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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 1^![8>u"  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 o$sD9xx  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 1 :p'  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 nn_O"fZi  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 %N*[{j= ^  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
CO='[1"_5  
特邀专家介绍 o utJ/~9;  
[attachment=121028] j Q5F}  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 u ]e-IYH  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 s5nw<V9$]  
课程概要 L 0fe  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。  GfE>?mG  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 0Z1ksfLU  
课程大纲 !C#oZU]P  
1. Essential Macleod软件介绍 [iub}e0  
1.1 介绍软件 mgAjD.  
1.2 创建一个简单的设计 V`^*Z}d9  
1.3 绘图和制表来表示性能 eU1F7LS  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ]F4QZV( M  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) nK1eh@a9Qv  
1.6 特定设计的公式技术 Wigt TAh4  
1.7 交互式绘图 S hI1f  
2. 光学薄膜理论基础 R| ?Q&F_$  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 J\L'HIs  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 MJXnAIG?2  
3. 材料管理 WHdMP  
3.1 材料模型 EZ)b E9  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 &B{zS K$N  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 "lh4Vg\7n  
3.4 基板光学常数的提取 4=L>  
4. 光学薄膜设计优化方法 NfV|c~?d  
4.1 参考波长与g g,Ob/g8uc  
4.2 四分之一规则 Nn LK!Q  
4.3 导纳与导纳图 M\R+:O&  
4.4 斜入射光学导纳 r1L@p[>  
4.5 光学薄膜设计的进展 sgfqIe1  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 |[?Otv  
4.6.1 优化目标设置 5Z>a}s_i  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) n n7LL+h  
4.6.3 膜层锁定和链接 zm&[K53  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 rl|'.~mc  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 >v+1 v  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 U@OdQAX  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 "iSY;y o  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Nny*C`uDF  
5.5 如何在Function中编写脚本 x%viCkq  
6. 光学薄膜系统案例 ${Un#]g  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Bb/if:XS  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ]Dq6XR  
6.3 Stack应用范例说明 & =[!L0{  
7. 薄膜性能分析 /~NX<Ye&  
7.1 电场分布 c]4X`3]  
7.2 公差与灵敏度分析 Wk%|%/:  
7.3 反演工程 >(RkoExO/  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 3``JrkPI  
8. 真空技术 32ki ?\P  
8.1 常用真空泵介绍 eFiG:LS7  
8.2 真空密封和检漏 <=.6Z*x+  
9. 薄膜制备技术 l U/Xi  
9.1 常见薄膜制备技术 #]}Ii{1?Y  
10. 薄膜制备工艺  /a1uG]Mt  
10.1 薄膜制备工艺因素 xuXPVJdi  
10.2 薄膜均匀性修正技术 5 A0]+)5E8  
10.3 光学薄膜监控技术 %~Yo{4mHs  
11. 激光薄膜 clvg5{^q[  
11.1 薄膜的损伤问题 Qt.*Z;Gs  
11.2 激光薄膜的制备流程 F$t]JM  
11.3 激光薄膜的制备技术 ED` 1)1<  
12. 光学薄膜特性测量 f;'*((  
12.1 薄膜光谱测量 5M5Bm[X  
12.2 薄膜光学常数测量 ~5P9^`KNH  
12.3 薄膜应力测量 z*},N$2=  
12.4 薄膜损伤测量 IWv(G Qx  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 yj:@Fg-3g  
[attachment=121029]
nah?V" ?Y  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
5;)^o3X>  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
'yiv.<4  
内容简介 3yx[*'e$  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 l[E^nh>  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 yQhO-jT  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +R*DE5dz  
-Lq+FTezE  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
H'WYnhU&  
目录 zH1 ;h  
Preface 1 ~R|9|k  
内容简介 2 beO Mln+R  
目录 i #L.,aTA<  
1  引言 1 'l'3&.{Yfk  
2  光学薄膜基础 2 }TTghE!  
