上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 =ab}.dWC 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 x^BBK' 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 )\G#[Pc7 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 x%&V!L 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ohk =7d.' [attachment=120542] '|R|7nQAj 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 p?nVPTh 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 M
-TK 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。
ond/e&1 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 sOmYQ{R 1. Essential Macleod软件介绍
7?s>u937 1.1 介绍软件 &LYZQ?| 1.2 创建一个简单的设计 \v Go5` 1.3 绘图和制表来表示性能
Y7HWf 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 rtz(Jt{< 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) H;`@SJBf 1.6 特定设计的公式技术 0nAS4Az 1.7 交互式绘图 5Z{[.&x 2. 光学薄膜理论基础 HtlXbzN%) 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 (ol 3vt 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4 @h6|= 3. 材料管理 WxdYvmp6z[ 3.1 材料模型 u#QQCgrs 3.2 介质薄膜光学常数的提取
8~7EWl 3.3 金属薄膜光学常数的提取 r38CPdE;} 3.4 基板光学常数的提取 = 8n*%NC 4. 光学薄膜设计优化方法 )`a R?_ 4.1 参考波长与g XUWza=BR" 4.2 四分之一规则 }T6jQ:?@ 4.3 导纳与导纳图 <JlKtR&nSo 4.4 斜入射光学导纳 5UqCRz<,R 4.5 光学薄膜设计的进展 #cA}B
L!3 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 3ul 4.6.1 优化目标设置 ^?,/_ 3 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) u:k#1Nn! 4.6.3 膜层锁定和链接 y}|zH 5. Essential Macleod中各个模块的应用 rYT3oqpfT 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 SU1,+7" 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ,Tpds ^ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 =i.[|g" 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 SU:Cm:$ 5.5 如何在Function中编写脚本 _ge3R3 6. 光学薄膜系统案例 v/)dsSNZ0u 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 TE/2}XG) 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 N$.''D?7D 6.3 Stack应用范例说明 =,sMOJc> 7. 薄膜性能分析 5(,WN 7.1 电场分布 ms~ mg: 7.2 公差与灵敏度分析 w>#~_x,` 7.3 反演工程 UO</4WJ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 (FBKP#x)^ 8. 真空技术 xi-^_I 8.1 常用真空泵介绍 ]3%Z 8.2 真空密封和检漏 5}1c Np6@ 9. 薄膜制备技术 Yx,
9.1 常见薄膜制备技术 o zv><e# 10. 薄膜制备工艺 sb;81?| 10.1 薄膜制备工艺因素 z}Xn>-N- 10.2 薄膜均匀性修正技术 m'Wz0b^BO 10.3 光学薄膜监控技术 7D4P=$UJp 11. 激光薄膜 9NVe>\s_ 11.1 薄膜的损伤问题 D\>CEBt 11.2 激光薄膜的制备流程 #lNi\Lw+j 11.3 激光薄膜的制备技术 #;H+Kb5O 12. 光学薄膜特性测量 }9jy)gF*e 12.1 薄膜光谱测量 7`
&K=( . 12.2 薄膜光学常数测量 [CJ&Yz Ji 12.3 薄膜应力测量 |0dmdrKD 12.4 薄膜损伤测量 7\eN8+ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] 59IxY
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有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] !XQG1!|ww
内容简介 _yumUk-QW Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /`3<@{D 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 nUD)G<v 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 B<x)^[ <v Y;4nIWe
JL
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 4l560Fb'U z`]'~ 目录 C|8.$s< Preface 1 5Z,^46J 内容简介 2 }>>lgW>n,; 目录 i x~rIr#o 1 引言 1 ggIz)</ 2 光学薄膜基础 2 xQ=[0!p+ 2.1 一般规则 2 iZyhj%# 2.2 正交入射规则 3 2'$p( 2.3 斜入射规则 6 4Bsx[~ u& 2.4 精确计算 7 8HS1^\~(6l 2.5 相干性 8
