线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 /)`]p1c1%w
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 |o'r?" 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 L27WD m^) 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 2e03m62* 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 /Gn0|]KI 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) zx*D)i5- 特邀专家介绍 e
m0 hTxb [attachment=121028] i0J`{PbI 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 B^/k`h6J 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 6As%<g= 课程概要
g/i%XTX> 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 <]X6%LX 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 yqVoedN 课程大纲 M{)&SNI*C 1. Essential Macleod软件介绍 (E,Ibz2G:e 1.1 介绍软件 s`0IyQXVU 1.2 创建一个简单的设计 M"bG(a(6: 1.3 绘图和制表来表示性能 q]VB}nO 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 #9F>21UU 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) u[oV
Jvc 1.6 特定设计的公式技术 E!BzE_|i 1.7 交互式绘图 $EEn]y
2. 光学薄膜理论基础 &fl RrJ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 =p"ma83 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _zi| GD 3. 材料管理 &U7h9o H 3.1 材料模型 sriDta?Cz 3.2 介质薄膜光学常数的提取 j>uu3ADd2 3.3 金属薄膜光学常数的提取 WiZTE(NM` 3.4 基板光学常数的提取 1ltW9^cF} 4. 光学薄膜设计优化方法 [HUK
9hG 4.1 参考波长与g f-ceDn 4.2 四分之一规则 x<' $ 4.3 导纳与导纳图 |0?v4%g 4.4 斜入射光学导纳 U_j[<.aN) 4.5 光学薄膜设计的进展 #NYHwO<0- 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 #f HnM+ 4.6.1 优化目标设置 $mE3 FJP> 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 6EO@Xf7, 4.6.3 膜层锁定和链接 SMJRoK3 5. Essential Macleod中各个模块的应用 BG=
J8 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 oif|X7H; 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 &43c/TSb 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +6
=lN[b 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 8DY:a['-d 5.5 如何在Function中编写脚本 Cl-P6NlR". 6. 光学薄膜系统案例 OK8Ho" 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 &q9=0So4\ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 nk7>iK!i 6.3 Stack应用范例说明 t|hc`| 7. 薄膜性能分析 5E1`qof 7.1 电场分布 @rDBK] V 7.2 公差与灵敏度分析 LME&qKe5 7.3 反演工程 6H5o/)Q~ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 &5${k' 8. 真空技术 nE*S3 8.1 常用真空泵介绍 VB#&`]rdo 8.2 真空密封和检漏 4Orq;8!BW 9. 薄膜制备技术 \AH5zdK 9.1 常见薄膜制备技术 4,Oa(b 10. 薄膜制备工艺 F:q8.^HTJ 10.1 薄膜制备工艺因素 1X5Yp |Ho 10.2 薄膜均匀性修正技术 EhM=wfGKw 10.3 光学薄膜监控技术 :z&kbG 11. 激光薄膜 v'b%m8 11.1 薄膜的损伤问题 P=KhR&gwV~ 11.2 激光薄膜的制备流程 %7P]:G+Y\ 11.3 激光薄膜的制备技术 |+::sL\r 12. 光学薄膜特性测量 :KA)4[#;W 12.1 薄膜光谱测量 $/tj<++W 12.2 薄膜光学常数测量 jC>#`gD 12.3 薄膜应力测量 mH0OW 12.4 薄膜损伤测量 O-K*->5S 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 kWVk^,
[attachment=121029] I`rN+c:
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027] sxph#E%
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] -]Su+/3(,
内容简介 yiI
oqvP Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 #asi%&3pP 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 %.r\P@7/Q 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2IRARZ,3 qHdUnW
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 G9LWnyQt 目录 KV|D]} Preface 1 "aCB} 内容简介 2 !rAH@y.l 目录 i V|kN 1
A 1 引言 1 6SH0
