线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 =wh[D$n$~
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 |fgUW. 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 Kyh>O)"G^% 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ^cYB.oeu 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 %
"(&a'B 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) ]Lub.r 特邀专家介绍 $X#y9<bW [attachment=121028] ;7P'>j1?U 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 <l<O2 l 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 /}m)FaAi 课程概要 Te-p0x?G. 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 7l53&,s 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 +K1M&( 课程大纲 ZM.'W}J{* 1. Essential Macleod软件介绍 #d@wjQ0DW 1.1 介绍软件 Ol>q(-ea 1.2 创建一个简单的设计 3(WijtH 1.3 绘图和制表来表示性能 5s[nE\oaG 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 pp@
Owpb 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ~m6=s~Vn 1.6 特定设计的公式技术 $,}jz.R@ 1.7 交互式绘图 0nb%+],pX 2. 光学薄膜理论基础 nQiZ6[L 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 <o%T] 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B->AY.&j 3. 材料管理 _9h$8(wjn 3.1 材料模型 no*) M7 3.2 介质薄膜光学常数的提取 LCB-ewy#E 3.3 金属薄膜光学常数的提取 %hVR|K|J 3.4 基板光学常数的提取 8qyEHUN2q 4. 光学薄膜设计优化方法 :A zT=^S 4.1 参考波长与g VRd7H.f,A6 4.2 四分之一规则 gA2Wo+\^bq 4.3 导纳与导纳图 GKt."[seV 4.4 斜入射光学导纳 Y}ogwg& 4.5 光学薄膜设计的进展 (GC]= 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]DNPG" 4.6.1 优化目标设置 q_b!+Y 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ?\o~P 4.6.3 膜层锁定和链接 hP"2X"kz& 5. Essential Macleod中各个模块的应用 &D<R;>iI 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 v #+ECx 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 dbby.% 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 QL7b<xDQC* 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 /JR+WmO 5.5 如何在Function中编写脚本 ,31 ?
Aa 6. 光学薄膜系统案例 83vMj$P 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Jy(G
A 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 yx]9rD1cz 6.3 Stack应用范例说明 YlrN^rO 7. 薄膜性能分析 3]*Kz*i 7.1 电场分布 G8av5zR 7.2 公差与灵敏度分析 4LTm&+(5 7.3 反演工程 es)^^kGj6f 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 '7?Y+R@|L 8. 真空技术 flmQNrC.8 8.1 常用真空泵介绍 .!o]oM
U/ 8.2 真空密封和检漏 ng%[yY 9. 薄膜制备技术 eh9?GUr5 9.1 常见薄膜制备技术 ^\}qq>_ 10. 薄膜制备工艺 *`H*@2 10.1 薄膜制备工艺因素 #~
x7G
10.2 薄膜均匀性修正技术 aKj|gwo! 10.3 光学薄膜监控技术 mh3S?Uc 11. 激光薄膜 /yI4;:/ 11.1 薄膜的损伤问题 O*~,L6# } 11.2 激光薄膜的制备流程 Z}S[fN8 11.3 激光薄膜的制备技术 Skt-5S# 12. 光学薄膜特性测量 kE:[6reG 12.1 薄膜光谱测量 7"(Zpu 12.2 薄膜光学常数测量 +9Tc.3vQ 12.3 薄膜应力测量 IhNX~Jg'^ 12.4 薄膜损伤测量 \GL] I. 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 cACIy yQ
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] c e;7
内容简介 LSC[S: Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 "
aG6u^% 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 <U3X4)r 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Ih.+-!w <e UsMo<
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 a
8k2*u 目录 n[jXqFm!` Preface 1 H^-Y]{7 内容简介 2 kPX+n+$ 目录 i z 206fF 1 引言 1 U6&`s%mIa 2 光学薄膜基础 2 q=X<QhK 2.1 一般规则 2 $}&a*c> 2.2 正交入射规则 3 uz!8=,DFw 2.3 斜入射规则 6 #Pg#\v|7#> 2.4 精确计算 7 $]DuO1H./ 2.5 相干性 8 g4ZUh@b~ 2.6 参考文献 10 Jinh#iar 3 Essential Macleod的快速预览 10 TanWCt4r 4 Essential Macleod的特点 32 lq9|tt6Z 4.1 容量和局限性 33 _mqU:?Q5 4.2 程序在哪里? 33 bYP8 4.3 数据文件 35 jF?0,g 4.4 设计规则 35 3=
=["hO 4.5 材料数据库和资料库 37 b=EI?XwJ 4.5.1材料损失 38
