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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 Y=@iD\u  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 c_u7O \  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 75iudki  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 p.5 *`, )  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 65GC7 >[  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
PHMp, z8  
特邀专家介绍 _TyQC1 d  
[attachment=121028] m4^VlE,`Dh  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 CoV @{Pi  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 1[-RIN;U8  
课程概要 |!J_3*6$>*  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。  CVZ 4:p  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 r;O?`~2'4  
课程大纲 X{iidTW`xv  
1. Essential Macleod软件介绍 F.D6O[pZ  
1.1 介绍软件 knzQ)iv&&  
1.2 创建一个简单的设计 u4xJ-Vu  
1.3 绘图和制表来表示性能 Ls*Vz,3!5  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 tPDB'S:&3  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 'cY @Dqg1  
1.6 特定设计的公式技术 W$` WkR  
1.7 交互式绘图 I.o3Old  
2. 光学薄膜理论基础 3*R(&O6}  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 \5b<!Nl  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 Q;@w\_ OR  
3. 材料管理 ZJQkZ_9@2  
3.1 材料模型 9lX[rBZ  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 qJ$S3B  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 eTt{wn;6  
3.4 基板光学常数的提取 =|d5V%mK  
4. 光学薄膜设计优化方法  <JZa  
4.1 参考波长与g `Mo%)I<`=  
4.2 四分之一规则 ,88%eX|  
4.3 导纳与导纳图 7>gW2 m  
4.4 斜入射光学导纳 >P6U0  
4.5 光学薄膜设计的进展 SNV;s,  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ve4 QS P  
4.6.1 优化目标设置 HPK}Z|Vl  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) lb]k"L%KU7  
4.6.3 膜层锁定和链接 Kt_HJ!  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 d_98%U+u  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 L~_zR>  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 R xWD>:  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 x_EU.924uY  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 o#IWH;ck.  
5.5 如何在Function中编写脚本 / `w'X/'VJ  
6. 光学薄膜系统案例 [ HjGdC  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ) |hHbD^V  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 E} ]SGU"  
6.3 Stack应用范例说明 + >v{#A_u  
7. 薄膜性能分析 bre6SP@  
7.1 电场分布 EKT"pL-EY  
7.2 公差与灵敏度分析 H/ub=,Ej*  
7.3 反演工程 )sapUnqrlR  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 '`p0T%w  
8. 真空技术 B^1Io9  
8.1 常用真空泵介绍 wJF$<f7P  
8.2 真空密封和检漏 r3.v^  
9. 薄膜制备技术 q{.~=~  
9.1 常见薄膜制备技术 tQ4{:WPG  
10. 薄膜制备工艺 z yI4E\  
10.1 薄膜制备工艺因素 P q( )2B  
10.2 薄膜均匀性修正技术 !i6 aA1'  
10.3 光学薄膜监控技术 zdDJcdbGd1  
11. 激光薄膜 Q1'D*F4  
11.1 薄膜的损伤问题 ..^,*  
11.2 激光薄膜的制备流程 .]Z,O>N  
11.3 激光薄膜的制备技术 ~#[ ZuMO?  
12. 光学薄膜特性测量 q}5&B =2pM  
12.1 薄膜光谱测量 #60<$HO:Z  
12.2 薄膜光学常数测量 Xgm9>/y  
12.3 薄膜应力测量 o6;VrpaNi  
12.4 薄膜损伤测量 &nZ.$UK<  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析  ,#-^  
[attachment=121029]
#D!3a%u0  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
jNseD  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
fmq^AnKd  
内容简介 HjN )~<j  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |&%l @X 6  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ?)5M3 lV3k  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 /h%MWCZWm^  
cl-i6[F  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
w@ 2LFDp  
目录 1vxh3KS.  
