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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 zrL$]Oy}x  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 .4M.y:F  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Agg<tM{yB  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 aS{n8P6vW  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 st3l2Q  
[attachment=120542] )=Z>#iH1  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 !&ayYu##{  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ]&xk30  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ?{|q5n  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 RO VW s/  
1. Essential Macleod软件介绍 z Rl3KjET  
1.1 介绍软件 RLynE V;]  
1.2 创建一个简单的设计 %C'?@,7C  
1.3 绘图和制表来表示性能 }Jve cRtg1  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 V2?=4mb  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) YEs&  
1.6 特定设计的公式技术 fc%xS7&  
1.7 交互式绘图 4(~L#}:r!  
2. 光学薄膜理论基础 C'+YQ]u  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 gsv uE  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 z(exA  
3. 材料管理 /-ch`u md  
3.1 材料模型 iNz=e=+Si  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 }~j lj  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 YTX,cj#D^&  
3.4 基板光学常数的提取 1k5Who@  
4. 光学薄膜设计优化方法 .hP D$o  
4.1 参考波长与g ,j}6? Q  
4.2 四分之一规则 *_{j=sd  
4.3 导纳与导纳图 z^q0/'  
4.4 斜入射光学导纳 P[#e/qnXu|  
4.5 光学薄膜设计的进展 o\<ULW*  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;| 5F[  
4.6.1 优化目标设置 e *(!^Q1  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) M~#gRAUJ  
4.6.3 膜层锁定和链接 # E^1|:  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 y$F'(b| )  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 _476pZ_  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 E7 Ul;d  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 gQelD6c  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 d>&,9c%  
5.5 如何在Function中编写脚本 A*R^n}sh  
6. 光学薄膜系统案例 e&F8m%t  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 He/8=$c%  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 o&zJ=k[4  
6.3 Stack应用范例说明 N1S{suic  
7. 薄膜性能分析 %2/EaaR  
7.1 电场分布 qIE9$7*X  
7.2 公差与灵敏度分析 +z\^t_"f  
7.3 反演工程 Nk 8B_{  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 )?n aN  
8. 真空技术 /cdC'g  
8.1 常用真空泵介绍 k&q;JyUi  
8.2 真空密封和检漏 K5VWt)Z#  
9. 薄膜制备技术 7P5)Z-K[  
9.1 常见薄膜制备技术 L>&t|T2  
10. 薄膜制备工艺 K.nHii   
10.1 薄膜制备工艺因素 f:,DWw`B  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [{,T.;'<j  
10.3 光学薄膜监控技术 4Zddw0|2  
11. 激光薄膜 GL0L!="!  
11.1 薄膜的损伤问题 "]x'PI 4J  
11.2 激光薄膜的制备流程 d-ZJL6-  
11.3 激光薄膜的制备技术 SC!RbW@3  
12. 光学薄膜特性测量  c(E{6g?  
12.1 薄膜光谱测量 $q{!5-e  
12.2 薄膜光学常数测量 J T7nG.9  
12.3 薄膜应力测量 &|ex`nwc0  
12.4 薄膜损伤测量 Al^d$FaF  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
t?&|8SId  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
1..+F0U  
内容简介 9Cp-qA%t  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [z\$?VJspQ  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 q=m'^ ,gPS  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 TR`U-= jH,  
1~`fVg  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
@6sqMw}  
P[ck84F/  
目录 f:w?pE  
Preface 1 9(7-{,c  
内容简介 2 Tc:)- z[o  
目录 i qLG&WB  
1  引言 1 A#<?4&  
2  光学薄膜基础 2 [;yOBF  
2.1  一般规则 2 ) 7@ `ut  
2.2  正交入射规则 3 *W1dG#Np}  
2.3  斜入射规则 6 q5+4S5R*^  
2.4  精确计算 7 D|p9qe5%  
2.5  相干性 8 I)[DTCJ~  
2.6 参考文献 10 1{. |+S Z!  
