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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 d" 0&=/  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 CXuMNa  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 {|0YcL  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ci+a jON  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 9W-" mD;  
[attachment=120542] *Cp:<M nd  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 g0QYBrp  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 PB*G#2W  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 [uJS. `b  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Wc m'E3c,  
1. Essential Macleod软件介绍 *T}c{/  
1.1 介绍软件 `tuGy}S2  
1.2 创建一个简单的设计 Kc@Sw{JR#7  
1.3 绘图和制表来表示性能 cb|hIn\>7  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 vV=rBO0a?  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) c M<08-:v  
1.6 特定设计的公式技术 YuHXm3[  
1.7 交互式绘图 KRR)pT  
2. 光学薄膜理论基础 7/KK}\NE  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *Jt+-ZM  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 f6\4 ,()  
3. 材料管理 7$Wbf4  
3.1 材料模型 o*E32#l  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !M)] 1Y  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 .=yv m  
3.4 基板光学常数的提取 eNH9`Aa  
4. 光学薄膜设计优化方法 oO7)7$|1  
4.1 参考波长与g =j20A6gND  
4.2 四分之一规则 ]R!YRu  
4.3 导纳与导纳图 pVzr]WFx  
4.4 斜入射光学导纳 3A =\Mb  
4.5 光学薄膜设计的进展 !?J- Y  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 -2u)orWP  
4.6.1 优化目标设置 A@Zqh<,Ud  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) j,9/eZRZ  
4.6.3 膜层锁定和链接 \J#&]o)Y  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 p/l">d]+  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 "~zLG"  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 cdGBo4  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 )_>'D4l ?  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 q<^MC/]  
5.5 如何在Function中编写脚本 ]Nssn\X7  
6. 光学薄膜系统案例 .!+7|us8l\  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 k}qCkm27  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 f<oU" WM  
6.3 Stack应用范例说明 0`v-pL0|  
7. 薄膜性能分析 %h,&ND  
7.1 电场分布 +!:=Mm  
7.2 公差与灵敏度分析 +M#}(hK  
7.3 反演工程 Eg}U.ss^  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 /2*Bd E[yG  
8. 真空技术 P1^|r}  
8.1 常用真空泵介绍 wZJbI[r  
8.2 真空密封和检漏 M ' %zA;Wl  
9. 薄膜制备技术 \hEIQjfi  
9.1 常见薄膜制备技术 #_K<-m%9  
10. 薄膜制备工艺 eJ ^I+?h  
10.1 薄膜制备工艺因素 2AMb-&po&f  
10.2 薄膜均匀性修正技术 H4T~Kv  
10.3 光学薄膜监控技术 z;/8R7L&  
11. 激光薄膜 DSq?|H  
11.1 薄膜的损伤问题 p&4n"hC  
11.2 激光薄膜的制备流程 o=Mm=;H  
11.3 激光薄膜的制备技术 se]&)%p[  
12. 光学薄膜特性测量 [~G1Rz\h  
12.1 薄膜光谱测量 w8:  
12.2 薄膜光学常数测量 xpu 2RE  
12.3 薄膜应力测量 8GjETq%}  
12.4 薄膜损伤测量 <9:~u]ixt  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
5')]Y1J  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
1;B&R89}  
内容简介 @o#Yq n3Y  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 .wlKl[lE2  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 8A::q;  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 L`w r~E2u  
q"S,<I<f  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
qzO5p=}  
yOAC<<Tzus  
目录 5DkEJk7a  
Preface 1 BnDCK@+|Q  
内容简介 2 6V@_?a-K  
目录 i !"-.D4*r  
1  引言 1 D,lY_6=  
2  光学薄膜基础 2 a"t~ K  
2.1  一般规则 2 }*C  
2.2  正交入射规则 3 X8R:9q_  
2.3  斜入射规则 6 >p;&AaXkoG  
2.4  精确计算 7 m~P30)  
2.5  相干性 8 R9"}-A  
2.6 参考文献 10 I36%oA  
3  Essential Macleod的快速预览 10  &"27U  
4  Essential Macleod的特点 32 _%\%  
4.1  容量和局限性 33 ;mGPX~38  
4.2  程序在哪里? 33 PDz:x4A  
4.3  数据文件 35 t y4R2LnC  
4.4  设计规则 35 V\]j^$  
4.5  材料数据库和资料库 37 M`@ASL:u  
4.5.1材料损失 38 5~im.XfiVx  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ~_F;>N~  
4.5.2 材料库 41 &@BAVc z  
4.5.3导出材料数据 43 EwuRIe;D  
4.6  常用单位 43 4sBvW  
4.7  插值和外推法 46 WiQVZ {  
4.8  材料数据的平滑 50 UWK|_RT6SA  
4.9 更多光学常数模型 54 GK3T w  
4.10  文档的一般编辑规则 55 T/ eX7p1  
4.11 撤销和重做 56 vifw FPe  
4.12  设计文档 57 D`'Cnt/  
4.10.1  公式 58 =K|#5p`  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 utl-#Wwt/  
4.10.3  沉积密度 59 0S'@(p[A  
4.10.4 平行和楔形介质 60 s16, *;Z  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 >Bdh`Ot-!  
