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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 n:GK0wu.s  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 4425,AR  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ?#^_yd|<  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 h'x|yy]@3  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Y#_,Ig5.  
[attachment=120542] J3fcnI  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 D 5]sf>~  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 9d4PH  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 32=Gq5pOc  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 TE4{W4I  
1. Essential Macleod软件介绍 9}FWO&LiB  
1.1 介绍软件 *f:^6h  
1.2 创建一个简单的设计 #5kQn>R  
1.3 绘图和制表来表示性能 ]k%Yz@*S  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 _yyQ^M/  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) d*=P8QwL|  
1.6 特定设计的公式技术 Da!A1|"  
1.7 交互式绘图 u0^: XwZ!  
2. 光学薄膜理论基础 ln7{c #lE  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 edqekjh  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 D L_{q6ZK  
3. 材料管理 8H3|i7.1h  
3.1 材料模型 =N`"%T@=  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 lkK+Fm  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 uYlC*z{  
3.4 基板光学常数的提取 EZz Ox(g  
4. 光学薄膜设计优化方法 %0}qMYS  
4.1 参考波长与g <8[BB7  
4.2 四分之一规则 Z&%#,0>]  
4.3 导纳与导纳图 Au$|@  
4.4 斜入射光学导纳 mxhO: .l  
4.5 光学薄膜设计的进展 2/qP:3)  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 I|JMkP  
4.6.1 优化目标设置 M-u:8dPu  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ,V!s w5_5m  
4.6.3 膜层锁定和链接 RV5X0  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 E)m{m$Hb  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 7</&=lly  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 IMjnj|Fj  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 h8oG5|Y  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 !CROc}  
5.5 如何在Function中编写脚本 l [?o du4  
6. 光学薄膜系统案例 j0!Z 20  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 [Z|R-{"  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 gvO}u2.:  
6.3 Stack应用范例说明 U[=VW0  
7. 薄膜性能分析 (Bd8@}\u_  
7.1 电场分布 bE.,)GY  
7.2 公差与灵敏度分析 zR(}X8fP  
7.3 反演工程 9D:p~_"g  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 m UpLD+-j  
8. 真空技术 q-gN0"z^6$  
8.1 常用真空泵介绍 \5 IB/ *  
8.2 真空密封和检漏 XKB)++Q=  
9. 薄膜制备技术 Y~vI@$<~(  
9.1 常见薄膜制备技术 quHq?oXV,  
10. 薄膜制备工艺 EAU6z(X$  
10.1 薄膜制备工艺因素 4[|^78  
10.2 薄膜均匀性修正技术 0'`>20Y  
10.3 光学薄膜监控技术 Cfu]umZLn  
11. 激光薄膜 >S3iP?V7  
11.1 薄膜的损伤问题 `uy)][j-  
11.2 激光薄膜的制备流程 6wx;grt'Z  
11.3 激光薄膜的制备技术 *z;4. OX  
12. 光学薄膜特性测量 9l9 nT  
12.1 薄膜光谱测量 yTwv2l;U  
12.2 薄膜光学常数测量 b[Sd$ACd  
12.3 薄膜应力测量 Vu0jNKUV  
12.4 薄膜损伤测量 >4`("#  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
b;#3X)  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
z9pv|  
内容简介 [!p>Id  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 U7O~ch[,  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 x2 /\%!mt  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 An!1>`8r  
YU.aZdA&V3  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
c1M/:*?%  
fOCLN$x^  
目录 lN#W  
Preface 1 I~?D^   
内容简介 2 H=[eO  
目录 i w~hO)1c],:  
1  引言 1 =.O8G=;DOA  
2  光学薄膜基础 2 Ql^I$5&  
2.1  一般规则 2 .'JO7of  
2.2  正交入射规则 3 z^+f3-Z  
2.3  斜入射规则 6 Ahk6{uz  
2.4  精确计算 7 ec+&K?T  
2.5  相干性 8 &^Q-:Kxs8  
2.6 参考文献 10 mH2XwA|  
3  Essential Macleod的快速预览 10 nI.K|hU:P  
4  Essential Macleod的特点 32 n@  lf+  
4.1  容量和局限性 33 t?f2*N :  
4.2  程序在哪里? 33 3:Q5dr+1_  
4.3  数据文件 35 |;e K5(|  
4.4  设计规则 35 d\dh"/_$  
4.5  材料数据库和资料库 37 _SdO}AiG  
4.5.1材料损失 38 TeaP\a  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 5H#f;L\k  
4.5.2 材料库 41 ;"46H'>!  
