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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 I Gb'ii=A  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 v6aMYmenBH  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 *kF/yN  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 #=Xa(<t  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 :mCGY9d4L  
[attachment=120542] \!uf*=d  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 -~\7ZRP8  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 :18}$  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 U:MZN[Cc[  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 FU}- .Ki  
1. Essential Macleod软件介绍 hhylsm  
1.1 介绍软件 Ebi~gGo  
1.2 创建一个简单的设计 ;9=4]YZt  
1.3 绘图和制表来表示性能 P??pWzb6HH  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 >[T6/#M  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 5qqU8I  
1.6 特定设计的公式技术 /Z#AHfKF  
1.7 交互式绘图 n],cs  
2. 光学薄膜理论基础 @N> rOA  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ^( C,LVP<  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 b^8"EBo  
3. 材料管理 {"|GV~  
3.1 材料模型 /n,a0U/  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 biffBC:q  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 P:X X8&#  
3.4 基板光学常数的提取 r[j@@[)"  
4. 光学薄膜设计优化方法 T%}x%9VO7  
4.1 参考波长与g j}jU.\*v<  
4.2 四分之一规则 ND 8;1+3  
4.3 导纳与导纳图 X/Fip 0i  
4.4 斜入射光学导纳 &|zV Wl  
4.5 光学薄膜设计的进展 l$!NEOK  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nu|odP  
4.6.1 优化目标设置 Xa>c ]j  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ;%u)~3B$JK  
4.6.3 膜层锁定和链接 `wLmGv+V  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 Dp@m"_1`+  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ?0s&Kz4B  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 a[lx&CHgI  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 yAel4b/}  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 EJaO"9 (  
5.5 如何在Function中编写脚本 tjm@+xs  
6. 光学薄膜系统案例 1tpt433  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 aMJ9U )wnK  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 uk.x1*0x  
6.3 Stack应用范例说明 O,I7M?dRf  
7. 薄膜性能分析 6XeqK*r*  
7.1 电场分布 k}{K7,DM  
7.2 公差与灵敏度分析 = &U7:u  
7.3 反演工程 VD=F{|^  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 U:IeMf-;  
8. 真空技术 QO,ge<N+N  
8.1 常用真空泵介绍 4Gy3s|{  
8.2 真空密封和检漏 O}Do4>02  
9. 薄膜制备技术 C9T- 4o1  
9.1 常见薄膜制备技术 X^ 0jS  
10. 薄膜制备工艺 e=Kr>~q=  
10.1 薄膜制备工艺因素 @eDL j}  
10.2 薄膜均匀性修正技术 8ax3"G  
10.3 光学薄膜监控技术 nQ'AB~ Do  
11. 激光薄膜 v{U1B  
11.1 薄膜的损伤问题 y {Mh ?H  
11.2 激光薄膜的制备流程 iJu$&u  
11.3 激光薄膜的制备技术 j7Lw( AJ  
12. 光学薄膜特性测量 @j4~`~8  
12.1 薄膜光谱测量 _~ 7cn  
12.2 薄膜光学常数测量 s8kkf5bu  
12.3 薄膜应力测量 HR k^KB  
12.4 薄膜损伤测量 +)d7SWO6]!  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
HmEU;UbO-  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
v*e=oyx[  
内容简介 K:sC6|wG  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &nF7CCF  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ~48mCD  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。  qZP>h4  
>E(IkpZ  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
)'?@raB!  
3gmu-t v  
目录 8c'E  
Preface 1 nF| m*_DW  
内容简介 2 b;sjw5cm_  
目录 i b*qC  
1  引言 1 o//PlG~  
2  光学薄膜基础 2 t) ~v5vr  
2.1  一般规则 2 ~ +z'pK~c  
2.2  正交入射规则 3 dCMWv~>  
2.3  斜入射规则 6 s|&2QG0'7  
2.4  精确计算 7 c7N`W}BZ  
2.5  相干性 8 V?Zvu9b&  
2.6 参考文献 10 }u..m$h  
3  Essential Macleod的快速预览 10 %!1:BQ,p,i  
4  Essential Macleod的特点 32 jCbxI^3A  
4.1  容量和局限性 33 7:T 5P  
4.2  程序在哪里? 33 ^k?Ig.m  
4.3  数据文件 35 <El6?ml@  
4.4  设计规则 35 A@"CrVE  
4.5  材料数据库和资料库 37 |+i?FYA\  
4.5.1材料损失 38 v0}.!u>Ww  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 "eal Yveu  
4.5.2 材料库 41  i'9  
4.5.3导出材料数据 43 ]"M4fA  
4.6  常用单位 43 /CN^">|_  
4.7  插值和外推法 46 G P/3r[MH  
4.8  材料数据的平滑 50 ~8EG0F;t  
4.9 更多光学常数模型 54 kST  
4.10  文档的一般编辑规则 55 GVp2| \-L  
4.11 撤销和重做 56 `795 K8  
4.12  设计文档 57 5ff66CRw  
4.10.1  公式 58 PV%7 m7=x  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 S\jN:o#b  
4.10.3  沉积密度 59 &sQtS  
4.10.4 平行和楔形介质 60 +x0-hRD  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Y&5h_3K;<  
4.10.4  性能 61 BY$%gIB6>  
4.10.5  保存设计和性能 64 [0} ^w[  
4.10.6  默认设计 64  B9^@]  
4.11  图表 64 <H~  (iQ  
4.11.1  合并曲线图 67 ?H3xE=<X  
4.11.2  自适应绘制 68 o^},L?  
