上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 G.Tpl-m 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 k52QaMKa~A 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 `_GO=QQ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ijFV<P 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 .3@Ng [attachment=120542]
//<:k8 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 7,h3V=^)Q 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 PK+ x6]x 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 "qS!B.rt: 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 7H%_sw5S. 1. Essential Macleod软件介绍 3T1P$E" m 1.1 介绍软件 bEd?^h 1.2 创建一个简单的设计 ZOu R"9] 1.3 绘图和制表来表示性能 ~T 02._E 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /ERNS/w 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) "R23Pi 1.6 特定设计的公式技术 @bT3'K-4 1.7 交互式绘图 iS 2. 光学薄膜理论基础 VHW`NP 5Jl 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $T),DUYO 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 t!{x<9 3. 材料管理 N<liS3> 3.1 材料模型 \45(#H<$ 3.2 介质薄膜光学常数的提取 Ff<)4`J 3.3 金属薄膜光学常数的提取
4{Udz! 3.4 基板光学常数的提取 MqdB\OW& 4. 光学薄膜设计优化方法 ,]7XMU3 4.1 参考波长与g 6.'$EtH 4.2 四分之一规则 y"-{$ N
4.3 导纳与导纳图 IBET'!j4" 4.4 斜入射光学导纳 = /Wu'gG) 4.5 光学薄膜设计的进展 dF
e4K" 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 2:'lZQ 4.6.1 优化目标设置 C2G |?= 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) JpK[&/Ct 4.6.3 膜层锁定和链接 YBvd
q1 5. Essential Macleod中各个模块的应用 O&V[g>x"U 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 p+[}Hxx= 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 43L|QFo 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ;&kn"b}G; 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \XS]N_}8> 5.5 如何在Function中编写脚本 fa{@$ppx 6. 光学薄膜系统案例 uNbIX:L, 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 kOipH |.x 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 !
=WcF5 6.3 Stack应用范例说明 Ea]T>4 7. 薄膜性能分析 AS|Rd+. 7.1 电场分布 ]fE3s{y
&- 7.2 公差与灵敏度分析 oy5+}` 7.3 反演工程 C3}Aq8$6 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 RZh}: 8. 真空技术 }9CrFTbx; 8.1 常用真空泵介绍 dB3N%pB^ 8.2 真空密封和检漏 A(+:S"|@ 9. 薄膜制备技术 hVUIBJ/5(- 9.1 常见薄膜制备技术 S+ebO/$> 10. 薄膜制备工艺 DA=1KaJ . 10.1 薄膜制备工艺因素 <hv7s,i 10.2 薄膜均匀性修正技术 lzDdD3Ouc 10.3 光学薄膜监控技术 =}R~0|^ 11. 激光薄膜 o&$hYy"<.L 11.1 薄膜的损伤问题 tD-gc''H 11.2 激光薄膜的制备流程 _{Y$o'*#I 11.3 激光薄膜的制备技术 tpYa?ZCM
12. 光学薄膜特性测量 tjxvN 4l 12.1 薄膜光谱测量 dy:d=Z 12.2 薄膜光学常数测量 /{X_
.fv<v 12.3 薄膜应力测量 Ae49n4J 12.4 薄膜损伤测量 {/ &B!zvl 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] |$e:*
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] 4ht\&2&:
内容简介 C9jbv/c Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 >a=d; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 O2 v. 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 h|p[OecG xl2g0?
