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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 =ab}.dWC  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 x^BBK'  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 )\G#[Pc7  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 x%&V!L  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ohk =7d.'  
[attachment=120542] '|R|7nQAj  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 p?nVPTh  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 M - TK  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。  ond/e&1  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲  sOmYQ{R  
1. Essential Macleod软件介绍 7?s>u937  
1.1 介绍软件 &LYZQ?|  
1.2 创建一个简单的设计 \v Go5`  
1.3 绘图和制表来表示性能 Y7HWf  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 rt z(Jt{<  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) H;`@SJBf  
1.6 特定设计的公式技术 0nAS4Az  
1.7 交互式绘图 5Z{[.&x  
2. 光学薄膜理论基础 HtlXbzN%)  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 (ol 3vt  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4 @h6|=  
3. 材料管理 WxdYvmp6z[  
3.1 材料模型 u#QQCgrs  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 8~7EWl  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 r38CPdE;}  
3.4 基板光学常数的提取 = 8n*%NC  
4. 光学薄膜设计优化方法 )`a R?_  
4.1 参考波长与g XUWza=BR"  
4.2 四分之一规则 }T6jQ:?@  
4.3 导纳与导纳图 <JlKtR&nSo  
4.4 斜入射光学导纳 5UqCRz<,R  
4.5 光学薄膜设计的进展 #cA}B L!3  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 3ul  
4.6.1 优化目标设置 ^?,/_3  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) u:k#1Nn!  
4.6.3 膜层锁定和链接 y}|zH  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 rYT3oqpfT  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 SU1, +7"  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ,Tpds^  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 =i.[|g"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 SU:Cm: $  
5.5 如何在Function中编写脚本 _ ge3R3  
6. 光学薄膜系统案例 v/)dsSNZ0u  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 TE/2}XG)  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 N$. ''D?7D  
6.3 Stack应用范例说明 =,sMOJ c>  
7. 薄膜性能分析 5(,WN  
7.1 电场分布 ms~ mg:  
7.2 公差与灵敏度分析 w>#~_x, `  
7.3 反演工程 UO</4WJ  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 (FBKP#x)^  
8. 真空技术 xi-^_I  
8.1 常用真空泵介绍   ]3%Z  
8.2 真空密封和检漏 5}1cNp6@  
9. 薄膜制备技术 Yx,  
9.1 常见薄膜制备技术 o zv><e#  
10. 薄膜制备工艺 sb;81?|  
10.1 薄膜制备工艺因素 z}Xn>-N-  
10.2 薄膜均匀性修正技术 m'Wz0b^BO  
10.3 光学薄膜监控技术 7D4P= $UJp  
11. 激光薄膜 9NVe>\s_  
11.1 薄膜的损伤问题 D\>CEBt  
11.2 激光薄膜的制备流程 #lNi\Lw+j  
11.3 激光薄膜的制备技术 #;H+Kb5O  
12. 光学薄膜特性测量 }9jy)gF*e  
12.1 薄膜光谱测量 7` &K=( .  
12.2 薄膜光学常数测量 [CJ&Yz Ji  
12.3 薄膜应力测量 |0dmdrKD  
12.4 薄膜损伤测量 7\eN 8+  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
59IxY ?  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
!XQG1!|ww  
内容简介 _yumUk-QW  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /`3< @{D  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 nUD)G<v  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 B<x)^[<v  
Y;4nIWe JL  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
4l560Fb'U  
z`]'~  
目录 C|8.$s<  
Preface 1 5Z,^4 6J  
内容简介 2 }>>lgW>n,;  
目录 i x~rIr#o  
1  引言 1 ggIz) </  
2  光学薄膜基础 2 xQ=[0!p+  
2.1  一般规则 2 iZ yhj%#  
2.2  正交入射规则 3 2'$p(  
2.3  斜入射规则 6 4Bsx[~ u&  
2.4  精确计算 7 8HS1^\~(6l  
2.5  相干性 8 3XjM@D  
2.6 参考文献 10 9l5l"Wj&  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ?KDI'>"-v  
4  Essential Macleod的特点 32 *W~+Nho.A  
4.1  容量和局限性 33 GcmN40  
4.2  程序在哪里? 33 fH-V!QYGF  
4.3  数据文件 35 /~Zxx}<;  
4.4  设计规则 35 GSj04-T"  
4.5  材料数据库和资料库 37 $y S7u  
4.5.1材料损失 38 BuII|j  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 A8Tq2]"* S  
4.5.2 材料库 41 z-<U5-'  
4.5.3导出材料数据 43 yu"enA  
4.6  常用单位 43  [R:\  
4.7  插值和外推法 46 xcz[w}{eEq  
4.8  材料数据的平滑 50 k\rzvo=U  
4.9 更多光学常数模型 54 7m3|2Qv  
4.10  文档的一般编辑规则 55 cD5c&+,&I  
4.11 撤销和重做 56 $Kw)BnV  
4.12  设计文档 57 oju)8H1o#  
4.10.1  公式 58 MM8@0t'E  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %5.aC|^}  
4.10.3  沉积密度 59 y8=p;7DY  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ocOzQ13@Y  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ~$xLR/{y  
4.10.4  性能 61 %6rMS}  
4.10.5  保存设计和性能 64 FaS}$-0  
4.10.6  默认设计 64 A<-Prvryt  
4.11  图表 64 ernZfd{H  
4.11.1  合并曲线图 67 baJ(Iy$XT  
4.11.2  自适应绘制 68 c 4Q{  
4.11.3  动态绘图 68 =xz Dpn>f  
4.11.4  3D绘图 69  }NX9"}/  
4.12  导入和导出 73 ~a@O1MB  
4.12.1  剪贴板 73 e_mUO"  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 wV\;,(<x=%  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ?S&pq?   