fJ*^4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ":/c|! 4.5.2 材料库 41 `Q*`\-8J 4.5.3导出材料数据 43 E>_Rsw * 4.6 常用单位 43 77M!2S_E 4.7 插值和外推法 46 RW&o3_Ua 4.8 材料数据的平滑 50 6u"wgX]H 4.9 更多光学常数模型 54 8w:ay,= 4.10 文档的一般编辑规则 55 ~<_#%R! 4.11 撤销和重做 56 ;{I9S' 4.12 设计文档 57 ?^~ZsOd8B
4.10.1 公式 58 qArR5OJ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /l7 %x. 4.10.3 沉积密度 59 XCI 4.10.4 平行和楔形介质 60 Iy_5k8] 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 &oMEz 0 4.10.4 性能 61 %G!!0V! 4.10.5 保存设计和性能 64 hrKeOwKHU 4.10.6 默认设计 64 Qf_N,Bq{a 4.11 图表 64 lj]M 1zEz& 4.11.1 合并曲线图 67 +t,b/K(?] 4.11.2 自适应绘制 68 j55_wx@cA 4.11.3 动态绘图 68 4pL'c@' 4.11.4 3D绘图 69 q?LOtN? o 4.12 导入和导出 73 3Ws (],Q 4.12.1 剪贴板 73 }Cu:BD.zQ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Y7S1^'E
3 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 o`CM15d*7o 4.13 背景 77 #K^hKx9 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 5mAb9F8@ 4.15 生成Rugate 84 Q9cSrU[$ 4.16 参考文献 91 3N > V
sl 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Qb^{` 5.1 Jobs 92 ?eTZ>o.p/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 @]Vcl"t 5.3 输入材料 94 - egTZW- 5.4 设计数据文件夹 95 #f(a,,Uu' 5.5 默认设计 95 @|(cr: (=H 6 细化和合成 97 H{=]94 6.1 优化介绍 97 Pjh;;k|V 6.2 细化 (Refinement) 98 DQ0S]:tC 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~;oXLCL0}) 6.4 目标和评价函数 101 vL _yM 6.4.1 目标输入 102 JcRxNH
)<" 6.4.2 目标 103 N@PuC> 6.4.3 特殊的评价函数 104 jIaaNO) 6.5 层锁定和连接 104 ?u2\*@C 6.6 细化技术 104 mZU
L}[xf 6.6.1 单纯形 105 7z$53z 6.6.1.1 单纯形参数 106 S(3h{Y"# 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ubB1a_7 6.6.2.1 Optimac参数 108 |gV~U~A] 6.6.3 模拟退火算法 109 6`2i'flv 6.6.3.1 模拟退火参数 109 JX'}+.\ 6.6.4 共轭梯度 111 P:g!~&Q 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 6c+29@ 6.6.5 拟牛顿法 112 JA{kifu0+ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -)%\$z 6.6.6 针合成 113 qdQ4%,E[ 6.6.6.1 针合成参数 114 y={ k7 6.6.7 差分进化 114 f IV"U 6.6.8非局部细化 115 UZ/LR 6.6.8.1非局部细化参数 115 G!`%.tH 6.7 我应该使用哪种技术? 116 g Nz 6.7.1 细化 116 vgc~%k62c 6.7.2 合成 117 8/2Wq~& 6.8 参考文献 117 Dz hLb8k 7 导纳图及其他工具 118 dZ"}wKbO 7.1 简介 118 t[k ['<G 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Sy?^+JdM/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 &LM@xt4"^[ 7.2.2 导纳图 120 7r,GdP . 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HpbwW=;V 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 W+u@UJi 7.5 斜入射导纳图 141 1<h@^s ; 7.6 对称周期 141 x=0Ak'1M 7.7 参考文献 142 2G|}ENC 8 典型的镀膜实例 143 .+2:~%v6 8.1 单层抗反射薄膜 145 K:XXtG 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 gD%o0jt" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [W$x5|Z}Q 8.4 W-膜层 148 xe OfofC(l 8.5 V-膜层 149 )j]f
]8 8.6 V-膜层高折射基底 150 h_X'O3r 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 *} *HXE5 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 vy
[7I8f{ 8.9 四层抗反射薄膜 153 -DGuaUU 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ?/}IDwuh 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4Tuh]5 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 <> HI(6\@Z 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 a@|`!<5 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 + d>2 ' 8.15十五层宽带抗反射膜 159 6k')12~' 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 "@ZwDg` 8.17 1/4波长堆栈 162 v3~`1MM 8.18 陷波滤波器 163 ;U0w<>4L 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 _7v4S/V 8.20 褶皱 165 `-s]dq 8.21 消偏振分光器1 169 Hv"qRuQ?[ 8.22 消偏振分光器2 171 o7tlkSZ 8.23 消偏振立体分光器 172 _ y'g11 \
