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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 S}Wj.l+F  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 $'CS/U`E}  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 "\Dqtr w  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 pWE(?d_M{G  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 lGahwn:  
[attachment=120542] mN{H^  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 7)D[}UXz  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 38-kl,Vw  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 7p'pz8n`X  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 !lg_zAV  
1. Essential Macleod软件介绍 KU "+i8"  
1.1 介绍软件 PSAEW.L  
1.2 创建一个简单的设计 9E5*%Hu_  
1.3 绘图和制表来表示性能 Zt41fPQ  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 m==DBh  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 5/6Jq  
1.6 特定设计的公式技术 j/oc+ M^  
1.7 交互式绘图 _)pOkS  
2. 光学薄膜理论基础 v" #8^q  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 VXk[p  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 3bGU;2~}  
3. 材料管理 ]4c*Nh%8  
3.1 材料模型 Vq#0MY)2gS  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 d\Up6F  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 *>aVU'  
3.4 基板光学常数的提取 Cs"ivET  
4. 光学薄膜设计优化方法 ;L76V$&  
4.1 参考波长与g )RFY2 }  
4.2 四分之一规则 Ot=nKdP}D  
4.3 导纳与导纳图 N 49{J~  
4.4 斜入射光学导纳 ci? \W6  
4.5 光学薄膜设计的进展 u-.5rH l  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 pIrL7Pb0  
4.6.1 优化目标设置 D)4#AI  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 6C"${}S F`  
4.6.3 膜层锁定和链接 KX\=wFbP)  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 3`3my=   
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Su@V5yz  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ae3 Gn }tf  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ulg=,+%r  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 0%rE*h9+  
5.5 如何在Function中编写脚本 :zIB3nT^  
6. 光学薄膜系统案例 ]GHw~s?  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 2sqH > fen  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 M?sTz@tqq  
6.3 Stack应用范例说明 2GigeN|1N  
7. 薄膜性能分析 Rbgy?8#9  
7.1 电场分布 mm!JNb9(  
7.2 公差与灵敏度分析 /i!/)]*-  
7.3 反演工程 T{3-H(-gA  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 I+ Qt5Ox  
8. 真空技术 jv29,46K  
8.1 常用真空泵介绍 /55 3v;l<  
8.2 真空密封和检漏 (3x2^M8  
9. 薄膜制备技术 AKLFUk  
9.1 常见薄膜制备技术 o<s~455m/  
10. 薄膜制备工艺 .db:mSrL  
10.1 薄膜制备工艺因素 1,P2}mYv  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6m(+X M S  
10.3 光学薄膜监控技术 {^:i}4ZRl  
11. 激光薄膜 +:C.G[+  
11.1 薄膜的损伤问题 HN;f~EQT  
11.2 激光薄膜的制备流程 _w <6o<@  
11.3 激光薄膜的制备技术 G!F_Q7|-  
12. 光学薄膜特性测量 nH?#_ 5F1  
12.1 薄膜光谱测量 ? R[GSS1  
12.2 薄膜光学常数测量 sx[mbKj<  
12.3 薄膜应力测量 0LHge7482  
12.4 薄膜损伤测量 SrdCLT8  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
Lnh'y`q  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
cE,,9M@^  
内容简介 apxq] ! `  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &oVZ2.O#(  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 rUB67ok*  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ZOJ7 ^g  
bC&xN@4  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
^!(tc=sr  
CfOhk  
目录 ~fpk`&nhe  
Preface 1 ))6iVgSE$  
内容简介 2 VRv.H8^{  
目录 i {4R;C~E8  
1  引言 1 2F,?}jJ.K  
2  光学薄膜基础 2 Es:oXA  
2.1  一般规则 2 y.Yni*xt/  
2.2  正交入射规则 3 $L]E< gWrP  
2.3  斜入射规则 6 ,UT :wpc^i  
2.4  精确计算 7 >hotkMX `3  
2.5  相干性 8 @A%\;o o  
2.6 参考文献 10 cbx( L8  
3  Essential Macleod的快速预览 10 w^ 8^0i-  
4  Essential Macleod的特点 32 ot^$/(W  
4.1  容量和局限性 33 Zr!CT5C5  
4.2  程序在哪里? 33 > lK:~~1  
4.3  数据文件 35 Ve\!:,(Y_  
4.4  设计规则 35 wqQrby<  
4.5  材料数据库和资料库 37 hya $Vp  
4.5.1材料损失 38 AT^MQvn  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]<o^Q[OL  
