上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 =27Z Y Z 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 srH.$Y;~ 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 @`aPr26>? 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 5Trc#i<\ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ucUuhS5 [attachment=120542] ;ih;8 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 8x9;3{R 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 0&c<1; 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 T^Hq 5Oy 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 }U**)" 1. Essential Macleod软件介绍 9/O\769"' 1.1 介绍软件 9<5ii 1.2 创建一个简单的设计 LtK,_j 1.3 绘图和制表来表示性能 'i 8`LPQ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 x/%/MFK)>8 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) cd4HbSp 1.6 特定设计的公式技术 %
xBQX 1.7 交互式绘图 4!Lj\.!$ 2. 光学薄膜理论基础 xC2y/? 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 3
op{h6 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 %/RT}CBBsW 3. 材料管理 i$H9~tPs 3.1 材料模型 -c%'f&P 3.2 介质薄膜光学常数的提取 IC-W[~ 3.3 金属薄膜光学常数的提取 H
WFnIUv 3.4 基板光学常数的提取 .<6'*XR 4. 光学薄膜设计优化方法 /=KEM gI? 4.1 参考波长与g m2Wi "X(I_ 4.2 四分之一规则 3GXmyo:o$ 4.3 导纳与导纳图 &Vg)/t; 4.4 斜入射光学导纳 ^C;ULUn3 4.5 光学薄膜设计的进展 'Ge8l%p 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Y7 e1%,$v 4.6.1 优化目标设置 "1hFx=W+\ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Q=^TKsu 4.6.3 膜层锁定和链接 ](z*t+"> 5. Essential Macleod中各个模块的应用 *Q;?p
hr 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 m|PJwd6 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 A#]78lR 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 e,l-}=5*P 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 4C9k0]k2 5.5 如何在Function中编写脚本 _Pn
1n 6. 光学薄膜系统案例 7~VDk5Z6 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 M/YS%1 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Dc0CQGx9b 6.3 Stack应用范例说明 i.e4<|{ 7. 薄膜性能分析 @E=77Jn[px 7.1 电场分布 Y$W)JWMY` 7.2 公差与灵敏度分析 Lg|]|,%e 7.3 反演工程 *Z3b6X'e 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 -6#
_ t 8. 真空技术 Sea6xGdq 8.1 常用真空泵介绍 2 e&M/{ 8.2 真空密封和检漏 F:LrQu 9. 薄膜制备技术 Am#Pa,g 9.1 常见薄膜制备技术 >txeo17Ba\ 10. 薄膜制备工艺 Tj!rAMQk 10.1 薄膜制备工艺因素 wM!dz& 10.2 薄膜均匀性修正技术 ]aYuBoj 10.3 光学薄膜监控技术 (SByN7[gb 11. 激光薄膜 G'{&*]Z\: 11.1 薄膜的损伤问题 rW`l1yi*$ 11.2 激光薄膜的制备流程 TpxAp',#7 11.3 激光薄膜的制备技术 Ij:yTu 12. 光学薄膜特性测量 6u{%jSA>D\ 12.1 薄膜光谱测量 d1 lxz?r 12.2 薄膜光学常数测量 @%r"7%tq> 12.3 薄膜应力测量 Fm+V_.H/; 12.4 薄膜损伤测量 ,?wxW 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] {5c]\{O?[
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] Au*1-
