线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 BQ:Kx _
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ZC*d^n]x. 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 aQ:f"0fL 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 KAcri<^G 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 si_HN{ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) s)8M? |[`I 特邀专家介绍 l1Q+hz5"*U [attachment=121028] 08?MS_ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 MxEAs}MDv 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 #
pB:LPEsK 课程概要
f}Tr$r 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 [(F<|f:n 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 e@-Mlq) 课程大纲 G1_@!
4 1. Essential Macleod软件介绍 )9*3^v 1.1 介绍软件 ~o'#AP#N~ 1.2 创建一个简单的设计 ]</4#?_ 1.3 绘图和制表来表示性能 X7d.Ie 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 hYXZ21(K# 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) |kNGpwpI 1.6 特定设计的公式技术 &qP-x98E? 1.7 交互式绘图 <4e*3WSG 2. 光学薄膜理论基础 wy-
C~b'Qd 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 u<shhb- 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 &:I
+]G/W 3. 材料管理 k)K-mD``U 3.1 材料模型 5 t`ap 3.2 介质薄膜光学常数的提取 xhkWKB/7 3.3 金属薄膜光学常数的提取 o$`kpr 3.4 基板光学常数的提取 _d| 62VS 4. 光学薄膜设计优化方法 jc.JX_/ 4.1 参考波长与g t?nc0;Q9,@ 4.2 四分之一规则 km\ld&d]$ 4.3 导纳与导纳图 .`&/QiD 4.4 斜入射光学导纳 'cF%4F 4.5 光学薄膜设计的进展 1H4Zgh
U 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 (5q%0|RzRs 4.6.1 优化目标设置 ?6iatI ! 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) [x<6v}fRn 4.6.3 膜层锁定和链接 AMD?LjY~ 5. Essential Macleod中各个模块的应用 r%,H*DOu 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 "c/s/$k// 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 5nx<,-N*BP 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Lcs{OW, 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 y /:T(tk$ 5.5 如何在Function中编写脚本 ~x4B/zW? 6. 光学薄膜系统案例 #xP!!.DF( 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 MFH"$t+ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 i,IM?+4 6.3 Stack应用范例说明 H
:
T N 7. 薄膜性能分析 G4`Ut1g^ 7.1 电场分布 x1BOW 7.2 公差与灵敏度分析 ft/^4QcyAM 7.3 反演工程 IjDT'p_ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 },fo+vRM 8. 真空技术 .^LL9{? 8.1 常用真空泵介绍 =`1m- 8.2 真空密封和检漏 j|&DP-@g/ 9. 薄膜制备技术 !/nx=vgp 9.1 常见薄膜制备技术 mUt,Z^ l` 10. 薄膜制备工艺 fNqmTRu 10.1 薄膜制备工艺因素 \POnsM)+l 10.2 薄膜均匀性修正技术 Aa`MK$29F 10.3 光学薄膜监控技术 wt}%2x} x 11. 激光薄膜 l7'{OB
L 11.1 薄膜的损伤问题 Vj=Xcn#*8 11.2 激光薄膜的制备流程 -jVaS wt 11.3 激光薄膜的制备技术 :6W^ S/pf 12. 光学薄膜特性测量 ]<q}WjXD' 12.1 薄膜光谱测量 g8,?S6\nMz 12.2 薄膜光学常数测量 _3.G\/>[K 12.3 薄膜应力测量 7V} ]C>G 12.4 薄膜损伤测量 kG$E
tE# 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 w#xeua|*I#
[attachment=121029] ;vJ\]T ml
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027] Eq=wdI
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] {Vxc6,=
内容简介 %GX uuE}mX Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Qsg/V] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (LRM~5KVg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 CZyz;Jtk .kc"E
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 T A\4uy6o 目录 [0&'cu> Preface 1 I/On3"U% 内容简介 2 '%SR. JL 目录 i PFS;/ 1 引言 1 1yBt/U2 2 光学薄膜基础 2 SOp=~z 2.1 一般规则 2 J3e:Y! 2.2 正交入射规则 3 WR/o
@$/ 2.3 斜入射规则 6 U@6jOZ 2.4 精确计算 7 sdJ%S*)5G$ 2.5 相干性 8 ebN(05ZV 2.6 参考文献 10 'qL5$ zG 3 Essential Macleod的快速预览 10 <nWKR, 4 Essential Macleod的特点 32 HDmx@E.@ 4.1 容量和局限性 33 J7BFk
