上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 %S$P<nKN5 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 --S1p0 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 0L->e(Vf7u 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ;Fo%R$y 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 "LwLTPC2 [attachment=120542] irjOGn 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 U}#3LFr.? 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 VT>TmfN(I 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 &xhwx>C`K 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 4OX2GH=W 1. Essential Macleod软件介绍 l=|>9,La 1.1 介绍软件 -DVoO2|Dv 1.2 创建一个简单的设计 L{pz)')I 1.3 绘图和制表来表示性能 e>F i 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
b#uNdq3 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) #%Hk-a=>)# 1.6 特定设计的公式技术 -|z
]Ir 1.7 交互式绘图 ;$a+ > 2. 光学薄膜理论基础 QR+xPY~ 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 "Wz8f 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _ MsO2A 3. 材料管理 Bb[WtT}= 3.1 材料模型 {^J/S}L] 3.2 介质薄膜光学常数的提取 [zC1LTXe 3.3 金属薄膜光学常数的提取 <v=$A]K 3.4 基板光学常数的提取 ]et
]Vkg 4. 光学薄膜设计优化方法 IOfxx>=3 4.1 参考波长与g +N6IdDN3 4.2 四分之一规则 I45 kPfu 4.3 导纳与导纳图 D=+md 4.4 斜入射光学导纳 }nEa9h 4.5 光学薄膜设计的进展 `Wl_yC_*G; 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 RGu`Jk 4.6.1 优化目标设置 HbI'n,+ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 8=K%7:b 4.6.3 膜层锁定和链接 a/\SPXQ/9 5. Essential Macleod中各个模块的应用 "U"phLX 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 |mM K9OEu 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ^cUmLzM 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 M2kvj'WWq 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Vjdu9Ez 5.5 如何在Function中编写脚本 ._E 6? 6. 光学薄膜系统案例 8AjQPDn+ 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 c>|1%}"? 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 qix$ }(P 6.3 Stack应用范例说明 @=7[ KM b 7. 薄膜性能分析 f};RtRo2 7.1 电场分布 L[s`8u<_)z 7.2 公差与灵敏度分析 3u 'VPF2 7.3 反演工程 =:M/hM)# 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 B_uhNLd 8. 真空技术 v~*Co}0OB 8.1 常用真空泵介绍 oSf6J:?*e 8.2 真空密封和检漏 A=Y A #0 9. 薄膜制备技术 |Q(3rcOrV" 9.1 常见薄膜制备技术 4-CGe 10. 薄膜制备工艺 !.G knDT 10.1 薄膜制备工艺因素 dEhFuNO<2 10.2 薄膜均匀性修正技术 _4f=\ 10.3 光学薄膜监控技术 @*16agGg 11. 激光薄膜 Zt"#'1 11.1 薄膜的损伤问题 {X\%7Zef+ 11.2 激光薄膜的制备流程 KqL+R$??"( 11.3 激光薄膜的制备技术 1gA^Qv~? 12. 光学薄膜特性测量 .GSK!1{@ 12.1 薄膜光谱测量 "X(9.6$_ 12.2 薄膜光学常数测量 O:]e4r,' 12.3 薄膜应力测量 yMz dM&a!* 12.4 薄膜损伤测量 b$eN]L 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] ^, &'
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] aBd>.]l?
内容简介 SIZ&0V Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ez/>3:; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _ea|E 8 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HEk{!Y hAV@/oQ
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 y]okOEV0 h3[x ZJO 目录 [ KDNKK Preface 1 }*P?KV ( 内容简介 2 [k]3#<sS 目录 i YfstE3BV 1 引言 1 IkuE | 2 光学薄膜基础 2
9+
A~( 2.1 一般规则 2 ]&?8l:3-G 2.2 正交入射规则 3 ;d.gVR_V 2.3 斜入射规则 6 I vX+yU 2.4 精确计算 7 =D`:2k~
, 2.5 相干性 8 >qU5 (M_&L 2.6 参考文献 10 l*z+<c6$_ 3 Essential Macleod的快速预览 10 #Ibpf , 4 Essential Macleod的特点 32 7.*Mmx~]= 4.1 容量和局限性 33 d3]<'B:nb 4.2 程序在哪里? 33 Ftdx+\O_i& 4.3 数据文件 35 2xBYJoF( 4.4 设计规则 35 7fC:'1]G 4.5 材料数据库和资料库 37 m@W>ku 4.5.1材料损失 38 3>6rO4, 4.5.1材料数据库和导入材料 39 G-TD9OgZ 4.5.2 材料库 41 #0:rBKm, 4.5.3导出材料数据 43 b(Yxsy{U 4.6 常用单位 43 Yw6uh4 4.7 插值和外推法 46 6@x^,SA 4.8 材料数据的平滑 50 R:`)*=rL% 4.9 更多光学常数模型 54 I uC7Hx`z 4.10 文档的一般编辑规则 55 -br): }f 4.11 撤销和重做 56 wg4Ol*y' 4.12 设计文档 57 C^fn[plL 4.10.1 公式 58 o;u~Yg 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "vfpG7CG 4.10.3 沉积密度 59 N<O<wtXIj 4.10.4 平行和楔形介质 60 cEIs9; 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 k+zskfo 4.10.4 性能 61 txiX1o!/L 4.10.5 保存设计和性能 64 #fDM{f0]R 4.10.6 默认设计 64 `<6FCn4{X 4.11 图表 64 :eH\9$F`x; 4.11.1 合并曲线图 67 nwVW'M]r 4.11.2 自适应绘制 68 c=D~hz N 4.11.3 动态绘图 68 B dP+>Ij 4.11.4 3D绘图 69 Y[s}?Xu]w# 4.12 导入和导出 73 HLC I 4.12.1 剪贴板 73 Ab8Ke|fA 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 mRy0zN>? 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 !j&#R%D 4.13 背景 77 F#~*j 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 VHG}'r9KC% 4.15 生成Rugate 84 7u:QT2=& 4.16 参考文献 91 lHFk~Qp[ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 o%OwKp
s 5.1 Jobs 92 uQ%3?bx)T 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }nptmc 5.3 输入材料 94 Q)=2%X 5.4 设计数据文件夹 95 ,'n`]@0?\ 5.5 默认设计 95 !AG {`[b 6 细化和合成 97 @SI,V8i 6.1 优化介绍 97 2$'bOo 6.2 细化 (Refinement) 98 )SJ"IY\P 6.3 合成 (Synthesis) 100 tNQACM8F; 6.4 目标和评价函数 101 dl(!{tZ# 6.4.1 目标输入 102 Lf`<4 P 6.4.2 目标 103 +$F,!rV-s 6.4.3 特殊的评价函数 104 e>P>DmlW 6.5 层锁定和连接 104 J06D_'{ 6.6 细化技术 104 $EL:Jx2< 6.6.1 单纯形 105 mNsd&Rk' 6.6.1.1 单纯形参数 106 EeGTBVms 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 s{*bFA Z1F 6.6.2.1 Optimac参数 108 L4ZB0PmN' 6.6.3 模拟退火算法 109 !="8ok+ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 m
?*h\NaB 6.6.4 共轭梯度 111 !Sl_qL 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 & |