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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 :/6:&7s  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 y6am(ugE  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 <w&'E6mU  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 !o| ex+z;  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 kYS#P(1  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
>0kL9_9{  
特邀专家介绍 j&DlI_  
[attachment=121028] ~/4j&IG  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 BSS4}qyS  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 ]oix))'n  
课程概要 GGHMpQ   
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 C^C'!  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 ';eAaDM  
课程大纲 n}NUe`E_h  
1. Essential Macleod软件介绍 pe[huYE  
1.1 介绍软件 6+sz4  
1.2 创建一个简单的设计 g?1bEOA!  
1.3 绘图和制表来表示性能 :TrP3wV _  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4-O.i\1q  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) (QFZM"G  
1.6 特定设计的公式技术 ^p4`o>  
1.7 交互式绘图 \.P'8As  
2. 光学薄膜理论基础 0Wd5s{S  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 b0f6?s  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 6jr}l  
3. 材料管理 QdZHIgh`i  
3.1 材料模型 2aivc,m{r  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !OV+2suu1  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 7OZ0;fK  
3.4 基板光学常数的提取 +SV!QMIg  
4. 光学薄膜设计优化方法 g3n>}\xG>  
4.1 参考波长与g %Y`)ZKh  
4.2 四分之一规则 _z^&zuO  
4.3 导纳与导纳图 W*c^(W  
4.4 斜入射光学导纳 .Xta;Py|J  
4.5 光学薄膜设计的进展 !H^R_GC  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 g[2[ zIB=  
4.6.1 优化目标设置 C/"Wh=h6  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ku v<  
4.6.3 膜层锁定和链接 Y0'~u+KS`5  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 b4^a zY  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 1 xrmmK  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 d#,   
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 arPqVMVr  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 2\}6b4  
5.5 如何在Function中编写脚本 Z;U\h2TY  
6. 光学薄膜系统案例 kJXy )  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 6l?KX  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 AK;G_L  
6.3 Stack应用范例说明 4pu>f.  
7. 薄膜性能分析 <CP't[  
7.1 电场分布 ~o ;*{ Q  
7.2 公差与灵敏度分析 l&Fx< W  
7.3 反演工程 fwyz|>H_Y(  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 $/i;UUd  
8. 真空技术 'UCF2 L  
8.1 常用真空泵介绍 ! F&{I  
8.2 真空密封和检漏 u|8V7*)3  
9. 薄膜制备技术 :'dH)yO  
9.1 常见薄膜制备技术 .!Q[kn0a  
10. 薄膜制备工艺 rUF= uO(  
10.1 薄膜制备工艺因素 [=xO>  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Qgv-QcI{  
10.3 光学薄膜监控技术 v?1xYG@1  
11. 激光薄膜 9s6d+HhM  
11.1 薄膜的损伤问题 a_(vpD^  
11.2 激光薄膜的制备流程 (OK;*ZH+T@  
11.3 激光薄膜的制备技术 HQ8;d9cGir  
12. 光学薄膜特性测量 xqzdXL}  
12.1 薄膜光谱测量 mm<rdo(`  
12.2 薄膜光学常数测量 |a {*r.  
12.3 薄膜应力测量 yX8$LOjE  
12.4 薄膜损伤测量 V-iY2YiR  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Hq$?-%4  
[attachment=121029]
=:=uV0jX\  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
?\Jl] {i2  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
l<nL8/5{<  
内容简介 ugt|'i  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 t7DT5SrR  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !n/"39KT  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 djcC m5m  
X8b= z9  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
6jtnH'E/  
目录 . ),m7"u|  
Preface 1 :AB$d~${M>  
内容简介 2 2^7VDqLc  
目录 i 4jl-?  
