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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 r4X\/  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 =WZ9|e  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 \UM&|yk:  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 L\bc R  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Rg46V-"d,@  
[attachment=120542] XN?my@_HpM  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 :9x]5;ma  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 rFm?Bu  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ]c|JxgU  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 -ULgVGYKK  
1. Essential Macleod软件介绍 q|s:&&Wf  
1.1 介绍软件 X_bB6A6  
1.2 创建一个简单的设计 }vgM$o  
1.3 绘图和制表来表示性能 +7 j/.R  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 E[zq<&P@  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) %gSmOW2.c^  
1.6 特定设计的公式技术 aCIz(3^  
1.7 交互式绘图 v^p* l0r6:  
2. 光学薄膜理论基础 <pKOFN%m  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ]-a/)8  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 e.XD5~Ax  
3. 材料管理 Qz2jV  
3.1 材料模型 `fJ;4$4  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 0Ny +NE:6M  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 $3ZQ|X[|+  
3.4 基板光学常数的提取 t.O~RE  
4. 光学薄膜设计优化方法 P%vouC0W  
4.1 参考波长与g X>o*eN  
4.2 四分之一规则 `qCL&(`%  
4.3 导纳与导纳图 4@mJEi{  
4.4 斜入射光学导纳 ^u0y<kItX  
4.5 光学薄膜设计的进展 6L Fhhl^  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;<+Z}d/g9  
4.6.1 优化目标设置 #hu`X6s"  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) *r9D+}Y(4  
4.6.3 膜层锁定和链接 4&e<Sc64  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 "qZTgCOY2  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 n<b}6L}  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 !mwMSkkq  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 j!;E>`g  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Kg /,  
5.5 如何在Function中编写脚本 BV/ ^S.~  
6. 光学薄膜系统案例 MAX?,- x  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 meThjCC  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 <1x u&Z7  
6.3 Stack应用范例说明 w6lx&K-  
7. 薄膜性能分析 >>y\idg&:  
7.1 电场分布 #\_FSr fX  
7.2 公差与灵敏度分析 W4(  
7.3 反演工程 JLu$UR4  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 dPV<:uO  
8. 真空技术 XI`s M~'  
8.1 常用真空泵介绍  zNn  
8.2 真空密封和检漏 +~ Y.m8  
9. 薄膜制备技术 Klu0m~X@  
9.1 常见薄膜制备技术 30sA\TZ  
10. 薄膜制备工艺 WigTNg4  
10.1 薄膜制备工艺因素 h+YPyeAs  
10.2 薄膜均匀性修正技术 \]S)PDqR  
10.3 光学薄膜监控技术 }~0}B[Rf  
11. 激光薄膜 o{hZjn-  
11.1 薄膜的损伤问题 >*+n`"6  
11.2 激光薄膜的制备流程 c0X1})q$  
11.3 激光薄膜的制备技术 Zba<|C  
12. 光学薄膜特性测量 W+s3rS2  
12.1 薄膜光谱测量 L$,Kdpj  
12.2 薄膜光学常数测量 889^P`Q5  
12.3 薄膜应力测量 <5h}\5#<j  
12.4 薄膜损伤测量 N?A}WW#  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
oJE<}~_k  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
;{e'q?Y  
内容简介 rV-Xsf7Z  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Aaz:C5dtU  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 {8%KO1xB  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `Uvc^  
U` )d `4"  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
DD>n-8M@>  
4JH^R^O<n  
目录 u:wf :^  
Preface 1 )hVn/*mH  
内容简介 2 onv0gb/J  
目录 i 9%MgAik(  
1  引言 1 Q } 0_}W  
2  光学薄膜基础 2 i"4;{C{s  
2.1  一般规则 2 R"z}q (O:  
2.2  正交入射规则 3 ,WoV)L'?  