Preface 1 :ui1]its4  
内容简介 2 Yui:=GgUrr  
目录 i }c,}+{q  
1  引言 1 cjO,#W0&f  
2  光学薄膜基础 2 g@"6QAP  
2.1  一般规则 2 VVje|T^{Z  
2.2  正交入射规则 3 ,@ Cru=  
2.3  斜入射规则 6 u]c nbm  
2.4  精确计算 7 Cj):g,[a  
2.5  相干性 8 f1>^kl3@P  
2.6 参考文献 10 V1;Qt-i  
3  Essential Macleod的快速预览 10 Y<.F/iaH  
4  Essential Macleod的特点 32 i]LK,'  
4.1  容量和局限性 33 "$8<\k$LGT  
4.2  程序在哪里? 33 tg5jS]O  
4.3  数据文件 35 Gb \ 7W  
4.4  设计规则 35 @kwD$%*0  
4.5  材料数据库和资料库 37 5tl}rmI`  
4.5.1材料损失 38 FZmYv%J  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 uf)W? `e~  
4.5.2 材料库 41 ?\F,}e  
4.5.3导出材料数据 43 y$V{yh[:  
4.6  常用单位 43 1,`x1dcO!A  
4.7  插值和外推法 46 Nd!2 @?V4  
4.8  材料数据的平滑 50 rb\Ohv\  
4.9 更多光学常数模型 54 e?lqs,m@"  
4.10  文档的一般编辑规则 55 /9w}[y*E  
4.11 撤销和重做 56 1I^Sv  
4.12  设计文档 57 ,n!xzoX_  
4.10.1  公式 58 Yhw* `"X  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 r rwsj`  
4.10.3  沉积密度 59 3Ob"r`  
4.10.4 平行和楔形介质 60 \ bT]?.si  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 kdYl>M  
4.10.4  性能 61 UXk8nH  
4.10.5  保存设计和性能 64 ^]R0d3?>\  
4.10.6  默认设计 64 :M[E-j;  
4.11  图表 64 x(7K3(#|  
4.11.1  合并曲线图 67 r&3fSx9  
4.11.2  自适应绘制 68 hy)RV=X  
4.11.3  动态绘图 68 D[#\Y+N  
4.11.4  3D绘图 69 ^:)&KV8D|  
4.12  导入和导出 73 4COf H7Al9  
4.12.1  剪贴板 73 NJtB;  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 z:G9Uu3H(  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 dw4)4_  
4.13  背景 77 eXaDx%mM  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 .CpF0  
4.15  生成Rugate 84 .yP 3}Nl  
4.16  参考文献 91 KnFbRhu[  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 'Lw\n O.  
5.1  Jobs 92 anwn!Eqk"  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 |B`tRq  
5.3  输入材料 94 u ?Xku8 1l  
5.4  设计数据文件夹 95 T+ t-0k  
5.5  默认设计 95 vZDQ@\HrC  
6  细化和合成 97 T?ZMmUE  
6.1  优化介绍 97 ~3Y NHm6V  
6.2  细化 (Refinement) 98 K/,lw~>  
6.3  合成 (Synthesis) 100 &L?Dogo  
6.4  目标和评价函数 101 5y'Yosy:  
6.4.1  目标输入 102 n{yjH*\Z  
6.4.2  目标 103 QE}@|H9xs  
6.4.3  特殊的评价函数 104 g:clSN,  
6.5  层锁定和连接 104 yN o8R[M  
6.6  细化技术 104 7@"X~C  
6.6.1  单纯形 105 Mvh_>-i  
6.6.1.1 单纯形参数 106 qpeK><o  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 -&A[{m<,>  
6.6.2.1 Optimac参数 108 e](=)h|  
6.6.3  模拟退火算法 109 ]xG4T>S  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 T7Ac4LA  
6.6.4  共轭梯度 111 \nyFN  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 K]oPh:E  
6.6.5  拟牛顿法 112 HlSuhbi'@  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Z%R%D*f@y  
6.6.6  针合成 113 Z9D4;1  
6.6.6.1 针合成参数 114 .-AB o]hf  
6.6.7 差分进化 114 7a<qP=J  
6.6.8非局部细化 115 ("oA{:@d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 #50)DwD  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 lBdF9F<  
6.7.1  细化 116 h,+=h;!  
6.7.2  合成 117 _2Z3?/Y  
6.8  参考文献 117 ;Z_C3/b  
7  导纳图及其他工具 118 ]`XuE-Uh  
7.1  简介 118 {ybuHC  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 !q/lgpEi  
7.2.1  四分之一波长规则 119 YeLOd  
7.2.2  导纳图 120 TfVD'HAN;l  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 PpRO7(<cD  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ;" *`  
7.5  斜入射导纳图 141 d"UW38K{  
7.6  对称周期 141 iL, XBoE  
7.7  参考文献 142 RX1{?*r]Z  
8  典型的镀膜实例 143 Snu;5:R  
8.1  单层抗反射薄膜 145 }A7qIys$4  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 (O2HB-<rY  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0?xiGSZV  
8.4  W-膜层 148 ["<(\v9P)  
8.5  V-膜层 149 :gq@/COo(  
8.6  V-膜层高折射基底 150 %6'D!H?d  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ha=z<Q  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 8 8$ Y-g5*  
8.9  四层抗反射薄膜 153 lKUm_; m  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Ekme62Q>u  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 )<F\IM  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 rb'GveW[  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 \ZRoTh  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 n;-r W;ZO  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 \q|PHl  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 znO00qX  
8.17  1/4波长堆栈 162 >}{-!  