4.13  背景 77 iEd%8 F h  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 [>+}2-#  
4.15  生成Rugate 84 Np$peT[  
4.16  参考文献 91 {|)u).n|  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 MLD-uI10{  
5.1  Jobs 92 ch2Qk8  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 1e=<df  
5.3  输入材料 94 qm30,$\c`~  
5.4  设计数据文件夹 95 ^@W98_bd;  
5.5  默认设计 95 HzADz%~  
6  细化和合成 97 fwvPh&U&  
6.1  优化介绍 97 < H1+qN=]`  
6.2  细化 (Refinement) 98 > Y7nq\  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Twscc"mK  
6.4  目标和评价函数 101 Z.9 ?u;  
6.4.1  目标输入 102 ;Y:_}kN8_  
6.4.2  目标 103 ym*,X@Qg^  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ;^QG>OP$  
6.5  层锁定和连接 104 WxNPAJ6YH  
6.6  细化技术 104 P bR6>'  
6.6.1  单纯形 105 Vs>/q:I  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Z<7FF}i  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 | CNsa  
6.6.2.1 Optimac参数 108 &zVF!xNy&  
6.6.3  模拟退火算法 109 rL+K Sb  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 hAHZN^x&  
6.6.4  共轭梯度 111 YS$?Wz  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >3R%GNw  
6.6.5  拟牛顿法 112 P38D-fLq  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 OKDBzl  
6.6.6  针合成 113 M,0@@:  
6.6.6.1 针合成参数 114 Qg dHIMY  
6.6.7 差分进化 114 ^QX3p,Y  
6.6.8非局部细化 115 x)'4u6;d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 GWs[a$|  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 C)2Waj}  
6.7.1  细化 116 f< A@D"m/  
6.7.2  合成 117 8"2 Y$*)(  
6.8  参考文献 117 k0;ND  
7  导纳图及其他工具 118  T~I5W=y  
7.1  简介 118 3q*y~5&I  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 a<CN2e_Z  
7.2.1  四分之一波长规则 119 -7_`6U2"  
7.2.2  导纳图 120 d ]LF5*i  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "tu BfA+f  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 &V;^xMO!  