2.1  一般规则 2  ] 2 `%i5  
2.2  正交入射规则 3 %"{P?V<-V  
2.3  斜入射规则 6 zmhc\M ?z  
2.4  精确计算 7 _[[0rn$  
2.5  相干性 8 ZxtO.U2  
2.6 参考文献 10 F(VVb(\jd  
3  Essential Macleod的快速预览 10 daSe0:daJ  
4  Essential Macleod的特点 32 gAqK/9;  
4.1  容量和局限性 33 O:0{vu9AQ  
4.2  程序在哪里? 33 iy~h|YK;  
4.3  数据文件 35 PMsb"=Ds  
4.4  设计规则 35 kP`#zwp'Ci  
4.5  材料数据库和资料库 37 *EuX7LEu_  
4.5.1材料损失 38 fTj@/"a  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 znrO~OK  
4.5.2 材料库 41 O>DS%6/G  
4.5.3导出材料数据 43 Tx} Nr^   
4.6  常用单位 43 N}#Rw2Vl  
4.7  插值和外推法 46 tdK&vqq  
4.8  材料数据的平滑 50 4M&$wi  
4.9 更多光学常数模型 54 =w3A{h"^  
4.10  文档的一般编辑规则 55 xgxfPcI  
4.11 撤销和重做 56 ?>;b,^4  
4.12  设计文档 57 k^cZePqE6d  
4.10.1  公式 58 (?l ]}p^[  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 LAC&W;pJ"  
4.10.3  沉积密度 59 eWFkUjz  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ,yC..aI  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 xn`)I>v  
4.10.4  性能 61 %np(z&@wi  
4.10.5  保存设计和性能 64 *)RKU),3nL  
4.10.6  默认设计 64 [)V~U?  
4.11  图表 64 o}Grb/LJ  
4.11.1  合并曲线图 67 #e@NV4q  
4.11.2  自适应绘制 68 1Le8W)J  
4.11.3  动态绘图 68 kl]V_ 7[  
4.11.4  3D绘图 69 AE:(:U\  
4.12  导入和导出 73 Ue \A ,  
4.12.1  剪贴板 73 <eXGtD  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 dU3A:uS^  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 XYvj3+  
4.13  背景 77 jSpj6:@B  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 :!_l@=l  
4.15  生成Rugate 84 Md4Q.8  
4.16  参考文献 91 %%K3J<5  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 zg ,=A?  
5.1  Jobs 92 deAV:c  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 MiZ<v/L2  
5.3  输入材料 94 6CFnE7TQf  
5.4  设计数据文件夹 95 ^mL X}E]  
5.5  默认设计 95 X{x(p  
6  细化和合成 97 8=$XhC  
6.1  优化介绍 97 Z7bJ<TpZ  
6.2  细化 (Refinement) 98 :,l16{^  
6.3  合成 (Synthesis) 100 2Vti|@JYp  
6.4  目标和评价函数 101 \lG)J0  
6.4.1  目标输入 102 %.d.h;^T  
6.4.2  目标 103 /Pe xtj<  
6.4.3  特殊的评价函数 104 _]@u)$  
6.5  层锁定和连接 104 oaQW~R`_  
6.6  细化技术 104 QcrhgR  
6.6.1  单纯形 105 9 C)VW  
6.6.1.1 单纯形参数 106 by+xK~>  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 gIrbOMQ7  
6.6.2.1 Optimac参数 108 .#~!w!T  
6.6.3  模拟退火算法 109 pnuo;rs  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Sj I,v+  
6.6.4  共轭梯度 111 2->Lz  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 CmXLD} L_x  
6.6.5  拟牛顿法 112 <cOjtq,0  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 S(CkA\[rz  
6.6.6  针合成 113 PESvx>:  
6.6.6.1 针合成参数 114 b_`h2dUq  
6.6.7 差分进化 114 K&&T:'=/  
6.6.8非局部细化 115 .tKBmq0xo"  
6.6.8.1非局部细化参数 115 =COQv=GT  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 C7F\Y1Wj  
6.7.1  细化 116 mn03KF=n]  
6.7.2  合成 117 ,Z @I" &H  
6.8  参考文献 117 E{[Y8U1n  
7  导纳图及其他工具 118 {J)%6eL?  
7.1  简介 118 wlP3 XF?  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 zgz!"knVx  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Dl.UbH }=  
7.2.2  导纳图 120 f3Zf97i  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 tm/ >H  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 d BB?A~  
7.5  斜入射导纳图 141 4L:O0Ggz}  
7.6  对称周期 141 2H w7V3q  
7.7  参考文献 142 {96MfhkeBv  
8  典型的镀膜实例 143 mKu,7nMvF  
8.1  单层抗反射薄膜 145 t]0DT_iE  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 k9oi8G'g~  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 V'#R1x"3  
