首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 "V<7X%LIX  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 lN[#+n  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 A=BT2j'l)  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 -;&-b>b  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 \|C~VU@  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
dY.NQ1@"  
特邀专家介绍 k$ w#:Sx  
[attachment=121028] l +# FoN  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 6@ =ipPCR  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 (*V:{_r  
课程概要 ?2Sm f  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 '2ACZcjDSv  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 OBnvY2)Ri  
课程大纲  cjf_,x  
1. Essential Macleod软件介绍 ~p\r( B7G  
1.1 介绍软件 n<DZb`/uHZ  
1.2 创建一个简单的设计 +Sg+% 8T  
1.3 绘图和制表来表示性能 W%< z|  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 *~8g:;u  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) >ToI$~84  
1.6 特定设计的公式技术 7J5Yzu)D  
1.7 交互式绘图 lLNI5C  
2. 光学薄膜理论基础 9mB] \{^  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 DWk2=cO  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 g ~>nT>6  
3. 材料管理 1cd3m  
3.1 材料模型 co>IJzg  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 $qM&iI-l0  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 $!\Z_ :  
3.4 基板光学常数的提取 Z#s-(wf  
4. 光学薄膜设计优化方法 G%SoC  
4.1 参考波长与g So}pA2[0  
4.2 四分之一规则 ,o [FUi(#@  
4.3 导纳与导纳图 p+^K$w^Cs  
4.4 斜入射光学导纳 @{@)gE  
4.5 光学薄膜设计的进展 M~g@y$  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]t_ Wl1*|  
4.6.1 优化目标设置 fs8C ^Ik>~  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Fuo.8  
4.6.3 膜层锁定和链接 -5,+gakSk  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 [.nkNda5)v  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 e J:#vX86  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 8hZc#b;  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Nd**":i$  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 c"NGE  
5.5 如何在Function中编写脚本 'F7UnkKO|  
6. 光学薄膜系统案例 6\6g-1B`  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ,sltB3f  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 j.KV :zJU  
6.3 Stack应用范例说明 3SI%>CO}  
7. 薄膜性能分析 s,7 OoLE  
7.1 电场分布 BXUd i&'O  
7.2 公差与灵敏度分析 vw/GAljflu  
7.3 反演工程 FF#?x@N:  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 z"V`8D  
8. 真空技术 \;!g@?CA  
8.1 常用真空泵介绍 E=qfI>2U&  
8.2 真空密封和检漏 2o~UA\:+=  
9. 薄膜制备技术 /cx Ei6I-  
9.1 常见薄膜制备技术 Ss'Dto35Q  
10. 薄膜制备工艺 9zaSA,}  
10.1 薄膜制备工艺因素 3OJGBiDAr  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ]O&yy{yYK  
10.3 光学薄膜监控技术 ;:P} s4p  
11. 激光薄膜 0B(Y{*QB  
11.1 薄膜的损伤问题 (b+o$C  
11.2 激光薄膜的制备流程 p}q]GJ  
11.3 激光薄膜的制备技术 a-9sc6@  
12. 光学薄膜特性测量 8!7`F.BX  
12.1 薄膜光谱测量 ^6 \@$   
12.2 薄膜光学常数测量 -Vj112 fI  
12.3 薄膜应力测量 K]ds2Kp&  
12.4 薄膜损伤测量 b`|,rfq^AZ  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 <Mf(2`T  
[attachment=121029]
TGI`}#  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
,ydn]0SS  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
! $fF3^8-  
内容简介 1#nY Z%  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 HLl"=m1/>  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /(Ryh6M  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `5Em: 8 M  
P(i E"KH;  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
.a}!!\@  
目录 Z%7X"w  
Preface 1 Ej'N !d.  
内容简介 2 ?wMS[Kj  
目录 i 3y*dBw  
1  引言 1 &5 R-bYGW  
2  光学薄膜基础 2 1f0maN  
2.1  一般规则 2 > @q4Uez  
2.2  正交入射规则 3 :bz;_DZP  
2.3  斜入射规则 6 }*56 DX  
2.4  精确计算 7 "mAMfV0  
2.5  相干性 8 [)nU?l  
2.6 参考文献 10 {e83 A /{  
3  Essential Macleod的快速预览 10 jW]Fx:mQi  
4  Essential Macleod的特点 32 !6`&0eY  
4.1  容量和局限性 33 @<44wMp  
4.2  程序在哪里? 33 jQpG7H  
4.3  数据文件 35 / 2h6  
4.4  设计规则 35 ]}nX$xy  
4.5  材料数据库和资料库 37 fnudy% oo  
4.5.1材料损失 38 > `+lEob  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 0<]]q[pr  
4.5.2 材料库 41 ?,FL"ye  
4.5.3导出材料数据 43 x!A5j $k0  
4.6  常用单位 43 >~@ABLp 6  
4.7  插值和外推法 46 TV(%e4U=  
4.8  材料数据的平滑 50 u1/q8'RW  
4.9 更多光学常数模型 54 +!"7=?}  
4.10  文档的一般编辑规则 55 $>=w<=r|;  
4.11 撤销和重做 56 WmZ,c_  
4.12  设计文档 57 Y,d|b V*FH  
4.10.1  公式 58 o.>Yj)U  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 PsI{y&.  