4.11.3  动态绘图 68 #s Ebu^  
4.11.4  3D绘图 69 p_ QL{gn  
4.12  导入和导出 73 '5eW"HGU]`  
4.12.1  剪贴板 73 {j E}mzi  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 eW+z@\d9Gz  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 uU>Bun  
4.13  背景 77 ]ba O{pJi  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 jfHVXu^M  
4.15  生成Rugate 84 ]#[ R^t  
4.16  参考文献 91 ;^FV  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 C (_xqn  
5.1  Jobs 92 cX553&  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 F,`y_71<  
5.3  输入材料 94 I "9S  
5.4  设计数据文件夹 95 4>>d "<}C  
5.5  默认设计 95 SVaC)O(  
6  细化和合成 97 V5RfxWtm:  
6.1  优化介绍 97 6P!M+PO  
6.2  细化 (Refinement) 98 q=E<y  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Ut8yA"Y~  
6.4  目标和评价函数 101 bY;ah;<  
6.4.1  目标输入 102 F\&R nDJ  
6.4.2  目标 103 UMw1&"0:  
6.4.3  特殊的评价函数 104 3m?3I2k  
6.5  层锁定和连接 104 _y),C   
6.6  细化技术 104 <D pi M`  
6.6.1  单纯形 105 q!9SANTx  
6.6.1.1 单纯形参数 106 (~N &ov  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 sL XQ)Ce  
6.6.2.1 Optimac参数 108 m> ?OjA!  
6.6.3  模拟退火算法 109 C jsy1gA  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 .QzHHW4&0  
6.6.4  共轭梯度 111 'cT R<LVo  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *^Wx=#w$V  
6.6.5  拟牛顿法 112 7\K=8G  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 =\?KC)F*e  
6.6.6  针合成 113 e&E""ye  
6.6.6.1 针合成参数 114 Ylll4w62N  
6.6.7 差分进化 114 Lu6!W  
6.6.8非局部细化 115 S=ebht=  
6.6.8.1非局部细化参数 115 {o4m3[C7=}  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 ;2-,Xzz8  
6.7.1  细化 116 8AVM(d@  
6.7.2  合成 117 TB4|dj-%  
6.8  参考文献 117 CbA!  
7  导纳图及其他工具 118 |28z4.  
7.1  简介 118 6fQNF22E  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 3Qfj=; 4  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Je[wGF:%:$  
7.2.2  导纳图 120 B3]q*ERAo  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 'q8T*|/  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 `[w:l[i  
7.5  斜入射导纳图 141 nWfOiw-t  
7.6  对称周期 141 I8)x 0)Lx  
7.7  参考文献 142 >Q#_<IcI  
8  典型的镀膜实例 143 5vxJ|Hse@  
8.1  单层抗反射薄膜 145 1j "/}0fx  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 |[;9$Vn  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 dQQh$*IL?{  
8.4  W-膜层 148 p@y?xZS  
8.5  V-膜层 149 f+j\,LJ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 t{| KL<d]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Q-_&5/G  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 \m~ ?mg"#  
8.9  四层抗反射薄膜 153 (4L XoNT  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 yf*^Y74  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >uN{cohs  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ] hGU.C"(  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 $+!/=8R)  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 $a>,sL&;  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 7,ysixY  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 a.#`>  
8.17  1/4波长堆栈 162 +hI:5(_  
8.18  陷波滤波器 163 Q\z6/1:9Z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ~tWIVj{  
8.20  褶皱 165 Eq=~SO%  
8.21  消偏振分光器1 169 `h}fS4CO  
8.22  消偏振分光器2 171 *JDQaWzBd  
8.23  消偏振立体分光器 172 gE]6]L  
8.24  消偏振截止滤光片 173 *]NG@^y  
8.25  立体偏振分束器1 174 c! vtQ<h-  
8.26  立方偏振分束器2 177 _o/LFLq  
8.27  相位延迟器 178 HjAhz  
8.28  红外截止器 179 DJvmwFx  
8.29  21层长波带通滤波器 180 mZQW>A]iE  
8.30  49层长波带通滤波器 181 N"1o> !  