1  引言 1 5zF7yvS.w  
2  光学薄膜基础 2 E|d 8vt  
2.1  一般规则 2 J;g+  
2.2  正交入射规则 3 +O @0gl  
2.3  斜入射规则 6 wg=ge]E5  
2.4  精确计算 7 !8O*)=RA  
2.5  相干性 8 jsG epi9  
2.6 参考文献 10 {aWTT&-N  
3  Essential Macleod的快速预览 10 9q -9UC!g  
4  Essential Macleod的特点 32 w+~s}ta2^  
4.1  容量和局限性 33 F|XRh6j  
4.2  程序在哪里? 33 J_A5,K*r|  
4.3  数据文件 35 0Y9\,y_  
4.4  设计规则 35 /K9Tn  
4.5  材料数据库和资料库 37 0)'^vJe  
4.5.1材料损失 38 <x),HTJ  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 +mN]VO*y  
4.5.2 材料库 41 1^zpO~@ S  
4.5.3导出材料数据 43 ]QS? fs Z  
4.6  常用单位 43 /t083  
4.7  插值和外推法 46 -Ug  
4.8  材料数据的平滑 50 @4D$Xl  
4.9 更多光学常数模型 54 O&?i8XsB  
4.10  文档的一般编辑规则 55 {(#>%f+|C  
4.11 撤销和重做 56 !;^sIoRPV  
4.12  设计文档 57 /JfRy%31  
4.10.1  公式 58 X99:/3MXB'  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 )q\|f_  
4.10.3  沉积密度 59 K -!YD}OF  
4.10.4 平行和楔形介质 60 &AI/;zru  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 1#9Q1@'OS  
4.10.4  性能 61 &JM|u ww?1  
4.10.5  保存设计和性能 64 @""aNKA^r>  
4.10.6  默认设计 64 hSq3LoHV  
4.11  图表 64 '8v^.gZ  
4.11.1  合并曲线图 67 D0D0=s  
4.11.2  自适应绘制 68 d([NU;  
4.11.3  动态绘图 68 Bg*Oj)NM  
4.11.4  3D绘图 69 AAE8j.  
4.12  导入和导出 73 +.T&U7xV  
4.12.1  剪贴板 73 3PLv;@!#j}  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 i*'6"  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 MS-}IHO  
4.13  背景 77 vcnUb$%  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 e`fN+  
4.15  生成Rugate 84 `Pv[A  
4.16  参考文献 91 y1!c:&  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 +^ n\?!  
5.1  Jobs 92 ~ r6qnC2  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ,mR$Y T8  
5.3  输入材料 94 jemg#GB8  
5.4  设计数据文件夹 95 #y"E hwF  
5.5  默认设计 95 'PF?D~  
6  细化和合成 97 vd>X4e ^j  
6.1  优化介绍 97 JB~79Lsdz  
6.2  细化 (Refinement) 98 X|)Ox ,(  
6.3  合成 (Synthesis) 100 _4VF>#b  
6.4  目标和评价函数 101 y|1,h}H^n  
6.4.1  目标输入 102 5 iUT#  
6.4.2  目标 103 L\--h`~YU  
6.4.3  特殊的评价函数 104 w:P$ S  
6.5  层锁定和连接 104 _6v|k}tW'Y  
6.6  细化技术 104 \-Mzs 0R  
6.6.1  单纯形 105 x,a(O@  
6.6.1.1 单纯形参数 106 j'#M'W3@  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 6H,n?[zTt  
6.6.2.1 Optimac参数 108 y-qbK0=X4  
6.6.3  模拟退火算法 109 RfVVAaI  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 i>w'$ {  
6.6.4  共轭梯度 111 K r9 P#Y  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {k=H5<FV  
6.6.5  拟牛顿法 112 D/C)Rrq"a  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 fGDR<t3yiQ  
6.6.6  针合成 113 l(Dkmt>^  
6.6.6.1 针合成参数 114 (5y+g?9d;  
6.6.7 差分进化 114 *6 oQW  
6.6.8非局部细化 115 !sA[A>  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ,*SoV~  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 kYBy\  
6.7.1  细化 116 pZ?7'+u$L  
6.7.2  合成 117 v`ckvl)(C  
6.8  参考文献 117 u/3[6MIp  
7  导纳图及其他工具 118 1@*qz\ YY  
7.1  简介 118 c|8[$_2  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 / E~)xgPM<  
7.2.1  四分之一波长规则 119 z yyt`  
7.2.2  导纳图 120 v|:2U8YREf  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 J0@<6~V6o  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 x#ub % t  
7.5  斜入射导纳图 141 c+:LDc3!Gb  
7.6  对称周期 141 BFP (2j  
7.7  参考文献 142 t .*z)N  
8  典型的镀膜实例 143 @C]]VE  
8.1  单层抗反射薄膜 145 5 Z+2  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ;Z%PBMa  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ?;Ck]l#5ys  
8.4  W-膜层 148 41f4zisZ  
8.5  V-膜层 149 |F _ Z  
8.6  V-膜层高折射基底 150 VPG+]> *  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 $I40 hk  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 PMER~}^  
8.9  四层抗反射薄膜 153 H4[];&]xr  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 #w\Bc\  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 0?hJ!IT;q7  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 4FK|y&p4r  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 *k)v#;B  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 aChyl;#E  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 am >X7  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 8YNii-pl  
8.17  1/4波长堆栈 162 sHC4iMIw  
