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2023-09-25 08:23 |
上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 I
Gb'ii=A 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 v6aMYmenBH 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 *kF/yN 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 #=Xa(<t 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 :mCGY9d4L [attachment=120542] \!uf*=d 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 -~\7ZRP8 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 :18}$ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 U:MZN[Cc[ 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 FU}- .Ki 1. Essential Macleod软件介绍 hhylsm 1.1 介绍软件 Ebi~gGo 1.2 创建一个简单的设计 ;9=4]YZt 1.3 绘图和制表来表示性能 P??pWzb6HH 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 >[T6/#M 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 5qqU8I 1.6 特定设计的公式技术 /Z#AHfKF 1.7 交互式绘图 n],cs 2. 光学薄膜理论基础 @N>rOA 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ^( C,LVP< 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
b^8"EBo 3. 材料管理 {"|GV~ 3.1 材料模型 /n,a0U/ 3.2 介质薄膜光学常数的提取 biffBC:q 3.3 金属薄膜光学常数的提取 P:XX8 3.4 基板光学常数的提取 r[j@@[)" 4. 光学薄膜设计优化方法 T%}x%9VO7 4.1 参考波长与g j}jU.\*v< 4.2 四分之一规则 ND 8;1+3 4.3 导纳与导纳图 X/Fip0i 4.4 斜入射光学导纳 &|zV Wl 4.5 光学薄膜设计的进展 l$!NEOK 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nu|odP 4.6.1 优化目标设置 Xa>c]j 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ;%u)~3B$JK 4.6.3 膜层锁定和链接 `wLmGv+V 5. Essential Macleod中各个模块的应用 Dp@m"_1`+ 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ?0s&Kz4B 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 a[lx&CHgI 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 yAel4b/} 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 EJaO"9
( 5.5 如何在Function中编写脚本 tjm@+xs 6. 光学薄膜系统案例 1tpt433 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 aMJ9U)wnK 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 uk.x1*0x 6.3 Stack应用范例说明 O,I7M?dRf 7. 薄膜性能分析 6XeqK*r* 7.1 电场分布 k}{K7,DM 7.2 公差与灵敏度分析 =&U7:u 7.3 反演工程 VD=F{|^ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 U:IeMf-; 8. 真空技术 QO,ge<N+N 8.1 常用真空泵介绍 4Gy3s|{ 8.2 真空密封和检漏 O}Do4>02 9. 薄膜制备技术 C9T-4o1 9.1 常见薄膜制备技术 X^0jS 10. 薄膜制备工艺 e=Kr>~q= 10.1 薄膜制备工艺因素 @eDL j} 10.2 薄膜均匀性修正技术 8ax3"G 10.3 光学薄膜监控技术 nQ'AB~ Do 11. 激光薄膜 v{U1B 11.1 薄膜的损伤问题 y {Mh ?H 11.2 激光薄膜的制备流程 iJu$& | |