8.31  55层短波带通滤波器 182 S=B?bD_,c  
8.32  47 红外截止器 183 ul$k xc=N  
8.33  宽带通滤波器 184 `>-fU<Q1  
8.34  诱导透射滤波器 186 ce@1#}*  
8.35  诱导透射滤波器2 188 $5N%!  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 lKWe=xY\B  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 t% Sgw%f  
8.35  增益平坦滤波器 193 ;c p*]  
8.38  啁啾反射镜 1 196 /j46`F  
8.39  啁啾反射镜2 198 *;cvG?V  
8.40  啁啾反射镜3 199 Z0HfrK#oU  
8.41  带保护层的铝膜层 200 uF,F<%d  
8.42  增加铝反射率膜 201 sG{fxha  
8.43  参考文献 202 OSreS5bg  
9  多层膜 204 C+o1.#]JM  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 WxLbf +0o  
9.2  内部透过率 204 )#S;H$@$  
9.3 内部透射率数据 205 >-U'mkIH  
9.4  实例 206 6 G.(o  
9.5  实例2 210 )E9[=4+*C$  
9.6  圆锥和带宽计算 212 'u@,,FFz[K  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 :%G_<VAo!  
10  光学薄膜的颜色 216 Nz/PAs7g6  
10.1  导言 216 FM$$0}X  
10.2  色彩 216 m1bkY#\ U|  
10.3  主波长和纯度 220 s krdL.5  
10.4  色相和纯度 221 r@")MOGc  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 8/W(jVO(-  
10.6 色差 226 c8z6-6`i0  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 eX)'C>4W  
10.8  颜色渲染指数 234 O2xbHn4  
10.9  色差计算 235 ` 1Ui  
10.10  参考文献 236 |5il5UP  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 &/dYJv$[9  
11.1  短脉冲 238 U{1%ldOJ%  
11.2  群速度 239 7R5m|h`M  
11.3  群速度色散 241 |"]#jx*8KC  
11.4  啁啾(chirped) 245 (\8IgQ{  
11.5  光学薄膜—相变 245 gq%U5J"x;J  
11.6  群延迟和延迟色散 246 df\^uyD;  
11.7  色度色散 246 aSse' C<a  
11.8  色散补偿 249 3Z0ez?p+5  
11.9  空间光线偏移 256 ,9,cN-/a  
11.10  参考文献 258 S\76`Ot  
12  公差与误差 260 _uXb 9  
12.1  蒙特卡罗模型 260 g'X{  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 8*zORz  
12.2.1  误差工具 267 79&=MTM  
12.2.2  灵敏度工具 271 ]S0=&x@,  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 uNKf!\Y  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 @LSfP  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 t,NE`LC  
12.3  参考文献 276 d+45Y,|  
13  Runsheet 与Simulator 277 hTc :'vq  
13.1  原理介绍 277 gQQve{'  
13.2  截止滤光片设计 277 c1tM(]&  
14  光学常数提取 289 d9iVuw0u<  
14.1  介绍 289 a``/x_EZMn  
14.2  电介质薄膜 289 Y{KN:|i.!  
14.3  n 和k 的提取工具 295 B_DyH C\<  
14.4  基底的参数提取 302 .R^R32ln  
14.5  金属的参数提取 306 `}:pUf  
14.6  不正确的模型 306 /np05XhEa  
14.7  参考文献 311 0g8ykGyx  
15  反演工程 313 4Sz2 9\X  
15.1  随机性和系统性 313 Tuz~T _M  
15.2  常见的系统性问题 314 Sq ]VtQ(  
15.3  单层膜 314 *j~ObE_y  
15.4  多层膜 314 DX0#q #  
15.5  含义 319 5Vc~yMz  
15.6  反演工程实例 319 ke<l@w O  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 t/lQSUip  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 xLdkeuL[%  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 $~e55X'!+  
16.1  光学性质的热致偏移 329 h[bC#(  
16.2  应力工具 335 w-];!;%  
16.3  均匀性误差 339 -G[TlH06  
16.3.1  圆锥工具 339 :FUxe kz  
16.3.2  波前问题 341 wZ5k|5KtW  
16.4  参考文献 343 A(9$!%#+L  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 qP[_!C.  
