线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 r\AyN=
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主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 X/N0LU(q 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 1KjU ]
r2 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 5Hcf;P7 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 B" 3dQwQ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) ;vt8R=T 特邀专家介绍 %;.;>Y(- [attachment=121028] !qX_I db\ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 }#X8@ 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 :O(^w}sle 课程概要 =zyC-;r! 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 }d<}FJ-, 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 c+2FC@q{l 课程大纲 /% kY0 LY 1. Essential Macleod软件介绍 ;\p KDPr 1.1 介绍软件 =b/L?dR.- 1.2 创建一个简单的设计 }[M`uZ 1.3 绘图和制表来表示性能 8=]Tr3 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 y.[Mnj 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ATR!7i\| 1.6 特定设计的公式技术 3Kn_mL3V- 1.7 交互式绘图 /PLn+- 2. 光学薄膜理论基础 F$[ U|%* 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 W^G>cC8.L 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 |jM4E$
3. 材料管理 %Qj;, #z 3.1 材料模型 |^A ;&// 3.2 介质薄膜光学常数的提取 @r?Uua 3.3 金属薄膜光学常数的提取 t*?0D\b
2 3.4 基板光学常数的提取
6H'HxB4 4. 光学薄膜设计优化方法 @'|)~,"bx 4.1 参考波长与g .-<k>9S7_ 4.2 四分之一规则 1bH;!J 4.3 导纳与导纳图 uJ6DO#d`P 4.4 斜入射光学导纳 aXL{TD:] 4.5 光学薄膜设计的进展 U4cY_p? 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 sVl-N&/ 4.6.1 优化目标设置 +).0cs0k5 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) *W
kIq> 4.6.3 膜层锁定和链接 i F+vl] 5. Essential Macleod中各个模块的应用 $#]]K 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 95z]9UL 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 {Lm~r+
U 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 mdw7}%5V 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 /r=tI)'$ 5.5 如何在Function中编写脚本 Ybn`3 6. 光学薄膜系统案例 .j-IX1Sa 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 k68F-e[i^ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 `P9XqWr 6.3 Stack应用范例说明 U{VCZ*0cj 7. 薄膜性能分析 (<)]sp2 7.1 电场分布 -e8}Pm
" 7.2 公差与灵敏度分析 KjQR$- 7.3 反演工程 A]DTUdL 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 0fYj4`4=n 8. 真空技术
V<j.xd7 8.1 常用真空泵介绍 d20gf:@BM 8.2 真空密封和检漏 gmm|A9+tv 9. 薄膜制备技术 mL4] l(U 9.1 常见薄膜制备技术 X_7UJ
jFw" 10. 薄膜制备工艺 =J ym%m 10.1 薄膜制备工艺因素 nH<eR)0 10.2 薄膜均匀性修正技术 DS'n 10.3 光学薄膜监控技术 qBCK40 11. 激光薄膜 VhNz8) 11.1 薄膜的损伤问题 3.qTLga|} 11.2 激光薄膜的制备流程 [3!~PR] 11.3 激光薄膜的制备技术 7R\oj8[ 12. 光学薄膜特性测量 pbU!dOU~e 12.1 薄膜光谱测量 =X.9,$Y 12.2 薄膜光学常数测量 _~T!9 12.3 薄膜应力测量 >>5NX"{ 12.4 薄膜损伤测量 IhA* " 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ;]pJj6J&v
[attachment=121029] V?=8".GiX
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] QI3Nc8t_2
内容简介 pi
,eIm Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 L*~J%7 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 R>(@ZM& 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?G-e](]^< jb^N|zb
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 -]t,E,(! 目录 qIAoA. Preface 1 n;:rf 7hGY 内容简介 2 aG92ay 目录 i (4Zts0O\ 1 引言 1 ZAXN6h 2 光学薄膜基础 2
!OuWPH.
