首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 CMC p7- v  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 8k{XUn  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Gad&3M0r  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 Tx ?s?DwC  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 PM*lnd#J  
[attachment=120542] wOUCe#P|r  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 v2|zIZ  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 -0(+a$P7e  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 >a@1y8B  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 "j%Gr :a  
1. Essential Macleod软件介绍 #d8]cm=  
1.1 介绍软件 ;Qd'G7+  
1.2 创建一个简单的设计 0Wd5s{S  
1.3 绘图和制表来表示性能 b0f6?s  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 j; /@A lZl  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) z V $Z@o  
1.6 特定设计的公式技术 lS;S:- -F  
1.7 交互式绘图 3 } $9./+  
2. 光学薄膜理论基础 2P57C;N8|  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 S@\&^1;4Hv  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 k;umLyz  
3. 材料管理 D6_#r=08  
3.1 材料模型 O,@QGUoA  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 e,vgD kI;  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 sC.cMZe  
3.4 基板光学常数的提取 L-W*h  
4. 光学薄膜设计优化方法 #SLi v  
4.1 参考波长与g 8QFRX'i  
4.2 四分之一规则 oz'jt} ?  
4.3 导纳与导纳图  qzD  
4.4 斜入射光学导纳 #I yM`YB0  
4.5 光学薄膜设计的进展 gO~>*q &  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 -% B)+yq>  
4.6.1 优化目标设置 +],2smd@N  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ue *mTMN  
4.6.3 膜层锁定和链接 0/+TQD!L  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 %'F[(VB   
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 1eqFMf  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 xs  >Y  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 9OF(UFgS  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 $<wU>X  
5.5 如何在Function中编写脚本 Rm.9`<Y  
6. 光学薄膜系统案例 b|Ed@C  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ,J-YfL^x6*  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 h8SK8sK<  
6.3 Stack应用范例说明 \4q1<j  
7. 薄膜性能分析 =uR[Jewa  
7.1 电场分布 5#? HL  
7.2 公差与灵敏度分析 IW|1)8d  
7.3 反演工程 bU(fH^  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 nG5:H.)  
8. 真空技术 $uNYus^vS  
8.1 常用真空泵介绍 Q5v_^O<!  
8.2 真空密封和检漏 V,9UOC,Gn  
9. 薄膜制备技术 W{'tS{  
9.1 常见薄膜制备技术 \h/aD1 &g  
10. 薄膜制备工艺 8>^O]5Wo`X  
10.1 薄膜制备工艺因素 $VE=sS.  
10.2 薄膜均匀性修正技术 {,m W7  
10.3 光学薄膜监控技术 d 'wWj  
11. 激光薄膜 V@>s]]HMq#  
11.1 薄膜的损伤问题 *}i.,4+y   
11.2 激光薄膜的制备流程 ,e>N9\*  
11.3 激光薄膜的制备技术 [.iz<Yh  
12. 光学薄膜特性测量 [[:wSAO>6'  
12.1 薄膜光谱测量 xqzdXL}  
12.2 薄膜光学常数测量 mm<rdo(`  
12.3 薄膜应力测量 ;,]Wtmu)7  
12.4 薄膜损伤测量 PT`gAUCw  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
ddjaM/.E  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
q:v&wb%  
内容简介 )![? JXf  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aV8]?E5G  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ZA4vQDW  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Vz&!N/0i  
}" 'l8t0?  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
-5yEd>Z  
S-6 %mYf  
目录 1vBXO bk  
Preface 1 -d 6B;I<'  
内容简介 2 +lqX;*a=N  
目录 i [& &9F};  
1  引言 1 F .JvMy3  
2  光学薄膜基础 2 B[O1^jdO  
2.1  一般规则 2 h{cJ S9e}  
2.2  正交入射规则 3 ;HeUD5Nt6F  
2.3  斜入射规则 6 J;g+  
2.4  精确计算 7 'e>0*hF[  
2.5  相干性 8 Bq]eNq  
2.6 参考文献 10 vN%SN>=L<  
3  Essential Macleod的快速预览 10 3 tp'}v  
4  Essential Macleod的特点 32 {aWTT&-N  
4.1  容量和局限性 33 C2</.jeLa  
4.2  程序在哪里? 33 W]rK*Dc  
4.3  数据文件 35 5l"v:Px  
4.4  设计规则 35 #}W^d^-5t5  
4.5  材料数据库和资料库 37 Rs cU=oaKi  
4.5.1材料损失 38 IPoNAi<b  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Q0_UBm^f  
4.5.2 材料库 41 IOsitMOX:  
4.5.3导出材料数据 43 qffXm `k  
4.6  常用单位 43 =:zmF]j9  
4.7  插值和外推法 46 $!x8XpR8s  
4.8  材料数据的平滑 50 gI qYIt  
4.9 更多光学常数模型 54 nDS mr  
4.10  文档的一般编辑规则 55 )FkJ=P0  
4.11 撤销和重做 56 .ns1;8  
4.12  设计文档 57  c6;tbL  
4.10.1  公式 58 XOzd{  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :U>o;  
4.10.3  沉积密度 59 kmm1b (  
4.10.4 平行和楔形介质 60 h`OX()N  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 eFUJASc  
4.10.4  性能 61 <$LVAy"RD  
4.10.5  保存设计和性能 64 @O/-~, E68  
4.10.6  默认设计 64 brGUK PB  
4.11  图表 64 8-c1q*q)  
4.11.1  合并曲线图 67 X9#;quco@  
4.11.2  自适应绘制 68 JZP>`c21y]  
4.11.3  动态绘图 68 H\7Qf8s|{  
4.11.4  3D绘图 69 wG4=[d  
4.12  导入和导出 73 `Li3=!V[  
4.12.1  剪贴板 73 c@%:aiEl  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 S$Tc\ /{  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 W|oLS  
4.13  背景 77 Y=l91dxGI  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 s('<ms  
4.15  生成Rugate 84 lz?F ,].  
