上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 P9Q2gVGAO{ 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 tbDoP
Y 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ]F*3"y?)2 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 K\.5h4k 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 vA% ^`5 [attachment=120542] Sfjje4R 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 H=MCjh&$q 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 (k"_># % 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 2z0n<` 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 h8 @ 1. Essential Macleod软件介绍 pxINw>\Qv 1.1 介绍软件 \x\
5D^Vc 1.2 创建一个简单的设计 f"5g>[1 1.3 绘图和制表来表示性能
wsfd8T4 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4&^9Wklj 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) TYgQJW? 1.6 特定设计的公式技术 [IBQvL 1.7 交互式绘图 !fkep= 2. 光学薄膜理论基础
\' li 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !
T9]/H? 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 l5t2\Fl 3. 材料管理 $ChK]v
6C 3.1 材料模型 C*6S@4k 3.2 介质薄膜光学常数的提取 _GtBP'iN 3.3 金属薄膜光学常数的提取 vwGeD|Fb5 3.4 基板光学常数的提取 *wbZ;rfF 4. 光学薄膜设计优化方法 D^F{uDlb 4.1 参考波长与g #=e;?w 4.2 四分之一规则 /\d$/~BFi 4.3 导纳与导纳图 ^U7OMl4Usq 4.4 斜入射光学导纳 alFjc.~} 4.5 光学薄膜设计的进展 ;&;W
T 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 wdE?SD s 4.6.1 优化目标设置 +SXIZ` 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) !$qKb_#nC 4.6.3 膜层锁定和链接 [THG4582oB 5. Essential Macleod中各个模块的应用 &lc8G 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 } /^C|iS7 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 vq'c@yw; 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Bstk{&ew 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 V,7%1TZ: 5.5 如何在Function中编写脚本 :Og:v#r8= 6. 光学薄膜系统案例 *<V^2z$y_ 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 e&It 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 pb;")Q' 6.3 Stack应用范例说明 5 MxL*DB=b 7. 薄膜性能分析 2YwVU.*> 7.1 电场分布 r8M Zvm2 7.2 公差与灵敏度分析 =(r*
5vd 7.3 反演工程 N1EezC'^ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 pa
.K-e)Mu 8. 真空技术 "kW!{n 8.1 常用真空泵介绍 ;."<m 8.2 真空密封和检漏 wOgE|n 9. 薄膜制备技术 %kI}
[6J_ 9.1 常见薄膜制备技术 oUDVy_k 10. 薄膜制备工艺 ik1tidw 10.1 薄膜制备工艺因素 /L=(^k=a.; 10.2 薄膜均匀性修正技术 (il0M=M 10.3 光学薄膜监控技术 HaNboYW_K 11. 激光薄膜 P @%.`8 11.1 薄膜的损伤问题 WV<tyx9Z 11.2 激光薄膜的制备流程 gz#4{iT~ 11.3 激光薄膜的制备技术 R""%F#4XJ2 12. 光学薄膜特性测量 =ZYThfAEw 12.1 薄膜光谱测量 ,lN5,zI=S 12.2 薄膜光学常数测量 CX/(o] 12.3 薄膜应力测量 D@Da0 12.4 薄膜损伤测量 H3/caN: 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] {kB `>VS
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] UV7%4xM5v
内容简介 =5]n\"/ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 P!g-X%ngo 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 P~C rtTss 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 FVWfDQ$&v N0TeqOi4Y