8.4  W-膜层 148 mS[``$Z\!  
8.5  V-膜层 149 TrzAgNt  
8.6  V-膜层高折射基底 150 fZpi+I  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 sN8pwRjb  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 \]4EAKJE  
8.9  四层抗反射薄膜 153 =v^#MU{k?  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Rd7U5MBEF  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;Q,t65+Am  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 b-/QZvg  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 b>QdP$>  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 OqS!y( (  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 u=Ik&^v Wq  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 QY4;qA  
8.17  1/4波长堆栈 162 d:|x e:  
8.18  陷波滤波器 163 ZHjL8Iq  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 V-7l+C5  
8.20  褶皱 165 g_{N^wS  
8.21  消偏振分光器1 169 }wRm ~  
8.22  消偏振分光器2 171 ),vDn}>  
8.23  消偏振立体分光器 172 q 8sfG;)  
8.24  消偏振截止滤光片 173 OQfFS+6  
8.25  立体偏振分束器1 174 i$%Bo/Y   
8.26  立方偏振分束器2 177 y+k^CT/u  
8.27  相位延迟器 178 \,Ws=9f  
8.28  红外截止器 179 ~5N oR  
8.29  21层长波带通滤波器 180 p~3 x=X4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 xi{ r-D8Z  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ;8XRs?xyd  
8.32  47 红外截止器 183 BFw_T3}zn  
8.33  宽带通滤波器 184 %w[Z/  
8.34  诱导透射滤波器 186 aL[6}U0(}  
8.35  诱导透射滤波器2 188 [u!n=ev  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 &*" *b\  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 e`b#,=  
8.35  增益平坦滤波器 193 Z@dVK`nD  
8.38  啁啾反射镜 1 196 s !?uLSEdb  
8.39  啁啾反射镜2 198 g(tVghHxt$  
8.40  啁啾反射镜3 199 Dfzj/spFV  
8.41  带保护层的铝膜层 200 U!-Nx9  
8.42  增加铝反射率膜 201 ]w>o=<?b  
8.43  参考文献 202 V'{\g|)  
9  多层膜 204 wHs1ge(  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 W;=Ae~  
9.2  内部透过率 204 2<B'PR-??y  
9.3 内部透射率数据 205 W9w*=W )Z  
9.4  实例 206 ' m~=sC_uL  
9.5  实例2 210 6Jq[]l"v  
9.6  圆锥和带宽计算 212 bKmwXDv'  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 WtZI1`\qe  
10  光学薄膜的颜色 216 p&RC#wYu  
10.1  导言 216 B%uY/Mwz$  
10.2  色彩 216 /a^ R$RHl'  
10.3  主波长和纯度 220 HdxP:s.T  
10.4  色相和纯度 221 F<b'{qf"  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 z mip  
10.6 色差 226 wjl)yo$z  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 M\4` S&  
10.8  颜色渲染指数 234 3E*m.jX  
10.9  色差计算 235 :Q"|%#P  
10.10  参考文献 236 }ww/e\|Nt=  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 (&eF E;c  
11.1  短脉冲 238 S j~SG  
11.2  群速度 239 "."(<c/3  
11.3  群速度色散 241 :6lvX$  
11.4  啁啾(chirped) 245 nI]EfHU  
11.5  光学薄膜—相变 245 HQ-+ +;Q  
11.6  群延迟和延迟色散 246 =w+8q1!o  
11.7  色度色散 246 ?nW>' z  
11.8  色散补偿 249 JXJ+lZmsz  
11.9  空间光线偏移 256 :CE4< {V  
11.10  参考文献 258 a)ry}E =f  
12  公差与误差 260 z4SJxL  
12.1  蒙特卡罗模型 260 V_gKl;Kfe8  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 x ']'ODs  
12.2.1  误差工具 267 $!>.h*np  
12.2.2  灵敏度工具 271 3U>-~-DS  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 *"w hup[  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 u5A?; a  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 =|P &G~]  
12.3  参考文献 276 rT[qh+KWe  
13  Runsheet 与Simulator 277 I2*rtVAP'j  
13.1  原理介绍 277  viAAb  
13.2  截止滤光片设计 277 ~)ys,Q  
14  光学常数提取 289 'M>m$cCMZ  
14.1  介绍 289 EWD^=VITL  
14.2  电介质薄膜 289 @Iz]:@\cJ  
14.3  n 和k 的提取工具 295 V+Tv:a  
14.4  基底的参数提取 302 nFn!6,>E  
14.5  金属的参数提取 306 V,_m>$Mo  
14.6  不正确的模型 306 tsc `u>  
14.7  参考文献 311 }aRib{L  
15  反演工程 313 ;_(f(8BO   
15.1  随机性和系统性 313 [oTe8^@[  
15.2  常见的系统性问题 314 d>hv-n D  
15.3  单层膜 314 geR+v+B,  
15.4  多层膜 314 .}!.4J%q2  
15.5  含义 319 RHC ZP  
15.6  反演工程实例 319 @[3c1B6K  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 EhHxB fAQ  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 U0_^6zd_  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 3 39q%j$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 O6;"cUv  
16.2  应力工具 335 G7CeWfS  
16.3  均匀性误差 339 )SmnLvL  
16.3.1  圆锥工具 339 <:&vAX L  
16.3.2  波前问题 341 O{X~,Em=q  
16.4  参考文献 343 F]3Y,{/V  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 YqX$a~  
17.1  引言 345 sE"s!s/  
17.2  操作数 345 NGc~%0n  
18  如何在Function中编写脚本 351 K29/7A/  
18.1  简介 351 )]1hN;Nz  
18.2  什么是脚本? 351 p:4jY|q  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ]P?< 2,  
18.4  基础 352 ~18a&T:  
18.4.1  Classes(类别) 352 aZA ``#p+  
18.4.2  对象 352 3gi)QCsk  
18.4.3  信息(Messages) 352 q\6(_U#Tl  
18.4.4  属性 352 qE~_}4\Z9  
18.4.5  方法 353 6TW7E }a.  
