首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 R%Ui6dCLo  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 w PG1P'w;  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 _4.]A 3;}  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 xb+RRTgj  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 `?zg3GD_  
[attachment=120542] c%AFo]H  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 cQ3W;F8|n  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;0w^ud  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 <THZ2`tTK3  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 T}L^CU0  
1. Essential Macleod软件介绍 ?Y? gzD  
1.1 介绍软件 z.2r@Psk  
1.2 创建一个简单的设计 |+Hp+9J  
1.3 绘图和制表来表示性能 V-KL%  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 [K cki+  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) A9\]3 LY  
1.6 特定设计的公式技术 ;ZQ- uz  
1.7 交互式绘图 F`Dg*O  
2. 光学薄膜理论基础 heE}_,$|  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !US8aT  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 w(76H^e  
3. 材料管理 Vs#"SpH{'  
3.1 材料模型 prNhn:j  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 @4IW=V  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 di6B!YQP  
3.4 基板光学常数的提取 !c3```*  
4. 光学薄膜设计优化方法 o"rq/\ovv  
4.1 参考波长与g _j:UGMTi(U  
4.2 四分之一规则 [[:UhrH-  
4.3 导纳与导纳图 f4]N0  
4.4 斜入射光学导纳 ,HFs.9#&B  
4.5 光学薄膜设计的进展 Y3#Nux%  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 [8>z#*B  
4.6.1 优化目标设置 a q3~!T;W  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) /@ y;iJk;  
4.6.3 膜层锁定和链接 ?e F@Q !h  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 HXQ e\r  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 T vrk^!  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 bGbqfO`  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 `W@T'T"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 #SKfE  
5.5 如何在Function中编写脚本 ~9Z h,p ;  
6. 光学薄膜系统案例 ze`1fO|%  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 J,f/fPaf7  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 YEzU{J  
6.3 Stack应用范例说明 ^>C 11v  
7. 薄膜性能分析 *)u?~r(F  
7.1 电场分布  %BUEX  
7.2 公差与灵敏度分析 Z&_y0W=t  
7.3 反演工程 cAD[3b[Gk  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |xn#\epy@  
8. 真空技术 'It?wB W  
8.1 常用真空泵介绍 et=7}K]l  
8.2 真空密封和检漏 8z Y)J#  
9. 薄膜制备技术 n-DaX kK  
9.1 常见薄膜制备技术 5sCFzo<=vh  
10. 薄膜制备工艺 O|QUNr9  
10.1 薄膜制备工艺因素 l^\(ss0~  
10.2 薄膜均匀性修正技术 2d*_Qq1  
10.3 光学薄膜监控技术 ]*qU+&  
11. 激光薄膜 *h$&0w y  
11.1 薄膜的损伤问题 6^)rv-L~5y  
11.2 激光薄膜的制备流程 1BJ<m5/1%  
11.3 激光薄膜的制备技术 bNGCOj  
12. 光学薄膜特性测量 (Yv{{mIy  
12.1 薄膜光谱测量 MaO"#{i  
12.2 薄膜光学常数测量 ',7a E@PJ  
12.3 薄膜应力测量 ^i+[m  
12.4 薄膜损伤测量 w/W7N   
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
LN4qYp6)G  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
CK0l9#g  
内容简介 Us,)]W.S  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 K/txD20 O|  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Oe51PEqn  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 C-m*?))go  
%Tv^GP{}  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
?7 \\e;j}  
Q $~n/  
目录 t V03+&jF  
Preface 1 `9Yn0B.  
内容简介 2 +L0w;wT  
目录 i ]ab#q=  
1  引言 1 3uV4/% U  
2  光学薄膜基础 2 2?W7I/F  
2.1  一般规则 2 X8i(~ B  
2.2  正交入射规则 3 n2 {SV  
2.3  斜入射规则 6 Pao%pA.<  
2.4  精确计算 7 +f>cxA  
2.5  相干性 8 ?P/AC$:|I  
2.6 参考文献 10 +H_MV=A^  
3  Essential Macleod的快速预览 10 `S3>3  
4  Essential Macleod的特点 32 e4`uVq5  
4.1  容量和局限性 33 i%-Ld Ka}"  
4.2  程序在哪里? 33 (gwj)?:  
4.3  数据文件 35 s =Umj'1k  
4.4  设计规则 35 #]E(N~  
4.5  材料数据库和资料库 37 ";x+1R.d  
4.5.1材料损失 38 @%hCAm  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 JBC$Ku  
4.5.2 材料库 41 4nqoZk^R  
4.5.3导出材料数据 43 AVl~{k|  
4.6  常用单位 43 !2tW$BP^  
4.7  插值和外推法 46 c+kU o$  
4.8  材料数据的平滑 50  fvEAIs  
4.9 更多光学常数模型 54 ;apzAF  
4.10  文档的一般编辑规则 55 N@xg:xr  
4.11 撤销和重做 56 jZpa0grA  
4.12  设计文档 57 )JD(`  
4.10.1  公式 58 52d^K0STC  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 QAPu<rdJP  
4.10.3  沉积密度 59 .fYZ*=P;c  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ?F7o!B  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 rJJ[X4$  
4.10.4  性能 61 J=W0Xi !  
