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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 BQ:Kx_   
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ZC*d^n]x.  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 aQ:f"0fL  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 KAcri<^G  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 si_ HN{  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
s)8M? |[`I  
特邀专家介绍 l1Q+hz5"*U  
[attachment=121028] 08?MS_  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 MxEAs}MDv  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 # pB:LPEsK  
课程概要 f}Tr$r  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 [(F<|f:n  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 e@-Mlq)  
课程大纲 G1_@! 4  
1. Essential Macleod软件介绍 )9*3^v  
1.1 介绍软件 ~o'#AP#N~  
1.2 创建一个简单的设计 ]</4#?_  
1.3 绘图和制表来表示性能 X7d.Ie  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 hYXZ21(K#  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) |kNGpwpI  
1.6 特定设计的公式技术 &qP-x98E?  
1.7 交互式绘图 <4e*3WSG  
2. 光学薄膜理论基础 wy- C~b'Qd  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 u<shhb-  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 &:I +]G/W  
3. 材料管理 k)K-mD``U  
3.1 材料模型 5 t`ap  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 xhkWKB/7  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 o $`kpr  
3.4 基板光学常数的提取 _d| 62VS  
4. 光学薄膜设计优化方法 jc.JX_/  
4.1 参考波长与g t?nc0;Q9,@  
4.2 四分之一规则 km\ld&d]$  
4.3 导纳与导纳图 .`& /QiD  
4.4 斜入射光学导纳 'cF%4F  
4.5 光学薄膜设计的进展 1H4Zgh U  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 (5q%0|RzRs  
4.6.1 优化目标设置 ?6iatI !  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) [x<6v}fRn  
4.6.3 膜层锁定和链接  AMD?LjY~  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 r%,H*DOu  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 "c/s/$k//  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 5nx<,-N*BP  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Lcs{OW,  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 y /:T(tk$  
5.5 如何在Function中编写脚本 ~x4B/zW?  
6. 光学薄膜系统案例 #xP!!.DF(  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 MFH"$t+  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 i ,IM?+4  
6.3 Stack应用范例说明 H : T N  
7. 薄膜性能分析 G4`Ut1g ^  
7.1 电场分布 x 1BOW  
7.2 公差与灵敏度分析 ft/^4QcyAM  
7.3 反演工程 IjDT'p_  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 }, fo+vRM  
8. 真空技术 .^LL9{?  
8.1 常用真空泵介绍 =`1m-   
8.2 真空密封和检漏 j|&DP-@g/  
9. 薄膜制备技术 !/nx=vg p  
9.1 常见薄膜制备技术 mUt,Z^ l`  
10. 薄膜制备工艺 fNqmTRu  
10.1 薄膜制备工艺因素 \POnsM)+l  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Aa`MK$29F  
10.3 光学薄膜监控技术 wt}%2x} x  
11. 激光薄膜 l7'{OB L  
11.1 薄膜的损伤问题 Vj=Xcn#*8  
11.2 激光薄膜的制备流程 -jVaS w t  
11.3 激光薄膜的制备技术 :6W^ S/pf  
12. 光学薄膜特性测量 ]<q}WjXD'  
12.1 薄膜光谱测量 g8,?S6\nMz  
12.2 薄膜光学常数测量 _3.G\/>[K  
12.3 薄膜应力测量 7V} ]C>G  
12.4 薄膜损伤测量 kG$E tE#  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 w#xeua|*I#  
[attachment=121029]
;vJ\]T ml  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
E q=wdI  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
{Vxc6,=  
内容简介 %GX uuE}mX  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Q sg/ V]  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (LRM~5KVg  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 CZyz;Jtk  
.kc"E  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
T A\4uy6o  
目录 [0&'cu>  
Preface 1 I /On3"U%  
内容简介 2 '%SR.JL  
目录 i PFS;/   
1  引言 1 1yBt/U2  
2  光学薄膜基础 2 SOp=~z  
2.1  一般规则 2 J3e:Y!  
2.2  正交入射规则 3 WR/o @$/  
2.3  斜入射规则 6 U@6jOZ  
2.4  精确计算 7 sdJ%S*)5G$  
2.5  相干性 8 ebN(05ZV  
2.6 参考文献 10 'qL5$zG  
3  Essential Macleod的快速预览 10 <nWKR,  
4  Essential Macleod的特点 32 HDmx@E.@  
4.1  容量和局限性 33 J7BFk ?=  
4.2  程序在哪里? 33 BXg!zW%+  
4.3  数据文件 35 #?{qlgv<p  
4.4  设计规则 35 Q2/MnM  
4.5  材料数据库和资料库 37 ;gDMl57PQ.  
