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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 Q>Zc eJ;  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 oDz|%N2s|  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 C; N6",s!  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 [eDrjf3m  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 89g a+#7  
[attachment=120542] !S#3mT-  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 0lg$zi x(  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 j)?M  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 V0>X2&.A  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 gM\>{ihM'  
1. Essential Macleod软件介绍 Qs6Vu)U=  
1.1 介绍软件 ir_XU/ve  
1.2 创建一个简单的设计 bOFzq>k_  
1.3 绘图和制表来表示性能 yu6{6 [  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 alaL/p{O  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) =cS&>MT  
1.6 特定设计的公式技术 G`Nw]_ Z_  
1.7 交互式绘图 25$_tZP AI  
2. 光学薄膜理论基础 ,PTM'O@aU#  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 %o0b~R  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ew~Z/ A   
3. 材料管理 %8FfP5#  
3.1 材料模型 ` kT\V'  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 o utJ/~9;  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 j Q5F}  
3.4 基板光学常数的提取 7__[=)(b2X  
4. 光学薄膜设计优化方法 4,I,f>V  
4.1 参考波长与g hG?y)g\A  
4.2 四分之一规则 S4x9k{Xn  
4.3 导纳与导纳图 9\_AB.Z:  
4.4 斜入射光学导纳 4>*=q*<V5E  
4.5 光学薄膜设计的进展 $[>{s9E  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nK1eh@a9Qv  
4.6.1 优化目标设置 Wigt TAh4  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) _O`p(6  
4.6.3 膜层锁定和链接 !p&<.H_  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 J\L'HIs  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 i1vz{Tc  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 _QL|pLf-  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 .<%tu 0  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 r&]XNq'P9  
5.5 如何在Function中编写脚本 d`^3fr'.4A  
6. 光学薄膜系统案例 8G:/f3B=  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 jIubJQR~  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 n/_q  
6.3 Stack应用范例说明 g,Ob/g8uc  
7. 薄膜性能分析 *7xcwj eP  
7.1 电场分布 z9aR/:W}  
7.2 公差与灵敏度分析 r1L@p[>  
7.3 反演工程 U>2KjZB  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |[?Otv  
8. 真空技术 ;g0Q_F@;p  
8.1 常用真空泵介绍 t*IePz]/  
8.2 真空密封和检漏 ):$KM{X  
9. 薄膜制备技术 Ei!Z]jeK  
9.1 常见薄膜制备技术 DBAyc#&#  
10. 薄膜制备工艺 fsL9d}  
10.1 薄膜制备工艺因素 d%7?913  
10.2 薄膜均匀性修正技术 4/ _jrZO  
10.3 光学薄膜监控技术 *9\j1Nd  
11. 激光薄膜 hVz yvpw  
11.1 薄膜的损伤问题 4 Ej->T.  
11.2 激光薄膜的制备流程 6$urrSQ`N0  
11.3 激光薄膜的制备技术 //63|;EEkl  
12. 光学薄膜特性测量 cp`J ep<T  
12.1 薄膜光谱测量 Wk%|%/:  
12.2 薄膜光学常数测量 >(RkoExO/  
12.3 薄膜应力测量 Cbff:IP  
12.4 薄膜损伤测量 32ki ?\P  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
.LDZqWr-  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
iB)\* )  
内容简介 $JY \q2  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 6>]_H(z7  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 wH~A> 4*(  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Nc\DXc-N  
cY5&1Shb~  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
L`nW&; w'  
!n-Sh<8  
目录 |vs5N2_  
Preface 1  =yod  
内容简介 2 )L b` 4B  
目录 i r2RJb6  
1  引言 1 VIAq$iu7  
2  光学薄膜基础 2 kLgkUck8]  
2.1  一般规则 2 #*iUZo  
2.2  正交入射规则 3 #}^waYAk)  