内容简介 }Zfi/ ^0U Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 z<8VJZd 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 N\Ab0mDOV. 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Op hD_^ %I@vM s^
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ~iq=J5IN# $}=r45e0K 目录 K+P a b ? Preface 1 )*aAkM 内容简介 2 3!i{4/ 目录 i x\YVB',h 1 引言 1 ^grDP*;W 2 光学薄膜基础 2 7yOBxb 2.1 一般规则 2 Jv!f6*&< 2.2 正交入射规则 3 N[N4!k )!$ 2.3 斜入射规则 6 kH4m6p
2.4 精确计算 7 *?+2%zP 2.5 相干性 8 (*\y 2.6 参考文献 10 =FfR?6 ~ 3 Essential Macleod的快速预览 10 (iht
LFp 4 Essential Macleod的特点 32 +P.JiH`\= 4.1 容量和局限性 33 VREDVLQT 4.2 程序在哪里? 33 t<%+))b
4.3 数据文件 35 "+hUt 4.4 设计规则 35 )M8@|~~ 4.5 材料数据库和资料库 37 ^!x qOp! 4.5.1材料损失 38 |7!B k$(vA 4.5.1材料数据库和导入材料 39 =>7czw:S1 4.5.2 材料库 41 m3XT8F*& 4.5.3导出材料数据 43 XnRm9% 4.6 常用单位 43 UU '9 4.7 插值和外推法 46 7mL1$i6= 4.8 材料数据的平滑 50 SKGnx 4.9 更多光学常数模型 54 kH=qJ3Z 4.10 文档的一般编辑规则 55 M{p9b E[j 4.11 撤销和重做 56 1[\I9dv2 4.12 设计文档 57 WN o+% 4.10.1 公式 58 LN9.Q'@r? 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "@rHGxK 4.10.3 沉积密度 59 (U:6vk3Q 4.10.4 平行和楔形介质 60 MPLeqk$; 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 2~hQ 4.10.4 性能 61 D3y4e8+Z' 4.10.5 保存设计和性能 64 "WH
&BhQYD 4.10.6 默认设计 64 `0-i>> 4.11 图表 64 V=c?V/pl 4.11.1 合并曲线图 67 epcvwM/A 4.11.2 自适应绘制 68 M`xI N~ 4.11.3 动态绘图 68 p$<){,R 4.11.4 3D绘图 69 tR_DN 4.12 导入和导出 73 &09G9G snQ 4.12.1 剪贴板 73 :)Da^V 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 4 &0MB>m 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 E&Sr+D aPD 4.13 背景 77 B0^:nYko 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 m3|l-[!OA" 4.15 生成Rugate 84 4ZB]n,pfT 4.16 参考文献 91 Kc+9n%sp 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 <iM}p^jX9 5.1 Jobs 92 Gz7,g
Y 5.2 创建一个新Job(工作) 93 H-8_&E?6m 5.3 输入材料 94 ~u r}6T 5.4 设计数据文件夹 95 51'V[tI;8 5.5 默认设计 95
.L^F4 6 细化和合成 97 " pL5j 6.1 优化介绍 97 }RQ'aeVl( 6.2 细化 (Refinement) 98 xww\L
&y 6.3 合成 (Synthesis) 100 (AHTv8 6.4 目标和评价函数 101 q'jInwY|x 6.4.1 目标输入 102 sO)!}#,
6.4.2 目标 103 YW"nPZNPy~ 6.4.3 特殊的评价函数 104 XOEf," 6.5 层锁定和连接 104 vQ[ TcV 6.6 细化技术 104 4n%|h-!8 6.6.1 单纯形 105 )7WLbj!M 6.6.1.1 单纯形参数 106 7s;*vd> 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 u#0EZ2># 6.6.2.1 Optimac参数 108 H)K.2Q 6.6.3 模拟退火算法 109 /q^_
'Lp 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ua+Us"M3} 6.6.4 共轭梯度 111 TaZlfe5z 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 I2?g'tz 6.6.5 拟牛顿法 112 Dj
w#{WR 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 07Oagq( 6.6.6 针合成 113 %3q7i`AZ 6.6.6.1 针合成参数 114 GGFrV8 6.6.7 差分进化 114
kb'l@d#E 6.6.8非局部细化 115 T"E%;'(cp) 6.6.8.1非局部细化参数 115 dz?Ey~;M 6.7 我应该使用哪种技术? 116 5_SxX@fW% 6.7.1 细化 116 ]kH8T' 6.7.2 合成 117 l{.
