线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)
时间地点 Z'>eT)
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 K&D}!.~/ 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 }d~FTre 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ZTBFV/{ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ^zWO[$n}tP 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金) /qkIoF2 特邀专家介绍 0m+5Zn [attachment=121028] !{]v='
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 vn%U;} 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 bZOy~F| 课程概要 L$u&~"z- 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 kkE)zF 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 xZ @O"*{ 课程大纲 AXU!-er$ 1. Essential Macleod软件介绍 ^cmP 1.1 介绍软件 FvI0 J
1.2 创建一个简单的设计 E'BH7JV 1.3 绘图和制表来表示性能 ,~N+?k_ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /"%IhX- 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) :AE;x& 1.6 特定设计的公式技术 ^`>Ysc(@& 1.7 交互式绘图 w`#0
Y9O 2. 光学薄膜理论基础 kJ<Xq
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ;AL@<,8 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 U9p.Dh~)vG 3. 材料管理 w6In{uO-Z 3.1 材料模型 KlqJEtO_ 3.2 介质薄膜光学常数的提取 zS"zb 3.3 金属薄膜光学常数的提取 hPXVPLm7I 3.4 基板光学常数的提取 4\'81"ei 4. 光学薄膜设计优化方法 *6x^w%=A 4.1 参考波长与g C(|T/rQ- 4.2 四分之一规则 ^Lv^W 4.3 导纳与导纳图 `E0.P V 4.4 斜入射光学导纳 #2vG_B<M) 4.5 光学薄膜设计的进展 Oi%~8J> 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Y %D*O 4.6.1 优化目标设置 PN^1 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) dZiWVa 4.6.3 膜层锁定和链接 gK#fuQ$hH 5. Essential Macleod中各个模块的应用 ZNC?Ntw 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 CT:eV7<>s 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 gZ >orZL' 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 -^xKG'uth 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 xE-`Bb 5.5 如何在Function中编写脚本 &{4Mo,x 6. 光学薄膜系统案例 A&lgiR*ObT 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 09;'z 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 4k2c mM$ 6.3 Stack应用范例说明 dj&m 7. 薄膜性能分析 N9h@1'> 7.1 电场分布 a~eLkWnh<k 7.2 公差与灵敏度分析 f,
j(uP 7.3 反演工程 H6CGc0NS+ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 8J?`_ 8. 真空技术 "JLhOTPaHf 8.1 常用真空泵介绍 Hkz~9p 8.2 真空密封和检漏 {f-/,g~ 9. 薄膜制备技术 =^AZx)Kwd 9.1 常见薄膜制备技术 Yl~?MOk 10. 薄膜制备工艺 iGeT^!N 10.1 薄膜制备工艺因素 -5_xI)i 10.2 薄膜均匀性修正技术 Qnb?hvb"d 10.3 光学薄膜监控技术 Eno2<< 11. 激光薄膜 )qP{X,Uf 11.1 薄膜的损伤问题
83,1d*` 11.2 激光薄膜的制备流程 XoQk'7"f 11.3 激光薄膜的制备技术 v4a4*rBI" 12. 光学薄膜特性测量 CJtjn 12.1 薄膜光谱测量 J8?6G&0H 12.2 薄膜光学常数测量 +X(^Q@ 12.3 薄膜应力测量 =2)$|KC 12.4 薄膜损伤测量 F`V[G(f+r 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 {s'_zSz
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=121030] B|$13dHfa