4.5.3导出材料数据 43 2\80S[f  
4.6  常用单位 43 7{>mm$^|V  
4.7  插值和外推法 46 @ -CZa^g  
4.8  材料数据的平滑 50 _K["qm{X_  
4.9 更多光学常数模型 54 H <41H;m  
4.10  文档的一般编辑规则 55 vFm8T58 7  
4.11 撤销和重做 56 ,Z*&QR  
4.12  设计文档 57 Hc^q_{}"  
4.10.1  公式 58 KGb:NQ=O6i  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 )(yD"]co  
4.10.3  沉积密度 59 koDIxj'%X  
4.10.4 平行和楔形介质 60 xa#;<8 iV  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Qc1NLU9:  
4.10.4  性能 61 ChzKwYDY  
4.10.5  保存设计和性能 64 KBJ%$OQV  
4.10.6  默认设计 64 j<|I@0  
4.11  图表 64 {2"8^;  
4.11.1  合并曲线图 67 &iR3]FNI  
4.11.2  自适应绘制 68 -{[5P!  
4.11.3  动态绘图 68 T40&a(hXQ  
4.11.4  3D绘图 69 (%.[MilxPM  
4.12  导入和导出 73 %gUf  
4.12.1  剪贴板 73 *|WS,  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 [`pp[J-~7  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 lz1RAp0R "  
4.13  背景 77 ou8V7  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <&JK5$l<X  
4.15  生成Rugate 84 z OwKh>]  
4.16  参考文献 91 I)7STzlMj.  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 {jdtNtw  
5.1  Jobs 92 rywui10x*  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Q8-;w{%  
5.3  输入材料 94 %-9?rOr  
5.4  设计数据文件夹 95 RE)!b  
5.5  默认设计 95 E%Tpby}^'  
6  细化和合成 97 Z[9) hGh  
6.1  优化介绍 97 (j<FS>##  
6.2  细化 (Refinement) 98 uBpnfIe  
6.3  合成 (Synthesis) 100 DpD19)ouy  
6.4  目标和评价函数 101 Yf1&"WW4  
6.4.1  目标输入 102 E3..$x-/  
6.4.2  目标 103 3an9Rb V  
6.4.3  特殊的评价函数 104 X=C*PWa7  
6.5  层锁定和连接 104 Qc4r?7S<  
6.6  细化技术 104 ki|KtKAu_9  
6.6.1  单纯形 105 /Z3 Mlm{  
6.6.1.1 单纯形参数 106 6g fn5G  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Uk1|y\  
6.6.2.1 Optimac参数 108 P"-*'q,9  
6.6.3  模拟退火算法 109 Ygeg[S!7  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 eR1SPS1+  
6.6.4  共轭梯度 111 GK6/S_l%D+  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 B'NtG84  
6.6.5  拟牛顿法 112 "Y'MuV'x  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 h D5NX  
6.6.6  针合成 113 da[=d*I.  
6.6.6.1 针合成参数 114 /H (55^EMZ  
6.6.7 差分进化 114 UTWchh  
6.6.8非局部细化 115 E5 ;6ks)  
6.6.8.1非局部细化参数 115 z6'Cz}%EP'  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 6DkFIkS  
6.7.1  细化 116 8Cx6Me>,=  
6.7.2  合成 117 @n|Mr/PAj  
6.8  参考文献 117 ZYS`M?Au  
7  导纳图及其他工具 118 7Gh+EJJ3I  
7.1  简介 118 nu(;yIRP  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 8n&Gn%DvX  
7.2.1  四分之一波长规则 119 +DsdzR`Gx,  
7.2.2  导纳图 120 pH9xyN[:a  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 %3%bRP  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 8(3n v[  
7.5  斜入射导纳图 141 d/&W[jJ  
7.6  对称周期 141 N4HIQ\p  
7.7  参考文献 142 Wg5<@=x!G  
8  典型的镀膜实例 143 NZb}n`:  
8.1  单层抗反射薄膜 145 0#G@F5; <  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ayGcc`  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 '^|u\$&U  
8.4  W-膜层 148 C ^IPddw>  
8.5  V-膜层 149 fzdWM:g  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ""f'L,`{.  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 c 80Ffq  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Qx")D?u  
8.9  四层抗反射薄膜 153 +dG3/vV  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 T? g%I  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 @fQvAok  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 A.9ZFFz  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 56?RFnZ&j  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 +$YH dgZ.  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 JT p+&NS  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 B"Ma<"HU  
8.17  1/4波长堆栈 162 <GWzdj?  
