线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 PYl(~Vac
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 VGY#ph% 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 >uuP@j 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 hgCeU+ H 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 mB.kV Ve0 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) c_]$UM[7L 特邀专家介绍 *ws!8-)fH [attachment=121028] -So&?3,\A@ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 }MDu QP] 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 O1Gd_wDC/i 课程概要 B1oy,' 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 dQR2!yHEq 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 _'k?9eN` 课程大纲 %Lexu)odW 1. Essential Macleod软件介绍 EnJAHgRV;e 1.1 介绍软件 0sq1SHI{ 1.2 创建一个简单的设计 `Njv#K} U 1.3 绘图和制表来表示性能 sT9P 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 mfO:#]K 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) l|`%FB^ k 1.6 特定设计的公式技术 9N|O*h1;u 1.7 交互式绘图 MEbx{XC 2. 光学薄膜理论基础 `wI<LTzXS 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @4m_\]Wy 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B&_ 62` 3. 材料管理 &%`IPhbT 3.1 材料模型 9)Y]05us 3.2 介质薄膜光学常数的提取 rp.S4;=Q 9 3.3 金属薄膜光学常数的提取 C:g2E[# 3.4 基板光学常数的提取 ,ijgq EN 4. 光学薄膜设计优化方法 zPU&
}7 4.1 参考波长与g @6>R/] 4.2 四分之一规则 >~I~!i3 4.3 导纳与导纳图 MI|DOp 4.4 斜入射光学导纳 ^u#!Yo.!( 4.5 光学薄膜设计的进展 "xlf6pm% 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 lNQ t 4.6.1 优化目标设置 $!Z6?+ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) o;mXk2 4.6.3 膜层锁定和链接 \pB"R$YZ6 5. Essential Macleod中各个模块的应用 ="RDcf/ 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 4_J*
0=U 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Xvm.Un<N 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 A"k6n\!n; 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 b5
YE4h8% 5.5 如何在Function中编写脚本 Deq~" 6. 光学薄膜系统案例 {j[[E/8N!y 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 5.#r\' Z# 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 to^ &: 6.3 Stack应用范例说明 &F[/@ 7. 薄膜性能分析 Y4}!9x 7.1 电场分布 I@a7AuOw 7.2 公差与灵敏度分析 f3s0.G#l 7.3 反演工程 Rk56H 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ZrnZ7,!@ 8. 真空技术 cu]2`DF 8.1 常用真空泵介绍 g1L$+xD^ 8.2 真空密封和检漏 %xf6U>T 9. 薄膜制备技术 }8p;w T! 9.1 常见薄膜制备技术 ,IxAt&kN 10. 薄膜制备工艺 -*k%'Gr 10.1 薄膜制备工艺因素 (1%u`#5n-N 10.2 薄膜均匀性修正技术 49~5U+x; 10.3 光学薄膜监控技术 O82T| 0uw 11. 激光薄膜 TS)p2# 11.1 薄膜的损伤问题 |:`f#H 11.2 激光薄膜的制备流程 Zgt, 'T 11.3 激光薄膜的制备技术 HQK%Y2S 12. 光学薄膜特性测量 FD*`$.e3\ 12.1 薄膜光谱测量 q/Ba#?sen 12.2 薄膜光学常数测量 P49lE 12.3 薄膜应力测量 +?[TH?2c+ 12.4 薄膜损伤测量 6 DD^h:*> 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 lz
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] "wmQ,=
内容简介 Z_D8}$! Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /}-]n81m 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 kWc%u-_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~d^+yR- ]y@9z b
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 p@/!+$^{ 目录 NwoBM6 # Preface 1 2I(0EBW 内容简介 2 w#U3h]>, 目录 i dY68wW>d| 1 引言 1 ;FQAL@"Yj 2 光学薄膜基础 2 R8F[
7&( 2.1 一般规则 2 Pon 2!$ 2.2 正交入射规则 3 '0 GCaL*Sd 2.3 斜入射规则 6 mQtGE[ 2.4 精确计算 7 ;hJTJMA6/6 2.5 相干性 8 2)h
i( 2.6 参考文献 10 BhLYLlXPY 3 Essential Macleod的快速预览 10 nV,qC.z 4 Essential Macleod的特点 32 oqB(l[%z2 4.1 容量和局限性 33 rV)mcfw:Z 4.2 程序在哪里? 33 gpVZZ:~ 4.3 数据文件 35 mEv<r6qDT 4.4 设计规则 35 m,,-rC 4.5 材料数据库和资料库 37 t@QaxZIlt; 4.5.1材料损失 38 T|Sz~nO}f 4.5.1材料数据库和导入材料 39 b/5?)!I 4.5.2 材料库 41 Ovv~ymj 4.5.3导出材料数据 43 ]C3{ _?= 4.6 常用单位 43 Oj\lg2Ck