4.10.3  沉积密度 59 KZwzQ"Hl  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ^tl&FWF  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 _H$Z }2g<z  
4.10.4  性能 61 [I%'\CI;  
4.10.5  保存设计和性能 64 UymhBh  
4.10.6  默认设计 64 Cj# ?Z7}z  
4.11  图表 64 09Y:(2Qri  
4.11.1  合并曲线图 67 <"x *ZT  
4.11.2  自适应绘制 68 r8[Ywn <u  
4.11.3  动态绘图 68 >I9|N}I  
4.11.4  3D绘图 69 8YkCTJfBGu  
4.12  导入和导出 73 *AA78G|  
4.12.1  剪贴板 73 ^%Fn|U\u  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 $EPDa?$*  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 B \>W  
4.13  背景 77 Y~I6ee,\  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 zl["}I(*n  
4.15  生成Rugate 84 30L/-+r1  
4.16  参考文献 91 ??XtN.]7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 @RLlkWGc  
5.1  Jobs 92 L'}^Av_+  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ~,reS:9RZ  
5.3  输入材料 94 bv'Z~@<c  
5.4  设计数据文件夹 95 9XW[NY#)#  
5.5  默认设计 95 +yIO  
6  细化和合成 97 8Nxyc>8K~  
6.1  优化介绍 97 D}EH9d  
6.2  细化 (Refinement) 98 "'mr0G9X  
6.3  合成 (Synthesis) 100 DP4l %2m0  
6.4  目标和评价函数 101 gPr&9pHU  
6.4.1  目标输入 102 5c3&4,,eR  
6.4.2  目标 103 %{^kmlO  
6.4.3  特殊的评价函数 104 &^@IAjxn  
6.5  层锁定和连接 104 v$bR&bCT  
6.6  细化技术 104 _@ @"'  
6.6.1  单纯形 105 He)dm5#fg  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ?iNihE  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 3|.KEJC"  
6.6.2.1 Optimac参数 108 u"M^qRhD  
6.6.3  模拟退火算法 109 ?&r >`H E  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 _JXb|FIp  
6.6.4  共轭梯度 111 S:xG:[N@  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 &?B\(?*  
6.6.5  拟牛顿法 112 Ov8{ny  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ^W<uc :L7  
6.6.6  针合成 113 y{1|@?ii  
6.6.6.1 针合成参数 114 cLCzLNyKl  
6.6.7 差分进化 114 &\s>PvnquX  
6.6.8非局部细化 115 1dX)l  
6.6.8.1非局部细化参数 115 MA5BTq<&  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ;/<J& #2.  
6.7.1  细化 116 vxx7aPjC  
6.7.2  合成 117 Y4n; [nHQ(  
6.8  参考文献 117 0P6< 4  
7  导纳图及其他工具 118 @ei:/~y3  
7.1  简介 118 $)Pmr1==  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118  p(Bn!  
7.2.1  四分之一波长规则 119 L~xzfO  
7.2.2  导纳图 120 7q,M2v;  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ,c'a+NQ_t  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 zhFk84  
7.5  斜入射导纳图 141 Cn(0ID+3f  
7.6  对称周期 141 [!E~pW%|n  
7.7  参考文献 142 *FEY"W+bY  
8  典型的镀膜实例 143 4>xv7  
8.1  单层抗反射薄膜 145 [sH[bmLR  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Uw5`zl  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 )0NE_AZ?  
8.4  W-膜层 148 gAgP("  
8.5  V-膜层 149 S[W|=(f9  
8.6  V-膜层高折射基底 150 d6hso  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 u6(>?r-  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 L(!mm  
8.9  四层抗反射薄膜 153 e'Th[ wJ  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 8y, ]>n  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 NP*M#3$[  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 |J#mgA}(  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 -N[Q*;h|  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 tkGJ!aUt  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 \aG:l.IM0  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 +e%U6&l{  
8.17  1/4波长堆栈 162 s8<)lO<SV.  
