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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 /ynvQ1#uA  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 5L'bF2SI  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 )@X `B d  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Guc~] B  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 rM sd)  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
C1/<t)^  
特邀专家介绍 NaR/IsN8%  
[attachment=121028] ~s :M l  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 C;u8qVI  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 L=7 U#Q/DE  
课程概要 m_ |:tU(t  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 dKOW5\H'  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 (&=<UGY(w  
课程大纲 YkPc&&#  
1. Essential Macleod软件介绍 Ac0^`  
1.1 介绍软件 i|@lUXBp  
1.2 创建一个简单的设计 Qj?qWVapA  
1.3 绘图和制表来表示性能 `W3;LTPEb  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Yt 9{:+[RK  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) }\9elVt'2  
1.6 特定设计的公式技术 R::0.*FF  
1.7 交互式绘图 ^[7ZBmS  
2. 光学薄膜理论基础 -|?I'~[#(  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 / _N*6a~  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 @E(_H$|E  
3. 材料管理 JAjXhk<=  
3.1 材料模型 =Me94w>G3X  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 F~NmLm  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 }`O_  
3.4 基板光学常数的提取 \m>mE/N  
4. 光学薄膜设计优化方法 r[>=iim  
4.1 参考波长与g e~Oge  
4.2 四分之一规则 Rmq8lU  
4.3 导纳与导纳图 zL1*w@6  
4.4 斜入射光学导纳 [hLSK-K 9  
4.5 光学薄膜设计的进展 .,)C^hs@  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Ur`jmB  
4.6.1 优化目标设置 ,qx;kJJ  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 0@FZQ$-  
4.6.3 膜层锁定和链接 v<*ga7'S  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 l5> H\  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 dG6 G  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 xq?9w$  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 IfGmA.O  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 %0>DjzYt  
5.5 如何在Function中编写脚本 `^rN"\  
6. 光学薄膜系统案例 m&GxL T6  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ]kJinXHW  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Km5#$IiP;  
6.3 Stack应用范例说明 /rKdxsI*  
7. 薄膜性能分析 To x{Sk3L  
7.1 电场分布 20 j9~+  
7.2 公差与灵敏度分析 kRCuc}:SB  
7.3 反演工程 >dnH  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 jTo-xP{lC  
8. 真空技术  aOS:rC  
8.1 常用真空泵介绍 g]'RwI  
8.2 真空密封和检漏 l?F&I.{J  
9. 薄膜制备技术 tBtG- X2  
9.1 常见薄膜制备技术 ;.=ZwM]C  
10. 薄膜制备工艺 [fN?=,8  
10.1 薄膜制备工艺因素 -h5yg`+1N\  
10.2 薄膜均匀性修正技术 n=HId:XT  
10.3 光学薄膜监控技术 q*^Y8s~3I  
11. 激光薄膜 X8F@U ^@  
11.1 薄膜的损伤问题 {Vc%ga|E  
11.2 激光薄膜的制备流程 d)'am 3Q  
11.3 激光薄膜的制备技术 NWuJ&+gcO5  
12. 光学薄膜特性测量 .'zXO  
12.1 薄膜光谱测量 9<0p1WO  
12.2 薄膜光学常数测量 a ?LrSk`  
12.3 薄膜应力测量 =")}wl=s  
12.4 薄膜损伤测量 LX%K*nlj  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ?\GILB,  
[attachment=121029]
o80"ZU|=  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
zp"Lp>i  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
B8+J0jdg6%  
内容简介 vqq7IV)|  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;Z\1PwT  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 a[<'%S#3x  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 k7rFbrL Z  
^CIO,I  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
~9&#7fU  
目录 -WDU~VSU  
Preface 1 _ >)+ u  
内容简介 2 (=v :@\r  
目录 i tx$kD2  
1  引言 1 gy|L!_1Z8  
2  光学薄膜基础 2 X^!n'$^u  