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 IN^_BKQt F=}Z51|:~ 目录 \hbiU] Preface 1 _M5Xk? e= 内容简介 2 54q3R`y 目录 i ^~l $&~ 1 引言 1 hhmGv9P 2 光学薄膜基础 2 yd>}wHt 2.1 一般规则 2 Of`c`-<j 2.2 正交入射规则 3 &Rp"rMeW
2.3 斜入射规则 6 ' qy#)F 2.4 精确计算 7 Q4wc-s4RN 2.5 相干性 8 *48IF33&s 2.6 参考文献 10 #C\4/g?=, 3 Essential Macleod的快速预览 10 :3?|VE F 4 Essential Macleod的特点 32 p4wr`"Zz 4.1 容量和局限性 33 GZ8:e3ri 4.2 程序在哪里? 33 Bq!cY Wj 4.3 数据文件 35 9+Nw/eszO 4.4 设计规则 35 L'9N9CR{i 4.5 材料数据库和资料库 37
Oh`2tc- 4.5.1材料损失 38 mP-2s;q 4.5.1材料数据库和导入材料 39 U:|H9+5 4.5.2 材料库 41 FT/amCRyT 4.5.3导出材料数据 43 aws"3O%
uW 4.6 常用单位 43 ez*jjm 4.7 插值和外推法 46 3ATjsOL 4.8 材料数据的平滑 50 -_~)f{KN@ 4.9 更多光学常数模型 54 H?U't
09 4.10 文档的一般编辑规则 55 m mw-a0 4.11 撤销和重做 56 ^\wl2 4.12 设计文档 57 =!,Gst_ 4.10.1 公式 58 Nl*i5 io 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [xdj6W 4.10.3 沉积密度 59 I]uhi{\C 4.10.4 平行和楔形介质 60 %EI<@Ps8c 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 C5n?0I9 4.10.4 性能 61 d
4O 4.10.5 保存设计和性能 64 2P5_zND 4.10.6 默认设计 64 eb!_ie"D 4.11 图表 64 ,
Oli 4.11.1 合并曲线图 67 qtzRCA!9(Z 4.11.2 自适应绘制 68 7GZq|M_:y 4.11.3 动态绘图 68 >o[|"oLO 4.11.4 3D绘图 69 e|'N(D}h* 4.12 导入和导出 73 ("Dv>&w9 4.12.1 剪贴板 73 LfX0Z=< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 K/Y Agg 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 k
dU!
kj 4.13 背景 77 *gu8-7' 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 'IQsve7cI 4.15 生成Rugate 84 1^{`lK~2 4.16 参考文献 91 SRz&Nb 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 kh?. K# 5.1 Jobs 92 fk3kbdI 5.2 创建一个新Job(工作) 93 )U(u>SV(\ 5.3 输入材料 94 7+XM3 5.4 设计数据文件夹 95 K.DXJ UR 5.5 默认设计 95 `WlE|
G[ 6 细化和合成 97 4}yE+dRUK: 6.1 优化介绍 97 a8s4T$ 6.2 细化 (Refinement) 98 3jPB#%F 6.3 合成 (Synthesis) 100 Q_4Zb 6.4 目标和评价函数 101 T1NH eH> 6.4.1 目标输入 102 p`>d7S>" 6.4.2 目标 103 V5MO} 6.4.3 特殊的评价函数 104 xP@/9SM 6.5 层锁定和连接 104 '29WscU 6.6 细化技术 104 oR %agvc^^ 6.6.1 单纯形 105 =nhzMU9c\y 6.6.1.1 单纯形参数 106 )HVcG0H1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 nj2gs,k 6.6.2.1 Optimac参数 108 K$-;;pUl 6.6.3 模拟退火算法 109 iBvOJs 6.6.3.1 模拟退火参数 109 I;j3*lV_ 6.6.4 共轭梯度 111 gdi`x|0 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 - L~Uu^o 6.6.5 拟牛顿法 112 $D_HZ"ytu 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 4lz{G*u 6.6.6 针合成 113 E`xU m9F 6.6.6.1 针合成参数 114 Y';>O ` 6.6.7 差分进化 114 ,")F[%v 6.6.8非局部细化 115 nW5K[/1D 6.6.8.1非局部细化参数 115 <lo`q<q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 V0NVGRQ 6.7.1 细化 116 dVGbe07 6.7.2 合成 117 =_QkH!vI 6.8 参考文献 117 ~@fR[sg< 7 导纳图及其他工具 118 .#!mDlY; 7.1 简介 118 rYGRz#:~+ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ")M;+<c"l 7.2.1 四分之一波长规则 119 aZgNPw 7.2.2 导纳图 120 WK;(P4Z 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ;.s:X 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ']?=[`#NL 7.5 斜入射导纳图 141 JEHK:1^ 7.6 对称周期 141 o#e7,O 7.7 参考文献 142 r~oSP^e' 8 典型的镀膜实例 143 'h}7YP, w 8.1 单层抗反射薄膜 145 s*JE) 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 n`<U"$* 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9^zx8MRXd 8.4 W-膜层 148 *Nlu5(z 8.5 V-膜层 149 F<r4CHfh; 8.6 V-膜层高折射基底 150 m2b`/JW 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 tpU