7.5  斜入射导纳图 141 N 3IF j  
7.6  对称周期 141 &h=O;?dO  
7.7  参考文献 142 ^WDAW#f*<  
8  典型的镀膜实例 143 cU\Er{ k  
8.1  单层抗反射薄膜 145 'I|A*rO  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 lWj|7  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 w_30g6tA  
8.4  W-膜层 148 /]=d Pb%  
8.5  V-膜层 149 G([8Q8B4 +  
8.6  V-膜层高折射基底 150 J 00<NRxj"  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 N>z<v\`  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 v,t&t9}/  
8.9  四层抗反射薄膜 153 w,L PM+  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 9W$d'IA  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 (P;z* "q  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 G{*m] 0Q  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 "kC uCc  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ns_5|*'  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Kg0Vbzvb  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ]^,<Ez  
8.17  1/4波长堆栈 162 @=o1q=5@8  
8.18  陷波滤波器 163 a\an  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 0RY{y n3  
8.20  褶皱 165 i3I'n*  
8.21  消偏振分光器1 169 zNT~-  
8.22  消偏振分光器2 171 ~YO-GX(  
8.23  消偏振立体分光器 172 [;M31b3  
8.24  消偏振截止滤光片 173 F"O{eK0T  
8.25  立体偏振分束器1 174 V$u~}]z  
8.26  立方偏振分束器2 177 q1j<p)(  
8.27  相位延迟器 178 aVv$k  
8.28  红外截止器 179 M/GQQG;  
8.29  21层长波带通滤波器 180 J%']t$ AR  
8.30  49层长波带通滤波器 181 }>vf(9sF`  
8.31  55层短波带通滤波器 182 j&(2ze:=*$  
8.32  47 红外截止器 183 #~um F%#  
8.33  宽带通滤波器 184 &0*l=!:G^  
8.34  诱导透射滤波器 186 '0g1v7Gx  
8.35  诱导透射滤波器2 188 KE\p|Xi  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 WN9 <  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 u9>zC QRO  
8.35  增益平坦滤波器 193 910Ym!\{:  
8.38  啁啾反射镜 1 196 IWeQMwg  
8.39  啁啾反射镜2 198 hQ&S*f&='  
8.40  啁啾反射镜3 199 |fdr\t#'~  
8.41  带保护层的铝膜层 200 P 3uAS  
8.42  增加铝反射率膜 201 =jvM$  
8.43  参考文献 202 }IvJIr  
9  多层膜 204 gd'#K~?  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 #*uSYGdc  
9.2  内部透过率 204 ~S}>|q$  
9.3 内部透射率数据 205 <1[WNj2[  
9.4  实例 206 gwk$|aT@  
9.5  实例2 210 $Z)Dvy|  
9.6  圆锥和带宽计算 212 c;_GZ}8  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 .J' 8d"+  
10  光学薄膜的颜色 216 @AUx%:}0Y:  
10.1  导言 216 dw,Nlf~*0  
10.2  色彩 216 Bb[%?~ E!  
10.3  主波长和纯度 220 q q}EXq^  
10.4  色相和纯度 221 %C=^ h1t%  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 8 [i#x|`g  
10.6 色差 226 nd 'K4q  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 KZO!  
10.8  颜色渲染指数 234 7"F w8;k  
10.9  色差计算 235 =W)Fa6P3j(  
10.10  参考文献 236 C 5QPt  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238  mfOr+   
11.1  短脉冲 238 "- xm+7  
11.2  群速度 239 >nmby|XtW  
11.3  群速度色散 241  FRI<A8  
11.4  啁啾(chirped) 245 Tz.!  
11.5  光学薄膜—相变 245 3/8o)9f.  
11.6  群延迟和延迟色散 246  r(pp =  
11.7  色度色散 246 0-"ps]X  
11.8  色散补偿 249 vPEL'mw/3#  
11.9  空间光线偏移 256 NGB%fJ  
11.10  参考文献 258 x8%Q TTY  
12  公差与误差 260 7k{Oae\$  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Z"#ysC  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 uy\< t  
12.2.1  误差工具 267 N8(xz-6  
12.2.2  灵敏度工具 271 kRNr`yfN  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 {:40Jf  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 I1U{t  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 B1m@  
12.3  参考文献 276 r AMnM>`  
13  Runsheet 与Simulator 277 `),7*gn*)  
13.1  原理介绍 277 / 3:R{9S%  
13.2  截止滤光片设计 277 Ous[{"-J  
14  光学常数提取 289 PCnE-$QH  
14.1  介绍 289 W"4E0!r  
14.2  电介质薄膜 289 d.tjLeY  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Z@&_ T3M  
14.4  基底的参数提取 302 ;[WW,,!Y  
14.5  金属的参数提取 306  fI[tU(x  
14.6  不正确的模型 306 %lz\w{  
14.7  参考文献 311 9Q- /Yh  
15  反演工程 313 ]]@jvU_?kS  
15.1  随机性和系统性 313 .6SdSB ^M  
15.2  常见的系统性问题 314 4]nU%`Z1w  
15.3  单层膜 314 7a0ZI  
15.4  多层膜 314 K"Vv=  
15.5  含义 319 c#nFm&}dm  
15.6  反演工程实例 319 HZCEr6}(  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 z=<T[Uy  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 s`xp6\$  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 1B= vrGq  
16.1  光学性质的热致偏移 329 3;~1rw=$<  
16.2  应力工具 335 *MW)APw=  
16.3  均匀性误差 339 /pgfa-<  
16.3.1  圆锥工具 339 sR,]eo<p&  
16.3.2  波前问题 341 qu BTRW9  
16.4  参考文献 343 8#'<SB  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 rxCEOG  
17.1  引言 345 aUSxy8%  
17.2  操作数 345 @gENv~m<OI  
18  如何在Function中编写脚本 351 X}p#9^%N  
18.1  简介 351 Xhtc0\0"(  
18.2  什么是脚本? 351 .Br2^F  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 } IFZ$Y  
18.4  基础 352 ]B=B@UO@.  
