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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 FmF[S&gFRs  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 -f:PgBj  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 *'-C/  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 BuAzO>=  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 F#Pn]  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
GU1cMe  
特邀专家介绍 xrY >Or  
[attachment=121028] Ed;!A(64r  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 <o|k'Y(-  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 s)3CosU  
课程概要 MUtM^uY  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ? YIe<  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 pE+:tMH;  
课程大纲 Zs0;92WL  
1. Essential Macleod软件介绍 RxV " ,  
1.1 介绍软件 /18fpH|  
1.2 创建一个简单的设计 &{wRBl#  
1.3 绘图和制表来表示性能 \%]lsml  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 tqB6:p-%  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) h?ijZHG $  
1.6 特定设计的公式技术 v13\y^t  
1.7 交互式绘图 d7&d FvG  
2. 光学薄膜理论基础 i 8cmT+}>  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $%&OaAg  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 HpeU'0u0VK  
3. 材料管理 8{icY|:MTN  
3.1 材料模型  fOsvOC  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 4 8; b  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 [z_z tK1  
3.4 基板光学常数的提取 M0vX9;J  
4. 光学薄膜设计优化方法 u]9 #d^%V  
4.1 参考波长与g cuf]-C1_  
4.2 四分之一规则 - ?  i  
4.3 导纳与导纳图 "~Kph0-  
4.4 斜入射光学导纳 +>Y]1IlI  
4.5 光学薄膜设计的进展 J5f}-W@  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ?%Q=l;W.  
4.6.1 优化目标设置 QR-pji y  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Ya<V@qd  
4.6.3 膜层锁定和链接 a>Aq/=  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 &(o&Y  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 D^t: R?+  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 %\'G2  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 x>4p6H{]0'  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 hv|-`}#0  
5.5 如何在Function中编写脚本 EuVA"~PA  
6. 光学薄膜系统案例 '['x'G50  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ]_!NmB_3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 w&hCt c  
6.3 Stack应用范例说明 d?/g5[  
7. 薄膜性能分析 x A*6Z)Y  
7.1 电场分布 &[PA?#I`  
7.2 公差与灵敏度分析 zqXDD; w3  
7.3 反演工程 x>J(3I5_b  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 9RK.+ 2  
8. 真空技术 NOAz"m+o  
8.1 常用真空泵介绍 S,Qa\\~z  
8.2 真空密封和检漏 AOqL&z  
9. 薄膜制备技术 (II#9 n)  
9.1 常见薄膜制备技术 egWfKL&iy  
10. 薄膜制备工艺 4zOFu/l6R  
10.1 薄膜制备工艺因素 uE%2kB*]  
10.2 薄膜均匀性修正技术 |@'K]$vZ*  
10.3 光学薄膜监控技术 I34 1s0  
11. 激光薄膜 ),%@X  
11.1 薄膜的损伤问题 ! bwy/A  
11.2 激光薄膜的制备流程 *u[@C  
11.3 激光薄膜的制备技术 NUuIhB+  
12. 光学薄膜特性测量 W_ ;b e  
12.1 薄膜光谱测量 ).tTDZ   
12.2 薄膜光学常数测量 &< FKcrZ,  
12.3 薄膜应力测量 G 40  
12.4 薄膜损伤测量  z' 5  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 ,a0RI<D  
[attachment=121029]
i DsY 5l  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
DoN]v  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
eQfXUpk3@I  
内容简介 3?+t%_[  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 je%y9*V  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 aOUTKyR ~  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Uw)B(;Hy?  
9`&sZ|"3  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
I q{/-,v  
目录 W=n Hi\jLV  
Preface 1 zvv/|z2(r  
内容简介 2 W yP]]I.  
目录 i L5wFbc"u  
1  引言 1 Ga <=Di):  
2  光学薄膜基础 2 `0u)/s$  
2.1  一般规则 2 8SupoS  
2.2  正交入射规则 3 c11;(  
2.3  斜入射规则 6 ZV-Yq !|t  
2.4  精确计算 7 I5Rd~-="G  
2.5  相干性 8 3)(uC+?[  
2.6 参考文献 10 JFkx=![  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Z|3[Y@c \  
4  Essential Macleod的特点 32 X9&>.?r  
4.1  容量和局限性 33 D3+<16[,  
4.2  程序在哪里? 33 2H~E~6G  
4.3  数据文件 35 Kj-zEl  
4.4  设计规则 35 {Bpu-R&T  
4.5  材料数据库和资料库 37 EgOiJH  
4.5.1材料损失 38 =< P$mFP2*  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 *4Z! 5iOs  
4.5.2 材料库 41 , LqfwA|  
4.5.3导出材料数据 43 7?uIl9Vk>(  
4.6  常用单位 43 ;_/!F}d  
4.7  插值和外推法 46 ;;432^jD  
4.8  材料数据的平滑 50 anH]]  
4.9 更多光学常数模型 54 u*T#? W?  