8.18  陷波滤波器 163 \*{tAF  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 thWQU"z4  
8.20  褶皱 165 ;Ml??B]C  
8.21  消偏振分光器1 169 >_3+s~  
8.22  消偏振分光器2 171 3KFw0(S/  
8.23  消偏振立体分光器 172 'BY{]{SL  
8.24  消偏振截止滤光片 173 NHKIZx8sR  
8.25  立体偏振分束器1 174 7O6VnKl  
8.26  立方偏振分束器2 177 ~ KNdV  
8.27  相位延迟器 178 So &c\Ff  
8.28  红外截止器 179 Ul@ Jg    
8.29  21层长波带通滤波器 180 6- H81y 3  
8.30  49层长波带通滤波器 181 P e_mX*0  
8.31  55层短波带通滤波器 182 f( (p\ &y  
8.32  47 红外截止器 183 ]^9B%t s9  
8.33  宽带通滤波器 184 (x7AV$N  
8.34  诱导透射滤波器 186 ^zjQ(ca@"x  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Q}# 5mf&cD  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 !Gwf"-TQ  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 1]eh0H  
8.35  增益平坦滤波器 193 vwZd@%BO  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Of| e]GR  
8.39  啁啾反射镜2 198 6L--FY>.-  
8.40  啁啾反射镜3 199 WH Zz?|^  
8.41  带保护层的铝膜层 200 yP:/F|E$  
8.42  增加铝反射率膜 201 qucw%hJr  
8.43  参考文献 202 Op] L#<&T  
9  多层膜 204 8ut:cCrmg  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 u@!iByVAg  
9.2  内部透过率 204 Mv9q-SIc[  
9.3 内部透射率数据 205 `V N $ S  
9.4  实例 206  4{2)ZI#  
9.5  实例2 210 b}P5*}$:9"  
9.6  圆锥和带宽计算 212 cI#2MjL  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 SZ+<0Y |  
10  光学薄膜的颜色 216 K*&?+_v :  
10.1  导言 216 _;*|"e@^  
10.2  色彩 216 [E_+fT  
10.3  主波长和纯度 220 H]:z:AAvX  
10.4  色相和纯度 221 TF %8pIg>Z  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 mi~ BdBv  
10.6 色差 226 @&f3zq  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 D}Jhg`9  
10.8  颜色渲染指数 234 LM_/:  
10.9  色差计算 235 !X 3/2KRP7  
10.10  参考文献 236 !ra CpL9;  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 mPR(4Ol.  
11.1  短脉冲 238 .hh 2II  
11.2  群速度 239 ;0}8vs  
11.3  群速度色散 241 {.7ve<K  
11.4  啁啾(chirped) 245 (n{sp  
11.5  光学薄膜—相变 245 y]OW{5(  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ;]<{ <czc  
11.7  色度色散 246 q9n0bw^N  
11.8  色散补偿 249 #k%3Ag  
11.9  空间光线偏移 256 nU"V@_?\  
11.10  参考文献 258 :j/PtNT@  
12  公差与误差 260 c"+N{$ vp  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ],r?]>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 b@ J&jE~d  
12.2.1  误差工具 267 *b" (r|Ko  
12.2.2  灵敏度工具 271 ) Qve[O  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 UXB[3SP  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 qlUYu"`i  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Qi^MfHW  
12.3  参考文献 276 [c?']<f4  
13  Runsheet 与Simulator 277 0D1yG(ck  
13.1  原理介绍 277 0y4z`rzTn  
13.2  截止滤光片设计 277 YBgHX [q  
14  光学常数提取 289 g j`"|  
14.1  介绍 289 nbYkr*: "t  
14.2  电介质薄膜 289 U5mec167  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ~Z5?\a2Ld  
14.4  基底的参数提取 302 T6f{'.w  
14.5  金属的参数提取 306 uh`@qmu)  
14.6  不正确的模型 306 u!2.[CV  
14.7  参考文献 311 n5_r 3{  
15  反演工程 313 pj,.RcH@o  
15.1  随机性和系统性 313 ;% *e}w0  
15.2  常见的系统性问题 314 !l'Az3'J|  
15.3  单层膜 314 9/w'4bd  
15.4  多层膜 314 <p(&8P  
15.5  含义 319 :=04_5 z  
15.6  反演工程实例 319 zY8"\ZB  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 uK]@! gz  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 S=lA^#'UdX  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Yfy6o6*:  
16.1  光学性质的热致偏移 329 fiTMS:  
16.2  应力工具 335 R~b9)  
16.3  均匀性误差 339 HSx~Fs^J  
16.3.1  圆锥工具 339 @M4~,O6-  
16.3.2  波前问题 341 s<qSelj  
16.4  参考文献 343  1$idF  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 O#A1)~  
17.1  引言 345 bWv6gOPR3  
17.2  操作数 345 -mZo`  
18  如何在Function中编写脚本 351 8 Oeg"d  
18.1  简介 351 CTtF=\  
18.2  什么是脚本? 351 h`%K \C  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 L&ws[8-  
18.4  基础 352 \{da|n -  
18.4.1  Classes(类别) 352 f7X#cs)a  
18.4.2  对象 352 ;-=y}DK  
18.4.3  信息(Messages) 352 :LVM'c62c>  
18.4.4  属性 352 ~PvW+UMLk  
18.4.5  方法 353 I(Nsm3L  
18.4.6  变量声明 353 MvY0?!v  
18.5  创建对象 354 cFUYT$8>  
18.5.1  创建对象函数 355 !5`}s9hsF_  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 *wp'`3y}  
18.5.3 丢弃对象 356 QAi(uL5   
18.5.4  总结 356 /db?ltb  
18.6  脚本中的表格 357 D4'? V Iz  
18.6.1  方法1 357 8<P$E!  
