上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 1mH%H*# 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ZH ,4oF 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 [zkikZy 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 1tMQqI`N 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 B*1W`f [attachment=120542] q
o 1lj"P 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 B[5r|d' 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;AJTytE>% 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 %ZP+zhn} 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 rw7_5l 1. Essential Macleod软件介绍 7^*"O&y_al 1.1 介绍软件 xJs;v 1.2 创建一个简单的设计 j'0r' 1.3 绘图和制表来表示性能 "YU{Fkl#j 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 SC &~s$P; 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) :_kAl? eJ 1.6 特定设计的公式技术 N#C1-*[C 1.7 交互式绘图 %\$;(#h 2. 光学薄膜理论基础 QK`i%TXJ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $ (=~r`O+1 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B;K`q
3. 材料管理 ;z~n.0' 3.1 材料模型 [&?8,Q( 3.2 介质薄膜光学常数的提取 sj?3M@l95W 3.3 金属薄膜光学常数的提取 2[fN\e{ 3.4 基板光学常数的提取 j2l55@ 4. 光学薄膜设计优化方法 X+k}2HvNG 4.1 参考波长与g 'R<&d}@P*# 4.2 四分之一规则 z*$q8Z&7rg 4.3 导纳与导纳图 Q7X3X, 4.4 斜入射光学导纳 SLfFqc+n0 4.5 光学薄膜设计的进展 E\nv~Y?SG 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Va
VN 4.6.1 优化目标设置 R%D'`*+ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) L6Wt3U`l 4.6.3 膜层锁定和链接
!R-z% 5. Essential Macleod中各个模块的应用 WKz>
!E% 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Zk8|K'oHx 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 8vSse 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 2lKV#9" 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 {O<l[|Ip 5.5 如何在Function中编写脚本 6r:?;j~l 6. 光学薄膜系统案例 jw}}^3. 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 r|e-<t4.9L 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ((tv2 6.3 Stack应用范例说明 9+s.w25R 7. 薄膜性能分析 73#x|lY 7.1 电场分布 E{^ XlY 7.2 公差与灵敏度分析 )}vNOE?X~ 7.3 反演工程 Vm}%ttTC 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 :j')E`#
8. 真空技术 <GHYt#GIZ+ 8.1 常用真空泵介绍 {U<xdG 8.2 真空密封和检漏 zk*c)s 9. 薄膜制备技术 /2EHv.e` 9.1 常见薄膜制备技术 vx_o(wof 10. 薄膜制备工艺 8}X5o]Mv 10.1 薄膜制备工艺因素 ;w|b0V6 10.2 薄膜均匀性修正技术 P}ok*{"J<> 10.3 光学薄膜监控技术 KDl_?9E5 11. 激光薄膜 ")O`mXg- 11.1 薄膜的损伤问题 "8^5>EJWv 11.2 激光薄膜的制备流程 Uj+j}C 11.3 激光薄膜的制备技术 ;zM*bWh9 12. 光学薄膜特性测量 T,xPSN2A* 12.1 薄膜光谱测量 x3qW0K8 12.2 薄膜光学常数测量 /!^&;$A' 12.3 薄膜应力测量 oI)GKA_Ng7 12.4 薄膜损伤测量 Yt|6
X:l 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] ,QzL)W7
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] 8Og_W8