4.5.1材料损失 38 S!;L F4VA  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Y?yo\(Cdx  
4.5.2 材料库 41 l{Jt sI  
4.5.3导出材料数据 43 _eJXi,  
4.6  常用单位 43 J I<3\=:+  
4.7  插值和外推法 46 I-b_h5ZD6  
4.8  材料数据的平滑 50 z % x7fe  
4.9 更多光学常数模型 54 2_;]  
4.10  文档的一般编辑规则 55 "S5S|dBc  
4.11 撤销和重做 56 g(/{.%\k  
4.12  设计文档 57 yu)q4C7ek  
4.10.1  公式 58 bfgz1 `u  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @}<"N  
4.10.3  沉积密度 59 t5.`! 3EO  
4.10.4 平行和楔形介质 60 AL$W+')  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 yN*:.al  
4.10.4  性能 61 M`GP^Ta  
4.10.5  保存设计和性能 64 *'D=1{WZ!  
4.10.6  默认设计 64 .xO _E1Ku;  
4.11  图表 64 s/ M7Zl  
4.11.1  合并曲线图 67 v:KX9A.  
4.11.2  自适应绘制 68 zJ9v%.e  
4.11.3  动态绘图 68 D+Cm<ZT~  
4.11.4  3D绘图 69 '\`6ot8  
4.12  导入和导出 73 C+w__gO&r  
4.12.1  剪贴板 73 (;a B!(_  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 OL3UgepF  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 $5,~JYcb  
4.13  背景 77 Sp:l;SGd  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Bv $UFTz  
4.15  生成Rugate 84 ]q{ PDZ   
4.16  参考文献 91 n`q2s'Pc  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 2i\Q@h  
5.1  Jobs 92 {<2>6 _z  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 %Rp8{.t7  
5.3  输入材料 94 wW:7y>z)  
5.4  设计数据文件夹 95 '0|o`qoLzA  
5.5  默认设计 95 YNSyi@  
6  细化和合成 97 *8bK')W  
6.1  优化介绍 97 #^6^  
6.2  细化 (Refinement) 98 X7aYpt;  
6.3  合成 (Synthesis) 100 OL'P]=U  
6.4  目标和评价函数 101 ?  -3\  
6.4.1  目标输入 102 DAdYg0efex  
6.4.2  目标 103 ]H ~Y7\N-v  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ju|]Qlek  
6.5  层锁定和连接 104 W|MWXs5'1*  
6.6  细化技术 104 m@jge)O&D  
6.6.1  单纯形 105 !\-WEQrp\  
6.6.1.1 单纯形参数 106 BkawL,  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 {uU 2)5i2-  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ]f8L:=c  
6.6.3  模拟退火算法 109 h[kU<mU"T  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 m:uPEpcU  
6.6.4  共轭梯度 111 ,2L$G&?  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %MZP)k,&U  
6.6.5  拟牛顿法 112 g # S0V  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }#1/fok  
6.6.6  针合成 113 VfSj E.|  
6.6.6.1 针合成参数 114 ^C/  
6.6.7 差分进化 114 ba3*]01Yb  
6.6.8非局部细化 115 |mhKIis U  
6.6.8.1非局部细化参数 115 nv0#~UgE#a  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 " .4,."  
6.7.1  细化 116 :@eHX&  
6.7.2  合成 117 fE]XWA4U  
6.8  参考文献 117 "?3`  
7  导纳图及其他工具 118 z.36;yT/  
7.1  简介 118 o(!@7Lqq  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 KkcXNjPVS  
7.2.1  四分之一波长规则 119 e(?]SU|  
7.2.2  导纳图 120 NBYH;h P  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yVX8e I  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 OGOND,/R?/  
7.5  斜入射导纳图 141 jZteooJG|  
7.6  对称周期 141 /(hUfYm0  
7.7  参考文献 142 3BG>Y(v  
8  典型的镀膜实例 143 `JB?c  
8.1  单层抗反射薄膜 145 XJ1=m   
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 cA)[XpQ:+W  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 NX[4PKJ0C  
8.4  W-膜层 148 M f~}/h  
8.5  V-膜层 149 ;Hmp f0$  
8.6  V-膜层高折射基底 150 kLj$@E`4  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 k^\pU\J  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 k*?I>%^6#T  
8.9  四层抗反射薄膜 153 s58 C2  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Q>Qibr  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8|6 4R:  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1oiRWRe  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 M|,mr~rRG  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 }}&#|)Yq  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 k(t}^50^j  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 i,I B!x  
8.17  1/4波长堆栈 162 >UDd @  
8.18  陷波滤波器 163 gw36Ec<M  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3^?ZG^V  
8.20  褶皱 165 as*4UT3  
8.21  消偏振分光器1 169 TX=yPq  
8.22  消偏振分光器2 171 n/~A`%E@  
8.23  消偏振立体分光器 172 (wRgus  
8.24  消偏振截止滤光片 173 D^ Jk@<*  
8.25  立体偏振分束器1 174 ^r6!l.  
