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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 P9Q2gVGAO{  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 tbDoP Y  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ]F*3"y?)2  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 K\.5h4k  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 vA%^`5  
[attachment=120542] Sfjje4R  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 H=MCjh&$q  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 (k"_># %  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 2z0n<`  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 h 8 @  
1. Essential Macleod软件介绍 pxINw>\Qv  
1.1 介绍软件 \x\ 5D^Vc  
1.2 创建一个简单的设计 f"5g>[ 1  
1.3 绘图和制表来表示性能 wsfd8T4  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4&^9Wklj  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) TYgQJW?  
1.6 特定设计的公式技术 [IBQvL  
1.7 交互式绘图 !fkep=  
2. 光学薄膜理论基础 \' li  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ! T9]/H?  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 l5t2\Fl  
3. 材料管理 $ChK]v 6C  
3.1 材料模型 C*6S@4k  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 _GtBP'iN  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 vwGeD|Fb5  
3.4 基板光学常数的提取 *wbZ;rfF  
4. 光学薄膜设计优化方法 D^F{u Dlb  
4.1 参考波长与g #=e;?w  
4.2 四分之一规则 /\d$/~BFi  
4.3 导纳与导纳图 ^U7OMl4Usq  
4.4 斜入射光学导纳 alFjc.~}  
4.5 光学薄膜设计的进展 ;&;W T  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 wdE?SDs  
4.6.1 优化目标设置 +SXIZ`  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) !$qKb_#nC  
4.6.3 膜层锁定和链接 [THG4582oB  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 &lc8G  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 } /^C|iS7  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 vq'c@yw;  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Bstk{&ew  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 V,7%1TZ:  
5.5 如何在Function中编写脚本 :Og:v#r8=  
6. 光学薄膜系统案例 *<V^2z$y_  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 e&I t  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 pb;")Q'  
6.3 Stack应用范例说明 5MxL*DB=b  
7. 薄膜性能分析 2YwVU.*>  
7.1 电场分布 r8MZvm2  
7.2 公差与灵敏度分析 =(r* 5vd  
7.3 反演工程 N1EezC'^  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 pa .K-e)Mu  
8. 真空技术 "kW!{n  
8.1 常用真空泵介绍 ;."<m   
8.2 真空密封和检漏 wOgE|n  
9. 薄膜制备技术 %kI} [6J_  
9.1 常见薄膜制备技术 oUDVy_k  
10. 薄膜制备工艺 ik1tidw  
10.1 薄膜制备工艺因素 /L=(^k=a.;  
10.2 薄膜均匀性修正技术 (il0M=M  
10.3 光学薄膜监控技术 HaNboYW_K  
11. 激光薄膜 P @% .`8  
11.1 薄膜的损伤问题 WV<tyx9Z  
11.2 激光薄膜的制备流程 gz#4{iT~  
11.3 激光薄膜的制备技术 R""%F#4XJ2  
12. 光学薄膜特性测量 =ZYThfAEw  
12.1 薄膜光谱测量 ,lN5,zI=S  
12.2 薄膜光学常数测量 CX/(o]  
12.3 薄膜应力测量 D@Da0  
12.4 薄膜损伤测量 H3/caN:  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
{kB `>VS  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
UV7%4xM5v  
内容简介 =5]n\"/  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 P!g-X%ngo  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 P~CrtTss  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 FVWfDQ$&v  
N0TeqOi4Y  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
n[+'OU[  
4n( E;!s  
目录 x!TZ0fq0  
Preface 1 ]Tp U"JD  
内容简介 2 PBqy F  
目录 i c-]fKj7  
1  引言 1 @|-OJ4[5  
2  光学薄膜基础 2 @M;(K<%h  
2.1  一般规则 2 o=+Z.-q  
2.2  正交入射规则 3 lvSdY(8  
2.3  斜入射规则 6 *dE^-dm#  
2.4  精确计算 7 D> ef  
2.5  相干性 8 I`B'1"{  
2.6 参考文献 10 L_O$>c  
3  Essential Macleod的快速预览 10 #B}?Zg  
4  Essential Macleod的特点 32 I+?hG6NM  
4.1  容量和局限性 33 _]>JB0IY  
