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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 :O,,fJ<x.O  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 a]V#mF |{  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 KIuj;|!q  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 k<fR)o  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ^|U5@u_  
[attachment=120542] es69P)  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 !eb{#9S*  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ~tNk\Kkv  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 #EKnjh=Uq  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 p8s%bPjK  
1. Essential Macleod软件介绍 .d#Hh&jj  
1.1 介绍软件 A&KY7[<AC{  
1.2 创建一个简单的设计 $y<`Jy]+)~  
1.3 绘图和制表来表示性能 f e6Op  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 H`3w=T+I  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) iRW5*-66f  
1.6 特定设计的公式技术 %0815 5M  
1.7 交互式绘图 \Ym$to  
2. 光学薄膜理论基础 `"~X1;  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 - 3<&sTR  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 z __#P Q,n  
3. 材料管理 (/> yfL]J  
3.1 材料模型 sSiZG  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ~Wm'~y>  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 guy!/zQ>A  
3.4 基板光学常数的提取 EO",|V-  
4. 光学薄膜设计优化方法 ?q'r9Ehe  
4.1 参考波长与g v<0S@9~  
4.2 四分之一规则 BNJG-b|g^  
4.3 导纳与导纳图 *D7oHwDU  
4.4 斜入射光学导纳 HW6Cz>WxOW  
4.5 光学薄膜设计的进展 Frhm4H%,_R  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 z%6egi>  
4.6.1 优化目标设置 eEmLl(Lb  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) k[1[Y{n.  
4.6.3 膜层锁定和链接 HqOnZ>D  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 at3YL[,[Z  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Z\?!& &  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 p7*7V.>X  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {5fq4A A6  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 d?CU+=A&|  
5.5 如何在Function中编写脚本 ?GZ?HK|  
6. 光学薄膜系统案例 QX-M'ur99  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ,.gI'YPQC  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 sg]g;U  
6.3 Stack应用范例说明 "bjbJC&T  
7. 薄膜性能分析 xA}{ZnTbN  
7.1 电场分布 .e:+Ek+  
7.2 公差与灵敏度分析 52 DSKL  
7.3 反演工程 8wS9%+  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 F|WH=s3  
8. 真空技术 =\<!kJ\yH  
8.1 常用真空泵介绍 =0U"07%}  
8.2 真空密封和检漏 G~4|]^`g  
9. 薄膜制备技术 {\= NZ\  
9.1 常见薄膜制备技术 y+VR D  
10. 薄膜制备工艺 @qsOWx`l$  
10.1 薄膜制备工艺因素 AWmJm)   
10.2 薄膜均匀性修正技术 TF,a `?c`  
10.3 光学薄膜监控技术 k .F(*kh  
11. 激光薄膜 klj.\wg/p{  
11.1 薄膜的损伤问题 lU3Xd_v O  
11.2 激光薄膜的制备流程 Nk>6:Ho{G  
11.3 激光薄膜的制备技术 _lk5\bu  
12. 光学薄膜特性测量 K;f=l5  
12.1 薄膜光谱测量 &-Z#+>=H(  
12.2 薄膜光学常数测量 7.v{=UP  
12.3 薄膜应力测量 D_cd l^  
12.4 薄膜损伤测量 @] {:juD~  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
(WS<6j[q  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
jM(!!A jpC  
内容简介 z;i4F.p  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 a% 82I::t  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 z:W1(/W~  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 EY!P"u;  
f]^ @z<FC  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
}pPt- k  
i>rsq[l  
目录 ?x =Sm|Ej  
Preface 1 d e~3:  
内容简介 2 C;!h4l7L  
目录 i =}4lx^`oeT  
1  引言 1 j: B,K.:  
2  光学薄膜基础 2 +&TcTu#.`  
2.1  一般规则 2 }A_>J7w  
2.2  正交入射规则 3 27jZ~Bp$  
2.3  斜入射规则 6 %^8>=  
2.4  精确计算 7 8"S? Toqq  
2.5  相干性 8 8 K>Ejr  
2.6 参考文献 10 vro5G')  
3  Essential Macleod的快速预览 10 }\\6"90g*  
4  Essential Macleod的特点 32 \~q cYp  
4.1  容量和局限性 33 i(>v~T,(  
4.2  程序在哪里? 33 qS+Ilg  
4.3  数据文件 35 3H47 vm(`  
4.4  设计规则 35 =R\-mov$  
4.5  材料数据库和资料库 37 rO{"jJ  
4.5.1材料损失 38 FwGMrJW  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 6MR S0{  
4.5.2 材料库 41 O/R>&8R$  
4.5.3导出材料数据 43 > 'KQL?!F  
4.6  常用单位 43 s97L/iH  
4.7  插值和外推法 46 mJ5LRpXN  
4.8  材料数据的平滑 50 3/hAxd  
4.9 更多光学常数模型 54 :WnXoL  
4.10  文档的一般编辑规则 55 V_7xXuM/  
4.11 撤销和重做 56 <ByDT$E_  
4.12  设计文档 57 0#KB.2AP  
4.10.1  公式 58 { e %  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eDSBs3k7H  
4.10.3  沉积密度 59 %z0@4G q  
4.10.4 平行和楔形介质 60 9wFQ<r  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 rJm%qSZz  
4.10.4  性能 61 jNNl5.  