3XjM@D 2.6 参考文献 10 9l5l"Wj& 3 Essential Macleod的快速预览 10 ?KDI'>"-v 4 Essential Macleod的特点 32 *W~+Nho.A 4.1 容量和局限性 33 GcmN40 4.2 程序在哪里? 33 fH-V!QYGF 4.3 数据文件 35 /~Zxx}<; 4.4 设计规则 35 GSj04-T" 4.5 材料数据库和资料库 37 $yS7u 4.5.1材料损失 38 BuII|j 4.5.1材料数据库和导入材料 39 A8Tq2]"* S 4.5.2 材料库 41 z-<U5-' 4.5.3导出材料数据 43 yu"enA 4.6 常用单位 43 [R:\ 4.7 插值和外推法 46 xcz[w}{eEq 4.8 材料数据的平滑 50 k \rzvo=U 4.9 更多光学常数模型 54 7m3|2Qv 4.10 文档的一般编辑规则 55 cD5c&+,&I 4.11 撤销和重做 56 $Kw)BnV 4.12 设计文档 57 oju)8H1o# 4.10.1 公式 58 MM8@0t'E 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %5.aC|^} 4.10.3 沉积密度 59 y8=p;7DY 4.10.4 平行和楔形介质 60 ocOzQ13@Y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~$xLR/{y 4.10.4 性能 61 %6r MS} 4.10.5 保存设计和性能 64 FaS}$-0 4.10.6 默认设计 64 A<-Prvryt 4.11 图表 64 ernZfd{H 4.11.1 合并曲线图 67 baJ(Iy$XT 4.11.2 自适应绘制 68 c4Q{ 4.11.3 动态绘图 68 =xzDpn>f 4.11.4 3D绘图 69 }NX9"}/ 4.12 导入和导出 73 ~a@O1MB 4.12.1 剪贴板 73 e_mUO" 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 wV\;,(<x=% 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ?S&pq? 4.13 背景 77 iEd%8 F h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 [>+}2-# 4.15 生成Rugate 84 Np$peT[ 4.16 参考文献 91 {|)u).n| 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 MLD-uI10{ 5.1 Jobs 92 ch2Q k8 5.2 创建一个新Job(工作) 93 1e=<df 5.3 输入材料 94 qm30,$\c`~ 5.4 设计数据文件夹 95 ^@W98_bd; 5.5 默认设计 95 HzADz%~ 6 细化和合成 97 fwvPh&U& 6.1 优化介绍 97 <
H1+qN=]` 6.2 细化 (Refinement) 98 > Y7nq\ 6.3 合成 (Synthesis) 100 Twscc"mK 6.4 目标和评价函数 101 Z.9?u; 6.4.1 目标输入 102 ;Y:_}kN8_ 6.4.2 目标 103 ym*,X@Qg^ 6.4.3 特殊的评价函数 104 ;^QG>OP$ 6.5 层锁定和连接 104 WxNPAJ6YH 6.6 细化技术 104 PbR6>' 6.6.1 单纯形 105 Vs>/q:I 6.6.1.1 单纯形参数 106 Z<7FF}i 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 |
CNsa 6.6.2.1 Optimac参数 108 &zVF!xNy& 6.6.3 模拟退火算法 109 rL+K Sb 6.6.3.1 模拟退火参数 109 hAHZN^x& 6.6.4 共轭梯度 111 YS$?Wz 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >3R%GNw 6.6.5 拟牛顿法 112 P38D-fLq 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 OKDBzl 6.6.6 针合成 113 M,0@@: 6.6.6.1 针合成参数 114 Qg
dHIMY 6.6.7 差分进化 114 ^QX3p,Y 6.6.8非局部细化 115 x)'4u6;d 6.6.8.1非局部细化参数 115 GWs[a$| 6.7 我应该使用哪种技术? 116 C)2Waj} 6.7.1 细化 116 f< A@D"m/ 6.7.2 合成 117 8"2
Y$*)( 6.8 参考文献 117 k0;N D 7 导纳图及其他工具 118
T~I5W=y 7.1 简介 118 3q*y~5&I 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 a<CN2e_Z 7.2.1 四分之一波长规则 119 -7_`6U2" 7.2.2 导纳图 120 d
]LF5*i 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "tuBfA+f 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 &V;^xMO! 7.5 斜入射导纳图 141 N 3IF j 7.6 对称周期 141 &h=O;?dO 7.7 参考文献 142 ^WDAW#f*< 8 典型的镀膜实例 143 cU\Er{
k 8.1 单层抗反射薄膜 145 'I|A*rO 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 lWj|7 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 w_30g6tA 8.4 W-膜层 148 /]=dPb% 8.5 V-膜层 149 G([8Q8B4+ 8.6 V-膜层高折射基底 150 J 00<NRxj" 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 N>z<v\` 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 v,t&t9}/ 8.9 四层抗反射薄膜 153 w,L P M+ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 9W$d'IA 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 (P;z*
