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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 'mYUAVmSC#  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 l|sC\;S  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 )MeeF-Ad6  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ZW%;"5uVm)  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Ft<B[bQ  
[attachment=120542] WPDi)U X  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 &F~97F)A)  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 WwF2Ry^a  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Ci$?Hm9n  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 jX&/ e'B  
1. Essential Macleod软件介绍 %`\=qSf*  
1.1 介绍软件 yn|U<Hxl~H  
1.2 创建一个简单的设计 5bo')^xa  
1.3 绘图和制表来表示性能 qQp;i{X  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 IN?6~O p  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) e)f!2'LL  
1.6 特定设计的公式技术 bBY7^k  
1.7 交互式绘图 2Dw}o;1'  
2. 光学薄膜理论基础 &Y jUoe  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 x:iLBYf  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ZmAo9>'Kg  
3. 材料管理 SYA0Hiw7P  
3.1 材料模型 R 6 -RH7.  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 a[ yyEgm2  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 u[6aSqwC |  
3.4 基板光学常数的提取 qCy SL lp0  
4. 光学薄膜设计优化方法 s[Whg!2~  
4.1 参考波长与g W%@0Ym `7  
4.2 四分之一规则 -0>s`ruor  
4.3 导纳与导纳图 JYrOE "!h  
4.4 斜入射光学导纳 ^\g?uH6k U  
4.5 光学薄膜设计的进展 ?wpl 88z  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 TEQs9-Uy  
4.6.1 优化目标设置 j5!pS xOC  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) NX8. \Pf#  
4.6.3 膜层锁定和链接 kE854Ej  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 (05a 9  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 l,ic-Y1  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ?U3~rro!  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 R c  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 r<!/!}fE,  
5.5 如何在Function中编写脚本 jIjW +D`  
6. 光学薄膜系统案例 sI`oz|$  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 `>u^Pm  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 PQXCT|iJ  
6.3 Stack应用范例说明 +6s6QeNS8  
7. 薄膜性能分析 %mRnJgV5k  
7.1 电场分布 }BAe   
7.2 公差与灵敏度分析 C:p`  
7.3 反演工程 (97&mhs3  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 s&M#]8x;x  
8. 真空技术 juB/?'$~  
8.1 常用真空泵介绍 y*T@_on5  
8.2 真空密封和检漏 ,U.|+i{  
9. 薄膜制备技术 %afz{a5  
9.1 常见薄膜制备技术 LF ;gdF%@  
10. 薄膜制备工艺 [<.dOe7|  
10.1 薄膜制备工艺因素 FDTC?Ii O  
10.2 薄膜均匀性修正技术 jH[{V[<# X  
10.3 光学薄膜监控技术 ;CDa*(e  
11. 激光薄膜 ;aDYw [  
11.1 薄膜的损伤问题 =U}!+ 8f  
11.2 激光薄膜的制备流程 zKFiCP K  
11.3 激光薄膜的制备技术 %<\tN^rP  
12. 光学薄膜特性测量 !RwMUnp  
12.1 薄膜光谱测量 #YK=e&da  
12.2 薄膜光学常数测量 G$t:#2  
12.3 薄膜应力测量 }b+$S'`Bv  
12.4 薄膜损伤测量 D<lVWP  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
o$Z]qhq  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
wUH:l  
内容简介 $?y\3GX  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 wLKC6@ W  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 y<m }dW6[\  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 qv8B$}FU  
gM&4Ur  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
lh-zE5;  
}@vf=jm>  
目录 / gP"X1.  
Preface 1 K Vnz{cx`  
内容简介 2 6t'vzcQs  
目录 i $u, ~183  
1  引言 1 mV|Z5= f  
2  光学薄膜基础 2 M<ba+Qn$  
2.1  一般规则 2 sPRs;to-  
2.2  正交入射规则 3 6A-nhvDP  
2.3  斜入射规则 6 %D>cY!  
