常数的提取 &B{zS K$N 3.3 金属薄膜光学常数的提取 "lh4Vg\7n 3.4 基板光学常数的提取 4=L > 4. 光学薄膜设计优化方法 NfV|c~?d 4.1 参考波长与g g,Ob/g8uc 4.2 四分之一规则 NnLK!Q 4.3 导纳与导纳图 M\R+:O& 4.4 斜入射光学导纳 r1L@p[> 4.5 光学薄膜设计的进展 sgfqIe1 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 |[?Otv 4.6.1 优化目标设置 5Z>a}s_i 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) nn7LL+h 4.6.3 膜层锁定和链接 zm&[K53 5. Essential Macleod中各个模块的应用 rl|'.~mc 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >v+1v 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 U@OdQAX 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 "iSY;y o 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Nny*C`uDF 5.5 如何在Function中编写脚本 x%viCkq 6. 光学薄膜系统案例 ${Un#]g 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Bb/if:XS 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ]Dq6XR 6.3 Stack应用范例说明 &=[!L0{ 7. 薄膜性能分析 /~NX<Ye& 7.1 电场分布 c]4X`3] 7.2 公差与灵敏度分析 Wk%|%/: 7.3 反演工程 >(RkoExO/ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 3``JrkPI 8. 真空技术 32ki ?\P 8.1 常用真空泵介绍 eFiG:LS7 8.2 真空密封和检漏 <=.6Z*x+ 9. 薄膜制备技术 l
U/Xi 9.1 常见薄膜制备技术 #]}Ii{1?Y 10. 薄膜制备工艺
/a1uG]Mt 10.1 薄膜制备工艺因素 xuXPVJdi 10.2 薄膜均匀性修正技术 5A0]+)5E8 10.3 光学薄膜监控技术 %~Yo{4mHs 11. 激光薄膜 clvg5{^q[ 11.1 薄膜的损伤问题 Qt.*Z;Gs 11.2 激光薄膜的制备流程 F$t]JM 11.3 激光薄膜的制备技术 ED` 1)1< 12. 光学薄膜特性测量 f;'*(( 12.1 薄膜光谱测量 5M5Bm[X 12.2 薄膜光学常数测量 ~5P9^`KNH 12.3 薄膜应力测量 z*},N$2= 12.4 薄膜损伤测量 IWv(GQx 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 yj:@Fg-3g
[attachment=121029] nah?V"
?Y
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027] 5;)^o3X>
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] 'yiv.<4
内容简介 3 yx[*'e$ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 l[E^nh> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 yQhO-jT 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +R*DE5dz -Lq+FTezE
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 H'WYnhU& 目录 zH1;h Preface 1 ~R|9|k 内容简介 2 beOMln+R 目录 i #L.,aTA< 1 引言 1 'l'3&.{Yfk 2 光学薄膜基础 2 }TTghE! 2.1 一般规则 2 ]
2
`%i5 2.2 正交入射规则 3 %"{P?V<-V 2.3 斜入射规则 6 zmhc\M?z 2.4 精确计算 7 _[[0rn$ 2.5 相干性 8 ZxtO.U2 2.6 参考文献 10 F(VVb(\jd 3 Essential Macleod的快速预览 10 daSe0:daJ 4 Essential Macleod的特点 32 gAqK/9; 4.1 容量和局限性 33 O:0{vu9AQ 4.2 程序在哪里? 33 iy~h|YK; 4.3 数据文件 35 PMsb"=Ds 4.4 设计规则 35 kP`#zwp'Ci 4.5 材料数据库和资料库 37 *EuX7LEu_ 4.5.1材料损失 38 fTj@/"a 4.5.1材料数据库和导入材料 39 znrO~OK 4.5.2 材料库 41 O>DS%6/G 4.5.3导出材料数据 43 Tx}Nr^ 4.6 常用单位 43 N}#Rw2Vl 4.7 插值和外推法 46 tdK&vqq 4.8 材料数据的平滑 50 4M&$wi 4.9 更多光学常数模型 54 =w3A{h"^ 4.10 文档的一般编辑规则 55
xgxfPcI 4.11 撤销和重做 56 ?>;b,^4 4.12 设计文档 57 k^cZePqE6d 4.10.1 公式 58 (?l ]}p^[ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LAC&W;pJ" 4.10.3 沉积密度 59 eWFkUjz 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,yC..aI 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 xn`)I>v 4.10.4 性能 61 %np(z&@wi 4.10.5 保存设计和性能 64 *)RKU),3nL 4.10.6 默认设计 64 [)V~U? 4.11 图表 64 o}Grb/LJ