: 2.1 一般规则 2 r9ww.PpNk# 2.2 正交入射规则 3 q2et|QCru 2.3 斜入射规则 6 NvvUSyk\;s 2.4 精确计算 7 :M6+p'`j 2.5 相干性 8 n8DxB@DI 2.6 参考文献 10 $.[#0lCI 3 Essential Macleod的快速预览 10 =%>oR 4 Essential Macleod的特点 32
3dRr/Ilc 4.1 容量和局限性 33 gw}Mw 4.2 程序在哪里? 33
Yl.0aS 4.3 数据文件 35 &[;HYgp 4.4 设计规则 35 Ed
,D8ND 4.5 材料数据库和资料库 37 4X*>H 4.5.1材料损失 38 !1G ."fo 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Z%n(O(^L 4.5.2 材料库 41 2[r^M'J 4.5.3导出材料数据 43 jWYV#ifs2 4.6 常用单位 43 Z%x\~)~ 4.7 插值和外推法 46 E_bO9nRHV 4.8 材料数据的平滑 50 C|o`k9I# 4.9 更多光学常数模型 54 QQV~?iW{~ 4.10 文档的一般编辑规则 55 {4-[r#R<M 4.11 撤销和重做 56 b@2J]Ay E* 4.12 设计文档 57 T0]*{k(FR 4.10.1 公式 58 w&x!,yd; 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Iy6$7~ 4.10.3 沉积密度 59 [V)
L 4.10.4 平行和楔形介质 60 RJ$7XCY%`* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 fa<v0vb+ 4.10.4 性能 61 PtTH PAKj 4.10.5 保存设计和性能 64 E]6z8juO6 4.10.6 默认设计 64 -k7X:!>QHC 4.11 图表 64 [u._q:A 4.11.1 合并曲线图 67 Rv/Bh<t 4.11.2 自适应绘制 68 59Gk3frk( 4.11.3 动态绘图 68 <fs2fTUeqF 4.11.4 3D绘图 69 H/"lAXfb 4.12 导入和导出 73 "5, 4.12.1 剪贴板 73 2~t[RY 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 YXI'gn2b# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 PClMQL# 4.13 背景 77 \2vg{ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 lbuAE% 4.15 生成Rugate 84 |eWjYGwJa 4.16 参考文献 91 SC-
$B 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 gy;+_'.j 5.1 Jobs 92 5P'p2x#U 5.2 创建一个新Job(工作) 93 P06RJE 5.3 输入材料 94 =2
*rA'im 5.4 设计数据文件夹 95 =dx1/4bZl| 5.5 默认设计 95 %H+\>raLz
6 细化和合成 97 -> J_ ~ 6.1 优化介绍 97 <2nZ&M4/s{ 6.2 细化 (Refinement) 98 np4+" 6.3 合成 (Synthesis) 100 UYz0PSV=. 6.4 目标和评价函数 101 Hp(D);0+) 6.4.1 目标输入 102 }`NU@O# 6.4.2 目标 103 L=8+_0 6.4.3 特殊的评价函数 104 g9Yz*Nee< 6.5 层锁定和连接 104 {Ions~cO) 6.6 细化技术 104 G!XIc>F* 6.6.1 单纯形 105 "C*B,D*}: 6.6.1.1 单纯形参数 106 ~%2pp~1K 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 e*.b3z 6.6.2.1 Optimac参数 108 {Ixg2=E\ 6.6.3 模拟退火算法 109 wm+})SOX9 6.6.3.1 模拟退火参数 109 XB[<;*Iz 6.6.4 共轭梯度 111 E.iSWAJ(w 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 _A0mxq 6.6.5 拟牛顿法 112 Z'k|u4ZC 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 (4%YHS8 6.6.6 针合成 113 /o2P+Xr8" 6.6.6.1 针合成参数 114 ${8?N:>t 6.6.7 差分进化 114 OK{xuX8u 6.6.8非局部细化 115 >g;kJe 6.6.8.1非局部细化参数 115 42 \-~] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 U-^[lWn[@4 6.7.1 细化 116 2+Wzf)tB 6.7.2 合成 117 v<9&B94z 6.8 参考文献 117 GT J{h 7 导纳图及其他工具 118 K2<~(78C 7.1 简介 118 M+!x}$&v 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 !(t,FYeH 7.2.1 四分之一波长规则 119 4&cL[Ny 7.2.2 导纳图 120 .{S8f#p9T 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "p3_y`h6+ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
3!