8.18  陷波滤波器 163 ]*Cq'<h$  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 `nCVO;B  
8.20  褶皱 165 f6,?Yex8B  
8.21  消偏振分光器1 169 diWi0@  
8.22  消偏振分光器2 171 uXouN$&  
8.23  消偏振立体分光器 172 ],~H3u=s3  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ;Rf@S$  
8.25  立体偏振分束器1 174 Xaw ~Hh)  
8.26  立方偏振分束器2 177 ,p>@:C/M  
8.27  相位延迟器 178 p:;`X!  
8.28  红外截止器 179 KG=57=[  
8.29  21层长波带通滤波器 180 N mA6L+  
8.30  49层长波带通滤波器 181 7'!DK;=TD6  
8.31  55层短波带通滤波器 182 sj3[ny;b  
8.32  47 红外截止器 183 $DlO<  
8.33  宽带通滤波器 184 `aDVN_h{6  
8.34  诱导透射滤波器 186 h e[2,  
8.35  诱导透射滤波器2 188 iv ~<me0F  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 FEO /RMh  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Ys0N+  
8.35  增益平坦滤波器 193 x#XxD<y  
8.38  啁啾反射镜 1 196 OWc~=Cr  
8.39  啁啾反射镜2 198 [Y4Wm?  
8.40  啁啾反射镜3 199 gW-mXb  
8.41  带保护层的铝膜层 200 0!b9%I=j  
8.42  增加铝反射率膜 201 /5Sd?pW;  
8.43  参考文献 202 ^kK% 8 u  
9  多层膜 204  5]*!N  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 5.LfN{gE)  
9.2  内部透过率 204 {kghZur  
9.3 内部透射率数据 205 |=:<[FU  
9.4  实例 206 w! PguP  
9.5  实例2 210 jp7cPpk:LG  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ]*hH.ZBY"^  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 w$Z%RF'p  
10  光学薄膜的颜色 216 *\Lr]6k  
10.1  导言 216 &I:ZJuQ4  
10.2  色彩 216 @R Jr ~y0  
10.3  主波长和纯度 220 Z7NR%u_|[  
10.4  色相和纯度 221 _3IRj=Cs  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 )O2IEwPd.  
10.6 色差 226 $)eS Gslz  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 H*P[tyz$  
10.8  颜色渲染指数 234 8O_yZ ~Z4  
10.9  色差计算 235 7GvMKtuSK  
10.10  参考文献 236 p<<dj%  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ]v]tBVO$  
11.1  短脉冲 238 Qff.QI,  
11.2  群速度 239 &xpvHKJl  
11.3  群速度色散 241 N@Q_5t0bk  
11.4  啁啾(chirped) 245 \&l@rMD3s  
11.5  光学薄膜—相变 245 ^zW=s$\Fo  
11.6  群延迟和延迟色散 246 #-o 'g!  
11.7  色度色散 246 ~9PZ/( '  
11.8  色散补偿 249 u@;e`-@  
11.9  空间光线偏移 256 I_ AFHrj  
11.10  参考文献 258 91-[[<  
12  公差与误差 260 !;4Hh)2  
12.1  蒙特卡罗模型 260 9o4h~Imu  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 k?rJGc G  
12.2.1  误差工具 267 CDPu(,^  
12.2.2  灵敏度工具 271 6Jq3l_  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 >?#zPweA  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 K)  Ums-b  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 /|lAxAm?  
12.3  参考文献 276 ^X?uAX-RP|  
13  Runsheet 与Simulator 277 gZiwXb  
13.1  原理介绍 277 S503b*pM  
13.2  截止滤光片设计 277 >=:^N-a  
14  光学常数提取 289 ?\kuP ?\  
14.1  介绍 289 %@:6&  
14.2  电介质薄膜 289 e,r7UtjoxR  
14.3  n 和k 的提取工具 295 =kf"%vFV  
14.4  基底的参数提取 302 "%b Gw v  
14.5  金属的参数提取 306 O~v~s ' c&  
14.6  不正确的模型 306 CYlS8j  
14.7  参考文献 311 uQ&> Wk  
15  反演工程 313 Wffz&pR8  
15.1  随机性和系统性 313 1=,y +Xpw  
15.2  常见的系统性问题 314 wFMw&=j  
15.3  单层膜 314 Zu<S<??Jf  
15.4  多层膜 314 #WJ*)$A@&  
15.5  含义 319 EqGpo_  
15.6  反演工程实例 319 J7qTE8W=  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 2[;~@n1P  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 <s7cCpUFP  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 oh@Ha?  