4.10.5  保存设计和性能 64 $w#r"= )  
4.10.6  默认设计 64 wQ+8\ s=  
4.11  图表 64 @+LfQY  
4.11.1  合并曲线图 67 UPiW73Nu  
4.11.2  自适应绘制 68 ({^9<Us  
4.11.3  动态绘图 68 Rp9fO?ZjHt  
4.11.4  3D绘图 69 MZ> 6o5K|  
4.12  导入和导出 73 Ge+0-I6Ju  
4.12.1  剪贴板 73 G:W>I=^DaR  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 crcA\lJf  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 tV;`fV   
4.13  背景 77 c{+AJ8  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 j;1-p>z  
4.15  生成Rugate 84 3+Qxg+<  
4.16  参考文献 91 k S# CEU7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 SOZPZUUEJ  
5.1  Jobs 92 !v.9"!' N  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 kq=V4-a[  
5.3  输入材料 94 Sh6JF574T  
5.4  设计数据文件夹 95 V'Kgdj  
5.5  默认设计 95 <A5]]{9 +  
6  细化和合成 97 e({9]  
6.1  优化介绍 97 H( jXI  
6.2  细化 (Refinement) 98 /93l74.w  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Z?P~z07  
6.4  目标和评价函数 101 WLa!.v>  
6.4.1  目标输入 102 wXMDh$  
6.4.2  目标 103 }A=y=+4 j  
6.4.3  特殊的评价函数 104 I){\0vb@  
6.5  层锁定和连接 104 /cr}N%HZB  
6.6  细化技术 104 TjMe?p  
6.6.1  单纯形 105 !" #9<~Q,p  
6.6.1.1 单纯形参数 106 WtulTAfN  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Y9=K]GB  
6.6.2.1 Optimac参数 108 h^9"i3H  
6.6.3  模拟退火算法 109 `;|5  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 IQ< MyB(  
6.6.4  共轭梯度 111 aNn"X y\ k  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 M->*{D@a  
6.6.5  拟牛顿法 112 0Sq][W=  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H=*5ASc  
6.6.6  针合成 113 aprm0:Q^  
6.6.6.1 针合成参数 114 U[L9*=P;  
6.6.7 差分进化 114 oI:o"T77sA  
6.6.8非局部细化 115 zya5Jb:Sg  
6.6.8.1非局部细化参数 115 `\`>0hlu  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 -oeL{9;  
6.7.1  细化 116 *-W#G}O0  
6.7.2  合成 117 @vL20O.  
6.8  参考文献 117 {>LIMG-f  
7  导纳图及其他工具 118 {t"+ 3zy'  
7.1  简介 118 &cWjE x  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 /-bF$)vN  
7.2.1  四分之一波长规则 119 8.' #?]a  
7.2.2  导纳图 120 Jd\apBIf  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 |Fm6#1A@  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 \^(0B8|w  
7.5  斜入射导纳图 141 NNhL*C[_7  
7.6  对称周期 141 }+o:j'jB  
7.7  参考文献 142 2?m.45`  
8  典型的镀膜实例 143 @`tXKP$so  
8.1  单层抗反射薄膜 145 c4&'D;=  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 j'[m:/  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 c_aZ{S  
8.4  W-膜层 148 iGB_{F~t4}  
8.5  V-膜层 149 8[r9HC  
8.6  V-膜层高折射基底 150 1O].v&{  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 b'MSkEiQG  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 r`)L ~/  
8.9  四层抗反射薄膜 153 )X4K2~k*  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 h)~=Dm  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 j!7`]  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Hf'G8vW  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 *Av"JAX  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 [."[pY  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 DD" $1o"  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 gaA<}Tp,  