"q 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 G{*m] 0Q 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 "kC uCc 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ns_5|*' 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Kg0Vbzvb 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ]^,<Ez 8.17 1/4波长堆栈 162 @=o1q=5@8 8.18 陷波滤波器 163 a\an 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 0RY{y n3 8.20 褶皱 165 i3I'n* 8.21 消偏振分光器1 169 zNT~-
8.22 消偏振分光器2 171 ~YO-GX( 8.23 消偏振立体分光器 172 [; M31b3 8.24 消偏振截止滤光片 173 F"O{eK0T 8.25 立体偏振分束器1 174 V$u~}]z 8.26 立方偏振分束器2 177 q1j<p)( 8.27 相位延迟器 178 aVv$k 8.28 红外截止器 179 M/GQQG; 8.29 21层长波带通滤波器 180 J%']t$AR 8.30 49层长波带通滤波器 181 }>vf(9sF` 8.31 55层短波带通滤波器 182 j&(2ze:=*$ 8.32 47 红外截止器 183 #~um F%# 8.33 宽带通滤波器 184 &0*l=!:G^ 8.34 诱导透射滤波器 186 '0g1v7Gx 8.35 诱导透射滤波器2 188 KE\p|X i 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 WN9< 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 u9>zC QRO 8.35 增益平坦滤波器 193 910Ym!\{: 8.38 啁啾反射镜 1 196 IWeQMwg 8.39 啁啾反射镜2 198 hQ&S*f&=' 8.40 啁啾反射镜3 199 |fdr\t#'~ 8.41 带保护层的铝膜层 200 P 3uAS 8.42 增加铝反射率膜 201 =jvM$ 8.43 参考文献 202 }IvJIr 9 多层膜 204 gd'#K~? 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 #*uSYGdc 9.2 内部透过率 204 ~S}>|q$ 9.3 内部透射率数据 205 <1[W Nj2[ 9.4 实例 206 gwk$|aT@ 9.5 实例2 210 $Z)Dvy| 9.6 圆锥和带宽计算 212 c;_GZ}8 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 .J' 8d"+ 10 光学薄膜的颜色 216 @AUx%:}0Y: 10.1 导言 216 dw,Nlf~*0 10.2 色彩 216 Bb[%?~
E! 10.3 主波长和纯度 220 qq}EXq ^ 10.4 色相和纯度 221 %C=^
h1t% 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 8[i#x|`g 10.6 色差 226 nd
'K4q 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 KZO! 10.8 颜色渲染指数 234 7"F
w8;k 10.9 色差计算 235 =W)Fa6P3j( 10.10 参考文献 236 C5QPt 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 mfOr+ 11.1 短脉冲 238 "-xm+7 11.2 群速度 239 >nmby|XtW 11.3 群速度色散 241 FRI<A8 11.4 啁啾(chirped) 245 Tz .! 11.5 光学薄膜—相变 245 3/8o)9f. 11.6 群延迟和延迟色散 246
r(pp = 11.7 色度色散 246 0-"ps ]X 11.8 色散补偿 249 vPEL'mw/3# 11.9 空间光线偏移 256 NGB%fJ 11.10 参考文献 258 x8%Q TTY 12 公差与误差 260 7k{Oae\$ 12.1 蒙特卡罗模型 260 Z"#ysC 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 uy\<t 12.2.1 误差工具 267 N8(xz-6 12.2.2 灵敏度工具 271 kRNr`yfN 12.2.2.1 独立灵敏度 271 {:40Jf
12.2.2.2 灵敏度分布 275 I1U {t 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 B1m@ 12.3 参考文献 276 r AMnM>` 13 Runsheet 与Simulator 277 `),7*gn*) 13.1 原理介绍 277 /3:R{9S% 13.2 截止滤光片设计 277 Ous[{" -J 14 光学常数提取 289 PCnE-$QH 14.1 介绍 289 W"4E0!r 14.2 电介质薄膜 289 d.tjLeY 14.3 n 和k 的提取工具 295 Z@&_ T3M 14.4 基底的参数提取 302 ;[WW,,!Y 14.5 金属的参数提取 306 fI[tU(x 14.6 不正确的模型 306 %lz \w{ 14.7 参考文献 311 9Q-/Yh 15 反演工程 313 ]]@jvU_?kS 15.1 随机性和系统性 313 .6SdSB^M 15.2 常见的系统性问题 314 4]nU%`Z1w 15.3 单层膜 314 7a0ZI 15.4 多层膜 314 K"Vv= 15.5 含义 319 c#nFm&}dm 15.6 反演工程实例 319 HZCEr6}( 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 z=<T[Uy 15.6.2 反演工程提取折射率 327 s `xp6\$ 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 1B=vrGq 16.1 光学性质的热致偏移 329 3;~1rw=$< 16.2 应力工具 335 *MW)APw= 16.3 均匀性误差 339 /pgfa-< 16.3.1 圆锥工具 339 sR,]eo<p& 16.3.2 波前问题 341 qu BTRW9 16.4 参考文献 343 8#'<SB 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 rxC EOG 17.1 引言 345 aUSxy8% 17.2 操作数 345 @gENv~m<OI 18 如何在Function中编写脚本 351 X}p#9^%N 18.1 简介 351 Xhtc0\0"( 18.2 什么是脚本? 351 .Br2^F 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 }