18.4.1  Classes(类别) 352 "o#"u[W ,  
18.4.2  对象 352 G& cm5  
18.4.3  信息(Messages) 352 =$Sf]L  
18.4.4  属性 352 5tHv'@  
18.4.5  方法 353 fJLlz$H  
18.4.6  变量声明 353 LSlaz  
18.5  创建对象 354 LP_d}ve  
18.5.1  创建对象函数 355 6=A2Y:8  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 :Gqyj_|<  
18.5.3 丢弃对象 356 5p"n g8nR  
18.5.4  总结 356 <M nzR  
18.6  脚本中的表格 357 ESiNW&u2  
18.6.1  方法1 357 l>h%J,W  
18.6.2  方法2 357 >4}+\ Q`S  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ur={+0 y  
18.8 3D Plots in Scripts 359 X<\^*{  
18.9  注释 360 iq,qf)BY.|  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 (*7edc"F  
18.11  一个更高级的脚本 362 #9EpQc[4  
18.12  <esc>键 364 'cy35M  
18.13 包含文件 365 nf+8OH7  
18.14  脚本被优化调用 366 NZ9=hI;iM  
18.15  脚本中的对话框 368 J)A1`(x&T  
18.15.1  介绍 368 "6^tG[G%  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 0z&3jWWY@  
18.15.3  输入框函数 370 dr^pzM!N  
18.15.4  自定义对话框 371 8U0y86q>)E  
18.15.5  对话框编辑器 371 (S0MqX*  
18.15.6  控制对话框 377 v3Tr6[9  
18.15.7  更高级的对话框 380 dMw7Lp&  
18.16 Types语句 384 +`kfcA#pi  
18.17 打开文件 385 5!}xl9D  
18.18 Bags 387 5X\3y4  
18.13  进一步研究 388 =+~e44!~D  
19  vStack 389 !cE>L~cza  
19.1  vStack基本原理 389 X/lLM`  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 hEsCOcEG  
19.3  五棱镜 393 \ lP c,8)  
19.4 光束距离 396 LkMhS0?(T  
19.5 误差 399 ]p(+m_F  
19.6  二向分色棱镜 399 D#x D-c  
19.7  偏振泄漏 404 + htTrHjt  
19.8  波前误差—相位 405 %*e6@Hm  
19.9  其它计算参数 405 E:4`x_~qQ  
20  报表生成器 406 N/DcaHFYo  
20.1  入门 406 p&B98c  
20.2  指令(Instructions) 406 Y4 ){{bEp  
20.3  页面布局指令 406 }+#-\a2  
20.4  常见的参数图和三维图 407 i&-g 0  
20.5  表格中的常见参数 408 UMm<HQ  
20.6  迭代指令 408 Y"D'|i  
20.7  报表模版 408 'I($IM  
20.8  开始设计一个报表模版 409 qw&Wfk\}  
21  一个新的project 413 ]7O)iq%  
21.1  创建一个新Job 414 apF!@O^}y  
21.2  默认设计 415 cn v4!c0  
21.3  薄膜设计 416 l^:m!SA_  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Km8btS]n  
21.5  显色指数计算 422 -_ .f&l8  
21.6  电场分布 424 vI{JBWE,S  
后记 426 8;P8CKe  
S9 <J \`FG  
IQMk:  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ^HLi1w|  
?Bq"9*q  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
l2+qP{_4  
(Z=ziopDE  
目  录 i?z3!`m  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 v{i'o4  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 8*6vX!Z|  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 sVZb[|zSri  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ! o:m*:  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4 `Z@^W  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ? 1?^>M  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ^5qX+!3r{  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 *SzP7]1m  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 @(JcM=  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 :J@q Xa  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 Vpt)?];P  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 _K )B  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 9.qIhg  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 C.C)&&|X  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 `FH Hh  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 )@Z J3l.  
S]KcAz(fX  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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