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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 PYl(~Vac  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 VGY#ph%  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 >uuP@j  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 hgCeU+H  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 mB.kV Ve0  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
c_]$UM[7L  
特邀专家介绍 *ws!8-)fH  
[attachment=121028] -So&?3,\A@  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 }MDuQP]  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 O1Gd_wDC/i  
课程概要 B1oy,'  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 dQR2!yHEq  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 _'k?9eN`  
课程大纲 %Lexu)odW  
1. Essential Macleod软件介绍 EnJAHgRV;e  
1.1 介绍软件 0sq1SHI{  
1.2 创建一个简单的设计 `Njv#K} U  
1.3 绘图和制表来表示性能 sT9P  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 mfO:#]K  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) l|`%FB^k  
1.6 特定设计的公式技术 9N|O*h1;u  
1.7 交互式绘图 MEbx{XC  
2. 光学薄膜理论基础 `wI<LTzXS  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @4 m_\]Wy  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B&_62`  
3. 材料管理 &%`IPhbT  
3.1 材料模型 9)Y]05us  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 rp.S4;=Q9  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 C:g2E[#  
3.4 基板光学常数的提取 ,ijgqEN  
4. 光学薄膜设计优化方法 zPU& }7  
4.1 参考波长与g @6>R/]  
4.2 四分之一规则 >~I~!i3  
4.3 导纳与导纳图 MI|DOp  
4.4 斜入射光学导纳 ^u#!Yo.!(  
4.5 光学薄膜设计的进展 "xlf6pm%  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 lNQt  
4.6.1 优化目标设置 $!Z6?+  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) o;mXk2  
4.6.3 膜层锁定和链接 \pB"R$YZ6  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ="RDcf/  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 4_J* 0=U  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Xvm.Un< N  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 A"k6n\!n;  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 b5 YE4h8%  
5.5 如何在Function中编写脚本 Deq~"  
6. 光学薄膜系统案例 {j[[E/8N!y  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 5.#r\' Z#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 to^ &:  
6.3 Stack应用范例说明 &F[/@  
7. 薄膜性能分析 Y4}!9x  
7.1 电场分布 I@a7AuOw  
7.2 公差与灵敏度分析 f3s0.G#l  
7.3 反演工程 Rk56H  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ZrnZ7,!@  
8. 真空技术 cu]2`DF  
8.1 常用真空泵介绍 g1L$+xD^  
8.2 真空密封和检漏 %xf6U>T  
9. 薄膜制备技术 }8p;w T!  
9.1 常见薄膜制备技术 ,IxAt&kN  
10. 薄膜制备工艺 -*k%'Gr  
10.1 薄膜制备工艺因素 (1%u`#5n-N  
10.2 薄膜均匀性修正技术 49~5U+x;  
10.3 光学薄膜监控技术 O82T|0uw  
11. 激光薄膜 TS)p2#  
11.1 薄膜的损伤问题 |:`f#H  
11.2 激光薄膜的制备流程 Zgt, 'T  
11.3 激光薄膜的制备技术 HQK%Y2S  
12. 光学薄膜特性测量 FD*`$.e3\  
12.1 薄膜光谱测量 q/Ba#?sen  
12.2 薄膜光学常数测量 P49lE  
12.3 薄膜应力测量 +?[TH?2c+  
12.4 薄膜损伤测量 6DD^h:*>  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 lz EF^6I  
[attachment=121029]
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
K7Kd{9-2  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
"wmQ,=  
内容简介 Z_D8}$!  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /}-]n81m  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 kWc%u-_  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ~ d^+yR-  
]y@9 z b  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
p@/!+$^{  
目录 NwoBM6 #  
Preface 1 2I(0EBW  
内容简介 2 w#U3h]>,  
目录 i dY68wW>d|  
1  引言 1 ;FQAL@"Yj  
2  光学薄膜基础 2 R8F[ 7&(  
2.1  一般规则 2 Pon 2!$  
2.2  正交入射规则 3 '0GCaL*Sd  
2.3  斜入射规则 6 mQtGE[  
2.4  精确计算 7 ;hJTJMA6/6  
2.5  相干性 8 2)h i(  
2.6 参考文献 10 BhLYLlXPY  
3  Essential Macleod的快速预览 10 nV,qC .z  
4  Essential Macleod的特点 32 oqB(l[%z2  
4.1  容量和局限性 33 rV)mcfw:Z  
4.2  程序在哪里? 33 gpVZZ:~  
4.3  数据文件 35 mEv<r6qDT  
4.4  设计规则 35 m ,,-rC  
4.5  材料数据库和资料库 37 t@QaxZIlt;  
4.5.1材料损失 38 T|Sz~nO}f  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 b/5?)!I  
4.5.2 材料库 41 Ovv~ymj  
4.5.3导出材料数据 43 ]C3{ _?=  
4.6  常用单位 43 Oj\lg2Ck  
4.7  插值和外推法 46 q|b#=Af]g  
4.8  材料数据的平滑 50 OGh9^,v  
4.9 更多光学常数模型 54 [0El z@.C  
4.10  文档的一般编辑规则 55 M9HM:  
4.11 撤销和重做 56 ^]( sCE7  
4.12  设计文档 57 [U]U *x  
4.10.1  公式 58 _(5SiK R  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /@X!  
