线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 ;x[F4d
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 @~!1wPvF`I 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 dBV^Khf J 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ;w(]z 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 `.# l_-U{ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) =5P_xQx 特邀专家介绍 AUloP?24 [attachment=121028] CS 7"mE`{ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 67I6]3[Z 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 u_aln[oIv 课程概要 (%fl 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 o:\RJig< 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
TA47lz q 课程大纲 ]Q\Ogfjp 1. Essential Macleod软件介绍 4>4*4!KR} 1.1 介绍软件 8s4y7%,| 1.2 创建一个简单的设计 lN,8(n?g 1.3 绘图和制表来表示性能 9o.WJ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 +$ )C KC 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) r9Ux=W\ 1.6 特定设计的公式技术 vqLC?{i+ 1.7 交互式绘图 o7feH 6Sh 2. 光学薄膜理论基础 `Z{kJMS 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @!\g+z_" 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 YyX/:1 sg> 3. 材料管理 rK*s/mX < 3.1 材料模型 =&*:) 3.2 介质薄膜光学常数的提取 F|*{Ma 3.3 金属薄膜光学常数的提取 s,TKC67.%+ 3.4 基板光学常数的提取 BoB2q( 4. 光学薄膜设计优化方法 ]1 #& J( 4.1 参考波长与g 4C(v BKl 4.2 四分之一规则 A>6b
6 4.3 导纳与导纳图 i0uBb%GMT 4.4 斜入射光学导纳 ^R.#n[-r2 4.5 光学薄膜设计的进展 XD`QU m 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 0lNVQxG 4.6.1 优化目标设置 UA[2R1}d 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) c=l
3Sz? 4.6.3 膜层锁定和链接 L!E/ )#{ 5. Essential Macleod中各个模块的应用 zCD?5*7 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 a z
7Vy- 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 f>JuxX\G 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 dtQ>4C"N 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 p.q:vI$J 5.5 如何在Function中编写脚本 Lj"~6l`) 6. 光学薄膜系统案例 WYTeu " 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8uoFV=bj\ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 >9W ;u` 6.3 Stack应用范例说明 Ebp^-I9.d 7. 薄膜性能分析 S .rT5A[ 7.1 电场分布 *=L3bBu? 7.2 公差与灵敏度分析 TH2D ;uv 7.3 反演工程 SoODss~X 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 -@%*~^~z' 8. 真空技术 <ns[(
Q 8.1 常用真空泵介绍 -zg,pK$+ 8.2 真空密封和检漏 1)u
3 9. 薄膜制备技术 2O {@W +Mt 9.1 常见薄膜制备技术 ll{jE 10. 薄膜制备工艺 .-+_>br~ 10.1 薄膜制备工艺因素 |XxA Fje 10.2 薄膜均匀性修正技术 h&J6 10.3 光学薄膜监控技术 Q44Pg$jp 11. 激光薄膜 80cBLGG 11.1 薄膜的损伤问题 X'Q$v~/ 11.2 激光薄膜的制备流程 @`aR*B 11.3 激光薄膜的制备技术 ^ Sx0t 12. 光学薄膜特性测量 gd[jYej'RP 12.1 薄膜光谱测量 rX6"w31 12.2 薄膜光学常数测量 s;q]:+#7g 12.3 薄膜应力测量 E;~gQ6vAI 12.4 薄膜损伤测量 T[s_w-<7$ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 >z6(fM`i
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] EvIL[\Dy
内容简介 [AQ6ads) Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 s
S8Z5k; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 T%K(opISc( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 VO>A+vx3M >e*m8gm#
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 &TE=$a:d& 目录 ?:Y{c#w> Preface 1 "K`B'/08^ 内容简介 2 H
r? G_L 目录 i "aK3
ylz; 1 引言 1 Ol:&cX3G 2 光学薄膜基础 2 A D=@ 2.1 一般规则 2 aOfL;I 2.2 正交入射规则 3 oC>e'_6_b 2.3 斜入射规则 6 y%k\=:m 2.4 精确计算 7 =C8 t5BZ" 2.5 相干性 8 vmL%%7 2.6 参考文献 10 >|!F.W 3 Essential Macleod的快速预览 10 KgX~PP> 4 Essential Macleod的特点 32 %TxFdF{A 4.1 容量和局限性 33 rH8^Fl&jT 4.2 程序在哪里? 33 eIK8J,- 4.3 数据文件 35 I\PhgFt@O 4.4 设计规则 35 V(1Ldl'a 4.5 材料数据库和资料库 37 vGO- a2Z 4.5.1材料损失 38 szMh}q"u 4.5.1材料数据库和导入材料 39 E~ _2Jf\U 4.5.2 材料库 41 64>E|w 4.5.3导出材料数据 43 ln)_Jf1r 4.6 常用单位 43 s;X"E= 4.7 插值和外推法 46 FGu:8`c9 4.8 材料数据的平滑 50 ej>8$^y 4.9 更多光学常数模型 54 CE-ySIa 4.10 文档的一般编辑规则 55 y7dnXO!g9- 4.11 撤销和重做 56 ibex:W^ 4.12 设计文档 57 iU{bPyz, 4.10.1 公式 58 s/UIo^m 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 bKj#HHy\I 4.10.3 沉积密度 59 XP
