上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 r4X\/ 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 =WZ9|e 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 \UM&|yk: 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 L\bcR 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Rg46V-"d,@ [attachment=120542] XN?my@_HpM 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 :9x]5;ma 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 rFm?Bu 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ]c|JxgU 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 -ULgVGYKK 1. Essential Macleod软件介绍 q|s:&&Wf 1.1 介绍软件 X_bB6A6 1.2 创建一个简单的设计 }vgM$o 1.3 绘图和制表来表示性能 +7
j/.R 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 E[zq<&P@ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) %gSmOW2.c^ 1.6 特定设计的公式技术 aCIz(3^ 1.7 交互式绘图 v^p* l0r6: 2. 光学薄膜理论基础 <pKOFN%m 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ]-a/)8 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 e.XD5~Ax 3. 材料管理 Qz2jV 3.1 材料模型 `fJ;4$4 3.2 介质薄膜光学常数的提取 0Ny +NE:6M 3.3 金属薄膜光学常数的提取 $3ZQ|X[|+ 3.4 基板光学常数的提取 t.O~RE 4. 光学薄膜设计优化方法 P%vouC0W 4.1 参考波长与g X>o*eN 4.2 四分之一规则 `qCL&(`% 4.3 导纳与导纳图 4@mJEi{ 4.4 斜入射光学导纳 ^ u0y<kItX 4.5 光学薄膜设计的进展 6L
Fhhl^ 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;<+Z}d/g9 4.6.1 优化目标设置 #hu`X6s" 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) *r9D+}Y(4 4.6.3 膜层锁定和链接 4&e<Sc64 5. Essential Macleod中各个模块的应用 "qZTgCOY2 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 n<b}6L} 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 !mwMSkkq 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 j!;E>`g 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Kg /, 5.5 如何在Function中编写脚本 BV/ ^S.~ 6. 光学薄膜系统案例 MAX?,-x 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 meThjCC 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 <1x u&Z7 6.3 Stack应用范例说明 w6lx&K- 7. 薄膜性能分析 >>y\idg&: 7.1 电场分布 #\_FSr fX 7.2 公差与灵敏度分析 W4( 7.3 反演工程 JL u$UR4 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 dPV<:uO 8. 真空技术 XI`s M~' 8.1 常用真空泵介绍 zNn 8.2 真空密封和检漏 +~
Y.m8 9. 薄膜制备技术 Klu0m~X@ 9.1 常见薄膜制备技术 30s A\TZ 10. 薄膜制备工艺 WigTNg4 10.1 薄膜制备工艺因素 h+YPyeAs 10.2 薄膜均匀性修正技术 \]S)PDqR 10.3 光学薄膜监控技术 }~0}B[Rf 11. 激光薄膜 o{hZjn- 11.1 薄膜的损伤问题 >*+n`"6 11.2 激光薄膜的制备流程 c0X1})q$ 11.3 激光薄膜的制备技术 Zba<|C 12. 光学薄膜特性测量 W+s3rS2 12.1 薄膜光谱测量 L$, Kdpj 12.2 薄膜光学常数测量 889^P`Q5 12.3 薄膜应力测量 <5h}\5#<j 12.4 薄膜损伤测量 N?A}WW# 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] oJE<}~_k
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] ;{e'q?Y
内容简介 rV-Xsf7Z Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Aaz:C5dtU 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 {8%KO1xB 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `Uvc^ U`)d
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 DD>n-8M@> 4JH^R^O<n