16.1  光学性质的热致偏移 329 !{{gL=_@  
16.2  应力工具 335 r6R@"1/  
16.3  均匀性误差 339 X# /c7w-  
16.3.1  圆锥工具 339 mYj)![  
16.3.2  波前问题 341 i]s%tEZ1  
16.4  参考文献 343 lD, ~%  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 j@w1S[vt  
17.1  引言 345 9UVT]acq  
17.2  操作数 345 V#5$J Xp  
18  如何在Function中编写脚本 351 qGX#(,E9;  
18.1  简介 351 $PI9vyS  
18.2  什么是脚本? 351 1D3 8T  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 YaL:6[6  
18.4  基础 352 znPh7{|<  
18.4.1  Classes(类别) 352 /%s:aO  
18.4.2  对象 352 2P)O 0j\/  
18.4.3  信息(Messages) 352 x}nBU q:  
18.4.4  属性 352 3Pllxq<n  
18.4.5  方法 353 u1Slu%^e  
18.4.6  变量声明 353 {y a .  
18.5  创建对象 354 [0hahR  
18.5.1  创建对象函数 355 M0~%[nX  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ~;a \S3  
18.5.3 丢弃对象 356 =<#G~8WYz  
18.5.4  总结 356 RGs7Hc  
18.6  脚本中的表格 357 ~#jiX6<I  
18.6.1  方法1 357 cJv/)hRaz  
18.6.2  方法2 357 P tLWFO  
18.7 2D Plots in Scripts 358 fISK3t/=C  
18.8 3D Plots in Scripts 359 G}^=(,jl  
18.9  注释 360 <nN.$4~X  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 $A-X3d;'\/  
18.11  一个更高级的脚本 362 @4D{lb"{  
18.12  <esc>键 364 u '/)l}  
18.13 包含文件 365 0 p ?AL=  
18.14  脚本被优化调用 366 HKJBR)T  
18.15  脚本中的对话框 368 xO Aq!,|V  
18.15.1  介绍 368 G_J}^B*?%v  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 M?UUT8,  
18.15.3  输入框函数 370 ,z>-_HOnw  
18.15.4  自定义对话框 371 abm 3q!a-  
18.15.5  对话框编辑器 371 N0Y4m_dm*  
18.15.6  控制对话框 377 <Q/)SN6_E  
18.15.7  更高级的对话框 380 [A/2 Ms  
18.16 Types语句 384 `=P_ed%&'  
18.17 打开文件 385 op5 `#{  
18.18 Bags 387 r A(A$VR  
18.13  进一步研究 388 lTP#6zqfv  
19  vStack 389 2dkWzx  
19.1  vStack基本原理 389 `G/g/>y  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 )\EIXTZY=  
19.3  五棱镜 393 0bM_EC  
19.4 光束距离 396 b<~-s sL7a  
19.5 误差 399 ^@O 7d1&y  
19.6  二向分色棱镜 399 h=gtuaR4  
19.7  偏振泄漏 404 *bf 5A9  
19.8  波前误差—相位 405 GRbbU#/=G  
19.9  其它计算参数 405 !ess.U&m'  
20  报表生成器 406 3CjixXaA$  
20.1  入门 406 -5+Yz9pv[  
20.2  指令(Instructions) 406 }Le]qoW['  
20.3  页面布局指令 406 xh$yXP0/  
20.4  常见的参数图和三维图 407 2=n`z) R  
20.5  表格中的常见参数 408 xxvt<J  
20.6  迭代指令 408 R|M]mwa^w  
20.7  报表模版 408 Ca5#'3Eh  
20.8  开始设计一个报表模版 409 T@U,<[,   
21  一个新的project 413 &BrFcXF  
21.1  创建一个新Job 414 [)s4:V  
21.2  默认设计 415 t^"8M6BqC;  
21.3  薄膜设计 416 4RB%r  
21.4  误差的灵敏度计算 420 *>:phs~r{  
21.5  显色指数计算 422 `1(ED= |  
21.6  电场分布 424 v0oVbHO5<  
后记 426 } SW p~3P  
D^6iQW+.P  
LdG?kbJ&y  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 B os`+Y  
cMZy~>  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
;9mRumLG"  
/X.zt `  
目  录 4tLdqs  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 vLHn4>J,R  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 ^C ~Ryw7  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 q9rm9#}[J#  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 cYK:Y!|`F  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 L<@*6QH  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 CO@G%1#  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 @ewaj!  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 NL$z4m0  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ;!S5P(  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 \^" Vqx  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 c.Sd~k:3  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 n]$rLm%^  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 s0;a j<J  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 !'^l}K>  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 g]: [^p  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 M9R'ONYAa  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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