4.10.3  沉积密度 59 .C$S DhJ~  
4.10.4 平行和楔形介质 60 w&hgJ  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 *BH*   
4.10.4  性能 61 $[T^ S  
4.10.5  保存设计和性能 64 *%7[{Loz  
4.10.6  默认设计 64 CeSr~Ikg|  
4.11  图表 64 >N62t9Ll[  
4.11.1  合并曲线图 67 c [sydl  
4.11.2  自适应绘制 68 B\r2M`N5  
4.11.3  动态绘图 68 {mrTpw  
4.11.4  3D绘图 69 .LhIB?  
4.12  导入和导出 73 F{0Z  
4.12.1  剪贴板 73 d&4 ve Lu  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 U<gM gA  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 K#_&}C^-jY  
4.13  背景 77 L15?\|':Y  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 kfr' P u  
4.15  生成Rugate 84 =e](eA;  
4.16  参考文献 91 X0Zqx1  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 B(7oHj.i2  
5.1  Jobs 92 1fm4:xHH  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Q^prHn*@  
5.3  输入材料 94 Q@?8-  
5.4  设计数据文件夹 95 C]414Ibi  
5.5  默认设计 95 < aJl i   
6  细化和合成 97 x? tC2L  
6.1  优化介绍 97 _8A  
6.2  细化 (Refinement) 98 U$v|c%6  
6.3  合成 (Synthesis) 100 I{tY;b'w  
6.4  目标和评价函数 101 ]6L;   
6.4.1  目标输入 102 :+NZW9_  
6.4.2  目标 103 7rQwn2XD{  
6.4.3  特殊的评价函数 104 0b6jGa  
6.5  层锁定和连接 104 )12.W=p  
6.6  细化技术 104 /4/'&tY  
6.6.1  单纯形 105 H xs'VK*  
6.6.1.1 单纯形参数 106 *o.f<OwOz  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 hb#Nm6  
6.6.2.1 Optimac参数 108 86Hg?!<i.  
6.6.3  模拟退火算法 109 v e($l"T  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 vZ,DJ//U,  
6.6.4  共轭梯度 111 `NYu|:JK:  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 OL]P(HRm]~  
6.6.5  拟牛顿法 112 2(LF @xb  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @W}cM  
6.6.6  针合成 113 'yxN1JF  
6.6.6.1 针合成参数 114 H3-(.l[!b)  
6.6.7 差分进化 114 B-^r0/y;  
6.6.8非局部细化 115 Zc9@G-  
6.6.8.1非局部细化参数 115 <G|i!Pm  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 pHQrjEF*  
6.7.1  细化 116 9d&@;&al  
6.7.2  合成 117 YBh|\  
6.8  参考文献 117 "uCO?hv0  
7  导纳图及其他工具 118 $B%wK`J  
7.1  简介 118 GWFF.Mo^  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 `_aX>fw  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Drm#z05i[g  
7.2.2  导纳图 120 /2^"c+/'p  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (P!r^87  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 JLd-{}A""-  
7.5  斜入射导纳图 141 "5<:Dj/W  
7.6  对称周期 141 &1 /OwTI4J  
7.7  参考文献 142 $7h]A$$Fv  
8  典型的镀膜实例 143 L~oy|K67  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Hjhgu=  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 P:D;w2'Q  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 UE9RrfdN  
8.4  W-膜层 148 <O Y (y#x  
8.5  V-膜层 149 {zX]4 1T  
8.6  V-膜层高折射基底 150 e"oTlB  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 o|:c{pwq  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 dG&^M ".(  
8.9  四层抗反射薄膜 153 '0-YFx'U0V  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 u mT *  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 "@z X{^:  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 vB74r]'F  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ai%*s&0/Y  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 O22Q g  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 )ifjK6*  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 J':X$>E|  
8.17  1/4波长堆栈 162 $RH.  