XhB 6.8 参考文献 117 sA+( |cEh 7 导纳图及其他工具 118 S|_lbMZM 7.1 简介 118 D*8oFJub 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 G)%r|meKGB 7.2.1 四分之一波长规则 119 #}8gHI-9% 7.2.2 导纳图 120 K?V'
?s 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 YTfMYH=} 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 j7C&&G q 7.5 斜入射导纳图 141 QB7^8O!< 7.6 对称周期 141 a<Ps6' 7.7 参考文献 142 vFK(Dx 8 典型的镀膜实例 143 5I5#LQv0 8.1 单层抗反射薄膜 145 q)]S:$?BT 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +VHoYEW 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 _u;34H&/ 8.4 W-膜层 148 0f,Ii_k bT 8.5 V-膜层 149 3L;&MG= 8.6 V-膜层高折射基底 150 M_\)<a(8 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 `R:HMO[ow 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 "R-Pe\W 8.9 四层抗反射薄膜 153 TzsNhrU{ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 >8DZj&j 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 M\=/i\- 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 YuzgR;Z 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 0,m@BsK 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 tVAH\*a,/ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 (M,*R
v 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 2tdr1+U?g 8.17 1/4波长堆栈 162 N#vV; 8.18 陷波滤波器 163 .T7S1C $HP 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Fx@@.O6 8.20 褶皱 165 ],Y+|uX-> 8.21 消偏振分光器1 169 )>WSuf
j 8.22 消偏振分光器2 171 M"z3F!-j 8.23 消偏振立体分光器 172 ]q@W(\I 8.24 消偏振截止滤光片 173 uJ%XF*> _D 8.25 立体偏振分束器1 174 qF4pTQf 8.26 立方偏振分束器2 177 .KE2sodq 8.27 相位延迟器 178 |FZIUS{] 8.28 红外截止器 179 'U4@Sax, 8.29 21层长波带通滤波器 180 SWMi+) 8.30 49层长波带通滤波器 181 c`!8!R 8.31 55层短波带通滤波器 182 \oAxmvt 8.32 47 红外截止器 183 LF_am*F 8.33 宽带通滤波器 184 M1=y-3dW3 8.34 诱导透射滤波器 186 -wn(J5NnR 8.35 诱导透射滤波器2 188 ?1/wl;=fm 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 OEj%cB! 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 9rQw~B<S 8.35 增益平坦滤波器 193
ScTeh 8.38 啁啾反射镜 1 196 kI#yW! 8.39 啁啾反射镜2 198 c!>",rce 8.40 啁啾反射镜3 199 F7qQrE5bl 8.41 带保护层的铝膜层 200 8nHFNOv6 8.42 增加铝反射率膜 201 X5Ff2@."y| 8.43 参考文献 202 EyPF'|Qtn 9 多层膜 204 ~JxAo\2i 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 rTLo6wI 9.2 内部透过率 204 aG/L'weR 9.3 内部透射率数据 205 St~a/Lq6 9.4 实例 206 hS:j$je 9.5 实例2 210 YNWAef4 9.6 圆锥和带宽计算 212 gAViwy9{ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 FQ6{NMz,h 10 光学薄膜的颜色 216 9Y-6e0B: 10.1 导言 216 \j3XT} 10.2 色彩 216 :ODG]-QF 10.3 主波长和纯度 220 'Gds?o8 10.4 色相和纯度 221 $sR-J'EE! 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 9x9~u8j 10.6 色差 226 7"Iagrgw 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 +b6kU{ 10.8 颜色渲染指数 234 4?9cyv4H 10.9 色差计算 235 ,mW-O!$3W 10.10 参考文献 236 V61.UEN 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 h"5!puN+ 11.1 短脉冲 238 f1UGDC<p9 11.2 群速度 239 /J0ctJ2k 11.3 群速度色散 241 # ~T
KC|G 11.4 啁啾(chirped) 245 \Z%V)ZRi= 11.5 光学薄膜—相变 245 q(cSHHv+ 11.6 群延迟和延迟色散 246 h$eVhN&Vv 11.7 色度色散 246 !]z6?kUK 11.8 色散补偿 249 EkE U}2 11.9 空间光线偏移 256 $f]dL}; 11.10 参考文献 258 8]-c4zK 12 公差与误差 260 p6e9mSs 12.1 蒙特卡罗模型 260 gXI8$W> 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 V57tn6>b 12.2.1 误差工具 267 pJ 7="n 12.2.2 灵敏度工具 271 .kkrU 12.2.2.1 独立灵敏度 271 vD*9b.* 12.2.2.2 灵敏度分布 275 +HOHu*D 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 v&i,}p^M5 12.3 参考文献 276 -YHyJs-bU 13 Runsheet 与Simulator 277 ~)&im.Q4 13.1 原理介绍 277 '