~K^Z] 7.5 斜入射导纳图 141 [qoXMuC|P 7.6 对称周期 141 >\!4Mk8 7.7 参考文献 142 _pH{yhA 8 典型的镀膜实例 143 Gc$gJnQio 8.1 单层抗反射薄膜 145 d
HJhFw 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :5yV.7 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
ayBRWT0 8.4 W-膜层 148 _xLHrT!y 8.5 V-膜层 149 <A.W 8b7D 8.6 V-膜层高折射基底 150 5IKL#V`3a 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 >Ng)k]G 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j8K,jZ 8.9 四层抗反射薄膜 153 m~'? /!! 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 _Zc%z@} 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 tV/Z)fpyH 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 W~Z<1[ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 J/A[45OD 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 {5|("0[F 8.15十五层宽带抗反射膜 159 |*mL1#bB 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 :3$}^uzIq 8.17 1/4波长堆栈 162 rbZ[!LA 8.18 陷波滤波器 163 aV1lJ;0 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p#KW$OQ]8 8.20 褶皱 165 gLsU:aeCT 8.21 消偏振分光器1 169 Q7bq
8.22 消偏振分光器2 171 0W^dhYO 8.23 消偏振立体分光器 172 ~LQ[4h<J ! 8.24 消偏振截止滤光片 173 i5F:r| 8.25 立体偏振分束器1 174 w-$[>R[hw 8.26 立方偏振分束器2 177 G9g6.8*& 8.27 相位延迟器 178 B ZMu[M 8.28 红外截止器 179 (.3'=n|kE 8.29 21层长波带通滤波器 180 gf)t)- E 8.30 49层长波带通滤波器 181 M|io4+sy 8.31 55层短波带通滤波器 182 MP>n)!R[` 8.32 47 红外截止器 183 V|MY!uV 8.33 宽带通滤波器 184 tD$lNh^ 8.34 诱导透射滤波器 186 Fd\e*ww' 8.35 诱导透射滤波器2 188 5y4u5Tm-% 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 kVS?RHR 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 #&,H"?" 8.35 增益平坦滤波器 193 VzlDHpG 8.38 啁啾反射镜 1 196 Brd,Eg 8.39 啁啾反射镜2 198 EN!?:RV 8.40 啁啾反射镜3 199 e1q"AOV 6 8.41 带保护层的铝膜层 200 O3NWXe< 8.42 增加铝反射率膜 201 x6'^4y]) 8.43 参考文献 202 "'Z- UV 9 多层膜 204 eXl=i-' 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204
FnHi(S|A 9.2 内部透过率 204 C+NF9N 9.3 内部透射率数据 205 C0x"pO7 9.4 实例 206 kD.pzxEM 9.5 实例2 210 giavJ| 9.6 圆锥和带宽计算 212 !Ngw\@f 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 >P. 'CU 10 光学薄膜的颜色 216 dv
N<5~ 10.1 导言 216 l)+:4N?iVv 10.2 色彩 216 sNU}n<J- 10.3 主波长和纯度 220 J0220 _ 10.4 色相和纯度 221 2)/NFZ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 bZipm(e 10.6 色差 226 <Mf*l)%* 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 '7Ig.K& 10.8 颜色渲染指数 234 *9gD*AnM, 10.9 色差计算 235 CL7Nr@ 10.10 参考文献 236 rU#li0
> 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 PQj<[rY 11.1 短脉冲 238 CV.+P- 11.2 群速度 239 PoD^`()FR{ 11.3 群速度色散 241 QYThW7S 11.4 啁啾(chirped) 245 K3p@$3hQ 11.5 光学薄膜—相变 245 $->d! 11.6 群延迟和延迟色散 246 NyPd5m: 11.7 色度色散 246 qs=tJ^<<o 11.8 色散补偿 249 Ygkv7>?, 11.9 空间光线偏移 256 ulXnq` 11.10 参考文献 258 E(L<L1:" 12 公差与误差 260 'dt\db5p 12.1 蒙特卡罗模型 260 ;6DnId2Zh 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 WtX>Qu| 12.2.1 误差工具 267 (a{ZJI8_ 12.2.2 灵敏度工具 271 zX5G;,_ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 b1!@v+ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 RazBc .o< 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 #s+X+fe 12.3 参考文献 276 E`@43Nz 13 Runsheet 与Simulator 277 LD55n%|0`H 13.1 原理介绍 277 F!8=FTb 13.2 截止滤光片设计 277 :):zNn_>` 14 光学常数提取 289 m@oUvxcd 14.1 介绍 289 `Q9+k< 14.2 电介质薄膜 289 ^,7=X8Su 14.3 n 和k 的提取工具 295 J gi
Iq
14.4 基底的参数提取 302 g"y?nF.&F 14.5 金属的参数提取 306 |Cf
mcz(56 14.6 不正确的模型 306 *W^=XbG 14.7 参考文献 311 [b`6v`x 15 反演工程 313 ]C *10S` 15.1 随机性和系统性 313 =s[&;B`s 15.2 常见的系统性问题 314 D<nxr~pQ 15.3 单层膜 314 S;}qLjT 15.4 多层膜 314 v.`+I-\.z) 15.5 含义 319 pT=2e& 15.6 反演工程实例 319 yDtOpM8<{ 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 jzrt7p*k} 15.6.2 反演工程提取折射率 327 W/v|8-gcK 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 }aZrou3E 16.1 光学性质的热致偏移 329 :dDxxrs" 16.2 应力工具 335 -2lRia 16.3 均匀性误差 339 rl|Q)A{ 16.3.1 圆锥工具 339 .3g&9WvN!Z 16.3.2 波前问题 341 !0dX@V'r 16.4 参考文献 343 k!13=Gh 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 cV]y=q6 17.1 引言 345 NW De-<fQ 17.2 操作数 345 nW&$~d 18 如何在Function中编写脚本 351 ve%l({ 18.1 简介 351 m"-G6BKS 18.2 什么是脚本? 351 r~[B_f! 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 r{V.jZ%p'Z 18.4 基础 352 Opry`}5h 18.4.1 Classes(类别) 352 <|V'pim 18.4.2 对象 352 "%kGRHq 18.4.3 信息(Messages) 352 -kc(u1! 18.4.4 属性 352 tw86:kYEz 18.4.5 方法 353 tDU}rI8? 18.4.6 变量声明 353 k5s ?lWH 18.5 创建对象 354 ZeTL$E[E} 18.5.1 创建对象函数 355 N