8.18  陷波滤波器 163 ;b{yu|  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 LBxmozT  
8.20  褶皱 165 {Qi J-[q  
8.21  消偏振分光器1 169 BLN|QaZ  
8.22  消偏振分光器2 171 rJZR8bo  
8.23  消偏振立体分光器 172 *b'4>U  
8.24  消偏振截止滤光片 173 cY5w,.Q/!  
8.25  立体偏振分束器1 174 ]p8 zT|bv  
8.26  立方偏振分束器2 177 xi51,y+(5  
8.27  相位延迟器 178 3CzF@t;5  
8.28  红外截止器 179 !4-4i  
8.29  21层长波带通滤波器 180 NnH]c+  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Vwu dNjL  
8.31  55层短波带通滤波器 182 #x qiGK  
8.32  47 红外截止器 183 [#=IKsO'R6  
8.33  宽带通滤波器 184 xa.tH)R  
8.34  诱导透射滤波器 186 O8 OAXRt/Y  
8.35  诱导透射滤波器2 188 9tX+n{i  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 &szYa-K*  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 KomMzG:  
8.35  增益平坦滤波器 193 6hMKAk  
8.38  啁啾反射镜 1 196 2E8G 5?qe)  
8.39  啁啾反射镜2 198 ^T:L6:  
8.40  啁啾反射镜3 199 }DQTy.d;P  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Ngj&1Ta&[  
8.42  增加铝反射率膜 201 +h@.P B^`~  
8.43  参考文献 202 tr5j<O  
9  多层膜 204 ollsB3]]  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ]1FLG* sB  
9.2  内部透过率 204 QM![tZt%;  
9.3 内部透射率数据 205 ua"2nVxK_K  
9.4  实例 206 q{&\nCy  
9.5  实例2 210 l?QA;9_R'  
9.6  圆锥和带宽计算 212 tLi91)oG  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 l\F71pwSI  
10  光学薄膜的颜色 216 [YP{%1*RM  
10.1  导言 216 CT5s`v!s  
10.2  色彩 216 /oW]? 9  
10.3  主波长和纯度 220 iciKjXJ :  
10.4  色相和纯度 221 hxzA1s%~  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 U?an\rv  
10.6 色差 226 GeDI\-  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 C{,^4Eh3r  
10.8  颜色渲染指数 234 {G0=A~  
10.9  色差计算 235 D2g/P8.<A  
10.10  参考文献 236 wZZ~!"O &  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 re_nb)4g  
11.1  短脉冲 238 obE8iG@H  
11.2  群速度 239  =n5n  
11.3  群速度色散 241 O/|))H?C  
11.4  啁啾(chirped) 245 AT)b/ycC  
11.5  光学薄膜—相变 245 m% 3D  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Ml$<x"Q  
11.7  色度色散 246 4(s HUWT  
11.8  色散补偿 249 ?m5E Xe  
11.9  空间光线偏移 256 7*j!ZUzp  
11.10  参考文献 258 P3`$4p?  
12  公差与误差 260 7UY4* j|[C  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ^D5Jqh)  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 YGC%j  
12.2.1  误差工具 267 iMt3h8  
12.2.2  灵敏度工具 271 .b+ix=:  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 'B{FRK  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ]iGeqwT  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ~uH_y-  
12.3  参考文献 276 2cUT bRm  
13  Runsheet 与Simulator 277 0Dna+V/jI  
13.1  原理介绍 277 yhYF "~CM  
13.2  截止滤光片设计 277 jQzl!f1c3  
14  光学常数提取 289 Nf^<pT [*  
14.1  介绍 289 E(j# R"  
14.2  电介质薄膜 289 'prHXzi(h  
14.3  n 和k 的提取工具 295 :^PksR  
14.4  基底的参数提取 302 v+"4YIN  
14.5  金属的参数提取 306 z4:<?K  
14.6  不正确的模型 306 ,5"(m?[m  
14.7  参考文献 311 \7i_2|w  
15  反演工程 313 ?WHf%Ie2(  
15.1  随机性和系统性 313 &}[P{53sr  
15.2  常见的系统性问题 314 *Q^ z4UY  
15.3  单层膜 314 :u./"[G  
15.4  多层膜 314 7]xDMu'^&f  
15.5  含义 319 -1Dq_!i  
15.6  反演工程实例 319 @U18Dj[  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 &G\mcstX  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Nwz?*~1  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 oR&z,%0wMK  
16.1  光学性质的热致偏移 329 VO8rd>b4  
16.2  应力工具 335 <BED&j!qvP  
16.3  均匀性误差 339 HB8s[]A:D  
16.3.1  圆锥工具 339 Nw'03Jzx_  
16.3.2  波前问题 341 }VZExqm)  
16.4  参考文献 343 HK8sn1j  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 _%- +"3Ll  
17.1  引言 345 N"G aQ  
17.2  操作数 345 {?eUAB<  
18  如何在Function中编写脚本 351 IGcq*mR=  
18.1  简介 351 q:/df]Ntt  
18.2  什么是脚本? 351 dv>n38&mDQ  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 '1:)q  
18.4  基础 352 3{$7tck,  
18.4.1  Classes(类别) 352 M/quswn1  
18.4.2  对象 352 a&x:_vv  
18.4.3  信息(Messages) 352 OQ&N]P2p  
18.4.4  属性 352 VFL^-tXnA^  
18.4.5  方法 353 :R,M Y"(  
18.4.6  变量声明 353 iCF},W+  
18.5  创建对象 354 yl~_~<s6  
18.5.1  创建对象函数 355 ZrTB%  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 )&c#?wx'w  
18.5.3 丢弃对象 356 )"pvF8JR%3  
18.5.4  总结 356 ^;RK-)  
18.6  脚本中的表格 357 3NtUB;!  
