上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 }}kS~
w-# 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ;FV~q{ 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 *%ed;>6:Q 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 |#DC.Ga! 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 s[0prm5. [attachment=120542] {B'Gm]4 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 D)H?=G 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ()+jrrK 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 OvyB<r 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 R-g>W 1. Essential Macleod软件介绍 xHM&csL 1.1 介绍软件 U6/m_`nc 1.2 创建一个简单的设计 0Zc*YdH 1.3 绘图和制表来表示性能 "Cb.cO$i; 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 az:~{f*- 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) cc2d/<: 1.6 特定设计的公式技术 M^|"be~{' 1.7 交互式绘图 +Op%,,Db 2. 光学薄膜理论基础 NDs]}5# 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 yS:IRI. 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8I5 VrT 3. 材料管理 7$q2v=tH_ 3.1 材料模型 H3p4,Y}'# 3.2 介质薄膜光学常数的提取 [[*0MA2Y 3.3 金属薄膜光学常数的提取 aIzp\$NWVK 3.4 基板光学常数的提取 =`7#^7Q9 4. 光学薄膜设计优化方法 9sfB+]}h 4.1 参考波长与g aIn)'] 4.2 四分之一规则 Z3X&<Y5 4.3 导纳与导纳图 s60:0 > 4.4 斜入射光学导纳 6]@|7|N>X 4.5 光学薄膜设计的进展 *oX 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 vUo.BA#;.b 4.6.1 优化目标设置 )"pxry4v7J 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ])$."g 4.6.3 膜层锁定和链接 `aO@N( 5. Essential Macleod中各个模块的应用 <WHs
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 SBN_>;$c5} 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ads<-.R 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +}`O^#<qLX 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 U'h[{ek 5.5 如何在Function中编写脚本 JucxhjV#, 6. 光学薄膜系统案例 ,/w852|ub 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %_j?<h& 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Q#J>vwi= 6.3 Stack应用范例说明 (Q h7bfd 7. 薄膜性能分析 `%mBu`A 7.1 电场分布 '^-4{Y^2E 7.2 公差与灵敏度分析 -}N\REXE 7.3 反演工程 jy__Y=1} 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Mc$v~|i6 8. 真空技术 0oi5]f6g?8 8.1 常用真空泵介绍 Q:fUM[ 8.2 真空密封和检漏 Y;> p)'z 9. 薄膜制备技术 \}4#**] 9.1 常见薄膜制备技术 0LHiOav 10. 薄膜制备工艺 a`@<Z sR 10.1 薄膜制备工艺因素 21/a3Mlx# 10.2 薄膜均匀性修正技术 O275AxaN
10.3 光学薄膜监控技术 xeP;"J} 11. 激光薄膜 dl7p1Cr 11.1 薄膜的损伤问题 Vm1 c-,)3 11.2 激光薄膜的制备流程 P B6/<n9# 11.3 激光薄膜的制备技术 WJFTy+bD 12. 光学薄膜特性测量 |E_+*1l q. 12.1 薄膜光谱测量 1O3<%T#LOZ 12.2 薄膜光学常数测量 p3A-WK|NX 12.3 薄膜应力测量 YI),q.3X~ 12.4 薄膜损伤测量 XUqE5[O% 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] bU4+PA@$
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544]
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内容简介 :J4C'N Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 %wjU^Urya 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .IAHy)li" 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]kplb0` tSXjp
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 8JFkeU%yO "6NNId|Y 目录 OB
i!fLa Preface 1 4#7@KhK} 内容简介 2 O"-PNF,J 目录 i em9]WSfZ@` 1 引言 1 QsF<=b~ 2 光学薄膜基础 2 ~z1KD)^ 2.1 一般规则 2 fi4/@tV?$L 2.2 正交入射规则 3 owY_cDzrH 2.3 斜入射规则 6 (PrPH/$ 2.4 精确计算 7 B?YfOSF=5 2.5 相干性 8 6exlb: 2.6 参考文献 10 e4W];7_K! 3 Essential Macleod的快速预览 10 C<=p"pWw 4 Essential Macleod的特点 32 x2& |