上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 V5p^]To! 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 vz)R84 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 X"9N<)C 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 XpYd|BvW 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 YkE_7r(1 [attachment=120542] t/_\w" 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fg lN_ 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 *3]2vq 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Mp=T;Nz 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 l *{Bz5hc 1. Essential Macleod软件介绍 X,Rl&K\b" 1.1 介绍软件 C/QrkTi= 1.2 创建一个简单的设计 SurreD<x 1.3 绘图和制表来表示性能 JH u>\{ 8V 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 0FLCN!i1 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) @eDs)mY 1.6 特定设计的公式技术 lr[T+nQ 1.7 交互式绘图 fwmXIpteK 2. 光学薄膜理论基础
?!<Q8= 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |ICn/r~ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 mkfDDl2 GP 3. 材料管理 }/#*opcv 3.1 材料模型 T1R~^x1 3.2 介质薄膜光学常数的提取 We\i0zUU 3.3 金属薄膜光学常数的提取 ti$60Up 3.4 基板光学常数的提取 q/Vl>t 4. 光学薄膜设计优化方法 bg/=P>2 4.1 参考波长与g $|7=$~y 4.2 四分之一规则 KJv%t_4'F 4.3 导纳与导纳图 gK( G1 4.4 斜入射光学导纳 cr|]\ 4.5 光学薄膜设计的进展 3)L#V
. 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 z}B8&*> 4.6.1 优化目标设置 3,`M\#z%K 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) TvS<;0~K 4.6.3 膜层锁定和链接 +'+Nr< 5. Essential Macleod中各个模块的应用 _n!>*A! 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 G Y.iCub 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 I3b*sx$ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 4)>UTMF 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Nr+~3:3 5.5 如何在Function中编写脚本 p_%,JD 6. 光学薄膜系统案例 w<zzS:PF* 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7+}WU 4 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 GmE`YW 6.3 Stack应用范例说明 mlLqQ< 7. 薄膜性能分析 wnK6jMjkSf 7.1 电场分布 ZHUW1:qs 7.2 公差与灵敏度分析 HG< z,gE
2 7.3 反演工程 v=+3AW-|v 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 hOkn@F. 8. 真空技术 l'M/et{: 8.1 常用真空泵介绍 xK)<763q> 8.2 真空密封和检漏 b:r8r}49 9. 薄膜制备技术 xIW]e1pu=( 9.1 常见薄膜制备技术 Nd_A8H,&B 10. 薄膜制备工艺 S:Jg#1rww- 10.1 薄膜制备工艺因素 SIKaDIZ 10.2 薄膜均匀性修正技术 \jV2":[%c 10.3 光学薄膜监控技术 9;uH}j8sE 11. 激光薄膜 yPe9KN_ 11.1 薄膜的损伤问题 "KS"[i!3j 11.2 激光薄膜的制备流程 gmn b 11.3 激光薄膜的制备技术 vM]5IHqeE 12. 光学薄膜特性测量 :VWN/m 12.1 薄膜光谱测量 cH$(*k9%M 12.2 薄膜光学常数测量 #H<}xC2 12.3 薄膜应力测量 .qKfhHJ 12.4 薄膜损伤测量 W`c$2KS?DO 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] u"%D;
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] >R_m@$`
内容简介 8B-mZFXpK Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 1Y;.fZE 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &/2+'wCp5 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 a&2x;diF GA`
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ;K|K]c 9o6[4Q} 目录 7HY8 F5Brx Preface 1 )E7wBNV 内容简介 2 `8#xO{B1 目录 i y29G#Y4J 1 引言 1 t^>P,%$ 2 光学薄膜基础 2 Z]WX 7d 2.1 一般规则 2 0_-o]BY 2.2 正交入射规则 3 EE | c@M^ 2.3 斜入射规则 6 ut]UU*g^$ 2.4 精确计算 7 >?)_, KL 2.5 相干性 8 P*>?/I`G 2.6 参考文献 10 i `p1e5$ 3 Essential Macleod的快速预览 10 BB9eQ:
xO 4 Essential Macleod的特点 32