2.3  斜入射规则 6 H>-{.E1bG  
2.4  精确计算 7 E429<LQI/  
2.5  相干性 8 #B_H/9f(  
2.6 参考文献 10 7Fzr\&  
3  Essential Macleod的快速预览 10 mMCd   
4  Essential Macleod的特点 32 x69RQ+Vw  
4.1  容量和局限性 33 >Wd_?NaI  
4.2  程序在哪里? 33 5+(Cp3  
4.3  数据文件 35 {aU|BdATI  
4.4  设计规则 35 /(%!txSNEt  
4.5  材料数据库和资料库 37 UdpuQzV<4`  
4.5.1材料损失 38 'Awd:Aed5  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 \r3SvBwhFv  
4.5.2 材料库 41 JM*!(\Y  
4.5.3导出材料数据 43 n6 c+Okj  
4.6  常用单位 43 wkJ@#jD*[  
4.7  插值和外推法 46 .[?2_e#9%  
4.8  材料数据的平滑 50 |`AJP  
4.9 更多光学常数模型 54 %9L+ Q1o  
4.10  文档的一般编辑规则 55 6r h#ATep  
4.11 撤销和重做 56 :{KpnJvd  
4.12  设计文档 57 :"K9(XKKU  
4.10.1  公式 58 pqohLA  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 O6\c1ha  
4.10.3  沉积密度 59 ' Yy+^iCus  
4.10.4 平行和楔形介质 60 9!dG Xq  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 bq}`jP~#  
4.10.4  性能 61 *c(YlfeZ#  
4.10.5  保存设计和性能 64 $?;)uoAg  
4.10.6  默认设计 64 \23m*3"W  
4.11  图表 64 pMf ?'l  
4.11.1  合并曲线图 67 5'|W(yR}  
4.11.2  自适应绘制 68 Y7')~C`up^  
4.11.3  动态绘图 68 4S* X=1  
4.11.4  3D绘图 69 B~YOU 3  
4.12  导入和导出 73 ~bw=;xF{3  
4.12.1  剪贴板 73 /.t1Ow  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Y/L*0 M.<  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 v&sl_w/tn  
4.13  背景 77 fBBtS S  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Q-yNw0V}F  
4.15  生成Rugate 84 xi)$t#K"  
4.16  参考文献 91 zS`KJVm  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?*~sx=mC  
5.1  Jobs 92 ]L k- -\  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 E!=Iz5  
5.3  输入材料 94 R I:kp.V  
5.4  设计数据文件夹 95 Q$Sp'  
5.5  默认设计 95 G4\|bwh  
6  细化和合成 97 5>VX]nE3!  
6.1  优化介绍 97 {r#uD5NJ/  
6.2  细化 (Refinement) 98 Q5Epq sKyC  
6.3  合成 (Synthesis) 100 BxaGBK<k  
6.4  目标和评价函数 101 /^WOrMR  
6.4.1  目标输入 102 oE,TA2  
6.4.2  目标 103 tF.N  
6.4.3  特殊的评价函数 104 _Ec"[xW  
6.5  层锁定和连接 104 RW<4",  
6.6  细化技术 104 j-| !QlB  
6.6.1  单纯形 105 DbYnd%k*4  
6.6.1.1 单纯形参数 106 bicbCC6kC  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ffsF], _J  
6.6.2.1 Optimac参数 108  I*n]8c  
6.6.3  模拟退火算法 109 f @Vd'k<  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 ~ ^fb`f+%  
6.6.4  共轭梯度 111 I]WvcDJ}C  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 UQbk%K2  
6.6.5  拟牛顿法 112 G\~?.s|^  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 6lUC$B Y  
6.6.6  针合成 113 ~m[Gp;pL  
6.6.6.1 针合成参数 114 .Y^pDR12  
6.6.7 差分进化 114  %Nx,ZD@  
6.6.8非局部细化 115 lWBewnLKE  
6.6.8.1非局部细化参数 115 h+j*vX/!  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 `$vf9'\+  
6.7.1  细化 116 }%D${.R]  
6.7.2  合成 117 Uz%ynH  
6.8  参考文献 117 A.~wgJDO  
7  导纳图及其他工具 118 !=u=P9I  
7.1  简介 118 zT93Sb  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 pdjRakN  
7.2.1  四分之一波长规则 119 wn\ R|'Rdz  
7.2.2  导纳图 120 2#s8Dxt  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 0-/@-qV\  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 n3$u9!|P  
7.5  斜入射导纳图 141 ;s8\F]K  
7.6  对称周期 141 ?A-f_0<0  
7.7  参考文献 142 imB/P M  
8  典型的镀膜实例 143 D Q c pIV  
8.1  单层抗反射薄膜 145 :NB.ib@*  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 5f2=`C0_  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "Jdi>{o8  
8.4  W-膜层 148 p$` ^A  
8.5  V-膜层 149 =)a %,H  
8.6  V-膜层高折射基底 150 $ 'yWg_(  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 t3=K>Y@w  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 3_]QtP3  
8.9  四层抗反射薄膜 153 '}-QZ$|*  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 QP>F *A  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4M+f#b1  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 <;cch6Z  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 fUZCP*7>  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 p&D7&Sb[  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 +fq\K]  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ;vn0b"Fi3  
8.17  1/4波长堆栈 162 12: Q`   
8.18  陷波滤波器 163 :z6?  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p\Iy)Y2Lf!  
