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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 D!P?sq_5r  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 R#`itIYh  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 IN"vi|1  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 \1Bgs^  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 "4`%NA  
[attachment=120542] O7\s1 V;  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 toWmm(7v  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;FmSL#]I  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Cb6MD  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 kmoJ`W} N  
1. Essential Macleod软件介绍 q>[% C5  
1.1 介绍软件 \PFx# :-c  
1.2 创建一个简单的设计 O)Qz$  
1.3 绘图和制表来表示性能 Lm?*p>\Q  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 gctaarB&  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) y#0w\/<  
1.6 特定设计的公式技术 g@2.A;N0  
1.7 交互式绘图 #SYWAcTkO}  
2. 光学薄膜理论基础 Q#N+5<]J)#  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 6:,^CI|@ t  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 9X%Klm 5w  
3. 材料管理 _E;Y ~I,i  
3.1 材料模型 v2{O67j} o  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 p[)<d_  
3.3 金属薄膜光学常数的提取  SoX V  
3.4 基板光学常数的提取 2UF94  
4. 光学薄膜设计优化方法 (HI%C@e9  
4.1 参考波长与g  ~Hs{(7   
4.2 四分之一规则 5avO48;Vc  
4.3 导纳与导纳图 bw\=F_>L  
4.4 斜入射光学导纳 Lm|X5RVq  
4.5 光学薄膜设计的进展 =dBrmMh  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 q?L(V+X  
4.6.1 优化目标设置 G!8pF  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) b..$5  
4.6.3 膜层锁定和链接 .LhmYbQ2WE  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 p]&Q`oh  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ]e.+u  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 [MS.5+1Y  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 8~E)gV+v  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 c0&'rxi( B  
5.5 如何在Function中编写脚本 7Ca\ (82  
6. 光学薄膜系统案例 r6JkoP Mh  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ts<dUO  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 9/Dt:R3QU  
6.3 Stack应用范例说明 v{n}%akc  
7. 薄膜性能分析 4P!DrOB  
7.1 电场分布 UwkX[u  
7.2 公差与灵敏度分析 <UJJ],)^1A  
7.3 反演工程 v4_OUA>z,  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 T''+zk  
8. 真空技术 wG5RN;`V  
8.1 常用真空泵介绍 k{jw%a<Sc  
8.2 真空密封和检漏 c)MR+'d\WO  
9. 薄膜制备技术 2nkj;x{H$  
9.1 常见薄膜制备技术 ~[TKVjyO  
10. 薄膜制备工艺 jHH  
10.1 薄膜制备工艺因素 ;J-Ogt@d7  
10.2 薄膜均匀性修正技术 z L'IN)7MU  
10.3 光学薄膜监控技术 Us,[x Q  
11. 激光薄膜 (V.,~t@  
11.1 薄膜的损伤问题 7/_ VE  
11.2 激光薄膜的制备流程 @O}j:b  
11.3 激光薄膜的制备技术 4V|z)=)A  
12. 光学薄膜特性测量 4>VZk^%b#  
12.1 薄膜光谱测量 `l2<  
12.2 薄膜光学常数测量 F.pHL)37  
12.3 薄膜应力测量 |$w={N^4  
12.4 薄膜损伤测量 /Jf`x>eiH  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
^>8]3@ Nh  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
Q\#{2!I  
内容简介 ef}E.Bl  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5A$az03y$\  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ?lDcaI>+n  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 c48J!,jCd'  
Pgw%SMEp  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
8V|jL?a~  
_SIs19"lR  
目录 (Ef2 w[ '  
Preface 1 R g0 XW6  
内容简介 2 Uk *;C  
目录 i m/hi~. D9  
1  引言 1 I0w@S7  
2  光学薄膜基础 2 rw8J:?0x  
2.1  一般规则 2 R_>TEYZ  
2.2  正交入射规则 3 Q;XHHk  
2.3  斜入射规则 6 A2|o=mOH  
2.4  精确计算 7 u@bOEcxK  