8.18  陷波滤波器 163 0jN?5j  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 v/yt C/WH"  
8.20  褶皱 165 =K2mR}n\;  
8.21  消偏振分光器1 169 JH0L^p   
8.22  消偏振分光器2 171 ;eRYgC  
8.23  消偏振立体分光器 172 va/$dD9  
8.24  消偏振截止滤光片 173 7}<05 7Xn'  
8.25  立体偏振分束器1 174 SlZ>N$E  
8.26  立方偏振分束器2 177 *!*J5/ b  
8.27  相位延迟器 178 'M#'BQQ5  
8.28  红外截止器 179 q0hg0 DC[;  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ^#4?v^QNh  
8.30  49层长波带通滤波器 181 %CP:rAd`M.  
8.31  55层短波带通滤波器 182 0-W{(xy@4  
8.32  47 红外截止器 183 !~&vcz0>)9  
8.33  宽带通滤波器 184 eY1$s mh t  
8.34  诱导透射滤波器 186 ^^I3%6UY  
8.35  诱导透射滤波器2 188 iZ3%'~K<3J  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 0#rv.rJ{  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 |[VtYV _{  
8.35  增益平坦滤波器 193 ]' F{uDm[  
8.38  啁啾反射镜 1 196 6%B5hv24v  
8.39  啁啾反射镜2 198 v@0lTl_  
8.40  啁啾反射镜3 199 Z;{3RWV  
8.41  带保护层的铝膜层 200 N'nqVYTU  
8.42  增加铝反射率膜 201 ^vjN$JB  
8.43  参考文献 202 )k8=< =s  
9  多层膜 204 eswsxJ/!  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 I9`R L Sn  
9.2  内部透过率 204 btK| U  
9.3 内部透射率数据 205 .f V-puE  
9.4  实例 206 E Cx_ [|3{  
9.5  实例2 210 \1[I(u  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ?[K+Ym+  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 [9WtoA,kx  
10  光学薄膜的颜色 216 2@ >04]  
10.1  导言 216 ,))UQ7N  
10.2  色彩 216 QM1-w^  
10.3  主波长和纯度 220 $SQ8,Y,  
10.4  色相和纯度 221 Eg"DiI)7  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 q9RCXo>Y+1  
10.6 色差 226 28;D>6c  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ]Ph~-O  
10.8  颜色渲染指数 234 .-;K$'YG  
10.9  色差计算 235 *=1;HN3  
10.10  参考文献 236 nBd!296  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 %:n1S]Vr  
11.1  短脉冲 238 Y WSo:)LY  
11.2  群速度 239 R$&|*0  
11.3  群速度色散 241 hv'~S  
11.4  啁啾(chirped) 245 ,#1ke  
11.5  光学薄膜—相变 245 OYJy;u3"  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ';x .ry  
11.7  色度色散 246 jGzs; bE  
11.8  色散补偿 249 AF1";duA  
11.9  空间光线偏移 256 ,|_ewye  
11.10  参考文献 258 {}?s0U$5  
12  公差与误差 260 @.gT&Hq  
12.1  蒙特卡罗模型 260 J_s?e#s  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 JbG\Ywi0]  
12.2.1  误差工具 267 oh`I$  
12.2.2  灵敏度工具 271 O`O{n_o^u  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ~4[2{M.0>@  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 U`JzE"ps]  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 e0HG"z4  
12.3  参考文献 276 i+yqsYKO  
13  Runsheet 与Simulator 277 cI4%z eR  
13.1  原理介绍 277 J.:"yK""  
13.2  截止滤光片设计 277 +vkqig  
14  光学常数提取 289 l^ni"X  
14.1  介绍 289 d3T|N\(DL  
14.2  电介质薄膜 289 >U^AIaW  
14.3  n 和k 的提取工具 295 !W/Og 5n  
14.4  基底的参数提取 302 l/yLSGjM  
14.5  金属的参数提取 306 [UquI "  
14.6  不正确的模型 306 9U6y<X  
14.7  参考文献 311 FpE83}@".w  
15  反演工程 313 9u1)Kr=e  
15.1  随机性和系统性 313 ,JT|E~P?8  
15.2  常见的系统性问题 314 :Tw3Oo_~S  
15.3  单层膜 314 Hjli)*ev  
15.4  多层膜 314 2GcQh]ohc  
15.5  含义 319 !h7`W*::  
15.6  反演工程实例 319 A\ze3fmV  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 bK; -Xcm  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 7|T<dfQk  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 1j6ZSE/*|  
16.1  光学性质的热致偏移 329 q|om^:n.  
16.2  应力工具 335 Kwfrh?  