?= 4.2 程序在哪里? 33 BXg!zW%+ 4.3 数据文件 35 #?{qlgv<p 4.4 设计规则 35 Q2/MnM 4.5 材料数据库和资料库 37 ;gDMl57PQ. 4.5.1材料损失 38 S!;LF4VA 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Y?yo\(Cdx 4.5.2 材料库 41 l{Jt s I 4.5.3导出材料数据 43 _eJXi, 4.6 常用单位 43 J
I<3\=:+ 4.7 插值和外推法 46 I-b_h5ZD6 4.8 材料数据的平滑 50 z %x7fe 4.9 更多光学常数模型 54 2_;] 4.10 文档的一般编辑规则 55 "S5S|dBc 4.11 撤销和重做 56 g(/{.%\k 4.12 设计文档 57 yu)q4C7ek 4.10.1 公式 58 bfgz1
`u 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @}<"N 4.10.3 沉积密度 59 t5.`!3EO 4.10.4 平行和楔形介质 60 AL$W +') 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 yN*:.al 4.10.4 性能 61 M`GP^Ta 4.10.5 保存设计和性能 64 *'D=1{WZ! 4.10.6 默认设计 64 .xO
_E1Ku; 4.11 图表 64 s/
M7Zl 4.11.1 合并曲线图 67 v:KX9A. 4.11.2 自适应绘制 68 zJ9v%.e 4.11.3 动态绘图 68 D+Cm<ZT~ 4.11.4 3D绘图 69 '\`6ot8 4.12 导入和导出 73 C+w__gO&r 4.12.1 剪贴板 73 (;aB!(_ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 OL3UgepF 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 $5,~JYcb 4.13 背景 77 Sp:l;SGd 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Bv$UFTz 4.15 生成Rugate 84 ]q{
PDZ
4.16 参考文献 91 n` q2s'Pc 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 2i\Q@h 5.1 Jobs 92 {<2>6 _z 5.2 创建一个新Job(工作) 93 %Rp8{.t7 5.3 输入材料 94 wW:7y>z) 5.4 设计数据文件夹 95 '0|o`qoLzA 5.5 默认设计 95 YNSyi@ 6 细化和合成 97 *8bK')W 6.1 优化介绍 97 #^6^ 6.2 细化 (Refinement) 98 X7aYpt; 6.3 合成 (Synthesis) 100 OL'P]=U 6.4 目标和评价函数 101 ?
-3\ 6.4.1 目标输入 102 DAdYg0efex 6.4.2 目标 103 ]H ~Y7\N-v 6.4.3 特殊的评价函数 104 ju|]Qlek 6.5 层锁定和连接 104 W|MWXs5'1* 6.6 细化技术 104 m@jge)O&D 6.6.1 单纯形 105 !\-WEQrp\ 6.6.1.1 单纯形参数 106 BkawL, 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 {uU 2)5i2- 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]f8L:=c 6.6.3 模拟退火算法 109 h[kU<mU"T 6.6.3.1 模拟退火参数 109 m:uPEpcU 6.6.4 共轭梯度 111 ,2L$G&? 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %MZP)k,&U 6.6.5 拟牛顿法 112 g #
S0V 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }#1/fok 6.6.6 针合成 113 VfSj E.| 6.6.6.1 针合成参数 114 ^C/ 6.6.7 差分进化 114 ba3*]01Yb 6.6.8非局部细化 115 |mhKI is U 6.6.8.1非局部细化参数 115 nv0#~UgE#a 6.7 我应该使用哪种技术? 116 "
.4,." 6.7.1 细化 116 :@eHX& 6.7.2 合成 117 fE]XWA4U 6.8 参考文献 117 "?3` 7 导纳图及其他工具 118 z.36;yT/ 7.1 简介 118 o(!@7Lqq 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 KkcXNjPVS 7.2.1 四分之一波长规则 119 e(?]SU| 7.2.2 导纳图 120 NBYH;h P 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 yVX8e I 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 OGOND,/R?/ 7.5 斜入射导纳图 141 jZteooJG| 7.6 对称周期 141 /( hUfYm0 7.7 参考文献 142 3BG>Y(v 8 典型的镀膜实例 143 `JB?c 8.1 单层抗反射薄膜 145 XJ1=m 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 cA)[XpQ:+W 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 NX[4PKJ0C 8.4 W-膜层 148 M f~}/h 8.5 V-膜层 149 ;Hmp f0$ 8.6 V-膜层高折射基底 150 kLj$@E`4 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 k^\pU\J 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 k*?I>%^6#T 8.9 四层抗反射薄膜 153 s58C2 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Q >Qibr 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
8|6