2.5  相干性 8 ()C^ta_]  
2.6 参考文献 10 $]%<r?MUb-  
3  Essential Macleod的快速预览 10 L_U3*#Zdz7  
4  Essential Macleod的特点 32 E]H   
4.1  容量和局限性 33 sh !~T<yy  
4.2  程序在哪里? 33 ! [|vx!p  
4.3  数据文件 35 -?aw^du  
4.4  设计规则 35 fs rg2:kQ  
4.5  材料数据库和资料库 37 loeLj4""  
4.5.1材料损失 38 t?9 ;cS4  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 )7I.N]=  
4.5.2 材料库 41 DO1 JPeIi  
4.5.3导出材料数据 43 HTDyuqs  
4.6  常用单位 43 y '_V/w s  
4.7  插值和外推法 46 ?Rt 1CDu  
4.8  材料数据的平滑 50 68p\WheCal  
4.9 更多光学常数模型 54 ?)?IZ Qj  
4.10  文档的一般编辑规则 55 m0I #  
4.11 撤销和重做 56 1o|0x\q  
4.12  设计文档 57 JA?,0S  
4.10.1  公式 58 iM?I /\  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eg$5z Z  
4.10.3  沉积密度 59 "rjv5*z^&  
4.10.4 平行和楔形介质 60 'YZI>V*  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ~'^!udF-  
4.10.4  性能 61 h;EwkbDQg>  
4.10.5  保存设计和性能 64 Q{qj  
4.10.6  默认设计 64 V@#*``M,3  
4.11  图表 64 X(r)Z\  
4.11.1  合并曲线图 67 $Yx6#m}[M  
4.11.2  自适应绘制 68 (#j2P0B  
4.11.3  动态绘图 68 bmj8WZ  
4.11.4  3D绘图 69 Yg=E@F   
4.12  导入和导出 73 -5V)q.Og  
4.12.1  剪贴板 73 ?418*tXd  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 GOYn\N;V2  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ( }]37  
4.13  背景 77 |D;_:x9  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ).0V%}>  
4.15  生成Rugate 84 tC2 )j7@  
4.16  参考文献 91 !j!Z%]7  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 %_B:EMPd  
5.1  Jobs 92 '2|1%NSW9  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 {BFT  
5.3  输入材料 94 JqI6k6~Q^  
5.4  设计数据文件夹 95 IF&g.R  
5.5  默认设计 95 -yX.Jv  
6  细化和合成 97 \6`v.B&v  
6.1  优化介绍 97 xa87xX=a  
6.2  细化 (Refinement) 98 Tjnt(5g  
6.3  合成 (Synthesis) 100 8- dRdQu]  
6.4  目标和评价函数 101 P]pmt1a  
6.4.1  目标输入 102 ,U6*kvHS6  
6.4.2  目标 103 N<KKY"?I'  
6.4.3  特殊的评价函数 104 eaV3) uP  
6.5  层锁定和连接 104 u^`eKak"l  
6.6  细化技术 104 6#E]zmXO2  
6.6.1  单纯形 105 {E!$ xY8  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ]s*5[ =uc2  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Bz~ -2#l  
6.6.2.1 Optimac参数 108 !"g=&Uy&  
6.6.3  模拟退火算法 109  M*d-z  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 #V<`U:.  
6.6.4  共轭梯度 111 -L@]I$Yo  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >$2E1HW.  
6.6.5  拟牛顿法 112 s{yJ:WncI  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 IYuyj(/!  
6.6.6  针合成 113 $Llta,ULE  
6.6.6.1 针合成参数 114 OI~}e,[2z  
6.6.7 差分进化 114 V3## B}2[Y  
6.6.8非局部细化 115 .|T2\M  
6.6.8.1非局部细化参数 115 &(g m4bTg  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 riID,aut  
6.7.1  细化 116 YV*b~6{d  
6.7.2  合成 117 pPoH5CzcK  
6.8  参考文献 117 m])Lw@#9W  
7  导纳图及其他工具 118 Xa4GqV9M/-  
7.1  简介 118 <\h*Zy  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 $np=eT)  
7.2.1  四分之一波长规则 119 7nm}fT z7  
7.2.2  导纳图 120 doLkrEm&  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >Cvjs  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 O'fk&&l  
7.5  斜入射导纳图 141 ;U |NmC+  
7.6  对称周期 141 =KV@&Y^x4  
7.7  参考文献 142 <lFdexH"T  
8  典型的镀膜实例 143 zEy&4Kl{+  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ]22C )<  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 EY]a6@;  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 USprsaj  
8.4  W-膜层 148 $)Wb#B  
8.5  V-膜层 149 5Yl6?  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Gi*<~`Gr  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Y=9j2 ]t  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 "r@G@pe  