4.2  程序在哪里? 33 {")\0|2\x  
4.3  数据文件 35 5mB]N%rfW%  
4.4  设计规则 35 Gm8E<iTP  
4.5  材料数据库和资料库 37 rj] E@W  
4.5.1材料损失 38 |hzT;  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 D@54QJ<  
4.5.2 材料库 41 dbGgD=}o  
4.5.3导出材料数据 43 >>'C :7+Y  
4.6  常用单位 43 0%C^8%(x  
4.7  插值和外推法 46 t%0?N<9YkU  
4.8  材料数据的平滑 50 V^fV7hw<  
4.9 更多光学常数模型 54 S>:,z}i  
4.10  文档的一般编辑规则 55 S q@H  
4.11 撤销和重做 56 loOOmHhJ&  
4.12  设计文档 57 X T>('qy  
4.10.1  公式 58 $ @1u+w  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 UPh=+s #Q  
4.10.3  沉积密度 59 ]KK`5Dv|,e  
4.10.4 平行和楔形介质 60 L4' [XcY  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Di(9]: +  
4.10.4  性能 61 440FhD Mj  
4.10.5  保存设计和性能 64 7!4V >O8@  
4.10.6  默认设计 64 7XAvd-  
4.11  图表 64 f05d ;  
4.11.1  合并曲线图 67 E%pz9gcSx  
4.11.2  自适应绘制 68 ~1 ZD[@  
4.11.3  动态绘图 68 D!3{gV#  
4.11.4  3D绘图 69 ]r"Yqv3  
4.12  导入和导出 73 W4(?HTWZ  
4.12.1  剪贴板 73 m#@_8_ M  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 c[(Pg%  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ;Rnhe_A.  
4.13  背景 77 .KA V)So"  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6].:.b\qQc  
4.15  生成Rugate 84 \_ow9vU  
4.16  参考文献 91 f6ZZ}lwaV  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ~l4f{uOD>]  
5.1  Jobs 92 Hcv u7uD  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 k=n "+  
5.3  输入材料 94 |r =DBd3  
5.4  设计数据文件夹 95 v<h;Di@  
5.5  默认设计 95 ?S`>>^  
6  细化和合成 97 \HSicV#i  
6.1  优化介绍 97 i57( $1.  
6.2  细化 (Refinement) 98 g:~+P e  
6.3  合成 (Synthesis) 100 3oBC   
6.4  目标和评价函数 101 #BJ\{"b_}z  
6.4.1  目标输入 102 zJl_ t0  
6.4.2  目标 103 otriif@+Z  
6.4.3  特殊的评价函数 104 3'#%c>_  
6.5  层锁定和连接 104 9D_wG\g  
6.6  细化技术 104 zG% |0  
6.6.1  单纯形 105 (cV  
6.6.1.1 单纯形参数 106 v*TeTA %  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 GW m4~]0E  
6.6.2.1 Optimac参数 108 {BOLP E-  
6.6.3  模拟退火算法 109 (_8#YyW#  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 f1cl';  
6.6.4  共轭梯度 111 8&(-8  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %KV2< t?  
6.6.5  拟牛顿法 112 Rt4di^v  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 X>3^a'2,E  
6.6.6  针合成 113 j$P I,`  
6.6.6.1 针合成参数 114 OgMI  
6.6.7 差分进化 114 2VYvO=KA  
6.6.8非局部细化 115 ixI:@#5wY  
6.6.8.1非局部细化参数 115 #+G`!<7/@f  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 n`<S&KP|  
6.7.1  细化 116 xZ ;bMxZ  
6.7.2  合成 117 Q_}n%P:u  
6.8  参考文献 117 K2|7%  
7  导纳图及其他工具 118 \y~)jq:d"  
7.1  简介 118 dU+0dZdKO  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 xrI}3T  
7.2.1  四分之一波长规则 119 uPU#c\  
7.2.2  导纳图 120 Oxa5Kfpa  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 h$&rE@N|  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 l%PnB )F  
7.5  斜入射导纳图 141 *8-p7,D  
7.6  对称周期 141 # "r kuDO  
7.7  参考文献 142 chLeq  
8  典型的镀膜实例 143 !; WbOnLP  
8.1  单层抗反射薄膜 145 WOb8 "*OM  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 NsmVddj  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 !R{em48D  
8.4  W-膜层 148 <7RfBR.9  
8.5  V-膜层 149 4*8&[b  
8.6  V-膜层高折射基底 150 yWuIu>VJ  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 B$7[8h  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {PmzkT}LF  
8.9  四层抗反射薄膜 153 :uvc\|:s  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 `.8-cz  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ..$>7y}  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 LUul7y'"  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 !E0fGh  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 +$ ~8)95<B  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 %8<2>  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $i%HDt|  
