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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 =wh[D$n$~  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 |fgUW.  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 Kyh>O)"G^%  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ^cYB.oeu  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 % "(&a'B  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
]Lub.r  
特邀专家介绍 $X#y9<bW  
[attachment=121028] ;7P '>j1?U  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 <l<O2l  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 /}m)FaAi  
课程概要 Te-p0x?G.  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 7l53&,s   
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 +K1M&(  
课程大纲 ZM.'W}J{ *  
1. Essential Macleod软件介绍 #d@wjQ0DW  
1.1 介绍软件 Ol>q(-ea  
1.2 创建一个简单的设计 3(WijtH  
1.3 绘图和制表来表示性能 5s[nE\oaG  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 pp@ Owpb  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ~m6=s~Vn  
1.6 特定设计的公式技术 $,}jz.R@  
1.7 交互式绘图 0nb%+],pX  
2. 光学薄膜理论基础 nQiZ6[L  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 <o%T]  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B->AY.&j  
3. 材料管理 _9h$8(wjn  
3.1 材料模型 no*)M7  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 LCB-ewy#E  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 %hVR|K|J  
3.4 基板光学常数的提取 8qyEHUN2q  
4. 光学薄膜设计优化方法 :AzT=^S  
4.1 参考波长与g VRd7H.f,A6  
4.2 四分之一规则 gA2Wo+\^bq  
4.3 导纳与导纳图 GKt."[seV  
4.4 斜入射光学导纳 Y}ogwg&  
4.5 光学薄膜设计的进展 (GC]=  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]DNPG"  
4.6.1 优化目标设置 q_b!+Y  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ?\o~P  
4.6.3 膜层锁定和链接 hP"2X"kz&  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 &D<R;>iI  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 v #+ECx  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 dbby.%  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 QL7b<xDQC*  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 /JR+WmO  
5.5 如何在Function中编写脚本 ,31 ? Aa  
6. 光学薄膜系统案例 83vMj$P  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Jy(G A  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 yx]9rD1cz  
6.3 Stack应用范例说明 YlrN^rO  
7. 薄膜性能分析 3]*Kz*i  
7.1 电场分布 G8av5zR  
7.2 公差与灵敏度分析 4LTm&+(5  
7.3 反演工程 es)^^kGj6f  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 '7?Y+R@|L  
8. 真空技术 flmQNrC.8  
8.1 常用真空泵介绍 .!o]oM U/  
8.2 真空密封和检漏 ng%[yY  
9. 薄膜制备技术 eh9 ?GUr5  
9.1 常见薄膜制备技术 ^\}qq>_  
10. 薄膜制备工艺 *`H*@2  
10.1 薄膜制备工艺因素 #~ x7G  
10.2 薄膜均匀性修正技术 aKj|gwo!  
10.3 光学薄膜监控技术 mh3S?Uc  
11. 激光薄膜 /yI4;:/  
11.1 薄膜的损伤问题 O*~,L6# }  
11.2 激光薄膜的制备流程 Z}S[fN8  
11.3 激光薄膜的制备技术 Skt-5S#  
12. 光学薄膜特性测量 kE:[6reG  
12.1 薄膜光谱测量 7"(Zpu  
12.2 薄膜光学常数测量 +9Tc.3vQ  
12.3 薄膜应力测量 IhNX~Jg'^  
12.4 薄膜损伤测量 \GL] I.  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 cACIy yQ  
[attachment=121029]
[^"*I.Z_  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
PBn7{( x  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
ce;7  
内容简介  LSC[S:  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 " aG6u^%  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 <U3X4)r  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Ih.+-!w  
<e UsMo<  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
a 8k2*u  
目录 n[jXqFm!`  
Preface 1 H^-Y]{7  
内容简介 2 kPX+n+$  
目录 i z206fF  
1  引言 1 U6&`s%mIa  
2  光学薄膜基础 2 q=X<QhK  
2.1  一般规则 2 $}&a*c>  
2.2  正交入射规则 3 uz!8=,DFw  
2.3  斜入射规则 6 #Pg#\v|7#>  
2.4  精确计算 7 $]DuO1H./  
2.5  相干性 8 g4Z Uh@b~  
2.6 参考文献 10 Jinh#iar  
3  Essential Macleod的快速预览 10 TanWCt4r  
4  Essential Macleod的特点 32 lq9|tt6Z  
4.1  容量和局限性 33 _mqU:?Q5  
4.2  程序在哪里? 33 bY P8  
4.3  数据文件 35 jF?0,g  
4.4  设计规则 35 3= =["hO  
4.5  材料数据库和资料库 37 b=EI?XwJ  
4.5.1材料损失 38 fJ*^4  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ":/c|!  