4.10  文档的一般编辑规则 55 iW[%|ddk  
4.11 撤销和重做 56 fz+dOIU3\L  
4.12  设计文档 57 ?:7$c  
4.10.1  公式 58 /~/nhKm  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ?]_A~_J!  
4.10.3  沉积密度 59 y@ c[S;  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ,Mn`kL<F  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 7aHP;X~0  
4.10.4  性能 61 J(,{ -d-E  
4.10.5  保存设计和性能 64 ?{OU%usQwE  
4.10.6  默认设计 64 V'l9fj*E  
4.11  图表 64 YizwKcuZ  
4.11.1  合并曲线图 67 pO N@  
4.11.2  自适应绘制 68 aOmQ<N]a  
4.11.3  动态绘图 68 "OrF81  
4.11.4  3D绘图 69 WG&WPV/p  
4.12  导入和导出 73 b C"rQJg  
4.12.1  剪贴板 73 K/!>[d  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Z:VT%-  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 6'.CW4L  
4.13  背景 77 YG#{/;^nm)  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 1L4v X  
4.15  生成Rugate 84 o4YF,c+>q  
4.16  参考文献 91 6PLdzZ{  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 cu4|!s`#  
5.1  Jobs 92 'D^@e0.3  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 fs, >X!l+  
5.3  输入材料 94 Co:Rg@i(F  
5.4  设计数据文件夹 95 ~AcjB(  
5.5  默认设计 95 wqJ1^>TB  
6  细化和合成 97 S\@U3|Q5  
6.1  优化介绍 97 4B Jw+EV8  
6.2  细化 (Refinement) 98 or[!C %  
6.3  合成 (Synthesis) 100 [XD3}'Aa  
6.4  目标和评价函数 101 M{X; H'2  
6.4.1  目标输入 102 3o_@3-Y%  
6.4.2  目标 103 Rab7Y,AA  
6.4.3  特殊的评价函数 104 "]yfx@)_  
6.5  层锁定和连接 104 |bk$VT4\  
6.6  细化技术 104 hhJs$c(  
6.6.1  单纯形 105 r@G34Q C+  
6.6.1.1 单纯形参数 106 5&}p'6*K  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 gV-A+;u  
6.6.2.1 Optimac参数 108 xsx0ZovhY  
6.6.3  模拟退火算法 109 ohPDknHp  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 +VO(6Jn  
6.6.4  共轭梯度 111 (5)DQ 1LaF  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111  *,e `.  
6.6.5  拟牛顿法 112 b5l;bXp]  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -K0!wrKC  
6.6.6  针合成 113 P A$jR fQ  
6.6.6.1 针合成参数 114 F?4&qbdD  
6.6.7 差分进化 114 f}Uf* Bp  
6.6.8非局部细化 115 W<Asr@  
6.6.8.1非局部细化参数 115 wU&vkb)k  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 B\quXE)  
6.7.1  细化 116 j$r2=~1  
6.7.2  合成 117 3:3>k8  
6.8  参考文献 117 #6 M3BF  
7  导纳图及其他工具 118 'I@l$H  
7.1  简介 118 3d(:Y6D)  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 xDn#=%~+x  
7.2.1  四分之一波长规则 119 R(#ZaFuo[  
7.2.2  导纳图 120 f+4j ^y}  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Rrp-SR?O  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 rC6{-42bb  
7.5  斜入射导纳图 141 KH9D},  
7.6  对称周期 141 J QA]O/|N  
7.7  参考文献 142 -~^sSLrbP  
8  典型的镀膜实例 143 %kV #UzL  
8.1  单层抗反射薄膜 145 N"zm  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 1W{t?1[s  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 j2=|,AmC  
8.4  W-膜层 148 }} zY]A  
8.5  V-膜层 149 T!t9`I0Zz  
8.6  V-膜层高折射基底 150 F;Bq[V)R  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 6Vu)  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 A0H6}53, $  
8.9  四层抗反射薄膜 153 *m[[>wE  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 dg@'5.ApPu  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 VH<-||X/4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 K8fC>iNbH  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 MD[;Ha  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 nYy+5u]FG  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 b}Xh|0`b+  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 o}y(T07n  
8.17  1/4波长堆栈 162 T}Ve:S  
8.18  陷波滤波器 163 75H;6(7  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 |}wT/3>\  
8.20  褶皱 165 # 2?3B  
8.21  消偏振分光器1 169 \?"kT}..  