8.26  立方偏振分束器2 177 QnQOm ""  
8.27  相位延迟器 178 ]\ !5}L  
8.28  红外截止器 179 M{g%cR0  
8.29  21层长波带通滤波器 180 i|`dWOVb  
8.30  49层长波带通滤波器 181 3cdTed-MIh  
8.31  55层短波带通滤波器 182 d?wc*N3  
8.32  47 红外截止器 183 bKg8rK u  
8.33  宽带通滤波器 184 >P6BW  
8.34  诱导透射滤波器 186 FMA6_fju4  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ^9Qy/Er'  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ,R%q}IH#  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 [S5\#=_4S  
8.35  增益平坦滤波器 193 4}+/F}TbJ5  
8.38  啁啾反射镜 1 196 h2ytS^  
8.39  啁啾反射镜2 198 2 3OC2|  
8.40  啁啾反射镜3 199 Xtt ? ]  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Bn@(zHG+5&  
8.42  增加铝反射率膜 201 #(An6itl  
8.43  参考文献 202 '5&s=M_  
9  多层膜 204 4=<tWa|@9  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 iQDx{m3]  
9.2  内部透过率 204 ^[:p|U2mA  
9.3 内部透射率数据 205 q`-;AG|xF  
9.4  实例 206 Pj}6 6.  
9.5  实例2 210 Cj~'Lhmv'T  
9.6  圆锥和带宽计算 212 [!!Q,S"  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 PDs@?nz,  
10  光学薄膜的颜色 216 .L'.c/ s  
10.1  导言 216 AGLscf.  
10.2  色彩 216 94B\5I}  
10.3  主波长和纯度 220 0 a80 LAK  
10.4  色相和纯度 221 SkmT`*v@  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 vZ.x{"n'~  
10.6 色差 226 n{6G"t:^l  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ep)>X@t  
10.8  颜色渲染指数 234 >=[(^l  
10.9  色差计算 235 B95B|tU>.  
10.10  参考文献 236 dKdj`wB  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 1t)il^p4[;  
11.1  短脉冲 238 w.[ "p9tc  
11.2  群速度 239 hCC<?5q  
11.3  群速度色散 241 )wT-8o  
11.4  啁啾(chirped) 245 +E{|63~q  
11.5  光学薄膜—相变 245 yu;P +G  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Hy^N!rBxfO  
11.7  色度色散 246 PYGRsrcFd#  
11.8  色散补偿 249 euC&0Ee2  
11.9  空间光线偏移 256 Ytl4kaYS  
11.10  参考文献 258 ZMel{w`n  
12  公差与误差 260 +0OLc2 )w  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Mnscb  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 HSc~*Q  
12.2.1  误差工具 267 "1%5,  
12.2.2  灵敏度工具 271 YJ\Xj56gv  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ljb7oA3cP4  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Ymg|4 %O@  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 0N $v"uX@  
12.3  参考文献 276 1,% R;7J=g  
13  Runsheet 与Simulator 277 +mn ,F};  
13.1  原理介绍 277 !qWH`[:  
13.2  截止滤光片设计 277 iv4H#rJ  
14  光学常数提取 289 L U={")TdQ  
14.1  介绍 289 Ru>MFG  
14.2  电介质薄膜 289 ]@phF _  
14.3  n 和k 的提取工具 295 R=QZgpR  
14.4  基底的参数提取 302 8|\8O@  
14.5  金属的参数提取 306 njputEGX  
14.6  不正确的模型 306 T(U_  
14.7  参考文献 311 dZ0A3(t  
15  反演工程 313 LGw$v[wb  
15.1  随机性和系统性 313 ppVHLrUh  
15.2  常见的系统性问题 314 toBHkiuD  
15.3  单层膜 314 uFinv2Z '  
15.4  多层膜 314 ?gt l)q  
15.5  含义 319 xD~5UER  
15.6  反演工程实例 319 }E50>g  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @eKec1<  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 -C(crn  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 rE.;g^4p  
16.1  光学性质的热致偏移 329 W *),y:  
16.2  应力工具 335 ~E2KZm  
16.3  均匀性误差 339 Y,^@P  
16.3.1  圆锥工具 339 $#9;)8J  
16.3.2  波前问题 341 3cK I  
16.4  参考文献 343 Q7jb'y$ozO  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 z`f($t[  
17.1  引言 345 c7x~{V8  
17.2  操作数 345 3sy (vC  
18  如何在Function中编写脚本 351 0dE@c./R i  
18.1  简介 351 S.-TOE  
18.2  什么是脚本? 351 C26>BU<  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 svcK?^ HTe  
18.4  基础 352 I 8`VNA&b  
18.4.1  Classes(类别) 352 *zb Nd:i9  
18.4.2  对象 352 i:Y^{\Z?V  
18.4.3  信息(Messages) 352 1mOh{:1u  
18.4.4  属性 352 Y 5- F@(  
18.4.5  方法 353 :V RNs  
18.4.6  变量声明 353 JfLqtXF[&"  
18.5  创建对象 354 v$?+MNks  
18.5.1  创建对象函数 355 mwHB(7YS,  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 8]/bK5`  
18.5.3 丢弃对象 356 ^ *k?pJ5  
18.5.4  总结 356 6xTuNE1  
18.6  脚本中的表格 357 5YE'L.  