3  Essential Macleod的快速预览 10 L,`LN>  
4  Essential Macleod的特点 32 k FD; i  
4.1  容量和局限性 33 IdYt\^@>  
4.2  程序在哪里? 33 1#2 I  
4.3  数据文件 35 =zPCrEk0  
4.4  设计规则 35 vWv"  
4.5  材料数据库和资料库 37 a0E)2vt4  
4.5.1材料损失 38 pRpBhm;iJ  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 XFpjYwn  
4.5.2 材料库 41 h"Q8b}$^)  
4.5.3导出材料数据 43 #L;dI@7C  
4.6  常用单位 43 N!=v4f  
4.7  插值和外推法 46 ]|a g  
4.8  材料数据的平滑 50 4f@rv^f(X  
4.9 更多光学常数模型 54 uyWunpT  
4.10  文档的一般编辑规则 55 mdDOvm:&  
4.11 撤销和重做 56 _8J.fT$${  
4.12  设计文档 57 ((;!<5-`s  
4.10.1  公式 58 -f^tE,-  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 q~o<*W   
4.10.3  沉积密度 59 $( kF#  
4.10.4 平行和楔形介质 60 q3N jky1w  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 P|E| $)m  
4.10.4  性能 61 "Gzz4D  
4.10.5  保存设计和性能 64 +GN(Ug'R  
4.10.6  默认设计 64 _< V)-Y  
4.11  图表 64 exUFS5d  
4.11.1  合并曲线图 67 [ l??A3G  
4.11.2  自适应绘制 68 ,/2Vt/lt  
4.11.3  动态绘图 68 s 5Qcl;}  
4.11.4  3D绘图 69 ltSU fI  
4.12  导入和导出 73 4k1xy##  
4.12.1  剪贴板 73 pYEMmZ?L  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 /Cr%{'Pzk  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 AV]2 euyn  
4.13  背景 77 2@],ZLa  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ec;o\erPG  
4.15  生成Rugate 84 WE#^a6  
4.16  参考文献 91 pah'>dAL  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 {}n^cq  
5.1  Jobs 92 'JE`(xD  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 /36:ms A  
5.3  输入材料 94 EME|k{W  
5.4  设计数据文件夹 95 _N cR)2  
5.5  默认设计 95 RbnVL$c  
6  细化和合成 97 qInR1r<  
6.1  优化介绍 97 jB2[(  
6.2  细化 (Refinement) 98 #zs~," dRv  
6.3  合成 (Synthesis) 100 ;igIZ$&  
6.4  目标和评价函数 101 h(dvZ= %  
6.4.1  目标输入 102 F/{!tx  
6.4.2  目标 103 %[TR^Th6  
6.4.3  特殊的评价函数 104 5C ]x!>kX  
6.5  层锁定和连接 104 0#hlsfc]\  
6.6  细化技术 104 !f [_+CD  
6.6.1  单纯形 105 q?yVR3]M  
6.6.1.1 单纯形参数 106 /{_:{G!Q0  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 cV6D<,)  
6.6.2.1 Optimac参数 108 #trK^(  
6.6.3  模拟退火算法 109 !e<^? r4  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 0s[Hkhls  
6.6.4  共轭梯度 111 UI0VtR]   
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2%m BK  
6.6.5  拟牛顿法 112 LEdh!</'24  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 b8UO,fY q  
6.6.6  针合成 113 <%eG:n,#  
6.6.6.1 针合成参数 114 4+8@`f>s  
6.6.7 差分进化 114 @": ^)87  
6.6.8非局部细化 115 W ac&b  
6.6.8.1非局部细化参数 115 :5<UkN)R(  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 k y7Gwc  
6.7.1  细化 116 kTgEd]^&D  
6.7.2  合成 117 x 9fip-  
6.8  参考文献 117 1Pu~X \sO  
7  导纳图及其他工具 118 8nV+e~-w  
7.1  简介 118 24eLB? H  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 T8$y[W-c  
7.2.1  四分之一波长规则 119 73;GW4,  
7.2.2  导纳图 120 u*`GiZAO  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }Sv:`9=  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 $U~]=.n  
7.5  斜入射导纳图 141 TvbE2Q;/UL  
7.6  对称周期 141 aW7^d'ZZ\  
7.7  参考文献 142 gM:".Ee  
8  典型的镀膜实例 143 ON(kt3.h  
8.1  单层抗反射薄膜 145 wmLs/:~  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 %h!B^{0  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 (!WD1w   
8.4  W-膜层 148 Q;rX;p^W  
8.5  V-膜层 149 8d'0N  
8.6  V-膜层高折射基底 150 5rik7a)Z]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 )SGq[B6@I  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |CyE5i0  
8.9  四层抗反射薄膜 153 [4f{w%~^  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154  b>ySv  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Avb\{)s+  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 tWc Hb #  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 Dlvz )  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 #ABZ&Z  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ww1[rCh\+  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 K$=zi}J W  
