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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 V5p^]To!  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 vz)R84   
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 X"9N<)C  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 XpYd|BvW  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 YkE_7r(1  
[attachment=120542] t/_\w"  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 fg lN_  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 *3]2vq  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Mp=T;Nz  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 l*{Bz5hc  
1. Essential Macleod软件介绍 X,Rl&K\b"  
1.1 介绍软件 C/QrkTi=  
1.2 创建一个简单的设计 SurreD<x  
1.3 绘图和制表来表示性能 JH u>\{8V  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 0FLCN!i1  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) @eDs)mY  
1.6 特定设计的公式技术 lr[T+nQ  
1.7 交互式绘图 fwmXIpteK  
2. 光学薄膜理论基础  ?!<Q8=  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |ICn/r~  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 mkfDDl2 GP  
3. 材料管理 }/#*opcv  
3.1 材料模型 T 1R~^x1  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 We\i0zUU  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ti$60Up  
3.4 基板光学常数的提取 q/Vl>t  
4. 光学薄膜设计优化方法 bg/=P>2  
4.1 参考波长与g $|7=$~y  
4.2 四分之一规则 KJv%t_4'F  
4.3 导纳与导纳图 gK(G1  
4.4 斜入射光学导纳 cr|]\  
4.5 光学薄膜设计的进展 3)L#V .  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 z}B8&*>  
4.6.1 优化目标设置 3,`M\#z%K  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) TvS<;0~K  
4.6.3 膜层锁定和链接 +'+ Nr<  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 _n!>*A!  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 GY.iCub  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 I3b*sx$  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 4)>UTMF  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Nr+~3:3  
5.5 如何在Function中编写脚本 p_%,JD  
6. 光学薄膜系统案例 w<zzS: PF*  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7+}WU4  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 GmE`YW  
6.3 Stack应用范例说明 mlLqQ<  
7. 薄膜性能分析 wnK6jMjkSf  
7.1 电场分布 ZHUW1:qs  
7.2 公差与灵敏度分析 HG< z,gE 2  
7.3 反演工程 v=+3AW-|v  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 hOkn@F.  
8. 真空技术 l'M/et{:  
8.1 常用真空泵介绍 xK)<7 63q>  
8.2 真空密封和检漏 b:r8r}49  
9. 薄膜制备技术 xIW]e1pu=(  
9.1 常见薄膜制备技术 Nd_A8H,&B  
10. 薄膜制备工艺 S:Jg#1rww-  
10.1 薄膜制备工艺因素 SIKaDIZ  
10.2 薄膜均匀性修正技术 \jV2":[% c  
10.3 光学薄膜监控技术 9;uH}j8sE  
11. 激光薄膜 yPe9KN_  
11.1 薄膜的损伤问题 "KS" [i!3j  
11.2 激光薄膜的制备流程 gm n b  
11.3 激光薄膜的制备技术 vM]5IHqeE  
12. 光学薄膜特性测量 :VWN/m  
12.1 薄膜光谱测量 cH$( *k9%M  
12.2 薄膜光学常数测量 #H<}xC2  
12.3 薄膜应力测量 .qKfhHJ  
12.4 薄膜损伤测量 W`c$2KS?DO  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
u"%D;  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
>R_m@$`  
内容简介 8B-mZFXpK  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 1Y;.fZE  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &/2+'wCp5  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 a&2x;diF  
GA` bWl  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
;K|K]c  
9o6[4Q}  
目录 7HY8 F5Brx  
Preface 1 )E7wBNV   
内容简介 2 `8#xO{B1  
目录 i y29G#Y4J  
1  引言 1 t^>P,%$  
2  光学薄膜基础 2 Z]WX 7d  
2.1  一般规则 2 0_-o]BY  
2.2  正交入射规则 3 EE|c@M^  
2.3  斜入射规则 6 ut]UU*g^$  
2.4  精确计算 7 >?)_, KL  
2.5  相干性 8 P*>?/I`G  
2.6 参考文献 10 i `p1e5$  
3  Essential Macleod的快速预览 10 BB9eQ: xO  
4  Essential Macleod的特点 32   )*6  
4.1  容量和局限性 33 Nu3IYS5&  
4.2  程序在哪里? 33 [{#T N  
4.3  数据文件 35 f%1\1_^g  
4.4  设计规则 35 qmGHuQVe  
4.5  材料数据库和资料库 37 \ZhkOl  