8.17  1/4波长堆栈 162 ^c~)/F/cF  
8.18  陷波滤波器 163 &//wSlL3  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 tiN?/  
8.20  褶皱 165 =@TQ>Qw%b  
8.21  消偏振分光器1 169 GgaTn!mJt  
8.22  消偏振分光器2 171 ,-x!$VqS  
8.23  消偏振立体分光器 172  h:lt<y  
8.24  消偏振截止滤光片 173 Oj<S.fi  
8.25  立体偏振分束器1 174 dU\%Cq-G)  
8.26  立方偏振分束器2 177 iU6Gp-<M ,  
8.27  相位延迟器 178 8|E'>+ D_-  
8.28  红外截止器 179 e><5Pr)  
8.29  21层长波带通滤波器 180 BBcV9CGU  
8.30  49层长波带通滤波器 181 q+B&orp  
8.31  55层短波带通滤波器 182 S+TOSjfis  
8.32  47 红外截止器 183 GGhM;%H_99  
8.33  宽带通滤波器 184 /1?R?N2>0  
8.34  诱导透射滤波器 186 Bgmn2-  
8.35  诱导透射滤波器2 188 As+t##gN  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 L[5=h  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 3\T2?w9u(  
8.35  增益平坦滤波器 193 42>Ge>#F  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ~=R SKyzt  
8.39  啁啾反射镜2 198 eNiaM6(J  
8.40  啁啾反射镜3 199 1-.~7yC  
8.41  带保护层的铝膜层 200 <b/~.$a'  
8.42  增加铝反射率膜 201 PRNoqi3sY  
8.43  参考文献 202 nQ|r"|g  
9  多层膜 204 ~b {Gz6u>  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 s,a}?W  
9.2  内部透过率 204 Be+0NXLVy  
9.3 内部透射率数据 205 qRbf2;  
9.4  实例 206 fO#vF.k%  
9.5  实例2 210 T{wuj[ Q#:  
9.6  圆锥和带宽计算 212 (H+'X}1  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 7)h[Zy,A  
10  光学薄膜的颜色 216 p}[zt#v  
10.1  导言 216 :$MG*/Q  
10.2  色彩 216 &@ JvnO:  
10.3  主波长和纯度 220 []s^   
10.4  色相和纯度 221 Z$J#|  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 XD"_Iq!  
10.6 色差 226 9W5onn  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 o:V|:*1Q  
10.8  颜色渲染指数 234 |p$spQ  
10.9  色差计算 235 qC'{;ko  
10.10  参考文献 236 wgd/(8d  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Fd*8N8Pi  
11.1  短脉冲 238 !nAX$i~  
11.2  群速度 239 V`@>MOw^d  
11.3  群速度色散 241 'U'yC2BI n  
11.4  啁啾(chirped) 245 9)VF 1LD  
11.5  光学薄膜—相变 245 | >z3E z  
11.6  群延迟和延迟色散 246 }B~If}7  
11.7  色度色散 246 imiR/V>N  
11.8  色散补偿 249 k%^lF?_0I  
11.9  空间光线偏移 256 dK>7fy;mv  
11.10  参考文献 258 @?"h !fyu  
12  公差与误差 260 <]G]W/eB'  
12.1  蒙特卡罗模型 260 aM4k *|H?  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 r_;9' #&'  
12.2.1  误差工具 267 H.UX,O@  
12.2.2  灵敏度工具 271 1{P'7IEj  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 :_QCfH  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 |r bWYl.b  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 H:"ma S\I  
12.3  参考文献 276 Z(!00^  
13  Runsheet 与Simulator 277 .CFa9"<  
13.1  原理介绍 277 fw[y+Bi& ?  
13.2  截止滤光片设计 277 fxT-j s#S  
14  光学常数提取 289 r [ K5w  
14.1  介绍 289 `mN4_\]  
14.2  电介质薄膜 289 eilYA_FL.  
14.3  n 和k 的提取工具 295 \(%Y%?dy  
14.4  基底的参数提取 302 B-l'vVx  
14.5  金属的参数提取 306 YM DMH"3  
14.6  不正确的模型 306 VsA'de!V4[  
14.7  参考文献 311 V%Sy"IG  
15  反演工程 313 VWO9=A*Y|  
15.1  随机性和系统性 313 VcoOeAKL  
15.2  常见的系统性问题 314 + T8B:  
15.3  单层膜 314 tr7<]Hm:  
15.4  多层膜 314 O eL}EVs8=  
15.5  含义 319 IUwm}9Q!  