4.5.2 材料库 41 `Q*`\-8J  
4.5.3导出材料数据 43 E>_Rsw *  
4.6  常用单位 43 77M!2S_E  
4.7  插值和外推法 46 RW&o3_Ua  
4.8  材料数据的平滑 50 6u"wgX]H  
4.9 更多光学常数模型 54 8w:ay,=  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ~<_#%R!  
4.11 撤销和重做 56 ;{I9S'  
4.12  设计文档 57 ?^~ZsOd8B  
4.10.1  公式 58 qArR5OJ  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /l7 %x.  
4.10.3  沉积密度 59 XCI  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Iy_5k8 ]  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 &oMEz 0  
4.10.4  性能 61 % G!!0V!  
4.10.5  保存设计和性能 64 hrKeOwKHU  
4.10.6  默认设计 64 Qf_N,Bq{a  
4.11  图表 64 lj]M 1zEz&  
4.11.1  合并曲线图 67 +t,b/K(?]  
4.11.2  自适应绘制 68 j55_wx@cA  
4.11.3  动态绘图 68 4pL'c@'  
4.11.4  3D绘图 69 q?LOtN? o  
4.12  导入和导出 73 3Ws(],Q  
4.12.1  剪贴板 73 }Cu:BD.zQ  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Y7S1^'E 3  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 o`CM15d*7o  
4.13  背景 77 #K^hKx9  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 5mAb9F8@  
4.15  生成Rugate 84 Q9cSrU[$  
4.16  参考文献 91 3N >V sl  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Q b^{`  
5.1  Jobs 92 ?eTZ>o.p/  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 @]Vcl"t  
5.3  输入材料 94 - egTZW-  
5.4  设计数据文件夹 95 #f(a,,Uu'  
5.5  默认设计 95 @|(cr: (=H  
6  细化和合成 97 H {=]94  
6.1  优化介绍 97 Pjh;;k|V  
6.2  细化 (Refinement) 98 DQ0S]:tC  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ~;oXLCL0})  
6.4  目标和评价函数 101 vL_yM  
6.4.1  目标输入 102 JcRxNH )<"  
6.4.2  目标 103 N@PuC>  
6.4.3  特殊的评价函数 104 jIaaNO)  
6.5  层锁定和连接 104 ?u2\ *@C  
6.6  细化技术 104 mZU L}[xf  
6.6.1  单纯形 105 7z$53z  
6.6.1.1 单纯形参数 106 S(3h{Y"#  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ubB1a_7  
6.6.2.1 Optimac参数 108 |gV~U~A]  
6.6.3  模拟退火算法 109 6`2i'flv  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 JX'}+.\  
6.6.4  共轭梯度 111 P:g!~&Q  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 6c+29@  
6.6.5  拟牛顿法 112 JA{kifu0+  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -)%\$z  
6.6.6  针合成 113 qdQ4%,E[  
6.6.6.1 针合成参数 114 y={ k7  
6.6.7 差分进化 114 f IV"U  
6.6.8非局部细化 115 UZ/LR  
6.6.8.1非局部细化参数 115 G!`%.tH  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 g Nz  
6.7.1  细化 116 vgc~%k62c  
6.7.2  合成 117 8/2Wq~&  
6.8  参考文献 117 DzhLb8k  
7  导纳图及其他工具 118 dZ" }wKbO  
7.1  简介 118 t[k ['<G  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Sy?^+JdM/  
7.2.1  四分之一波长规则 119 &LM@xt4"^[  
7.2.2  导纳图 120 7r,GdP.  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HpbwW=;V  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 W+u@UJi  
7.5  斜入射导纳图 141 1<h@ ^s;  
7.6  对称周期 141 x=0Ak'1M  
7.7  参考文献 142 2G|}ENC  
8  典型的镀膜实例 143 .+2:~%v6  
8.1  单层抗反射薄膜 145 K:XXtG  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 gD%o0 jt"  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [W$x5|Z}Q  
8.4  W-膜层 148 xe OfofC(l  
8.5  V-膜层 149 )j]f ]8  
8.6  V-膜层高折射基底 150 h_X'O3r  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 *} *HXE5  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 vy [7I8f{  
8.9  四层抗反射薄膜 153 -DGuaUU  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ?/}IDwuh  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4Tuh]5  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 <> HI(6\@Z  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 a@|`!<5  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 + d>2'  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 6k')12~'  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 "@ZwDg`  