4.5.1材料损失 38 1:- M<=J?f  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 N?#L{Yt  
4.5.2 材料库 41 92R,o'#  
4.5.3导出材料数据 43 l+@k:IK  
4.6  常用单位 43 mA%}ijR6y  
4.7  插值和外推法 46 uOKD#   
4.8  材料数据的平滑 50 l-20X{$m:  
4.9 更多光学常数模型 54 -^t.eZ*|  
4.10  文档的一般编辑规则 55 GUM-|[~  
4.11 撤销和重做 56 e]ST0J"  
4.12  设计文档 57 I(3~BOUn_  
4.10.1  公式 58 PY4a3dp U  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {R[V  
4.10.3  沉积密度 59 s?;V!t  
4.10.4 平行和楔形介质 60 bF*Kb"!CF  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 >ifys)wg>  
4.10.4  性能 61 O'^AbO=,  
4.10.5  保存设计和性能 64 aO?KRn  
4.10.6  默认设计 64 H8B.c%_|U  
4.11  图表 64 `mYp?N jR_  
4.11.1  合并曲线图 67 Xt:j~cVA  
4.11.2  自适应绘制 68 C~K/yLCAi  
4.11.3  动态绘图 68 Yt:%)&50}-  
4.11.4  3D绘图 69 "?<`]WG\  
4.12  导入和导出 73 Au/'|%2#(  
4.12.1  剪贴板 73 -iW>T5f  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 fpjFO&ML  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 qz Hsqlof  
4.13  背景 77 3m21n7F4*  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 q3-cWfU  
4.15  生成Rugate 84 )@y'$)5s  
4.16  参考文献 91 SX =^C  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ;Z;` BGZJ  
5.1  Jobs 92 Eg&Q,dH[  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 [AD%8 H  
5.3  输入材料 94 'Cz]p~oF  
5.4  设计数据文件夹 95 ^ yF Wvfh4  
5.5  默认设计 95 ?;(!(<{  
6  细化和合成 97 sT<h+[2d  
6.1  优化介绍 97 JlE+CAny  
6.2  细化 (Refinement) 98 EL2z&  
6.3  合成 (Synthesis) 100 B tJF1#f  
6.4  目标和评价函数 101 8(A k  
6.4.1  目标输入 102 yTe25l{QaF  
6.4.2  目标 103 ntL%&wY  
6.4.3  特殊的评价函数 104 QZO<'q`L  
6.5  层锁定和连接 104 eISHV.QV  
6.6  细化技术 104 j *N^.2  
6.6.1  单纯形 105  %\B?X;(  
6.6.1.1 单纯形参数 106 6 {3ql:  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 #a8i($k{e  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ;D4 bxz0ou  
6.6.3  模拟退火算法 109 CJ#Yu3}  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 xBw ua;  
6.6.4  共轭梯度 111 mryT%zSlM  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 (15.?9  
6.6.5  拟牛顿法 112 +K;%sAZy  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?ia O6HD  
6.6.6  针合成 113 V|nJ%G\  
6.6.6.1 针合成参数 114 :4"b(L  
6.6.7 差分进化 114 z^%`sUgP  
6.6.8非局部细化 115 1ahb:Mjv  
6.6.8.1非局部细化参数 115 w %6 L"  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 j{/wG::  
6.7.1  细化 116 W%9"E??c  
6.7.2  合成 117 L>57eF)7  
6.8  参考文献 117 V0F1X s`  
7  导纳图及其他工具 118 1py >[II@  
7.1  简介 118 ty9(mtH+  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 4%TmW/yd  
7.2.1  四分之一波长规则 119 PC!X<C8*  
7.2.2  导纳图 120 8{CBWXo$)  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 gaL.5_1  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ]U 1S?p  
7.5  斜入射导纳图 141 #q?:Act  
7.6  对称周期 141 Az(J @  
7.7  参考文献 142 ve(@=MJ  
8  典型的镀膜实例 143 "+4r4  
8.1  单层抗反射薄膜 145 2QIo|$  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 3 +D4$Y"  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 -$D#u  
8.4  W-膜层 148 .Na'yS `J  
8.5  V-膜层 149 ;, u7)  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $I\lJ8  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 v #Q(g/^  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 F;Ubdxwwl  
8.9  四层抗反射薄膜 153 .ldBl  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 0Jm)2@  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]=]`Mnuxb  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 #~qY%X  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2|8$@*-\  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 :HN\A4=kc(  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 gAy"W$F  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 -$y/*'  
8.17  1/4波长堆栈 162 kmsgaB7?  