内容简介 )X9W y!w0 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Y]]}*8 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 C2Xd?d 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 k+I}PuG +xc'1id@[
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 5JEbe '13ZX: 目录 s Y?,0T_m Preface 1 '47P|t 内容简介 2 3^s/bm$g 目录 i D]c`B 1 引言 1 xI>A6 2 光学薄膜基础 2 :Mm3
gW) 2.1 一般规则 2 moP,B~ 2.2 正交入射规则 3 vSi_t
K4 2.3 斜入射规则 6 8NaqZ+5x 2.4 精确计算 7 Dfq(Iv 2.5 相干性 8 >``MR%E:< 2.6 参考文献 10 G8Nt
8U~ 3 Essential Macleod的快速预览 10 p-1 3H0Kt 4 Essential Macleod的特点 32 asY[8r?U 4.1 容量和局限性 33 (JM4R8fR& 4.2 程序在哪里? 33 DjSbyXvrg 4.3 数据文件 35 P!"&%d 4.4 设计规则 35 \:'%9 x 4.5 材料数据库和资料库 37 J'N!Omz 4.5.1材料损失 38 [D*UT#FM 4.5.1材料数据库和导入材料 39 H[DUZ,J 4.5.2 材料库 41 @6l%,N<fou 4.5.3导出材料数据 43 ,V*%V; 4.6 常用单位 43 PJ='tJDj 4.7 插值和外推法 46 Oft4-4$E 4.8 材料数据的平滑 50 n_3O-X( 4.9 更多光学常数模型 54 1"pw 4.10 文档的一般编辑规则 55 tv!_e$CR 4.11 撤销和重做 56 5|jw^s7 4.12 设计文档 57 x3PD1JUf 4.10.1 公式 58 +la2n(CAK 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Qg6W5Hc 4.10.3 沉积密度 59 .BFYY13H 4.10.4 平行和楔形介质 60 K_K5'2dE 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <{~6}6o 4.10.4 性能 61 %/9
EORdeH 4.10.5 保存设计和性能 64 `'V4PUe 4.10.6 默认设计 64 765p/** 4.11 图表 64 SJIOI@\b 4.11.1 合并曲线图 67 #>j.$2G> 4.11.2 自适应绘制 68 6;|n]m\Vd 4.11.3 动态绘图 68 >@"Oe 4.11.4 3D绘图 69 irN6g#B?
4.12 导入和导出 73 Yv:55+ e!| 4.12.1 剪贴板 73 C-iK$/U 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 i86>] 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 JA)] _H
P 4.13 背景 77 xhRngHU\z< 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
<vXGi 4.15 生成Rugate 84 Y5F]:gs@ 4.16 参考文献 91 {'U
Rz[g 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 H<^/Ati,| 5.1 Jobs 92 @-+Q#
Zz` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ^a#X9 5.3 输入材料 94 Me=CSQqf< 5.4 设计数据文件夹 95 ;pnD0bH 5.5 默认设计 95 jAud {m*T 6 细化和合成 97 /{|fyKo\? 6.1 优化介绍 97 Zfyo-Wk 6.2 细化 (Refinement) 98 QcgfBsv96 6.3 合成 (Synthesis) 100 .w]GWL 6.4 目标和评价函数 101 q`pP$i: 6.4.1 目标输入 102 )KP5WudX 6.4.2 目标 103 F+@5C:<? 6.4.3 特殊的评价函数 104 '3?\K3S4i 6.5 层锁定和连接 104 bR V+>;L0@ 6.6 细化技术 104 HeG)/W?r 6.6.1 单纯形 105 VO"("7L 6.6.1.1 单纯形参数 106 C*`mM'# 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 8cA~R- 6.6.2.1 Optimac参数 108 s M +WkN}{ 6.6.3 模拟退火算法 109 x:QgjK 6.6.3.1 模拟退火参数 109 zD<or&6 6.6.4 共轭梯度 111 G_SG 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 lEV]4
t_H 6.6.5 拟牛顿法 112 ,u/aT5\_ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @WI2hHD 6.6.6 针合成 113 hiUD]5Kp 6.6.6.1 针合成参数 114 yR4|S2D3xn 6.6.7 差分进化 114 ;6!Pwb;hY 6.6.8非局部细化 115 kV38`s>+ 6.6.8.1非局部细化参数 115 H=\3Jj(4 6.7 我应该使用哪种技术? 116 /RMPS.