8.17  1/4波长堆栈 162 v3~`1MM  
8.18  陷波滤波器 163 ;U0w<>4L  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 _7v4S/V  
8.20  褶皱 165 `-s]d q  
8.21  消偏振分光器1 169 Hv"qRuQ?[  
8.22  消偏振分光器2 171 o7tlkSZ  
8.23  消偏振立体分光器 172 _ y'g11 \  
8.24  消偏振截止滤光片 173 aa]|  
8.25  立体偏振分束器1 174 Lz9|"F"V  
8.26  立方偏振分束器2 177 R8.@5g_  
8.27  相位延迟器 178 FBi&M Z`  
8.28  红外截止器 179 ER`;0#3[9u  
8.29  21层长波带通滤波器 180 9-# =xE9'U  
8.30  49层长波带通滤波器 181 t`6~ ud>  
8.31  55层短波带通滤波器 182 "@+Z1k-8U  
8.32  47 红外截止器 183 R74RJi&  
8.33  宽带通滤波器 184 M;g"rpM  
8.34  诱导透射滤波器 186 d|tNn@jN  
8.35  诱导透射滤波器2 188 " u]X/ {L  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 +IGSOWL  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 L.9@rwfI  
8.35  增益平坦滤波器 193 DBfq9%J _  
8.38  啁啾反射镜 1 196 z/o&r`no  
8.39  啁啾反射镜2 198 rJ4A9d3:  
8.40  啁啾反射镜3 199 4fL>Ou[YuX  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ckdCd J  
8.42  增加铝反射率膜 201 YFcMU5_F  
8.43  参考文献 202 mg3YKHNG  
9  多层膜 204 @ uL4'@Ej  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 nwJub$5  
9.2  内部透过率 204 I Yr4  
9.3 内部透射率数据 205 G`v(4`tA  
9.4  实例 206 2j^8{Agz  
9.5  实例2 210 :2t?0YR  
9.6  圆锥和带宽计算 212 %B>>J%  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 1N.weey}W  
10  光学薄膜的颜色 216 ~c,+)69"T  
10.1  导言 216 RLh%Y>w  
10.2  色彩 216 b5 AP{ #  
10.3  主波长和纯度 220 sVS),9\}  
10.4  色相和纯度 221 30cb+)h(  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 AhV V  
10.6 色差 226 Y0Rk:Njc  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 r*Z p-}  
10.8  颜色渲染指数 234 0$R}_Ok  
10.9  色差计算 235 F @!9rl'  
10.10  参考文献 236 Xj6?,J  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 AbMf8$$3SH  
11.1  短脉冲 238 t; #D,gx  
11.2  群速度 239 G{'`L)~3N  
11.3  群速度色散 241 bmRp)CYd  
11.4  啁啾(chirped) 245 eeUEqM$7EX  
11.5  光学薄膜—相变 245 K{G\=yJ((  
11.6  群延迟和延迟色散 246 a [BIY&/Q  
11.7  色度色散 246 - [vH4~  
11.8  色散补偿 249 5F5)Bh  
11.9  空间光线偏移 256 H1ox>sC  
11.10  参考文献 258 4:s!mHcz  
12  公差与误差 260 y(6*)~Dh  
12.1  蒙特卡罗模型 260 )K 0rPnYV  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 u3vw[k  
12.2.1  误差工具 267 hRktvO)K  
12.2.2  灵敏度工具 271 3AC/;WB9  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 2$> <rB  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 u85Uy yN  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 J+nUxF;EE  
12.3  参考文献 276 wn>?r ?KIB  
13  Runsheet 与Simulator 277 qJJ~#W)  
13.1  原理介绍 277 ,6T3:qkkvF  
13.2  截止滤光片设计 277 Ei\tn`I&  
14  光学常数提取 289 \yo)oIi[p  
14.1  介绍 289 $-BM`Zt0;  
14.2  电介质薄膜 289 I#:4H2H6  
14.3  n 和k 的提取工具 295 }woNI  
14.4  基底的参数提取 302 #7,;/rtO7  
14.5  金属的参数提取 306 iy,jq5uw  
14.6  不正确的模型 306 sG k'G573  
14.7  参考文献 311 ;fKFmY41  
15  反演工程 313 y[~w2a&+  
15.1  随机性和系统性 313 {edjvPlk  
15.2  常见的系统性问题 314 l 1Ns~  
15.3  单层膜 314 Q\GSX RP  
15.4  多层膜 314 p>0n~e  
15.5  含义 319 hT$/B|  
15.6  反演工程实例 319 %@x.km3e2  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 2mPU /  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 =bl6:  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 47^R  
16.1  光学性质的热致偏移 329  jf~-;2  
16.2  应力工具 335 KIHr%  
16.3  均匀性误差 339 + Awo\;@,  
16.3.1  圆锥工具 339 <(dg^;  
16.3.2  波前问题 341 2VA mL7)  
16.4  参考文献 343 iz\GahK  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 GMYfcZ/,K  
17.1  引言 345 nv2p&-e+  
17.2  操作数 345 1usLCG>w{  
18  如何在Function中编写脚本 351 vvcA-k?  