4.5.2 材料库 41 LaIH3!M3  
4.5.3导出材料数据 43 n]_<6{: U  
4.6  常用单位 43 _7-P8"m  
4.7  插值和外推法 46 `uqsYY`V  
4.8  材料数据的平滑 50 Z#_VxA>]v  
4.9 更多光学常数模型 54 R8u9tTW  
4.10  文档的一般编辑规则 55 J35[GZ';D  
4.11 撤销和重做 56 r}XsJ$  
4.12  设计文档 57 p@=B\A]  
4.10.1  公式 58 5AAPtZ\lH  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4 eP-yi  
4.10.3  沉积密度 59 z]Mu8  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ddeH-Z  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 A|0\ct  
4.10.4  性能 61 l$!g# ?w  
4.10.5  保存设计和性能 64 wArtg'=X  
4.10.6  默认设计 64 }mQh^  
4.11  图表 64 v0~*?m4  
4.11.1  合并曲线图 67 q;qY#wD@  
4.11.2  自适应绘制 68 X$$b:q  
4.11.3  动态绘图 68 G2_l}q~  
4.11.4  3D绘图 69 i<uk}  
4.12  导入和导出 73 JKYkS*.a}  
4.12.1  剪贴板 73 .:+&2#b  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Iqm QQ_KH  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ew6\Z$1c~  
4.13  背景 77 F5EsaF'e4  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 e^Lt{/  
4.15  生成Rugate 84 vZ2/>}!Z=  
4.16  参考文献 91 h*X u/aOg  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ePwoza  
5.1  Jobs 92 j[YO1q*  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 7S]akcT/  
5.3  输入材料 94 `Ot;KDz  
5.4  设计数据文件夹 95 km#Rh^  
5.5  默认设计 95 :k.C|V!W  
6  细化和合成 97 }Dc?Emb  
6.1  优化介绍 97 `!iVMTp  
6.2  细化 (Refinement) 98 g6T /k7a  
6.3  合成 (Synthesis) 100 roG f &  
6.4  目标和评价函数 101 ;b1*2-  
6.4.1  目标输入 102  D^JuL6U  
6.4.2  目标 103 aY@st]p  
6.4.3  特殊的评价函数 104 i\u m;\  
6.5  层锁定和连接 104 JRl`evTS  
6.6  细化技术 104 3XomnL{  
6.6.1  单纯形 105 9zK5Y+!  
6.6.1.1 单纯形参数 106 :raYt5n1,y  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 1K'.QRZMb9  
6.6.2.1 Optimac参数 108 F~_)auH  
6.6.3  模拟退火算法 109 Yv[j5\:x  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 X$4 5<oz  
6.6.4  共轭梯度 111 A#B6]j)  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 $s-HG[lX[  
6.6.5  拟牛顿法 112 L[FNr&  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 i=G.{.  
6.6.6  针合成 113 8 m T..23  
6.6.6.1 针合成参数 114 Kn<z<>vO  
6.6.7 差分进化 114 m"Y|xvIA  
6.6.8非局部细化 115 ?~>#(Q  
6.6.8.1非局部细化参数 115 JQ.w6aE  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 OCVF+D :  
6.7.1  细化 116 tag~SG`ov  
6.7.2  合成 117 :. ja~Q  
6.8  参考文献 117 ]B"YW_.x2  
7  导纳图及其他工具 118 4-:TQp(  
7.1  简介 118 GGR hM1II  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 E1e#E3Yq}s  
7.2.1  四分之一波长规则 119 oAgO 3x   
7.2.2  导纳图 120 M4:}`p=  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 p;VHg  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 `II/nv0jn  
7.5  斜入射导纳图 141 U0kEhMIIf  
7.6  对称周期 141 H/Fq'FsQB  
7.7  参考文献 142 \D37l_  
8  典型的镀膜实例 143 9"YOj_z  
8.1  单层抗反射薄膜 145 pkR+H|  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 *[eh0$  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 YQI&8~z  
8.4  W-膜层 148 ,^UNQO*{GI  
8.5  V-膜层 149 k*8 ld-O  
8.6  V-膜层高折射基底 150 pU|SUM  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 )./%/ _*K  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 FM3DJ?\L-  
8.9  四层抗反射薄膜 153 T53|*~u  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ~#b&UR  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155  {u}Lhv  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 mqg[2VTRP  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2vit{  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 |oSx*Gh  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 j<LDJi>O  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 8Jd\2T7h  
8.17  1/4波长堆栈 162 j'V# =vH  
8.18  陷波滤波器 163 t6u01r{~`  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 *$ihNX]YG  
8.20  褶皱 165 <XV\8Y+n  
8.21  消偏振分光器1 169 V+mTo^  
8.22  消偏振分光器2 171 >~kSe=Hsb4  
8.23  消偏振立体分光器 172 4$=Dq$4z  
8.24  消偏振截止滤光片 173 xsq+RBJi  
8.25  立体偏振分束器1 174 os]P6TFFX?  
