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infotek 2023-10-11 11:59

线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

时间地点 d~1 gMz+)  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 v5QqS8u_C  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 i;_tI#:A  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 /#m=*&!CB  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Fd[zDz  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
9Ru8~R/\  
特邀专家介绍 t+1 %RyKFB  
[attachment=121028] {z")7g ]l  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fR*q?,  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 WZ*ws[dVI  
课程概要 R' !  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 *fn*h[pV&  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 WRrd'{sB  
课程大纲 &8g?4v  
1. Essential Macleod软件介绍 &QGdLXOn  
1.1 介绍软件 29?,<bB)  
1.2 创建一个简单的设计 3v5%y '  
1.3 绘图和制表来表示性能 l%1!a  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 '8{N e!y  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ^]W<X"H+Z  
1.6 特定设计的公式技术  D0% Ug>  
1.7 交互式绘图 b-{=s +:  
2. 光学薄膜理论基础 !AKg m'Nw  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 :n.f_v}6  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8>WC5%f*  
3. 材料管理 lna}@]oR  
3.1 材料模型 a *ushB  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 =Q+= f  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 bqnNLs<N  
3.4 基板光学常数的提取 k=4N.*#`y  
4. 光学薄膜设计优化方法 xx{PespNt  
4.1 参考波长与g S'_-G;g.  
4.2 四分之一规则 ~s]iy9i  
4.3 导纳与导纳图 A.EbXo/  
4.4 斜入射光学导纳 }L#_\  
4.5 光学薄膜设计的进展 jO1r)hw N>  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 FMClSeO7  
4.6.1 优化目标设置 .7.b :Dn0  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) .MJofE;Jn  
4.6.3 膜层锁定和链接 e0T34x'  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 83Q 4On  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 37|&?||  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ~,5gUl?Il  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 }DK7'K  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 [N#, K02mk  
5.5 如何在Function中编写脚本 6u7?dG'4  
6. 光学薄膜系统案例 b{]z w pf  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 i5K[>5  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 :=\Hoz  
6.3 Stack应用范例说明 Te}8!_ohyC  
7. 薄膜性能分析 Db1pW=66:  
7.1 电场分布 /5:bvg+  
7.2 公差与灵敏度分析 l33Pm/V2?  
7.3 反演工程 Y! gCMLL  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真  .5y+fL  
8. 真空技术 _;UE9S%  
8.1 常用真空泵介绍 h?8]C#6^  
8.2 真空密封和检漏 aM:nOt" S1  
9. 薄膜制备技术 % <q w  
9.1 常见薄膜制备技术 P)MDPI+~  
10. 薄膜制备工艺 ZsOIH<}S  
10.1 薄膜制备工艺因素 '-"/ =j&d[  
10.2 薄膜均匀性修正技术 oWC@w  
10.3 光学薄膜监控技术 YtfVD7m  
11. 激光薄膜 /x[jQM\  
11.1 薄膜的损伤问题 Nd cg/d  
11.2 激光薄膜的制备流程 @vrV*!  
11.3 激光薄膜的制备技术 P:aJ#  
12. 光学薄膜特性测量 jhg;%+KB  
12.1 薄膜光谱测量 e[ /dv)J  
12.2 薄膜光学常数测量 V*iH}Y?^p  
12.3 薄膜应力测量 UM6(s@$  
12.4 薄膜损伤测量 w$`5g  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 nw<&3k(g}  
[attachment=121029]
@p NNq  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系[attachment=121027]
vbD{N3p)?n  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=121030]
o)2W`i&  
内容简介 82QGS$0V  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 dOoKLry  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 /gu%:vq  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 }=8B*  
%e(z /"M=`  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
vOc 9ZE  
目录 S& \L-@  
Preface 1 K?zH35f$  
内容简介 2 v!ujj5-$I  
目录 i }woo%N P  
1  引言 1 $[/&74#0HX  
2  光学薄膜基础 2 Tp_L%F  
2.1  一般规则 2 9=V:&.L  
2.2  正交入射规则 3 D0#x Lh  
2.3  斜入射规则 6 =IW?WIXk  
2.4  精确计算 7 /Ya_>+oo  
2.5  相干性 8 P5#r,:zL  
2.6 参考文献 10 /s[l-1zW  
3  Essential Macleod的快速预览 10 .D: Z{|.1  
4  Essential Macleod的特点 32 '=G|Sq^aO  
4.1  容量和局限性 33 WeQk<y  
4.2  程序在哪里? 33 )p~BQ~eip;  
4.3  数据文件 35 [I$ BmGQ  
4.4  设计规则 35 6u`)QUmItg  
4.5  材料数据库和资料库 37 }`v~I4i  
4.5.1材料损失 38 Eg2[k.{P  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 k'IYA#T6  
4.5.2 材料库 41 YH%'t= <m  
4.5.3导出材料数据 43 (''M{n  
4.6  常用单位 43 we;G]`@?  