4.7 插值和外推法 46 q|b#=Af]g 4.8 材料数据的平滑 50 OGh9^,v 4.9 更多光学常数模型 54 [0El z@.C 4.10 文档的一般编辑规则 55 M9HM: 4.11 撤销和重做 56 ^](sCE7 4.12 设计文档 57 [U]U *x 4.10.1 公式 58 _(5SiK R 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 / @X! 4.10.3 沉积密度 59 .C$S
DhJ~ 4.10.4 平行和楔形介质 60 w&hgJ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 *BH*
4.10.4 性能 61 $[T^S 4.10.5 保存设计和性能 64 *%7 [{Loz 4.10.6 默认设计 64 CeSr~Ikg| 4.11 图表 64 >N62t9Ll[ 4.11.1 合并曲线图 67 c [sydl 4.11.2 自适应绘制 68 B\r2M`N5 4.11.3 动态绘图 68 {mrTpw 4.11.4 3D绘图 69 .LhIB? 4.12 导入和导出 73 F{0Z 4.12.1 剪贴板 73 d&4ve Lu 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 U<gMgA 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 K#_&}C^-jY 4.13 背景 77 L15?\|':Y 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 kfr' P u 4.15 生成Rugate 84 =e](eA; 4.16 参考文献 91 X0Zqx1 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 B(7oHj.i2 5.1 Jobs 92 1fm4:xHH 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Q^prHn*@ 5.3 输入材料 94 Q@?8- 5.4 设计数据文件夹 95 C]414Ibi 5.5 默认设计 95 < aJl
i 6 细化和合成 97 x? tC2L 6.1 优化介绍 97 _8A 6.2 细化 (Refinement) 98 U$v|c%6 6.3 合成 (Synthesis) 100
I{tY;b'w 6.4 目标和评价函数 101 ]6L; 6.4.1 目标输入 102 :+NZW9_ 6.4.2 目标 103 7rQwn2XD{ 6.4.3 特殊的评价函数 104 0b6jGa 6.5 层锁定和连接 104 )12.W=p 6.6 细化技术 104 /4/'&tY 6.6.1 单纯形 105 H
xs'VK* 6.6.1.1 单纯形参数 106 *o.f<OwOz 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 hb#Nm6 6.6.2.1 Optimac参数 108 86Hg?!<i. 6.6.3 模拟退火算法 109 ve($l"T 6.6.3.1 模拟退火参数 109 vZ,DJ//U, 6.6.4 共轭梯度 111 `NYu|:JK: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 OL]P(HRm]~ 6.6.5 拟牛顿法 112 2(LF @xb 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @W}cM 6.6.6 针合成 113 'yxN1JF 6.6.6.1 针合成参数 114 H3-(.l[!b) 6.6.7 差分进化 114 B-^r0/y; 6.6.8非局部细化 115 Zc 9@G- 6.6.8.1非局部细化参数 115 <G|i!Pm 6.7 我应该使用哪种技术? 116 pHQrjEF* 6.7.1 细化 116 9d&@;&al 6.7.2 合成 117 YBh|\ 6.8 参考文献 117 "uCO?hv0 7 导纳图及其他工具 118 $B%wK`J 7.1 简介 118 GWFF.Mo^ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ` _aX>fw 7.2.1 四分之一波长规则 119 Drm#z05i[g 7.2.2 导纳图 120 /2^"c+/'p 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (P!r^87 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 JLd-{}A""- 7.5 斜入射导纳图 141 "5<:Dj/W 7.6 对称周期 141 &1/OwTI4J 7.7 参考文献 142 $7h]A$$Fv 8 典型的镀膜实例 143 L~oy|K67 8.1 单层抗反射薄膜 145 Hjhgu= 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 P:D;w2'Q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 UE9RrfdN 8.4 W-膜层 148 <OY (y#x 8.5 V-膜层 149 {zX]41T 8.6 V-膜层高折射基底 150 e"oTlB 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 o|:c{pwq 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 dG&^M".( 8.9 四层抗反射薄膜 153 '0-YFx'U0V 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 umT * 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "@z X{^: 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 vB74r]'F 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ai%*s&0/Y 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 O22Q