8.26  立方偏振分束器2 177 0!c^pOq6  
8.27  相位延迟器 178 =jX'FNv#  
8.28  红外截止器 179 .I@jt?6X  
8.29  21层长波带通滤波器 180 g $\Z-!(  
8.30  49层长波带通滤波器 181 RQZ|:SvV  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ~ l'dpg  
8.32  47 红外截止器 183 v}v! hs Q  
8.33  宽带通滤波器 184 |d* K'+  
8.34  诱导透射滤波器 186 S?bG U8R5  
8.35  诱导透射滤波器2 188 a_UVb'z  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 .cTK\  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 n_Ht{2I  
8.35  增益平坦滤波器 193 m8q3Pp  
8.38  啁啾反射镜 1 196 |Go?A/'  
8.39  啁啾反射镜2 198 Xi]WDH \  
8.40  啁啾反射镜3 199 cC_L4  
8.41  带保护层的铝膜层 200 l@8UL</W  
8.42  增加铝反射率膜 201 ydCVG,"  
8.43  参考文献 202 @Fp-6J  
9  多层膜 204 A Z7  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 +`_I !  
9.2  内部透过率 204 Kp +Lk  
9.3 内部透射率数据 205 ?qeBgkL(B^  
9.4  实例 206 kMGK 8y  
9.5  实例2 210 OIK14D:  
9.6  圆锥和带宽计算 212 +UxhSFU  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 7a@%^G @!  
10  光学薄膜的颜色 216 9{?L3V!+r  
10.1  导言 216 [Yx)`e  
10.2  色彩 216 e>-a\g  
10.3  主波长和纯度 220 D@V1}/$UoN  
10.4  色相和纯度 221 etX &o5A  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 2 0Xqs,  
10.6 色差 226 HSk gS  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 x~Eg ax  
10.8  颜色渲染指数 234 :/N/u5.]  
10.9  色差计算 235 IR(6  
10.10  参考文献 236 4~Ptn/ g  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 biCX: m+_?  
11.1  短脉冲 238 LFsrqdzJ  
11.2  群速度 239 7Vf2Qx1_  
11.3  群速度色散 241 ceakTAB[  
11.4  啁啾(chirped) 245 -9XB.)\#  
11.5  光学薄膜—相变 245 sp4J%2b  
11.6  群延迟和延迟色散 246 xkIRI1*!  
11.7  色度色散 246 Vy-EY*r|  
11.8  色散补偿 249 oT7=  
11.9  空间光线偏移 256 H[ 6L!  
11.10  参考文献 258 olNgtSX  
12  公差与误差 260 uqy b  
12.1  蒙特卡罗模型 260 \#P>k;D  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 d, fX3  
12.2.1  误差工具 267 |=C&JA  
12.2.2  灵敏度工具 271 3/P# 2&jt  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 lW^bn(_gQ  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 EP.nVvuL  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 =yv_i]9AN  
12.3  参考文献 276 ~$1Zw&X  
13  Runsheet 与Simulator 277 {{b&l!  
13.1  原理介绍 277 ecK{+Z'G  
13.2  截止滤光片设计 277 5"4O_JQ  
14  光学常数提取 289 u~#QvA~]  
14.1  介绍 289 60KhwD1  
14.2  电介质薄膜 289 j9zK=eG  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ,wJ#0?  
14.4  基底的参数提取 302 I\JJ7/S`t  
14.5  金属的参数提取 306 pyEi@L1p  
14.6  不正确的模型 306 2ZMYA=[!  
