上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 8@rddk 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 e)BU6m% 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
:d)y 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 xky +" 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 N1!O8"Q|*3 [attachment=120542] Gv\39+9= 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ka=EOiX. 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;]vJ[mi~ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 oU`{6 ~; 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 b%wm-p 1. Essential Macleod软件介绍 @h=r;N#/`P 1.1 介绍软件 2r^G;,{ 1.2 创建一个简单的设计 AJYZ` 1.3 绘图和制表来表示性能 >}H3V] 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 8.WZC1N 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) _<^mi!Y 1.6 特定设计的公式技术 r}nz )=\Cj 1.7 交互式绘图 Ci9]#)"c 2. 光学薄膜理论基础 8{4SaT.-Rm 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 }kZ)|/]kn 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 GtLnh~) 3. 材料管理
ihp>cl? 3.1 材料模型 EBMZ7b-7 3.2 介质薄膜光学常数的提取 qbx}9pp}g 3.3 金属薄膜光学常数的提取 D;! aix3 3.4 基板光学常数的提取 qxbGUyH== 4. 光学薄膜设计优化方法 CbW>yr 4.1 参考波长与g L)"E _ 4.2 四分之一规则 '5etZ!: 4.3 导纳与导纳图 b=PB" - 4.4 斜入射光学导纳 S; Fj9\2)I 4.5 光学薄膜设计的进展 9f #6Q*/ 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 H: rrY 4.6.1 优化目标设置 i87+9X
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 0zc~!r~ 4.6.3 膜层锁定和链接 $N/"c$50, 5. Essential Macleod中各个模块的应用 sjj,q? 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 L %20tm 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 W [B;;"ro 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Z/oP?2/Afh 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 VMl)_M:' 5.5 如何在Function中编写脚本 AQgagE^ 6. 光学薄膜系统案例
WfH4*e 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 !n3J6%b9y/ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 1X-fiQJe 6.3 Stack应用范例说明 yL#2|t( 7. 薄膜性能分析 Jty/gjK+ 7.1 电场分布
%Z-B{I( 7.2 公差与灵敏度分析 M/evZ?uis 7.3 反演工程 3?r?)$Jk 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 oi\e[qE 8. 真空技术 q[5& 8.1 常用真空泵介绍 -p*j9
z 8.2 真空密封和检漏 3-4CGSX;X 9. 薄膜制备技术 I?X!v6 9.1 常见薄膜制备技术 QLDld[ 10. 薄膜制备工艺 GF17oMi 10.1 薄膜制备工艺因素 <2ymfL-q 10.2 薄膜均匀性修正技术 z;1qYW[-A 10.3 光学薄膜监控技术 vv^(c w>A 11. 激光薄膜 [DSD[[
z[ 11.1 薄膜的损伤问题 &XZS}n 11.2 激光薄膜的制备流程 j-(k`w\ 11.3 激光薄膜的制备技术 ZnZ`/zNO 12. 光学薄膜特性测量 "
"{#~X} 12.1 薄膜光谱测量 xC
YL3hl 12.2 薄膜光学常数测量 zrE Dld9 12.3 薄膜应力测量 "PfNC<MQo 12.4 薄膜损伤测量 rssn'h 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] 7thB1cOJ
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] IgNL1KRD
内容简介 hx:"'m5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p -wEPC0 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Q|Go7MQZ@k 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 eG08Xt|lc +ieRpVg
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 pa2cM%48 p^X