2.4  精确计算 7 h%]  D[g  
2.5  相干性 8 'h>CgR^NM1  
2.6 参考文献 10 `t2Y IwOK  
3  Essential Macleod的快速预览 10 K}tC8D  
4  Essential Macleod的特点 32  ?S'Wd=  
4.1  容量和局限性 33 D:XjJMW3r  
4.2  程序在哪里? 33 |fPR7-  
4.3  数据文件 35 >(F y6m  
4.4  设计规则 35 s\.\z[1  
4.5  材料数据库和资料库 37 wcL|{rUXba  
4.5.1材料损失 38 `Gh#2 U  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 'e8O \FOf  
4.5.2 材料库 41 G`z=qaj  
4.5.3导出材料数据 43 CUx [LZR7m  
4.6  常用单位 43 4B@Ir)^(*  
4.7  插值和外推法 46 )@6iQ  
4.8  材料数据的平滑 50 ,R=)^Gh{  
4.9 更多光学常数模型 54 (4IH%Ez){  
4.10  文档的一般编辑规则 55 moE!~IroG  
4.11 撤销和重做 56 tw&biLM5T  
4.12  设计文档 57 ?;DzWCL~9  
4.10.1  公式 58 ZQ[s/  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 J"Nn.iVq  
4.10.3  沉积密度 59 {$'oKJy*  
4.10.4 平行和楔形介质 60 .:iO$wjp5  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60  #{zF~/Qq  
4.10.4  性能 61 `}#n#C)  
4.10.5  保存设计和性能 64 VTn6@z_ x  
4.10.6  默认设计 64 h%!,|[|  
4.11  图表 64 ]Mj N)%hT  
4.11.1  合并曲线图 67 O[R   
4.11.2  自适应绘制 68 _s+_M+@et  
4.11.3  动态绘图 68 Im@Yx^gc   
4.11.4  3D绘图 69 z*`nfTw l  
4.12  导入和导出 73 uk)D2.eS,  
4.12.1  剪贴板 73 A3Y}|7QA  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 @Wd1+Yky  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 >(a[b@[K  
4.13  背景 77 qKNHhXi  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 gk4DoOj#P  
4.15  生成Rugate 84 | ?ma?  
4.16  参考文献 91 6Q NO#!;  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 kV$VKag*A  
5.1  Jobs 92 G9h Bp  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 *[tLwl.  
5.3  输入材料 94 1V ; ,ZGI*  
5.4  设计数据文件夹 95 v.Xmrry  
5.5  默认设计 95 CwsC)]{/o  
6  细化和合成 97 >RXDuCVi  
6.1  优化介绍 97 8:jakOeT  
6.2  细化 (Refinement) 98 &\<?7Qj3U|  
6.3  合成 (Synthesis) 100 $rH}2  
6.4  目标和评价函数 101 PRN%4G  
6.4.1  目标输入 102 1qhSN#s{_  
6.4.2  目标 103 /qweozW_+  
6.4.3  特殊的评价函数 104 [+b&)jN*2  
6.5  层锁定和连接 104 :6W * ;<o  
6.6  细化技术 104 k9iB-=X?4s  
6.6.1  单纯形 105 E 7"`D\*  
6.6.1.1 单纯形参数 106 ^Dys#^  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 h F *c  
6.6.2.1 Optimac参数 108 JmbWEX|  
6.6.3  模拟退火算法 109 hvF>Tu]^r  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 lVS.XQ2<  
6.6.4  共轭梯度 111 xU'% 6/G  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 6='x}Qb\H  
6.6.5  拟牛顿法 112 =B"^#n ;  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ]/odp/jm  
6.6.6  针合成 113 vS G vv43G  
6.6.6.1 针合成参数 114 #80M+m  
6.6.7 差分进化 114 |\SwZTr  
6.6.8非局部细化 115 _[ S<Cb*1  
6.6.8.1非局部细化参数 115 DQ= /Jr~  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 myDcr|j-a  
6.7.1  细化 116 zE]h]$oi  
6.7.2  合成 117 >:f&@vwm  
6.8  参考文献 117 |:5[`  
7  导纳图及其他工具 118 HI{IC!6  
7.1  简介 118 $mF9os-  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 VZr AZV^c  
7.2.1  四分之一波长规则 119 /t_AiM,(  
7.2.2  导纳图 120 ~A-D>.ZH  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "%K[kA6  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 e%JH q  
7.5  斜入射导纳图 141 `r*bG=  
7.6  对称周期 141 "[\),7&03  
7.7  参考文献 142 ^"EK:|Y4%K  
8  典型的镀膜实例 143 #~6au6LMC  
8.1  单层抗反射薄膜 145 | gP%8nh'C  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 1ika'  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 td(4Fw||1y  
8.4  W-膜层 148 ~3qt<"  