2.3  斜入射规则 6 4/(#masIL  
2.4  精确计算 7 U"Gx Xrl  
2.5  相干性 8 u "0{) ,  
2.6 参考文献 10 "@G[:(BoB<  
3  Essential Macleod的快速预览 10 H:DR?'yW  
4  Essential Macleod的特点 32 ._rPM>B?  
4.1  容量和局限性 33 u9"kF  
4.2  程序在哪里? 33 ]+I9{%zB%8  
4.3  数据文件 35 PysDDU}v  
4.4  设计规则 35 9k6s  
4.5  材料数据库和资料库 37 PNm@mC_fh  
4.5.1材料损失 38 dj0%?g>  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 pT,8E(*l2  
4.5.2 材料库 41 QM(xMq  
4.5.3导出材料数据 43 AS;Sz/YP  
4.6  常用单位 43 D\Ez~.H  
4.7  插值和外推法 46 xa)p ,  
4.8  材料数据的平滑 50 _^_3>}y5op  
4.9 更多光学常数模型 54 /r7xA}se^  
4.10  文档的一般编辑规则 55 yY8zTWji_  
4.11 撤销和重做 56 89M'klZ   
4.12  设计文档 57 `CWhjL8^  
4.10.1  公式 58 z6`0Uv~  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Htgo=7!?\3  
4.10.3  沉积密度 59 fqI67E$59  
4.10.4 平行和楔形介质 60 f-M:ap(O  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 _$UJ'W})/  
4.10.4  性能 61 kZ5#a)U<  
4.10.5  保存设计和性能 64 $#rkvG_w  
4.10.6  默认设计 64 q(n"r0)=  
4.11  图表 64 KS*,'hvY  
4.11.1  合并曲线图 67 Z )c\B  
4.11.2  自适应绘制 68 uw3vYYFX  
4.11.3  动态绘图 68 1]/;qNEv  
4.11.4  3D绘图 69 d[6 'w ?  
4.12  导入和导出 73 6k hBT'n  
4.12.1  剪贴板 73 =q VT  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 y,:WLk~  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 LuySa2 ,  
4.13  背景 77 =d Q[I6  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $ W7}Igx#  
4.15  生成Rugate 84 6 /<Hx@r (  
4.16  参考文献 91 &5y  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 1J[$f>%n]  
5.1  Jobs 92 Cf(WO-F^  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 /phMrL=  
5.3  输入材料 94 J$6WUz:?  
5.4  设计数据文件夹 95 ,P9F*;Dj  
5.5  默认设计 95 -*7i:mg  
6  细化和合成 97 #ZJ 1\Ov  
6.1  优化介绍 97 ~u%$ 9IhM  
6.2  细化 (Refinement) 98 az ZtuDfv  
6.3  合成 (Synthesis) 100 /xUF@%rT  
6.4  目标和评价函数 101 [7}3k?42X  
6.4.1  目标输入 102 K/zb6=->  
6.4.2  目标 103 %?[gBf[y  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ,\i*vJ#f  
6.5  层锁定和连接 104 tU?BR<q  
6.6  细化技术 104 |tAkv  
6.6.1  单纯形 105 '9!_:3[d\]  
6.6.1.1 单纯形参数 106 =@d#@  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 yP7b))AW9  
6.6.2.1 Optimac参数 108 xT 06*wQ  
6.6.3  模拟退火算法 109 Z5xQ -T`  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 t]SB .ja  
6.6.4  共轭梯度 111 t{c:<nN  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 c>$d!IKCL  
6.6.5  拟牛顿法 112 B& @ pZYl  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 RNc:qV<H  
6.6.6  针合成 113 wn@~80)$  
6.6.6.1 针合成参数 114 (2eS:1+'8  
6.6.7 差分进化 114 ,marNG  
6.6.8非局部细化 115 s'yR 2JYv  
6.6.8.1非局部细化参数 115 [y8(v ~H  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 x1Gx9z9  
6.7.1  细化 116 -F?97&G$  
6.7.2  合成 117 Stw g[K0<  
6.8  参考文献 117 {> ,M  
7  导纳图及其他工具 118 * sldv  
7.1  简介 118 /wEl\Kx  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 >/74u/&  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ho$}#o  
7.2.2  导纳图 120 9 C)VW  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \i+AMduAo  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 c1E{J <pZ  
7.5  斜入射导纳图 141 Q~(Qh_Ff  
7.6  对称周期 141 S"*k#ao  
7.7  参考文献 142 B>1,I'/$.  
8  典型的镀膜实例 143 ?;o0~][!  