d
{ 6.7.1 细化 116 eQ&ZX3*} 6.7.2 合成 117 I6Ce_|n
?k 6.8 参考文献 117 5Lf{8UxI 7 导纳图及其他工具 118 f-%NaTI 7.1 简介 118 !&"<oPjr+ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Qm/u h 7.2.1 四分之一波长规则 119 w08?DD]CDt 7.2.2 导纳图 120 !=N"vD* 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 CjiVnWSz< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 65Cg]Dt71 7.5 斜入射导纳图 141 B`
k\ EL' 7.6 对称周期 141 kSDZZx 7.7 参考文献 142 xl#LrvxI 8 典型的镀膜实例 143 D#o}cC. 8.1 单层抗反射薄膜 145 0q'w8]m 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 DS)RX.k_# 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 o0pII )v 8.4 W-膜层 148 [B|MlrZ
8.5 V-膜层 149 EbdfV-E 8.6 V-膜层高折射基底 150 cra+T+|>Kc 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 o9H^?Rut 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 pbU!dOU~e 8.9 四层抗反射薄膜 153 GxKqD;;u?= 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 _~T!9 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >>5NX"{ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 IhA* " 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ;]pJj6J&v 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 V?=8".GiX 8.15十五层宽带抗反射膜 159 DuOG { 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 %Jrt4sg[j- 8.17 1/4波长堆栈 162 @0SC"CqM 8.18 陷波滤波器 163 TqddOp 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^/U|2'$'>E 8.20 褶皱 165 1Y]TA3: 8.21 消偏振分光器1 169 Grk@dZI 8.22 消偏振分光器2 171 x(eb5YS 8.23 消偏振立体分光器 172 ]~E0gsq 8.24 消偏振截止滤光片 173 gwWN%Z" 8.25 立体偏振分束器1 174 -
h9?1vc7 8.26 立方偏振分束器2 177 >`%'4<I 8.27 相位延迟器 178 a$Cdhx! 8.28 红外截止器 179 9s_,crq5 8.29 21层长波带通滤波器 180 q2et|QCru 8.30 49层长波带通滤波器 181 th&[Nt7 8.31 55层短波带通滤波器 182 :M6+p'`j 8.32 47 红外截止器 183 !ki.t 8.33 宽带通滤波器 184 }sOwp}FV8X 8.34 诱导透射滤波器 186 )}_a
0bt 8.35 诱导透射滤波器2 188 WuZ/C_ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190
''Cay0h 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 T.qNCJmB 8.35 增益平坦滤波器 193 ](^(=% 8.38 啁啾反射镜 1 196 ti<;7Yb
8.39 啁啾反射镜2 198 6KOlY>m] 8.40 啁啾反射镜3 199 _z1(y}u} 8.41 带保护层的铝膜层 200 ,Uy|5zv 8.42 增加铝反射率膜 201 2[r^M'J 8.43 参考文献 202 91xB9k1zO 9 多层膜 204 xQp|;oW;z 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 h`H,a7 9.2 内部透过率 204 HO''&hz 9.3 内部透射率数据 205 /0eYMG+K= 9.4 实例 206 xQ'2BAEa 9.5 实例2 210 P:N1#|g 9.6 圆锥和带宽计算 212 HuVJ\%. 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 {pHM},WJ 10 光学薄膜的颜色 216 U_{Ux2 10.1 导言 216 Nq@+'<@p$ 10.2 色彩 216 '`Wwt.A 10.3 主波长和纯度 220 L^{|uP15N 10.4 色相和纯度 221 "&%#!2 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 VV9_`myN7 10.6 色差 226 nM0[P6p 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ?K3(D;5
&i 10.8 颜色渲染指数 234 -c}, :G" 10.9 色差计算 235 ,yTjU{<" 10.10 参考文献 236 $]q8,