)*6 4.1 容量和局限性 33 Nu3IYS5& 4.2 程序在哪里? 33 [{#TN 4.3 数据文件 35 f%1\1_^g 4.4 设计规则 35 qmGHuQVe 4.5 材料数据库和资料库 37 \ZhkOl 4.5.1材料损失 38 1:-
M<=J?f 4.5.1材料数据库和导入材料 39 N?#L{Yt 4.5.2 材料库 41 92R,o'# 4.5.3导出材料数据 43 l+@k:IK 4.6 常用单位 43 mA%}ijR6y 4.7 插值和外推法 46 uOKD# 4.8 材料数据的平滑 50 l-20X{$m: 4.9 更多光学常数模型 54 -^t.eZ*| 4.10 文档的一般编辑规则 55 GUM-|[~ 4.11 撤销和重做 56 e]ST0J" 4.12 设计文档 57 I(3~BOUn_ 4.10.1 公式 58 PY4a3dp
U 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {R[ V 4.10.3 沉积密度 59 s?; V!t 4.10.4 平行和楔形介质 60 bF*Kb"!CF 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 >ifys)wg> 4.10.4 性能 61 O'^AbO=, 4.10.5 保存设计和性能 64 aO ?KRn 4.10.6 默认设计 64 H8B.c%_|U 4.11 图表 64 `mYp?NjR_ 4.11.1 合并曲线图 67 Xt:j~cVA 4.11.2 自适应绘制 68 C~K/yLCAi 4.11.3 动态绘图 68 Yt:%)&50}- 4.11.4 3D绘图 69 "?<`]WG\ 4.12 导入和导出 73 Au/'|%2#( 4.12.1 剪贴板 73 -iW>T5f 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 fpjFO&ML 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 qzHsqlof 4.13 背景 77 3m21n7F4* 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 q3-cWfU 4.15 生成Rugate 84 )@y'$)5s 4.16 参考文献 91 SX =^C 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ;Z;` BGZJ 5.1 Jobs 92 Eg&Q,dH[ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 [AD%8H 5.3 输入材料 94 'Cz]p~oF 5.4 设计数据文件夹 95 ^ yF
Wvfh4 5.5 默认设计 95 ?;(!(<{ 6 细化和合成 97 sT<h+[2d 6.1 优化介绍 97 JlE+CAny 6.2 细化 (Refinement) 98 EL2z& 6.3 合成 (Synthesis) 100 BtJF1#f 6.4 目标和评价函数 101 8(A
k 6.4.1 目标输入 102 yTe25l{QaF 6.4.2 目标 103 ntL%&wY 6.4.3 特殊的评价函数 104 QZO<'q`L 6.5 层锁定和连接 104 eISHV.QV 6.6 细化技术 104 j
*N^.2 6.6.1 单纯形 105 %\B?X;( 6.6.1.1 单纯形参数 106 6 {3q l: 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 #a8i($k{e 6.6.2.1 Optimac参数 108 ;D4
bxz0ou 6.6.3 模拟退火算法 109 CJ#Yu3} 6.6.3.1 模拟退火参数 109 xBw ua; 6.6.4 共轭梯度 111 mryT%zSlM 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 (15.?9 6.6.5 拟牛顿法 112 +K;%sAZy 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?iaO6HD 6.6.6 针合成 113 V|nJ%G\ 6.6.6.1 针合成参数 114 :4"b(L 6.6.7 差分进化 114 z^%`sUgP 6.6.8非局部细化 115 1ahb:Mjv 6.6.8.1非局部细化参数 115 w%6 L" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 j{/wG:: 6.7.1 细化 116 W%9"E??c 6.7.2 合成 117 L>57eF)7 6.8 参考文献 117 V0F1X s` 7 导纳图及其他工具 118 1py>[II@ 7.1 简介 118 ty9(mtH+ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 4%TmW/yd 7.2.1 四分之一波长规则 119 PC!X<C8* 7.2.2 导纳图 120 8{CBWXo$) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 gaL.5_1 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ]U 1S?p 7.5 斜入射导纳图 141 #q?:Act 7.6 对称周期 141 Az(J @ 7.7 参考文献 142 ve(@=MJ 8 典型的镀膜实例 143 "+4r4 8.1 单层抗反射薄膜 145 2QIo|$ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 3+D4$Y" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 -$D#u 8.4 W-膜层 148 .Na'yS `J 8.5 V-膜层 149 ;,u7) 8.6 V-膜层高折射基底 150 $I\lJ8 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 v #Q(g/^ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 F;Ubdxwwl 8.9 四层抗反射薄膜 153 .ldBl 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 0Jm)2@ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]=]`Mnuxb 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 #~qY%X 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2|8$@*-\ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 :HN\A4=kc( 8.15十五层宽带抗反射膜 159 gAy"W$F 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 -$y/*' 8.17 1/4波长堆栈 162 kmsgaB7? 