4.10.4  性能 61 >ke.ZZV?  
4.10.5  保存设计和性能 64 ' u;Zw%O(J  
4.10.6  默认设计 64 ct OCj$$u  
4.11  图表 64 }; M@JMu,  
4.11.1  合并曲线图 67 P>_9>k@;Q  
4.11.2  自适应绘制 68 :2/ jI:L~  
4.11.3  动态绘图 68 Oo FMOlb.Z  
4.11.4  3D绘图 69 \7#w@3*  
4.12  导入和导出 73 GRVF/hPn  
4.12.1  剪贴板 73 ?$uF(>LD  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 ~{-Ka>A  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 PlK3;  
4.13  背景 77 ?,+&NX3m  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =PNkzFUo  
4.15  生成Rugate 84 G -K{  
4.16  参考文献 91 D]rYg'  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Dv` "3  
5.1  Jobs 92 XzqB=iX  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 6K<o0=,jm2  
5.3  输入材料 94 R$A%Zh6  
5.4  设计数据文件夹 95 4<)*a]\c5M  
5.5  默认设计 95 R#8cOmZ  
6  细化和合成 97 aJF/y3  
6.1  优化介绍 97 ~x+'-2A46  
6.2  细化 (Refinement) 98 H+]h+K9\7  
6.3  合成 (Synthesis) 100 >j$aY  
6.4  目标和评价函数 101 .3VL  
6.4.1  目标输入 102 |:4?K*w",  
6.4.2  目标 103 }bdoJ5  
6.4.3  特殊的评价函数 104 LpSF*xm  
6.5  层锁定和连接 104 0=t2|,}  
6.6  细化技术 104 yGrnzB6|  
6.6.1  单纯形 105 "L1LL iS  
6.6.1.1 单纯形参数 106 bb\XZ~)F  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 }u$c*}  
6.6.2.1 Optimac参数 108 i+< v7?:`#  
6.6.3  模拟退火算法 109 7ncR2-{g  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 f#m@eb  
6.6.4  共轭梯度 111 in,0(I&I  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 S')DAx  
6.6.5  拟牛顿法 112 |`Yn'Mj8rm  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 yV(9@lj3;  
6.6.6  针合成 113 !Fxn1Z,  
6.6.6.1 针合成参数 114 N;BuBm5K  
6.6.7 差分进化 114 1OMaY5F  
6.6.8非局部细化 115 % WXl*  
6.6.8.1非局部细化参数 115 H"k\(SPVS  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 U:eX^LE7  
6.7.1  细化 116 !7Qj8YmS  
6.7.2  合成 117 8g-Z~~0W1  
6.8  参考文献 117 &m[}%e%~0  
7  导纳图及其他工具 118 < 1m `  
7.1  简介 118 -MsL>F.]  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 F$|:'#KN  
7.2.1  四分之一波长规则 119 }NG P!  
7.2.2  导纳图 120 j)@{_tv6;  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >SziRm>Y7  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ZGI<L  
7.5  斜入射导纳图 141 ) R5j?6}xF  
7.6  对称周期 141 w9RBT(u  
7.7  参考文献 142 V>Xg\9B_  
8  典型的镀膜实例 143 !+z^VcV  
8.1  单层抗反射薄膜 145 a.JjbFL  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 CyHHV  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 p1i}fGS  
