上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 &0M^UvO 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ) ><{A 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 =\tg$ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 #[IQmU23 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 m@OgT<E]_ [attachment=120542] y>|7'M*+ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 TzVNZDQ`Jl 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 D>05F,a 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Fe:0nr9; 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 )PZ'{S 1. Essential Macleod软件介绍 "",V\m 1.1 介绍软件 w+PbT6; 1.2 创建一个简单的设计 O GSJR`yT 1.3 绘图和制表来表示性能 g!4"3Dtdg 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 C5F}*]E[y 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) nsYS0 1.6 特定设计的公式技术 K5b8lc 1.7 交互式绘图 koe&7\ _@ 2. 光学薄膜理论基础 oMcX{v^" 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 'H:lR1(, 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 zf#V89!]C" 3. 材料管理 wOINcEdx 3.1 材料模型 \S3C"P%w 3.2 介质薄膜光学常数的提取 $KKrl 3.3 金属薄膜光学常数的提取 &%rXRP 3.4 基板光学常数的提取 +\SbrB P 4. 光学薄膜设计优化方法 T5o9pmD 4.1 参考波长与g (Zx;GS 4.2 四分之一规则 $f_Brc:n { 4.3 导纳与导纳图 gZ:)l@ Wu 4.4 斜入射光学导纳 cvi+AZ= 4.5 光学薄膜设计的进展 |0BmEF 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 pz~AsF 4.6.1 优化目标设置 Qr$uFh/y 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) {}[S,L 4.6.3 膜层锁定和链接 9w (QM-u 5. Essential Macleod中各个模块的应用 b>?X8)f2e 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 \%f4)Qb 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 o^2.&e+dQ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 OP{ d(~+ 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 L9&Z?$6J_p 5.5 如何在Function中编写脚本 5YJLR; 6. 光学薄膜系统案例 &H`yDrg6U 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 -7>vh|3 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 e$fxC-sZ 6.3 Stack应用范例说明 =#SKN\4 7. 薄膜性能分析 U5%EQc-"P 7.1 电场分布 e%o6s+" 7.2 公差与灵敏度分析 P*Uu)mG)G 7.3 反演工程 Jcy 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 p~En~?< 8. 真空技术 /EA4-#uw 8.1 常用真空泵介绍 3;@t{rIin 8.2 真空密封和检漏
jI[:` 9. 薄膜制备技术 C
3b 9.1 常见薄膜制备技术 ^;!A`t 10. 薄膜制备工艺 vH9/}w2 10.1 薄膜制备工艺因素 >n{(2bcFs 10.2 薄膜均匀性修正技术 /m(vIl 10.3 光学薄膜监控技术 eZk
[6H 11. 激光薄膜 X2/`EN\ 11.1 薄膜的损伤问题 KzG8K 6wZ 11.2 激光薄膜的制备流程 /k l0(=' 11.3 激光薄膜的制备技术 J+kxb"#d 12. 光学薄膜特性测量 A !x"* 12.1 薄膜光谱测量 eOE7A'X 12.2 薄膜光学常数测量 A!x_R {,yH 12.3 薄膜应力测量 @_YlHe&W 12.4 薄膜损伤测量 R4%!W~K 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] 120<(#
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] Ul)2A
内容简介 ebcGdC/%> Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ZjF$zVk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 HJ:s)As 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 h)~KD% EL;Ir tU
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 b(&2/|hd j_H{_Ug 目录 k^:$ETW2
D Preface 1 *}$T:kTH 内容简介 2 (&=-o( 目录 i P*BA 1 引言 1 5rr7lwWZ 2 光学薄膜基础 2 ]3BTL7r 2.1 一般规则 2 .R#p<"$I 2.2 正交入射规则 3 ~