8.17  1/4波长堆栈 162 wibNQ`4k  
8.18  陷波滤波器 163 D&y7-/  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 0g8NHkM:2a  
8.20  褶皱 165 cr;da)  
8.21  消偏振分光器1 169 es7=%!0  
8.22  消偏振分光器2 171 V'gh 6`v  
8.23  消偏振立体分光器 172 ?:0Jav  
8.24  消偏振截止滤光片 173 f!X[c?Xy"  
8.25  立体偏振分束器1 174 Z% UP6%  
8.26  立方偏振分束器2 177 >A"(KSNL  
8.27  相位延迟器 178 G3T]`Atf  
8.28  红外截止器 179 5b7RY V  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Ny/MJ#Lq  
8.30  49层长波带通滤波器 181 p]c%f 2E>d  
8.31  55层短波带通滤波器 182 5z)~\;[ -  
8.32  47 红外截止器 183 J{G?-+`  
8.33  宽带通滤波器 184 K|=A:  
8.34  诱导透射滤波器 186 @=u3ZVD  
8.35  诱导透射滤波器2 188 \  Cj7k^  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Ow,b^|  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 FS1z`wYP  
8.35  增益平坦滤波器 193 )4;`^]F  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Fsg*FH7J  
8.39  啁啾反射镜2 198 (QB2T2x  
8.40  啁啾反射镜3 199 .=; ;  
8.41  带保护层的铝膜层 200 47/iF97  
8.42  增加铝反射率膜 201 \~wMfP8  
8.43  参考文献 202 <1!O1ab  
9  多层膜 204 klhtKp_p  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Y_P!B^z3  
9.2  内部透过率 204 ,/unhfs1q  
9.3 内部透射率数据 205 a8Wwq?@  
9.4  实例 206 f*8DCh!r"  
9.5  实例2 210 % & bY]w  
9.6  圆锥和带宽计算 212 3G4-^hY<  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 TD_Oo-+\  
10  光学薄膜的颜色 216 V(*(F7+  
10.1  导言 216 93hxSRw  
10.2  色彩 216 #`s"WnP9'!  
10.3  主波长和纯度 220 Z3!`J&  
10.4  色相和纯度 221 }(u ol  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 P!k{u^$L  
10.6 色差 226 ^<AwG=  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 }ad|g6i`  
10.8  颜色渲染指数 234 / XIhj  
10.9  色差计算 235 SgOheN-  
10.10  参考文献 236 <a+Z;>  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 %8x#rohP  
11.1  短脉冲 238 0m ? )ROaJ  
11.2  群速度 239 E_LN]v  
11.3  群速度色散 241 zx7{U8*`<  
11.4  啁啾(chirped) 245 u#SWj,X  
11.5  光学薄膜—相变 245 Ga'swP=hf  
11.6  群延迟和延迟色散 246 {l >hMxij  
11.7  色度色散 246 >o,TZc\  
11.8  色散补偿 249 A5w6]:f2  
11.9  空间光线偏移 256 0ZO2#>gh$  
11.10  参考文献 258 v.5+7,4  
12  公差与误差 260 u<&m]] *  
12.1  蒙特卡罗模型 260 DlNX 3  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ;bhT@aB1  
12.2.1  误差工具 267 W@!S%Y9  
12.2.2  灵敏度工具 271 ete.!*=  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 #3d(M  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 >&k-'`Nw  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 pD]OT-8  
12.3  参考文献 276 -Y;3I00(  
13  Runsheet 与Simulator 277 j <RrLn_  
13.1  原理介绍 277 gPc=2  
13.2  截止滤光片设计 277 7=, ;h  
14  光学常数提取 289 c[Zje7 @  
14.1  介绍 289 -|\ZrE_h  
14.2  电介质薄膜 289 2GStN74Xr  
14.3  n 和k 的提取工具 295 7"xd1l?zz  
14.4  基底的参数提取 302 WMP,\=6k0  
14.5  金属的参数提取 306 <rSF*  
14.6  不正确的模型 306 RCLeA=/N@0  
14.7  参考文献 311 Xb,3Dvf  
15  反演工程 313 pY$Q  
15.1  随机性和系统性 313 }4S6Xe  
15.2  常见的系统性问题 314 76` .Y  
15.3  单层膜 314 dAe')N:KPI  
15.4  多层膜 314 !5?<% *  
15.5  含义 319 ^/=KK:n~  
15.6  反演工程实例 319 6\S~P/PkE  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ua `RJ  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 /5AJ.r  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 .w ,q0<}  
16.1  光学性质的热致偏移 329 /|&*QLy  
16.2  应力工具 335 :p6M=  
16.3  均匀性误差 339 G9vpt M  
16.3.1  圆锥工具 339 IdxzE_@  
16.3.2  波前问题 341 pFz`}?c0  
16.4  参考文献 343 <_KIK  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 9 JK Ew  
17.1  引言 345 q6X1P" %.  