14.7  参考文献 311 <eU28M?\  
15  反演工程 313 8}m bfu o1  
15.1  随机性和系统性 313 `=A*ei5  
15.2  常见的系统性问题 314 k r0PL)$  
15.3  单层膜 314 Mp:/[%9Fi  
15.4  多层膜 314 \%nFCK0  
15.5  含义 319 [#y/`  
15.6  反演工程实例 319 h+e Oe}  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 gxEa?QH  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 1eC1Cyw  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Si,[7um  
16.1  光学性质的热致偏移 329 6LUO  
16.2  应力工具 335 wB6 ILTu1  
16.3  均匀性误差 339 'p=5hsG  
16.3.1  圆锥工具 339 D9H(kk  
16.3.2  波前问题 341  lv_|ws  
16.4  参考文献 343 Nz`4q %+  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 O>)<w Ms`  
17.1  引言 345 I@VhxJh  
17.2  操作数 345 0-H!\IB  
18  如何在Function中编写脚本 351 WVc3C-h,  
18.1  简介 351 "(y",!U@  
18.2  什么是脚本? 351 >C"f'!oM,j  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Qq;` 9-&j  
18.4  基础 352 TRwlUC3hQ  
18.4.1  Classes(类别) 352 0HUSN_3F  
18.4.2  对象 352 aC0[OmbG  
18.4.3  信息(Messages) 352 >$=-0?.  
18.4.4  属性 352 :'aT 4  
18.4.5  方法 353 cstSLXD  
18.4.6  变量声明 353 &fJ92v?%^S  
18.5  创建对象 354 Qmxe*@{`  
18.5.1  创建对象函数 355 Jy)E!{#x  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355  6e,|HV  
18.5.3 丢弃对象 356  Ad)Po  
18.5.4  总结 356 ^R* _Q,o#  
18.6  脚本中的表格 357 aY8"Sw|4  
18.6.1  方法1 357 c|<*w[%C  
18.6.2  方法2 357 (4_7ICFI  
18.7 2D Plots in Scripts 358 -x~h.s,  
18.8 3D Plots in Scripts 359 WPVur{?<  
18.9  注释 360 Q3MG+@)S  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 `YTagUq7  
18.11  一个更高级的脚本 362 x\t)uM%  
18.12  <esc>键 364  |4uH  
18.13 包含文件 365 jR-`ee}y2  
18.14  脚本被优化调用 366 *Dr-{\9  
18.15  脚本中的对话框 368 '>[l1<d!G  
18.15.1  介绍 368 7Iu^ l4=2  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 OjxaA[$  
18.15.3  输入框函数 370 BrYU*aPW;  
18.15.4  自定义对话框 371 ,bT|:T@ny  
18.15.5  对话框编辑器 371 L3:dANG  
18.15.6  控制对话框 377 yM$@*od  
18.15.7  更高级的对话框 380 D Q7+  
18.16 Types语句 384 m&/{iCwp  
18.17 打开文件 385 %bo0-lnp  
18.18 Bags 387 C"bG?Mb  
18.13  进一步研究 388 vK2sj1Hzr  
19  vStack 389 (.Hiee43  
19.1  vStack基本原理 389 @y%4BU&>0  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 x`8rR;N!  
19.3  五棱镜 393 rU?sUm,ch  
19.4 光束距离 396 0r?975@A  
19.5 误差 399 pG?AwB~@n  
19.6  二向分色棱镜 399 %H=d_Nm{  
19.7  偏振泄漏 404 PW(4-H  
19.8  波前误差—相位 405 ConXP\M-  
19.9  其它计算参数 405 ]v=*WK  
20  报表生成器 406 >ZMB}pt`  
20.1  入门 406 v"M5';ZS>  
20.2  指令(Instructions) 406 E (DNK  
20.3  页面布局指令 406 &u5OL?>  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ^Rr0)4ns  
20.5  表格中的常见参数 408 _ndc^OG  
20.6  迭代指令 408 }*.S=M]y$  
20.7  报表模版 408 4yhan/zA  
20.8  开始设计一个报表模版 409 [fF0Qa-  
21  一个新的project 413 `.3!  
21.1  创建一个新Job 414 qEvHrsw},  
21.2  默认设计 415 r0ml|PX  
21.3  薄膜设计 416 '6l4MR$j&m  
21.4  误差的灵敏度计算 420 VC%{qal;q  
21.5  显色指数计算 422 IS *-MLi  
21.6  电场分布 424 Oax*3TD  
后记 426 [J0f:&7\  
@c&}\#;  
 8bQ\7jb  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 @<]sW*s  
D$C>ZF  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
nx #0*r}5  
ks92-%;:  
目  录 r!H'8O!  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 (S1c6~  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 BJGL &N  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 *'5 )CC  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 C:S*ju K  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 2aQR#lcv  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ?f@g1jJP  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 32y GIRV  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ?y1']GAo  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 8<BYAHY^  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 WZz8VF  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 >< <(6  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ,;3#}OGg  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297  y|r+<  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 }xZR`xP(  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =T_E]>FF9  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ^L}ICm_#  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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