4.10.5  保存设计和性能 64 ;EfMTI}6K  
4.10.6  默认设计 64  qz:_T  
4.11  图表 64 ^5~[G%G4  
4.11.1  合并曲线图 67 {N,w5!cP  
4.11.2  自适应绘制 68 T {lJ[M  
4.11.3  动态绘图 68 Fw5r\J87c  
4.11.4  3D绘图 69 MPd#C*c  
4.12  导入和导出 73 d|sI>6jD  
4.12.1  剪贴板 73 CQ3{'"b  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 VU*{E  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _?2xIo  
4.13  背景 77  93(  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 P5P<-T{-c  
4.15  生成Rugate 84 b\\?aR |  
4.16  参考文献 91 Va/ p   
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 y!^RL,HIL  
5.1  Jobs 92 :1>R~2  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 /qL&)24  
5.3  输入材料 94 fwQ%mU+  
5.4  设计数据文件夹 95 #z t+U^#)  
5.5  默认设计 95 tIC_/ 6  
6  细化和合成 97 i,,>@R  
6.1  优化介绍 97 uyG4zV\h*  
6.2  细化 (Refinement) 98 es(vWf'  
6.3  合成 (Synthesis) 100 j{P,(-  
6.4  目标和评价函数 101 _H8)O2mJ  
6.4.1  目标输入 102 ( |5g`JDG  
6.4.2  目标 103 sEvJ!$Tt?I  
6.4.3  特殊的评价函数 104 u-k?ef  
6.5  层锁定和连接 104 xI~\15PhG  
6.6  细化技术 104 r/O(EW#=8  
6.6.1  单纯形 105 Qg _?..%  
6.6.1.1 单纯形参数 106 <ZrZSt+<  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 Z9aDE@A  
6.6.2.1 Optimac参数 108 >)pwmIn<  
6.6.3  模拟退火算法 109 si nG $=  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 oaBfq8,;  
6.6.4  共轭梯度 111 +uwjZN'9a  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ]@?3,N  
6.6.5  拟牛顿法 112 ($W9 ?  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 km<~H w>Z  
6.6.6  针合成 113 xHr  
6.6.6.1 针合成参数 114 3nK'yC  
6.6.7 差分进化 114 >uJrq""+  
6.6.8非局部细化 115 KQ9:lJKr  
6.6.8.1非局部细化参数 115 up2%QbN(  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 iKS9Xss8  
6.7.1  细化 116 d) o<R;F  
6.7.2  合成 117 %r!#  
6.8  参考文献 117 a* IJ)'S  
7  导纳图及其他工具 118 ?n@PZL= ]  
7.1  简介 118 [bOy, ^@4  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 v*BA\&  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Q#g s)2  
7.2.2  导纳图 120 W'0wTZG  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (I~,&aBr  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 )sS< %Xf  
7.5  斜入射导纳图 141 @i)tQd!s  
7.6  对称周期 141 !J6s^um  
7.7  参考文献 142 n'h )(^  
8  典型的镀膜实例 143 'FUPv61()  
8.1  单层抗反射薄膜 145 gCm?nb)  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146  +NXj/  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [ $"iO#oO  
8.4  W-膜层 148 d,)F #;^5  
8.5  V-膜层 149 g*tLqV  
8.6  V-膜层高折射基底 150 <zDe;&  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ~!nd'{{9  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 B6pz1P?e}  
8.9  四层抗反射薄膜 153 /Bwea];^Q  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 fVN}7PH7+  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ' R@<4Ib|  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 (7wR*vO^  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 =}"hC`3e  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 1Ev+':%  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 0,A?*CO  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 6aK--k  