4.16  参考文献 91 yT<yy>J9l#  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 vlAYKtl3]  
5.1  Jobs 92 e.%` tK3J  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 6u`E{$  
5.3  输入材料 94 eDR4 c%  
5.4  设计数据文件夹 95 ]?p&sI4  
5.5  默认设计 95 NWuS/Ur`9  
6  细化和合成 97 :4PK4D s7  
6.1  优化介绍 97 j()<.h;'  
6.2  细化 (Refinement) 98 't:|>;Wx  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ,c#=qb8""  
6.4  目标和评价函数 101 .olDmFQD  
6.4.1  目标输入 102 _6v|k}tW'Y  
6.4.2  目标 103 ,lLkAd?q  
6.4.3  特殊的评价函数 104 IP K.  
6.5  层锁定和连接 104 #y }{ 'rF?  
6.6  细化技术 104 | -l)$i@  
6.6.1  单纯形 105 ,rT62w*e  
6.6.1.1 单纯形参数 106 M/XxiF  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ?r"'JO.w  
6.6.2.1 Optimac参数 108 lL.3$Rp;  
6.6.3  模拟退火算法 109 y~CK&[H  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 o;+$AU1f  
6.6.4  共轭梯度 111 M[N$N`9  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 M}E0Msq_o  
6.6.5  拟牛顿法 112 KiU/N$ E  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 8{ aS$V"  
6.6.6  针合成 113 :|3n`,  
6.6.6.1 针合成参数 114 G:NI+E"]  
6.6.7 差分进化 114 e)kN%JqW  
6.6.8非局部细化 115 #;59THdtPk  
6.6.8.1非局部细化参数 115 @Omgk=6  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 aV?dy4o$  
6.7.1  细化 116 e"9 u}-Q@  
6.7.2  合成 117 t{n|!T&  
6.8  参考文献 117 .}W#YN$  
7  导纳图及其他工具 118 RO(~c-fV  
7.1  简介 118 x9Veg4Z7  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 1oq5|2p  
7.2.1  四分之一波长规则 119 R#OVJ(#  
7.2.2  导纳图 120 }!=}g|z#|  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 :td#zM  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 $\BRX\6(-  
7.5  斜入射导纳图 141 ))Ws{  
7.6  对称周期 141 xxWrSl`fB  
7.7  参考文献 142 YY~BNQn6d  
8  典型的镀膜实例 143 'r;C( Gh6  
8.1  单层抗反射薄膜 145 OU&eswW  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 <BoDLvW>  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ck-ab0n  
8.4  W-膜层 148 = WFn+#&^  
8.5  V-膜层 149 Ig9yd S-.  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Id`?yt  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 DU9A3Z  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 TX7B(JZD  
8.9  四层抗反射薄膜 153 NjT#p8d X  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ?;1^8 c0  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 zrD];DP  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 r[>4b}4s  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 6q^Tq {I  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 TEC'}%   
8.15十五层宽带抗反射膜 159 1T(:bM_t`7  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 :2#8\7IU^'  
8.17  1/4波长堆栈 162 xlQl1lOX  
8.18  陷波滤波器 163 /">A3bq  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 n{oRmw-  
8.20  褶皱 165 '\yp}r'u  
8.21  消偏振分光器1 169 |BrD:+  
8.22  消偏振分光器2 171 ?@W=bJ8{  
8.23  消偏振立体分光器 172 8SmtEV[b3  
8.24  消偏振截止滤光片 173 fNz*E|]8&  
8.25  立体偏振分束器1 174 #P:o  
8.26  立方偏振分束器2 177 XEd|<+P1  
8.27  相位延迟器 178 5r1{l%?  