4.11.1 合并曲线图 67 #e@NV4q 4.11.2 自适应绘制 68 1Le8W)J 4.11.3 动态绘图 68 kl]V_ 7[ 4.11.4 3D绘图 69 AE:(:U\ 4.12 导入和导出 73 Ue
\A , 4.12.1 剪贴板 73 <eXGtD 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 dU3A:uS^ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 XYvj3+ 4.13 背景 77 jSpj6:@B 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 :!_l@ =l 4.15 生成Rugate 84 M d4Q.8 4.16 参考文献 91 %%K3J<5 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 zg ,=A? 5.1 Jobs 92 deAV:c 5.2 创建一个新Job(工作) 93 MiZ<v/L2 5.3 输入材料 94 6CFnE7TQf 5.4 设计数据文件夹 95 ^mLX}E] 5.5 默认设计 95 X{ x(p 6 细化和合成 97 8=$X hC 6.1 优化介绍 97 Z7bJ<TpZ 6.2 细化 (Refinement) 98 :,l16{^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 2Vti|@JYp 6.4 目标和评价函数 101 \lG) J0 6.4.1 目标输入 102
%.d.h;^T 6.4.2 目标 103 /Pextj< 6.4.3 特殊的评价函数 104 _]@u)$ 6.5 层锁定和连接 104 oaQW~R`_ 6.6 细化技术 104 QcrhgR 6.6.1 单纯形 105 9C)VW 6.6.1.1 单纯形参数 106 by+xK~> 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 gIrbOMQ7 6.6.2.1 Optimac参数 108 .#~!w!T 6.6.3 模拟退火算法 109 pnuo;r s 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Sj I,v+ 6.6.4 共轭梯度 111 2->Lz 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 CmXLD} L_x 6.6.5 拟牛顿法 112 <cOjtq,0 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 S(CkA\[rz 6.6.6 针合成 113 PESvx>: 6.6.6.1 针合成参数 114 b_`h2dUq 6.6.7 差分进化 114 K&&T:'=/ 6.6.8非局部细化 115 .tKBmq0xo" 6.6.8.1非局部细化参数 115 =COQv= GT 6.7 我应该使用哪种技术? 116 C7F\Y1Wj 6.7.1 细化 116 mn03KF=n] 6.7.2 合成 117 ,Z
@I"&H 6.8 参考文献 117 E{[Y8U1n 7 导纳图及其他工具 118
{J)%6eL? 7.1 简介 118 wlP3 XF? 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 zgz!"knVx 7.2.1 四分之一波长规则 119 Dl.UbH
}= 7.2.2 导纳图 120 f3Zf97i 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 tm/>H 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 d BB?A~ 7.5 斜入射导纳图 141 4L:O0Ggz} 7.6 对称周期 141 2H w7V3q 7.7 参考文献 142 {96MfhkeBv 8 典型的镀膜实例 143 mKu,7nMvF 8.1 单层抗反射薄膜 145 t]0DT_iE 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 k9oi8G'g~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 V'#R1 x"3 8.4 W-膜层 148 mS[``$Z\! 8.5 V-膜层 149 TrzAgNt 8.6 V-膜层高折射基底 150 fZpi+I 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 sN8pwRj b 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 \]4EAKJE 8.9 四层抗反射薄膜 153 =v^#MU{k? 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Rd7U5MBEF 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;Q,t65+Am 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 b-/QZvg 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 b>QdP$> 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 OqS!y(
( 8.15十五层宽带抗反射膜 159 u=Ik&^v