18.6.2  方法2 357 B\|>i~u(  
18.7 2D Plots in Scripts 358 7OtQK`P"A  
18.8 3D Plots in Scripts 359 T9Vyj3!i_  
18.9  注释 360 /BT;Q)( &  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 f'FY<ed<w  
18.11  一个更高级的脚本 362 `1EBnL_1  
18.12  <esc>键 364 <zZAVGb4I  
18.13 包含文件 365 j)-D.bY0  
18.14  脚本被优化调用 366 RU"w|Qu>pM  
18.15  脚本中的对话框 368 kTi QO2H  
18.15.1  介绍 368 0y;&L63>T  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ? |8&!F  
18.15.3  输入框函数 370 bwVv#Z\r  
18.15.4  自定义对话框 371 GJO/']k  
18.15.5  对话框编辑器 371 A ws#>l<  
18.15.6  控制对话框 377 $:u,6|QsS=  
18.15.7  更高级的对话框 380 20?i4h_  
18.16 Types语句 384 puqLXDjA/  
18.17 打开文件 385 +crAkb}i  
18.18 Bags 387 IJ4"X#Q/  
18.13  进一步研究 388 nNhN:?  
19  vStack 389 ~;eWQwD  
19.1  vStack基本原理 389 d`~#uN {  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 B10p7+NBF  
19.3  五棱镜 393 Ka_UVKwMro  
19.4 光束距离 396 _D,8`na>K  
19.5 误差 399 "[[fQpe4@  
19.6  二向分色棱镜 399 @0 -B&w  
19.7  偏振泄漏 404 C9=f=sGL  
19.8  波前误差—相位 405 e<9nt [  
19.9  其它计算参数 405 m/eGnv;!  
20  报表生成器 406 J~_p2TZJ\3  
20.1  入门 406 2M&4]d  
20.2  指令(Instructions) 406 x *qef_Hu  
20.3  页面布局指令 406 IN%>46e`  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Y~vTFOI  
20.5  表格中的常见参数 408 $--PA$H27  
20.6  迭代指令 408 h.?[1hT4R  
20.7  报表模版 408 ]Rj"/(X,  
20.8  开始设计一个报表模版 409 v,D_^?]@  
21  一个新的project 413 (VOKa  
21.1  创建一个新Job 414 =k$d8g ez  
21.2  默认设计 415 mKsj7  
21.3  薄膜设计 416 _O!D*=I  
21.4  误差的灵敏度计算 420 !r LHPg  
21.5  显色指数计算 422 Nb];LCx  
21.6  电场分布 424 ?1N0+OW   
后记 426 &\"fH+S  
tLvli>y@  
/ruf1?\,R  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 cw5YjQ8 9  
`PW=_f={  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=121031]
JxLH]1b  
KbUX(9+B  
目  录 cbwzT0  
3FXMM&w  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 9~; Ju^b  
第1章 介绍 ..........................................................1 l?R_wu,Q  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ReE3742@  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 GDcV1$NA  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 4z*_,@OA  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 X*JD  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 {``}TsN  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Tb)x8-0  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 RyhR#  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 =#V11j  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 O#EBR<CuK  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 d#d~t[=  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 +[qkG. O  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ZbrE m  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 = ]@xXVf/  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 <+b:  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 /,>.${,;u  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 |X.z|wKT6  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 @s@  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Orb(xLChJ  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 @i68%6H`?  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 dXDD/8E  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 "J.jmR;  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 +|H'I j$  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 FO5SXwx  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 M/DTD98'N  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 EsWszpRqb  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 /iN\)y#u1  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 TkBBHg;  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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