8.1  单层抗反射薄膜 145 G2N0'R "  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 w)|9iL8  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 R]yce2w"z  
8.4  W-膜层 148 |= cc>]  
8.5  V-膜层 149 &Y^4>y%  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ^1~lnD~0  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 2pmj*Y3"8  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 x%s1)\^A  
8.9  四层抗反射薄膜 153 9ye!kYF,  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 j5DCc,s  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qeFaY74S  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 :rM2G@{  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 `^#4okg]  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 <lR:^M[v5<  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 6am6'_{  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 YCE *Dm  
8.17  1/4波长堆栈 162 x"sbm  
8.18  陷波滤波器 163 C[.Xi  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^~N:lW#=  
8.20  褶皱 165 H ~3.F  
8.21  消偏振分光器1 169 cWo>DuW&  
8.22  消偏振分光器2 171 qqo#H O  
8.23  消偏振立体分光器 172 $gnrd~v4e  
8.24  消偏振截止滤光片 173 4 .c1  
8.25  立体偏振分束器1 174 Pk;/4jt4  
8.26  立方偏振分束器2 177 k={1zl ;  
8.27  相位延迟器 178 %0 {_b68x  
8.28  红外截止器 179 Z$INmo6  
8.29  21层长波带通滤波器 180 #w%-IhP  
8.30  49层长波带通滤波器 181 U"/T`f'H z  
8.31  55层短波带通滤波器 182 g%Tokl  
8.32  47 红外截止器 183 Mi#i 3y(  
8.33  宽带通滤波器 184 . q -: 3b  
8.34  诱导透射滤波器 186 `Y.~eE  
8.35  诱导透射滤波器2 188 |pS]zD  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 C) R hld  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 h STcL:b   
8.35  增益平坦滤波器 193 OqS!y( (  
8.38  啁啾反射镜 1 196 u=Ik&^v Wq  
8.39  啁啾反射镜2 198 QY4;qA  
8.40  啁啾反射镜3 199 d:|x e:  
8.41  带保护层的铝膜层 200 . s>@@m-  
8.42  增加铝反射率膜 201 { i6L/U.  
8.43  参考文献 202 g_{N^wS  
9  多层膜 204 ~tWh6-:|{J  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Z[w}PN,xV  
9.2  内部透过率 204 Q*I8RAfd  
9.3 内部透射率数据 205 9#7W+9  
9.4  实例 206 @Ol(:{<  
9.5  实例2 210 G=[<KtWa  
9.6  圆锥和带宽计算 212 ,x1OQ jtY  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 UFT JobU  
10  光学薄膜的颜色 216 FS=yc.Q_  
10.1  导言 216 T5|kO:CbHq  
10.2  色彩 216 /d}"s.3p  
10.3  主波长和纯度 220 , d $"`W2  
10.4  色相和纯度 221 $365VTh"  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 q=->) &D%  
10.6 色差 226 w!H(zjv&(  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ?e6>dNw  
10.8  颜色渲染指数 234 2? yo  
10.9  色差计算 235 e(/F:ZEh  
10.10  参考文献 236 hsrf2Xw[  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 "P#1=  
11.1  短脉冲 238 8Yk*$RR9  
11.2  群速度 239 .B<Bqr@?8  
11.3  群速度色散 241 Dq~;h \='  
11.4  啁啾(chirped) 245 )aGSZ1`/  
11.5  光学薄膜—相变 245 _b%)  
11.6  群延迟和延迟色散 246 Jn=;gtD- *  
11.7  色度色散 246 Le?g ,c  
11.8  色散补偿 249 #0T/^ #  
11.9  空间光线偏移 256 @I-gs(  
11.10  参考文献 258 9h6Oq(0b8  
12  公差与误差 260 ,k~' S~w.  
12.1  蒙特卡罗模型 260 u#EcR}=]  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 -GFZFi  
12.2.1  误差工具 267 siI%6Gn;  
12.2.2  灵敏度工具 271 -O\i^?lD;  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 HdxP:s.T  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 F<b'{qf"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 z mip  
12.3  参考文献 276 v =y 2  
13  Runsheet 与Simulator 277 M\4` S&  
13.1  原理介绍 277 3E*m.jX  
13.2  截止滤光片设计 277 :Q"|%#P  
14  光学常数提取 289 }ww/e\|Nt=  
14.1  介绍 289 (&eF E;c  
14.2  电介质薄膜 289 S j~SG  
14.3  n 和k 的提取工具 295 V>T?'GbS  
14.4  基底的参数提取 302 MBg[hu%  
14.5  金属的参数提取 306 :1UMA@HP  
14.6  不正确的模型 306 ~>(~2083*;  
14.7  参考文献 311 ISNL='%  
15  反演工程 313 T#-;>@a}  
15.1  随机性和系统性 313 u|t l@_  
15.2  常见的系统性问题 314 KL=<s#  
15.3  单层膜 314 ]7Vg9&1`  
15.4  多层膜 314 m4@NW*G{  
15.5  含义 319 4{kH;~ z$  
15.6  反演工程实例 319 ]S&ki}i&  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 |~BnE  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 J;obh.}u"{  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Z,#H\1v3lB  
16.1  光学性质的热致偏移 329 RX>P-vp  
16.2  应力工具 335 }?9&xVh?\  
16.3  均匀性误差 339 *z VN6wG{  
16.3.1  圆锥工具 339 zw+aZDcV(  
16.3.2  波前问题 341 l{Df{1b.  