8.24 消偏振截止滤光片 173 aa]| 8.25 立体偏振分束器1 174 Lz9|"F"V 8.26 立方偏振分束器2 177 R8.@5g_ 8.27 相位延迟器 178 FBi&MZ` 8.28 红外截止器 179 ER`;0#3[9u 8.29 21层长波带通滤波器 180 9-#=xE9'U 8.30 49层长波带通滤波器 181 t`6~ud> 8.31 55层短波带通滤波器 182 "@+Z1k-8U 8.32 47 红外截止器 183 R74RJi& 8.33 宽带通滤波器 184 M;g"rpM 8.34 诱导透射滤波器 186 d|tNn@jN 8.35 诱导透射滤波器2 188 " u]X/
{L 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 +IGSOWL
8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 L.9@rwfI 8.35 增益平坦滤波器 193 DBfq9%J _ 8.38 啁啾反射镜 1 196 z/o&r`no 8.39 啁啾反射镜2 198 rJ4A9d3: 8.40 啁啾反射镜3 199 4fL>Ou[YuX 8.41 带保护层的铝膜层 200 ckdCd
J 8.42 增加铝反射率膜 201 YFcMU5_F 8.43 参考文献 202 mg3YKHNG 9 多层膜 204 @ uL4'@Ej 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 nwJub$5 9.2 内部透过率 204 IYr4 9.3 内部透射率数据 205 G`v(4`tA 9.4 实例 206 2j^8{Agz 9.5 实例2 210 :2t?0YR 9.6 圆锥和带宽计算 212 %B>>J% 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 1N.weey}W 10 光学薄膜的颜色 216 ~c,+)69"T 10.1 导言 216 RLh%Y>w 10.2 色彩 216 b5
AP{
# 10.3 主波长和纯度 220 sVS),9\} 10.4 色相和纯度 221 30cb+)h( 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 AhVV 10.6 色差 226 Y0Rk:Njc 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 r*Z p-} 10.8 颜色渲染指数 234 0$R}_Ok 10.9 色差计算 235 F @!9rl' 10.10 参考文献 236 Xj6?,J 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 AbMf8$$3SH 11.1 短脉冲 238 t;
#D,gx 11.2 群速度 239 G{'`L)~3N 11.3 群速度色散 241 bmRp)CYd 11.4 啁啾(chirped) 245 eeUEqM$7EX 11.5 光学薄膜—相变 245 K{G\=yJ(( 11.6 群延迟和延迟色散 246 a[BIY&/Q 11.7 色度色散 246 -
[vH4~ 11.8 色散补偿 249 5F5)Bh 11.9 空间光线偏移 256 H1ox>sC 11.10 参考文献 258 4:s!mHcz 12 公差与误差 260 y(6*)~Dh 12.1 蒙特卡罗模型 260 )K0rPnYV 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 u3vw[k 12.2.1 误差工具 267 hRktvO)K 12.2.2 灵敏度工具 271 3AC/;WB9 12.2.2.1 独立灵敏度 271 2$>
<rB 12.2.2.2 灵敏度分布 275 u85Uy
yN 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 J+nUxF;EE 12.3 参考文献 276 wn>?r
?KIB 13 Runsheet 与Simulator 277 qJJ~#W) 13.1 原理介绍 277 ,6T3:qkkvF 13.2 截止滤光片设计 277 Ei\tn`I& 14 光学常数提取 289 \yo)oIi[p 14.1 介绍 289 $-BM`Zt0; 14.2 电介质薄膜 289 I#:4H2H6 14.3 n 和k 的提取工具 295 }woNI 14.4 基底的参数提取 302 #7,;/rtO7 14.5 金属的参数提取 306 iy,jq5uw 14.6 不正确的模型 306 sG k'G573 14.7 参考文献 311 ;fKFmY41 15 反演工程 313 y[~w2a&+ 15.1 随机性和系统性 313 {edjvPlk 15.2 常见的系统性问题 314 l 1Ns~ 15.3 单层膜 314 Q\GSX RP 15.4 多层膜 314 p>0n~e 15.5 含义 319 hT$/ B| 15.6 反演工程实例 319 %@x.km3e2 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 2mPU / 15.6.2 反演工程提取折射率 327 =bl6: 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 47^R 16.1 光学性质的热致偏移 329 jf~-;2 16.2 应力工具 335 KIHr% 16.3 均匀性误差 339 + Awo\;@, 16.3.1 圆锥工具 339 <(dg^; 16.3.2 波前问题 341 2VA mL7) 16.4 参考文献 343 iz\GahK 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 GMYfcZ/,K 17.1 引言 345 nv2p&-e+ 17.2 操作数 345 1usLCG>w{ 18 如何在Function中编写脚本 351 vvcA-k? 18.1 简介 351 jun$CY4 18.2 什么是脚本? 351 z(_#C
s 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 `\#J&N 18.4 基础 352 H.]rH,8 18.4.1 Classes(类别) 352 ~jn~M_}K 18.4.2 对象 352 dhmZ3 ~cW> 18.4.3 信息(Messages) 352 `_5{:
9N$ 18.4.4 属性 352 e?)ic\K 18.4.5 方法 353 hy{1 Ea/T 18.4.6 变量声明 353 L<MH: 18.5 创建对象 354 |$a!Zx94^ 18.5.1 创建对象函数 355 E)utrO R 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 tc<ly{ 1c 18.5.3 丢弃对象 356 7C@%1kL 18.5.4 总结 356 O7D61~G] 18.6 脚本中的表格 357 tw%z!u[a 18.6.1 方法1 357 Q"=$.M~ 18.6.2 方法2 357 Sk|DVV$ 18.7 2D Plots in Scripts 358 SK G!DKQ 18.8 3D Plots in Scripts 359 ;7w4BJcq'] 18.9 注释 360 ,f?+QV\T. 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 S[5e,Ew 18.11 一个更高级的脚本 362 /D&7 \3} 18.12 <esc>键 364 55#s/`gd)^ 18.13 包含文件 365 Z@{e\sZ) 18.14 脚本被优化调用 366 `c%{M4bF\ 18.15 脚本中的对话框 368 $%BNoSK 18.15.1 介绍 368 kKEs >a 18.15.2 消息框-MsgBox 368 bAZx*qE= 18.15.3 输入框函数 370 nN$aZSb` 18.15.4 自定义对话框 371 ]3bXJE 18.15.5 对话框编辑器 371 EsKOzl[c: 18.15.6 控制对话框 377 F>/"If# 18.15.7 更高级的对话框 380 xY94v 18.16 Types语句 384 {;| >Qn 18.17 打开文件 385 RDWUy(iX 18.18 Bags 387 C)xM>M_CB 18.13 进一步研究 388 rf]'VJg#3 19 vStack 389 sbV
{RSl 19.1 vStack基本原理 389 rwSmdJ~ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 "0]s|ys6< 19.3 五棱镜 393 =#|K-X0d= 19.4 光束距离 396 a1yGgT a?D 19.5 误差 399 b!3Y<D* 19.6 二向分色棱镜 399 8-cCWoc 19.7 偏振泄漏 404 tEE4"OAy 19.8 波前误差—相位 405 -J\R}9 lIm 19.9 其它计算参数 405 6
r}R%{ 20 报表生成器 406 *
j]"I=D 20.1 入门 406 9E-]S'Z 20.2 指令(Instructions) 406 ?KMGk]_< 20.3 页面布局指令 406 ]p5]n*0X 20.4 常见的参数图和三维图 407 _m2p>(N| 20.5 表格中的常见参数 408 rI.CCPY~s 20.6 迭代指令 408 pRrokYM
d 20.7 报表模版 408 )$oboAv# 20.8 开始设计一个报表模版 409 y|(C L^( 21 一个新的project 413 {]V+C=` 21.1 创建一个新Job 414 .qGfLvx% 21.2 默认设计 415 I' TprT 21.3 薄膜设计 416 yON";|*\m 21.4 误差的灵敏度计算 420 %MH!L2| 21.5 显色指数计算 422
gUtxyW 21.6 电场分布 424 ,ctm;T1H+ 后记 426 nTQ&nu! +xG Ia!B8$$'RP 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ^DH*\ee tVFydN~ 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] $G}!eV
6 qnCJrY6] 目 录 u/>+cT6} ?4A$9H ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ?@YABl 第1章 介绍 ..........................................................1 ~D1&CT#s 第2章 软件安装 ..................................................... 3 2SV}mK U 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 b^q8s4( 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {sb2r%U!+ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ngI3.v/R 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 rS&"UH?c7 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 yHNx,ra 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 q88;{?T1 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 dDxb}dx8 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ;VW->ia6 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ]**h`9MF
第12章 优化和综合 ..................................................................120 w+W!dM 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 QuWWa|g^. 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 "f |xIK`c 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 uZhY)o*]@ 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 -lqsFaW 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 J_eu(d[9 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 yi&6HNb 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 2.PZtl 第20章 运行表单 .................................................................... 251 3[;fO_ R 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 vzH"O= 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 yhG%@vSq 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 4157!w'\y 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 !LAC_b 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 qayM0i>> 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 :pXY/Pa 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 tQ7:4._ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 u/ZV35z 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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