18.6.1  方法1 357 -#u=\8  
18.6.2  方法2 357 Z>:NPZODf  
18.7 2D Plots in Scripts 358 tE<H|_{L  
18.8 3D Plots in Scripts 359 f e\$@-  
18.9  注释 360 g+vva"  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 lb4Pcd j  
18.11  一个更高级的脚本 362 =.Pw`.  
18.12  <esc>键 364 |"ls\ 7  
18.13 包含文件 365 \XCe22x]  
18.14  脚本被优化调用 366 c|e~BQdRw  
18.15  脚本中的对话框 368 +" .X )avF  
18.15.1  介绍 368 %*A0# F  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 a*lh)l<KV  
18.15.3  输入框函数 370 N{9v1`B  
18.15.4  自定义对话框 371 U)fc*s  
18.15.5  对话框编辑器 371 <\r T%f}3^  
18.15.6  控制对话框 377 <J< {l  
18.15.7  更高级的对话框 380 qeVfE_<  
18.16 Types语句 384 4;e5H_}Oo  
18.17 打开文件 385 3]}D`Qs6  
18.18 Bags 387 :~"CuB/  
18.13  进一步研究 388 +h|`/ &,  
19  vStack 389 Ns>- o  
19.1  vStack基本原理 389 1H? u Qy  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 n{n52][J]  
19.3  五棱镜 393 s4X>.ToMC  
19.4 光束距离 396 cOmw?kA*G  
19.5 误差 399 [kVS O  
19.6  二向分色棱镜 399 e24WW^S  
19.7  偏振泄漏 404 MU@UfB|;u  
19.8  波前误差—相位 405 ]#)()6)2v  
19.9  其它计算参数 405 !![DJ  
20  报表生成器 406 XRM_x:+]  
20.1  入门 406 :C(=&g<]D  
20.2  指令(Instructions) 406 "jeb%k  
20.3  页面布局指令 406 0fb2;&pUa  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;#g"(  
20.5  表格中的常见参数 408 u_w#gjiC  
20.6  迭代指令 408 132{# tG]  
20.7  报表模版 408 PS)4 I&;U  
20.8  开始设计一个报表模版 409 &47i"%  
21  一个新的project 413 {j.bC@hWw  
21.1  创建一个新Job 414 [%"|G9  
21.2  默认设计 415 OcR$zlgs[v  
21.3  薄膜设计 416 -u6bAQ  
21.4  误差的灵敏度计算 420 $p1(He0 2  
21.5  显色指数计算 422 <GS^  
21.6  电场分布 424 %P;lv*v.  
后记 426 :KQ~Cb  
b6 cBg  
27eooY1  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 /hr7NT{e%v  
-^&<Z 0m  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
$t$ShT)  
($q-_m  
目  录 Go5J%&E9  
[^WC lRF  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 m|SUV  
第1章 介绍 ..........................................................1 q}i]'7  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 U$O\f18  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 m~iXl,r  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 zU5v /'h>d  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ep!Rf:  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 h9t$Uz^N  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ^h(ew1:  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 k KaE=H-x  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Kfbb)?  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 @x*c1%wg  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 u4t7Ie*Q  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 66g9l9wm(  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 td(li.,  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 !y\'EW3|G  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 UFXaEl}R   
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 v"y-0$M  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Eq%}  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5dx$HE&b)  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 sQYkQ81  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 M1k{t%M+S  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 1h^:[[!c  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 G!Op~p@Jm  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 .M qP_Z',  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ()Y~Q(5ji  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 NxkGOAOE  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 bg!/%[ {M  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ahJ`T*)HY  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 u }#(.)a:  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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