2.1  一般规则 2 hdL/zW7]  
2.2  正交入射规则 3 Yp_ L.TTb  
2.3  斜入射规则 6 #) eI]  
2.4  精确计算 7 RlRkw+%m  
2.5  相干性 8 up[9L|  
2.6 参考文献 10 Z(fXN$  
3  Essential Macleod的快速预览 10 dP>~ExYtm  
4  Essential Macleod的特点 32 fj2pD Cic  
4.1  容量和局限性 33 k)Y}X)\36  
4.2  程序在哪里? 33 fE1B1j<  
4.3  数据文件 35 "N"$B~W*  
4.4  设计规则 35 "m*.kB)e7  
4.5  材料数据库和资料库 37 {!? @u?M  
4.5.1材料损失 38 x -wIgo+  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 XCCh*qym  
4.5.2 材料库 41 K? ;_T$^K  
4.5.3导出材料数据 43 ;7id![KI4  
4.6  常用单位 43 g"k1O  
4.7  插值和外推法 46 ]V|rOtxb  
4.8  材料数据的平滑 50 Gm,vLs9H$T  
4.9 更多光学常数模型 54 A 1b</2  
4.10  文档的一般编辑规则 55 W'aZw9  
4.11 撤销和重做 56 \rXmWzl{  
4.12  设计文档 57 \!!qzrq  
4.10.1  公式 58 zf@gAvJ  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 do {E39  
4.10.3  沉积密度 59 xvP=i/SO  
4.10.4 平行和楔形介质 60 $]V,H"  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 4 &r5M  
4.10.4  性能 61 []i/\0C^  
4.10.5  保存设计和性能 64 nz{ ;]U1  
4.10.6  默认设计 64 s)Gnj;  
4.11  图表 64 bW"bkA80  
4.11.1  合并曲线图 67 @DiXe[kI  
4.11.2  自适应绘制 68 Z XCq>  
4.11.3  动态绘图 68 ^!Y]l  
4.11.4  3D绘图 69 [I*)H7pt}  
4.12  导入和导出 73 ,2t|(V*"&  
4.12.1  剪贴板 73 @vsgmz  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ?q^o|Y/  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 L<t>o":o  
4.13  背景 77 1D *oXE9Ig  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 hv)>HU&  
4.15  生成Rugate 84 `SFA`B)[5@  
4.16  参考文献 91 'eyzH[l,(  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 vY 0EffZ  
5.1  Jobs 92 F$L2bgQR?'  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 (`W_ -PI  
5.3  输入材料 94 D4@).%  
5.4  设计数据文件夹 95 Rz sgPk  
5.5  默认设计 95 [Lck55V+Q  
6  细化和合成 97 {6*$yLWK  
6.1  优化介绍 97 R07]{  
6.2  细化 (Refinement) 98 #$5"&SM  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Sb2hM~  
6.4  目标和评价函数 101 ^T?zR7r  
6.4.1  目标输入 102 *~h@KQm7  
6.4.2  目标 103 6tx5{Xl-o  
6.4.3  特殊的评价函数 104 U46qpb 7  
6.5  层锁定和连接 104 OC?a[^hB^)  
6.6  细化技术 104 tTjadnX  
6.6.1  单纯形 105 Z\lJE>1  
6.6.1.1 单纯形参数 106 _GhP{ C$  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ~Q+E""  
6.6.2.1 Optimac参数 108 7 KuUV!\h`  
6.6.3  模拟退火算法 109 6TR` O  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 d}RU-uiW  
6.6.4  共轭梯度 111 .OyzM  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 |wxAdPe  
6.6.5  拟牛顿法 112 H{)DI(,Y^P  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 c -sc*.&  
6.6.6  针合成 113 3_DwqZ 'O  
6.6.6.1 针合成参数 114 8"'Z0 Ey  
6.6.7 差分进化 114 >(?}'pS8  
6.6.8非局部细化 115 #&k`-@b5|  
6.6.8.1非局部细化参数 115 !_?K(X~/  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 k)3b0T@b  
6.7.1  细化 116 !:]/MpQ ?  
6.7.2  合成 117 D'8xP %P  
6.8  参考文献 117 [QwBSq8)  
7  导纳图及其他工具 118 Exb?eHO  
7.1  简介 118 `{oFdvL~)  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 _J,lF-,  
7.2.1  四分之一波长规则 119 gzMp&J  
7.2.2  导纳图 120 nF5\iV  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 :5'8MU  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 +L\Dh.Ir  
7.5  斜入射导纳图 141 Qi=pP/Y  
7.6  对称周期 141 1zcaI^e#  
7.7  参考文献 142 ~D0e \Q(A  
8  典型的镀膜实例 143 e0"80"D  
8.1  单层抗反射薄膜 145 1!S*z^LGl  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 tLE7s_^  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9cIKi#Bl  
8.4  W-膜层 148 ?wi^R:2|j  
8.5  V-膜层 149 5y~ Srb?2  
8.6  V-膜层高折射基底 150 {3* Ne /  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 , 3&D A  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 cU|tG!Ij?  