\~Yibs 目录 P<MNwdf(+ Preface 1 B`/p[ U5 内容简介 2 b Fwc > 目录 i woyeKOr 1 引言 1 ZuVes?&j 2 光学薄膜基础 2 Xw]L'+V= 2.1 一般规则 2 H-'~c\) 2.2 正交入射规则 3 .!yw@kg 2.3 斜入射规则 6 yGX"1Fb?;x 2.4 精确计算 7 FWl'='5L 2.5 相干性 8 K pSho< 2.6 参考文献 10 kdp- |9 3 Essential Macleod的快速预览 10 xyPz_9 4 Essential Macleod的特点 32 HV\l86} 4.1 容量和局限性 33 65AG#O5R 4.2 程序在哪里? 33 &'A8R;b}-? 4.3 数据文件 35 N3?@CM^hHw 4.4 设计规则 35 +5oK91o[y 4.5 材料数据库和资料库 37 oa:30@HSb 4.5.1材料损失 38 WN9K*Tt~o& 4.5.1材料数据库和导入材料 39 {n-6e[ 4.5.2 材料库 41 x$;kA}gy 4.5.3导出材料数据 43 rBrJTF:. 4.6 常用单位 43 3%DDN\q\u 4.7 插值和外推法 46 /qObXI 4.8 材料数据的平滑 50 > ?<C+ZHh 4.9 更多光学常数模型 54 nWb0S 4.10 文档的一般编辑规则 55 5$Da\?Fpn 4.11 撤销和重做 56 0zr Zrl 4.12 设计文档 57 .wJv_ 4.10.1 公式 58 6ujePi <U 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~CQTPR 4.10.3 沉积密度 59 <imIgt|`2 4.10.4 平行和楔形介质 60 ar[*!:! 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 (|_N2R! 4.10.4 性能 61 mQqv{1 4.10.5 保存设计和性能 64 1k?k{Ri 4.10.6 默认设计 64 -$+`v<[r 4.11 图表 64 3PgiV%] 4.11.1 合并曲线图 67 0
V3`rK 4.11.2 自适应绘制 68 iR6w) 4.11.3 动态绘图 68 $pGdGV\H 4.11.4 3D绘图 69 (OT&:WwW 4.12 导入和导出 73 -3T~+ 4.12.1 剪贴板 73 7qT>wCVT 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 e9@7GaL`"S 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 9>1Gj-S2: 4.13 背景 77 4Y:[YlfD. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ,+hH|$ 4.15 生成Rugate 84 ^*A8 NdaB 4.16 参考文献 91 M73d^z 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 9e>Dqlv 5.1 Jobs 92 UqEpeLK 5.2 创建一个新Job(工作) 93 W*/0[|n* 5.3 输入材料 94 ^;gwD4(hs 5.4 设计数据文件夹 95 1Kc[).O1 5.5 默认设计 95 >YuiCf?c7 6 细化和合成 97 QGM@m:O 6.1 优化介绍 97 )[d>?%vfd 6.2 细化 (Refinement) 98 %YbcI|i]<0 6.3 合成 (Synthesis) 100 LH]<+Zren 6.4 目标和评价函数 101 WZ]f \S 6.4.1 目标输入 102 B`i5lD 6.4.2 目标 103 csNB
\ 6.4.3 特殊的评价函数 104 ubZcpqm?Q 6.5 层锁定和连接 104 AHl1{*
[ 6.6 细化技术 104 }Rx`uRx\ 6.6.1 单纯形 105 8O_0x)X 6.6.1.1 单纯形参数 106 /Xo8 kC 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 M9s cZuj 6.6.2.1 Optimac参数 108 Od5I:p]N 6.6.3 模拟退火算法 109 0}d^UGD 6.6.3.1 模拟退火参数 109 TqN4OkCm/ 6.6.4 共轭梯度 111 ()+PP}:$A 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2qkZ B0[ 6.6.5 拟牛顿法 112 @ky<5r*JU( 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 X
cDu&6Dy 6.6.6 针合成 113 !.}ZlA 6.6.6.1 针合成参数 114 |NoTw K 6.6.7 差分进化 114 l6O8:XI 6.6.8非局部细化 115 MzudCMF 6.6.8.1非局部细化参数 115 do>,ELS+m 6.7 我应该使用哪种技术? 116 oR_qAb 6.7.1 细化 116 F:B8J4/ 6.7.2 合成 117 4UV<Q*B\F 6.8 参考文献 117 - IF3'VG 7 导纳图及其他工具 118 s%c>Ge 7.1 简介 118 Sh+$w=vC 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ?5e]^H} 7.2.1 四分之一波长规则 119 J jp)%c#_ 7.2.2 导纳图 120 p,'Z{7HG 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HX&G
k 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Sl7x>= 7.5 斜入射导纳图 141 Sq Y$\&% 7.6 对称周期 141 FC BsC# 7.7 参考文献 142 #lld*I"d 8 典型的镀膜实例 143 5y`n8. (? 8.1 单层抗反射薄膜 145 X@j.$0eK 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 THl={,Rw` 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {BS}9jZx 8.4 W-膜层 148 d%wy@h 8.5 V-膜层 149 KqI<#hUl 8.6 V-膜层高折射基底 150 bB->7.GXu 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ?n0Z4 8% 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 C ks;f6G 8.9 四层抗反射薄膜 153 X{YY)}^ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 _9<nM48+t 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pSC\[%K 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 a(Fx1`} 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 !