8.22  消偏振分光器2 171 F_nXsKem  
8.23  消偏振立体分光器 172 NPLJ*uHH  
8.24  消偏振截止滤光片 173 z#/"5 l   
8.25  立体偏振分束器1 174 P$&l1Mp  
8.26  立方偏振分束器2 177 'oF('uR  
8.27  相位延迟器 178 ~SYW@o  
8.28  红外截止器 179 8_T9[ ]7V8  
8.29  21层长波带通滤波器 180 f;obK~b[  
8.30  49层长波带通滤波器 181 "$A5:1;  
8.31  55层短波带通滤波器 182 O-qpB;|  
8.32  47 红外截止器 183 !>)o&sM  
8.33  宽带通滤波器 184 B9S@G{`  
8.34  诱导透射滤波器 186 il$eO 7  
8.35  诱导透射滤波器2 188 R^@   
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 aA'of>'ib|  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Q 6dqFnz  
8.35  增益平坦滤波器 193 -{NP3zy  
8.38  啁啾反射镜 1 196 hY|-l%2f  
8.39  啁啾反射镜2 198 R_Z 9aQ  
8.40  啁啾反射镜3 199 Fmzkbt~oe  
8.41  带保护层的铝膜层 200 o&>aYlXd  
8.42  增加铝反射率膜 201 ^m-w@0^z  
8.43  参考文献 202 Z=(Tq1t  
9  多层膜 204 ,91n  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 `Nv P)|  
9.2  内部透过率 204 t)4] 2z)$  
9.3 内部透射率数据 205 D_ XOYzN}  
9.4  实例 206 2W }j bOy  
9.5  实例2 210 Em(Okr,0  
9.6  圆锥和带宽计算 212 FA{(gib@9  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ;Swy5z0=ro  
10  光学薄膜的颜色 216 ba^/Ar(B  
10.1  导言 216 |g1Pr9{wy  
10.2  色彩 216 C@u}tH )  
10.3  主波长和纯度 220 >tm4Rg~y  
10.4  色相和纯度 221 v[O?7Np  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 5E =!L g  
10.6 色差 226 -Sa-eWP  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 5RyxVC0<  
10.8  颜色渲染指数 234 aev(CY,z  
10.9  色差计算 235 |BXp`  
10.10  参考文献 236 DSlO.) dHu  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 T9uOOI  
11.1  短脉冲 238 f( <O~D  
11.2  群速度 239 pRA%07?W  
11.3  群速度色散 241 RV%)~S@!R  
11.4  啁啾(chirped) 245 #szIYyk  
11.5  光学薄膜—相变 245 8L5O5F'  
11.6  群延迟和延迟色散 246 {+V ]@sz  
11.7  色度色散 246 d '\ ^S}  
11.8  色散补偿 249 +%Z:k  
11.9  空间光线偏移 256 !\cVe;<r  
11.10  参考文献 258 15d'/f  
12  公差与误差 260 k}!'@  
12.1  蒙特卡罗模型 260 S" (Nf+ux  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 * bUOd'vh  
12.2.1  误差工具 267 L.8`5<ITw  
12.2.2  灵敏度工具 271 X6xs@tgQ  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 [}dPn61  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 -B#K}xL|x  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 (S2E'L L{  
12.3  参考文献 276 J+}z*/)|#  
13  Runsheet 与Simulator 277 ~zVe?(W  
13.1  原理介绍 277 {u4AOM=)  
13.2  截止滤光片设计 277 03"FK"2S  
14  光学常数提取 289 V=8npz   
14.1  介绍 289 k106fT]eX  
14.2  电介质薄膜 289 %!8w)1U  
14.3  n 和k 的提取工具 295 q>.C5t'Qx  
14.4  基底的参数提取 302 -Ua&/Yd/}  
14.5  金属的参数提取 306 =MwR)CI#  
14.6  不正确的模型 306 W j`f^^\HJ  
14.7  参考文献 311 $i1:--~2\  
15  反演工程 313 Wl }J=  
15.1  随机性和系统性 313 T8d=@8g,%  
15.2  常见的系统性问题 314 tJmy}.t1  
15.3  单层膜 314 }z qo<o  
15.4  多层膜 314 }KT$J G?  
