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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 ;x[F4d  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 @~!1wPvF`I  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 dBV^Khf J  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ;w(]z  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 `.# l_-U{  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
=5P_xQx  
特邀专家介绍 AUloP?24  
[attachment=121028] CS 7"mE`{  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 67I6]3[ Z  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 u_aln[oIv  
课程概要 (% fl  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 o:\RJig<  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 TA47lz q  
课程大纲 ]Q\Ogfjp  
1. Essential Macleod软件介绍 4>4*4!KR}  
1.1 介绍软件 8s4y7%,|  
1.2 创建一个简单的设计 lN,8(n?g  
1.3 绘图和制表来表示性能 9o.WJ   
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 +$)C KC  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) r9Ux=W\  
1.6 特定设计的公式技术 vqLC?{i+  
1.7 交互式绘图 o7feH 6Sh  
2. 光学薄膜理论基础 `Z{kJMS  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 @!\ g+z_"  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 YyX/:1 sg>  
3. 材料管理 rK*s/mX <  
3.1 材料模型 =&*:)  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 F|*{Ma  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 s,TKC67.%+  
3.4 基板光学常数的提取 BoB2q(  
4. 光学薄膜设计优化方法 ]1 #&J(  
4.1 参考波长与g 4C(vBKl  
4.2 四分之一规则 A>6 b 6  
4.3 导纳与导纳图 i0uBb%GMT  
4.4 斜入射光学导纳 ^R.#n[-r2  
4.5 光学薄膜设计的进展 XD`QU m  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 0lNVQxG  
4.6.1 优化目标设置 UA[2R1}d  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) c=l 3Sz?  
4.6.3 膜层锁定和链接 L!E/ )#{  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 zCD?5*7  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 a z 7Vy-  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 f>JuxX\G  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 dt Q>4C"N  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 p.q :vI$J  
5.5 如何在Function中编写脚本 Lj"~6l`)  
6. 光学薄膜系统案例 WYTeu "  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8uoFV=bj\  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 >9W ;u`  
6.3 Stack应用范例说明 Ebp^-I9.d  
7. 薄膜性能分析 S .rT5A[  
7.1 电场分布 *=L3bBu?  
7.2 公差与灵敏度分析 TH2D;uv  
7.3 反演工程 SoODss~X  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 -@%*~^~z'  
8. 真空技术 <ns[( Q  
8.1 常用真空泵介绍 -zg,pK$+  
8.2 真空密封和检漏 1)u 3  
9. 薄膜制备技术 2O {@W +Mt  
9.1 常见薄膜制备技术 ll {jE  
10. 薄膜制备工艺 .-+_>br~  
10.1 薄膜制备工艺因素 |XxA Fje  
10.2 薄膜均匀性修正技术 h&J6  
10.3 光学薄膜监控技术 Q44Pg$jp  
11. 激光薄膜 80cBLGG  
11.1 薄膜的损伤问题 X 'Q$v~/  
11.2 激光薄膜的制备流程 @`aR*B  
11.3 激光薄膜的制备技术 ^Sx 0t  
12. 光学薄膜特性测量 gd[jYej'RP  
12.1 薄膜光谱测量 rX6"w31  
12.2 薄膜光学常数测量 s;q]:+#7g  
12.3 薄膜应力测量 E;~gQ6vAI  
12.4 薄膜损伤测量 T[s_w-<7$  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 >z6 (fM`i  
[attachment=121029]
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有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
m8H|cQ@Uu  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
Ev IL[\Dy  
内容简介 [AQ6ads)  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 s S8Z5k;  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 T%K(opISc(  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 VO>A+vx3M  
>e*m8gm#  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
&TE=$a:d&  
目录 ?:Y{c#w>  
Preface 1 "K`B'/08^  
内容简介 2 H r?G_L  
目录 i "aK3 ylz;  
1  引言 1 Ol:&cX3G  
2  光学薄膜基础 2 AD =@  
2.1  一般规则 2 aOfL;I  
2.2  正交入射规则 3 oC>e'_6_b  
2.3  斜入射规则 6 y%k\=:m  
2.4  精确计算 7 =C 8 t5BZ"  
2.5  相干性 8 vmL% %7  
2.6 参考文献 10 >|!F.W  
3  Essential Macleod的快速预览 10 KgX~PP>  
4  Essential Macleod的特点 32 %TxFdF{A  
4.1  容量和局限性 33 rH8^Fl&jT  
4.2  程序在哪里? 33 eIK8J,-  
4.3  数据文件 35 I\PhgFt@O  
4.4  设计规则 35 V(1Ldl'a  
4.5  材料数据库和资料库 37 vG O-a2Z  