D0Z) 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 xIgql}. 8.9 四层抗反射薄膜 153 !6E:5=L^ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 h7?.2Q&S 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 fn1pa@P 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 ,so4Lb(vG 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ^saM$e^c: 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 'v`_Ii|- 8.15十五层宽带抗反射膜 159 J@`
8(\( 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 *V|zx#RN 8.17 1/4波长堆栈 162 XGIpUz 8.18 陷波滤波器 163 z!CD6W1n 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8c).8RL f 8.20 褶皱 165 k4R4YI"jV 8.21 消偏振分光器1 169 M(5D'4. 8.22 消偏振分光器2 171 RpN <= 8.23 消偏振立体分光器 172 0yTQ{'Cc 8.24 消偏振截止滤光片 173 HRHrSf7 8.25 立体偏振分束器1 174 `a'`$'j 8.26 立方偏振分束器2 177 N84qcc 8.27 相位延迟器 178 ,n5a] )Dg 8.28 红外截止器 179 xid:" y=_& 8.29 21层长波带通滤波器 180 {!t=n 8.30 49层长波带通滤波器 181 stXda@y<p 8.31 55层短波带通滤波器 182 Wp4K6x 8.32 47 红外截止器 183 .e$%[)D 8.33 宽带通滤波器 184 iGa}3pF 8.34 诱导透射滤波器 186 D3.VXuKn6 8.35 诱导透射滤波器2 188 `,Zb2" 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 (nz}J)T& 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 CJA+v- 8.35 增益平坦滤波器 193 .K7C-Xn=
8.38 啁啾反射镜 1 196 OPiaG!3< 8.39 啁啾反射镜2 198 [B,p,Q" 8.40 啁啾反射镜3 199 d h?dO` 8.41 带保护层的铝膜层 200 bK7.St 8.42 增加铝反射率膜 201 TkT-$=i 8.43 参考文献 202 ,Hh*3rR^ 9 多层膜 204 -<d(
9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 {Zwf.., 9.2 内部透过率 204 Bb_Q_<DTs 9.3 内部透射率数据 205 4d-q!lR pa 9.4 实例 206 l0#4Fma 9.5 实例2 210 h--45`cE 9.6 圆锥和带宽计算 212 Y?t2,cm 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 4cB&Hk 10 光学薄膜的颜色 216 %`oHemSy 10.1 导言 216 9A<0zt 10.2 色彩 216 {? 2;0}3?; 10.3 主波长和纯度 220 |hD~6a 10.4 色相和纯度 221 /f]/8b g> 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 J7m`]!*t 10.6 色差 226 g? I!OG 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 4Pf+]R 10.8 颜色渲染指数 234 k-vA# 10.9 色差计算 235 `:gYXeR 10.10 参考文献 236 E[*0Bo] 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 re q-Q | 11.1 短脉冲 238 V" }*"P-% 11.2 群速度 239 %yKKUZ~ 11.3 群速度色散 241 UEN56@eCNf 11.4 啁啾(chirped) 245 g@(4ujOT 11.5 光学薄膜—相变 245 Y2D>tpqNw 11.6 群延迟和延迟色散 246 8? F
2jv 11.7 色度色散 246 ETg{yBsp 11.8 色散补偿 249 "?[7#d]) 11.9 空间光线偏移 256 j"0rkN3$J 11.10 参考文献 258 F;W' 12 公差与误差 260 d QDLI 12.1 蒙特卡罗模型 260 Kk>DYHZ6y 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 2$Wo&Q^_ 12.2.1 误差工具 267 vgN@~Xa 12.2.2 灵敏度工具 271 FNlx1U[ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 =G*z
53 12.2.2.2 灵敏度分布 275 K?JV]^ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 01o [!n T 12.3 参考文献 276 +8eVj#N 13 Runsheet 与Simulator 277 wO89&XZ< 13.1 原理介绍 277 %2,/jhHL 13.2 截止滤光片设计 277 P]-#wz=S 14 光学常数提取 289 EFD?di)s 14.1 介绍 289 Qqh^E_O 14.2 电介质薄膜 289 hu&n=6 14.3 n 和k 的提取工具 295 s4N,^_j 14.4 基底的参数提取 302 }9
?y'6l 14.5 金属的参数提取 306 e]Puv)S>{8 14.6 不正确的模型 306 -FaaFw:Z;A 14.7 参考文献 311 *cPN\Iu.W 15 反演工程 313 L@+Z)# V 15.1 随机性和系统性 313 `}Eh[EOHJ 15.2 常见的系统性问题 314 zNwc(( 15.3 单层膜 314 "5y<G:$+~ 15.4 多层膜 314 m$)YYpX 15.5 含义 319 l*qk1H"g 15.6 反演工程实例 319 :Nkz,R? 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 B9AbKK$` 15.6.2 反演工程提取折射率 327 $8=(I2&TW 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Pm~,Ky&Hl 16.1 光学性质的热致偏移 329 =8@RKG`>; 16.2 应力工具 335 N7a[B>+` 16.3 均匀性误差 339 |Cu1uwy 16.3.1 圆锥工具 339 _E&U?>g+ 16.3.2 波前问题 341 t={po QC~ 16.4 参考文献 343 u!M&;QL 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 8z?$t-D O 17.1 引言 345 G$|G w 17.2 操作数 345 0:jsV|5B8 18 如何在Function中编写脚本 351 \6Xn]S 18.1 简介 351 f^~2^p