8.18  陷波滤波器 163 >vQKCc|93  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8';huq@C{  
8.20  褶皱 165 ]i'gU(+;`  
8.21  消偏振分光器1 169 y@]:7  
8.22  消偏振分光器2 171 Be0v&Q_NK  
8.23  消偏振立体分光器 172 \YF'qWB  
8.24  消偏振截止滤光片 173 iA+zZVwO  
8.25  立体偏振分束器1 174 a[V4EX1E  
8.26  立方偏振分束器2 177 J`A )WsKkb  
8.27  相位延迟器 178 :}fIu?hCA  
8.28  红外截止器 179 ot,e?lF  
8.29  21层长波带通滤波器 180 j|(bdTZY:  
8.30  49层长波带通滤波器 181 0kld77tn 2  
8.31  55层短波带通滤波器 182 VK$s+"  
8.32  47 红外截止器 183 yvKKE  
8.33  宽带通滤波器 184 .^?Z3iA",  
8.34  诱导透射滤波器 186 3=kw{r[2lM  
8.35  诱导透射滤波器2 188 !X/O1PM|  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 -- |L?-2k,  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 @?<1~/sfL  
8.35  增益平坦滤波器 193 >]l7AZ:,  
8.38  啁啾反射镜 1 196 4B=@<( H  
8.39  啁啾反射镜2 198 o_%gFV[q  
8.40  啁啾反射镜3 199 J k FZd  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ?N!.:~~k  
8.42  增加铝反射率膜 201 si>gYO  
8.43  参考文献 202 KH76Vts  
9  多层膜 204 BYsQu.N  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 83YQ c  
9.2  内部透过率 204 FKu^{'Y6E0  
9.3 内部透射率数据 205 }q[IhjD%  
9.4  实例 206 $8Y|& P  
9.5  实例2 210 TY *q[AWG  
9.6  圆锥和带宽计算 212 2o9IP>#u  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 }Fgp*x-G  
10  光学薄膜的颜色 216 Fpf-Fa-K\b  
10.1  导言 216 6I$:mHEhd  
10.2  色彩 216 Eg|C  
10.3  主波长和纯度 220 _8nT$!\\  
10.4  色相和纯度 221 E,:E u<  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 u}IQ)Ma  
10.6 色差 226 i?pC[Ao-_  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 e't1.%w  
10.8  颜色渲染指数 234 p3z%Y$!Tm  
10.9  色差计算 235 ^6I8a"  
10.10  参考文献 236  8&KqrA86  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 0w ] pDj  
11.1  短脉冲 238 cvl1 X"  
11.2  群速度 239 _i+7O^=d6X  
11.3  群速度色散 241 - -H%FYF`  
11.4  啁啾(chirped) 245 92S,W?(  
11.5  光学薄膜—相变 245 QF`o%mI  
11.6  群延迟和延迟色散 246 i$W=5B>SO  
11.7  色度色散 246 M-+= t8  
11.8  色散补偿 249 #sp8 !8|y  
11.9  空间光线偏移 256 WL/9r *jW  
11.10  参考文献 258 b_j8g{/9  
12  公差与误差 260 0ud>oh4WPR  
12.1  蒙特卡罗模型 260 GjvTYg~  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 r:uW(<EP^  
12.2.1  误差工具 267 ZRo-=/1  
12.2.2  灵敏度工具 271 AT]Ty  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 iKN800^u  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 @&M$oI$4*  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 >n^[-SWJCT  
12.3  参考文献 276 G`r*)pdm  
13  Runsheet 与Simulator 277 uA2-&smw  
13.1  原理介绍 277 %R [X_n=  
13.2  截止滤光片设计 277 O:3DIT1#>  
14  光学常数提取 289 bB|P`l L  
14.1  介绍 289 |;6l1]hk6  
14.2  电介质薄膜 289 MW6KEiQ"  
14.3  n 和k 的提取工具 295 9K`uGu  
14.4  基底的参数提取 302 #[{xEVf  
14.5  金属的参数提取 306 C2 ] x  
14.6  不正确的模型 306 ,HM~Zs  
14.7  参考文献 311 6 C|]Fm  
15  反演工程 313 wam- =3W  
15.1  随机性和系统性 313 %/x%hs;d  
15.2  常见的系统性问题 314 %[C-KQH  
15.3  单层膜 314 "G`8>1tO_  
15.4  多层膜 314 h8lI# Gs  
15.5  含义 319 edy6WzxBcm  
15.6  反演工程实例 319 CAD:ifV  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 T{%'"mm;  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 kbkq.fYr  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 b_JW3l  
16.1  光学性质的热致偏移 329 E@F:U*A6%  
16.2  应力工具 335 JKsdPW<?  
