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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 r\AyN= y  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 X/N0LU(q  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 1KjU ] r2  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 5Hcf;P7   
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 B" 3dQwQ  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
;vt8R=T  
特邀专家介绍 %;.;>Y(-  
[attachment=121028] !qX_I db\  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 }#X8@  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 :O(^w}sle  
课程概要 =zyC-;r!  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 }d<}FJ-,  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 c+2FC@q{l  
课程大纲 /% kY0 LY  
1. Essential Macleod软件介绍 ;\p KDPr  
1.1 介绍软件 =b/L?dR.-  
1.2 创建一个简单的设计 }[M`uZ  
1.3 绘图和制表来表示性能 8=]Tr3   
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 y.[Mnj  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ATR!7i\|  
1.6 特定设计的公式技术 3Kn_mL3V-  
1.7 交互式绘图 /PLn+-  
2. 光学薄膜理论基础 F$[ U|%*  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 W^G>cC8.L  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响  |jM4E$  
3. 材料管理 %Qj;,#z  
3.1 材料模型 |^A;&//  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 @r?Uua  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 t*?0D\b 2  
3.4 基板光学常数的提取 6H'HxB4  
4. 光学薄膜设计优化方法 @'|)~,"bx  
4.1 参考波长与g .-<k>9S7_  
4.2 四分之一规则 1bH;!J  
4.3 导纳与导纳图 uJ6DO#d`P  
4.4 斜入射光学导纳 aXL{TD:]  
4.5 光学薄膜设计的进展 U4cY_p?  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 sVl-N&/  
4.6.1 优化目标设置 +). 0cs0k5  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) *W kIq>  
4.6.3 膜层锁定和链接 i F+vl]  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 $#]]K  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 95z]9UL  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 {Lm~r+ U  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 mdw7}%5V  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 /r=tI)'$  
5.5 如何在Function中编写脚本 Ybn`3  
6. 光学薄膜系统案例 .j-IX1Sa  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 k68F-e[i^  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ` P9XqWr  
6.3 Stack应用范例说明 U{VCZ*0cj  
7. 薄膜性能分析 (<)]sp2   
7.1 电场分布 -e8}Pm "  
7.2 公差与灵敏度分析 KjQR$-  
7.3 反演工程 A]DTUdL  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 0fYj4`4=n  
8. 真空技术 V<j.xd7  
8.1 常用真空泵介绍 d20gf:@BM  
8.2 真空密封和检漏 gmm|A9+tv  
9. 薄膜制备技术 mL4]l(U  
9.1 常见薄膜制备技术 X_7UJ jFw"  
10. 薄膜制备工艺 =Jym%m  
10.1 薄膜制备工艺因素 nH<eR)0  
10.2 薄膜均匀性修正技术 DS'n  
10.3 光学薄膜监控技术 qBCK40   
11. 激光薄膜 VhNz8)  
11.1 薄膜的损伤问题 3.qTLga|}  
11.2 激光薄膜的制备流程 [3!~PR]  
11.3 激光薄膜的制备技术 7R\oj8[  
12. 光学薄膜特性测量 pbU!dOU~e  
12.1 薄膜光谱测量 =X.9,$Y  
12.2 薄膜光学常数测量 _~T!9  
12.3 薄膜应力测量 >>5NX"{  
12.4 薄膜损伤测量 IhA*"  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ;]pJj6J&v  
[attachment=121029]
V?=8".GiX  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
,j$Vvz   
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
QI3Nc8t_2  
内容简介 pi ,eIm  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 L*~J%7  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 R>(@Z M&  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?G -e](]^<  
jb^N|zb  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
-]t,E,(!  
目录 qIAoA .  