IFZ$Y 18.4 基础 352 ]B=B@UO@. 18.4.1 Classes(类别) 352 "o#"u[W, 18.4.2 对象 352 G& cm5 18.4.3 信息(Messages) 352 =$Sf]L 18.4.4 属性 352 5tHv'@ 18.4.5 方法 353 fJLlz$H 18.4.6 变量声明 353 LSlaz 18.5 创建对象 354 LP_d}ve 18.5.1 创建对象函数 355 6=A2Y:8 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 :Gqyj_|< 18.5.3 丢弃对象 356 5p"n g8nR 18.5.4 总结 356 <M nzR 18.6 脚本中的表格 357 ESiNW&u2 18.6.1 方法1 357 l>h%J,W 18.6.2 方法2 357 >4}+\ Q`S 18.7 2D Plots in Scripts 358 ur={+0
y 18.8 3D Plots in Scripts 359 X<\^*{ 18.9 注释 360 iq,qf)BY.| 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 (*7edc"F 18.11 一个更高级的脚本 362 #9EpQc[4 18.12 <esc>键 364 'cy35M 18.13 包含文件 365 nf+8OH7 18.14 脚本被优化调用 366 NZ9=hI;iM 18.15 脚本中的对话框 368 J)A1`(x&T 18.15.1 介绍 368 "6^tG[G% 18.15.2 消息框-MsgBox 368 0z&3jWWY@ 18.15.3 输入框函数 370 dr^pzM!N 18.15.4 自定义对话框 371 8U0y86q>)E 18.15.5 对话框编辑器 371 (S0MqX* 18.15.6 控制对话框 377 v3Tr6[9 18.15.7 更高级的对话框 380 dMw7Lp& 18.16 Types语句 384 +`kfcA#pi 18.17 打开文件 385 5!}xl9D 18.18 Bags 387 5X\3y4 18.13 进一步研究 388 =+~e44!~D 19 vStack 389 !cE>L~cza 19.1 vStack基本原理 389 X/lLM` 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 hEsCOcEG 19.3 五棱镜 393 \
lP
c,8) 19.4 光束距离 396 LkMhS0?(T 19.5 误差 399 ]p(+m_F 19.6 二向分色棱镜 399 D#x D-c 19.7 偏振泄漏 404 +
htTrHjt 19.8 波前误差—相位 405 %*e6@Hm 19.9 其它计算参数 405 E:4`x_~qQ 20 报表生成器 406 N/DcaHFYo 20.1 入门 406 p&B98c 20.2 指令(Instructions) 406 Y4){{bEp 20.3 页面布局指令 406 }+#-\a2 20.4 常见的参数图和三维图 407 i&-g 0
20.5 表格中的常见参数 408 UMm<HQ 20.6 迭代指令 408 Y"D'|i 20.7 报表模版 408 'I($IM 20.8 开始设计一个报表模版 409 qw&Wfk\} 21 一个新的project 413 ]7O)iq% 21.1 创建一个新Job 414 apF!@O^}y 21.2 默认设计 415 cn v4!c0 21.3 薄膜设计 416 l^:m!SA_ 21.4 误差的灵敏度计算 420 Km8btS]n 21.5 显色指数计算 422 -_
.f&l8 21.6 电场分布 424 vI{JBWE,S 后记 426 8;P8CKe
S9<J\`FG IQMk : 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ^HLi1w| ?Bq"9*q 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] l2+qP{_4 (Z=ziopDE 目 录 i?z3!`m ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 v{i'o4 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 8*6vX! Z| 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 sVZb[|zSri 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 !
o:m*: 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4
`Z @^W 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ?1?^>M 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ^5qX+!3r{ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 *SzP7]1m 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 @(JcM= 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 :J@q
Xa 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Vpt)?];P 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 _K)B 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9.qI hg 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 C.C)&&|X 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 `FHHh 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 )@ZJ3l. S]KcAz( fX 价 格:400元
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