4.5.1材料损失 38 szMh}q"u  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 E~_2Jf\U  
4.5.2 材料库 41 64>E|w  
4.5.3导出材料数据 43 ln)_Jf1r  
4.6  常用单位 43 s;X"E =  
4.7  插值和外推法 46 FGu:8`c9  
4.8  材料数据的平滑 50 ej>8$^y  
4.9 更多光学常数模型 54 CE-ySIa  
4.10  文档的一般编辑规则 55 y7dnXO!g9-  
4.11 撤销和重做 56 ibex:W^  
4.12  设计文档 57 iU{bPyz ,  
4.10.1  公式 58 s/UIo ^m  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 bKj#HHy\I  
4.10.3  沉积密度 59 XP *pYN  
4.10.4 平行和楔形介质 60 /E$"\md  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 q.FgX  
4.10.4  性能 61 2]C`S,)  
4.10.5  保存设计和性能 64 X{\>TOk   
4.10.6  默认设计 64 |_8 ::kir:  
4.11  图表 64 1HL}tG?+#  
4.11.1  合并曲线图 67 #sdW3m_%  
4.11.2  自适应绘制 68 _aL:XKM  
4.11.3  动态绘图 68 F=yrqRS=  
4.11.4  3D绘图 69 |Y|{9Osus  
4.12  导入和导出 73 RS!~5nk5  
4.12.1  剪贴板 73 AJ`b- $Q  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 lb5Y$ZC  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 D`0II=  
4.13  背景 77 Um]>B`."wK  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ?Q;8D@   
4.15  生成Rugate 84 bVSa}&*kM  
4.16  参考文献 91 1u7 5  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 J/8aDr (+  
5.1  Jobs 92 )Xg,;^  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 t Krr5SRb  
5.3  输入材料 94 ."l@aE=|  
5.4  设计数据文件夹 95 ;H /*%2  
5.5  默认设计 95 B5*{85p(u  
6  细化和合成 97 `YAqR?Xj_<  
6.1  优化介绍 97 KG6ki_  
6.2  细化 (Refinement) 98 B2:6=8<  
6.3  合成 (Synthesis) 100 X+;Ivx  
6.4  目标和评价函数 101 8:0QIkqk  
6.4.1  目标输入 102 >w+WG0Z K  
6.4.2  目标 103 'm}K$h(U  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ^-c j=on=Q  
6.5  层锁定和连接 104 > xkl7D  
6.6  细化技术 104 g* F?  
6.6.1  单纯形 105 JDfkm+}uY  
6.6.1.1 单纯形参数 106 )Y}t~ Zfx  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 VlRN  
6.6.2.1 Optimac参数 108 zg+78  
6.6.3  模拟退火算法 109 cOcF VPQ  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 //]g78]=O  
6.6.4  共轭梯度 111 dX{|-;6vm  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 &Z/aM?  
6.6.5  拟牛顿法 112 |8PUmax  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 A-1Wn^,> *  
6.6.6  针合成 113 _HX 1E  
6.6.6.1 针合成参数 114 z:-a7_   
6.6.7 差分进化 114  XWV)   
6.6.8非局部细化 115 f305yo  
6.6.8.1非局部细化参数 115 evNo(U\C  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 $cEl6(66iX  
6.7.1  细化 116 r-v ;A  
6.7.2  合成 117 Rnt&<|8G  
6.8  参考文献 117 W76K/A<h>  
7  导纳图及其他工具 118 v Ic 0V  
7.1  简介 118 T`7;Rl'Q  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 JO\Tf."a\  
7.2.1  四分之一波长规则 119 oGx OJyD  
7.2.2  导纳图 120 `G&W%CHB  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 eyf\j,xP&  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 L22GOa0  
7.5  斜入射导纳图 141 Kj,C 9  
7.6  对称周期 141 Y,?s-AB  
7.7  参考文献 142 @y3w_;P  
8  典型的镀膜实例 143 /2pf*\u  
8.1  单层抗反射薄膜 145 |F[E h ~  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 +gqtW8 6  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >;kCcfS3ct  
8.4  W-膜层 148 /KjRB_5~q}  
8.5  V-膜层 149 U1bhd}MoR  
8.6  V-膜层高折射基底 150 i71 ,  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 uN20sD}  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 WL$Ee=  
8.9  四层抗反射薄膜 153 < gB>j\:  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ,L%\{bp5  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 S453oG"  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 SO%x=W  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 90L,.  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 QEK,mc3  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 H7n5k,  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 A]" $O&l  
8.17  1/4波长堆栈 162 rTYDa3  
8.18  陷波滤波器 163 r2H \B,_  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 .| CcUmx  
8.20  褶皱 165 |&B.YLx  
8.21  消偏振分光器1 169 L&M6s f$N  
8.22  消偏振分光器2 171 ;> **+ezF  
8.23  消偏振立体分光器 172 Ab`mID:  
8.24  消偏振截止滤光片 173 DqyJ]}|  
8.25  立体偏振分束器1 174 'b#RfF,7H}  
8.26  立方偏振分束器2 177 x4|>HY<p?  