y 2 光学薄膜基础 2 ?%qaoxG37 2.1 一般规则 2 zGyRzxFN 2.2 正交入射规则 3 &Tuj`DL 2.3 斜入射规则 6 &*ocr & 2.4 精确计算 7 n7K%lj-.P 2.5 相干性 8 9T5 F0?qd 2.6 参考文献 10 jOrfI-&.G 3 Essential Macleod的快速预览 10 l&U$LN$*e 4 Essential Macleod的特点 32 ![\P/1p 4.1 容量和局限性 33 ej&.tNvq 4.2 程序在哪里? 33 saP%T~ 4.3 数据文件 35 GdNhEv 4.4 设计规则 35 fxoEK}TM 4.5 材料数据库和资料库 37 7x>^ip"7 4.5.1材料损失 38 T)7U+~nQ" 4.5.1材料数据库和导入材料 39 WQ[nK5# 4.5.2 材料库 41 r(uo-/7z 4.5.3导出材料数据 43
`x#S.b 4.6 常用单位 43 {.AN4 4.7 插值和外推法 46 /KF@Un_Ow 4.8 材料数据的平滑 50 2&n6:"u| 4.9 更多光学常数模型 54 ;<Hk Cd 4.10 文档的一般编辑规则 55 @0P4pt;( 4.11 撤销和重做 56 ox&?`DO 4.12 设计文档 57 ,3T"fT-( 4.10.1 公式 58 hx9t{Zi 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 rDbtT*vN 4.10.3 沉积密度 59 {cOx0= 4.10.4 平行和楔形介质 60 df@N V Ld 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 v+ in:\Dv 4.10.4 性能 61 E] /2u3p 4.10.5 保存设计和性能 64 {G x=QNd 4.10.6 默认设计 64 d wG!]j>:_ 4.11 图表 64 76@W:L*J$J 4.11.1 合并曲线图 67 Z^%a 1>` 4.11.2 自适应绘制 68 5G\OINxy 4.11.3 动态绘图 68 %\sE \]K 4.11.4 3D绘图 69 !(? 7V 4.12 导入和导出 73 1_q!E~) 4.12.1 剪贴板 73 K'J_AMBL 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 #UL75 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 hIV]ZYbH 4.13 背景 77 \zg R]| 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 }aE' 4.15 生成Rugate 84 ZM -P 4.16 参考文献 91 c YgJ}(>} 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Y=G`~2Pr= 5.1 Jobs 92 kOD=H-vSi 5.2 创建一个新Job(工作) 93 dLb$3!3 5.3 输入材料 94 &(Fm@ksh\ 5.4 设计数据文件夹 95 Qw2-Vv4!" 5.5 默认设计 95 }vU/]0@,E 6 细化和合成 97 /KOI%x 6.1 优化介绍 97 1 mJUlx 6.2 细化 (Refinement) 98 uBt
]4d* 6.3 合成 (Synthesis) 100 +vxf_*0; 6.4 目标和评价函数 101 KqJln)7 6.4.1 目标输入 102 |"9&F 6.4.2 目标 103 !nkIXgWz 6.4.3 特殊的评价函数 104 Uvm.|p_V 6.5 层锁定和连接 104 [>a3` 0M 6.6 细化技术 104 dFw+nGN 6.6.1 单纯形 105 LJPJENtFIs 6.6.1.1 单纯形参数 106 Fy<:iv0>t 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 NN'pBUR 6.6.2.1 Optimac参数 108 {v]L|e%{ 6.6.3 模拟退火算法 109 B<r0y 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ef '?O 6.6.4 共轭梯度 111 NO[A00m|OL 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Ro9:kEG$ 6.6.5 拟牛顿法 112 'a+^= c 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 vA_,TS#Bo 6.6.6 针合成 113 "y"oV[` 6.6.6.1 针合成参数 114 "i#g [x 6.6.7 差分进化 114 hGV_K" ~I0 6.6.8非局部细化 115 )e3w-es~4 6.6.8.1非局部细化参数 115 zCo$YP#5_ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 t{iRCj 6.7.1 细化 116 2@Yu:|d4U 6.7.2 合成 117 $%bd`d*S 6.8 参考文献 117 ,
p}:?uR 7 导纳图及其他工具 118 Izu____ 7.1 简介 118 V~ KWy@7 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 %<DdX*Qp 7.2.1 四分之一波长规则 119 v.8kGF 7.2.2 导纳图 120 59 g//;35@ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 [XI:Yf 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 0;><@{' 7.5 斜入射导纳图 141 ?sdSi-- 7.6 对称周期 141 lq_UCCnv5 7.7 参考文献 142 Mo N/?VA 8 典型的镀膜实例 143 *s 4Ym 8.1 单层抗反射薄膜 145 hR|xUp
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 5[X%17&t 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 | 8mWR=9fs 8.4 W-膜层 148 vv,<#4d 8.5 V-膜层 149 ,yNuz@^
