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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 yS"; q  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 qJ5gdID1_  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 U66}nN9  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ;sZHE &+  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 _ ATIV  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
R)u ${  
特邀专家介绍 Q%Y r m  
[attachment=121028] V+MhS3VD  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Q VJvuiUh  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 I/Q5Y-atg  
课程概要 1v"r8=Wt  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 c ;@k\6  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 nd xijqw  
课程大纲 @;T?R  
1. Essential Macleod软件介绍 n<3*7/-  
1.1 介绍软件 EVE<LF?  
1.2 创建一个简单的设计 rxM)SC;P  
1.3 绘图和制表来表示性能 +`$[h2Z=:  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 H>Ws)aCq  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) KRN{Ath.  
1.6 特定设计的公式技术 |vf /M|  
1.7 交互式绘图 EC0M0qQ  
2. 光学薄膜理论基础 v>]^wH>/"  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 eF%IX  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 p}{V%!`_  
3. 材料管理 B9Z=`c.T  
3.1 材料模型 B'` jdyaE9  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 8C4 =f  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 .|Bmg6g*  
3.4 基板光学常数的提取 HZ.Jc"+M  
4. 光学薄膜设计优化方法 Q{))+'s2h  
4.1 参考波长与g  l6uU S  
4.2 四分之一规则 BH$+{rZ8t  
4.3 导纳与导纳图 `h+1u`FJ  
4.4 斜入射光学导纳 \y*,N^wu  
4.5 光学薄膜设计的进展 j9IeqlL  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 x|oa"l^JZ"  
4.6.1 优化目标设置 JJn+H&[B  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) q=|0lZ$`V_  
4.6.3 膜层锁定和链接 Me|+)}'p5h  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ~!G&K`u  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 DJ#z0)3<p  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 t1h2ibO  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 <1EmQ)B   
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 O&c~7tM%  
5.5 如何在Function中编写脚本 6"UL+$k  
6. 光学薄膜系统案例 6opu bI<  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Q8sCI An{  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 NA`EG,2  
6.3 Stack应用范例说明 d PfD Pb  
7. 薄膜性能分析 [ queXDn"m  
7.1 电场分布 t<Z)D0.  
7.2 公差与灵敏度分析 e2xqK G  
7.3 反演工程 !agtgS$qII  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 !Ho=(6V  
8. 真空技术 4{1 .[##]o  
8.1 常用真空泵介绍 x# &ZGFr~  
8.2 真空密封和检漏 al3[Ph5G  
9. 薄膜制备技术 +^6v%z  
9.1 常见薄膜制备技术 Nu%JI6&R  
10. 薄膜制备工艺 ,B<Tt|'  
10.1 薄膜制备工艺因素 [!v| M  
10.2 薄膜均匀性修正技术 G?OwhX  
10.3 光学薄膜监控技术 yv!,iK9  
11. 激光薄膜 +J~q:b.  
11.1 薄膜的损伤问题 !"Q8KV  
11.2 激光薄膜的制备流程 @$(/6]4p  
11.3 激光薄膜的制备技术 ;_^ "}  
12. 光学薄膜特性测量 =k(~PB^>  
12.1 薄膜光谱测量 Y}C~&Ph  
12.2 薄膜光学常数测量 jKcnZu  
12.3 薄膜应力测量 1wqsGad+;  
12.4 薄膜损伤测量 X|WAUp?  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 wPl!}HNf  
[attachment=121029]
:K) =Hf2y  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
W,^(FR.  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
')ErXLP_  
内容简介 M zLx2?  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 TZ7{cekQ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8'2lc  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 3ppY@_1  
O_p:`h:;M  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
`aS9 o]t  
目录 \c! LC4pE  
Preface 1 ,cvLvN8  
内容简介 2 _faI*OY8  
目录 i SRN:!-  
1  引言 1 042sjt  
2  光学薄膜基础 2 ezt_ct/Z  
2.1  一般规则 2 J]f\=;z;<a  
2.2  正交入射规则 3 R; X8%'   
2.3  斜入射规则 6  +McKyEa  
2.4  精确计算 7 I [J0r  
2.5  相干性 8 %^l77 :O  
2.6 参考文献 10 Cl;B%5yl  
3  Essential Macleod的快速预览 10 |f^/((:D  
4  Essential Macleod的特点 32 Hy<4q^3$G  
4.1  容量和局限性 33 <:u)C;  
4.2  程序在哪里? 33 #lax0IYY=  
4.3  数据文件 35 A}#@(ma7  
4.4  设计规则 35 3986;>v  
4.5  材料数据库和资料库 37 X,/@#pSOz  
4.5.1材料损失 38 62}bs/%  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 (WK $ )f  