8.27  相位延迟器 178 (e sTb,  
8.28  红外截止器 179 ^_ <jg0V  
8.29  21层长波带通滤波器 180 .WM0x{t/  
8.30  49层长波带通滤波器 181 z1[2.&9D-  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ',j'Hf  
8.32  47 红外截止器 183 =<w6yeko  
8.33  宽带通滤波器 184 $s<,xY 9  
8.34  诱导透射滤波器 186 ktLXL;~X  
8.35  诱导透射滤波器2 188 <Z5ak4P  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 yL/EIN  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 }YJ(|z""  
8.35  增益平坦滤波器 193 d2lOx|jt  
8.38  啁啾反射镜 1 196 M,@\*qlEJ  
8.39  啁啾反射镜2 198 WF\ hXO  
8.40  啁啾反射镜3 199 n B4)%  
8.41  带保护层的铝膜层 200 S!Ue+jW  
8.42  增加铝反射率膜 201 sW!pMkd_  
8.43  参考文献 202 \hN\px  
9  多层膜 204 i0DYdUj  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Li~(kw3  
9.2  内部透过率 204 x)0g31 4 9  
9.3 内部透射率数据 205 csE 9Ns  
9.4  实例 206 g+Vfd(e  
9.5  实例2 210 >!O3 jb k  
9.6  圆锥和带宽计算 212 # D"TY-$.=  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 |S48xsFvq  
10  光学薄膜的颜色 216 w"d~R   
10.1  导言 216 [.4R ,[U  
10.2  色彩 216 4DI.R K9  
10.3  主波长和纯度 220 eq.K77El{J  
10.4  色相和纯度 221 N^7Qn*qt[  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 (7BG~T  
10.6 色差 226 S|!)_RL  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 f!hQ"1[  
10.8  颜色渲染指数 234 owL>w  
10.9  色差计算 235 WccTR aq  
10.10  参考文献 236 jn vJ`7zFP  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 v#*9rNEj0  
11.1  短脉冲 238 NIufL }6\  
11.2  群速度 239 H_)\:gTG  
11.3  群速度色散 241 vmdu9"H  
11.4  啁啾(chirped) 245 @ hH;d\W#  
11.5  光学薄膜—相变 245 @Ee{ GH^-  
11.6  群延迟和延迟色散 246 xCwd*lsM  
11.7  色度色散 246 *0zdI<Oe  
11.8  色散补偿 249 pQ%~u3  
11.9  空间光线偏移 256 q[p+OpA  
11.10  参考文献 258 ;okFm  
12  公差与误差 260 *sK")Q4N  
12.1  蒙特卡罗模型 260 E!<w t  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 !4-B xeNY\  
12.2.1  误差工具 267 ^@?-YWt   
12.2.2  灵敏度工具 271 sv`+?hjG  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 .;j}:<  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 rFJ(t7\9h  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 kBolDPvBG  
12.3  参考文献 276 Q\>9PKK  
13  Runsheet 与Simulator 277 ; (I(TG  
13.1  原理介绍 277 $YuVM  
13.2  截止滤光片设计 277 r0kJx$f  
14  光学常数提取 289 ,'[L6=#  
14.1  介绍 289 {n9]ej^  
14.2  电介质薄膜 289 &}}c>]m  
14.3  n 和k 的提取工具 295 sYnf #'  
14.4  基底的参数提取 302 ,ErJUv  
14.5  金属的参数提取 306 8a{S*  
14.6  不正确的模型 306 ?K, xxH  
14.7  参考文献 311 5dc24GB>_  
15  反演工程 313 :m*r( i3  
15.1  随机性和系统性 313 USF&;M3  
15.2  常见的系统性问题 314 %oVoE2T{@  
15.3  单层膜 314 tlhYk=yq  
15.4  多层膜 314 p6~\U5rXm  
15.5  含义 319 ?EP>yCR9  
15.6  反演工程实例 319 7A0D[?^xe  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 N-* ^V^V  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Cv7FVl-I  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 _  dFZR  
16.1  光学性质的热致偏移 329 W*A-CkrO  
16.2  应力工具 335 bxX[$q  
16.3  均匀性误差 339 V,t&jgG*  
16.3.1  圆锥工具 339 E__^>=  
16.3.2  波前问题 341 On%21L;JG  
16.4  参考文献 343 Fw ,'a  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 i'Vrx(y3  
17.1  引言 345 pw;  
17.2  操作数 345 -I."= c%  
18  如何在Function中编写脚本 351 (!kd9uV  
18.1  简介 351 S[!sJ-rG  
18.2  什么是脚本? 351 \-(.cj)?  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ygt7;};!  