Preface 1 n;:rf7hGY  
内容简介 2 aG 92ay  
目录 i (4Zts0O\  
1  引言 1 ZAXN6h  
2  光学薄膜基础 2 !OuWPH. :  
2.1  一般规则 2 r9ww.PpNk#  
2.2  正交入射规则 3 q2et|QCru  
2.3  斜入射规则 6 NvvUSyk\;s  
2.4  精确计算 7 :M6+p'`j  
2.5  相干性 8 n8D xB@DI  
2.6 参考文献 10 $.[#0lCI  
3  Essential Macleod的快速预览 10 =%> oR  
4  Essential Macleod的特点 32 3dRr/Ilc  
4.1  容量和局限性 33 gw}Mw  
4.2  程序在哪里? 33 Yl.0aS  
4.3  数据文件 35 &[ ;HYgp  
4.4  设计规则 35 Ed ,D8ND  
4.5  材料数据库和资料库 37 4X *>H  
4.5.1材料损失 38 !1G."fo  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Z%n(O(^L  
4.5.2 材料库 41 2[ r^M'J  
4.5.3导出材料数据 43 jWYV#ifs2  
4.6  常用单位 43 Z%x\~ )~  
4.7  插值和外推法 46 E_bO9nRHV  
4.8  材料数据的平滑 50 C|o`k9I#  
4.9 更多光学常数模型 54 QQV~?iW{~  
4.10  文档的一般编辑规则 55 {4-[r#R<M  
4.11 撤销和重做 56 b@2J]Ay E*  
4.12  设计文档 57 T0]*{k(FR  
4.10.1  公式 58 w&x!,yd;  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Iy6$7~  
4.10.3  沉积密度 59 [V) L  
4.10.4 平行和楔形介质 60 RJ$7XCY%`*  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 fa<v0vb+  
4.10.4  性能 61 PtTHPAKj  
4.10.5  保存设计和性能 64 E]6z8juO6  
4.10.6  默认设计 64 -k7X:!>QHC  
4.11  图表 64 [u._q:A  
4.11.1  合并曲线图 67 Rv/Bh< t  
4.11.2  自适应绘制 68 59Gk3frk(  
4.11.3  动态绘图 68 <fs2fTUeqF  
4.11.4  3D绘图 69 H/"lAXfb  
4.12  导入和导出 73 "5,   
4.12.1  剪贴板 73 2~t[RY  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 YXI'gn2b#  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 PClMQL#  
4.13  背景 77 \2vg{  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 lbuAE%  
4.15  生成Rugate 84 |eWjYGwJa  
4.16  参考文献 91 SC- $B  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 gy;+_'.j   
5.1  Jobs 92 5P'p2x#U  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 P06R JE  
5.3  输入材料 94 =2 *rA'im  
5.4  设计数据文件夹 95 =dx1/4bZl|  
5.5  默认设计 95 %H+\>raLz  
6  细化和合成 97 - > J_ ~  
6.1  优化介绍 97 <2nZ&M4/s{  
6.2  细化 (Refinement) 98 np4+"  
6.3  合成 (Synthesis) 100 UYz0PSV=.  
6.4  目标和评价函数 101 Hp(D);0+)  
6.4.1  目标输入 102 }`NU@O#  
6.4.2  目标 103 L =8+_0  
6.4.3  特殊的评价函数 104 g9Yz*Nee<  
6.5  层锁定和连接 104 {Ions~cO)  
6.6  细化技术 104 G!XIc>F*  
6.6.1  单纯形 105 "C*B,D*}:  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ~%2pp~1 K  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 e*.b3 z  
6.6.2.1 Optimac参数 108 {Ixg2=E\  
6.6.3  模拟退火算法 109 wm+})SOX9  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 XB[<;*Iz  
6.6.4  共轭梯度 111 E.iSWAJ(w  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 _A0mxq  
6.6.5  拟牛顿法 112 Z'k|u4ZC  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 (4%YHS8  
6.6.6  针合成 113 /o2P+Xr8"  
6.6.6.1 针合成参数 114 ${8?N:>t  
6.6.7 差分进化 114 OK{xuX8u  
6.6.8非局部细化 115 >g;kJe  
6.6.8.1非局部细化参数 115 42\-~]  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 U-^[lWn[@4  
6.7.1  细化 116 2+Wzf)tB  
6.7.2  合成 117 v<9&B94z  
6.8  参考文献 117 GTJ{h  
7  导纳图及其他工具 118 K2<~(78C  
7.1  简介 118 M+!x}$ &v  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 !(t,FYeH  
7.2.1  四分之一波长规则 119 4&cL[Ny  
7.2.2  导纳图 120 .{S8f#p9T  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "p3_y`h6+  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 3! ~K^Z]  
7.5  斜入射导纳图 141 [qoXMuC|P  
7.6  对称周期 141 >\!4Mk8  
7.7  参考文献 142 _pH{yhA  
8  典型的镀膜实例 143 Gc$gJnQio  
8.1  单层抗反射薄膜 145 d HJhFw  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 :5yV.7  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ayBRWT0  
8.4  W-膜层 148 _xLHrT!y  
8.5  V-膜层 149 <A.W 8b7D  
8.6  V-膜层高折射基底 150 5IKL#V `3a  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151  >Ng)k]G  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j8K,jZ  
8.9  四层抗反射薄膜 153 m~'? /!!  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 _Zc%z@}  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 tV/Z)fpyH  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 W~Z<1[  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 J/A[45OD  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 {5|("0[F  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 |*mL1#bB  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :3$}^uzIq  
8.17  1/4波长堆栈 162 rbZ[!LA  
8.18  陷波滤波器 163 aV1lJ ;0  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p#KW$OQ]8  
8.20  褶皱 165 gLsU:aeCT  
8.21  消偏振分光器1 169 Q7bq  
8.22  消偏振分光器2 171 0W^dhYO  
8.23  消偏振立体分光器 172 ~LQ[4h<J !  
