上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 IDn<5# 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 h&K$(}X 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8!|vp7/ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 _%R^8FjH* 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 /i8OyRpSyk [attachment=120542] zoi0Z 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 C*ep8{B 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 VxDIA_@y 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 r QiRhp 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ^85Eveu 1. Essential Macleod软件介绍 xI{fd1 1.1 介绍软件 iXy1{=BDv 1.2 创建一个简单的设计 ~<!j]@. 1.3 绘图和制表来表示性能 6&0@k^7~ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 g,]o+nT 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) +# 'w}
P 1.6 特定设计的公式技术 {Vj&i.2, 1.7 交互式绘图 MoN0w.V 2. 光学薄膜理论基础 Wz.iDRFl 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 r<fcZ)jt| 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ;>mM9^Jaf 3. 材料管理 =s":Mx,o
3.1 材料模型 ya1
aWs~ 3.2 介质薄膜光学常数的提取 1s(T#jh 3.3 金属薄膜光学常数的提取
YA,~qT| 3.4 基板光学常数的提取 LUD. 4. 光学薄膜设计优化方法 SI~jM:S} 4.1 参考波长与g .x%w# 4.2 四分之一规则 >I\B_q 4.3 导纳与导纳图 9[zxq`qT}+ 4.4 斜入射光学导纳 Hc'Pp{| X 4.5 光学薄膜设计的进展 {)"[_< 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 BL 1KM2] 4.6.1 优化目标设置 0Qa0 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) BeLD`4K 4.6.3 膜层锁定和链接 rs?Dn6:;B 5. Essential Macleod中各个模块的应用 >\[]z^J 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .2c/V 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 l+@;f(8} 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 _cQ
'3@ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 =oI[E~1< 5.5 如何在Function中编写脚本 \"(?k>]E 6. 光学薄膜系统案例 GIzB1cl: 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 exJc[G&t( 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 uX1; 6.3 Stack应用范例说明 FShjUl>mV 7. 薄膜性能分析 y#B=9Ri=z 7.1 电场分布 ~g/"p`2-N 7.2 公差与灵敏度分析 QO}~"lMj 7.3 反演工程 ^+D/59I 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 4+q,[m-$( 8. 真空技术 A
.&c>{B7 8.1 常用真空泵介绍 nSyLt6zn\ 8.2 真空密封和检漏 n5kGHL2 9. 薄膜制备技术 =F$?`q` 9.1 常见薄膜制备技术 eZOR{|z 10. 薄膜制备工艺 4&cQW) 10.1 薄膜制备工艺因素 [tkx84M8 10.2 薄膜均匀性修正技术 }y6@YfV${ 10.3 光学薄膜监控技术 u!|_bI3 11. 激光薄膜 %]}JWXof 11.1 薄膜的损伤问题 Ztmh z_u7 11.2 激光薄膜的制备流程 D/Ki^E 11.3 激光薄膜的制备技术 Kg';[G\ 12. 光学薄膜特性测量 7JBs7LG 12.1 薄膜光谱测量 */h(4Hz 12.2 薄膜光学常数测量 Oq~{HJ{ 12.3 薄膜应力测量 0RA#Y(IR 12.4 薄膜损伤测量 xR0*w7YE 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] SX"|~Pi(
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] ij0I!ilG4
内容简介 v_5qE Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gZtQtFi 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 pRV.\*:c 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 bK%F_v3' m8F$h-