18.4.6  变量声明 353 4KH492Nq9  
18.5  创建对象 354 Nwi|>'\C  
18.5.1  创建对象函数 355 /\8I l+0  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 (wDE!H7  
18.5.3 丢弃对象 356 FO2e7p^Q  
18.5.4  总结 356 zU?O)w1'  
18.6  脚本中的表格 357 WUYI1Ij;  
18.6.1  方法1 357 CFaY=Cy  
18.6.2  方法2 357 CZ5\Et6r  
18.7 2D Plots in Scripts 358 9"P|Csj  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ,'X"(tpu@  
18.9  注释 360 9|+6@6VY!  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 t7+A !7b{  
18.11  一个更高级的脚本 362 q\Y4vWg  
18.12  <esc>键 364 UD.b b  
18.13 包含文件 365 Jxe+LG  
18.14  脚本被优化调用 366 c$g@3gL  
18.15  脚本中的对话框 368 x}] 56f  
18.15.1  介绍 368 W7>2&$  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 3'4+3Xo  
18.15.3  输入框函数 370 ^po@U"  
18.15.4  自定义对话框 371 .Nn11F< d  
18.15.5  对话框编辑器 371 4yl{:!la  
18.15.6  控制对话框 377 <g[z jV9p  
18.15.7  更高级的对话框 380 XIW0Z C   
18.16 Types语句 384 .hl_zc#  
18.17 打开文件 385 vi,hWz8WB  
18.18 Bags 387 |YJ83nSO~  
18.13  进一步研究 388 I~GF%$-G  
19  vStack 389 ZwmucY%3  
19.1  vStack基本原理 389 &|hK79D  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ^xZh@e5  
19.3  五棱镜 393  ?%,NOX  
19.4 光束距离 396 *M.xVUPr  
19.5 误差 399 V0nQmsP1U  
19.6  二向分色棱镜 399 Q.mJ7T~T  
19.7  偏振泄漏 404 wcGK *sWG-  
19.8  波前误差—相位 405 N^Re  
19.9  其它计算参数 405 G7%bY  
20  报表生成器 406 @+u>rS|IB  
20.1  入门 406 F-yY(b]$  
20.2  指令(Instructions) 406 /A=w`[<  
20.3  页面布局指令 406 r"7n2   
20.4  常见的参数图和三维图 407 m#7(<#  
20.5  表格中的常见参数 408 /)P}[Q4  
20.6  迭代指令 408 y~SVD@  
20.7  报表模版 408 ag=d6q  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ?"B] "%M&  
21  一个新的project 413  F!omkN  
21.1  创建一个新Job 414 n>M`wF>  
21.2  默认设计 415 &gXh:.  
21.3  薄膜设计 416 %q{q.(M#  
21.4  误差的灵敏度计算 420 R@vcS=m7  
21.5  显色指数计算 422 fr@F7s5}  
21.6  电场分布 424 ]R__$fl`8  
后记 426 Tg\bpLk0=  
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gAqK)@8-  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 {Mx(|)WkL  
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《Essential Macleod中文手册》
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目  录 [M?2axOC  
-fR :W{u  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ZO0 Ee1/  
第1章 介绍 ..........................................................1 g)D_  !iz  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 JAPr[O&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 "t@p9>  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 K1B9t{T  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ^J!q>KJs  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 a?c&#Jl  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 qQ&uU7,#  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 8.E"[QktZ  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 .KsR48g8  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 nwRltK  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 bOS)vt*V  
第12章 优化和综合 ..................................................................120  4M'>oa  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 M>8J_{r^  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Qzi?%&  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 }pc9uvmIJ  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 6b|?@  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 \l%xuT  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ~E<2gMKjO  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 YO6BzS/~  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 \bA Yic  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 jN=<d q ~  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 RaZ>.5 D  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 gL;Kie6Z  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ZzT=m*tQ&  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 D:)Wr, 26  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 5of3&  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 {h<D/:^v  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 3r\8v`^>  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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