8.5  V-膜层 149 #>O>=#Q  
8.6  V-膜层高折射基底 150 yIma7H@=L  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 CG[04y  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 0 LIRi%N5*  
8.9  四层抗反射薄膜 153 \Culf'iX  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 9AHxa  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8U7X/L  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 (z IIC"~5  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 O@sJ#i>  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 T:!Re*=JJ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 & _mp!&5XV  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 _BBs{47{E  
8.17  1/4波长堆栈 162 Hjc *W Tu  
8.18  陷波滤波器 163 03a<Cd/S  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Gw?$.@L'I6  
8.20  褶皱 165 KN"<f:u  
8.21  消偏振分光器1 169 >2dF^cDE-3  
8.22  消偏振分光器2 171 6:qh%ZR  
8.23  消偏振立体分光器 172 0'~Iv\s  
8.24  消偏振截止滤光片 173 g0A,VX:2  
8.25  立体偏振分束器1 174 _4~q&? }V  
8.26  立方偏振分束器2 177 fkJElO-F  
8.27  相位延迟器 178 ]$i~;f 8I  
8.28  红外截止器 179 i[m-&   
8.29  21层长波带通滤波器 180 btWvoKO*  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ::8c pUc`f  
8.31  55层短波带通滤波器 182 \wxLt}T-Q  
8.32  47 红外截止器 183 l$3YJ.n|s~  
8.33  宽带通滤波器 184 9O\N K:2  
8.34  诱导透射滤波器 186 b]@@x;v$@  
8.35  诱导透射滤波器2 188 f%Vdao[  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 |ZJ<N\\h-  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 v7G&`4~  
8.35  增益平坦滤波器 193 1eMz"@ Q9  
8.38  啁啾反射镜 1 196 41NVF_R6J  
8.39  啁啾反射镜2 198 = `oGH  
8.40  啁啾反射镜3 199 tW} At  
8.41  带保护层的铝膜层 200 6;#Rd|  
8.42  增加铝反射率膜 201 6>j0geFyE2  
8.43  参考文献 202 W;!)Sj4<T!  
9  多层膜 204 q1vsvL9Q  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 1cY,)Z%l #  
9.2  内部透过率 204 &~#y-o"  
9.3 内部透射率数据 205 !TeI Jm/l  
9.4  实例 206 R/?ZbMn]!  
9.5  实例2 210 lq }g*ih  
9.6  圆锥和带宽计算 212 p@jwHlX  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ysFp`  
10  光学薄膜的颜色 216 p5JRG2zt  
10.1  导言 216 52#Ac;Y  
10.2  色彩 216 iuS*Vw  
10.3  主波长和纯度 220 Ym$=^f]-  
10.4  色相和纯度 221 g<PglRr"  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Pj{Y  
10.6 色差 226 Rxk0^d:sNi  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 g~]?6;uu  
10.8  颜色渲染指数 234 feG#*m2g  
10.9  色差计算 235 )k6kK}  
10.10  参考文献 236 Q+a"Z^Z|  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 se&Q\!&M  
11.1  短脉冲 238 6"<q{K  
11.2  群速度 239 a+P Vi  
11.3  群速度色散 241 S0mzDLgE  
11.4  啁啾(chirped) 245 -SN6&-#c_  
11.5  光学薄膜—相变 245 YK%rTbB(  
11.6  群延迟和延迟色散 246 6gTc)rhRT  
11.7  色度色散 246 0UOjk.~b  
11.8  色散补偿 249 'o%6TWl9s  
11.9  空间光线偏移 256 h"t\x}8qq  
11.10  参考文献 258 +wxDK A_  
12  公差与误差 260 G*%:"qleT$  
12.1  蒙特卡罗模型 260 JUd Q Q  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 @23~)uiZa  
12.2.1  误差工具 267 5Sx.'o$  
12.2.2  灵敏度工具 271 *:V+whBY  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 MkX=34oc^  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 }0idFotck  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 U *:E|'>  
12.3  参考文献 276 ^/fasl$#  
13  Runsheet 与Simulator 277 Usq.'y/ o  
13.1  原理介绍 277 -T{G8@V0I  
13.2  截止滤光片设计 277 r>cN,C  
14  光学常数提取 289 njckPpyb@  
14.1  介绍 289 {.o@XP,.  