^f}ui i 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 xA9V$# d| 18.5.3 丢弃对象 356 O#PwRud$ 18.5.4 总结 356 =phiD&= 18.6 脚本中的表格 357 m >hovikY* 18.6.1 方法1 357 DvJB59:_} 18.6.2 方法2 357 \^m.dIPdO 18.7 2D Plots in Scripts 358 ;/aB)JZ5= 18.8 3D Plots in Scripts 359 1 mHk =J~ 18.9 注释 360 Hir(6Bt 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 e/P4mc) 18.11 一个更高级的脚本 362 6puVw-X 18.12 <esc>键 364 &vkp?UH 18.13 包含文件 365 ]
?9t - 18.14 脚本被优化调用 366 TnxU/) 18.15 脚本中的对话框 368 r8+*|$K 18.15.1 介绍 368 sZEgsrJh 18.15.2 消息框-MsgBox 368 ^#7viZ* 18.15.3 输入框函数 370 {DS\!0T-X 18.15.4 自定义对话框 371 voH4 18.15.5 对话框编辑器 371 4[xA-
\ 18.15.6 控制对话框 377 ,0.|P`|w 18.15.7 更高级的对话框 380 H-m`Dh5{ 18.16 Types语句 384 uc\.oG;~q 18.17 打开文件 385 ?KCxrzf 18.18 Bags 387 Hz5;Ruw' 18.13 进一步研究 388 Q~h6J* 19 vStack 389 <%/:w/ 19.1 vStack基本原理 389 F*X%N_n 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 XX:q|?6_ 4 19.3 五棱镜 393 W'd/dKUx 19.4 光束距离 396 ]'E}
19.5 误差 399
{ $X X 19.6 二向分色棱镜 399 +&?'KZ+Z_v 19.7 偏振泄漏 404 /Q]:Uf.J 19.8 波前误差—相位 405 sD.6"w7} 19.9 其它计算参数 405 (Q\\Gw 20 报表生成器 406 -t%L#1k 20.1 入门 406 tw]/,>\G 20.2 指令(Instructions) 406 uH0#rgKt 20.3 页面布局指令 406 b%<16 4i 20.4 常见的参数图和三维图 407 g"w)@*?K 20.5 表格中的常见参数 408 O<bDU0s{M 20.6 迭代指令 408 Ys)+9yPPn 20.7 报表模版 408 5UPPk$8` 20.8 开始设计一个报表模版 409 tb: 21 一个新的project 413 bD d_} 21.1 创建一个新Job 414 /XjN%| 21.2 默认设计 415 TJE%
U0Ln 21.3 薄膜设计 416 u1wg
C# 21.4 误差的灵敏度计算 420 5a8JVDLX^ 21.5 显色指数计算 422 Euqjxz 21.6 电场分布 424 #i@ACAgn;6 后记 426 yW[L,N7d KxGKA +_P8'e%Iy 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 dG"K/| ~@[(U!G 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] ]v<d0"2 ^zKt{a 目 录 `D4oAx d9 umqLKf=x! ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vuAQm}A4'g 第1章 介绍 ..........................................................1 r(pwOOx 第2章 软件安装 ..................................................... 3 e21E_exM0 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 q^)=F_QvG 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 `8mD7xsg$ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 zoJ_=- *s 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 C{8i7D 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 U.HoFf+HN 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 @< wYT$ 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 xq#U4E 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 =DGn,i9 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 $+A%ODv 第12章 优化和综合 ..................................................................120 ]d[Rf$>vu0 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 :U!'U;uQ 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 xi;/^)r 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Y>xi|TWN 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 =fL6uFmxI@ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 M' a& 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 X!HDj< 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 A Z]P+v 第20章 运行表单 .................................................................... 251 &G0l&8pa 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 vsu@PuqH 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 tniPEmeS 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 3Gc ,I:\ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 JmnBq<&,0 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 C}n[?R 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 YgO aZqN 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 -iY9GN89c 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 LDT'FwMjy 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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