4.5.2 材料库 41 $a6&OH/  
4.5.3导出材料数据 43 HRx%m1H  
4.6  常用单位 43 N,w;s-*  
4.7  插值和外推法 46 -;z&">  
4.8  材料数据的平滑 50 *n0k2 p  
4.9 更多光学常数模型 54 RGGP6SDc  
4.10  文档的一般编辑规则 55 y @AKb  
4.11 撤销和重做 56 -/aDq?<<  
4.12  设计文档 57 }TRr*] P<%  
4.10.1  公式 58 AAsl )  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #](k,% 2  
4.10.3  沉积密度 59 @T1/S&F=  
4.10.4 平行和楔形介质 60 {Gs&u>>R"^  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 #3$U&|`  
4.10.4  性能 61 c7IgndVAV  
4.10.5  保存设计和性能 64 I0O)MR<  
4.10.6  默认设计 64 @ -JD`2z  
4.11  图表 64 oJ`ih&Q8  
4.11.1  合并曲线图 67 sp[nKo ^  
4.11.2  自适应绘制 68 \1RQ),5 %]  
4.11.3  动态绘图 68 .9 WUp>  
4.11.4  3D绘图 69 1+o>#8D  
4.12  导入和导出 73 4i[3|hv'  
4.12.1  剪贴板 73 "HVwm>qEi  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 C["^%0lj  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Z>a_vC  
4.13  背景 77 5JI+42S \  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 U;KHF{Vm  
4.15  生成Rugate 84 IqEY.2KN  
4.16  参考文献 91 %yQ-~T@  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 KbH#g>.oB  
5.1  Jobs 92 b0E(tPw5c  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ls,gQ]B:P  
5.3  输入材料 94 ]xf{.z  
5.4  设计数据文件夹 95 v>g1\y Iw  
5.5  默认设计 95 QA.B.U7!  
6  细化和合成 97 (EU X>IJ  
6.1  优化介绍 97 &}w,bG$  
6.2  细化 (Refinement) 98 V:!fe+ Er  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ,^|+n()O  
6.4  目标和评价函数 101 Yq/|zTe{  
6.4.1  目标输入 102 n=t%,[Op  
6.4.2  目标 103 ^k^%w/fo  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ,D3q8?j  
6.5  层锁定和连接 104 hS +;HB,  
6.6  细化技术 104 iml*+t  
6.6.1  单纯形 105 g@nk0lQewj  
6.6.1.1 单纯形参数 106 [fR<#1Z  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 LjXtOF  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Bi kCjP[b  
6.6.3  模拟退火算法 109 Qkqn~>  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 f]5bAs  
6.6.4  共轭梯度 111 4pq>R  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 fQuphMOl6  
6.6.5  拟牛顿法 112 >6ch[W5k@  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 %<DRrKt  
6.6.6  针合成 113 K( 6=)  
6.6.6.1 针合成参数 114 5 qG7LO.  
6.6.7 差分进化 114 |=38t8Ge&  
6.6.8非局部细化 115 v_5DeaMF'  
6.6.8.1非局部细化参数 115 $z@e19gT  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 9z_Gf]J~  
6.7.1  细化 116  G!O D7:  
6.7.2  合成 117 [Bpgb57En  
6.8  参考文献 117 kf-ZE$S4  
7  导纳图及其他工具 118 K~,,xsy,G&  
7.1  简介 118 2HQ'iEu$  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 <ze' o.c  
7.2.1  四分之一波长规则 119 B7 }-g"p$/  
7.2.2  导纳图 120 = "c _<?=[  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2E2J=Do  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ,=oq)Fm]  
7.5  斜入射导纳图 141 3tIIBOwg[  
7.6  对称周期 141 ]X?+]9Fr  
7.7  参考文献 142 4G_dnf_  
8  典型的镀膜实例 143 s977k2pp-  
8.1  单层抗反射薄膜 145 fhfdNmtR)I  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 R"O9~s6N  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Jz%&-e3  
8.4  W-膜层 148 <hy>NM@$  
8.5  V-膜层 149 ~01r c  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ,~G _3Oz  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 fRrHWE+  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {b/AOR o  
8.9  四层抗反射薄膜 153 i7fpl  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 U}Xc@- \ ?  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 z+-k4  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 k,?Y`s  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 &]vd7Q.t  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 sU bZVPDr  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 'a"<uk3DT  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 3\D jV2t  
8.17  1/4波长堆栈 162 T_Y6AII  
8.18  陷波滤波器 163 k9R1E/;  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 `/+7@~[RU  
8.20  褶皱 165 B[$KnQM9Y  
8.21  消偏振分光器1 169 ?;{A@icr  
8.22  消偏振分光器2 171 a-QHm;_S  
8.23  消偏振立体分光器 172 Rut6m5>  
8.24  消偏振截止滤光片 173 |{oKhC^yG  
8.25  立体偏振分束器1 174 O _1}LS!  