16.3  均匀性误差 339 ;c_pa0L  
16.3.1  圆锥工具 339 W^^}-9  
16.3.2  波前问题 341 0fTEb%z8  
16.4  参考文献 343 [d_sd  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 @.fyOyOC  
17.1  引言 345 1#3 Qa{i  
17.2  操作数 345 MYb^ILz H3  
18  如何在Function中编写脚本 351 = 5 E:CP  
18.1  简介 351 $ (gR^L  
18.2  什么是脚本? 351 ~t~5ctJ@  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 pH1 9"=p<  
18.4  基础 352 T?Dq2UW  
18.4.1  Classes(类别) 352 ohA@Zm8O  
18.4.2  对象 352 5E+k}S]M$  
18.4.3  信息(Messages) 352 -)Y?1w  
18.4.4  属性 352 F^]?'`7md  
18.4.5  方法 353 Q b|.;_  
18.4.6  变量声明 353 [}OL@num  
18.5  创建对象 354 } bs2Rxkh  
18.5.1  创建对象函数 355 6GD Uo}.  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 -~HlME *~f  
18.5.3 丢弃对象 356 ew n/@;E  
18.5.4  总结 356 U&|$B|[  
18.6  脚本中的表格 357 ,j('QvavJ  
18.6.1  方法1 357 \JLiA>@@  
18.6.2  方法2 357 LEJ7.82  
18.7 2D Plots in Scripts 358 -^ (NIl'  
18.8 3D Plots in Scripts 359 N3};M~\  
18.9  注释 360 diLjUC`69  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Lu~e^Ul   
18.11  一个更高级的脚本 362 Yb|zE   
18.12  <esc>键 364 |7CH  
18.13 包含文件 365 ^w<:UE2a!  
18.14  脚本被优化调用 366 e< Ee2pGX  
18.15  脚本中的对话框 368 N[$(y} !s  
18.15.1  介绍 368 3\,TI`^C  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 [)gvP'  
18.15.3  输入框函数 370 X |f'e@  
18.15.4  自定义对话框 371 "*@iXJxv5  
18.15.5  对话框编辑器 371 ~~ON!l9n  
18.15.6  控制对话框 377 _OF 8D  
18.15.7  更高级的对话框 380 R $cO`L*s  
18.16 Types语句 384 z^4\?R50yO  
18.17 打开文件 385 9tS& $-  
18.18 Bags 387 u%O^hcfb  
18.13  进一步研究 388 'Ph4(Yg  
19  vStack 389 Jz#ZDZkm  
19.1  vStack基本原理 389 ZUyM:$  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 IEzZ$9,A5  
19.3  五棱镜 393 'ce9v@(0  
19.4 光束距离 396 WII_s|YSt%  
19.5 误差 399 Iw"?%k\U  
19.6  二向分色棱镜 399 eT+MN`  
19.7  偏振泄漏 404 9w Kz p  
19.8  波前误差—相位 405 t:M({|m Y  
19.9  其它计算参数 405 e_6 i896  
20  报表生成器 406 ^ d"tymDd  
20.1  入门 406 CRWO R pP  
20.2  指令(Instructions) 406 /]xd[^  
20.3  页面布局指令 406 4PUM.%  
20.4  常见的参数图和三维图 407 !9o8v0ZI  
20.5  表格中的常见参数 408 2$NP46z}  
20.6  迭代指令 408 &F#X0h/m=  
20.7  报表模版 408 @F7QQs3  
20.8  开始设计一个报表模版 409 j7-#">YL  
21  一个新的project 413 kX1hcAa  
21.1  创建一个新Job 414 `T9<}&=!  
21.2  默认设计 415 of& vQ  
21.3  薄膜设计 416 ,75,~  
21.4  误差的灵敏度计算 420 bM^'q  
21.5  显色指数计算 422 /gFyow1W  
21.6  电场分布 424 !s)2H/KM8  
后记 426 wU#Q>ut'%  
00pHnNoxW  
N=+Up\h  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 1xtbhk]D  
w#b~R^U  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
1<R \V  
w-nkf M~  
目  录 y6j TT%  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 E$G "R =  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Pq4sv`q)S  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 % 9WWBxS  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @pko zE-  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 'ZDa*9nkF  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 r?V|9B`$p  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 "J{,P9P6  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ac&tpvij  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 *pWswcV/  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 jN {ED_  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 (~#PzE :  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 g*]<]%Py"  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 )O&$-4gL'  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 =C:0 ='a  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 v^E5'M[A  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 |n &6z  
?)PcYrV  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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