g 8.15十五层宽带抗反射膜 159 )ifjK6* 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 J':X$>E| 8.17 1/4波长堆栈 162 $RH. 8.18 陷波滤波器 163 ;b{yu| 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 LBxmozT 8.20 褶皱 165 {Qi J-[q 8.21 消偏振分光器1 169 BLN|QaZ 8.22 消偏振分光器2 171 rJZR8bo 8.23 消偏振立体分光器 172 *b'4>U 8.24 消偏振截止滤光片 173 cY5w,.Q/! 8.25 立体偏振分束器1 174 ]p8zT|bv 8.26 立方偏振分束器2 177 xi51,y+(5 8.27 相位延迟器 178 3CzF@t;5 8.28 红外截止器 179 !4-4i 8.29 21层长波带通滤波器 180 NnH]c+ 8.30 49层长波带通滤波器 181 VwudNjL 8.31 55层短波带通滤波器 182 #x qiGK 8.32 47 红外截止器 183 [#=IKsO'R6 8.33 宽带通滤波器 184 xa.tH)R 8.34 诱导透射滤波器 186 O8OAXRt/Y 8.35 诱导透射滤波器2 188 9tX+n{i 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 &szYa-K* 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 KomMzG: 8.35 增益平坦滤波器 193 6hMKAk 8.38 啁啾反射镜 1 196 2E8G5?qe) 8.39 啁啾反射镜2 198 ^T:L6: 8.40 啁啾反射镜3 199 }DQTy.d;P 8.41 带保护层的铝膜层 200 Ngj&1Ta&[ 8.42 增加铝反射率膜 201 +h@.P B^`~ 8.43 参考文献 202 tr5j<O 9 多层膜 204 ollsB3]] 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 ]1FLG*sB 9.2 内部透过率 204 QM![tZt%; 9.3 内部透射率数据 205 ua"2nVxK_K 9.4 实例 206 q{&\nCy 9.5 实例2 210 l?QA;9_R' 9.6 圆锥和带宽计算 212 tLi91)oG 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 l\F71pwSI 10 光学薄膜的颜色 216 [YP{%1*RM 10.1 导言 216 CT5s`v!s 10.2 色彩 216 /oW]? 9 10.3 主波长和纯度 220 iciKjXJ: 10.4 色相和纯度 221 hxzA1s%~ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 U?an\rv 10.6 色差 226 GeDI\- 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 C{,^4Eh3r 10.8 颜色渲染指数 234 {G0=A~ 10.9 色差计算 235 D2g/P8.<A 10.10 参考文献 236 wZZ~!"O& 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 re_nb)4g 11.1 短脉冲 238 obE8iG@H 11.2 群速度 239 =n5n 11.3 群速度色散 241 O/|))H?C 11.4 啁啾(chirped) 245 AT)b/ycC 11.5 光学薄膜—相变 245 m%
3 D 11.6 群延迟和延迟色散 246 Ml$<x"Q 11.7 色度色散 246 4(sHUWT 11.8 色散补偿 249 ?m5EXe 11.9 空间光线偏移 256 7*j!ZUzp 11.10 参考文献 258 P3`$4p? 12 公差与误差 260 7UY4* j|[C 12.1 蒙特卡罗模型 260 ^D5Jqh)
12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 YGC%j 12.2.1 误差工具 267 iMt3h8 12.2.2 灵敏度工具 271 .b+ix=: 12.2.2.1 独立灵敏度 271 'B{FRK 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ]iGeqwT 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ~uH_y- 12.3 参考文献 276 2cUT bRm 13 Runsheet 与Simulator 277 0Dna+V/jI 13.1 原理介绍 277 yhYF "~CM 13.2 截止滤光片设计 277 jQzl!f1c3 14 光学常数提取 289 Nf^<pT[* 14.1 介绍 289 E(j#R" 14.2 电介质薄膜 289 'prHXzi(h 14.3 n 和k 的提取工具 295 :^Pks R 14.4 基底的参数提取 302 v+"4YIN 14.5 金属的参数提取 306 z4:<?K 14.6 不正确的模型 306 ,5"(m?[m 14.7 参考文献 311 \7i_2|w 15 反演工程 313 ?WHf%Ie2( 15.1 随机性和系统性 313 &}[P{53sr 15.2 常见的系统性问题 314 *Q^z4UY 15.3 单层膜 314 :u./"[G 15.4 多层膜 314 7]xDMu'^&f 15.5 含义 319 -1Dq_!i 15.6 反演工程实例 319 @U18Dj[ 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 &G\mcstX 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Nwz?*~1 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 oR&z,%0wMK 16.1 光学性质的热致偏移 329 VO8rd>b4 16.2 应力工具 335 <BED&j!qvP 16.3 均匀性误差 339 HB8s[]A:D 16.3.1 圆锥工具 339 Nw'03Jzx_ 16.3.2 波前问题 341 }VZExqm) 16.4 参考文献 343 HK8sn1j 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345
_%-
+"3Ll 17.1 引言 345 N"G aQ 17.2 操作数 345 {?eUAB< 18 如何在Function中编写脚本 351 IGcq*mR= 18.1 简介 351 q:/df]Ntt 18.2 什么是脚本? 351 dv>n38&mDQ 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 '1:) q 18.4 基础 352 3{$7tck, 18.4.1 Classes(类别) 352 M/quswn1 18.4.2 对象 352 a&x:_vv 18.4.3 信息(Messages) 352 OQ&N]P2p 18.4.4 属性 352 VFL^-tXnA^ 18.4.5 方法 353 :R,M Y"( 18.4.6 变量声明 353 iCF},W+ 18.5 创建对象 354 yl~_~<s6 18.5.1 创建对象函数 355 ZrTB% 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 )&c#?wx'w 18.5.3 丢弃对象 356 )"pvF8JR%3 18.5.4 总结 356 ^;RK-) 18.6 脚本中的表格 357 3NtUB;! 18.6.1 方法1 357 xKG7d8= 18.6.2 方法2 357 w!7ApEH1 18.7 2D Plots in Scripts 358 cdt9hH`Cd 18.8 3D Plots in Scripts 359 Bi:lC5d5? 