18.1  简介 351 jun$C Y4  
18.2  什么是脚本? 351 z(_#C s  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351  `\#J&N  
18.4  基础 352 H.]rH,8  
18.4.1  Classes(类别) 352 ~jn~M_}K  
18.4.2  对象 352 dhmZ3~cW>  
18.4.3  信息(Messages) 352 `_5{: 9N$  
18.4.4  属性 352 e?)ic\K  
18.4.5  方法 353 hy{1Ea/T  
18.4.6  变量声明 353 L<M H:  
18.5  创建对象 354 |$a!Zx94^  
18.5.1  创建对象函数 355 E)utrO R  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 tc<ly{ 1c  
18.5.3 丢弃对象 356 7C@%1kL  
18.5.4  总结 356 O7D61~G]  
18.6  脚本中的表格 357 tw%z!u[a  
18.6.1  方法1 357 Q"=$.M~  
18.6.2  方法2 357 Sk|DVV $  
18.7 2D Plots in Scripts 358 SK G!DKQ  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;7w4BJcq']  
18.9  注释 360 ,f?+QV\T.  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 S[5e,E w  
18.11  一个更高级的脚本 362 /D&7 \3}  
18.12  <esc>键 364 55#s/`gd)^  
18.13 包含文件 365 Z@{e\sZ)  
18.14  脚本被优化调用 366 `c%{M4bF\  
18.15  脚本中的对话框 368 $ %BNoSK  
18.15.1  介绍 368 kKEs >a  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 bAZ x*qE=  
18.15.3  输入框函数 370 nN$aZSb`  
18.15.4  自定义对话框 371 ]3bXJE  
18.15.5  对话框编辑器 371 EsKOzl[c:  
18.15.6  控制对话框 377 F>/"If#  
18.15.7  更高级的对话框 380 xY94v  
18.16 Types语句 384  {;| >Qn  
18.17 打开文件 385 RDWUy (iX  
18.18 Bags 387 C)xM>M_CB  
18.13  进一步研究 388 rf]'V Jg#3  
19  vStack 389 sbV {RSl  
19.1  vStack基本原理 389 rwSmdJ~  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 "0]s|ys6<  
19.3  五棱镜 393 =#|K-X0d=  
19.4 光束距离 396 a1yGgT a?D  
19.5 误差 399 b!3Y<D*  
19.6  二向分色棱镜 399 8-cCWo c  
19.7  偏振泄漏 404 tEE4"OAy  
19.8  波前误差—相位 405 -J\R}9 lIm  
19.9  其它计算参数 405 6 r}R%{  
20  报表生成器 406 * j]"I=D  
20.1  入门 406 9E-]S'Z  
20.2  指令(Instructions) 406 ?KMGk]_<  
20.3  页面布局指令 406 ]p5]n*0X  
20.4  常见的参数图和三维图 407 _m2p>(N|  
20.5  表格中的常见参数 408 rI.CCPY~s  
20.6  迭代指令 408 pRrokYM d  
20.7  报表模版 408 )$oboAv#  
20.8  开始设计一个报表模版 409 y|(C L^(  
21  一个新的project 413 {]V+C=`  
21.1  创建一个新Job 414 .qGfLvx%  
21.2  默认设计 415 I' TprT  
21.3  薄膜设计 416 yON";|*\m  
21.4  误差的灵敏度计算 420 %MH!L2|  
21.5  显色指数计算 422 gUtxyW  
21.6  电场分布 424 ,ctm;T1H+  
后记 426 nTQ&nu!  
+xG  
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书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ^DH*\ee  
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《Essential Macleod中文手册》
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目  录 u/>+cT6}  
?4A$9H  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ?@YABl  
第1章 介绍 ..........................................................1 ~D1&CT#s  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 2SV}mK U  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 b^q8s4(   
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {sb2r%U!+  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ngI3.v/R  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 rS&"UH?c7  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 yHNx,ra   
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 q88;{?T1  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 dDxb}d x8  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ;VW->i a6  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 ]**h`9MF  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 w+W! dM  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 QuWW a|g^.  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 "f|xIK`c  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 uZhY)o*]@  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 -lqsFaW  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 J_eu(d[9  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 yi&6HNb  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 2.PZtl  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 3[;fO_R  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 vzH"O=  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 yhG%@vSq  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 4157!w'\y  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 !LAC_ b  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 qayM 0i>>  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 :pXY/Pa  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 tQ7:4._  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 u/ZV35z  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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