b!mKyrZ 2.3 斜入射规则 6 &&\ h%-Jc 2.4 精确计算 7 !vHnMY~AG 2.5 相干性 8 ?kI-o0@O. 2.6 参考文献 10 pn{Mj 3 Essential Macleod的快速预览 10 Zm>Q-7r9 4 Essential Macleod的特点 32 pLE|#58I 4.1 容量和局限性 33 s7A{<>: 4.2 程序在哪里? 33 ce0TQ 4.3 数据文件 35 MS)# S& 4.4 设计规则 35 h/?8F^C#v 4.5 材料数据库和资料库 37 47ppyh6@ 4.5.1材料损失 38 rbHrG<+7zO 4.5.1材料数据库和导入材料 39 vRpMZ)e 4.5.2 材料库 41 I3uaEv7OZc 4.5.3导出材料数据 43 %M2.h;9]*\ 4.6 常用单位 43 mnzamp 4.7 插值和外推法 46 Cg
|_) _w 4.8 材料数据的平滑 50 W/<]mm~95 4.9 更多光学常数模型 54 Jx9S@L` 4.10 文档的一般编辑规则 55 Og4 X3QG 4.11 撤销和重做 56 vvU;55- 4.12 设计文档 57 )l[<3<@s 4.10.1 公式 58 3ZGU?Z;R 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 R
rs?I,NV 4.10.3 沉积密度 59 ZSuUmCm 4.10.4 平行和楔形介质 60 d kHcG&) 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 F #Uxl%h 4.10.4 性能 61 T;XEU%:LK 4.10.5 保存设计和性能 64 OmQSNU.our 4.10.6 默认设计 64 BC ]^BKP 4.11 图表 64 : ~"^st_[! 4.11.1 合并曲线图 67 IHZ WNT2 4.11.2 自适应绘制 68 @>,3l;\Zh 4.11.3 动态绘图 68 (cAv :EKpo 4.11.4 3D绘图 69 LY'_U0y4 4.12 导入和导出 73 p%EU,:I6 4.12.1 剪贴板 73 4(o: #9I 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }@J&yrqg 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 b#(SDNo6 4.13 背景 77 GMU.Kt 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Y5&Jgn.l 4.15 生成Rugate 84 {9vvj 4.16 参考文献 91 I&l 1b> 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 aR6?+`6< 5.1 Jobs 92 */sVuD^b` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 wv>Pn0cO 5.3 输入材料 94 7}(wEC 5.4 设计数据文件夹 95 l~!Tnp\M 5.5 默认设计 95 ;n$j?n+| 6 细化和合成 97 fQi7e5 6.1 优化介绍 97 %Rj:r!XB: 6.2 细化 (Refinement) 98 \Si@t{`O 6.3 合成 (Synthesis) 100 9:4PJ%R9 6.4 目标和评价函数 101 izsAn"v
6.4.1 目标输入 102 U>7"BpC 6.4.2 目标 103 [7q~rcf,Z 6.4.3 特殊的评价函数 104 ^crk8O@Fw 6.5 层锁定和连接 104 XeX0\L')R 6.6 细化技术 104 fIN8::Cs[ 6.6.1 单纯形 105 '31pb9@fH 6.6.1.1 单纯形参数 106 rVd (H 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 IE.JIi^w 6.6.2.1 Optimac参数 108 )28Jz6.I 6.6.3 模拟退火算法 109 Idop!b5! 6.6.3.1 模拟退火参数 109 S!A)kK+ 6.6.4 共轭梯度 111 {\[u2{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <Z{\3X^ 6.6.5 拟牛顿法 112 I~y[8 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 9_V'P]@ 6.6.6 针合成 113 7GY[l3arxv 6.6.6.1 针合成参数 114 vNlYk 6.6.7 差分进化 114 o)F^0t 6.6.8非局部细化 115 !yU!ta Q 6.6.8.1非局部细化参数 115 RKFj6u 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ~j}di^<{ 6.7.1 细化 116 c) Zid1 6.7.2 合成 117 jG)fM? 6.8 参考文献 117 u:&gp 7 导纳图及其他工具 118 oRFHq>-.g 7.1 简介 118 g#ubxC7t< 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 z #c)Q 7.2.1 四分之一波长规则 119 9:"%j 7.2.2 导纳图 120 Zm& X $U 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 H8.U#% 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 +RQlMAB 7.5 斜入射导纳图 141 |0:<Z( 7.6 对称周期 141 D@*<p h= 7.7 参考文献 142 5jD2%"YUV 8 典型的镀膜实例 143 s<Pk[7`* 8.1 单层抗反射薄膜 145 Bm2"} = 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 o#gb+[ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 r7o63] 8.4 W-膜层 148 Zc(uK{3W- 8.5 V-膜层 149 _Z z"` 8.6 V-膜层高折射基底 150 hE0
p>R8 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 /{