*pYN 4.10.4 平行和楔形介质 60 /E$"\md 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 q.FgX 4.10.4 性能 61
2]C`S,) 4.10.5 保存设计和性能 64 X{\>TOk 4.10.6 默认设计 64 |_8::kir: 4.11 图表 64 1HL}tG?+# 4.11.1 合并曲线图 67 #sdW3m_% 4.11.2 自适应绘制 68 _aL:XKM 4.11.3 动态绘图 68 F=yrqRS= 4.11.4 3D绘图 69 |Y|{9Osus 4.12 导入和导出 73 RS!~5nk5 4.12.1 剪贴板 73 AJ` b-$Q 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lb5Y$ZC 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 D`0II= 4.13 背景 77 Um]>B`."wK 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?Q;8D@
4.15 生成Rugate 84 bVSa}&*kM 4.16 参考文献 91 1u75 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 J/8aDr(+ 5.1 Jobs 92 )Xg,;^ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 tKrr5SRb 5.3 输入材料 94 ."l@aE=| 5.4 设计数据文件夹 95 ;H/*%2 5.5 默认设计 95 B5*{85p(u 6 细化和合成 97 `YAqR?Xj_< 6.1 优化介绍 97 KG6ki_ 6.2 细化 (Refinement) 98 B2:6=8< 6.3 合成 (Synthesis) 100 X+;Ivx 6.4 目标和评价函数 101 8:0QI kqk 6.4.1 目标输入 102 >w+WG0Z
K 6.4.2 目标 103 'm}K$h(U 6.4.3 特殊的评价函数 104 ^-cj=on=Q 6.5 层锁定和连接 104 > xkl7D 6.6 细化技术 104 g*F? 6.6.1 单纯形 105 JDfkm+}uY 6.6.1.1 单纯形参数 106 )Y}t~ Zfx 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 VlRN 6.6.2.1 Optimac参数 108 zg+78 6.6.3 模拟退火算法 109 cOcF VPQ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 //]g78]=O 6.6.4 共轭梯度 111 dX{|-;6vm 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 &Z/aM? 6.6.5 拟牛顿法 112 |8PUmax 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 A-1Wn^,>* 6.6.6 针合成 113 _HX1E 6.6.6.1 针合成参数 114 z:-a7_ 6.6.7 差分进化 114 XWV) 6.6.8非局部细化 115 f305 yo 6.6.8.1非局部细化参数 115 evNo(U\C 6.7 我应该使用哪种技术? 116 $cEl6(66iX 6.7.1 细化 116 r-v;A 6.7.2 合成 117 R nt&<|8G 6.8 参考文献 117 W76K/A<h> 7 导纳图及其他工具 118 v Ic0V 7.1 简介 118 T`7;Rl'Q 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 JO\Tf."a \ 7.2.1 四分之一波长规则 119 oGx OJyD 7.2.2 导纳图 120 `G&W%CHB 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 eyf\j,xP& 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 L22GOa0 7.5 斜入射导纳图 141 Kj,C9 7.6 对称周期 141 Y,?s-AB 7.7 参考文献 142 @y3w_;P 8 典型的镀膜实例 143 /2pf*\u 8.1 单层抗反射薄膜 145 |F[E h
~ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +gqtW86 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >;kCcfS3ct 8.4 W-膜层 148 /KjRB_5~q} 8.5 V-膜层 149 U1bhd}MoR 8.6 V-膜层高折射基底 150 i71, 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 uN20sD} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 WL$Ee= 8.9 四层抗反射薄膜 153 < gB>j\: 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ,L%\{bp5 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 S453oG" 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 SO%x=W 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 90L,. 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 QEK,mc3 8.15十五层宽带抗反射膜 159 H7n5k, 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 A]"$O&l 8.17 1/4波长堆栈 162 rTYDa3 8.18 陷波滤波器 163 r2H \B,_ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .|
CcUmx 8.20 褶皱 165 |&B.YLx 8.21 消偏振分光器1 169 L&M6s