4R: 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 1oiRW Re 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 M|,mr~rRG 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 }}|)Yq 8.15十五层宽带抗反射膜 159 k(t}^50^j 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 i,IB!x 8.17 1/4波长堆栈 162 >UDd @ 8.18 陷波滤波器 163 gw36Ec<M 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3^?ZG^V 8.20 褶皱 165 as*4UT3 8.21 消偏振分光器1 169 TX=yPq 8.22 消偏振分光器2 171 n/~A`%E@ 8.23 消偏振立体分光器 172 (wRgus 8.24 消偏振截止滤光片 173 D^Jk@<* 8.25 立体偏振分束器1 174 ^r6!l. 8.26 立方偏振分束器2 177 QnQOm"" 8.27 相位延迟器 178 ]\ !5}L 8.28 红外截止器 179 M{g%cR0 8.29 21层长波带通滤波器 180 i|`dWOVb 8.30 49层长波带通滤波器 181 3cdTed-MIh 8.31 55层短波带通滤波器 182 d?wc*N3 8.32 47 红外截止器 183 bKg8rK u 8.33 宽带通滤波器 184 >P6BW 8.34 诱导透射滤波器 186 FMA6_fju4 8.35 诱导透射滤波器2 188 ^9Qy/Er' 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ,R%q}IH# 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 [S5\#=_4S 8.35 增益平坦滤波器 193 4}+/F}TbJ5 8.38 啁啾反射镜 1 196 h2ytS^ 8.39 啁啾反射镜2 198 2 3OC2| 8.40 啁啾反射镜3 199 Xtt?] 8.41 带保护层的铝膜层 200 Bn@(zHG+5& 8.42 增加铝反射率膜 201 #(An6itl 8.43 参考文献 202 '5&s=M_ 9 多层膜 204 4=<tWa|@9 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 iQDx{m3] 9.2 内部透过率 204 ^[:p|U2mA 9.3 内部透射率数据 205 q`-;AG|xF 9.4 实例 206 Pj}66. 9.5 实例2 210 Cj~'Lhmv'T 9.6 圆锥和带宽计算 212 [!!Q,S"
9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 PDs@?nz, 10 光学薄膜的颜色 216 .L'.c/ s 10.1 导言 216 AGLscf. 10.2 色彩 216 94B\5I} 10.3 主波长和纯度 220 0a80 LAK 10.4 色相和纯度 221 SkmT`*v@ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 vZ.x{"n'~ 10.6 色差 226 n{6G"t:^l 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ep)>X@t 10.8 颜色渲染指数 234 >=[(^l 10.9 色差计算 235 B95B|tU>. 10.10 参考文献 236 dKdj`wB 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 1t)il^p4[; 11.1 短脉冲 238 w.[ "p9tc 11.2 群速度 239 hCC<?5q 11.3 群速度色散 241 )wT-8o 11.4 啁啾(chirped) 245 +E{|63~q 11.5 光学薄膜—相变 245 yu;P +G
11.6 群延迟和延迟色散 246 Hy^N!rBxfO 11.7 色度色散 246 PYGRsrcFd# 11.8 色散补偿 249 euC&0Ee2 11.9 空间光线偏移 256 Ytl4kaYS 11.10 参考文献 258 ZMel{w`n 12 公差与误差 260 +0OLc2
)w 12.1 蒙特卡罗模型 260 Mnscb 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 HSc~*Q 12.2.1 误差工具 267 "1%5, 12.2.2 灵敏度工具 271 YJ\Xj56gv 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ljb7oA3cP4 12.2.2.2 灵敏度分布 275 Ymg|4%O@ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 0N$v"uX@ 12.3 参考文献 276 1,% R;7J=g 13 Runsheet 与Simulator 277 +mn,F}; 13.1 原理介绍 277 !qWH`[: 13.2 截止滤光片设计 277 iv4H#rJ 14 光学常数提取 289 LU={")TdQ 14.1 介绍 289 Ru>MFG 14.2 电介质薄膜 289 ]@phF _ 14.3 n 和k 的提取工具 295 R=QZgpR 14.4 基底的参数提取 302 8|\8O@ 14.5 金属的参数提取 306 njputEGX 14.6 不正确的模型 306 T( U_ 14.7 参考文献 311 dZ0A3(t 15 反演工程 313 LGw$v[wb 15.1 随机性和系统性 313 ppVHLrUh 15.2 常见的系统性问题 314 toBHkiuD 15.3 单层膜 314 uFinv2Z' 15.4 多层膜 314 ?gt l )q 15.5 含义 319 xD~5UER 15.6 反演工程实例 319 }E50>g 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @eKec1< 15.6.2 反演工程提取折射率 327 -C(crn 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 rE.;g^4p 16.1 光学性质的热致偏移 329 W*),y: 16.2 应力工具 335 ~E2KZm 16.3 均匀性误差 339 Y,^@P 16.3.1 圆锥工具 339 $#9;)8J 16.3.2 波前问题 341 3 cK I 16.4 参考文献 343 Q7jb'y$ozO 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 z`f($t[ 17.1 引言 345 c7x~{V8 17.2 操作数 345 3sy (vC 18 如何在Function中编写脚本 351 0dE@c./R i 18.1 简介 351 S.-TOE 18.2 什么是脚本? 351 C26>BU< 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 svcK?^
HTe 18.4 基础 352 I
8`VNA&b 18.4.1 Classes(类别) 352 *zbNd:i9 18.4.2 对象 352 i:Y^{\Z?V 18.4.3 信息(Messages) 352 1mOh{:1u 18.4.4 属性 352 Y5- F@( 18.4.5 方法 353 :VRNs 18.4.6 变量声明 353 JfLqtXF[&" 18.5 创建对象 354 v$?+MNks 18.5.1 创建对象函数 355 mwHB(7YS, 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 8]/bK5` 18.5.3 丢弃对象 356 ^
*k?pJ5 18.5.4 总结 356 6xTuNE1 18.6 脚本中的表格 357 5YE'L. 18.6.1 方法1 357 -#u=\8 18.6.2 方法2 357 Z>:NPZODf 18.7 2D Plots in Scripts 358 tE<H|_{L 18.8 3D Plots in Scripts 359 f