8.17  1/4波长堆栈 162 Rp eBm#E2  
8.18  陷波滤波器 163 I~k=3,7<  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 swt\Ru6,  
8.20  褶皱 165 }K;iJ~kD1  
8.21  消偏振分光器1 169 E7 L bSZ  
8.22  消偏振分光器2 171 JP%RTGu  
8.23  消偏振立体分光器 172 ">,K1:(D  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Xj;2h{#s  
8.25  立体偏振分束器1 174 lb95!.av+I  
8.26  立方偏振分束器2 177 FvA|1c  
8.27  相位延迟器 178 o@',YF>OQ  
8.28  红外截止器 179 `\e'K56W6  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ]:!8 s\#  
8.30  49层长波带通滤波器 181 j]Ua\|t  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ec1Fg0Fa  
8.32  47 红外截止器 183 `.`FgaJ |  
8.33  宽带通滤波器 184 Vy r] x  
8.34  诱导透射滤波器 186 !xH,y  
8.35  诱导透射滤波器2 188 {[lx!QF 8&  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ZR2\ dH*  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 QU%N*bFW%P  
8.35  增益平坦滤波器 193 CQ jV!d0j  
8.38  啁啾反射镜 1 196 BiE$mM  
8.39  啁啾反射镜2 198 WS5"!vz   
8.40  啁啾反射镜3 199 _-(z@  
8.41  带保护层的铝膜层 200 \`&xprqAw  
8.42  增加铝反射率膜 201 w&9F>`VET  
8.43  参考文献 202 Uv'uqt  
9  多层膜 204 wvX"D0eVn  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 sgD@}":m  
9.2  内部透过率 204 $'y1 Po'2  
9.3 内部透射率数据 205 n }TTq6B  
9.4  实例 206 Bd QQ9$@5  
9.5  实例2 210 Ho>p ^p  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ~6MMErSj  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ~{9x6<g!  
10  光学薄膜的颜色 216 6\XP|n-0+0  
10.1  导言 216 &'NQ)Dn  
10.2  色彩 216 <G&WYk%u*  
10.3  主波长和纯度 220 Zr5'TZ`$  
10.4  色相和纯度 221 Ag<4r  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ?'T"?b<  
10.6 色差 226 >*Sv0#  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ;+r0 O0;9  
10.8  颜色渲染指数 234 e5FCqNip'  
10.9  色差计算 235 <kROH0+  
10.10  参考文献 236 Fu#Y7)r  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <%he  o  
11.1  短脉冲 238 >[ @{$\?x:  
11.2  群速度 239 2k%Bl+I  
11.3  群速度色散 241 gca|?tt  
11.4  啁啾(chirped) 245 Q4#\{" N!  
11.5  光学薄膜—相变 245 "[Yip5  
11.6  群延迟和延迟色散 246 7Zhli Y1  
11.7  色度色散 246 qmQFHC_  
11.8  色散补偿 249 NuHL5C?To  
11.9  空间光线偏移 256 KX]-ll  
11.10  参考文献 258 `Uu^I   
12  公差与误差 260 Dy98[cL  
12.1  蒙特卡罗模型 260 pVdhj^n  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fQ^h{n  
12.2.1  误差工具 267 Ua}g  
12.2.2  灵敏度工具 271 ?exALv'B  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 * .oi3m  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Lqg7D\7j  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 x/pC%25  
12.3  参考文献 276 FLw[Mg:L  
13  Runsheet 与Simulator 277 9Y;}JVS  
13.1  原理介绍 277 Uy:@,DW  
13.2  截止滤光片设计 277 mI2|0RWI)l  
14  光学常数提取 289 rHH#@ Zx  
14.1  介绍 289 c>M_?::)0  
14.2  电介质薄膜 289 C,V|TF.i2  
14.3  n 和k 的提取工具 295 c"6Kd$?M  
14.4  基底的参数提取 302 $[WN[J  
14.5  金属的参数提取 306 0^-z?Kb<}  
14.6  不正确的模型 306 7MR:X#2v>  
14.7  参考文献 311 &pa)Ee>  
15  反演工程 313 O<gP)ZW~  
15.1  随机性和系统性 313 0%vixR52  
15.2  常见的系统性问题 314 ZKVp[A  
15.3  单层膜 314 {9y9Kr|(P:  
15.4  多层膜 314 ch%Q'DR_I)  
15.5  含义 319 8f5%xY$  
15.6  反演工程实例 319 wI|bBfd(  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 @Z"QA!OK~c  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 4yJ01s  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 E;ndw/GZjR  
16.1  光学性质的热致偏移 329 A0'tCq]?0  
16.2  应力工具 335 EuhF$L1  
16.3  均匀性误差 339 Nj! R9N  
16.3.1  圆锥工具 339 bvt-leA=  
16.3.2  波前问题 341 / n C$?w  
16.4  参考文献 343 oY| (M_;  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 F>hVrUD8  