目录 u:wf:^ Preface 1 )hVn/*mH 内容简介 2 o nv0gb/J 目录 i 9%MgA ik( 1 引言 1 Q
} 0_}W 2 光学薄膜基础 2 i"4;{C{s 2.1 一般规则 2 R"z}q(O: 2.2 正交入射规则 3 ,WoV)L'? 2.3 斜入射规则 6 H>-{.E1bG 2.4 精确计算 7 E 429<LQI/ 2.5 相干性 8 #B_H/9f( 2.6 参考文献 10 7Fzr\& 3 Essential Macleod的快速预览 10 mMCd 4 Essential Macleod的特点 32 x69RQ+Vw 4.1 容量和局限性 33 >Wd_?NaI 4.2 程序在哪里? 33 5+(Cp3 4.3 数据文件 35 {aU|BdATI 4.4 设计规则 35 /(%!txSNEt 4.5 材料数据库和资料库 37 UdpuQzV<4` 4.5.1材料损失 38 'Awd:Aed5 4.5.1材料数据库和导入材料 39 \r3SvBwhFv 4.5.2 材料库 41 JM*!(\Y 4.5.3导出材料数据 43 n6c+Okj 4.6 常用单位 43 wkJ@#jD*[ 4.7 插值和外推法 46 .[?2_e#9 % 4.8 材料数据的平滑 50 |`AJP 4.9 更多光学常数模型 54 %9L+ Q1o 4.10 文档的一般编辑规则 55 6r h#ATep 4.11 撤销和重做 56 :{KpnJvd 4.12 设计文档 57 :"K9(XKKU 4.10.1 公式 58 pqohLA 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 O6\c1ha 4.10.3 沉积密度 59 ' Yy+^iCus 4.10.4 平行和楔形介质 60 9!dG Xq 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 bq}`jP~# 4.10.4 性能 61 *c(YlfeZ# 4.10.5 保存设计和性能 64 $?;)uoAg 4.10.6 默认设计 64 \23m*3"W 4.11 图表 64 pMf
?'l 4.11.1 合并曲线图 67 5'|W(yR} 4.11.2 自适应绘制 68 Y7')~C`up^ 4.11.3 动态绘图 68 4S* X=1 4.11.4 3D绘图 69 B~YOU3 4.12 导入和导出 73 ~bw=;xF{3 4.12.1 剪贴板 73 /.t1Ow 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Y/L*0M.< 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 v&sl_w/tn 4.13 背景 77 fBBtS S 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Q-yNw0V}F 4.15 生成Rugate 84 xi)$t#K" 4.16 参考文献 91 zS`KJVm 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?*~sx=mC 5.1 Jobs 92 ]L
k- -\ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 E!=Iz5 5.3 输入材料 94 R I:kp.V 5.4 设计数据文件夹 95 Q $Sp' 5.5 默认设计 95 G4\|bwh 6 细化和合成 97 5>VX]nE3! 6.1 优化介绍 97 {r#uD5NJ/ 6.2 细化 (Refinement) 98 Q5Epq
sKyC 6.3 合成 (Synthesis) 100 BxaGBK<k 6.4 目标和评价函数 101 /^WOrMR 6.4.1 目标输入 102 oE,TA2 6.4.2 目标 103 tF.N 6.4.3 特殊的评价函数 104 _Ec"[xW 6.5 层锁定和连接 104 RW<4", 6.6 细化技术 104 j-| !QlB 6.6.1 单纯形 105 DbYnd%k*4 6.6.1.1 单纯形参数 106 bicbCC6kC 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ffsF], _J 6.6.2.1 Optimac参数 108 I*n]8c 6.6.3 模拟退火算法 109 f @Vd'k< 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ~^fb`f+% 6.6.4 共轭梯度 111 I]WvcDJ}C 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 UQbk%K2 6.6.5 拟牛顿法 112 G\~?.s|^ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 6lUC$B Y 6.6.6 针合成 113 ~m[Gp;pL 6.6.6.1 针合成参数 114 .Y^pDR12 6.6.7 差分进化 114 %Nx,ZD@ 6.6.8非局部细化 115 lWBewnLKE 6.6.8.1非局部细化参数 115 h+j*vX/! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 `$vf 9'\+ 6.7.1 细化 116 }%D${.R] 6.7.2 合成 117 Uz%ynH 6.8 参考文献 117 A.~wgJDO 7 导纳图及其他工具 118 !=u=P9I 7.1 简介 118 zT93Sb 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 pdjRakN 7.2.1 四分之一波长规则 119 wn\R|'Rdz 7.2.2 导纳图 120 2#s8Dxt 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 0-/@-qV\ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 n3$u9!