`h^S)$ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 "7X[@xX@ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 iT2{3t 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 f}%paE" 8.17 1/4波长堆栈 162 7kDqgod^A 8.18 陷波滤波器 163 KyQd6 1 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 h%*@82DKK 8.20 褶皱 165 Wp2$L-T&$ 8.21 消偏振分光器1 169 >=+:lD 8.22 消偏振分光器2 171 q@(MD3OE 8.23 消偏振立体分光器 172 ;ifPqLkO 8.24 消偏振截止滤光片 173 5z~O3QX 8.25 立体偏振分束器1 174 w28&qNha 8.26 立方偏振分束器2 177 ZCC T 8.27 相位延迟器 178 hq|I%>y 8.28 红外截止器 179 {IgLH`@ 8.29 21层长波带通滤波器 180 |mp~d<& 8.30 49层长波带通滤波器 181 [0M`uf/u 8.31 55层短波带通滤波器 182 4A{6)<e 8.32 47 红外截止器 183 y`Nprwb 8.33 宽带通滤波器 184 N}\%r&KR= 8.34 诱导透射滤波器 186 W_bp~Wu
8.35 诱导透射滤波器2 188 p-o8Ctc?V 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 KKcajN 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 \0,8?S 8.35 增益平坦滤波器 193 F+ Dke>j 8.38 啁啾反射镜 1 196 &)ED||r, 8.39 啁啾反射镜2 198 vXLGdv:: 8.40 啁啾反射镜3 199 ~4V-{-=0a7 8.41 带保护层的铝膜层 200 9pMXjsE 8.42 增加铝反射率膜 201 _X]\#^UiO2 8.43 参考文献 202 /:. p{y 9 多层膜 204 "969F(S$ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 N eC]MW 9.2 内部透过率 204 >*]dB| 2 9.3 内部透射率数据 205 Tf{lH9ca$ 9.4 实例 206 s/\<;g:u^ 9.5 实例2 210 /)*si 9.6 圆锥和带宽计算 212 eZdFfmYW^R 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 "~:P-]`G 10 光学薄膜的颜色 216 I1 +A$<Fa 10.1 导言 216 U)6Ew4uRxV 10.2 色彩 216 %$6?em_ 10.3 主波长和纯度 220 ,~G:>q$ad 10.4 色相和纯度 221 Hg04pZupN 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 =v(&qh9Q2 10.6 色差 226 's\rQ-TV 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 9 Eqv^0u 10.8 颜色渲染指数 234 FG5YZrONx 10.9 色差计算 235 KSve_CBOh 10.10 参考文献 236 9WT{~PGj 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 iit 5IV 11.1 短脉冲 238 DCSmEy`. 11.2 群速度 239 qS/
'Kyp_ 11.3 群速度色散 241 pebNE3`# 11.4 啁啾(chirped) 245 Im"8+756 11.5 光学薄膜—相变 245 X- P%^mK 11.6 群延迟和延迟色散 246 CuFlI?~8 z 11.7 色度色散 246 =6d'/D#J 11.8 色散补偿 249 (YY!e2 11.9 空间光线偏移 256 ,8)aKy 11.10 参考文献 258 S76xEL 12 公差与误差 260 d;g]OeF 12.1 蒙特卡罗模型 260 TeHxqWx 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 nkkUby9 12.2.1 误差工具 267 *t bgIW+h 12.2.2 灵敏度工具 271 ekCt1^5Y 12.2.2.1 独立灵敏度 271 G7k.YtW 12.2.2.2 灵敏度分布 275 }+fBJ$ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 FPkig`(3 12.3 参考文献 276 :Tdl84 13 Runsheet 与Simulator 277 V>"NVRY 13.1 原理介绍 277 yHnN7& 13.2 截止滤光片设计 277 F>
b<t.yV 14 光学常数提取 289 yHs'E4V`$ 14.1 介绍 289 1>)uI@?Rb 14.2 电介质薄膜 289 M5`wfF,j 14.3 n 和k 的提取工具 295 vpP8'f. 14.4 基底的参数提取 302 /rnP/X)T 14.5 金属的参数提取 306 \]qwD m/ 14.6 不正确的模型 306 OyATb{`' 14.7 参考文献 311 1i
7p' 15 反演工程 313 q]DE\*@ 15.1 随机性和系统性 313 RJE<1!{ 15.2 常见的系统性问题 314 \ocC'FmE 15.3 单层膜 314 Q32GI,M%B 15.4 多层膜 314 eo<=Q|nI& 15.5 含义 319 /jN&VpDG 15.6 反演工程实例 319 mU;\,96# 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Bw4PxJs- 15.6.2 反演工程提取折射率 327 ,%]xT>kH 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 puK /;nns 16.1 光学性质的热致偏移 329 k-8$43 16.2 应力工具 335
fYzZW 16.3 均匀性误差 339 #4{9l
SbU 16.3.1 圆锥工具 339 q&@q/9kz 16.3.2 波前问题 341 %5/h;4
16.4 参考文献 343 ol@LLT_m 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 Os)}kkja 17.1 引言 345 to3D#9Ep 17.2 操作数 345 iYz!:TxP 18 如何在Function中编写脚本 351 4fau