8.24  消偏振截止滤光片 173 i5F:r|  
8.25  立体偏振分束器1 174 w-$[>R[hw  
8.26  立方偏振分束器2 177 G9g6.8*&  
8.27  相位延迟器 178 B ZMu[M  
8.28  红外截止器 179 (.3'=n|kE  
8.29  21层长波带通滤波器 180 gf)t)-E  
8.30  49层长波带通滤波器 181 M|i o4+sy  
8.31  55层短波带通滤波器 182 MP>n)!R[`  
8.32  47 红外截止器 183 V|MY!uV  
8.33  宽带通滤波器 184 tD$lNh^  
8.34  诱导透射滤波器 186 Fd\ e*ww'  
8.35  诱导透射滤波器2 188 5y4u5Tm-%  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 kVS?RHR  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 #&,H"?"  
8.35  增益平坦滤波器 193 VzlDHpG  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Br d,Eg  
8.39  啁啾反射镜2 198 EN !?:RV  
8.40  啁啾反射镜3 199 e1q"AOV6  
8.41  带保护层的铝膜层 200  O3NWXe<  
8.42  增加铝反射率膜 201 x6'^4y])  
8.43  参考文献 202 "'Z- UV  
9  多层膜 204 eX l=i-'  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 FnHi(S|A  
9.2  内部透过率 204 C+N F9N  
9.3 内部透射率数据 205 C0x "pO7  
9.4  实例 206 kD.pzx EM  
9.5  实例2 210 giavJ|  
9.6  圆锥和带宽计算 212 !Ngw\@f  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 >P. 'CU  
10  光学薄膜的颜色 216 dv N<5~  
10.1  导言 216 l)+:4N?iVv  
10.2  色彩 216 sNU}n<J-  
10.3  主波长和纯度 220 J0220 _  
10.4  色相和纯度 221 2)/NFZ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 bZipm(e  
10.6 色差 226 <Mf*l)%*  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 '7I g.K&  
10.8  颜色渲染指数 234 *9gD*AnM,  
10.9  色差计算 235 CL7Nr@  
10.10  参考文献 236 rU#li0 >  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 PQj<[rY  
11.1  短脉冲 238 CV.+P-  
11.2  群速度 239 PoD^`()FR{  
11.3  群速度色散 241 QYThW7S  
11.4  啁啾(chirped) 245 K3p@$3hQ  
11.5  光学薄膜—相变 245 $->d!  
11.6  群延迟和延迟色散 246 NyPd5m:  
11.7  色度色散 246 qs=tJ ^<<o  
11.8  色散补偿 249 Ygkv7>?,  
11.9  空间光线偏移 256 ulXnq`  
11.10  参考文献 258 E(L<L1:"  
12  公差与误差 260 'dt\db5p  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ;6DnId2Zh  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 WtX>Qu|  
12.2.1  误差工具 267 (a{ZJI8_  
12.2.2  灵敏度工具 271 zX5G;,_  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 b1!@v+  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 RazBc.o<  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 #s+X+fe  
12.3  参考文献 276 E`@43Nz  
13  Runsheet 与Simulator 277 LD55n%|0`H  
13.1  原理介绍 277 F!8=FTb  
13.2  截止滤光片设计 277 :):zNn_>`  
14  光学常数提取 289 m@ oUvxcd  
14.1  介绍 289 ` Q9+k<  
14.2  电介质薄膜 289 ^,7=X8Su  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Jgi Iq  
14.4  基底的参数提取 302 g"y?nF.&F  
14.5  金属的参数提取 306 |Cf mcz(56  
14.6  不正确的模型 306  *W^=XbG  
14.7  参考文献 311 [b`6v`x  
15  反演工程 313 ]C *10S`  
15.1  随机性和系统性 313 =s[ &;B`s  
15.2  常见的系统性问题 314 D<nxr~pQ  
15.3  单层膜 314 S;}qLjT  
15.4  多层膜 314 v.`+I-\.z)  
15.5  含义 319 pT=2e&  
15.6  反演工程实例 319 yDtOpM8<{  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 jzrt7p*k}  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 W/v|8-gcK  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 }aZr ou3E  
16.1  光学性质的热致偏移 329 :dDxxrs"  
16.2  应力工具 335 -2lRia  
16.3  均匀性误差 339 rl|Q)A{  
16.3.1  圆锥工具 339 .3g&9WvN!Z  
16.3.2  波前问题 341 !0dX@V'r  
16.4  参考文献 343 k!13=Gh  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 cV]y=q 6  
17.1  引言 345 NW De-<fQ  
17.2  操作数 345 nW&$~d  
18  如何在Function中编写脚本 351 ve%l({  
18.1  简介 351 m"-G6BKS  
18.2  什么是脚本? 351 r~[B _f!  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 r{V.jZ%p'Z  
18.4  基础 352 Opry`}5h  
18.4.1  Classes(类别) 352 <|V'pim  
18.4.2  对象 352 "%kG RHq  
18.4.3  信息(Messages) 352 -kc(u1!  