|P 7.5 斜入射导纳图 141 ;s8\F]K 7.6 对称周期 141 ?A-f_0<0 7.7 参考文献 142 imB/P M 8 典型的镀膜实例 143 DQ c pIV 8.1 单层抗反射薄膜 145 :NB.ib@* 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 5f2=`C0_ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "Jdi>{o8 8.4 W-膜层 148 p$` ^A 8.5 V-膜层 149 =)a%,H 8.6 V-膜层高折射基底 150 $'yWg_( 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 t3=K>Y@w 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 3_]QtP3 8.9 四层抗反射薄膜 153 '}-QZ$|* 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 QP>F *A
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4M+f#b1 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 <;cch6Z 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 fUZCP*7> 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 p&D7&Sb[ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 +fq\K] 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ;vn0b"Fi3 8.17 1/4波长堆栈 162 12: Q`
8.18 陷波滤波器 163
:z6? 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p\Iy)Y2Lf! 8.20 褶皱 165 O3pd5&^g 8.21 消偏振分光器1 169 ]v:"
8.22 消偏振分光器2 171
GB,ub*| 8.23 消偏振立体分光器 172 fB'Jo<C 8.24 消偏振截止滤光片 173 fuWAw^& 8.25 立体偏振分束器1 174 uA cvUN-@ 8.26 立方偏振分束器2 177 S"`{ JCW$ 8.27 相位延迟器 178 ~RZN+N 8.28 红外截止器 179 bL{D*\HF 8.29 21层长波带通滤波器 180 %ofq 8.30 49层长波带通滤波器 181 rd"!&i 8.31 55层短波带通滤波器 182 ++ObsWZ 8.32 47 红外截止器 183 w{]B)>! 1W 8.33 宽带通滤波器 184 l_,6<wWp 8.34 诱导透射滤波器 186 CZ%KC$l.5 8.35 诱导透射滤波器2 188 6="o&! 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 %=V"
}P[ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ad=7FhnIa3 8.35 增益平坦滤波器 193 "Nz"|-3Irv 8.38 啁啾反射镜 1 196 ZVit]3hd 8.39 啁啾反射镜2 198 /nEK|.j 8.40 啁啾反射镜3 199 uzLm TmM+ 8.41 带保护层的铝膜层 200 JV+Uy$P! 8.42 增加铝反射率膜 201 iTF%}( 8.43 参考文献 202 <TSps!(# 9 多层膜 204 )QmmI[,tq 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 (&, E}{p9 9.2 内部透过率 204 g;:3I\ L 9.3 内部透射率数据 205 TGjxy1A 9.4 实例 206 #G\-ftA & 9.5 实例2 210 ?zVcP=p@ 9.6 圆锥和带宽计算 212 !#E-p?O. 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 @Y+kg 10 光学薄膜的颜色 216 ]{I>HA5[ 10.1 导言 216 ^}:0\;|N 10.2 色彩 216 %{me<\( 10.3 主波长和纯度 220 8
-w|~y'; 10.4 色相和纯度 221 jP<6Q|5F 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;2^zkmDM 10.6 色差 226 u!fZ>kS 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 dN){w _
10.8 颜色渲染指数 234 E^~ {thf 10.9 色差计算 235 x_l8&RIB* 10.10 参考文献 236 h645;sb0 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ?wjk=hM2 11.1 短脉冲 238 .I>CL4_ 11.2 群速度 239 `[ZA#8Ma 11.3 群速度色散 241 #}8VUbJ 11.4 啁啾(chirped) 245 7JY9#+?p> 11.5 光学薄膜—相变 245 |@?='E?h 11.6 群延迟和延迟色散 246 "'>fTk_ 11.7 色度色散 246 :73T9/ 11.8 色散补偿 249 ]]5(:>l 11.9 空间光线偏移 256 e0#{'_C 11.10 参考文献 258 B E#pHg 12 公差与误差 260 vv 12.1 蒙特卡罗模型 260 x26 sH5 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 64:p 4N 12.2.1 误差工具 267 MJKPpQ(, 12.2.2 灵敏度工具 271 XD[9wd5w8 12.2.2.1 独立灵敏度 271 DG3Mcf@5 12.2.2.2 灵敏度分布 275 !