P 8.6 V-膜层高折射基底 150 CtN\-E- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 PRiE2Di2S 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 q>'#; QA 8.9 四层抗反射薄膜 153 ^"|q~2 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 V1M|p! 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .-HM{6J 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 azIhp{rHw 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 x1g-@{8]j 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 t^MTR6y+8 8.15十五层宽带抗反射膜 159 jSvq1$U 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 z{Yfiv\-r 8.17 1/4波长堆栈 162 p%*s3E1.D 8.18 陷波滤波器 163 ,^e2ma|z 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3AdYZ7J 8.20 褶皱 165 ?m~1b_@A{ 8.21 消偏振分光器1 169 L bJf5xdi 8.22 消偏振分光器2 171 ?`xF>P]M 8.23 消偏振立体分光器 172 ]'%
iR 8.24 消偏振截止滤光片 173 >F7HKwg}Z 8.25 立体偏振分束器1 174 rQT%~oM: 8.26 立方偏振分束器2 177 #J/RI[a 8.27 相位延迟器 178 bnkZWw'9 8.28 红外截止器 179 `~d7l@6F 8.29 21层长波带通滤波器 180 +p>h` fc 8.30 49层长波带通滤波器 181 (|AZO! 8.31 55层短波带通滤波器 182 L;*7p9 8.32 47 红外截止器 183 u=L Dfn 8.33 宽带通滤波器 184 %`s#p` Ol1 8.34 诱导透射滤波器 186 2>X yrG 8.35 诱导透射滤波器2 188 ygja{W. 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 T&/n.-@nk 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 #9}1Lo> 8.35 增益平坦滤波器 193 0sw;h.VY 8.38 啁啾反射镜 1 196 xPm{'J+b~ 8.39 啁啾反射镜2 198 O95gdxc 8.40 啁啾反射镜3 199 i^:#*Q-co 8.41 带保护层的铝膜层 200 pe,y'w{ 8.42 增加铝反射率膜 201 93.\.&L\ 8.43 参考文献 202 FsOJmWZ 9 多层膜 204 i75\<X 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 r$4d4xtK 9.2 内部透过率 204 5V(#nz 9.3 内部透射率数据 205 7P2(q 9.4 实例 206 F|+B8&-v 9.5 实例2 210 a(yWIgD\\ 9.6 圆锥和带宽计算 212 o`QH8 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 aJ=)5%$6kc 10 光学薄膜的颜色 216 H1?C:R 10.1 导言 216 ~kV>nx2 10.2 色彩 216 *wx%jbJo 10.3 主波长和纯度 220 $ Lfbt=f 10.4 色相和纯度 221 B+Qo{- 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 H~#$AD+H 10.6 色差 226 E|-5=!]fX 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 32 j){[PL3 10.8 颜色渲染指数 234 v~AshmP 10.9 色差计算 235 f-i5tnh 10.10 参考文献 236 ]Q.S Is 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 X7K{P_5l 11.1 短脉冲 238 ]b;a~Y0 11.2 群速度 239 F
]D^e{y 11.3 群速度色散 241 wpN [0^M-0 11.4 啁啾(chirped) 245 @mu{*. &
11.5 光学薄膜—相变 245 y"Fu= 11.6 群延迟和延迟色散 246 WN|_IJR~ 11.7 色度色散 246 yMkR)HY 11.8 色散补偿 249 ,@p4HN* 11.9 空间光线偏移 256 E*T6kp^b 11.10 参考文献 258 XD6Kp[s 12 公差与误差 260 Z3wdk6%:} 12.1 蒙特卡罗模型 260 ?r)>SB3(e 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 )!VJ\ 12.2.1 误差工具 267 =v?V 12.2.2 灵敏度工具 271 U3]/ NV*
12.2.2.1 独立灵敏度 271 4Hyp]07 12.2.2.2 灵敏度分布 275 3:$@DZT$ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 9+ve0P7$ 12.3 参考文献 276 ZBU<L+# 13 Runsheet 与Simulator 277 &09~ D8f' 13.1 原理介绍 277 \jZmu 13.2 截止滤光片设计 277 ".AW 14 光学常数提取 289 Cv>~%< 14.1 介绍 289 4\V/A+<W 14.2 电介质薄膜 289 d8
v9[4 14.3 n 和k 的提取工具 295 H%=;pD>o 14.4 基底的参数提取 302 2XUIC^<@s 14.5 金属的参数提取 306 w0=/V[fs 14.6 不正确的模型 306 t=:5?}J.Q$ 14.7 参考文献 311 SMB&sl 15 反演工程 313 F|VHr@% 15.1 随机性和系统性 313 1:DA{ejS 15.2 常见的系统性问题 314 0#8lg@e8 15.3 单层膜 314 rOUQg_y 15.4 多层膜 314 eln$,zK/b 15.5 含义 319 71<4q{n 15.6 反演工程实例 319 MfI+o<{r 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ZX+0{E8a 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Om7 '_} 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 h3\(660>$ 16.1 光学性质的热致偏移 329 +WR'\15u 16.2 应力工具 335 (yT&&_zY4 16.3 均匀性误差 339 j{tr''yN 16.3.1 圆锥工具 339 Q0ezeo 16.3.2 波前问题 341 ei]Q<vT6 16.4 参考文献 343 !qH)ttW 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 Bbb":c6w0 17.1 引言 345 ]E.FBGT 17.2 操作数 345 #w^Ot*{!N 18 如何在Function中编写脚本 351 _S &6XNV 18.1 简介 351 WwKpZ67$R 18.2 什么是脚本? 