N|1 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 =lu/9
i6 11.1 短脉冲 238 Ck /F9( 11.2 群速度 239 is@b&V] 11.3 群速度色散 241 _{ZqO;[u 11.4 啁啾(chirped) 245 m{7(PHpw 11.5 光学薄膜—相变 245 bl'z<S,
' 11.6 群延迟和延迟色散 246 5A4&+rdU 11.7 色度色散 246 Y9`5G% 11.8 色散补偿 249 @ G4X 11.9 空间光线偏移 256 <3j"&i]Tm* 11.10 参考文献 258 8zBWIi 12 公差与误差 260 wGZR31 12.1 蒙特卡罗模型 260 "$}vP<SM 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 _Dwqy( 12.2.1 误差工具 267 @GvztVYo 12.2.2 灵敏度工具 271 po}F6m8bX 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ZZyDG9a>7 12.2.2.2 灵敏度分布 275 Vy|6E#U 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 YQS5P# 12.3 参考文献 276 %~QO8q_7 13 Runsheet 与Simulator 277 x1BobhU~Zl 13.1 原理介绍 277 MG?0>^F 13.2 截止滤光片设计 277 Rd>B0;4 14 光学常数提取 289 M5trNSL&u 14.1 介绍 289 G!XIc>F* 14.2 电介质薄膜 289 0Ld@H) 14.3 n 和k 的提取工具 295 >G 'SbQ8 14.4 基底的参数提取 302 W.w)H@]7m 14.5 金属的参数提取 306 SKW%X8 14.6 不正确的模型 306 Kb^>-[Yx 14.7 参考文献 311 l]]l 15 反演工程 313 ?}B: 15.1 随机性和系统性 313 nA~E
"* 15.2 常见的系统性问题 314 ]@M5& 15.3 单层膜 314 Q*XE
h 15.4 多层膜 314 8+Bu+|c%f 15.5 含义 319 bTSL<"(]N 15.6 反演工程实例 319 ehA;i.n 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 g5q$A9.Jl 15.6.2 反演工程提取折射率 327 wWXD\{Hk 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 )aX2jSp 16.1 光学性质的热致偏移 329 dHk{.n^p 16.2 应力工具 335 s-ZI
^I2\ 16.3 均匀性误差 339 c~o+WI
Ym 16.3.1 圆锥工具 339 rP(eva 16.3.2 波前问题 341 SZ_V^UX_ 16.4 参考文献 343 b,IocD6v;P 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 kHv[H]+v 17.1 引言 345 P%MfCpyj 17.2 操作数 345 ,2]X}&{i 18 如何在Function中编写脚本 351 [>|FB ' 18.1 简介 351 `.2hjO 18.2 什么是脚本? 351 O0PJ6:9P 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 jp+_@S> 18.4 基础 352 K]xa/G( 18.4.1 Classes(类别) 352 vsj3 18.4.2 对象 352 5ZY)nelc 18.4.3 信息(Messages) 352 "+uNmUUnm 18.4.4 属性 352 Krs2Gre} 18.4.5 方法 353 DSxUdEK6 18.4.6 变量声明 353 "3F;cCDv] 18.5 创建对象 354 }Up.){.% 18.5.1 创建对象函数 355 g`>og^7g 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 &J!aw 18.5.3 丢弃对象 356 |/ }\6L] 18.5.4 总结 356 c={Ft*N 18.6 脚本中的表格 357 F6hmku>\1 18.6.1 方法1 357 n$(p-po 18.6.2 方法2 357 8by@iQ 18.7 2D Plots in Scripts 358 }!TL2er_ 18.8 3D Plots in Scripts 359 AddeaB5< 18.9 注释 360 *XWq?hi 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 wLV~F[:
18.11 一个更高级的脚本 362 ]Zf6Yw .Y 18.12 <esc>键 364 4eH.9t 18.13 包含文件 365 <:|3rfm# 18.14 脚本被优化调用 366 O3o: qly! 18.15 脚本中的对话框 368 8I,QD`
xu 18.15.1 介绍 368 F%rHU5CkV 18.15.2 消息框-MsgBox 368 #;#3%? 18.15.3 输入框函数 370 +([!A6:
18.15.4 自定义对话框 371 ,1/}^f6 18.15.5 对话框编辑器 371 .C]cK%OO
N 18.15.6 控制对话框 377 !SsHAE| 18.15.7 更高级的对话框 380 :"o
o> 18.16 Types语句 384 l?*r5[O>n 18.17 打开文件 385 l|V;Ys5f 18.18 Bags 387 +1 eCvt:, 18.13 进一步研究 388 gX5&d\y 19 vStack 389 {I{:GcS 19.1 vStack基本原理 389 V84*0&q |