8.28  红外截止器 179 q^nSYp#  
8.29  21层长波带通滤波器 180 UO%Vu C5B  
8.30  49层长波带通滤波器 181 xsjJ8>G  
8.31  55层短波带通滤波器 182 1]eh0H  
8.32  47 红外截止器 183 V'vDXzk\  
8.33  宽带通滤波器 184 Of| e]GR  
8.34  诱导透射滤波器 186 6L--FY>.-  
8.35  诱导透射滤波器2 188 &%YFO'>>}  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 yP:/F|E$  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 F$a?} }  
8.35  增益平坦滤波器 193 ppcuMcR{  
8.38  啁啾反射镜 1 196 `? ayc/TK  
8.39  啁啾反射镜2 198 C4V#qhj  
8.40  啁啾反射镜3 199 U'IJwGRP  
8.41  带保护层的铝膜层 200 /rRQ*m_  
8.42  增加铝反射率膜 201 cp|&&q  
8.43  参考文献 202 pPztUz/.  
9  多层膜 204 ~z''kH=e  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 F12tOSfu*  
9.2  内部透过率 204 Bsm>^zZ`YU  
9.3 内部透射率数据 205 k&\YfE3*  
9.4  实例 206 z?~W]PWiZ  
9.5  实例2 210 s(yVE  
9.6  圆锥和带宽计算 212 [.e Y xZ{=  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 |JVeW[C  
10  光学薄膜的颜色 216 s }P-4Sg  
10.1  导言 216 ?H9F"B$a  
10.2  色彩 216 yK"OZ2Mv  
10.3  主波长和纯度 220 ,}&E=5MF\  
10.4  色相和纯度 221  o^59kQT  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 -e_+x'uF  
10.6 色差 226 $mA+ 4ISK  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 FrSeR9b  
10.8  颜色渲染指数 234 4uip!@$K  
10.9  色差计算 235 }`/wj  
10.10  参考文献 236 .ON+ ( #n  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 {b@rQCre7  
11.1  短脉冲 238 c`UJI$Q/  
11.2  群速度 239 + ~ro*{3  
11.3  群速度色散 241 f[)_=T+  
11.4  啁啾(chirped) 245 ^ K8JE,  
11.5  光学薄膜—相变 245 [kqxC  
11.6  群延迟和延迟色散 246 *"E?n>b  
11.7  色度色散 246 &k3'UN!&Ix  
11.8  色散补偿 249 I>b-w;cC  
11.9  空间光线偏移 256 w;$@</  
11.10  参考文献 258 +4emkDTdR  
12  公差与误差 260 Xq&x<td  
12.1  蒙特卡罗模型 260 YBgHX [q  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 g j`"|  
12.2.1  误差工具 267 D5X;hd  
12.2.2  灵敏度工具 271 2aUz.k8o  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 }I7/FqrD  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 %l@Q&)f8e  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 Hk-)fl#dr  
12.3  参考文献 276 vx=I3o  
13  Runsheet 与Simulator 277 qx5X2@-;:  
13.1  原理介绍 277 1QRE-ndc  
13.2  截止滤光片设计 277 )>,b>7  
14  光学常数提取 289 qR<  
14.1  介绍 289 iL1.R+  
14.2  电介质薄膜 289 V"VWHAu*.w  
14.3  n 和k 的提取工具 295 5=Bj?xb$'  
14.4  基底的参数提取 302 xJ9_#$ngeM  
14.5  金属的参数提取 306 -"5x? \.{m  
14.6  不正确的模型 306 \S;% "0!  