;PHuMY#X 13.2 截止滤光片设计 277 X0QLT:J b 14 光学常数提取 289 c_YP#U 14.1 介绍 289 $"G=r(MW 14.2 电介质薄膜 289 4(FEfde= 14.3 n 和k 的提取工具 295 >m;*Zk` 14.4 基底的参数提取 302 ]aF!0Fln~ 14.5 金属的参数提取 306 RRH[$jk 14.6 不正确的模型 306 /}=Bi- 14.7 参考文献 311 9:tn!<^=I 15 反演工程 313 }yW*vy6` 15.1 随机性和系统性 313 YZH&KGY 15.2 常见的系统性问题 314 8hx 3pvmk 15.3 单层膜 314 %+,7=Wt- 15.4 多层膜 314 B Ctm05 15.5 含义 319 zU1[+JJY"{ 15.6 反演工程实例 319 Hkck=@>8H* 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 {a `#O9 15.6.2 反演工程提取折射率 327 S=bdue 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 )HN,A z" 16.1 光学性质的热致偏移 329 ') -Rv]xe 16.2 应力工具 335 x.OCE` 16.3 均匀性误差 339 Os# V=P 16.3.1 圆锥工具 339 m|5yET 16.3.2 波前问题 341 L93KsI 16.4 参考文献 343 7CKh?> 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 c<gvUVHIxR 17.1 引言 345 {tlt5p!4 17.2 操作数 345 ;%H/^b.c 18 如何在Function中编写脚本 351 sC=fXCGW\p 18.1 简介 351 Y79{v nlGk 18.2 什么是脚本? 351 17nONhh 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 mSu1/?PS 18.4 基础 352 psHW(Z8G 18.4.1 Classes(类别) 352 C/{tvY /o 18.4.2 对象 352 CQ+WBTiC 18.4.3 信息(Messages) 352 5|E_ ,d!v 18.4.4 属性 352 ;ESuj'*t 18.4.5 方法 353 3:;2Av2(X. 18.4.6 变量声明 353 !VJ5(b 18.5 创建对象 354 #6%9*Rh 18.5.1 创建对象函数 355 eviv, 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 fq"<= 18.5.3 丢弃对象 356 rz@;Zn 18.5.4 总结 356 C/w!Y)nB= 18.6 脚本中的表格 357 xxlYn9ke 18.6.1 方法1 357 lQolE P.pc 18.6.2 方法2 357 .Y"H{|]Mnh 18.7 2D Plots in Scripts 358 ^Cs5A0xo#s 18.8 3D Plots in Scripts 359 OEN!~-u 18.9 注释 360 ;
iK9'u 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 :i4>&4j 18.11 一个更高级的脚本 362 HJn 18.12 <esc>键 364 3 oG5E"G 18.13 包含文件 365 O#e' .n!rI 18.14 脚本被优化调用 366 <opBOZ
d 18.15 脚本中的对话框 368 W\tSXM-Hg 18.15.1 介绍 368 ]i3 1@O 18.15.2 消息框-MsgBox 368 G:]w
UC\ 18.15.3 输入框函数 370 x-:a5Kz! 18.15.4 自定义对话框 371 PV*U4aP 18.15.5 对话框编辑器 371 u5,\Kz 18.15.6 控制对话框 377 q~^qf 18.15.7 更高级的对话框 380 @GB~rfB[ 18.16 Types语句 384 kAEm#oz=g 18.17 打开文件 385 j5,vSh~q;' 18.18 Bags 387 0t-!6 18.13 进一步研究 388 39w|2%(O. 19 vStack 389 :CQ-?mT^LA 19.1 vStack基本原理 389 c:/H}2/C 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 se)vi;J7 K 19.3 五棱镜 393 2\Vzfca 19.4 光束距离 396 MmjeFv 19.5 误差 399 z4snH%q 19.6 二向分色棱镜 399 [ET03 nZ 19.7 偏振泄漏 404 , 8NY<sFh 19.8 波前误差—相位 405 a|*{BlY 19.9 其它计算参数 405 ~"E@do(" 20 报表生成器 406 ~f[AEE~,s+ 20.1 入门 406 bN6FhKg| 20.2 指令(Instructions) 406 E6{|zF/3' 20.3 页面布局指令 406 Sc!{
o!9\ 20.4 常见的参数图和三维图 407 ;$Eg4uX 20.5 表格中的常见参数 408 poqcoSL"} 20.6 迭代指令 408 a)+;<GZ~ 20.7 报表模版 408 /e^q>>z 20.8 开始设计一个报表模版 409 <5s51b < 21 一个新的project 413 t,*hxzD" 21.1 创建一个新Job 414 f_*Bd.@ 21.2 默认设计 415 " .9b}} 21.3 薄膜设计 416 e B`7C"Z 21.4 误差的灵敏度计算 420 ohFUy}y 21.5 显色指数计算 422 TwlrncK* 21.6 电场分布 424 >Cb[ 后记 426 D0(%{S^ ,;aELhMZ mCa[? 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 LRqBP|bjCD d]JiJgfa% 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] KaJCfu yp #K|:BS 目 录 [xF (t @p ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Pg]&^d& |