18.9 注释 360 Bzrnmz5S 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 KOS0Du 18.11 一个更高级的脚本 362 f\<r1 18.12 <esc>键 364 (QiA5!wg 18.13 包含文件 365 g0tnt)] 18.14 脚本被优化调用 366 !k)6r6 18.15 脚本中的对话框 368 l~rj7f; 18.15.1 介绍 368 25)9R^ 18.15.2 消息框-MsgBox 368 cjEqN8 18.15.3 输入框函数 370 y4Jc|) 18.15.4 自定义对话框 371 [34N/;5 18.15.5 对话框编辑器 371 v.Ba 18.15.6 控制对话框 377 {*7MT}{( 18.15.7 更高级的对话框 380 Q v9q~l 18.16 Types语句 384 2'Dl$DH 18.17 打开文件 385 = ^NvUrK 18.18 Bags 387 'dwT&v]@ 18.13 进一步研究 388 Plp.\N%f3 19 vStack 389 J,yKO(}<C 19.1 vStack基本原理 389 = {O ~ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 [s>3xWZ+a 19.3 五棱镜 393 ( 2HM"Pd 19.4 光束距离 396 {Yj5Mj|# 19.5 误差 399 ETdXk&AN 19.6 二向分色棱镜 399 \X8b!41 19.7 偏振泄漏 404 x%}D+2ro-t 19.8 波前误差—相位 405 K3?5bT_{ 19.9 其它计算参数 405 VGV-t 20 报表生成器 406 zeHF-_{ 20.1 入门 406 !%G]~ 20.2 指令(Instructions) 406 r)iEtT!p* 20.3 页面布局指令 406 <k:I2LF_ 20.4 常见的参数图和三维图 407 |h]V9= 20.5 表格中的常见参数 408 d.wGO]" 20.6 迭代指令 408 gJ6`Kl985O 20.7 报表模版 408 pLB2! + 20.8 开始设计一个报表模版 409 h<G4tjtk 21 一个新的project 413 q-JTGCFl 21.1 创建一个新Job 414 o+a= 21.2 默认设计 415 kv:9Fm\$ 21.3 薄膜设计 416 N(&{~*YE 21.4 误差的灵敏度计算 420 4XN
\p 21.5 显色指数计算 422 )d2Z g 21.6 电场分布 424 $o[-xNn1 后记 426 m-AF&( ;K FU3K?A
B <~smBd 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 cE]z Tu?! #rlgeHG!fs 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] 7rjl-FUA~ =l`)b 目 录 68tyWd} d51lTGH7Z ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 iq; |
i! 第1章 介绍 ..........................................................1 {"ST
hTZ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 yLa@27T\A 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 9-42A7g^C 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ,;g%/6X 第5章 软件结构 ............................................................... 21 T2e-RR 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 (T%F^s5D 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 KL&/Yt 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 /Y0~BQC7! 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 +4?Lwp'q 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 6 4_}"fU 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Fw<"]*iu 第12章 优化和综合 ..................................................................120 NL9.J@"b 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 uavATnGO{B 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 4=yzf 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 cgb>Naa< 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 FOiwA.:0 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 r[L.TX3Ah= 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ;+ hh|NiQ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ~apt,hl 第20章 运行表单 .................................................................... 251 WcN4ff- 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 -<g9) CV5 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 /@9Q:'P 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 A({czHLhN5 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 j
3<Ci {3 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 zj`c%9N+ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 n8,%<!F^ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 8~'cP? 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Wmbc
`XC 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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