8.9  四层抗反射薄膜 153 j5:/Gl8  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 1F' x$~ZI  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \Dx;AKs  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Z[G[.\0  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 A4tb>O M  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 D[ v2#2  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 PL|ea~/  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 iw{rns  
8.17  1/4波长堆栈 162 yog(  
8.18  陷波滤波器 163 6n?0MMtR  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ["H2H rI2  
8.20  褶皱 165 xFScj0Y  
8.21  消偏振分光器1 169 c }7gHud  
8.22  消偏振分光器2 171 3Viz0I<%  
8.23  消偏振立体分光器 172 gSk0#Jt  
8.24  消偏振截止滤光片 173 adtgNwg  
8.25  立体偏振分束器1 174 [gIvB<Uv  
8.26  立方偏振分束器2 177 XY,!vLjL  
8.27  相位延迟器 178 P_.zp5>  
8.28  红外截止器 179 (:>Sh0.  
8.29  21层长波带通滤波器 180 !BjJ5m  
8.30  49层长波带通滤波器 181 gl~9|$ivj>  
8.31  55层短波带通滤波器 182 |/%X8\  
8.32  47 红外截止器 183 8dLK5"_3  
8.33  宽带通滤波器 184 `D?  &)Y  
8.34  诱导透射滤波器 186 gX~lYdA  
8.35  诱导透射滤波器2 188 {Rz(0oD\  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 V` 4/oM`  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &9ERlZ(A  
8.35  增益平坦滤波器 193 2AXf'IOqE  
8.38  啁啾反射镜 1 196 blKF78  
8.39  啁啾反射镜2 198 ] 1s6=  
8.40  啁啾反射镜3 199 r]deVd G  
8.41  带保护层的铝膜层 200 cKB1o0JsYJ  
8.42  增加铝反射率膜 201 SQ057V>'=  
8.43  参考文献 202 gs(ZJO1 /L  
9  多层膜 204 4C }#lW9  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 S@ @#L  
9.2  内部透过率 204 2-%9k)KH  
9.3 内部透射率数据 205 fp?/Dg"49.  
9.4  实例 206 }BWT21'-Y  
9.5  实例2 210 gLwrYG7@  
9.6  圆锥和带宽计算 212 0"l`M5-KP  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 (z:qj/|  
10  光学薄膜的颜色 216 1b<[/g9  
10.1  导言 216 Q"QZ^!zRl  
10.2  色彩 216 mq+x=  
10.3  主波长和纯度 220 l^2m7 7)  
10.4  色相和纯度 221 I`nC\%g  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 W.l#@p  
10.6 色差 226 0D/7X9xg9+  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 - WQ)rz  
10.8  颜色渲染指数 234 c6cB {/g  
10.9  色差计算 235 pB0 SCS*  
10.10  参考文献 236 32p9(HQ  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 |`'WEe2  
11.1  短脉冲 238 D%= j@  
11.2  群速度 239 GsoD^mjY  
11.3  群速度色散 241 riQ0'-p  
11.4  啁啾(chirped) 245 G5NAwpZf  
11.5  光学薄膜—相变 245 i,mZg+;w  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ! u9LZ  
11.7  色度色散 246 y\=^pla  
11.8  色散补偿 249 SNC)cq+{  
11.9  空间光线偏移 256 y$9XHubu  
11.10  参考文献 258 U^kk0OT^  
12  公差与误差 260 RBpv40n0  
12.1  蒙特卡罗模型 260 IM_SZs  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 i)(-Ad_  
12.2.1  误差工具 267 /H$:Q|T}  
12.2.2  灵敏度工具 271 jd.w7.8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 _QneaPm%  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 MaZVGrcC  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Ap> H-/C  
12.3  参考文献 276 I:M15  
13  Runsheet 与Simulator 277 4'y@ne}g!  
13.1  原理介绍 277 A$rCo~Ek  
13.2  截止滤光片设计 277 }" STc&1  
14  光学常数提取 289 W$J@|i  
14.1  介绍 289 eC@b-q   
14.2  电介质薄膜 289 bZ}T;!U?I  
14.3  n 和k 的提取工具 295 h#Z~x  
14.4  基底的参数提取 302 KB$Y8[  
14.5  金属的参数提取 306 4!A(7 s4t  
14.6  不正确的模型 306 ^*F'[!. p  
14.7  参考文献 311 C?]+(P  
15  反演工程 313 QtLd(& !v  
15.1  随机性和系统性 313 p3qKtMs0!  
15.2  常见的系统性问题 314 YoSBS   
15.3  单层膜 314 QwLSL<.  