8.9  四层抗反射薄膜 153 rw&y,%2  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 =qw &dwIQ  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 T: U4:"  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ( ]OFS;%  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 Rxx>{+f4M  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 )Lb72;!?  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 .?f:Nb.O  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 d]MGN^%o  
8.17  1/4波长堆栈 162 aRX  
8.18  陷波滤波器 163 c -w0  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 prUHjS  
8.20  褶皱 165 i-,'.w  
8.21  消偏振分光器1 169 C,.-Q"juH  
8.22  消偏振分光器2 171 ms7SoY bSu  
8.23  消偏振立体分光器 172  qtzFg#  
8.24  消偏振截止滤光片 173 [.a;L">  
8.25  立体偏振分束器1 174 C%]."R cMC  
8.26  立方偏振分束器2 177 uWTN 2jr  
8.27  相位延迟器 178 QNb>rLj52  
8.28  红外截止器 179 AVv#\JrRW  
8.29  21层长波带通滤波器 180 "c,!vc4  
8.30  49层长波带通滤波器 181 OTE<x"=h  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ?ql2wWsQO  
8.32  47 红外截止器 183 QF.3c6O@  
8.33  宽带通滤波器 184 HVGr-/  
8.34  诱导透射滤波器 186 PPj[;(A  
8.35  诱导透射滤波器2 188 UW/N MjK  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 7b46t2W<  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 /VO^5Dnb  
8.35  增益平坦滤波器 193 ]H+{eJB7O  
8.38  啁啾反射镜 1 196 5z~\5x  
8.39  啁啾反射镜2 198 "J !}3)n  
8.40  啁啾反射镜3 199 +2Ql~w@$^l  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ]^ #`j  
8.42  增加铝反射率膜 201 J\{ $ot  
8.43  参考文献 202 ;E#\   
9  多层膜 204 {i>Jfl]G}  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 87<9V.s 2  
9.2  内部透过率 204 Gqt-_gga  
9.3 内部透射率数据 205 !}5*?k g  
9.4  实例 206 4uUs7T  
9.5  实例2 210 f05=Mc&)  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Y208b?=9w  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 o%`npi1y  
10  光学薄膜的颜色 216 {zP#woz2Q  
10.1  导言 216 %2D17*eK  
10.2  色彩 216 x@m<Ym-  
10.3  主波长和纯度 220 wbi3lH:;  
10.4  色相和纯度 221 g~ !$i`_b  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ue6d~8&  
10.6 色差 226 \QT9HAdd@  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ;'HF'Z  
10.8  颜色渲染指数 234 ru{f]|  
10.9  色差计算 235 P'tMu6+)  
10.10  参考文献 236 G52Z)^  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 HabzCH  
11.1  短脉冲 238 .oR3Q/|k]  
11.2  群速度 239 etyCrQ ?U  
11.3  群速度色散 241 NR4Jn?l{  
11.4  啁啾(chirped) 245 #*2Rp8n  
11.5  光学薄膜—相变 245 $"8d:N?I[  
11.6  群延迟和延迟色散 246 5+K;_)   
11.7  色度色散 246 8Z#21X>  
11.8  色散补偿 249 P+Z\3re  
11.9  空间光线偏移 256 /\J|Uj  
11.10  参考文献 258 =j~Q/-`EC0  
12  公差与误差 260 `*yAiv>  
12.1  蒙特卡罗模型 260 XlkGjjW#/J  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Au5rR>W  
12.2.1  误差工具 267 U =cWmH  
12.2.2  灵敏度工具 271 R#qI( V  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 r5 yO5W  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 c!Dc8=nE0m  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 8Kk\*8 <  
12.3  参考文献 276 hCC}d0gf`n  
13  Runsheet 与Simulator 277 XoItV  
13.1  原理介绍 277 aFY u}kl  
13.2  截止滤光片设计 277 _]|Qec)  
14  光学常数提取 289 =_PvrB2'  
14.1  介绍 289 PAZ$_eSK6  
14.2  电介质薄膜 289 S&?7K-F>_o  
14.3  n 和k 的提取工具 295 |0 !I5|<k  
14.4  基底的参数提取 302 v <Hb-~  
14.5  金属的参数提取 306 KDey(DN:  
14.6  不正确的模型 306 f=`33m5  
14.7  参考文献 311 #$'FSy#  
15  反演工程 313 4:1)~z  
15.1  随机性和系统性 313 _k2w(ew?  