16.4  参考文献 343 RN(I}]]a  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 aq$ hE-{28  
17.1  引言 345 _F%`7j  
17.2  操作数 345 uTR^K=Ve  
18  如何在Function中编写脚本 351 bOj)Wu  
18.1  简介 351 z;S-Q,  
18.2  什么是脚本? 351 ) 6)bI.BY  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 D8Fi{?A#FV  
18.4  基础 352 |2q3spd  
18.4.1  Classes(类别) 352 'vBZh1`p  
18.4.2  对象 352 Vbl-Ff  
18.4.3  信息(Messages) 352 12n:)yQy  
18.4.4  属性 352 u)0I$Tc"  
18.4.5  方法 353 /J#(8p  
18.4.6  变量声明 353 *z0d~j*W;  
18.5  创建对象 354 B}d&tH2^s  
18.5.1  创建对象函数 355 |[>@Kk4  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 k|)fl l  
18.5.3 丢弃对象 356 ]X>yZec  
18.5.4  总结 356 G7CeWfS  
18.6  脚本中的表格 357 )SmnLvL  
18.6.1  方法1 357 <:&vAX L  
18.6.2  方法2 357 O{X~,Em=q  
18.7 2D Plots in Scripts 358 1/Ts .\K3  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ZUQ _u  
18.9  注释 360 Q6Gw!!Z5EA  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 )Zr9 `3[  
18.11  一个更高级的脚本 362 HK!ecQ^+  
18.12  <esc>键 364 nQc#AFg  
18.13 包含文件 365 EraGG"+  
18.14  脚本被优化调用 366 dDPQDIx  
18.15  脚本中的对话框 368 O_:l;D#i  
18.15.1  介绍 368 9wWBE<}>u  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 C{}_Rb'x  
18.15.3  输入框函数 370 3%Y:+%VE  
18.15.4  自定义对话框 371 lxL5Rit@Px  
18.15.5  对话框编辑器 371 'Z`7/I4&  
18.15.6  控制对话框 377 GDxv2^4  
18.15.7  更高级的对话框 380 W" 5nS =d%  
18.16 Types语句 384 [r/zBF-.  
18.17 打开文件 385 T`EV uRJ  
18.18 Bags 387 `$T$483/  
18.13  进一步研究 388 vQEV,d1  
19  vStack 389 /}?7Eni  
19.1  vStack基本原理 389 !a@)6or  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 $`F9e5}G  
19.3  五棱镜 393 %T/@/,7h  
19.4 光束距离 396 79h~w{IT@  
19.5 误差 399 L!fTYX#K]  
19.6  二向分色棱镜 399 s\ -,RQ1  
19.7  偏振泄漏 404 bHwEd%f  
19.8  波前误差—相位 405 i5 rkP`)j  
19.9  其它计算参数 405 0* $w(*  
20  报表生成器 406 ":Dm/g  
20.1  入门 406 ,>  zEG  
20.2  指令(Instructions) 406 |9I)YD  
20.3  页面布局指令 406 >d/H4;8  
20.4  常见的参数图和三维图 407 =hPXLCeC  
20.5  表格中的常见参数 408 "%-Vrb=:Y  
20.6  迭代指令 408 o<`hj&s  
20.7  报表模版 408 "D(Lp*3hj&  
20.8  开始设计一个报表模版 409 g$nS6w|5H  
21  一个新的project 413 rJ!cma  
21.1  创建一个新Job 414 8%[pno |0I  
21.2  默认设计 415 @]@|H?  
21.3  薄膜设计 416 GShxPH{_j  
21.4  误差的灵敏度计算 420 -#|D>  
21.5  显色指数计算 422 :?t~|7O:  
21.6  电场分布 424 qlO}=b/  
后记 426 *G19fJ[5  
^Bx[%  
$T'!??|IF  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 f O*jCl  
S#/%#k103  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
EApKN@<"  
ZaFt4#  
目  录 g52a vG  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 {K,In)4  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 VeoG[Jl  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 JB_fS/I  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 5~*)3z^V  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 $]v}X},,  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 'YL[s  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 1vj/6L  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 9j,g&G.K  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ]?Ef0?44  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 oo5=5s6 3}  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 22\!Z2@T/  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 OZ[YB  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 zKJ2 ~=  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ;a:H-iC  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 +&EXTZ@o  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 y>^a~}Zq  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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