Lo0 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 fvK):eCo 8.9 四层抗反射薄膜 153 Tm~a&p 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 .P+om<~B 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 |S[Gg 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 vggyQf% 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 zY_BnJ^ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 S]mXfB(mh 8.15十五层宽带抗反射膜 159 +#7e?B 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ukb2[mb*u 8.17 1/4波长堆栈 162 ,<s'/8Ik 8.18 陷波滤波器 163 \)'s6>58| 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 PB00\&6H 8.20 褶皱 165 'MH WNPG0 8.21 消偏振分光器1 169 iV;X``S 8.22 消偏振分光器2 171 {eA0I\c(C 8.23 消偏振立体分光器 172 .<566g}VP 8.24 消偏振截止滤光片 173 <|9s {z 8.25 立体偏振分束器1 174 oe`t ? (U 8.26 立方偏振分束器2 177 \9TCP;{ 8.27 相位延迟器 178 D_ er( 8.28 红外截止器 179 xR
`4< 8.29 21层长波带通滤波器 180 hvCX,^LoJ 8.30 49层长波带通滤波器 181 - ` F#MN 8.31 55层短波带通滤波器 182 |pxM8g1w 8.32 47 红外截止器 183 xD+n2:I{ 8.33 宽带通滤波器 184 F33&A<(, 8.34 诱导透射滤波器 186 %K[_;8 8.35 诱导透射滤波器2 188 ``KimeA~ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 "
UaUaSg# 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 9nF;$HB 8.35 增益平坦滤波器 193 7\I,;swo 8.38 啁啾反射镜 1 196 &?C%
-"|c 8.39 啁啾反射镜2 198 e<o{3*%p) 8.40 啁啾反射镜3 199 :H($|$\h 8.41 带保护层的铝膜层 200 &U/7D!^X 8.42 增加铝反射率膜 201 A (z
lX_ 8.43 参考文献 202 9NX f~-V- 9 多层膜 204 {"hX_t 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Q${0(#Nu 9.2 内部透过率 204 [~e{58}J| 9.3 内部透射率数据 205 46`(u"RP 9.4 实例 206 '|
(#^jAj 9.5 实例2 210 Xm,w.|dx 9.6 圆锥和带宽计算 212 @vzv9c[ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 ajB4Lj,:r 10 光学薄膜的颜色 216 _0^f 10.1 导言 216 HUUN*yikj 10.2 色彩 216 8+'9K%'@qX 10.3 主波长和纯度 220 j6x1JM 10.4 色相和纯度 221 #nG?}*# 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 P X/{ 10.6 色差 226 K[}5bjh> 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 V*]cF=W[A 10.8 颜色渲染指数 234 anLSD/'4W 10.9 色差计算 235 V`:iun^f 10.10 参考文献 236 $&D$Uc`U> 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 +pDZ,c, 11.1 短脉冲 238 <X]'": 11.2 群速度 239 ^f][;>c 11.3 群速度色散 241 IJX75hE0g 11.4 啁啾(chirped) 245 G-FeDP 11.5 光学薄膜—相变 245 o2p;$W4` 11.6 群延迟和延迟色散 246 `s[77V> 11.7 色度色散 246 iIrH&}2 11.8 色散补偿 249 {|dU|h 11.9 空间光线偏移 256 e'%"G{(D 11.10 参考文献 258 4rXjso| 12 公差与误差 260 q u>5 rg- 12.1 蒙特卡罗模型 260 x@^Kd*fo 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fd Vye|% 12.2.1 误差工具 267 ;yd[QT<I< 12.2.2 灵敏度工具 271 ZWJ%t'kF 12.2.2.1 独立灵敏度 271 Z?@1X`@ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 }M_Yn0(3 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 yx v]G6 12.3 参考文献 276 &U<t*" 13 Runsheet 与Simulator 277 4q%hn3\ 13.1 原理介绍 277 2AN6(k4o 13.2 截止滤光片设计 277 H_3-"m &3 14 光学常数提取 289 [+7 Nu 14.1 介绍 289 $~ 6Y\O 14.2 电介质薄膜 289 1E3'H7k\t 14.3 n 和k 的提取工具 295 R^t
)~\d 14.4 基底的参数提取 302 @C\>P49 14.5 金属的参数提取 306 a3i;r M2 14.6 不正确的模型 306 DdAs]e|D[ 14.7 参考文献 311 `8 Q3=^)3 15 反演工程 313 |n9q4*dN 15.1 随机性和系统性 313 s+mNr3 15.2 常见的系统性问题 314 /%O+]#$`0 15.3 单层膜 314 \TchRSe 15.4 多层膜 314 F|Y}X|x8Q 15.5 含义 319 u+
wKs` 15.6 反演工程实例 319 <|qh5Scp 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320