14.7  参考文献 311 [Dq7mqr$  
15  反演工程 313 1W;3pN  
15.1  随机性和系统性 313 jG{} b6  
15.2  常见的系统性问题 314 ( DwIAO/S  
15.3  单层膜 314 xiU-}H'o  
15.4  多层膜 314 8QYG"CA6/  
15.5  含义 319 *Kt7"J  
15.6  反演工程实例 319 UQ>GAzh  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .Gl&K|/{j  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 CTtF=\  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 tZ[BfO  
16.1  光学性质的热致偏移 329 {549&]/o  
16.2  应力工具 335 ZP?k|sEH  
16.3  均匀性误差 339 9G_=)8sOV  
16.3.1  圆锥工具 339 VO(Ck\i}  
16.3.2  波前问题 341 U6X~]|o  
16.4  参考文献 343 nx=#QLi  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 l{#m"S7J^  
17.1  引言 345 w;QDQ fx0  
17.2  操作数 345 Hi|2z5=V  
18  如何在Function中编写脚本 351 *wp'`3y}  
18.1  简介 351 3HbHl?-UNU  
18.2  什么是脚本? 351 q30WUO;  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ao{>.b  
18.4  基础 352 |k&.1NkZ  
18.4.1  Classes(类别) 352 ~B(]0:  
18.4.2  对象 352 =&"Vf!7YR7  
18.4.3  信息(Messages) 352 h9+ylHW_cp  
18.4.4  属性 352 #2ZXYH}  
18.4.5  方法 353 }(E6:h;}~  
18.4.6  变量声明 353 [&nwB!kt  
18.5  创建对象 354 g) v"nNS  
18.5.1  创建对象函数 355 /N%f78 Z  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 %~p_bKd~  
18.5.3 丢弃对象 356 e+y< a~N  
18.5.4  总结 356 )[oU|!@  
18.6  脚本中的表格 357 no?)GQ  
18.6.1  方法1 357 }C*o;'o5G  
18.6.2  方法2 357 *, *"G?  
18.7 2D Plots in Scripts 358 10#!{].#x  
18.8 3D Plots in Scripts 359 MVt#n\_BZV  
18.9  注释 360 A</[Q>8  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 &K>]!yn   
18.11  一个更高级的脚本 362 #-'}r}1ZT  
18.12  <esc>键 364 MP}H 5  
18.13 包含文件 365 +"3eh1q[  
18.14  脚本被优化调用 366 }#'KME4  
18.15  脚本中的对话框 368 tEN]0`  
18.15.1  介绍 368 %- A8`lf<  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Z$zUy|s[  
18.15.3  输入框函数 370 1r~lh#_8  
18.15.4  自定义对话框 371 =AD/5E,3  
18.15.5  对话框编辑器 371 eU%5CVH.v  
18.15.6  控制对话框 377 i"rMP#7  
18.15.7  更高级的对话框 380 +ypG<VBx%  
18.16 Types语句 384 $#RD3#=?u  
18.17 打开文件 385 /kw4":{]  
18.18 Bags 387 Dx <IS^>i  
18.13  进一步研究 388 'R,d?ikY  
19  vStack 389 !5B9:p~-  
19.1  vStack基本原理 389 2M&4]d  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 xZ@Y`2A':  
19.3  五棱镜 393 7Ck;LF}>0  
19.4 光束距离 396 k2t?e:)3zr  
19.5 误差 399 `n5c|`6  
19.6  二向分色棱镜 399 5)nv  
19.7  偏振泄漏 404 Mxd fuFss  
19.8  波前误差—相位 405 \B}W(^\wg;  
19.9  其它计算参数 405 QK?5)[ J  
20  报表生成器 406 8fe"#^"sR  
20.1  入门 406 nZ bg  
20.2  指令(Instructions) 406 N!h>fE`  
20.3  页面布局指令 406 c%Gz{':+  
20.4  常见的参数图和三维图 407 \s+MHa&  
20.5  表格中的常见参数 408 p +T&9  
20.6  迭代指令 408 /ruf1?\,R  
20.7  报表模版 408 cw5YjQ8 9  
20.8  开始设计一个报表模版 409 i;xg[e8.  
21  一个新的project 413 KPR{5  
21.1  创建一个新Job 414 M:I,j  
21.2  默认设计 415 vlPE8U=  
21.3  薄膜设计 416 }oN(nPxv9  
21.4  误差的灵敏度计算 420 q~w;C([k_  
21.5  显色指数计算 422 gMGg9U$@  
21.6  电场分布 424 N Dg]s2T  
后记 426 I !(yU  
)/U1; O  
,Tz ,)rY  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 7S1!|*/ I  
^=W&p%Y(!  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
YSwD#jO0  
DA wzXsx  
目  录 ?Tl@e   
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 E1C8yIF  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 v'>Yc#VJ  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 u!-eP7;7  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 R/wSGP`W  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 V")Q4h{  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 q@sH@-z4]  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 J6%op{7/  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ,9pi9\S  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 9Ac t<( V  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 \\lC"Z#J`  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251  qN QsU  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 QVH_B+ Q  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 lC4By,1*  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 wMUnZHd{|  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 9F+bWo_m  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 g.]'0)DMW  
h|H;ZC(B  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
对课程和书籍感兴趣的小伙伴们,可以联系我
infotek 2023-10-20 08:54
课程最后报名中,有兴趣的小伙伴别错过
查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 数据分析