16.3  均匀性误差 339 iwCnW7:  
16.3.1  圆锥工具 339 "j3Yu4_ks  
16.3.2  波前问题 341 _< 69d  
16.4  参考文献 343 oo3ZYA  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 A,MRK#1u  
17.1  引言 345 b]~X U  
17.2  操作数 345 y<k-dbr  
18  如何在Function中编写脚本 351 ~*Ve>4  
18.1  简介 351 KU3lAjzN  
18.2  什么是脚本? 351 :D-d`OyjG>  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 B+ GPTQSTb  
18.4  基础 352 \,[Qg#W$u  
18.4.1  Classes(类别) 352 >Fz_]z   
18.4.2  对象 352 J @"wJEF  
18.4.3  信息(Messages) 352 )rz4IfE  
18.4.4  属性 352 w@.E}%bwq  
18.4.5  方法 353 /J3e[?78u  
18.4.6  变量声明 353 dnNC = siY  
18.5  创建对象 354 {8Hrb^8!  
18.5.1  创建对象函数 355 V>@NkQ<|y  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ,Zzh.z::D  
18.5.3 丢弃对象 356 ;f[Ki$7  
18.5.4  总结 356 }@4m@_gR?  
18.6  脚本中的表格 357 )& %X AW{  
18.6.1  方法1 357 "Z }'u2%\m  
18.6.2  方法2 357 h(]O;a-  
18.7 2D Plots in Scripts 358 @= 6}w_  
18.8 3D Plots in Scripts 359 R8Lp8!F'  
18.9  注释 360 v%/_*69a  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 KI-E=<zt  
18.11  一个更高级的脚本 362 e<l Wel  
18.12  <esc>键 364 ;Y j_@=   
18.13 包含文件 365 U{h5uezD  
18.14  脚本被优化调用 366 gx4`pH;B\  
18.15  脚本中的对话框 368 :r:5a(sq  
18.15.1  介绍 368 wX#=l?,K  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 m=PSC Ib  
18.15.3  输入框函数 370 <'-}6f3  
18.15.4  自定义对话框 371 vC$[Zm  
18.15.5  对话框编辑器 371 KKa"Ba$g  
18.15.6  控制对话框 377 Q)C#)|S  
18.15.7  更高级的对话框 380 "Hg.pDNZ  
18.16 Types语句 384 '_g8fz 3  
18.17 打开文件 385 ~{*FjZ`h  
18.18 Bags 387 KZ`d3ad  
18.13  进一步研究 388 7}%3Aw6]S  
19  vStack 389 %@G<B  
19.1  vStack基本原理 389 %K;,qS'N_  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Io5-[d  
19.3  五棱镜 393 =YB3^Z  
19.4 光束距离 396 *r?g&Vw$m  
19.5 误差 399 E4HG`_cWb  
19.6  二向分色棱镜 399 PsEm(.z  
19.7  偏振泄漏 404 b@Ik c<  
19.8  波前误差—相位 405 ^lB1- ;ng  
19.9  其它计算参数 405 TW Qf2  
20  报表生成器 406 lK9us  
20.1  入门 406 `{N0+n  
20.2  指令(Instructions) 406 C "<l}  
20.3  页面布局指令 406 SBAq,F'  
20.4  常见的参数图和三维图 407 pxM^|?Hxc  
20.5  表格中的常见参数 408 G! zV=p  
20.6  迭代指令 408 2!-ZNd:(+  
20.7  报表模版 408 =KmjCz:  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ;f^.7|  
21  一个新的project 413 O:+#k-?  
21.1  创建一个新Job 414 a_L&*%;  
21.2  默认设计 415 %^p1ax  
21.3  薄膜设计 416 jLI(Z  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Ii,e=RG>  
21.5  显色指数计算 422 ch 4z{7   
21.6  电场分布 424 m%+W{N4Wb  
后记 426 s59v* /  
0J7[n*~  
gPT-zul  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 & *B@qQ  
WT;=K0W6&  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
\d&j`UVY  
XGFU *g`kq  
目  录 zM|d9TS  
S?D|"#-,  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 @8HTC|_vX  
第1章 介绍 ..........................................................1 TixH Ehw  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 mSY;hJi  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 Fs|fo-+H}k  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 % rRYT8  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 n (C*LK  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 [~W"$sT  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 R."<he ;  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ivb&J4?y  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 8ysU.5S  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 TF} <,aR  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 js^@tgf$x&  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 d8C?m*3 J  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 c;xL.  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 U8c0N<j  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 aG%KiJ7KEN  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 L oe!@c  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 pT>[w1Kk^  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 `pn]jpW9  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 GLB7h 9>  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 Y 1rU  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 "w*VyD  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 I?G m  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 !l?Go<^*L  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 kUUN2  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 YjdCCju  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 fZ`b~ZBwIj  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 -m(9*b{h@  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 S:v]3G  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
查看本帖完整版本: [-- 线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计