18.4.4  属性 352 tw86:kYEz  
18.4.5  方法 353 tDU}rI8?  
18.4.6  变量声明 353 k5s?lWH  
18.5  创建对象 354 ZeTL$E[E}  
18.5.1  创建对象函数 355 N ^f}ui i  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 xA9V$#d|  
18.5.3 丢弃对象 356 O#PwRud$  
18.5.4  总结 356 =phiD&=  
18.6  脚本中的表格 357 m >hovikY*  
18.6.1  方法1 357 DvJB59:_}  
18.6.2  方法2 357 \^m.dIPdO  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ;/aB)JZ5=  
18.8 3D Plots in Scripts 359 1 mHk =J~  
18.9  注释 360 Hir(6Bt  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 e/P4mc)  
18.11  一个更高级的脚本 362 6puVw-X  
18.12  <esc>键 364 &vkp?UH  
18.13 包含文件 365 ] ?9t-  
18.14  脚本被优化调用 366 TnxU/)  
18.15  脚本中的对话框 368 r8+*|$K  
18.15.1  介绍 368 sZEgsrJh  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ^#7viZ*  
18.15.3  输入框函数 370 {DS\!0T-X  
18.15.4  自定义对话框 371 vo H4  
18.15.5  对话框编辑器 371 4[xA- \  
18.15.6  控制对话框 377 ,0.|P`|w  
18.15.7  更高级的对话框 380 H-m`Dh5{  
18.16 Types语句 384 uc\.oG;~q  
18.17 打开文件 385 ?KCxrzf  
18.18 Bags 387 Hz5;Ruw'  
18.13  进一步研究 388 Q~h6J*  
19  vStack 389 < %/:w/  
19.1  vStack基本原理 389 F*X%N_n  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 XX:q|?6_ 4  
19.3  五棱镜 393 W'd/dKU x  
19.4 光束距离 396 ] 'E}   
19.5 误差 399 { $X X  
19.6  二向分色棱镜 399 +&?'KZ+Z_v  
19.7  偏振泄漏 404 /Q]:Uf.J  
19.8  波前误差—相位 405 sD.6"w7}  
19.9  其它计算参数 405 (Q\\Gw   
20  报表生成器 406 -t%L#1k  
20.1  入门 406 tw]/,>\G  
20.2  指令(Instructions) 406 uH0#rgKt  
20.3  页面布局指令 406 b%<164i  
20.4  常见的参数图和三维图 407 g"w)@*?K  
20.5  表格中的常见参数 408 O<bDU0s{M  
20.6  迭代指令 408 Ys)+9yPPn  
20.7  报表模版 408 5UPPk$8 `  
20.8  开始设计一个报表模版 409 tb:    
21  一个新的project 413 bD  d_}  
21.1  创建一个新Job 414 /XjN%|  
21.2  默认设计 415 TJE% U0Ln  
21.3  薄膜设计 416 u1wg C#  
21.4  误差的灵敏度计算 420 5a8JVDLX^  
21.5  显色指数计算 422 Euqjxz  
21.6  电场分布 424 #i@ACAgn;6  
后记 426 yW[L,N7d  
KxGKA  
+_P8'e%Iy  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 dG" K/|  
~@[(U!G  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
]v<d0" 2  
^zKt{a  
目  录 `D4oAx d9  
u mqLKf=x!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vuAQm}A4'g  
第1章 介绍 ..........................................................1 r(pwOOx  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 e21E_exM0  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 q^)=F_QvG  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 `8mD7xsg$  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 zoJ_=- *s  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 C{8i7D  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 U.HoFf+HN  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 @< wYT$  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 xq#U 4E  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 =DGn,i9  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 $+A%ODv  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ]d[Rf$>vu0  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 :U!'U;uQ  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 xi;/^)r  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180  Y>xi|TWN  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 =fL6uFmxI@  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 M ' a&  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 X!HDj<  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 A Z]P+v  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 &G0l&8pa  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 vsu@PuqH  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 tniPEmeS  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 3Gc ,I:\  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 JmnBq<&,0  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 C}n[?R  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 YgO aZqN  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 -iY9GN89c  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 LDT'FwMjy  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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