17.1  引言 345 Zb5T90s%  
17.2  操作数 345 gME:\ud$  
18  如何在Function中编写脚本 351 -K{\S2  
18.1  简介 351  M}_M_  
18.2  什么是脚本? 351 b@UF PE5jy  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 q{N lF$X  
18.4  基础 352 2}W6{T'  
18.4.1  Classes(类别) 352 J~PTVR  
18.4.2  对象 352 4c493QOd  
18.4.3  信息(Messages) 352 / r`Y'rm  
18.4.4  属性 352 4jI*Y6Wkz  
18.4.5  方法 353 ~8S4Kj)%  
18.4.6  变量声明 353 PDa06(t7  
18.5  创建对象 354 _A# x&<c  
18.5.1  创建对象函数 355 r)*_,Fo|  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 tFb|y+  
18.5.3 丢弃对象 356 lUm}nsp=X  
18.5.4  总结 356 [xH2n\7  
18.6  脚本中的表格 357 oQE_?">w  
18.6.1  方法1 357 +#2@G}j  
18.6.2  方法2 357 ?L.p9o-S0  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ixUiXP  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Q'vIeG"o  
18.9  注释 360 (rCPr,@0  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 U7f#Z  
18.11  一个更高级的脚本 362 #&HarBxx  
18.12  <esc>键 364 lVO(9sl*i  
18.13 包含文件 365 M zA  
18.14  脚本被优化调用 366 }T&;*ww  
18.15  脚本中的对话框 368 J^e|"0d  
18.15.1  介绍 368 ,& {5,=  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 4%Wn}@  
18.15.3  输入框函数 370 u+"hr"}${  
18.15.4  自定义对话框 371 o7Z#,>`2  
18.15.5  对话框编辑器 371 M 2U@gC|{  
18.15.6  控制对话框 377 ESXU, qK]v  
18.15.7  更高级的对话框 380 1[,#@!k@  
18.16 Types语句 384 c"_H%x<[  
18.17 打开文件 385 aF_ZV bS  
18.18 Bags 387 KfN`ZZ<  
18.13  进一步研究 388 7kew/8-  
19  vStack 389 :+X2>Lu$FA  
19.1  vStack基本原理 389 +P<w<GfQ  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 +BTNm66Z  
19.3  五棱镜 393 blQzVp-  
19.4 光束距离 396 m0q`A5!)  
19.5 误差 399 ps4Wwk(  
19.6  二向分色棱镜 399 ](( >i%%~  
19.7  偏振泄漏 404 p{pzOMi6  
19.8  波前误差—相位 405 0 Ci"tA3"  
19.9  其它计算参数 405 GqF.T#|  
20  报表生成器 406 wr6xuoH  
20.1  入门 406 `'{%szmD  
20.2  指令(Instructions) 406 5d>YE  
20.3  页面布局指令 406 k kuQ"^<J  
20.4  常见的参数图和三维图 407 hghto \G5Y  
20.5  表格中的常见参数 408 w1/T>o  
20.6  迭代指令 408 2ucsTh@  
20.7  报表模版 408 ]idD&5gd  
20.8  开始设计一个报表模版 409  z]R!l%`  
21  一个新的project 413 Z[A|SyZp  
21.1  创建一个新Job 414 'V*M_o(\  
21.2  默认设计 415 Jb-QP'$@  
21.3  薄膜设计 416 %2FCpre;  
21.4  误差的灵敏度计算 420 YnL?t-$Gg  
21.5  显色指数计算 422 q2o$s9}B  
21.6  电场分布 424 5In8VE !P  
后记 426 dJ"xW; "  
!B38! L  
-X[8soz  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 s%?p%2&RA  
frO/ nx|9  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
"rlSK >`  
i(qYyO'  
目  录 9/qS*Zdh)  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 W1,L>Az^Ts  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 l+kg4y  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 N[D\@o  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 It:QXLi;  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Xcpm?aTo  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 b.u8w2(  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 2/o/UfYjgF  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ;w&yGm  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 _=M'KCL*)  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Ac(Vw%  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 |~vQ0D  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ^T1-dw(  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 blkJm9]v  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 0Y`tj  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 VX@G}3Ck  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ~rfjQPbh9x  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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