e?=g%( 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 'n?"f |G 12.3 参考文献 276 F-$NoEL 13 Runsheet 与Simulator 277 p%OVl[^jp 13.1 原理介绍 277 E>"SC\#7 13.2 截止滤光片设计 277 `"$9L[> 14 光学常数提取 289 l8lJ & 14.1 介绍 289 u4[JDB7tH 14.2 电介质薄膜 289 V7+/|P_ 14.3 n 和k 的提取工具 295 I."s&]FZ 14.4 基底的参数提取 302 \;"S>dg 14.5 金属的参数提取 306 T$V8n_; 14.6 不正确的模型 306 C{6m?6 14.7 参考文献 311 tV7{j'If 15 反演工程 313 Pfm B{ 15.1 随机性和系统性 313 V{rQ@7SE 15.2 常见的系统性问题 314 5)w;0{X!P 15.3 单层膜 314 ?X7nM) 15.4 多层膜 314 ~"h V-3U 15.5 含义 319 m# ^).+ 15.6 反演工程实例 319 7re4mrC 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 oK&G 15.6.2 反演工程提取折射率 327 zXd#kw; 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 /EvT%h?p 16.1 光学性质的热致偏移 329 8JO(P0aT 16.2 应力工具 335 d-]!aFj|U 16.3 均匀性误差 339 4 @9cO)m 16.3.1 圆锥工具 339 li~=85 J 16.3.2 波前问题 341 `oE.$~' 16.4 参考文献 343 <-Ax)zE 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 #Vm)wH3 17.1 引言 345 ]oC7{OoX 17.2 操作数 345 w/7vXz< 18 如何在Function中编写脚本 351 W#9LK
Jj 18.1 简介 351 y<y9'tx 18.2 什么是脚本? 351 B{1yMJA 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 QW%xwV?8 18.4 基础 352 ay28%[Q b4 18.4.1 Classes(类别) 352 2{L[D9c/6 18.4.2 对象 352 -}Rh+n` 18.4.3 信息(Messages) 352 qPCI@5n3T? 18.4.4 属性 352 ITjg]taD 18.4.5 方法 353 ,9.NMFn 18.4.6 变量声明 353 <|:$_&( 18.5 创建对象 354 1qwJPM 18.5.1 创建对象函数 355 mpl^LF[ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 `h1>rP 18.5.3 丢弃对象 356 Ude)$PAe% 18.5.4 总结 356 '_xa>T} 18.6 脚本中的表格 357 #YLI"/Kn 18.6.1 方法1 357 ;{g>Z| 18.6.2 方法2 357 l{_1`rC' 18.7 2D Plots in Scripts 358 OEHw% 18.8 3D Plots in Scripts 359 $tebNiP 18.9 注释 360 (DTkK5/% 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 6Kd,(DI 18.11 一个更高级的脚本 362 46c0;E\9 18.12 <esc>键 364 0O?!fd n 18.13 包含文件 365 e\]CZ5hs3 18.14 脚本被优化调用 366 E~,Wpl} 18.15 脚本中的对话框 368 jt&rOPL7 18.15.1 介绍 368 o31pF 18.15.2 消息框-MsgBox 368 4[K6 ZDBU 18.15.3 输入框函数 370 ?w@KF%D 18.15.4 自定义对话框 371 L$f:D2Ei 18.15.5 对话框编辑器 371 TK%MVL TK 18.15.6 控制对话框 377 A#w*r-P 18.15.7 更高级的对话框 380 ,j\UZ 18.16 Types语句 384 =]sM,E,n 18.17 打开文件 385 /I q6'oo 18.18 Bags 387 X(K5>L> 18.13 进一步研究 388 0 oHnam 19 vStack 389 rcjj(
C 19.1 vStack基本原理 389 z)pp{ 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 P.]O8r 19.3 五棱镜 393 `"j _] 19.4 光束距离 396 1;[ZkRbzL 19.5 误差 399 p87VJ} 19.6 二向分色棱镜 399 n)>nfnh 19.7 偏振泄漏 404
/w(t=Y 19.8 波前误差—相位 405 |'12Kv]#Xa 19.9 其它计算参数 405 @jH8x!5u: 20 报表生成器 406 d##'0yg 20.1 入门 406 K#'{Ko 20.2 指令(Instructions) 406 /%h<^YDBf 20.3 页面布局指令 406 J(x42Q}*S 20.4 常见的参数图和三维图 407 Pb@9<N Xm' 20.5 表格中的常见参数 408 7_AcvsdW 20.6 迭代指令 408 %%k`+nK~ 20.7 报表模版 408 ~,P." 20.8 开始设计一个报表模版 409 4 O~zkg 21 一个新的project 413 '~kAsn*/ 21.1 创建一个新Job 414 =Ev*Q[ 21.2 默认设计 415 ADN 21.3 薄膜设计 416 pL)o@-k#% 21.4 误差的灵敏度计算 420 a`uHkRX
)U 21.5 显色指数计算 422 AP_2.V=Sn 21.6 电场分布 424 }\)O1 后记 426 +;wu_CQu -OV!56& GOhGSV# 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 bcZ s+FOPd BF>3CW7 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] `SO"F, xk8P4`;d$ 目 录 tV,Y38e ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 H0\5a|X- 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 a).bk!G 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ~T<o?98 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )mMHwLDwH 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ,V2,FoJ 9 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 rZv5>aEI 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 :3Hr:~ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 X"qC&oZmf 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 %rZJ#p[e)= 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 6?v)Hb}J%d 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 _e3kO6X 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ' |> 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 i0-zGEMB. 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 @ \(*pa 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ~&Gw[Nd1 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 7+vyN^XJ"5 +TnRuehtk 价 格:400元
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