Wq 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 QY4;qA 8.17 1/4波长堆栈 162 d:|x e : 8.18 陷波滤波器 163 ZHjL8Iq 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 V-7l+C5 8.20 褶皱 165 g_{N^wS 8.21 消偏振分光器1 169 }wRm ~ 8.22 消偏振分光器2 171 ),vDn}> 8.23 消偏振立体分光器 172 q
8sfG ;) 8.24 消偏振截止滤光片 173 OQfFS+6 8.25 立体偏振分束器1 174 i$%Bo/Y
8.26 立方偏振分束器2 177 y+k^CT/u 8.27 相位延迟器 178 \,Ws=9f 8.28 红外截止器 179 ~5N
oR 8.29 21层长波带通滤波器 180 p~3x=X4 8.30 49层长波带通滤波器 181 xi{r-D8Z 8.31 55层短波带通滤波器 182 ;8XRs?xyd 8.32 47 红外截止器 183 BFw_T3}zn 8.33 宽带通滤波器 184 %w[Z/ 8.34 诱导透射滤波器 186 aL[6}U0 (} 8.35 诱导透射滤波器2 188 [u!n=ev 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 &*"*b\ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 e`b#,= 8.35 增益平坦滤波器 193 Z@dVK`nD 8.38 啁啾反射镜 1 196 s!?uLSEdb 8.39 啁啾反射镜2 198 g(tVghHxt$ 8.40 啁啾反射镜3 199 Dfzj/spFV 8.41 带保护层的铝膜层 200 U!-Nx9 8.42 增加铝反射率膜 201 ]w>o=<?b 8.43 参考文献 202 V'{\g|) 9 多层膜 204 wHs1ge ( 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 W;=Ae~ 9.2 内部透过率 204 2<B'PR-??y 9.3 内部透射率数据 205 W9w*=W
)Z 9.4 实例 206 'm~=sC_uL 9.5 实例2 210 6Jq[]l"v 9.6 圆锥和带宽计算 212 bKmwXDv' 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 WtZI1`\qe 10 光学薄膜的颜色 216 p&RC#wYu 10.1 导言 216 B%uY/Mwz$ 10.2 色彩 216 /a^
R$RHl' 10.3 主波长和纯度 220 HdxP:s.T 10.4 色相和纯度 221 F<b'{qf" 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 z
mip 10.6 色差 226 wjl )yo$z 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 M\4`S& 10.8 颜色渲染指数 234 3E*m.jX 10.9 色差计算 235 :Q"|%#P 10.10 参考文献 236 }ww/e\|Nt= 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 (&eF E ;c 11.1 短脉冲 238 Sj ~SG 11.2 群速度 239 "."(<c/3 11.3 群速度色散 241 :6lv X$ 11.4 啁啾(chirped) 245 nI]EfHU 11.5 光学薄膜—相变 245 HQ-++;Q 11.6 群延迟和延迟色散 246 =w+8q1!o 11.7 色度色散 246 ? nW>'z 11.8 色散补偿 249 JXJ+lZmsz 11.9 空间光线偏移 256 :CE4<
{V 11.10 参考文献 258 a)ry}E =f 12 公差与误差 260 z4SJxL 12.1 蒙特卡罗模型 260 V_gKl;Kfe8 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 x']'ODs 12.2.1 误差工具 267 $!>.h*np 12.2.2 灵敏度工具 271 3U >-~-DS 12.2.2.1 独立灵敏度 271 *"w hup[ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 u5A?; a 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 =|P
&G~] 12.3 参考文献 276 rT[qh+KWe 13 Runsheet 与Simulator 277 I2*rtVAP'j 13.1 原理介绍 277 viAAb 13.2 截止滤光片设计 277 ~)ys,Q 14 光学常数提取 289 'M >m$cCMZ 14.1 介绍 289 EWD^=VITL 14.2 电介质薄膜 289 @Iz]:@\cJ 14.3 n 和k 的提取工具 295 V+Tv:a 14.4 基底的参数提取 302 nFn!6,>E 14.5 金属的参数提取 306 V,_m>$Mo 14.6 不正确的模型 306 tsc`u> 14.7 参考文献 311 }aRib{L 15 反演工程 313 ;_(f(8BO
15.1 随机性和系统性 313 [oTe8^@[ 15.2 常见的系统性问题 314 d>hv-nD 15.3 单层膜 314 geR+v+B, 15.4 多层膜 314 .}!.4J%q2 15.5 含义 319 RHC ZP 15.6 反演工程实例 319 @[3c1B6K 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 EhHxB
fAQ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 U0_^6zd_ 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 3
39q%j$ 16.1 光学性质的热致偏移 329 O6;"cUv 16.2 应力工具 335 G7CeWfS 16.3 均匀性误差 339 )SmnLvL 16.3.1 圆锥工具 339 < |