9bW 18.1 简介 351 R|K#nh 18.2 什么是脚本? 351 3ms{gZbw 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 +\~Mx>Cn 18.4 基础 352 YCu9dBeVS 18.4.1 Classes(类别) 352 h9j/mUwV 18.4.2 对象 352 sRSy++FRF 18.4.3 信息(Messages) 352 }zqYn`ffD 18.4.4 属性 352 QE~#eo 18.4.5 方法 353 h7[PU^ m 18.4.6 变量声明 353 pu5-=QN 18.5 创建对象 354 =xPBolxm5U 18.5.1 创建对象函数 355 5#$5ct 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 e]u3[ao 18.5.3 丢弃对象 356 v1~`76^ 18.5.4 总结 356 \bumB<w(] 18.6 脚本中的表格 357 j:J{m0 18.6.1 方法1 357 Pt8 U0)i) 18.6.2 方法2 357 7V KTI:5y 18.7 2D Plots in Scripts 358 qY%{c-aMA 18.8 3D Plots in Scripts 359 2z[A&s_ 18.9 注释 360 }|4dEao\ 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 [9xUMX^} 18.11 一个更高级的脚本 362 Wf:I
0 18.12 <esc>键 364 3qBZzM
O* 18.13 包含文件 365 $K*&Wdo 18.14 脚本被优化调用 366 t"]~e" 18.15 脚本中的对话框 368 9UeK}Rl^n 18.15.1 介绍 368 mdPEF)- 18.15.2 消息框-MsgBox 368 d=8q/]_p 18.15.3 输入框函数 370 w65D;9/; 18.15.4 自定义对话框 371 M}BqSzd* 18.15.5 对话框编辑器 371 #F!'B|n 18.15.6 控制对话框 377 Z}4
`y"By 18.15.7 更高级的对话框 380 l]v>PIh~N 18.16 Types语句 384 ,1&</R_ 18.17 打开文件 385 ay,E!G&H 18.18 Bags 387 ({#M*=&" 18.13 进一步研究 388 ZdY)&LJ 19 vStack 389 -VlXZj@u+ 19.1 vStack基本原理 389 uQlQ%n% 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 ::A]p@ 19.3 五棱镜 393 7iBN!"G0 19.4 光束距离 396 C"!k`i=Lj 19.5 误差 399 L.) 0!1 19.6 二向分色棱镜 399 o `N /w 19.7 偏振泄漏 404 01" b9`jU 19.8 波前误差—相位 405 &?gvW//L2 19.9 其它计算参数 405 smN|r 20 报表生成器 406 qg#|1J6e 20.1 入门 406 _}(ej&'f 20.2 指令(Instructions) 406 o7;#B)jWS 20.3 页面布局指令 406 5T4!'4n 20.4 常见的参数图和三维图 407 BNe6q[ )W~ 20.5 表格中的常见参数 408 sHQ82uX 20.6 迭代指令 408 0O:')R& 20.7 报表模版 408
+*aZ9g 20.8 开始设计一个报表模版 409 ;VAHgIpx; 21 一个新的project 413 hbg:}R=B< 21.1 创建一个新Job 414 I>( \B| \6 21.2 默认设计 415 Vy7o}z` 21.3 薄膜设计 416 4]18=?r> 21.4 误差的灵敏度计算 420
BHa'`lCb 21.5 显色指数计算 422 >l3iAy!sZ 21.6 电场分布 424 7; e$ sr 后记 426 -@EAL:kY 5p7?e3 1$#{om9 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ckTk2xPQ <4|/AF*> 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] 3EN(Pz L Lradyo44u\ 目 录 -x?I6>{ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 )IH|S5mG? 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 d1rIU6 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 vRQ7=N{3 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ecRY,MN 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ?\.aq
p1B 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 7}2Aq 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 iYk4=l
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 =
olmBXn/ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 p2/Pj)2 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 KtO|14R: 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 HDY2<Hzc 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 muJR~4 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 DZ7<-SFU 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 9$[PAjwk 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =W_Pph 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 p&nPzZQL( J )DFH~p 价 格:400元
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