15.4  多层膜 314 xu@+b~C\  
15.5  含义 319 %?J-0  
15.6  反演工程实例 319 2+yti,s+/  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 x??H%'rP  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Wu)An  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 +*G<xW :M  
16.1  光学性质的热致偏移 329 {Hz;*1?$k  
16.2  应力工具 335 A27!I+M  
16.3  均匀性误差 339 ->W rBO  
16.3.1  圆锥工具 339 "Mh}n-oju  
16.3.2  波前问题 341 d~y]7h|  
16.4  参考文献 343 Zbf~E {  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 M&KJZ  
17.1  引言 345 W(EN01d\  
17.2  操作数 345 o4,9jk$  
18  如何在Function中编写脚本 351 >fp_$bjd  
18.1  简介 351 ;".]W;I*O  
18.2  什么是脚本? 351 B-wF1! Jv  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 &H%z1Lp  
18.4  基础 352 "YN6o_*]  
18.4.1  Classes(类别) 352 o[g]Va*8  
18.4.2  对象 352 {m" I-VF  
18.4.3  信息(Messages) 352 5:T}C@  
18.4.4  属性 352 &<# ,J4  
18.4.5  方法 353 :MGIp%3  
18.4.6  变量声明 353 *LQt=~  
18.5  创建对象 354 UW&K\P  
18.5.1  创建对象函数 355 )Mh5q&ow  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 !(sL  
18.5.3 丢弃对象 356 1$ENNq#0  
18.5.4  总结 356 [pSQ8zdF"  
18.6  脚本中的表格 357 nX<yB9bXDg  
18.6.1  方法1 357 S^r[%l<'n  
18.6.2  方法2 357 `m\ ?gsw7  
18.7 2D Plots in Scripts 358 P%ZU+ET  
18.8 3D Plots in Scripts 359 RggO|s+0;  
18.9  注释 360 Zig3WiD&  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 3u'@anre  
18.11  一个更高级的脚本 362 ~/!jKH7`j  
18.12  <esc>键 364 `rpmh7*WV  
18.13 包含文件 365 5Z[HlN|-!  
18.14  脚本被优化调用 366 B~%SB/eu  
18.15  脚本中的对话框 368 $HAwd6NI  
18.15.1  介绍 368 IW=%2n(<1  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 21hTun"W  
18.15.3  输入框函数 370 ;JX2ebx  
18.15.4  自定义对话框 371 A6#v6iT  
18.15.5  对话框编辑器 371 JR|P]}  
18.15.6  控制对话框 377 6\m'MV`R!  
18.15.7  更高级的对话框 380 [k=LX+w@  
18.16 Types语句 384 <H|]^An!H  
18.17 打开文件 385 >ajcfG .k(  
18.18 Bags 387 D;Y2yc[v  
18.13  进一步研究 388 o3.b='HAm  
19  vStack 389 H4BuxM_r  
19.1  vStack基本原理 389 GX N:=  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 (n2=.9k!  
19.3  五棱镜 393 }LX.gm  
19.4 光束距离 396 u4Z Accj  
19.5 误差 399 YGZa##i  
19.6  二向分色棱镜 399 z[0t%]7l  
19.7  偏振泄漏 404 ;RW5XnVx  
19.8  波前误差—相位 405 `'ak/%Krh  
19.9  其它计算参数 405 7qg. :h  
20  报表生成器 406 n0w0]dJ&lc  
20.1  入门 406 nW]T-!  
20.2  指令(Instructions) 406 Cp#}x1{  
20.3  页面布局指令 406 uC"Gm;0  
20.4  常见的参数图和三维图 407 dEfP272M  
20.5  表格中的常见参数 408 ?IR+OCAA  
20.6  迭代指令 408 3#h@,>Z;  
20.7  报表模版 408 9iGp0_J  
20.8  开始设计一个报表模版 409 {QT:1U \.  
21  一个新的project 413 t#7owY$^  
21.1  创建一个新Job 414 8VMD304  
21.2  默认设计 415 J!iK W  
21.3  薄膜设计 416 V.w!]{xm  
21.4  误差的灵敏度计算 420 5,du2  
21.5  显色指数计算 422 HG)h,&nc-  
21.6  电场分布 424 @Cl1G  
后记 426 qhNYQ/uS  
nk+9 J#Gs  
- S%8  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 uD4$<rSHb  
=]0AZ  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
0V'XE1h  
OZno 3Hn  
目  录 6{2 9cX.  
}?Tz=hP  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 zmU>  
第1章 介绍 ..........................................................1 Y^'mBM#j  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 m"~),QwF9  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 f6%7:B d  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 19i [DR  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 <is%lx(GDX  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Pol c.  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 h5@JS1cY  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 &MGM9 zm-]  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 3@mW/l>X  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 4z,n:>oH  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 v;IuB  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 %~qY\>  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 _Zbgmasb  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 c 4L++ u#  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Med0O~T%  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ;h7O_|<%  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ~ tqDh(  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 G":u::hR  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 r'& 6P-Vm  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 F vHd `  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 r~T3Ieb  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 0/zgjT|fe  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 RTeG\U  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 YMn_9s7<  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 \rmge4`4  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 >w|2 ~oK  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 *@[+C~U  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 )[5.*g@  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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