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 n[+'OU[ 4n( E;!s 目录 x!TZ0fq0 Preface 1 ]TpU"JD 内容简介 2 PBqy F 目录 i c-]fKj7 1 引言 1 @|-OJ4[5 2 光学薄膜基础 2 @M;(K<%h 2.1 一般规则 2 o=+Z.-q 2.2 正交入射规则 3 lvSdY(8 2.3 斜入射规则 6 *dE^-dm# 2.4 精确计算 7 D>ef 2.5 相干性 8 I`B'1"{ 2.6 参考文献 10 L_O$>c 3 Essential Macleod的快速预览 10 #B}?Zg 4 Essential Macleod的特点 32 I+?hG6NM 4.1 容量和局限性 33 _]>JB0IY 4.2 程序在哪里? 33 {")\0|2\x 4.3 数据文件 35 5mB]N%rfW% 4.4 设计规则 35 Gm8E<iTP 4.5 材料数据库和资料库 37 rj]
E@W 4.5.1材料损失 38 |hzT; 4.5.1材料数据库和导入材料 39 D@54QJ< 4.5.2 材料库 41 dbGgD=}o 4.5.3导出材料数据 43 >>'C
:7+Y 4.6 常用单位 43 0%C^8%(x 4.7 插值和外推法 46 t%0?N<9YkU 4.8 材料数据的平滑 50 V^fV7hw< 4.9 更多光学常数模型 54 S>:,z}i 4.10 文档的一般编辑规则 55 S q@H 4.11 撤销和重做 56 loOOmHhJ& 4.12 设计文档 57 X T>('qy 4.10.1 公式 58 $ @1u+w 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 UPh=+s #Q 4.10.3 沉积密度 59 ]KK`5Dv|,e 4.10.4 平行和楔形介质 60 L4'[XcY 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Di(9]:+ 4.10.4 性能 61 440FhDMj 4.10.5 保存设计和性能 64 7!4V>O8@ 4.10.6 默认设计 64 7XAvd- 4.11 图表 64 f05d ; 4.11.1 合并曲线图 67 E%pz9gcSx 4.11.2 自适应绘制 68 ~1 ZD[@ 4.11.3 动态绘图 68 D!3{gV# 4.11.4 3D绘图 69 ]r"Yqv3 4.12 导入和导出 73 W4(?HTWZ 4.12.1 剪贴板 73 m#@_8_ M 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 c[(Pg% 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ;Rnhe_A. 4.13 背景 77 .KA V) So" 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6].:.b\qQc 4.15 生成Rugate 84 \_ow9vU 4.16 参考文献 91 f6ZZ}lwaV 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ~l4f{uOD>] 5.1 Jobs 92 Hcv u7uD 5.2 创建一个新Job(工作) 93 k=n
"+ 5.3 输入材料 94 |r=DBd3 5.4 设计数据文件夹 95 v <h;Di@ 5.5 默认设计 95 ?S`>>^ 6 细化和合成 97 \HSicV#i 6.1 优化介绍 97 i57(
$1. 6.2 细化 (Refinement) 98 g:~+Pe 6.3 合成 (Synthesis) 100 3oBC
6.4 目标和评价函数 101 #BJ\{"b_}z 6.4.1 目标输入 102 zJl_ t0 6.4.2 目标 103 otriif@+Z 6.4.3 特殊的评价函数 104 3'#%c>_ 6.5 层锁定和连接 104 9D_wG\g 6.6 细化技术 104 zG%
|0
6.6.1 单纯形 105 (cV 6.6.1.1 单纯形参数 106 v*TeTA
% 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 GW
m4~]0E 6.6.2.1 Optimac参数 108 {BOLPE- 6.6.3 模拟退火算法 109 (_8#YyW# 6.6.3.1 模拟退火参数 109 f1cl'; 6.6.4 共轭梯度 111 8&(-8 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 %KV2<t? 6.6.5 拟牛顿法 112 Rt4di^v 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 X>3^a'2,E 6.6.6 针合成 113 j$PI,` 6.6.6.1 针合成参数 114 OgMI 6.6.7 差分进化 114 2VYvO=KA 6.6.8非局部细化 115 ixI:@#5wY 6.6.8.1非局部细化参数 115 #+G`!<7/@f 6.7 我应该使用哪种技术? 116 n`<S&KP| 6.7.1 细化 116 xZ ;bMxZ 6.7.2 合成 117 Q_}n%P:u 6.8 参考文献 117 K2|7% 7 导纳图及其他工具 118 \y~)jq:d" 7.1 简介 118 dU+0dZdKO 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 xrI}3T 7.2.1 四分之一波长规则 119 uPU#c\ 7.2.2 导纳图 120 Oxa5Kfpa 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 h$&rE@N| 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 l%PnB
)F 7.5 斜入射导纳图 141 *8-p7,D 7.6 对称周期 141 #"r kuDO 7.7 参考文献 142 chLeq 8 典型的镀膜实例 143 !;WbOnLP 8.1 单层抗反射薄膜 145 WOb8"*OM 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 NsmVd dj 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 !R{em4 8D 8.4 W-膜层 148 <7RfBR.9 8.5 V-膜层 149 4*8&[b 8.6 V-膜层高折射基底 150 yWuIu>VJ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 B$7[8h 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {PmzkT}LF 8.9 四层抗反射薄膜 153 :uvc\|:s 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 `.8-cz