351 a9 S&n5 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 .",BLuce 18.4 基础 352 Mg^A,8lrm 18.4.1 Classes(类别) 352 G%jV}7h 18.4.2 对象 352 Hp(41Eb, 18.4.3 信息(Messages) 352 5Tidb$L;Du 18.4.4 属性 352 }Vm'0 18.4.5 方法 353 :de4Fje/4y 18.4.6 变量声明 353 }U%E-:
18.5 创建对象 354 =(,kjw88w 18.5.1 创建对象函数 355 mxc^IRj 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 JV2[jo}0N 18.5.3 丢弃对象 356 ady
SwB 18.5.4 总结 356 sG|,#XQ 18.6 脚本中的表格 357 $S/WAw,/ 18.6.1 方法1 357 0o.h{BN 18.6.2 方法2 357 dleLX%P 18.7 2D Plots in Scripts 358 d(Yuz#Qcrh 18.8 3D Plots in Scripts 359 sv\=/F@n 18.9 注释 360 ~dsx|G?p 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 VdL }$CX$ 18.11 一个更高级的脚本 362 yaI jXv 18.12 <esc>键 364 ,mD$h?g 18.13 包含文件 365 JQ]MkP 18.14 脚本被优化调用 366 P^BSl7cT 18.15 脚本中的对话框 368 @Js@\)P79 18.15.1 介绍 368 <V8=*n"mR 18.15.2 消息框-MsgBox 368 OtT*)8*c 18.15.3 输入框函数 370 0|rdI,z 18.15.4 自定义对话框 371 3/su 1M[ 18.15.5 对话框编辑器 371 Dx P65wU 18.15.6 控制对话框 377 7:C2xC 18.15.7 更高级的对话框 380 0}Qd 18.16 Types语句 384 V4g vKWc 18.17 打开文件 385 cyI:dvg
18.18 Bags 387 DeN$YE#* 18.13 进一步研究 388 g*%o%Lv 19 vStack 389 <ou=f' 19.1 vStack基本原理 389 {~=gKZ:-@ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 evyA#~o 19.3 五棱镜 393 Xpmi(~n 19.4 光束距离 396 z8PV&o 19.5 误差 399 H)+wkR!~ 19.6 二向分色棱镜 399 MWn[]'TpH 19.7 偏振泄漏 404 ?=Mg"QU 19.8 波前误差—相位 405 f[$Z<:D-ve 19.9 其它计算参数 405 4}^\&K&t{ 20 报表生成器 406 ;q2e[ y 20.1 入门 406 yjChnp
Cc 20.2 指令(Instructions) 406 j&,%v+x 20.3 页面布局指令 406 3.04Toq! 20.4 常见的参数图和三维图 407 ]=5D98B 20.5 表格中的常见参数 408 e]l.m!,r 20.6 迭代指令 408 k/%n7 ;1 20.7 报表模版 408 be&,V_F 20.8 开始设计一个报表模版 409 L?hWH0^3 21 一个新的project 413 ARid 21.1 创建一个新Job 414 ]~m2#g% 21.2 默认设计 415 eJZt&|7N 21.3 薄膜设计 416 ]1KF3$n0 21.4 误差的灵敏度计算 420 </h}2x 21.5 显色指数计算 422 myWa>Mvb 21.6 电场分布 424 {(`xA,El 后记 426 =q*j". < &28%~&L )u5+<OG}= 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 7Dx<Sr! h@(S];. 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] ;rh@q4# k*= #XbX 目 录 ?{-y? %y _WHGd&u ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 G9a6 $K)b 第1章 介绍 ..........................................................1 |1"n\4$ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 | <l=i( 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 NT [~AK9M 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 i}e OWi 第5章 软件结构 ............................................................... 21 g
E;o_~ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 THDyb9_g 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 $r=tOD4; 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ."JtR
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 A;C)#Q/ 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 G>c:+`KS 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 +`~6Weay 第12章 优化和综合 ..................................................................120 yixAG^< |