f$N 8.22 消偏振分光器2 171 ;> **+ezF 8.23 消偏振立体分光器 172 Ab`mID: 8.24 消偏振截止滤光片 173 DqyJ]}| 8.25 立体偏振分束器1 174 'b#RfF,7H} 8.26 立方偏振分束器2 177 x4|>HY<p? 8.27 相位延迟器 178 (e sTb, 8.28 红外截止器 179 ^_ <jg0V 8.29 21层长波带通滤波器 180 .WM 0x{t/ 8.30 49层长波带通滤波器 181 z1[2.&9D- 8.31 55层短波带通滤波器 182 ',j'Hf 8.32 47 红外截止器 183 =<w6yeko 8.33 宽带通滤波器 184 $s<,xY 9 8.34 诱导透射滤波器 186 ktLXL;~X 8.35 诱导透射滤波器2 188 <Z5ak4P 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 yL/EIN 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 }YJ(|z"" 8.35 增益平坦滤波器 193 d2lOx|jt 8.38 啁啾反射镜 1 196 M,@\*qlEJ 8.39 啁啾反射镜2 198 WF\
hXO 8.40 啁啾反射镜3 199 n B4)% 8.41 带保护层的铝膜层 200
S!Ue+jW 8.42 增加铝反射率膜 201 sW!pMkd_ 8.43 参考文献 202 \hN\px 9 多层膜 204 i0DYdUj 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Li~(kw3 9.2 内部透过率 204 x)0g31 49 9.3 内部透射率数据 205 csE 9Ns 9.4 实例 206 g+Vfd(e 9.5 实例2 210 >!O3 jb k 9.6 圆锥和带宽计算 212 # D"TY-$.= 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 |S48xsFvq 10 光学薄膜的颜色 216 w"d~R 10.1 导言 216 [.4R ,[U 10.2 色彩 216 4DI.RK9 10.3 主波长和纯度 220 eq.K77El{J 10.4 色相和纯度 221 N^7Qn*qt[ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 (7BG~T 10.6 色差 226 S|!)_RL 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 f!hQ"1[ 10.8 颜色渲染指数 234 owL>w 10.9 色差计算 235 WccTR
aq 10.10 参考文献 236 jn vJ`7zFP 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 v#*9rNEj0 11.1 短脉冲 238 NIufL
}6\ 11.2 群速度 239 H_)\:gTG 11.3 群速度色散 241 vmdu9"H
11.4 啁啾(chirped) 245 @
hH;d\W# 11.5 光学薄膜—相变 245 @Ee{ GH^- 11.6 群延迟和延迟色散 246 xCwd*lsM 11.7 色度色散 246 *0zdI<Oe 11.8 色散补偿 249 pQ%~u3 11.9 空间光线偏移 256 q[p+OpA 11.10 参考文献 258 ;okFm 12 公差与误差 260 *sK")Q4N 12.1 蒙特卡罗模型 260 E!<w t 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 !4-B
xeNY\ 12.2.1 误差工具 267 ^@?-YWt 12.2.2 灵敏度工具 271 sv`+?hjG 12.2.2.1 独立灵敏度 271 .;j} :< 12.2.2.2 灵敏度分布 275 rFJ(t7\9h 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 kBolDPvBG 12.3 参考文献 276 Q\>9PKK 13 Runsheet 与Simulator 277 ; (I(TG 13.1 原理介绍 277 $YuVM 13.2 截止滤光片设计 277 r0kJx$f 14 光学常数提取 289 ,'[L6=# 14.1 介绍 289 {n9]ej^
14.2 电介质薄膜 289 &}}c>]m 14.3 n 和k 的提取工具 295 sYnf
# ' 14.4 基底的参数提取 302 ,ErJUv 14.5 金属的参数提取 306 8a{S* 14.6 不正确的模型 306 ?K,xxH 14.7 参考文献 311 5dc24GB>_ 15 反演工程 313 :m*r(i3 15.1 随机性和系统性 313 USF&; M3 15.2 常见的系统性问题 314 %oVoE2T{@ 15.3 单层膜 314 tlhYk=yq 15.4 多层膜 314 p6~\U5rXm 15.5 含义 319 ?EP>yCR9 15.6 反演工程实例 319 7A0D[?^xe 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 N-*
^V^V 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Cv7FVl-I 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 _ dFZR 16.1 光学性质的热致偏移 329 W*A-CkrO 16.2 应力工具 335 bxX[$q 16.3 均匀性误差 339 V,t&jgG*
16.3.1 圆锥工具 339 E__^>= 16.3.2 波前问题 341 On%21L;JG 16.4 参考文献 343 Fw,'a 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 i'Vrx(y3 17.1 引言 345 pw;
17.2 操作数 345 -I."= c% 18 如何在Function中编写脚本 351 (!kd9uV 18.1 简介 351 S[!sJ-rG 18.2 什么是脚本? 351 \-(.cj)? 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 ygt7;};! 18.4 基础 352 v:otR%yt 18.4.1 Classes(类别) 352 AIZs^
`_ 18.4.2 对象 352 &k'J5YHm8H 18.4.3 信息(Messages) 352 c_$9z>$ 18.4.4 属性 352 JMp>)*YS 18.4.5 方法 353 +EI+@hS 18.4.6 变量声明 353 R.n:W;^` 18.5 创建对象 354 !63>I I 18.5.1 创建对象函数 355 uJ:'<dJ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 y&8' V\ 18.5.3 丢弃对象 356 JP$@*F@t 18.5.4 总结 356 {2u#Q7]| 18.6 脚本中的表格 357 .iK{=L/(y 18.6.1 方法1 357 ,S"a ,}8 18.6.2 方法2 357 aXi5~,Ks_ 18.7 2D Plots in Scripts 358 +