内容简介 R$&&kmJ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 12'(MAP 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 V42*4hskL 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]S aH/$ !vp!\Zj7o
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ~dr1Qi#j? 目录 N4DDH^h Preface 1 L[r0UXYLV 内容简介 2 +4nR&1z$ 目录 i n)!_HNc9 1 引言 1 ,fJ(.KI0 2 光学薄膜基础 2 LtWU"42 2.1 一般规则 2 mKn357: 2.2 正交入射规则 3 dq/?&X 2.3 斜入射规则 6 "g1;TT:1~ 2.4 精确计算 7 yBh"qnOT 2.5 相干性 8 I>o;
%} 2.6 参考文献 10 2.2a2.I1 3 Essential Macleod的快速预览 10 hg=G// 4 Essential Macleod的特点 32 m_I$"ge 4.1 容量和局限性 33 >$52B9ie 4.2 程序在哪里? 33 D %
,yA 4.3 数据文件 35 t%B!\] 4.4 设计规则 35 ZDJWd=E 4.5 材料数据库和资料库 37 J15T!_AW< 4.5.1材料损失 38 v+bjC 4.5.1材料数据库和导入材料 39 .p~;U|h" 4.5.2 材料库 41 =>%%]0 4.5.3导出材料数据 43 FtDAk? 4.6 常用单位 43 |aJ6363f. 4.7 插值和外推法 46 wO)KQ~ yX 4.8 材料数据的平滑 50 oxXW`C< 4.9 更多光学常数模型 54 L;7mt
4H 4.10 文档的一般编辑规则 55 Xb]?/7
X 4.11 撤销和重做 56 n<&R"89 4.12 设计文档 57 -" K:ve(K 4.10.1 公式 58 IqKXFORiNI 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [IA==B7 4.10.3 沉积密度 59 7lPk~0 4.10.4 平行和楔形介质 60 6YGr"Kj & 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ;*H~Yb0 4.10.4 性能 61 =u"|qD 4.10.5 保存设计和性能 64 #h|< > 4.10.6 默认设计 64 K"$ky,tU 4.11 图表 64 .3&OFM 4.11.1 合并曲线图 67 x#mk[SV 4.11.2 自适应绘制 68 Vho0f<`E 4.11.3 动态绘图 68 4!%LD(jB`B 4.11.4 3D绘图 69 OVf|4J/Yx 4.12 导入和导出 73 :E`l(sI7J} 4.12.1 剪贴板 73 M=_CqK* 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 i>zyn-CuW 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Nj8)HR 4.13 背景 77 <qt%MM [Y 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &B7KWvAy 4.15 生成Rugate 84 ]%hI- 4.16 参考文献 91 (1]@ fCd + 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 y36aoKH 5.1 Jobs 92 O#Hz5A5 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Y2&6xTh 5.3 输入材料 94 7gaC)j& 5.4 设计数据文件夹 95 P~Owvs/= 5.5 默认设计 95 Te#[+B? 6 细化和合成 97 h9n CSj 6.1 优化介绍 97 rdg1<Z 6.2 细化 (Refinement) 98 H`@7o8oj1 6.3 合成 (Synthesis) 100 t[,\TM^h}0 6.4 目标和评价函数 101 E #p6A5 6.4.1 目标输入 102 N3RwcM9+; 6.4.2 目标 103 %*=FLtBjo 6.4.3 特殊的评价函数 104 >z$|O> j 6.5 层锁定和连接 104 a9Rh 6.6 细化技术 104 ^o:5B%}#[ 6.6.1 单纯形 105 QLl44*@ 6.6.1.1 单纯形参数 106 SUhP
e+ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 P'k39 6.6.2.1 Optimac参数 108 i+3b)xtW7 6.6.3 模拟退火算法 109 ZVU)@[s 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ]F!h~> 6.6.4 共轭梯度 111 R8*4E0\br 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *CSFkWVa 6.6.5 拟牛顿法 112 rE~O}2a#H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 8/v_ uEG 6.6.6 针合成 113 `#F>?g$2 6.6.6.1 针合成参数 114 "&F/'';0}E 6.6.7 差分进化 114 r$zXb9a|< 6.6.8非局部细化 115 s]OXB {M 6.6.8.1非局部细化参数 115 m%puD9 6.7 我应该使用哪种技术? 116 '"a8< |