8.20  褶皱 165 O3pd5&^g  
8.21  消偏振分光器1 169 ] v:"    
8.22  消偏振分光器2 171 GB,ub*|  
8.23  消偏振立体分光器 172 fB'Jo<C  
8.24  消偏振截止滤光片 173 fuWAw^&  
8.25  立体偏振分束器1 174 uA cvUN-@  
8.26  立方偏振分束器2 177 S"`{ JCW$  
8.27  相位延迟器 178 ~RZN+N  
8.28  红外截止器 179 bL{D*\HF  
8.29  21层长波带通滤波器 180 %ofq  
8.30  49层长波带通滤波器 181 rd"!&i  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ++ObsWZ  
8.32  47 红外截止器 183 w{]B)>! 1W  
8.33  宽带通滤波器 184 l_,6<wWp  
8.34  诱导透射滤波器 186 CZ%KC$l.5  
8.35  诱导透射滤波器2 188 6="o&!  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 %=V" }P[  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ad=7FhnIa3  
8.35  增益平坦滤波器 193 "Nz"|-3Irv  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ZVit] 3hd  
8.39  啁啾反射镜2 198 /nEK|.j  
8.40  啁啾反射镜3 199 uzLm TmM+  
8.41  带保护层的铝膜层 200 JV+Uy$P!  
8.42  增加铝反射率膜 201 iTF%}(  
8.43  参考文献 202 <TS ps!(#  
9  多层膜 204 )QmmI[,tq  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 (&, E}{p9  
9.2  内部透过率 204 g;:3I\ L  
9.3 内部透射率数据 205 TGjxy1A  
9.4  实例 206 #G\-ftA&  
9.5  实例2 210 ?zVcP=p@  
9.6  圆锥和带宽计算 212 !#E-p?O.  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 @Y+kg  
10  光学薄膜的颜色 216 ]{I>HA5[  
10.1  导言 216 ^}:0\;|N  
10.2  色彩 216 %{me<\(  
10.3  主波长和纯度 220 8 -w|~y';  
10.4  色相和纯度 221 jP<6Q|5F  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;2^zkmDM  
10.6 色差 226 u!fZ>kS  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 dN){w _  
10.8  颜色渲染指数 234 E^~ {thf  
10.9  色差计算 235 x_l8&RIB*  
10.10  参考文献 236 h645;sb0  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ?wjk=hM2  
11.1  短脉冲 238 .I>CL4_  
11.2  群速度 239 `[ZA#8Ma  
11.3  群速度色散 241 #}8VUbJ  
11.4  啁啾(chirped) 245 7JY9#+?p>  
11.5  光学薄膜—相变 245 |@?='E?h  
11.6  群延迟和延迟色散 246 "'>fTk_  
11.7  色度色散 246 :73T9/  
11.8  色散补偿 249 ]]5(:>l  
11.9  空间光线偏移 256 e0#{'_C  
11.10  参考文献 258 B E#pHg  
12  公差与误差 260 v v   
12.1  蒙特卡罗模型 260 x26 sH5  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 64:p 4N  
12.2.1  误差工具 267 MJK PpQ(,  
12.2.2  灵敏度工具 271 XD[9wd5w8  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 DG3Mcf@5  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ! e?=g%(  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 'n?"f|G  
12.3  参考文献 276 F-$NoEL  
13  Runsheet 与Simulator 277 p%OVl[^jp  
13.1  原理介绍 277 E>"SC\#7  
13.2  截止滤光片设计 277 `"$9L[>  
14  光学常数提取 289 l8lJ &  
14.1  介绍 289 u4[JDB7tH  
14.2  电介质薄膜 289 V7+/|P_  
14.3  n 和k 的提取工具 295 I."s&]FZ  
14.4  基底的参数提取 302 \;"S>dg  
14.5  金属的参数提取 306 T$V8 n_;  
14.6  不正确的模型 306 C{6m?6  
14.7  参考文献 311 t V7{j'If  
15  反演工程 313 Pfm B{  
15.1  随机性和系统性 313 V{rQ@7SE  
15.2  常见的系统性问题 314 5)w;0{X!P  
15.3  单层膜 314 ?X7nM)  
15.4  多层膜 314  ~"h V-3U  
15.5  含义 319 m# ^).+  
15.6  反演工程实例 319  7re4mrC  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 o K&G  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 zXd#kw;  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 /EvT%h?p  
16.1  光学性质的热致偏移 329 8JO(P0aT  
16.2  应力工具 335 d-]!aFj|U  
16.3  均匀性误差 339 4 @9cO)m  
16.3.1  圆锥工具 339 li~=85 J  
16.3.2  波前问题 341 `oE.$~'  
16.4  参考文献 343 < -Ax)zE  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 #Vm)wH3  
17.1  引言 345 ]oC7{OoX  
17.2  操作数 345 w/7vXz<  
18  如何在Function中编写脚本 351 W#9LK Jj  
18.1  简介 351 y<y9'tx  
18.2  什么是脚本? 351 B{1yMJA  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 QW%xwV?8  
18.4  基础 352 ay28%[Q b4  
18.4.1  Classes(类别) 352 2{L[D9c/6  
18.4.2  对象 352 -}Rh+n`  
18.4.3  信息(Messages) 352 qPCI@5n3T?  