8.26  立方偏振分束器2 177 8sbS7*#  
8.27  相位延迟器 178 7d4R tdI  
8.28  红外截止器 179 jH:*x$@ =  
8.29  21层长波带通滤波器 180 qHHWe<}OT  
8.30  49层长波带通滤波器 181 (1jkZ^7  
8.31  55层短波带通滤波器 182 v"$; aJ  
8.32  47 红外截止器 183 PL8akA#  
8.33  宽带通滤波器 184 s}?98?tYB  
8.34  诱导透射滤波器 186 {g )kT_  
8.35  诱导透射滤波器2 188 5.\!k8a  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 /+IR^WG#C}  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 BAKfs/N  
8.35  增益平坦滤波器 193 wk5a &  
8.38  啁啾反射镜 1 196 f%@Y XGf  
8.39  啁啾反射镜2 198 y|lP.N/  
8.40  啁啾反射镜3 199 %5z88-\  
8.41  带保护层的铝膜层 200 np>*O}r*  
8.42  增加铝反射率膜 201 ZcdS?Z2k  
8.43  参考文献 202 ~RMOEH.o  
9  多层膜 204 ;\&7smE[  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 BO[A1'>  
9.2  内部透过率 204 Qu;AU/Q<([  
9.3 内部透射率数据 205 |Xu7cCh$me  
9.4  实例 206 `$#64UZ>U1  
9.5  实例2 210 #o^E1cI  
9.6  圆锥和带宽计算 212 G3OQbqn  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 @wa/p`gj5w  
10  光学薄膜的颜色 216 JTs.NY <z  
10.1  导言 216 D l"y|  
10.2  色彩 216 sY#K=5R  
10.3  主波长和纯度 220 _@RW7iP>  
10.4  色相和纯度 221 iu1iO;q  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 T[;{AXLeI  
10.6 色差 226 hi ]+D= S  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9g*~X;`2  
10.8  颜色渲染指数 234 <]!IC]+  
10.9  色差计算 235 Xg%zE  
10.10  参考文献 236 -pjL7/gx  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 .#}SK!"B  
11.1  短脉冲 238 5GRN1Aov<  
11.2  群速度 239 K8RloDjk_A  
11.3  群速度色散 241 {Rz`)qqE  
11.4  啁啾(chirped) 245 -51L!x}1c  
11.5  光学薄膜—相变 245 IM@Qe|5  
11.6  群延迟和延迟色散 246 HL!-4kN <$  
11.7  色度色散 246 2KzKNe(  
11.8  色散补偿 249 gM= ~dBz  
11.9  空间光线偏移 256 !nYAyjf   
11.10  参考文献 258 >l7 o/*4  
12  公差与误差 260 &#)3v8  
12.1  蒙特卡罗模型 260 -0Q!:5EC  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 `}=Fw0  
12.2.1  误差工具 267 Df4n9m}E  
12.2.2  灵敏度工具 271 RoiMvrJQP  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Z?@07Y[|K  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Aqc(  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 o^NQ]BdH8  
12.3  参考文献 276 /2U.,vw  
13  Runsheet 与Simulator 277 REsThB  
13.1  原理介绍 277 E7D^6G&i  
13.2  截止滤光片设计 277 ZcQm(my  
14  光学常数提取 289 ew0 )  
14.1  介绍 289 5 QT9  
14.2  电介质薄膜 289 mR{0*<  
14.3  n 和k 的提取工具 295 :kUH>O  
14.4  基底的参数提取 302  K A<  
14.5  金属的参数提取 306 :L?zk"0C  
14.6  不正确的模型 306 -WYJ1B0v  
14.7  参考文献 311 +GGj*sD  
15  反演工程 313 ht-6_]+ME  
15.1  随机性和系统性 313 IrVeP&KM+  
15.2  常见的系统性问题 314 T S.lFg:K  
15.3  单层膜 314 `2Z=Lp  
15.4  多层膜 314 L\B+j+~  
15.5  含义 319 bH.">IV  
15.6  反演工程实例 319 `=>Bop)  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 PNG'"7O  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 R5FjJ>JE  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 L%<1C \k  
16.1  光学性质的热致偏移 329 v{jl)?`~w  
16.2  应力工具 335 fvx0]of  
16.3  均匀性误差 339 W)"q9(T?%  
16.3.1  圆锥工具 339 =1,g#HS  
16.3.2  波前问题 341 eu4x{NmQ  
16.4  参考文献 343 |p+VitM7  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 < FJ#Hy+  
17.1  引言 345 emaNmpg  
17.2  操作数 345 `rcjZ^n  
18  如何在Function中编写脚本 351 r9%W?fEBp  
18.1  简介 351 l5MxJ>?4%B  
18.2  什么是脚本? 351 JDs<1@\  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 W,<Vr2J[  
18.4  基础 352 Md~mI8  
18.4.1  Classes(类别) 352 Z4e?zY  
18.4.2  对象 352 Nhf!;>  
18.4.3  信息(Messages) 352 a2i   
18.4.4  属性 352 j` x9z_  
18.4.5  方法 353 s2$R2,  
18.4.6  变量声明 353 7OZ s~6(  
18.5  创建对象 354 Oo0$n]*;W  
18.5.1  创建对象函数 355 _S[H:b$?  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 wS5hXTb"  
18.5.3 丢弃对象 356 CeZ5Ti?F  
18.5.4  总结 356 JE j+>  
18.6  脚本中的表格 357 _3E7|drIX  
18.6.1  方法1 357 G ;z2}Ei  
18.6.2  方法2 357 (;n|>l?*  
18.7 2D Plots in Scripts 358 h8h4)>:  