17.2  操作数 345 EDs\,f}  
18  如何在Function中编写脚本 351 B4 8={  
18.1  简介 351 ~.lPEA %%  
18.2  什么是脚本? 351 fLAw12;^  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 t<?,F  
18.4  基础 352 w"&n?L  
18.4.1  Classes(类别) 352 fa2kG&, _  
18.4.2  对象 352 9k[9P;"F:  
18.4.3  信息(Messages) 352 GNJj=1Lsd  
18.4.4  属性 352 ^L&iR0  
18.4.5  方法 353 `x%>8/  
18.4.6  变量声明 353 *s iFj CN<  
18.5  创建对象 354 5d!-G$ @  
18.5.1  创建对象函数 355 S?BG_J6A7  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Lbb0_-']  
18.5.3 丢弃对象 356 t.\dpBq  
18.5.4  总结 356 U\!X,a*ts{  
18.6  脚本中的表格 357 =zs`#-^8  
18.6.1  方法1 357 }f7j 8py  
18.6.2  方法2 357 6/dI6C!  
18.7 2D Plots in Scripts 358 DkAAV9*  
18.8 3D Plots in Scripts 359 0Pi:N{x8  
18.9  注释 360 .Rf_Cl  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 DrK{}uM  
18.11  一个更高级的脚本 362 liz~7RY4  
18.12  <esc>键 364 2Q:+_v  
18.13 包含文件 365 -!]ZMi9  
18.14  脚本被优化调用 366 l0i^uMS  
18.15  脚本中的对话框 368 pIKPXqA  
18.15.1  介绍 368 t}tEvh  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 xW Q`tWA:J  
18.15.3  输入框函数 370 ZO$%[ftb  
18.15.4  自定义对话框 371 h;NYdX5  
18.15.5  对话框编辑器 371 ,L'zRyP  
18.15.6  控制对话框 377 qK&d]6H R  
18.15.7  更高级的对话框 380 cq4I pe  
18.16 Types语句 384 g_COp "!~9  
18.17 打开文件 385 ~z;FP$U  
18.18 Bags 387 As<bL:>dE  
18.13  进一步研究 388 ZLAy- 9^Y  
19  vStack 389 gEE\y{y  
19.1  vStack基本原理 389 x{ WD;$J  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 i@M [>~  
19.3  五棱镜 393 UByv?KZi  
19.4 光束距离 396 K0Fh%Y4)QH  
19.5 误差 399 k7usMVAA  
19.6  二向分色棱镜 399 \d$!a5LF}  
19.7  偏振泄漏 404 _b;{_g  
19.8  波前误差—相位 405 / FEVmH?  
19.9  其它计算参数 405 aPbE;" f  
20  报表生成器 406 KRDmY+  
20.1  入门 406 G {%LB}2  
20.2  指令(Instructions) 406 0F><P?5  
20.3  页面布局指令 406 yd`mG{Z  
20.4  常见的参数图和三维图 407 WlBc.kFck  
20.5  表格中的常见参数 408 SQt 4v"  
20.6  迭代指令 408 =P #]  
20.7  报表模版 408 ;cN{a&  
20.8  开始设计一个报表模版 409  p|D/;Mk  
21  一个新的project 413 t" Z6[XG  
21.1  创建一个新Job 414 C/6V9;U  
21.2  默认设计 415 Pdt vU-(  
21.3  薄膜设计 416 `~CQU  
21.4  误差的灵敏度计算 420 r#] WI|  
21.5  显色指数计算 422 63,H{  
21.6  电场分布 424 !^Y(^RS@  
后记 426 P;]F(in=  
L AAHEv  
?zHPJLv|Y  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ~|xA4u5LG  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
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]G< Vg5  
目  录 7,9=uk>0\  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A`o8'+`C  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 FZE"7ec>m  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 mk+B9?;cF-  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Jidwt$1l(  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ` 3K)GA  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111  0$fpIz  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 uw +M  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 @xYlS5{  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 >y:,9;  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 KE3;V2Ym f  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 >{J(>B\  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 :I^;jdL  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ! lc[  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 j@uOOhy  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 74k dsgQf  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 G.dTvLv  
dNL(G%Qj+"  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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