e\$@- 18.9 注释 360 g+vva" 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 lb4Pcdj 18.11 一个更高级的脚本 362 =.Pw`. 18.12 <esc>键 364 |"ls\ 7 18.13 包含文件 365 \XCe22x] 18.14 脚本被优化调用 366 c|e~BQdRw 18.15 脚本中的对话框 368 +"
.X
)avF 18.15.1 介绍 368 %*A0# F 18.15.2 消息框-MsgBox 368 a*lh)l<KV 18.15.3 输入框函数 370 N{9v1`B 18.15.4 自定义对话框 371 U)fc*s 18.15.5 对话框编辑器 371 <\rT%f}3^ 18.15.6 控制对话框 377 <J<{l 18.15.7 更高级的对话框 380 qeV fE_< 18.16 Types语句 384 4;e5H_}Oo 18.17 打开文件 385 3]}D`Qs6 18.18 Bags 387 :~"CuB/ 18.13 进一步研究 388 +h|`/ &, 19 vStack 389 Ns>-
o 19.1 vStack基本原理 389 1H?
u Qy 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 n{n52][J] 19.3 五棱镜 393 s4X>.ToMC 19.4 光束距离 396 cOmw?kA*G 19.5 误差 399 [kVS
O 19.6 二向分色棱镜 399 e2 4WW^S 19.7 偏振泄漏 404 MU@UfB|;u 19.8 波前误差—相位 405 ]#)()6)2v 19.9 其它计算参数 405 !![DJ 20 报表生成器 406 XRM_x:+] 20.1 入门 406 :C(=&g<]D 20.2 指令(Instructions) 406 "jeb%k 20.3 页面布局指令 406 0fb2;&pUa 20.4 常见的参数图和三维图 407 ;#g"( 20.5 表格中的常见参数 408 u_w#gjiC 20.6 迭代指令 408 132{#tG] 20.7 报表模版 408 PS)4 I&;U 20.8 开始设计一个报表模版 409 &47i"% 21 一个新的project 413 {j.bC@hWw 21.1 创建一个新Job 414 [%"|G9 21.2 默认设计 415 OcR$zlgs[v 21.3 薄膜设计 416 -u6bAQ 21.4 误差的灵敏度计算 420 $p1(He0 2 21.5 显色指数计算 422 <GS^ 21.6 电场分布 424 %P;lv*v. 后记 426 :KQ~Cb b6c Bg 27eooY1 书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 /hr7NT{e%v -^&<Z
0m 《Essential Macleod中文手册》[attachment=121031] $t$ShT) ($q-_m 目 录 Go5J%&E9 [^WC lRF ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 m|SUV 第1章 介绍 ..........................................................1 q }i]'7 第2章 软件安装 ..................................................... 3 U$O\f18 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 m~iXl,r 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 zU5v /'h>d 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ep!Rf: 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 h9t$Uz^N 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 ^h(ew1: 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 kKaE=H-x 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Kf bb)? 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 @x*c1%wg 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 u4t7Ie*Q 第12章 优化和综合 ..................................................................120 66g9l9wm( 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 td(li., 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 !y\'EW3|G 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 UFXaEl}R 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 v"y-0$M 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Eq% } 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 5dx$HE&b) 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 sQYkQ81 第20章 运行表单 .................................................................... 251 M1k{t%M+S 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 1h^:[[!c 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 G!Op~p@Jm 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 .M qP_Z', 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ()Y~Q(5ji 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 NxkGOAOE 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 bg!/%[ {M 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ahJ`T*)HY 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 u}#(.)a: 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
|