8.18  陷波滤波器 163 }>~>5jc/Pg  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 wPJRp]FA  
8.20  褶皱 165 O + & xb  
8.21  消偏振分光器1 169 J*!:ar  
8.22  消偏振分光器2 171 FT>~ES]cQd  
8.23  消偏振立体分光器 172 oB R(7U ~0  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Xb-c`k~_  
8.25  立体偏振分束器1 174 DS}rFU  
8.26  立方偏振分束器2 177 #L:P R>  
8.27  相位延迟器 178 X,+}syK  
8.28  红外截止器 179 dm=F:\C  
8.29  21层长波带通滤波器 180 q)ql]iH  
8.30  49层长波带通滤波器 181 rDX'oP:  
8.31  55层短波带通滤波器 182 BemkCj2  
8.32  47 红外截止器 183 .Pes{uHg  
8.33  宽带通滤波器 184 ;kW}'&Ug  
8.34  诱导透射滤波器 186 )?&kQ^@v  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Jav2A6a  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 (Q8 ?)  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <-:@} |br  
8.35  增益平坦滤波器 193 #S%Y; ilq  
8.38  啁啾反射镜 1 196 *X l<aNNx  
8.39  啁啾反射镜2 198 p <=%  
8.40  啁啾反射镜3 199 _G[I2]  
8.41  带保护层的铝膜层 200 \41)0,sEy  
8.42  增加铝反射率膜 201 TUUE(sLA  
8.43  参考文献 202 ]p&<nK,  
9  多层膜 204  AY'?Xt  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 -^4bA<dCCE  
9.2  内部透过率 204 O+p-1 C$\  
9.3 内部透射率数据 205 w;@25= |  
9.4  实例 206 rgdQR^!l6  
9.5  实例2 210 72ViPWW  
9.6  圆锥和带宽计算 212 aZjef  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 V.Ba''E7  
10  光学薄膜的颜色 216 +lgF/y6  
10.1  导言 216 0 \Yx.\X,  
10.2  色彩 216 Ivt} o_b*  
10.3  主波长和纯度 220 s"',370  
10.4  色相和纯度 221 +'['HQ)  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3$N %iE6  
10.6 色差 226 "bR'Bt  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Sm$j:xw <  
10.8  颜色渲染指数 234 3P#+) F~  
10.9  色差计算 235 hK39_A-  
10.10  参考文献 236 +*_fN ]M  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Z-t}6c'Kg  
11.1  短脉冲 238 5+bFy.UW  
11.2  群速度 239 ?S@R~y0K  
11.3  群速度色散 241 Q5y q"/=[a  
11.4  啁啾(chirped) 245 J[!x%8m  
11.5  光学薄膜—相变 245 2#b<d?"  
11.6  群延迟和延迟色散 246 &#-|Yh/  
11.7  色度色散 246 N$%61GiulT  
11.8  色散补偿 249 Vo9>o@FlLM  
11.9  空间光线偏移 256 n4WSV  
11.10  参考文献 258 w.D4dv_H  
12  公差与误差 260 VPM|Rj:d  
12.1  蒙特卡罗模型 260 nGx ~) T  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ByhOK}u;P4  
12.2.1  误差工具 267 y)p$_.YFF  
12.2.2  灵敏度工具 271 cK|rrwa0  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ]PlY}VOY  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 E5*-;>2c  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 i0'Xy>l  
12.3  参考文献 276 f^!11/Wv  
13  Runsheet 与Simulator 277 q8?= *1g  
13.1  原理介绍 277 c>S"`r  
13.2  截止滤光片设计 277 @1<omsl  
14  光学常数提取 289 : 'd76pM-  
14.1  介绍 289 t&R!5^R  
14.2  电介质薄膜 289  /[Bl  
14.3  n 和k 的提取工具 295 5 6Sh  
14.4  基底的参数提取 302 Z[#I"-Q~:  
14.5  金属的参数提取 306 J[}gku?C;  
14.6  不正确的模型 306 l5=u3r9WYC  
14.7  参考文献 311 Ql~#((K  
15  反演工程 313 }c` ?0FQ  
15.1  随机性和系统性 313 W>Mse[6`c  
15.2  常见的系统性问题 314 oUQGLl!V  
15.3  单层膜 314 b&=]S(  
15.4  多层膜 314 #"Eks79s  
15.5  含义 319 DC|xilP1O  
15.6  反演工程实例 319 &<gUFcw7Ui  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 7$+P|U  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 %"l81z  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Cq?',QU6j  
16.1  光学性质的热致偏移 329 w~<FG4@LU  
16.2  应力工具 335 Job/@> ;  
16.3  均匀性误差 339 "H5&3sF2  
16.3.1  圆锥工具 339 xw4ey<"I  
16.3.2  波前问题 341 $zC6(C(l  
16.4  参考文献 343  : cFF  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 V.;:u#{@-Q  
17.1  引言 345 /:#j ?c  
17.2  操作数 345 *he7BUO  
18  如何在Function中编写脚本 351 ra]!4Kd'  
18.1  简介 351 \ |4 Ca't  
18.2  什么是脚本? 351 _qY`KP "  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 tCZpfZ@+=  
18.4  基础 352 x 8 f6,  
18.4.1  Classes(类别) 352 3AvVU]@&Z@  
18.4.2  对象 352 4-y6MH  
18.4.3  信息(Messages) 352 QjQ4Z'.r>  
18.4.4  属性 352 =a?a@+  
18.4.5  方法 353 g9DG=\*A  
18.4.6  变量声明 353 HR[Q ?rg  
18.5  创建对象 354 o*%3[HmV  
18.5.1  创建对象函数 355 xe(MHNrj  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 \4OK!6LkI  
18.5.3 丢弃对象 356 n<{aPLQ  