4.7  插值和外推法 46 Ar:*oiU  
4.8  材料数据的平滑 50 pSr{>;bN  
4.9 更多光学常数模型 54 |&[L?  
4.10  文档的一般编辑规则 55 \CXQo4P  
4.11 撤销和重做 56 Pp`*]Ib  
4.12  设计文档 57 ""1^k2fj  
4.10.1  公式 58 2#<xAR  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 L}}y'^(  
4.10.3  沉积密度 59 1!1 beR]  
4.10.4 平行和楔形介质 60 l*kPOyB  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 L2pp6bW  
4.10.4  性能 61 M5*{  
4.10.5  保存设计和性能 64 5K<5kHpvJ{  
4.10.6  默认设计 64 S`"LV $8  
4.11  图表 64 3'c0#h@VD  
4.11.1  合并曲线图 67 .Y3pS/VI  
4.11.2  自适应绘制 68 YR>B_,Gl  
4.11.3  动态绘图 68 Sz^5b!  
4.11.4  3D绘图 69 f~d d3m('  
4.12  导入和导出 73 9f',7i  
4.12.1  剪贴板 73 qd#sY.|1  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 (A?H1 9  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ~d%Pnw|  
4.13  背景 77 sm\f0P!rv  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Qum9A   
4.15  生成Rugate 84 q@@T]V6  
4.16  参考文献 91 OnF3lCmu  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 91q8k=p  
5.1  Jobs 92 <YOLxR  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 l411a9o  
5.3  输入材料 94 H~+l7OhV  
5.4  设计数据文件夹 95 =9z[[dQ|L  
5.5  默认设计 95 /}PF\j9#4  
6  细化和合成 97 H'LD}\K l  
6.1  优化介绍 97 F8uNL)gKj)  
6.2  细化 (Refinement) 98 ) :\xHR4  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Q<KvBgmT  
6.4  目标和评价函数 101 PC[c/CoD  
6.4.1  目标输入 102 UQ+?\wi*  
6.4.2  目标 103  -Y H<  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Pp| *J^U 4  
6.5  层锁定和连接 104 7hi"6,  
6.6  细化技术 104 +Wx{:  
6.6.1  单纯形 105 ^ mS o1?<  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ^~$)F_`"  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 * =wYuJ#  
6.6.2.1 Optimac参数 108 9(L)&S{4K  
6.6.3  模拟退火算法 109 ;+tpvnV;]  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ^.hoLwp.  
6.6.4  共轭梯度 111 Uv?|G%cD-  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 jWY$5Vq<H  
6.6.5  拟牛顿法 112 Ma\Gb+>  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dpFVN[\oK  
6.6.6  针合成 113 }Y*VAnY6;  
6.6.6.1 针合成参数 114 i-'9AYyw  
6.6.7 差分进化 114 :pF_GkG  
6.6.8非局部细化 115 DZv=\<$,LF  
6.6.8.1非局部细化参数 115 LK;k'IJ  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 4mHvgnT!WA  
6.7.1  细化 116 `d[1`P1i[  
6.7.2  合成 117 +8#_59;x  
6.8  参考文献 117 h^*4}GU  
7  导纳图及其他工具 118 }4{fQ`HT  
7.1  简介 118 ;]w<&C!=  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 !Mu|mz=  
7.2.1  四分之一波长规则 119 OZIW_'Wm/  
7.2.2  导纳图 120 )6w}<W*1E  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Ezi-VGjr]  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 &E4 0* (C  
7.5  斜入射导纳图 141 mCWhUBghR  
7.6  对称周期 141 Hsihytdj  
7.7  参考文献 142 =r.mlc``W  
8  典型的镀膜实例 143 \/SQ,*O  
8.1  单层抗反射薄膜 145 J8"[6vId~  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 K3' niGT  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 tBm_YP[  
8.4  W-膜层 148 ]/!<PF  
8.5  V-膜层 149 Z{ u a=0  
8.6  V-膜层高折射基底 150 h@@nR(<i  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 (__yh^h:m  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 $rhgzpZ!X_  
8.9  四层抗反射薄膜 153 sT/c_^y  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154  X!j{o  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 wBInq~K_  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ErT{(t7  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 )' hH^(Yu  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 $&=p+  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 'Vr$MaO  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 d7&eLLx  
8.17  1/4波长堆栈 162 GCttXAto  
8.18  陷波滤波器 163 $%%os6y2v  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 SR8qt z/V  
8.20  褶皱 165 S8l1"/?aHE  
8.21  消偏振分光器1 169 AWjm~D-?  