8.4  W-膜层 148 ^;( dF<?'r  
8.5  V-膜层 149 K"5q387!  
8.6  V-膜层高折射基底 150 fk X86  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 AcH!KbYf  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 $]}K;  
8.9  四层抗反射薄膜 153 OT=1doDp  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 .m>Qlh  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 QlR~rFs9t  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 8\:>;XG6f  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 DTo"{!  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 h"Wpb}FT  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 `'3 De(  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 !TY0;is  
8.17  1/4波长堆栈 162 5!$sQ@#}D  
8.18  陷波滤波器 163 )\2KDXc  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 1|ddG010  
8.20  褶皱 165 )D'# >!Y  
8.21  消偏振分光器1 169 TvT>UBqj=  
8.22  消偏振分光器2 171 s"w^E\ >6  
8.23  消偏振立体分光器 172 Fs=x+8'M  
8.24  消偏振截止滤光片 173 \T<F#a  
8.25  立体偏振分束器1 174 t]]Ig  
8.26  立方偏振分束器2 177 |JWYsqJ0U  
8.27  相位延迟器 178 )dEcKH<#  
8.28  红外截止器 179 ;pOV; q3j  
8.29  21层长波带通滤波器 180 5=p<"*zJ  
8.30  49层长波带通滤波器 181 I5g|)Y Q  
8.31  55层短波带通滤波器 182 q(hBqUW  
8.32  47 红外截止器 183 eLXL5&}`fh  
8.33  宽带通滤波器 184 1{d;Ngx  
8.34  诱导透射滤波器 186 PvjZoF["  
8.35  诱导透射滤波器2 188 q*Hg-J}  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 |*h{GX.(  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 wTZ(vX*mK  
8.35  增益平坦滤波器 193 oAB:H \  
8.38  啁啾反射镜 1 196 dV'^K%#  
8.39  啁啾反射镜2 198 |S@  
8.40  啁啾反射镜3 199 T@#?{eA  
8.41  带保护层的铝膜层 200 [P ;fv  
8.42  增加铝反射率膜 201 F]>+pU  
8.43  参考文献 202 kX}sDvP3  
9  多层膜 204 <n~.X<6V'  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ~OxFgKn23&  
9.2  内部透过率 204 S*J\YcqSC  
9.3 内部透射率数据 205 w,R6:*p5  
9.4  实例 206 6|3 X*Orn  
9.5  实例2 210 60A!Gob  
9.6  圆锥和带宽计算 212 8<C@I/  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Z0y~%[1X  
10  光学薄膜的颜色 216 VnB HQ.C  
10.1  导言 216 Lpkx$QZ  
10.2  色彩 216 <6,,:=#  
10.3  主波长和纯度 220 3K/ tB1  
10.4  色相和纯度 221 JTBt=u{6^  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 2DJg__("  
10.6 色差 226 ?vI2mr a+  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 k2,`W2] ^E  
10.8  颜色渲染指数 234 ru`U/6 n  
10.9  色差计算 235 l.Ev]G/5  
10.10  参考文献 236 :~srl)|)  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 }fo_"bs@  
11.1  短脉冲 238 .;ofRx<  
11.2  群速度 239 mQ`2c:Rn&7  
11.3  群速度色散 241 NW3qs`$-(  
11.4  啁啾(chirped) 245 YTY(Et1i  
11.5  光学薄膜—相变 245 \*b  .f  
11.6  群延迟和延迟色散 246 9b,0_IMHH  
11.7  色度色散 246 >g~IP>  
11.8  色散补偿 249 zOFHdd ,"g  
11.9  空间光线偏移 256 _j0xL{&&  
11.10  参考文献 258 B3?rR-2mEE  
12  公差与误差 260 k4u/v n`&r  
12.1  蒙特卡罗模型 260 a;-%C{S9r  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 % a.T@E  
12.2.1  误差工具 267 j)YX=r;xM  
12.2.2  灵敏度工具 271 #9.%>1{6Y  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 Dr=$}Y  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 m}oR*<.  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _FcTY5."S  
12.3  参考文献 276 (3!6nQj-t  
13  Runsheet 与Simulator 277 e<a*@ P,  
13.1  原理介绍 277 @H~oOf  
13.2  截止滤光片设计 277 :i0;jWc b  
14  光学常数提取 289 EEK!'[<,sE  
14.1  介绍 289 O`GF |  
14.2  电介质薄膜 289 IEP|j;~*  
14.3  n 和k 的提取工具 295 oqh J2  
14.4  基底的参数提取 302  (#O"  
14.5  金属的参数提取 306 :g|NE\z`)/  
14.6  不正确的模型 306 N3MPW  
14.7  参考文献 311 Qy[S~D_  
15  反演工程 313 /N<aN9Z<x,  
15.1  随机性和系统性 313 r7R.dD /.  