18.4.4  属性 352 ITjg]taD  
18.4.5  方法 353 ,9 .NMFn  
18.4.6  变量声明 353 <|:$_&(  
18.5  创建对象 354 1qwJPM  
18.5.1  创建对象函数 355 mpl^LF[  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ` h1>rP  
18.5.3 丢弃对象 356 Ude)$PAe%  
18.5.4  总结 356 '_xa>T}  
18.6  脚本中的表格 357 #YLI"/Kn  
18.6.1  方法1 357 ;{g>Z|  
18.6.2  方法2 357 l{_1`rC'  
18.7 2D Plots in Scripts 358 OEHw%  
18.8 3D Plots in Scripts 359 $tebNi P  
18.9  注释 360 (DTkK5/%  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 6Kd,(DI  
18.11  一个更高级的脚本 362 46c0;E\9  
18.12  <esc>键 364 0O?!fd n  
18.13 包含文件 365 e\]CZ5hs3  
18.14  脚本被优化调用 366 E~,Wpl}  
18.15  脚本中的对话框 368 jt&rOPL7  
18.15.1  介绍 368 o31pF  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 4[K6ZDBU  
18.15.3  输入框函数 370 ?w@KF%D  
18.15.4  自定义对话框 371 L$f:D2Ei  
18.15.5  对话框编辑器 371 TK%MVLTK  
18.15.6  控制对话框 377 A#w*r-P  
18.15.7  更高级的对话框 380 ,j\UZ  
18.16 Types语句 384 =]sM,E,n  
18.17 打开文件 385 /I q6'oo  
18.18 Bags 387 X(K5>L>  
18.13  进一步研究 388 0 oHnam  
19  vStack 389 rcjj( C  
19.1  vStack基本原理 389 z)p p{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 P.]O8r  
19.3  五棱镜 393 `"j_]  
19.4 光束距离 396 1;[ZkRbzL  
19.5 误差 399 p87VJ}  
19.6  二向分色棱镜 399 n )>nfnh  
19.7  偏振泄漏 404  /w(t=Y  
19.8  波前误差—相位 405 |'12Kv]#Xa  
19.9  其它计算参数 405 @jH8x!5u:  
20  报表生成器 406 d##'0yg   
20.1  入门 406 K#'{Ko  
20.2  指令(Instructions) 406 /%h<^YDBf  
20.3  页面布局指令 406 J(x42Q}*S  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Pb@9<NXm'  
20.5  表格中的常见参数 408 7_AcvsdW  
20.6  迭代指令 408 %%k`+nK~  
20.7  报表模版 408 ~,P."  
20.8  开始设计一个报表模版 409 4 O~zkg  
21  一个新的project 413 '~kAsn*/  
21.1  创建一个新Job 414 =Ev* Q[  
21.2  默认设计 415 ADN  
21.3  薄膜设计 416 pL)o@-k#%  
21.4  误差的灵敏度计算 420 a`uHkRX )U  
21.5  显色指数计算 422 AP_2.V=Sn  
21.6  电场分布 424 }\)O1  
后记 426 +;wu_CQu  
-OV!56&  
GOhGSV#  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 bcZ s+FOPd  
BF>3CW7  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
` SO"F,  
xk8P4`;d$  
目  录 tV,Y38e  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 H0\5a|X-  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 a).bk!G  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ~T<o?98  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )mMHwLDwH  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ,V2,FoJ 9  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 rZv5>aEI  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 :3Hr: ~  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 X"qC&oZmf  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 %rZJ#p[e)=  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 6?v)Hb}J%d  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 _e3kO6X  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ' |>  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 i0-zGEMB.  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 @ \(*pa  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ~&Gw[Nd1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 7+vyN^XJ"5  
+TnRuehtk  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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