8.18 陷波滤波器 163 >vQKCc|93 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8';huq@C{ 8.20 褶皱 165 ]i'gU(+;` 8.21 消偏振分光器1 169 y@]:7 8.22 消偏振分光器2 171 Be0v&Q_NK 8.23 消偏振立体分光器 172 \YF'qWB 8.24 消偏振截止滤光片 173 iA+zZVwO 8.25 立体偏振分束器1 174 a[V4EX1E 8.26 立方偏振分束器2 177 J`A )WsKkb 8.27 相位延迟器 178 :}fIu?hCA 8.28 红外截止器 179 ot,e?lF 8.29 21层长波带通滤波器 180 j|(bdTZY: 8.30 49层长波带通滤波器 181 0kld77tn
2 8.31 55层短波带通滤波器 182 VK$s+" 8.32 47 红外截止器 183 yvKKE 8.33 宽带通滤波器 184 .^?Z3iA", 8.34 诱导透射滤波器 186 3=kw{r[2lM 8.35 诱导透射滤波器2 188 !X/O1PM| 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 --|L?-2k, 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 @?<1~/sfL 8.35 增益平坦滤波器 193 >]l7AZ:, 8.38 啁啾反射镜 1 196
4B=@<(H 8.39 啁啾反射镜2 198 o_%gFV[q 8.40 啁啾反射镜3 199 J
k FZd 8.41 带保护层的铝膜层 200 ?N!.:~~k 8.42 增加铝反射率膜 201 si>gYO 8.43 参考文献 202 KH76Vts 9 多层膜 204 BYsQu.N 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 83YQ c 9.2 内部透过率 204 FKu^{'Y6E0 9.3 内部透射率数据 205 }q[IhjD% 9.4 实例 206 $8Y|&P 9.5 实例2 210 TY*q[AWG 9.6 圆锥和带宽计算 212 2o9IP>#u 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 }Fgp*x-G 10 光学薄膜的颜色 216 Fpf-Fa-K\b 10.1 导言 216 6I$:mHEhd 10.2 色彩 216 Eg|C 10.3 主波长和纯度 220 _8nT$!\\ 10.4 色相和纯度 221 E,:E u< 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 u}IQ)Ma 10.6 色差 226 i?pC[Ao-_ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 e't1.%w 10.8 颜色渲染指数 234 p3z%Y$!Tm 10.9 色差计算 235 ^6I8 a" 10.10 参考文献 236 8&KqrA86 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 0w
]
pDj 11.1 短脉冲 238 cvl1X" 11.2 群速度 239 _i+7O^=d6X 11.3 群速度色散 241 -
-H%FYF` 11.4 啁啾(chirped) 245 92S,W?( 11.5 光学薄膜—相变 245 QF`o%mI 11.6 群延迟和延迟色散 246 i$W=5B>SO 11.7 色度色散 246 M-+=t8 11.8 色散补偿 249 #sp8 !8|y 11.9 空间光线偏移 256 WL/9r
*jW 11.10 参考文献 258 b_j8g{/9 12 公差与误差 260 0ud>oh4WPR 12.1 蒙特卡罗模型 260 GjvTYg~ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 r:uW(<EP^ 12.2.1 误差工具 267 ZRo-=/1 12.2.2 灵敏度工具 271 AT]Ty 12.2.2.1 独立灵敏度 271 iKN800^u 12.2.2.2 灵敏度分布 275 @&M$oI$4* 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 >n^[-SWJCT 12.3 参考文献 276 G`r*)pdm 13 Runsheet 与Simulator 277 uA2-&smw 13.1 原理介绍 277 %R[X_n= 13.2 截止滤光片设计 277 O:3DIT1#> 14 光学常数提取 289 bB|P`lL 14.1 介绍 289 |;6l1]hk6 14.2 电介质薄膜 289 MW6KEiQ" 14.3 n 和k 的提取工具 295 9K`uGu 14.4 基底的参数提取 302 #[{xEVf 14.5 金属的参数提取 306 C2 ] x 14.6 不正确的模型 306 ,HM~Zs 14.7 参考文献 311 6C|]Fm 15 反演工程 313 wam-=3W 15.1 随机性和系统性 313 %/x%hs;d 15.2 常见的系统性问题 314 %[C-KQH 15.3 单层膜 314 "G`8>1tO_ 15.4 多层膜 314 h8lI#Gs 15.5 含义 319 edy6WzxBcm 15.6 反演工程实例 319 CAD:ifV 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 T{%'"mm; 15.6.2 反演工程提取折射率 327 kbkq.fYr 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 b_JW3l 16.1 光学性质的热致偏移 329 E@F:U*A6% 16.2 应力工具 335 JKsdPW<? 16.3 均匀性误差 339 ;c_pa0L 16.3.1 圆锥工具 339 W^^}-9 16.3.2 波前问题 341 0fTEb%z8 16.4 参考文献 343 [d_sd 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 @.fyOyOC 17.1 引言 345 1#3 Qa{i 17.2 操作数 345 MYb^ILz H3 18 如何在Function中编写脚本 351 =