15.5  含义 319 00@F?|-j  
15.6  反演工程实例 319 |(CgX6 l3  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 V Ds0+RC  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 {a15s6'd  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Y*IKPnPot2  
16.1  光学性质的热致偏移 329 n3j_=(  
16.2  应力工具 335 =`UFg >-  
16.3  均匀性误差 339 *X^ C+F  
16.3.1  圆锥工具 339 +O^}  t  
16.3.2  波前问题 341 Gte\=0Wr  
16.4  参考文献 343 C_yNSD  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 QL*RzFAD 3  
17.1  引言 345 /IF?|71,m  
17.2  操作数 345 DuLl"w\_@  
18  如何在Function中编写脚本 351 { ft |*  
18.1  简介 351 j8aH*K-l{  
18.2  什么是脚本? 351 #g'j0N  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 q$"?P  
18.4  基础 352 p,!IPWo  
18.4.1  Classes(类别) 352 e X6o 7a  
18.4.2  对象 352 pl$wy}W-  
18.4.3  信息(Messages) 352 Zr=B8wuT  
18.4.4  属性 352 <[u(il  
18.4.5  方法 353 ^%tn$4@@Z.  
18.4.6  变量声明 353 piqh7u3~  
18.5  创建对象 354 1.TIUH1  
18.5.1  创建对象函数 355 yr?X.Np  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 i0*Cs#(=h  
18.5.3 丢弃对象 356 f1sp6S0V\  
18.5.4  总结 356 T3LVn<Lm\  
18.6  脚本中的表格 357 Y0J:c?,  
18.6.1  方法1 357 \HG4i/V:h  
18.6.2  方法2 357 1_l)$"  
18.7 2D Plots in Scripts 358 &N]e pV>  
18.8 3D Plots in Scripts 359 u%Mo.<PI  
18.9  注释 360 EBiLe;=X  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 %oquHkX%OJ  
18.11  一个更高级的脚本 362 Ro4!y:2|  
18.12  <esc>键 364 3to!C"~\K-  
18.13 包含文件 365 -yb7s2o  
18.14  脚本被优化调用 366 ,Q.[Lc=w  
18.15  脚本中的对话框 368 Db;>MWt+e  
18.15.1  介绍 368 qq3/K9 #y  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 rBi6AM/  
18.15.3  输入框函数 370 dBS_N/  
18.15.4  自定义对话框 371 ] SLeWs  
18.15.5  对话框编辑器 371 yu&muCA  
18.15.6  控制对话框 377 s^4wn:*$zd  
18.15.7  更高级的对话框 380 d|)ARRW  
18.16 Types语句 384 X*w;6 V  
18.17 打开文件 385 ] w0Y5H "  
18.18 Bags 387 BPm" )DMo  
18.13  进一步研究 388 +XW1,ly~  
19  vStack 389 mN.  
19.1  vStack基本原理 389 c;!| =  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 >AY9 F|:  
19.3  五棱镜 393 qnnRS  
19.4 光束距离 396 Qr7|;l3  
19.5 误差 399 w'XSkI_ay  
19.6  二向分色棱镜 399 t o8J   
19.7  偏振泄漏 404 3x 7fa^umR  
19.8  波前误差—相位 405 8~~ k?  
19.9  其它计算参数 405 Sw$/Z)1K&  
20  报表生成器 406 R lbJ4`a  
20.1  入门 406 ;b. m X  
20.2  指令(Instructions) 406 )s4: &!  
20.3  页面布局指令 406 % tC[q   
20.4  常见的参数图和三维图 407 ,?IXfJ`c  
20.5  表格中的常见参数 408 ld):Am}/o  
20.6  迭代指令 408 {K}Dpy  
20.7  报表模版 408 >j*0fb!:]  
20.8  开始设计一个报表模版 409 g{uiY|  
21  一个新的project 413 "%S-(ue:  
21.1  创建一个新Job 414 A f!`7l-  
21.2  默认设计 415 #<U@SMv  
21.3  薄膜设计 416  TU6YS<  
21.4  误差的灵敏度计算 420 #$L/pRC  
21.5  显色指数计算 422 z@?y(E  
21.6  电场分布 424 'HCRi Z<  
后记 426 )OucJQ  
m7Ry FnR2  
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书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Pn4jI(  
JUXBMYFus  
《Essential Macleod中文手册》
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目  录 \ bWy5/+  
rj4Mq:pJ  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 l0qHoM,1Y[  
第1章 介绍 ..........................................................1 f)gV2f0t  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 < <Y]P+uU  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 2']0c  z  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ~m0=YAlk?  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 C8YStT  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 &gJ@"`r4  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 k.Gt }\6zP  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Zy{hYHQ  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 SB5qm?pT8<  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 o8IqO'  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 .x/H2r'1  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 &e#pL`N  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 +ut%C.1  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 gbh/ `  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 aHI~@  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 UfV { m  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 +W8#]u|  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 4`cfFowK~  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 uC#] F@  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 TaKHr$h  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 uH7rt  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 :0Y.${h  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 MrOtsX  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 QfM^J5j.M?  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 W?.xtQEv  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 6& hiW]Adm  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 8{{^pW?x  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 */TO $ ^s  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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