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 MS;^:t1` AVQcD`V3B 目录 a%Q`R;W Preface 1 )!27=R/ 内容简介 2 "'[M~Js 目录 i Y^Buz<OiG 1 引言 1 !6-t_S 2 光学薄膜基础 2 w3,KqF 2.1 一般规则 2 P_3IFHe 2.2 正交入射规则 3 =F_uK7W 2.3 斜入射规则 6 #).^k- 2.4 精确计算 7 *,G<X^ 2.5 相干性 8 ,JdBVt 2.6 参考文献 10 4A@HR 3 Essential Macleod的快速预览 10 RL4|!HzR 4 Essential Macleod的特点 32 Z0Sqw 4.1 容量和局限性 33 (E0WZ$f} 4.2 程序在哪里? 33 h>!h|Ma 4.3 数据文件 35 []@@ 4.4 设计规则 35 sC\?{B0r
4.5 材料数据库和资料库 37 |.Vgk8oTl 4.5.1材料损失 38 5/P. 4<c7 4.5.1材料数据库和导入材料 39 _'cB<9P
4.5.2 材料库 41 mh"PA p 4.5.3导出材料数据 43 ;g?PK5rB( 4.6 常用单位 43 (nLzWvN 4.7 插值和外推法 46 Fxa{
9'99 4.8 材料数据的平滑 50 D,.`mX 4.9 更多光学常数模型 54 }Y7P2W+4? 4.10 文档的一般编辑规则 55 12#yHsk 4.11 撤销和重做 56 \uHC 9}0 4.12 设计文档 57 IrYj#,xJ 4.10.1 公式 58 ]vf_4QW= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /95z1e 4.10.3 沉积密度 59 >6Pe~J5,: 4.10.4 平行和楔形介质 60 GjwH C{ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Vyi.:lL _8 4.10.4 性能 61 q(~jP0pj% 4.10.5 保存设计和性能 64 eMdP4<u 4.10.6 默认设计 64
uSXnf 4.11 图表 64 [O\)R[J 4.11.1 合并曲线图 67 !4cCq_ 4.11.2 自适应绘制 68 $A~aNI 4.11.3 动态绘图 68 %m6qL 4.11.4 3D绘图 69 cu1!WD 4.12 导入和导出 73 p,z>:3M 4.12.1 剪贴板 73 ugN%8N 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 *P\lzM 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
P'B|s/) 4.13 背景 77 L=;T$4+p 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &I
~'2mpk 4.15 生成Rugate 84 =,it`8; 4.16 参考文献 91 r
ts2Jk7f 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 }0<2n~3P 5.1 Jobs 92 }8 ;,2E*z 5.2 创建一个新Job(工作) 93 "a;$uW@.6 5.3 输入材料 94 XPrnQJ 5.4 设计数据文件夹 95 0
J"g"= 5.5 默认设计 95 U^[AW$WzU 6 细化和合成 97 en|~`]HF 6.1 优化介绍 97 fCu;n%
6.2 细化 (Refinement) 98 nT:<_'! 6.3 合成 (Synthesis) 100 9+*{3 t 6.4 目标和评价函数 101 dCn9]cj/ 6.4.1 目标输入 102 & +`g~6U 6.4.2 目标 103 Rmn|!C%%K 6.4.3 特殊的评价函数 104 zytW3sTZA 6.5 层锁定和连接 104
]Z UE ! 6.6 细化技术 104 /Cwwz 6.6.1 单纯形 105 7~"eT9WV 6.6.1.1 单纯形参数 106 &to~#.qc 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 l-r$czY 6.6.2.1 Optimac参数 108 ]Rf$&7`g{ 6.6.3 模拟退火算法 109 LsGO~EiJ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 `yl|NL 6.6.4 共轭梯度 111 A]QGaWK 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 EpACd8Fb 6.6.5 拟牛顿法 112 =_E$* } 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 0 7qjWo/t 6.6.6 针合成 113 n=DmdQ} 6.6.6.1 针合成参数 114 g}6M+QNj 6.6.7 差分进化 114 OPUrz ?p2C 6.6.8非局部细化 115 6E^m*la% 6.6.8.1非局部细化参数 115 Zd)LVc[ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 #Q_Scxf 6.7.1 细化 116 o4a@{nt^, 6.7.2 合成 117 V`/c#y|| 6.8 参考文献 117 sw1gpkX 7 导纳图及其他工具 118 J7WNgl%
u 7.1 简介 118 [KGj70|~ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ,
DuyPBAms 7.2.1 四分之一波长规则 119 OP(om$xm 7.2.2 导纳图 120 lM#/F\ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +Y+fM 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 xzx~H>M 7.5 斜入射导纳图 141 w=nS*Qy2 7.6 对称周期 141 4Af7x6a; 7.7 参考文献 142 (:H4 8 典型的镀膜实例 143 & |