18.5.4  总结 356 (JevHdI*V  
18.6  脚本中的表格 357 jo_o` j  
18.6.1  方法1 357 8dc538:q}  
18.6.2  方法2 357 +``>,O6  
18.7 2D Plots in Scripts 358 Lb!r(o>8Cb  
18.8 3D Plots in Scripts 359 e@[9C(5E"  
18.9  注释 360 "VV914*z  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 xC)7eQn/R  
18.11  一个更高级的脚本 362 ^[en3aQ  
18.12  <esc>键 364 rwoF}}  
18.13 包含文件 365 -<O JqB  
18.14  脚本被优化调用 366 >/b^fAG  
18.15  脚本中的对话框 368 LlU' _}>  
18.15.1  介绍 368 w]n 4KR4  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 M6\7FP6G  
18.15.3  输入框函数 370 h>dxBN  
18.15.4  自定义对话框 371 gC0;2  
18.15.5  对话框编辑器 371 pw!@Q?R  
18.15.6  控制对话框 377 b 1cd&e  
18.15.7  更高级的对话框 380 HH7[tGF  
18.16 Types语句 384 yP x\ltG3  
18.17 打开文件 385 M z9 3  
18.18 Bags 387 . /Y&\<  
18.13  进一步研究 388 ^ b@!dS  
19  vStack 389 .Nc_n5D6  
19.1  vStack基本原理 389 s){Q&E~X  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 H;qJH1EdD  
19.3  五棱镜 393 TNx_Rc}  
19.4 光束距离 396 .XIr?>G  
19.5 误差 399 <p09oZ{6  
19.6  二向分色棱镜 399 3Mw}R6g@#  
19.7  偏振泄漏 404 Im6U_JsNZh  
19.8  波前误差—相位 405 &1=g A.ZR  
19.9  其它计算参数 405 ,pn ) >  
20  报表生成器 406 ^dh=M5xz)  
20.1  入门 406 )R~a;?T_c0  
20.2  指令(Instructions) 406 am2a#4`  
20.3  页面布局指令 406 A hR0zg  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ikr7DBLt  
20.5  表格中的常见参数 408 ]s _@n!  
20.6  迭代指令 408 vuZf#\zh}  
20.7  报表模版 408 +Jdm #n?_  
20.8  开始设计一个报表模版 409  *=TYVM9  
21  一个新的project 413 )'`CC>Q  
21.1  创建一个新Job 414 oQ{cSThj  
21.2  默认设计 415 qT$ )Rb&  
21.3  薄膜设计 416 GJvp{U}y9I  
21.4  误差的灵敏度计算 420 r4EoJyt  
21.5  显色指数计算 422 r( M[8@Nz  
21.6  电场分布 424 +ZX .1[O  
后记 426 RYH)AS4w'  
n6/fan;  
AO $Wy@  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ]9s\_A9  
u7[pLtOwN  
《Essential Macleod中文手册》
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nW11wtiO.  
}Fm\+JOS   
目  录 %;tJQ%6-.S  
'^DUq?E4  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 {d,?bs)  
第1章 介绍 ..........................................................1 pUGN!3  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 J B(<.E 2  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 'aZAS Pn[  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 lM$t!2pRB  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 Wa<-AZnh  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 HJ",Sle  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 e:BDQU  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Sj@15 W  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 [<Q4U{F  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 6P^hN%0  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 AC'lS >7s  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 n_}aZB3;U  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 !UVk9  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 m2Q$+p@  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 PV(4$I}  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 SwX@I6huM  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 &y\igX1  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 s*.3ZS5  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 83Uw  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 FllX za)  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 2 eHx"Ha  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 x%pRDytA  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 p_r4^p\  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 /S[?{QA  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ~5T$8^K  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Cg^:jd  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 !?b/-~o7S  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Cdmy.gx^  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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