3+^J?N 18.8 3D Plots in Scripts 359 K/oC+Z;K 18.9 注释 360 CKJ9YKu{W 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 ?UD2}D[M 18.11 一个更高级的脚本 362 E]zTd$v6 18.12 <esc>键 364 fq^D<c{3 18.13 包含文件 365 K_\fO|<k 18.14 脚本被优化调用 366 _-^bAr`z 18.15 脚本中的对话框 368 O{b.-< 18.15.1 介绍 368 JNY;;9o 18.15.2 消息框-MsgBox 368 Z";~]]$!Y 18.15.3 输入框函数 370 ;dXQB>Za 18.15.4 自定义对话框 371 5AmYrXZ 18.15.5 对话框编辑器 371 H.\gLIr 18.15.6 控制对话框 377 lMpjE 18.15.7 更高级的对话框 380 k-;%/:Om 18.16 Types语句 384 HJFt{tq2 18.17 打开文件 385 H(qDQqJHYy 18.18 Bags 387 AvW2)+6G 18.13 进一步研究 388 .j*muDVQn 19 vStack 389 sTu6KMn 19.1 vStack基本原理 389 #qL?;Zh0S 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 XXbAn-J 19.3 五棱镜 393 EL_rh TWw 19.4 光束距离 396 |&JCf= 19.5 误差 399 *=]hc@ 19.6 二向分色棱镜 399 pJM~'tlHV 19.7 偏振泄漏 404 ;6o p|O 19.8 波前误差—相位 405 4]c.mDo[T 19.9 其它计算参数 405 DDdMWH^o7 20 报表生成器 406 dP8b\H 20.1 入门 406 p( EV-^
20.2 指令(Instructions) 406
;;z4EGr 20.3 页面布局指令 406 SKT f=rY 20.4 常见的参数图和三维图 407 ;{Cr+lqTJ 20.5 表格中的常见参数 408 bZ!*s 20.6 迭代指令 408 >Mml+4<5 20.7 报表模版 408
C'bW3la 20.8 开始设计一个报表模版 409 3*@ sp 21 一个新的project 413 sflH{!;p
21.1 创建一个新Job 414 Wj2s+L7, 21.2 默认设计 415 #X&`gDW 21.3 薄膜设计 416 Ap}^6_YXd 21.4 误差的灵敏度计算 420 yya"*]*S 21.5 显色指数计算 422 <gU^#gsGra 21.6 电场分布 424 Jv 后记 426 -phwzR\(t "#uXpCuw (_^pX 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 20[_eu) >kK;IF9h 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] /[f9Z:>V _c*0Rr 目 录 #KA,=J w_-v!s2 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ]MjQr0&M 第1章 介绍 ..........................................................1 r+8%oWj 第2章 软件安装 ..................................................... 3 G(7!3a+ 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 h-B&m:gD_U 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;m/%g{oV 第5章 软件结构 ............................................................... 21 v=4,kG 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 GC(:}e | 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 eNN)2-96 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 -)%l{@Mr 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ?nOul}y/ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 {Lj]++`fB] 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 JGH;&UYP 第12章 优化和综合 ..................................................................120 zcCX;N 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 \(9hg.E 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 B4k~~ ;| 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 CR$\$- 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 c8qsp n 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 SH#-3&$[ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 6 /8?: 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Z1j3 F 第20章 运行表单 .................................................................... 251 9pN},F91n: 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 > %5<fK2
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 uW*)B_c 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 <Wgp$qt; 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Yj+p^@{S2P 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 :f?};t+ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 h$`P|#V& 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 s)HLFdis@ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 E"p; 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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