15.2  常见的系统性问题 314 =;{^" #r\  
15.3  单层膜 314 ^%#grX#  
15.4  多层膜 314 r]LCvsVa  
15.5  含义 319 nl n OwyMJ  
15.6  反演工程实例 319 EJm4xkYLj1  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 FifbxL  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 o\6iq  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 p=gX !4,9<  
16.1  光学性质的热致偏移 329 - k`.j  
16.2  应力工具 335 B8V,)rn  
16.3  均匀性误差 339 w%xCTeK[  
16.3.1  圆锥工具 339 &ao(!/im  
16.3.2  波前问题 341 *YvRNHP  
16.4  参考文献 343 K)[8 H~Lm  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 1 Z[f {T)  
17.1  引言 345 CMl~=[foW  
17.2  操作数 345 -Mf Q&U   
18  如何在Function中编写脚本 351 FtIa*j^G  
18.1  简介 351 fKkjn4&W  
18.2  什么是脚本? 351 8;n_TMb  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 T bf:eVIG  
18.4  基础 352 KQmZ#W%2m  
18.4.1  Classes(类别) 352 %}b8aG+  
18.4.2  对象 352 (E!!pz  
18.4.3  信息(Messages) 352 {exrwnIZj  
18.4.4  属性 352 O4Dr ]Xc]  
18.4.5  方法 353 C2/}d? bki  
18.4.6  变量声明 353 A3+6 #?:;  
18.5  创建对象 354 x-_vl 9P)  
18.5.1  创建对象函数 355 &s VadOBQ  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 K ,isjh2  
18.5.3 丢弃对象 356 bQQVj?8jp  
18.5.4  总结 356 A6p`ma $L  
18.6  脚本中的表格 357 kGHC]Fb)  
18.6.1  方法1 357 BHr|.9g]%%  
18.6.2  方法2 357 edpW8eND  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ~UPZ<  
18.8 3D Plots in Scripts 359 u$\a3yi  
18.9  注释 360 MCYl{uH!  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 3-x%wD.  
18.11  一个更高级的脚本 362 pFO^/P'  
18.12  <esc>键 364 1"]P`SY$r  
18.13 包含文件 365 3,6Ox45  
18.14  脚本被优化调用 366 fN[8N$1-  
18.15  脚本中的对话框 368 Yc#IFmC}  
18.15.1  介绍 368 #n7Yr,|Z  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 FvXqggfGv  
18.15.3  输入框函数 370 2`Gv5}LfyR  
18.15.4  自定义对话框 371 NFyMY#\]  
18.15.5  对话框编辑器 371 qrBZvJU  
18.15.6  控制对话框 377 fx?$9(r,  
18.15.7  更高级的对话框 380 =`t^~.5  
18.16 Types语句 384 LmL Gki$w  
18.17 打开文件 385 {o|k.zy  
18.18 Bags 387 %ROwr[Dj=  
18.13  进一步研究 388 srmKaa|  
19  vStack 389 {fz$Z!8-  
19.1  vStack基本原理 389 dM]#WBOP y  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 YfDWM7x7,  
19.3  五棱镜 393 jw>h k  
19.4 光束距离 396 Iti0qnBN5  
19.5 误差 399 qd6fU^)i  
19.6  二向分色棱镜 399 TFH&(_b  
19.7  偏振泄漏 404 ,8VU&?`<}  
19.8  波前误差—相位 405 Oh; Jw  
19.9  其它计算参数 405 yyP-=Lhmo=  
20  报表生成器 406 R7_VXvm>z  
20.1  入门 406 j43$]'-  
20.2  指令(Instructions) 406 qqOFr!)g  
20.3  页面布局指令 406 9- )qZ  
20.4  常见的参数图和三维图 407 {IM! Wb  
20.5  表格中的常见参数 408 ..qd,9H  
20.6  迭代指令 408 $8 =@R'  
20.7  报表模版 408 !Q %P%P<$  
20.8  开始设计一个报表模版 409 +%#8k9Y  
21  一个新的project 413 ]<trA$ 0  
21.1  创建一个新Job 414 6X_\Ve  
21.2  默认设计 415 bB 6[Xj{  
21.3  薄膜设计 416 SbT5u3,'  
21.4  误差的灵敏度计算 420 i[nF.I5*f  
21.5  显色指数计算 422 WES#ZYtT  
21.6  电场分布 424 IVjU`ij  
后记 426 b"CAKl  
r`M6!}oa  
?M}S| dsmE  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 |g&ym Fc  
w*!wQ,o  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
$g\&5sstE  
\8v91g91f  
目  录 W!la-n  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 <+U|dX  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 !a-b6Aa  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 /@YCA}|/  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )&W**!(C  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 bbN%$/d  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ?J!3j{4e  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 nzsl@1s  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8OFj0S1r`  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 iEHh{H(  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 SoQR#(73HK  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 z@U} ~TvP  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 D$r Uid  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ]k%PG-9  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 4< S'  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 9;=dxWf   
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 `!4,jd  
+RDJY(Y$  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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