8.22  消偏振分光器2 171 N,J9Wu ZJ\  
8.23  消偏振立体分光器 172 ZZj~GQL(S  
8.24  消偏振截止滤光片 173 "GQl~  
8.25  立体偏振分束器1 174 -3&G"hfK  
8.26  立方偏振分束器2 177 {0@& OO:w  
8.27  相位延迟器 178 HJC(\\~  
8.28  红外截止器 179 ?+t1ME|  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ph}j[Co  
8.30  49层长波带通滤波器 181 T?p`)  
8.31  55层短波带通滤波器 182 X>I)~z}9#  
8.32  47 红外截止器 183 e2+BWKaU  
8.33  宽带通滤波器 184 6ATtW+sN]  
8.34  诱导透射滤波器 186 H3H_u4_?SE  
8.35  诱导透射滤波器2 188 68iV/ 7  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ai'4_  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Z Dhx5SL&  
8.35  增益平坦滤波器 193 E_1="&p  
8.38  啁啾反射镜 1 196 : 5U"XY x@  
8.39  啁啾反射镜2 198 s 1ge0~p3  
8.40  啁啾反射镜3 199 GI7=x h  
8.41  带保护层的铝膜层 200 o3Vn<Z$/Cl  
8.42  增加铝反射率膜 201 XYH|;P6K  
8.43  参考文献 202 zD)pF1,7:8  
9  多层膜 204 L!'k ! k  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 /U$8TT8+-  
9.2  内部透过率 204 @+Y8*Rj\3  
9.3 内部透射率数据 205 Pz_NDI  
9.4  实例 206 0fs$#j  
9.5  实例2 210 T}D<Sc  
9.6  圆锥和带宽计算 212 d vOJW".  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ` r']^ ,  
10  光学薄膜的颜色 216 MDRe(rF=  
10.1  导言 216  UkfB^hA  
10.2  色彩 216 Zw] ?.  
10.3  主波长和纯度 220 %>WbmpIyc  
10.4  色相和纯度 221 ; U`X 6d  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 _J]2~b  
10.6 色差 226 ]feyJLF  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 t=R6mjb  
10.8  颜色渲染指数 234 >J=<bhR  
10.9  色差计算 235 '+*-s7o{  
10.10  参考文献 236 p{=QGrxB*  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 quo^fqS&a  
11.1  短脉冲 238 (vJ2z =z  
11.2  群速度 239 &,i~cG?  
11.3  群速度色散 241 ~SjZk|  
11.4  啁啾(chirped) 245 -Y:ROoFOZ  
11.5  光学薄膜—相变 245 R< zG^m  
11.6  群延迟和延迟色散 246 JeY' 8B  
11.7  色度色散 246 uD[ "{?H  
11.8  色散补偿 249 5M23/= N  
11.9  空间光线偏移 256 sl/)|~3!8  
11.10  参考文献 258 0m+8P$)C%  
12  公差与误差 260 `BnP[jF  
12.1  蒙特卡罗模型 260 cX At :m  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 y1BgK>R  
12.2.1  误差工具 267 2D([Z-<i  
12.2.2  灵敏度工具 271 DI&MC9j(   
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Sd:.KRTu.  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 c[0oh.  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 d `j?7Z  
12.3  参考文献 276 ); 6,H.v  
13  Runsheet 与Simulator 277 :+ ,st&(E  
13.1  原理介绍 277 1]\TI7/ n  
13.2  截止滤光片设计 277 >WM3|  
14  光学常数提取 289 `ycU-m==  
14.1  介绍 289 (Q-I8Y8l8  
14.2  电介质薄膜 289 X^< >6|)  
14.3  n 和k 的提取工具 295 wH!#aB>kP  
14.4  基底的参数提取 302 hteOh#0{   
14.5  金属的参数提取 306 LxT rG)4  
14.6  不正确的模型 306 2W3W/> 2 h  
14.7  参考文献 311 y,<$X.>QO|  
15  反演工程 313 &.*uc|{  
15.1  随机性和系统性 313 ZM~`Gd9K0E  
15.2  常见的系统性问题 314 9B)lGLL}q  
15.3  单层膜 314 5a(<%Q <"  
15.4  多层膜 314 #@Ujx_F  
15.5  含义 319 eO{@@?/y  
15.6  反演工程实例 319 4^O w^7N?  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 <4zT;:NQ  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 (L|}`  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 JJl7JwSTW  
16.1  光学性质的热致偏移 329 !*P&Eat  
16.2  应力工具 335 |5 xzl  
16.3  均匀性误差 339 kUHie   
16.3.1  圆锥工具 339 p(7QAd4  
16.3.2  波前问题 341 `)[dVfxA  
16.4  参考文献 343 Sl.o,W^  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 ^'B-sz{{  
17.1  引言 345 fr#Qz{  
17.2  操作数 345 k!doIMj  
18  如何在Function中编写脚本 351 id?_>9@P  
18.1  简介 351 pN$;!  