1te 18.2 什么是脚本? 351 7WXiG0 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 @}ZGY^ 18.4 基础 352 Kjv2J;Xuh 18.4.1 Classes(类别) 352 @PKAz&0 18.4.2 对象 352 Zi
ma^IL 18.4.3 信息(Messages) 352 80 dSQ"y 18.4.4 属性 352 z"9aAytd 18.4.5 方法 353 FXcc1X/ 18.4.6 变量声明 353 z_'dRw 18.5 创建对象 354 Oxpo6G 18.5.1 创建对象函数 355 S3nB:$_-; 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 ykJ+%gla 18.5.3 丢弃对象 356 <. ezw4ju 18.5.4 总结 356 makaI0M 18.6 脚本中的表格 357 Rz)v-Yu 18.6.1 方法1 357 dP?nP(l 18.6.2 方法2 357 L(W%~UGN
V 18.7 2D Plots in Scripts 358 t2~"B&7My 18.8 3D Plots in Scripts 359 ]Qh[%GD 18.9 注释 360 $ V3n~.= 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 w 7Cne%J8 18.11 一个更高级的脚本 362 dvC0 <*V 18.12 <esc>键 364 | h 18.13 包含文件 365 bN]\K/ 18.14 脚本被优化调用 366 u}^a^B$ 18.15 脚本中的对话框 368 u<$S> 18.15.1 介绍 368 A{G5Plrh 18.15.2 消息框-MsgBox 368 N `J:^,H 18.15.3 输入框函数 370 7k.d|<mRv 18.15.4 自定义对话框 371 ;O Q#@|D 18.15.5 对话框编辑器 371 4F}g( 18.15.6 控制对话框 377 )-MA!\=< 18.15.7 更高级的对话框 380 od;Bb 18.16 Types语句 384 bX a %EMF 18.17 打开文件 385 USlF+RY@3L 18.18 Bags 387 5w]DncdQ~ 18.13 进一步研究 388 c(QG4.)m 19 vStack 389 oH!$eAU? 19.1 vStack基本原理 389 cdd P
T 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 ZD$-V3e` 19.3 五棱镜 393 "bv,I-\ 19.4 光束距离 396 8XLxT(YFIs 19.5 误差 399 4he v
; 19.6 二向分色棱镜 399 +s#S{b 19.7 偏振泄漏 404 >lUBt5gU 19.8 波前误差—相位 405 }IxY(`:qs 19.9 其它计算参数 405 WZfk}To1# 20 报表生成器 406 9:bh3@r/ 20.1 入门 406 9O(i+fM 20.2 指令(Instructions) 406 rD:gN%B= 20.3 页面布局指令 406 _lP4ez
Y 20.4 常见的参数图和三维图 407 ]2hF!{wc 20.5 表格中的常见参数 408 0IoXDx 20.6 迭代指令 408 K,`).YK 20.7 报表模版 408 .6lY*LI 20.8 开始设计一个报表模版 409 L,s|gtv 21 一个新的project 413 z^gDbXS 21.1 创建一个新Job 414 (mD-FR@# 21.2 默认设计 415 ">0/>>Ry 21.3 薄膜设计 416 z&>9
s)^- 21.4 误差的灵敏度计算 420 S!`4Bl 21.5 显色指数计算 422 ]# tGT0 21.6 电场分布 424 .0R/'!e 后记 426 DTX/3EN SX1Fyy6
w >Hd~Ca> 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 pfJVE Im0+`9Jw 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] o$[a4I pq/FLYiv 目 录 qv
;1$ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 y]~+ `9 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 W TXD4} 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?3B t;<^ 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 1j${,>4tQ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 V7KtbL# 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Mipm&5R 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 }iiG$?|. 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 D7gX,e 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 886 (' 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Q G=-LXv:@ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 n)1 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 |p=.Gg=2 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 vV:MS O'r 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 LX(iuf+l 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 84hi, S5P 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $BR=IYby V1CSXY\2 价 格:400元
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