5E:C P 18.1 简介 351 $ (gR^L 18.2 什么是脚本? 351 ~t~5ctJ@ 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 pH1 9"=p< 18.4 基础 352 T?Dq2UW 18.4.1 Classes(类别) 352 ohA@Zm8O 18.4.2 对象 352 5E+k}S]M$ 18.4.3 信息(Messages) 352 -)Y?1w 18.4.4 属性 352 F^]?'`7md 18.4.5 方法 353 Qb|.;_ 18.4.6 变量声明 353 [}OL@num 18.5 创建对象 354 }bs2Rxkh 18.5.1 创建对象函数 355 6GD Uo}. 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 -~HlME*~f 18.5.3 丢弃对象 356 ewn/@;E 18.5.4 总结 356 U&|$B|[ 18.6 脚本中的表格 357 ,j ('QvavJ 18.6.1 方法1 357 \JLiA>@@ 18.6.2 方法2 357 LEJ7. 82 18.7 2D Plots in Scripts 358 -^(NIl' 18.8 3D Plots in Scripts 359 N3};M~\ 18.9 注释 360 diLjUC`69 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 Lu~e^Ul
18.11 一个更高级的脚本 362 Yb|zE 18.12 <esc>键 364 |7CH 18.13 包含文件 365 ^w<:UE2a! 18.14 脚本被优化调用 366 e< Ee2pGX 18.15 脚本中的对话框 368 N[$(y}
!s 18.15.1 介绍 368 3\,TI`^C 18.15.2 消息框-MsgBox 368 [)gvP' 18.15.3 输入框函数 370 X
|f'e@ 18.15.4 自定义对话框 371 "*@iXJxv5 18.15.5 对话框编辑器 371 ~~ON!l9n 18.15.6 控制对话框 377 _OF8D 18.15.7 更高级的对话框 380 R$cO`L*s 18.16 Types语句 384 z^4\?R50yO 18.17 打开文件 385 9tS&$-
18.18 Bags 387 u%O^hcfb 18.13 进一步研究 388 'Ph4(Yg 19 vStack 389 Jz#ZDZkm 19.1 vStack基本原理 389 ZUyM:$ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 IEzZ$9,A5 19.3 五棱镜 393 'ce9v@(0 19.4 光束距离 396 WII_s|YSt% 19.5 误差 399 Iw"?%k\U 19.6 二向分色棱镜 399 eT+MN` 19.7 偏振泄漏 404 9wKz p 19.8 波前误差—相位 405 t:M({|m Y 19.9 其它计算参数 405 e_ 6
i896 20 报表生成器 406 ^d"tymDd 20.1 入门 406 CRWO R pP 20.2 指令(Instructions) 406 /]xd[^ 20.3 页面布局指令 406 4PUM.% 20.4 常见的参数图和三维图 407 !9o8v0ZI 20.5 表格中的常见参数 408 2$NP46z} 20.6 迭代指令 408 &F#X0h/m= 20.7 报表模版 408 @F7QQs3 20.8 开始设计一个报表模版 409 j7-#">YL 21 一个新的project 413 kX1hcAa 21.1 创建一个新Job 414 `T9<}&=! 21.2 默认设计 415 of& vQ 21.3 薄膜设计 416 ,75,~ 21.4 误差的灵敏度计算 420 bM^'q 21.5 显色指数计算 422 /gFyow1W 21.6 电场分布 424 !s)2H/KM 8 后记 426 wU#Q>ut'% 00pHnNoxW N=+Up\h 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 1xtbhk]D w#b~R^U 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] 1<R
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M~ 目 录 y6jTT% ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 E$G"R= 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Pq4sv`q)S 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 % 9WWBxS 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @pkozE- 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 'ZDa *9nkF 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 r?V|9B`$p 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 "J{,P9P6 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ac&tpvij 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 *p WswcV/ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 jN {ED_ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 (~#PzE: 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 g*]<]%Py" 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 )O&$-4gL' 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 =C:0='a 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 v^E5'M[A 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 |n&6z ?)PcYrV 价 格:400元
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