14.2  电介质薄膜 289 9A ?)n<3d  
14.3  n 和k 的提取工具 295 \h5!u1{L  
14.4  基底的参数提取 302  4}F~h  
14.5  金属的参数提取 306 2(H-q(  
14.6  不正确的模型 306 P$5K[Y4f  
14.7  参考文献 311 '^%kTNn  
15  反演工程 313 RZP7h>y6@  
15.1  随机性和系统性 313 e-*-91D  
15.2  常见的系统性问题 314 hO; XJyv  
15.3  单层膜 314 -mw`f)?Ev  
15.4  多层膜 314 h&2l0 |8k  
15.5  含义 319 FwUgMR*xq  
15.6  反演工程实例 319 ip!-~HNwJ  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Mh~E ]8b  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 v-DZW,  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 KZ@'NnQ  
16.1  光学性质的热致偏移 329 8\Bb7*  
16.2  应力工具 335 d r$E:kr  
16.3  均匀性误差 339 L :Ldk  
16.3.1  圆锥工具 339 :*Y2na)qQ  
16.3.2  波前问题 341 Go(Td++HS  
16.4  参考文献 343 *" +u^  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 `#"xgOSP>  
17.1  引言 345 ym_p49  
17.2  操作数 345 T{)_vQ  
18  如何在Function中编写脚本 351 *USG p<iH  
18.1  简介 351 {r'+icvLX  
18.2  什么是脚本? 351 EYA=fU  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 <.&84c]/&  
18.4  基础 352 `T{'ufI4B  
18.4.1  Classes(类别) 352 0ZJj5<U  
18.4.2  对象 352 33g$mUB  
18.4.3  信息(Messages) 352 &O#,"u/q`  
18.4.4  属性 352 BhhFij4  
18.4.5  方法 353 B>g(i=E  
18.4.6  变量声明 353 H*Tzw,f~ v  
18.5  创建对象 354 :0Z\-7iK  
18.5.1  创建对象函数 355 J4u>77I  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355  hLj7i?  
18.5.3 丢弃对象 356 (AZAQ xt  
18.5.4  总结 356 L~AU4Q0o  
18.6  脚本中的表格 357 ~G 3txd  
18.6.1  方法1 357 c(aykIVOo  
18.6.2  方法2 357 ]kd:p*U6P  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ;8a9S0eS  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ~;#sj&~  
18.9  注释 360 pQ>|d H+.  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 E+lr{~  
18.11  一个更高级的脚本 362 W/g_XQ   
18.12  <esc>键 364 fbD,\ rjT  
18.13 包含文件 365 -iKoQkHt  
18.14  脚本被优化调用 366 {@6:kkd  
18.15  脚本中的对话框 368 UE/JV_/S;  
18.15.1  介绍 368 Y&H<8ez  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 O_]hbXV0  
18.15.3  输入框函数 370 w!'y,yb%  
18.15.4  自定义对话框 371 QiK-|hFj  
18.15.5  对话框编辑器 371 #k?.dWZ!  
18.15.6  控制对话框 377 .f"1(J8  
18.15.7  更高级的对话框 380 IqiU  
18.16 Types语句 384 )ZI#F]  
18.17 打开文件 385 ] E:NmBN<  
18.18 Bags 387 Jy\0y[f*  
18.13  进一步研究 388 h ,n}=g+?  
19  vStack 389 #ID fJ2  
19.1  vStack基本原理 389 [!4xInS  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 t+_\^Oa)  
19.3  五棱镜 393 `!$6F:d_l  
19.4 光束距离 396 {xeJO:M3/  
19.5 误差 399 JOJuGB-d  
19.6  二向分色棱镜 399 ,J,Rup">h  
19.7  偏振泄漏 404 D<|$ZuB4  
19.8  波前误差—相位 405 @Pf9;7,TV  
19.9  其它计算参数 405 h3-^RE5\`S  
20  报表生成器 406 6~Dyr82"B  
20.1  入门 406 HNCu:$Wr@  
20.2  指令(Instructions) 406 bN7m[GRO.  
20.3  页面布局指令 406 yjsj+K pL  
20.4  常见的参数图和三维图 407 qoOwR[NDcq  
20.5  表格中的常见参数 408 ul#y'iY]  
20.6  迭代指令 408 /QWXEL/M=  
20.7  报表模版 408 ?dbSm3  
20.8  开始设计一个报表模版 409 qS9<_if2  
21  一个新的project 413 z~3GgR"1d  
21.1  创建一个新Job 414 heL`"Y2'y>  
21.2  默认设计 415 ,SidY\FzH  
21.3  薄膜设计 416 ;i\N!T{>  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ]E$NJq|  
21.5  显色指数计算 422 Q4_r) &np  
21.6  电场分布 424 }79O[&  
后记 426 #4./>}G  
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1ANFhl(l  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 URs]S~tk  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
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f;Oh"Yt  
目  录 [^s;Ggi9  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 &+&@;2  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 w;yzgj:n&f  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 tsL ; wT_  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 5a'`%b{{  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ^3BPOK[*gB  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 |Y05 *!\P*  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 :\JCxS=EW  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 =PciLh  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 kl]MP}wc  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213  5{oc  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 +Wg/ O -  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 9?MzIt  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 !u@P\8M}  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 D\b$$z]q  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 nH&z4-1Y?  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ~abyjM  
:CW^$Zvq  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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