17.1  引言 345 yxtfyf|9 '  
17.2  操作数 345 C%#w1k  
18  如何在Function中编写脚本 351 TH"<6*f2L  
18.1  简介 351 |J"\~%8  
18.2  什么是脚本? 351 ], IQ~  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 !a4`SjOgu  
18.4  基础 352 W K(GR\@  
18.4.1  Classes(类别) 352 C).+h7{nd  
18.4.2  对象 352 ^V~^[Yp  
18.4.3  信息(Messages) 352 "#:h#uRUb  
18.4.4  属性 352 _Tf %<E  
18.4.5  方法 353 ' %&-`/x  
18.4.6  变量声明 353 )EK\3q  
18.5  创建对象 354 qgs:9V xF  
18.5.1  创建对象函数 355 Y .E.(\  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 [F!h&M0z  
18.5.3 丢弃对象 356 !gL1  
18.5.4  总结 356 4j}.=u*X7  
18.6  脚本中的表格 357 F0wW3+G  
18.6.1  方法1 357 TyvUdU  
18.6.2  方法2 357 29nMm>P.e  
18.7 2D Plots in Scripts 358 de9e7.(2  
18.8 3D Plots in Scripts 359 |.b&\  
18.9  注释 360 610u!_-  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 (Z0.H3  
18.11  一个更高级的脚本 362 [s+FX5'K  
18.12  <esc>键 364 z%]3`_I  
18.13 包含文件 365 NxzAlu  
18.14  脚本被优化调用 366 RWB]uHzE  
18.15  脚本中的对话框 368 7:zoF], s  
18.15.1  介绍 368 sC ?e%B  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 k~2FlRoC^  
18.15.3  输入框函数 370 O) )j  
18.15.4  自定义对话框 371 v+i==vxg  
18.15.5  对话框编辑器 371 6o^O%:0g  
18.15.6  控制对话框 377 #<@_mbQ@|K  
18.15.7  更高级的对话框 380 lmIphOUoIw  
18.16 Types语句 384 1]W8A.ZS  
18.17 打开文件 385 J[UTn'M8]  
18.18 Bags 387 S#0C^  
18.13  进一步研究 388 3*F|`js"  
19  vStack 389 Odm1;\=Eg+  
19.1  vStack基本原理 389 kaRjv   
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ZftucD|ZY/  
19.3  五棱镜 393 z<s ~`  
19.4 光束距离 396 #4AqWyp#f  
19.5 误差 399 ;xSlRTNT=6  
19.6  二向分色棱镜 399 ; m:I  
19.7  偏振泄漏 404 AHT(Z~ C  
19.8  波前误差—相位 405 6J965eM'[  
19.9  其它计算参数 405 3!Mb<W.3  
20  报表生成器 406 ]'vAeC6{  
20.1  入门 406 Pk8(2fAYk  
20.2  指令(Instructions) 406 /GA-1cS_(  
20.3  页面布局指令 406 "/x/]Qx2  
20.4  常见的参数图和三维图 407 QvzE:]pyi  
20.5  表格中的常见参数 408 ZC&~InN  
20.6  迭代指令 408 SIzA0  
20.7  报表模版 408 C@MJn)$4  
20.8  开始设计一个报表模版 409 618bbftx{  
21  一个新的project 413 cr!sq.)s  
21.1  创建一个新Job 414 v){X&HbP  
21.2  默认设计 415 r3YfY \  
21.3  薄膜设计 416 ?'$} k  
21.4  误差的灵敏度计算 420 3P*"$fH  
21.5  显色指数计算 422 @iVEnb.'  
21.6  电场分布 424 hAB:;r XlI  
后记 426 ^Uldyv/  
L @8[.  
.Pa6HA !  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ?o d*"M  
'fIG$tr9X  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
.Zx7+`i  
b~+\\,q}  
目  录 \qbEC.-K  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ra]\!;}L0  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 s=XqI@  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?nozB|*>ut  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Bs-MoT!  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 (!<G` ;}u  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 k= 9a/M u  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 l 4cTN @E  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 s`L>mRw`  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 HF%)ip+  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 (P nrY~9  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 5{#ya 2  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 CHM+@lD  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 D]Gt=2\NG9  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 7=4V1FS6i  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 cs)z!  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Va\?"dH>M  
V[">SiOg  
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infotek 2023-10-11 11:55
对课程和书籍感兴趣的小伙伴们,可以联系我
infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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