18.2  什么是脚本? 351 m4gU*?  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 EDN(eh(_  
18.4  基础 352 e d;"bb  
18.4.1  Classes(类别) 352 M7VID6J.  
18.4.2  对象 352 ~|R[O^9B  
18.4.3  信息(Messages) 352 p^8 JLC  
18.4.4  属性 352 ?`A9(#ySM  
18.4.5  方法 353 a9[<^  
18.4.6  变量声明 353 0 [i+  
18.5  创建对象 354 \/,g VT  
18.5.1  创建对象函数 355 +Pw,Nl\KD  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 99KVtgPm  
18.5.3 丢弃对象 356 Qcgu`]7}  
18.5.4  总结 356 _>v0R'  
18.6  脚本中的表格 357 $WNG07]tU  
18.6.1  方法1 357 > tEK+Y|N}  
18.6.2  方法2 357 1#D<ZN  
18.7 2D Plots in Scripts 358 L*O>IQh2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 NQ!<f\m4n  
18.9  注释 360 C*O ,rm}  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Y*\6o7  
18.11  一个更高级的脚本 362 6To:T[ z#  
18.12  <esc>键 364 taCCw2s-8*  
18.13 包含文件 365 p1 4d ,}4W  
18.14  脚本被优化调用 366 a)S(p1BGg  
18.15  脚本中的对话框 368 i>"dBJh]b  
18.15.1  介绍 368  ,F}r@  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 "!a`ygqpT  
18.15.3  输入框函数 370 A|C_np^z2  
18.15.4  自定义对话框 371 Bhx<g&|j  
18.15.5  对话框编辑器 371 gV.f*E1C  
18.15.6  控制对话框 377 a hwy_\  
18.15.7  更高级的对话框 380 &GU@8  
18.16 Types语句 384 7(@(Hm  
18.17 打开文件 385 {,F/KL^u  
18.18 Bags 387 V{FE[v_  
18.13  进一步研究 388 ixzTJ]yu  
19  vStack 389 |>@ -grs  
19.1  vStack基本原理 389 !Y|8z\ Q  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 'f6PjI  
19.3  五棱镜 393 I <xy?{s  
19.4 光束距离 396 _iq2([BpL  
19.5 误差 399 lJ'trYaq7  
19.6  二向分色棱镜 399 YJc%h@_=]  
19.7  偏振泄漏 404 v\'r Xy  
19.8  波前误差—相位 405 Y.9~Bo<<r  
19.9  其它计算参数 405 yP%o0n/"x  
20  报表生成器 406 r!~(R+,c  
20.1  入门 406 77^ "xsa  
20.2  指令(Instructions) 406 :4iU^6  
20.3  页面布局指令 406 (tpof 5a  
20.4  常见的参数图和三维图 407 `1$y(w]  
20.5  表格中的常见参数 408 +h|K[=l\  
20.6  迭代指令 408 & L3UlL  
20.7  报表模版 408 qf)C%3gXI  
20.8  开始设计一个报表模版 409 %awVVt{aG  
21  一个新的project 413 363cuRP  
21.1  创建一个新Job 414 s1Okoxh/!V  
21.2  默认设计 415 _l<| 1nH  
21.3  薄膜设计 416 &:q[-K@!  
21.4  误差的灵敏度计算 420 N tO?  
21.5  显色指数计算 422 D-~G|8g  
21.6  电场分布 424 2 mSD"[%  
后记 426 fPOEVmj<  
{:3.27jQ  
q`cEA<~S  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 }U(\~ =D  
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《Essential Macleod中文手册》
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Et)9 20  
目  录 T6,V  
tnN'V  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 t18UDR{  
第1章 介绍 ..........................................................1 %8a=mQl1^  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 r7RU"H:j8  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 A"0wvk)UcY  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 w[e0wh`.  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 9e-*JYF]C  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 jT{f<P0  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 tK*%8I\s  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 UBL(Nr  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 v3?kFd7%H~  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 c%jsu"  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 6aRGG+H  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 o*-h%Z.  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 2ve lH;  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 \y[Bu^tk  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 W^003*m~~K  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 i^/ eN  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 nG!&u1*  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Z@;jIH4 (  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 `i=JjgG@  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 aMBL1d7  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 _yiR h:  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284  V+peO  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 C2CYIo k$&  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 %)BwE  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 mXQl;  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 NY.}uZ  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 S@9w'upd  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 KbXbT  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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