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ..$>7y} 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 LUul7y'" 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 !E0fGh 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 +$~8)95<B 8.15十五层宽带抗反射膜 159 %8<2> 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 $i%HDt| 8.17 1/4波长堆栈 162 RpeBm#E2 8.18 陷波滤波器 163 I~k=3,7< 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 swt\Ru6, 8.20 褶皱 165 }K;iJ~kD1 8.21 消偏振分光器1 169 E7LbSZ 8.22 消偏振分光器2 171 JP%RTGu 8.23 消偏振立体分光器 172 ">,K1:(D 8.24 消偏振截止滤光片 173 Xj;2h{#s 8.25 立体偏振分束器1 174 lb95!.av+I 8.26 立方偏振分束器2 177 FvA|1c 8.27 相位延迟器 178 o@',YF>OQ 8.28 红外截止器 179 `\e'K56W6 8.29 21层长波带通滤波器 180 ]:!8 s\# 8.30 49层长波带通滤波器 181 j]Ua\|t 8.31 55层短波带通滤波器 182 ec1Fg0Fa 8.32 47 红外截止器 183 `.`FgaJ
| 8.33 宽带通滤波器 184 Vy r]
x 8.34 诱导透射滤波器 186 !xH,y 8.35 诱导透射滤波器2 188 {[lx!QF 8& 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ZR2\dH* 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 QU%N*bFW%P 8.35 增益平坦滤波器 193 CQjV!d0j 8.38 啁啾反射镜 1 196 BiE$mM 8.39 啁啾反射镜2 198 WS5"!vz 8.40 啁啾反射镜3 199 _-(z@ 8.41 带保护层的铝膜层 200 \`&xprqAw 8.42 增加铝反射率膜 201 w&9F>`VET 8.43 参考文献 202 Uv'uqt 9 多层膜 204 wvX"D0eVn 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 sgD@}":m 9.2 内部透过率 204 $'y1Po'2 9.3 内部透射率数据 205 n }TTq6B 9.4 实例 206 Bd QQ9$@5 9.5 实例2 210 Ho>p ^p 9.6 圆锥和带宽计算 212 ~6MMErSj 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 ~{9x6<g! 10 光学薄膜的颜色 216 6\XP|n-0+0 10.1 导言 216 &'NQ)Dn 10.2 色彩 216 <G&WYk%u* 10.3 主波长和纯度 220 Zr5'TZ`$ 10.4 色相和纯度 221 Ag<4r 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ?'T"?b< 10.6 色差 226 >*Sv0# 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ;+r0
O0;9 10.8 颜色渲染指数 234 e5FCqNip' 10.9 色差计算 235 <kROH0+ 10.10 参考文献 236 Fu#Y7)r 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <%he
o 11.1 短脉冲 238 >[
@{$\?x: 11.2 群速度 239 2k%Bl+I 11.3 群速度色散 241 gca|?tt 11.4 啁啾(chirped) 245 Q4#\{" N! 11.5 光学薄膜—相变 245 "[Yip5 11.6 群延迟和延迟色散 246 7Zhli Y1 11.7 色度色散 246 qmQFHC_ 11.8 色散补偿 249 NuHL5C?To 11.9 空间光线偏移 256 KX]-ll 11.10 参考文献 258 `Uu^I
12 公差与误差 260 Dy98[cL 12.1 蒙特卡罗模型 260 pVdhj^n 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fQ^h{n 12.2.1 误差工具 267 Ua}g 12.2.2 灵敏度工具 271 ?exALv'B 12.2.2.1 独立灵敏度 271 *
.oi3m 12.2.2.2 灵敏度分布 275 Lqg7D\7j 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 x/pC%25 12.3 参考文献 276 FLw[Mg:L 13 Runsheet 与Simulator 277 9Y;}JVS 13.1 原理介绍 277 Uy:@,DW 13.2 截止滤光片设计 277 mI2|0RWI)l 14 光学常数提取 289 rHH#@Zx 14.1 介绍 289 c>M_?::)0 14.2 电介质薄膜 289 C,V|TF.i2 14.3 n 和k 的提取工具 295
c"6Kd$?M 14.4 基底的参数提取 302 $[WN[J 14.5 金属的参数提取 306 0^-z?Kb<} 14.6 不正确的模型 306 7MR:X#2v> 14.7 参考文献 311 &p |