线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 "V<7X%LIX
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司
lN[#+n 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 A=BT2j'l) 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 -;&-b >b
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 \|C~VU@ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) dY.NQ1@" 特邀专家介绍 k$w#:Sx [attachment=121028] l +#FoN 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 6@=ipPCR 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 (*V:{_r 课程概要 ?2Sm
f 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 '2ACZcjDSv 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 OBnvY2)Ri 课程大纲 cjf_,x 1. Essential Macleod软件介绍 ~p\r( B7G 1.1 介绍软件 n<DZb`/uHZ 1.2 创建一个简单的设计 +Sg+% 8T 1.3 绘图和制表来表示性能 W%<z|
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 *~8g:;u 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) >ToI$~84 1.6 特定设计的公式技术 7J5Yzu)D 1.7 交互式绘图 lLNI5C 2. 光学薄膜理论基础 9mB] \{^ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 DWk2=cO 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 g ~>nT>6 3. 材料管理 1cd3m 3.1 材料模型 co>IJzg 3.2 介质薄膜光学常数的提取 $qM&iI-l0 3.3 金属薄膜光学常数的提取 $!\Z_: 3.4 基板光学常数的提取 Z#s-(wf 4. 光学薄膜设计优化方法 G%SoC
4.1 参考波长与g So}pA2[0 4.2 四分之一规则 ,o [FUi(#@ 4.3 导纳与导纳图 p+^K$w^Cs 4.4 斜入射光学导纳 @{@)gE 4.5 光学薄膜设计的进展 M~g@y$ 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ]t_ Wl1*| 4.6.1 优化目标设置 fs8C ^Ik>~ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Fuo.8 4.6.3 膜层锁定和链接 -5,+gakSk 5. Essential Macleod中各个模块的应用 [.nkNda5)v 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 e
J:#vX86 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 8hZc#b; 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Nd**":i$ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 c"NGE 5.5 如何在Function中编写脚本 'F7UnkKO| 6. 光学薄膜系统案例 6\6g-1B` 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ,sltB3f 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 j.KV:zJU 6.3 Stack应用范例说明 3SI%>CO} 7. 薄膜性能分析 s,7OoLE 7.1 电场分布 BXUd
i&'O 7.2 公差与灵敏度分析 vw/GAljflu 7.3 反演工程 FF#?x@N: 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 z"V`8D 8. 真空技术 \;!g@?CA 8.1 常用真空泵介绍 E=qfI>2U& 8.2 真空密封和检漏 2o~UA\:+= 9. 薄膜制备技术 /cx
Ei6I- 9.1 常见薄膜制备技术 Ss'Dto35Q 10. 薄膜制备工艺 9zaSA,} 10.1 薄膜制备工艺因素 3OJGBiDAr 10.2 薄膜均匀性修正技术 ]O&yy{yYK 10.3 光学薄膜监控技术 ;:P}s4p 11. 激光薄膜 0B(Y{*QB 11.1 薄膜的损伤问题 (b+o$C 11.2 激光薄膜的制备流程 p}q]GJ 11.3 激光薄膜的制备技术 a-9sc6@ 12. 光学薄膜特性测量 8!7`F.BX 12.1 薄膜光谱测量 ^6 \@$ 12.2 薄膜光学常数测量 -Vj112 fI 12.3 薄膜应力测量 K]ds2Kp& 12.4 薄膜损伤测量 b`|,rfq^AZ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 <Mf(2`T
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] !$fF3^8-
内容简介 1#nY Z% Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 HLl"=m1/> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /(Ryh6M 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `5Em : 8 M P(i
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 .a}!!\@ 目录 Z%7X" w Preface 1 Ej'N!d. 内容简介 2 ?wMS[Kj 目录 i 3y*dBw 1 引言 1 &5R-bYGW 2 光学薄膜基础 2 1f0maN 2.1 一般规则 2 >@q4Uez 2.2 正交入射规则 3 :bz;_DZP 2.3 斜入射规则 6 }*56DX 2.4 精确计算 7 "mAMfV0 2.5 相干性 8 [)nU?l 2.6 参考文献 10 {e83 A/{ 3 Essential Macleod的快速预览 10 jW]Fx:mQi 4 Essential Macleod的特点 32 !6`&0eY 4.1 容量和局限性 33 @<44wMp 4.2 程序在哪里? 33 jQpG7H 4.3 数据文件 35 /
2h6 4.4 设计规则 35 ]}nX$xy 4.5 材料数据库和资料库 37 fnudy%oo 4.5.1材料损失 38 >`+lEob 4.5.1材料数据库和导入材料 39 0<]]q[pr 4.5.2 材料库 41 ?,FL"ye 4.5.3导出材料数据 43 x!A5j
$k0 4.6 常用单位 43 >~@ABLp6 4.7 插值和外推法 46 TV(%e4U= 4.8 材料数据的平滑 50 u1/q8'RW 4.9 更多光学常数模型 54 +!"7=?} 4.10 文档的一般编辑规则 55 $>=w<=r|; 4.11 撤销和重做 56 WmZ,c_ 4.12 设计文档 57 Y,d|b V*FH 4.10.1 公式 58 o.>Yj)U 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 PsI{y&. 4.10.3 沉积密度 59 KZwzQ" Hl 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^tl&FWF 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 _H$Z}2g<z 4.10.4 性能 61 [I%'\CI; 4.10.5 保存设计和性能 64 UymhBh 4.10.6 默认设计 64 Cj#?Z7}z 4.11 图表 64 09Y:(2Qri 4.11.1 合并曲线图 67 <"x *ZT 4.11.2 自适应绘制 68 r8[Ywn<u 4.11.3 动态绘图 68 >I9|N}I
4.11.4 3D绘图 69 8YkCTJfBGu 4.12 导入和导出 73 *AA78G| 4.12.1 剪贴板 73 ^%Fn|U\u 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 $EPDa?$* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 B \>W 4.13 背景 77 Y~I6ee,\ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 zl["}I(*n 4.15 生成Rugate 84 30L/-+r1 4.16 参考文献 91 ??XtN.]7 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 @RLlkWGc 5.1 Jobs 92 L'}^Av_+ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ~,reS:9RZ 5.3 输入材料 94 bv'Z~@<c 5.4 设计数据文件夹 95 9XW[NY#)# 5.5 默认设计 95 +yIO 6 细化和合成 97 8Nxyc>8K~ 6.1 优化介绍 97 D }EH9d 6.2 细化 (Refinement) 98
"'mr0G9X 6.3 合成 (Synthesis) 100 DP4l
%2m0 6.4 目标和评价函数 101 gPr& |