18.4  基础 352 v:otR%yt  
18.4.1  Classes(类别) 352 AIZs^ `_  
18.4.2  对象 352 &k'J5YHm8H  
18.4.3  信息(Messages) 352 c_$9z>$  
18.4.4  属性 352 JMp>)*YS  
18.4.5  方法 353 +EI+@hS  
18.4.6  变量声明 353 R.n:W;^`  
18.5  创建对象 354 ! 63>II  
18.5.1  创建对象函数 355 uJ:'<dJ  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 y&8' V\  
18.5.3 丢弃对象 356 JP$@*F@t  
18.5.4  总结 356 {2u#Q 7]|  
18.6  脚本中的表格 357 .iK{=L/(y  
18.6.1  方法1 357 ,S"a ,}8  
18.6.2  方法2 357 aXi5~,Ks_  
18.7 2D Plots in Scripts 358 + 3+^J?N  
18.8 3D Plots in Scripts 359 K/oC+Z;K  
18.9  注释 360 CKJ9YKu{W  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ?UD2}D[M  
18.11  一个更高级的脚本 362 E]z Td$v6  
18.12  <esc>键 364 fq^D<c{3  
18.13 包含文件 365 K_\fO|<k  
18.14  脚本被优化调用 366 _-^bAr`z  
18.15  脚本中的对话框 368 O{b.-<  
18.15.1  介绍 368 JNY;;9o  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Z";~]]$!Y  
18.15.3  输入框函数 370 ;dXQB>Za  
18.15.4  自定义对话框 371 5AmY rXZ  
18.15.5  对话框编辑器 371 H.\gLIr  
18.15.6  控制对话框 377 lMpjE  
18.15.7  更高级的对话框 380 k-;%/:Om  
18.16 Types语句 384 H JFt{tq2  
18.17 打开文件 385 H(qDQqJHYy  
18.18 Bags 387 AvW2)+6G  
18.13  进一步研究 388 .j*muDVQn  
19  vStack 389 sTu6KMn  
19.1  vStack基本原理 389 #qL?;Zh0S  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 XXbA n-J  
19.3  五棱镜 393 EL_rh TWw  
19.4 光束距离 396 |&JCf =  
19.5 误差 399 *=]hc@  
19.6  二向分色棱镜 399 pJM~'tlHV  
19.7  偏振泄漏 404 ;6op|O  
19.8  波前误差—相位 405 4] c.mDo[T  
19.9  其它计算参数 405 DDdMWH^o7  
20  报表生成器 406 dP8b\H  
20.1  入门 406 p(EV-^  
20.2  指令(Instructions) 406 ;; z4EGr  
20.3  页面布局指令 406 SKTf=rY  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;{Cr+lqTJ  
20.5  表格中的常见参数 408 bZ!*s  
20.6  迭代指令 408 >Mml+4<5  
20.7  报表模版 408 C'bW3la  
20.8  开始设计一个报表模版 409  3*@ sp  
21  一个新的project 413 sflH{!;p  
21.1  创建一个新Job 414 Wj2s+L7,  
21.2  默认设计 415 #X&`gDW  
21.3  薄膜设计 416 Ap}^6_YXd  
21.4  误差的灵敏度计算 420 yya"*]*S  
21.5  显色指数计算 422 <gU^#gsGra  
21.6  电场分布 424 Jv  
后记 426 -phwzR\(t  
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书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 20[_eu)  
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《Essential Macleod中文手册》
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目  录 #K A,=J  
w_-v!s2  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ]MjQr0&M  
第1章 介绍 ..........................................................1 r+8%oWj  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 G(7!3a+  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 h-B&m:gD_U  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;m/%g{oV  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 v=4,k G  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 GC(:}e|  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 eNN)2-96  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 -)%l{@Mr  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 ?nOul}y/  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 {Lj]++`fB]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 JGH;&UYP  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 zcCX;N  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 \(9hg.E  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 B4k ~~;|  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 CR$\$-  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 c8qsp n  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 SH# -3&$[  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 6 /8?:  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 Z1j3F  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 9pN},F91n:  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 > %5<fK2  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 uW*)B_c  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 <Wgp$qt;  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Yj+p^@{S2P  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 :f?};t+  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 h$`P|#V&  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 s)HLFdis@  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 E"p;  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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