线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 d~1gMz+)
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 v5QqS8u_C 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 i;_t I#:A 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 /#m=*&!CB 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Fd[zDz 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) 9Ru8~R/\ 特邀专家介绍 t+1 %RyKFB [attachment=121028] {z")7g ]l 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fR*q?, 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 WZ*ws[dVI 课程概要 R'! 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 *fn*h[pV& 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 WRrd'{sB 课程大纲 &8g?4v 1. Essential Macleod软件介绍 &QGdLXOn 1.1 介绍软件 29?,<bB) 1.2 创建一个简单的设计 3v5%y' 1.3 绘图和制表来表示性能
l%1!a 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 '8{Ne!y 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ^]W<X"H+Z 1.6 特定设计的公式技术 D0%Ug> 1.7 交互式绘图 b-{=s+: 2. 光学薄膜理论基础 !AKg m'Nw 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 :n.f_v}6 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8>WC5%f* 3. 材料管理 lna}@]oR 3.1 材料模型 a*ushB 3.2 介质薄膜光学常数的提取 =Q+=
f 3.3 金属薄膜光学常数的提取 bqnNLs<N 3.4 基板光学常数的提取 k=4N.*#`y 4. 光学薄膜设计优化方法 xx{PespNt 4.1 参考波长与g S'_-G;g. 4.2 四分之一规则 ~s]iy9i 4.3 导纳与导纳图 A .EbXo/ 4.4 斜入射光学导纳 }L# _\ 4.5 光学薄膜设计的进展 jO1r)hw N> 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 FMClSeO7
4.6.1 优化目标设置 .7.b:Dn0 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) .MJofE;Jn 4.6.3 膜层锁定和链接 e0T34x' 5. Essential Macleod中各个模块的应用 83Q4On 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 37|&?|| 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ~,5gUl?Il 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 }DK7'K 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 [N#,K02mk 5.5 如何在Function中编写脚本 6u7?dG'4 6. 光学薄膜系统案例 b{]z
wpf 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 i5K[>5 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 :=\Hoz 6.3 Stack应用范例说明 Te}8!_ohyC 7. 薄膜性能分析 Db1pW=66: 7.1 电场分布 /5:bvg+ 7.2 公差与灵敏度分析 l33Pm/V2? 7.3 反演工程 Y!gCMLL 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
.5y+fL 8. 真空技术 _;UE9S% 8.1 常用真空泵介绍 h?8]C#6^ 8.2 真空密封和检漏 aM:nOt" S1 9. 薄膜制备技术 %
<qw 9.1 常见薄膜制备技术 P)MDPI+~ 10. 薄膜制备工艺 ZsOIH< |