18.6.1  方法1 357 xKG7d8=  
18.6.2  方法2 357 w!7ApEH1  
18.7 2D Plots in Scripts 358 cdt9hH`Cd  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Bi:lC5d5?  
18.9  注释 360 Bzrnmz5S  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 KOS0Du  
18.11  一个更高级的脚本 362  f\<r1  
18.12  <esc>键 364 (QiA5!wg  
18.13 包含文件 365 g0tnt)]  
18.14  脚本被优化调用 366 !k)6r6  
18.15  脚本中的对话框 368 l~rj7f;  
18.15.1  介绍 368 25)9R^  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 cjEqN8  
18.15.3  输入框函数 370 y4Jc|)  
18.15.4  自定义对话框 371 [34N/;5  
18.15.5  对话框编辑器 371 v.Ba  
18.15.6  控制对话框 377 {*7MT}{(  
18.15.7  更高级的对话框 380 Q v9q~l  
18.16 Types语句 384 2'Dl$DH  
18.17 打开文件 385 = ^NvUrK  
18.18 Bags 387 'dwT&v]@  
18.13  进一步研究 388 Plp.\N%f3  
19  vStack 389 J,yKO(}<C  
19.1  vStack基本原理 389 ={O ~  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 [s>3xWZ+a  
19.3  五棱镜 393 ( 2HM "Pd  
19.4 光束距离 396 {Yj5Mj|#  
19.5 误差 399 ETdXk&AN  
19.6  二向分色棱镜 399 \X8b!41  
19.7  偏振泄漏 404 x%}D+2ro-t  
19.8  波前误差—相位 405 K3?5bT_{  
19.9  其它计算参数 405  VGV-t  
20  报表生成器 406 zeHF-_{  
20.1  入门 406 !%G]~  
20.2  指令(Instructions) 406 r)iEtT!p*  
20.3  页面布局指令 406 <k:I2LF_  
20.4  常见的参数图和三维图 407 |h]V9=  
20.5  表格中的常见参数 408 d. wGO]"  
20.6  迭代指令 408 gJ6`Kl985O  
20.7  报表模版 408 pLB2! +  
20.8  开始设计一个报表模版 409 h<G4tjtk  
21  一个新的project 413 q-JTGCFl  
21.1  创建一个新Job 414 o+a=  
21.2  默认设计 415 kv:9Fm\$  
21.3  薄膜设计 416 N(&{~*YE  
21.4  误差的灵敏度计算 420 4XN \p  
21.5  显色指数计算 422  )d2Z g  
21.6  电场分布 424 $o[-xNn1  
后记 426 m-AF&( ;K  
FU3K?A B  
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书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 cE]z Tu?!  
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《Essential Macleod中文手册》
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目  录 6 8tyWd}  
d51lTGH7Z  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 iq; | i!  
第1章 介绍 ..........................................................1 {"ST hTZ  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 yLa@27T\A  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 9-42A7g^C  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ,;g%/6X  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 T2e-RR  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 (T%F^s5D  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 KL&/Yt   
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 /Y0~BQC7!  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 +4?Lwp'q  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 6 4_}"fU  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 Fw<"]*iu  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 NL9.J @"b  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 uavATnGO{B  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 4=yzf  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 cgb>Naa<  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200  FOiwA.:0  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 r[L.TX3Ah=  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ;+hh|NiQ  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 ~apt, hl  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 WcN4ff-  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 -<g9 ) CV5  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 /@9Q:'P  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 A({czHLhN5  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 j 3<Ci {3  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 zj`c%9N+  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 n8,%<!F^  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 8~'cP?  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Wmbc `XC  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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