'ju 15.6.2 反演工程提取折射率 327 ykq9]Xqhv 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 =2sj$ 16.1 光学性质的热致偏移 329 (<.uvq61 16.2 应力工具 335 s>d /9 b 16.3 均匀性误差 339 3WH"NC-O< 16.3.1 圆锥工具 339 |ji={ 16.3.2 波前问题 341 1w30Vj2< 16.4 参考文献 343 <W$Ig@4[.d 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 c UJUZ@ol 17.1 引言 345 4JOw@/nE 17.2 操作数 345 <4DSk9/ 18 如何在Function中编写脚本 351 l8O12 18.1 简介 351 B Q)1)8r 18.2 什么是脚本? 351 ]t4 9Efw 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 u<}PcI. 18.4 基础 352 zYL</!6a[ 18.4.1 Classes(类别) 352 _PI w""ssr 18.4.2 对象 352 (C1@f!Z 18.4.3 信息(Messages) 352 NTj: +z0 18.4.4 属性 352 r$=YhI/= 18.4.5 方法 353 EUVB>%P 18.4.6 变量声明 353 O-5s}RT 18.5 创建对象 354 -Odk'{nW 18.5.1 创建对象函数 355 T(n<@Ac]V 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 7mUpn:U 18.5.3 丢弃对象 356 ;t^8lC?>V 18.5.4 总结 356 Hh|a(Zq, 18.6 脚本中的表格 357 i2h,=NHJh? 18.6.1 方法1 357 h[Hn*g 18.6.2 方法2 357 AdCi*="m 18.7 2D Plots in Scripts 358 ;p$KM-?2D 18.8 3D Plots in Scripts 359 !a(#G7zA 18.9 注释 360 dcK7Dd-> 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 i;' kQ 18.11 一个更高级的脚本 362 9)_fH6r 18.12 <esc>键 364 i/Nd 18.13 包含文件 365 ig] hY/uT 18.14 脚本被优化调用 366 *58`}] 18.15 脚本中的对话框 368 h3 Bs 18.15.1 介绍 368 =f4v: j}'| 18.15.2 消息框-MsgBox 368 2f;fdzjk8K 18.15.3 输入框函数 370 9PpPAF 18.15.4 自定义对话框 371 $U{\T4 18.15.5 对话框编辑器 371 ,g2oqq ? 18.15.6 控制对话框 377 ^p'iX4M 18.15.7 更高级的对话框 380 upD2vtU 18.16 Types语句 384 9}\{0;9 18.17 打开文件 385 2N,<~L`FX' 18.18 Bags 387 .6@qU} 18.13 进一步研究 388 ]i}3`e? 19 vStack 389 >:2B r(S 19.1 vStack基本原理 389 6b-j 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 jK#[r[q{ 19.3 五棱镜 393 )^G&p[G 19.4 光束距离 396 2J^jSgr50d 19.5 误差 399 m'
LRP:9v 19.6 二向分色棱镜 399 FIB 9W@oao 19.7 偏振泄漏 404 -ZmccT" 8 19.8 波前误差—相位 405 FG?69b> 19.9 其它计算参数 405 ~6:<OdQ 20 报表生成器 406 3C=| 20.1 入门 406 W6b5elH@ 20.2 指令(Instructions) 406 rPk=9I 20.3 页面布局指令 406 H;&^A5 20.4 常见的参数图和三维图 407 5CSihw/5 20.5 表格中的常见参数 408 ?1r>t"e5 20.6 迭代指令 408 (TQx3DGq 20.7 报表模版 408 hXvg<Rf 20.8 开始设计一个报表模版 409 UR/lM,N; 21 一个新的project 413 Anpx%NVo 21.1 创建一个新Job 414 ^>g7Kg"0 21.2 默认设计 415 J9tQ@3{f 21.3 薄膜设计 416 INm21MS$ 21.4 误差的灵敏度计算 420 i[gq8% 21.5 显色指数计算 422 ;au-NY 21.6 电场分布 424 ERql^Yr 后记 426 7~t,Pt) mP1EWh| 8x`?Yc 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ) o)k~6uT C+iIvRYC 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] l9U^[;D qRD]Q 目 录 (s/hK ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 g$qNK`y 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 \]uo^@$bm 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 yv.UNcP? 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 yq3i=RB( 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 JN{.-k4Ha 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 }CR@XD}[ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 CS:"F) at 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Kr$ w"] 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 7=YjY)6r^ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 RCFocOOn 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 REyk,s2"6 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 MroJ!.9 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 YTiXUOj 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 P= e3f(M2 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 V!eq)L 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 |Rh%wJ X 8TwMt 价 格:400元
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