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2023-10-07 08:21 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120796] 5`6@CRef 内容简介 3j<]
W Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Y4!v1 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Uh?SDay 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 33[2$FBf ;% !'K~
讯技科技股份有限公司 49_b)K.tB
2015年9月3日 O>|Q Zd 目录 im%'S6_X4 Preface 1 t1g)Y|@d 内容简介 2 +Medu?K
` 目录 i G+^HZ4jg 1 引言 1 bPOehvK/ 2 光学薄膜基础 2 lXW.G 2.1 一般规则 2 q+e'=0BHd: 2.2 正交入射规则 3 2HkP$;lED 2.3 斜入射规则 6 cRT@Cu 2.4 精确计算 7 *Yl9%x]3c 2.5 相干性 8 lkFv5^% 2.6 参考文献 10 ?$pp% 3 Essential Macleod的快速预览 10 q%Obrk 4 Essential Macleod的特点 32 GvF~h0wMt 4.1 容量和局限性 33 Z!~~6Sq 4.2 程序在哪里? 33 yXR$MT+ ~ 4.3 数据文件 35 :s$ rD 4.4 设计规则 35 m}Kn!21 4.5 材料数据库和资料库 37 Y%|f<C)lx2 4.5.1材料损失 38 2m[z4V@` 4.5.1材料数据库和导入材料 39 a0CmCv2# 4.5.2 材料库 41 5Ee%!Pk 4.5.3导出材料数据 43 e6QUe.S 4.6 常用单位 43 9'\18_w 4.7 插值和外推法 46 4mQ:i7~ 4.8 材料数据的平滑 50 g"hm"m}i 4.9 更多光学常数模型 54 <i%.bfQ/- 4.10 文档的一般编辑规则 55 .1[K\t)2 4.11 撤销和重做 56 M7fw/i 4.12 设计文档 57 b,]h X 4.10.1 公式 58 "S_t%m&R 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;6U=fBp7< 4.10.3 沉积密度 59 ujmO'blO 4.10.4 平行和楔形介质 60 O9dIobu4 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 M@E*_U!U 4.10.4 性能 61 2jOh~-LU 4.10.5 保存设计和性能 64 I|n<B"Q6^ 4.10.6 默认设计 64 #
0dN!l; 4.11 图表 64 t(/e~w 4.11.1 合并曲线图 67 /al(=zf 4.11.2 自适应绘制 68 b{b2L. 4.11.3 动态绘图 68 !WR(H&uBr\ 4.11.4 3D绘图 69 JC_Y#kN@z 4.12 导入和导出 73 o(u&n3Q' 4.12.1 剪贴板 73 F(Pe@ #)A 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 tUDOL-Tv 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 |K,9EM3 4.13 背景 77 _ohZTT%l 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9.!6wd4mw 4.15 生成Rugate 84 [YpSmEn}Y 4.16 参考文献 91 ZXY5Xvt:v 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 C;1A$]bk 5.1 Jobs 92 ]Vln5U
5.2 创建一个新Job(工作) 93 7*r
Q6rAP 5.3 输入材料 94 SWNi@ 5.4 设计数据文件夹 95 F@& R"- 5.5 默认设计 95 X2}\i5{ 6 细化和合成 97 dpDVEEs84 6.1 优化介绍 97 o
)G'._ 6.2 细化 (Refinement) 98 lQ<2Vw#Yl 6.3 合成 (Synthesis) 100 -}/u?3^- 6.4 目标和评价函数 101 \3-XXq 6.4.1 目标输入 102 /XeDN-{ 6.4.2 目标 103 Vl%AN;o 6.4.3 特殊的评价函数 104 m$ )yd~ 6.5 层锁定和连接 104 d(3F:dbk 6.6 细化技术 104 {KxeH7S 6.6.1 单纯形 105 c*-8h{} 6.6.1.1 单纯形参数 106 h3Nwxj~E 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 '_lyoVP 6.6.2.1 Optimac参数 108 {0nZ;1,m 6.6.3 模拟退火算法 109 9%S{fd\# 6.6.3.1 模拟退火参数 109 >XcbNZV 6.6.4 共轭梯度 111 *p`0dvXG2 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 AjKP -[ 6.6.5 拟牛顿法 112 HgvgO\`] 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Wb+^Ue 6.6.6 针合成 113 l"5$6h 6.6.6.1 针合成参数 114 "w9LQ=mW 6.6.7 差分进化 114 K_{f6c< 6.6.8非局部细化 115 w,bILv) 6.6.8.1非局部细化参数 115 X^r5su? 6.7 我应该使用哪种技术? 116 }fpK{db 6.7.1 细化 116 jV]'/X< 6.7.2 合成 117 zlF*F8>m 6.8 参考文献 117 ?&I gD. 7 导纳图及其他工具 118 K{.s{;# 7.1 简介 118 x|d Xa0=N_ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 bE#=\kf| 7.2.1 四分之一波长规则 119 g]EDL<b 7.2.2 导纳图 120 RrSSAoz1 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )xX(Et6+` 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 6&M | |