18.8 3D Plots in Scripts 359 [W2p}4(  
18.9  注释 360 mrJQB I+  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ve.4""\a  
18.11  一个更高级的脚本 362 =thgNMDm"  
18.12  <esc>键 364 Jd%#eD*k9  
18.13 包含文件 365 \<P W_'6  
18.14  脚本被优化调用 366 $v^F>*I1  
18.15  脚本中的对话框 368 ~E!"YkIr  
18.15.1  介绍 368 )~5`A*Ku  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 @wg*~"d  
18.15.3  输入框函数 370 4@bL` L)  
18.15.4  自定义对话框 371 IOJfv8  
18.15.5  对话框编辑器 371 & =frt3  
18.15.6  控制对话框 377 Y3-P*  
18.15.7  更高级的对话框 380 N( /PJJ~  
18.16 Types语句 384 S<>e(x3g]  
18.17 打开文件 385 Sd)D-S  
18.18 Bags 387 LHa cHv  
18.13  进一步研究 388 XJQ[aU"[]N  
19  vStack 389 "16==tLFE  
19.1  vStack基本原理 389 +zlaYHj  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 8U8"k  
19.3  五棱镜 393 ;Y~;G7  
19.4 光束距离 396 w@"|S_E  
19.5 误差 399 ,mRN;|N  
19.6  二向分色棱镜 399 P2oR C3~  
19.7  偏振泄漏 404 x3vz4m[  
19.8  波前误差—相位 405 CSD8?k]2  
19.9  其它计算参数 405 >2wjV"W?  
20  报表生成器 406 }&!rIU  
20.1  入门 406 6 o+zhi;E  
20.2  指令(Instructions) 406 ;~@2YPj  
20.3  页面布局指令 406 p<![JeV  
20.4  常见的参数图和三维图 407 !q/?t XM!  
20.5  表格中的常见参数 408 H,uOshR  
20.6  迭代指令 408 #v`G4d  
20.7  报表模版 408 NZD X93  
20.8  开始设计一个报表模版 409 _h.[I8xgYG  
21  一个新的project 413 j$Kubg(I5  
21.1  创建一个新Job 414 nmgW>U0jZh  
21.2  默认设计 415 hwO]{)%  
21.3  薄膜设计 416 GWhb@K  
21.4  误差的灵敏度计算 420 O|OPdD  
21.5  显色指数计算 422 8RocObY_W  
21.6  电场分布 424 <H 3}N!  
后记 426 s{CSU3vYmi  
S>'wb{jj!  
;`xu)08a  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 AQFx>:in  
G q:7d]c~T  
《Essential Macleod中文手册》
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iBc( @EJ  
目  录 hZ%Ie%~n  
*D\nsJ*g  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Ak1f*HGl|  
第1章 介绍 ..........................................................1 aEgzQono  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 (57x5qP X  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 %fxGdzu7.  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 O'p7^"M  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 $i3/||T,9  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 vF*H5\ m<a  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 5v?6J#]2  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 myXp]=Sb?  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 z~X]v["d  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 r_ o2d8  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 $+rdzsf)+/  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 6%5A&&O(b  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 cW3;5  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 TX 12$p\  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 b9:E0/6   
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 LtNG<n)_BH  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 8Y4YE(x5  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 J|K~a?&vN  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Q}1PPi,  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 uT=sDWD :  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 lQ)8zI  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 6vmkDL8{A8  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 m(&ZNZK  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 / P{f#rV5  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 ()P?fed  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 |_2O:7qe  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 lv{Qn~\y&  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 id*UTY Tg  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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