15.2  常见的系统性问题 314 -KfK~P3PF  
15.3  单层膜 314 ]o0]i<:  
15.4  多层膜 314 &nI>`Q'  
15.5  含义 319 G%>[7]H  
15.6  反演工程实例 319 PUZcb+%]h  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 %eIaH!x:  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 TBO g.y]  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 "$o>_+U  
16.1  光学性质的热致偏移 329 w4}Q6_0v  
16.2  应力工具 335 mf{M-(6'  
16.3  均匀性误差 339 }S?"mg& V  
16.3.1  圆锥工具 339 Tbv w?3  
16.3.2  波前问题 341 ,c?( |tF  
16.4  参考文献 343 _O'!C!K6  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 -\;0gnf{J  
17.1  引言 345 EU|IzUjFj|  
17.2  操作数 345 j|&D(]W/  
18  如何在Function中编写脚本 351  |:x,|>/  
18.1  简介 351 .`*]nN{  
18.2  什么是脚本? 351 ~I;x_0iY4  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 P:vp/x!  
18.4  基础 352 FBB<1({A  
18.4.1  Classes(类别) 352 pmWy:0R  
18.4.2  对象 352 eiyr^Sch.  
18.4.3  信息(Messages) 352 Z2})n -  
18.4.4  属性 352 (s&]V49  
18.4.5  方法 353 $cJ fdE  
18.4.6  变量声明 353 Z}>F V~4  
18.5  创建对象 354 dW!El^w}  
18.5.1  创建对象函数 355 Cojs;`3iF:  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 .s,04xW\  
18.5.3 丢弃对象 356 ry=8Oq&[~  
18.5.4  总结 356 d4^x,hzV  
18.6  脚本中的表格 357 MusUgBQy  
18.6.1  方法1 357 A/UOcl+N  
18.6.2  方法2 357 39 zfbxX  
18.7 2D Plots in Scripts 358 6jgP/~hP>N  
18.8 3D Plots in Scripts 359 <Lxp t  
18.9  注释 360 6m(? (6+;K  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 6k>5+-&_  
18.11  一个更高级的脚本 362 N"G\ H<n  
18.12  <esc>键 364 A[7H-1-  
18.13 包含文件 365 Z4As'al  
18.14  脚本被优化调用 366 (hZNWQ0  
18.15  脚本中的对话框 368 0#8, (6  
18.15.1  介绍 368 a)=|{QR>W  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 r4K9W9 0  
18.15.3  输入框函数 370 ^gp]tAf  
18.15.4  自定义对话框 371 N wNxO  
18.15.5  对话框编辑器 371 #5{xWMp/0  
18.15.6  控制对话框 377 *n&Sd~Mg  
18.15.7  更高级的对话框 380 zx2`0%Q  
18.16 Types语句 384 Jj=N+,km  
18.17 打开文件 385 .xmB8 R  
18.18 Bags 387 Db*b"/]  
18.13  进一步研究 388 fiA8W  
19  vStack 389 AA=rjB9  
19.1  vStack基本原理 389 '<<@@.(f  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 0uW)&>W  
19.3  五棱镜 393 V?"U)Y@Y  
19.4 光束距离 396 w+*rbJ  
19.5 误差 399 $ ~%Y}Xt*  
19.6  二向分色棱镜 399 U>.5vK.+  
19.7  偏振泄漏 404 p!=8Pq.  
19.8  波前误差—相位 405 -=8f*K[W  
19.9  其它计算参数 405 LA59O@r  
20  报表生成器 406 YlG#sBzl  
20.1  入门 406 Y%eW6Y#  
20.2  指令(Instructions) 406 8N9,HNBT$  
20.3  页面布局指令 406 @d|Sv1d%  
20.4  常见的参数图和三维图 407 $V?sD{=W  
20.5  表格中的常见参数 408 sH2xkUp  
20.6  迭代指令 408 j #P4&  
20.7  报表模版 408 Vh?vD:|  
20.8  开始设计一个报表模版 409 =1R 2`H\  
21  一个新的project 413 HDzeotD  
21.1  创建一个新Job 414 wA/!A$v(  
21.2  默认设计 415 !]A/ID0K  
21.3  薄膜设计 416 I{U|'a  
21.4  误差的灵敏度计算 420 SIR2 Kc0  
21.5  显色指数计算 422 ~'0n ]Fw  
21.6  电场分布 424 G:lhrT{  
后记 426 *?uUP  
k{F6WQ7  
 f-[.^/  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 n[K%Xs)  
c1+z(NQ3  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
tK{#kApHGG  
K3tW Y 4-  
目  录 v*JKLA  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 z@\mn  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 E)jd>"  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 yY49JZ  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 04v ~ K  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 #Y-_kQV*  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 wG)[Ik6:  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Z> Rshtg  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 i(.PkYkaq  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 /`aPV"$M  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 AU%Yr 6  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 >Jn`RsuV  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 "10\y{`v^  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 upk_;ae  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Yqo@ g2g  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 !qlk-0&`  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 iY2q^z/S  
}.9a!/@Aj  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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