15.6  反演工程实例 319 8n>9;D5n  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ]7e =fM9V;  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ZI=v.wa  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 'e6WDC1Am(  
16.1  光学性质的热致偏移 329 +a*tO@HG  
16.2  应力工具 335 E4hLtc^ +  
16.3  均匀性误差 339 x.q+uU$^  
16.3.1  圆锥工具 339 2,*M|+W~  
16.3.2  波前问题 341 5ls6t{Ci  
16.4  参考文献 343 ;amXY@RmH  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 l<);s  
17.1  引言 345 $LU"?aAW  
17.2  操作数 345 []D@Q+1  
18  如何在Function中编写脚本 351 ttu&@ =  
18.1  简介 351 >;[*!<pfK5  
18.2  什么是脚本? 351 {D=@n4JO  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 rdJR 2  
18.4  基础 352 f%*/cpA)  
18.4.1  Classes(类别) 352 &%-73nYw  
18.4.2  对象 352 l'eyq}&  
18.4.3  信息(Messages) 352 8-O)Xx}cU  
18.4.4  属性 352 *M"}z  
18.4.5  方法 353 )6aAB|  
18.4.6  变量声明 353 _F`lq_C  
18.5  创建对象 354 rvw)-=qR[  
18.5.1  创建对象函数 355 Gh}*q|Lz  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 9 yfJVg  
18.5.3 丢弃对象 356 ~sXcnxLz  
18.5.4  总结 356 {E8~Z8tT  
18.6  脚本中的表格 357 8e(\%bX  
18.6.1  方法1 357 ?5 {>;#0Z  
18.6.2  方法2 357 j*vYBGD  
18.7 2D Plots in Scripts 358 )>Yu!8i  
18.8 3D Plots in Scripts 359 o !U 6?  
18.9  注释 360 ^N)R=tl  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Ct>GYk$  
18.11  一个更高级的脚本 362 1Yn +<I  
18.12  <esc>键 364 hzvd t  
18.13 包含文件 365 U-3i  
18.14  脚本被优化调用 366 X)% A6M  
18.15  脚本中的对话框 368 ZEx}$<)_  
18.15.1  介绍 368 hr)B[<9  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 1|jt"Hz  
18.15.3  输入框函数 370 |/)${*a4n  
18.15.4  自定义对话框 371 @qYp>|AF  
18.15.5  对话框编辑器 371 i,/0/?)*_  
18.15.6  控制对话框 377 IqoR7ajA  
18.15.7  更高级的对话框 380 Sb82}$sO  
18.16 Types语句 384 @8I4[TE  
18.17 打开文件 385 #n8IZ3+  
18.18 Bags 387 rQ qW_t%  
18.13  进一步研究 388 Ug<#en  
19  vStack 389 ]'=)2 .}  
19.1  vStack基本原理 389 e(<st r>  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 \}|o1Xh2  
19.3  五棱镜 393 \r+8qC[,  
19.4 光束距离 396 mmk=97  
19.5 误差 399 4.5|2 \[  
19.6  二向分色棱镜 399 =D<PVGo9  
19.7  偏振泄漏 404 TtTj28 k7  
19.8  波前误差—相位 405 @pRlxkvV  
19.9  其它计算参数 405 LF& z  
20  报表生成器 406 9eQxit7  
20.1  入门 406 ~ r4 38&  
20.2  指令(Instructions) 406 %#xaA'? [  
20.3  页面布局指令 406 ,tu.2VQc@  
20.4  常见的参数图和三维图 407 MjC_ (cs  
20.5  表格中的常见参数 408 .E8_Oz  
20.6  迭代指令 408 oV|4V:G q  
20.7  报表模版 408 I!Z_ [M  
20.8  开始设计一个报表模版 409 wMg0>  
21  一个新的project 413 '|8} z4/g  
21.1  创建一个新Job 414 Eu@huN*/  
21.2  默认设计 415 |#cm`v  
21.3  薄膜设计 416 DrY:9[LP  
21.4  误差的灵敏度计算 420 eEv@}1~  
21.5  显色指数计算 422 GQUe!G9  
21.6  电场分布 424 .7avpOfz  
后记 426 9 %I?).5  
n|RJ;d30Q  
U`NjPZe5^  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 D!Pq4'd(  
)9"_J9G  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
b((M)Gz  
QLiu2U o  
目  录 gf &Pn  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 SVh 7zh  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Ki$MpA3j   
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 TE7nJ gm  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 jN;@=COi  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ?IqQ-C)6D  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 1q:2\d]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ] [+#;avU  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 J$GUB3 G  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 CR"|^{G  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vZaZc}AyL  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 :*Z4yx  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 {E9+WFz5  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 QSdHm  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 %In A+5s`  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Ybs\ES'?A  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 F@'Jbd`   
.ps-4eXF  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
对课程和书籍感兴趣的小伙伴们,可以联系我
infotek 2023-10-20 08:54
课程最后报名中,有兴趣的小伙伴别错过
查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计