8.17  1/4波长堆栈 162 s,29_z7  
8.18  陷波滤波器 163 QJE- $ :  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 <V8i>LBlz  
8.20  褶皱 165 GB+d0 S4  
8.21  消偏振分光器1 169 y-X'eCUz  
8.22  消偏振分光器2 171 'q^Gg;c>+  
8.23  消偏振立体分光器 172 O``MUb b  
8.24  消偏振截止滤光片 173 N*MR6~z4  
8.25  立体偏振分束器1 174 m{5$4v,[  
8.26  立方偏振分束器2 177 i;xMf5Jz  
8.27  相位延迟器 178 V$_0VN'+Z  
8.28  红外截止器 179 1c4%g-]7  
8.29  21层长波带通滤波器 180 w${=dW@K  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Gehl/i-  
8.31  55层短波带通滤波器 182 $P@cS1sB  
8.32  47 红外截止器 183 ).S<{zm7  
8.33  宽带通滤波器 184 w +Z};C  
8.34  诱导透射滤波器 186 UKBMGzu2:  
8.35  诱导透射滤波器2 188 c\'pA^m 6  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Iq=B]oE  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &;skB.  
8.35  增益平坦滤波器 193 iQIw]*h^  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Xda<TX@-  
8.39  啁啾反射镜2 198 3,5wWT] )  
8.40  啁啾反射镜3 199 .:raeDrd  
8.41  带保护层的铝膜层 200 &aQ)x   
8.42  增加铝反射率膜 201 UmE{>5Pt  
8.43  参考文献 202 Z4-dF;7  
9  多层膜 204 KEN-G  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 cs M|VNE>  
9.2  内部透过率 204 o5@ jMU;  
9.3 内部透射率数据 205 "3MUrIsB>  
9.4  实例 206 A(p  
9.5  实例2 210 1c"m$)a4  
9.6  圆锥和带宽计算 212 z{jAt6@7  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ~ 7Nyi dV;  
10  光学薄膜的颜色 216 p4EItRZS  
10.1  导言 216 ?t42=nvf  
10.2  色彩 216 j*`!o/=LI  
10.3  主波长和纯度 220 &s;^q  
10.4  色相和纯度 221 x=#5\t9  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 zn!  
10.6 色差 226 z\Y^x 9  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 P$ef,ZW"  
10.8  颜色渲染指数 234 ]+dl=SmF  
10.9  色差计算 235 _q_[<{#  
10.10  参考文献 236 yj R O9  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 {:X];A$  
11.1  短脉冲 238 L,pSdeq  
11.2  群速度 239 )YtL=w?L'  
11.3  群速度色散 241 jFT V\|C  
11.4  啁啾(chirped) 245 O mIBk  
11.5  光学薄膜—相变 245 Ur(o&,  
11.6  群延迟和延迟色散 246 WG luY>C;  
11.7  色度色散 246 9p rsL#Fn  
11.8  色散补偿 249 b[;3KmUB  
11.9  空间光线偏移 256 gtGKV  
11.10  参考文献 258 N:[;E3?O  
12  公差与误差 260 &:#8ol(n5b  
12.1  蒙特卡罗模型 260 32LB*zc  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 cEjdImAzU  
12.2.1  误差工具 267 ydqmuZ%2h#  
12.2.2  灵敏度工具 271 PB67 ?d~  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 HHTsHb{7  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 o>-v?Ug  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 z8 ;#H tr  
12.3  参考文献 276 }cej5/*  
13  Runsheet 与Simulator 277 F'$S!K58  
13.1  原理介绍 277 TK/'=8  
13.2  截止滤光片设计 277 vW-`=30  
14  光学常数提取 289 sg"D;b:X  
14.1  介绍 289 s [F' h-y  
14.2  电介质薄膜 289 \u-e\w  
14.3  n 和k 的提取工具 295 tZCe?n]  
14.4  基底的参数提取 302 G=5t5[KC  
14.5  金属的参数提取 306 xyjV dD\  
14.6  不正确的模型 306 <bZm  
14.7  参考文献 311 x0h3jw+6  
15  反演工程 313  5vF}F^  
15.1  随机性和系统性 313 Q_0x6]/!  
15.2  常见的系统性问题 314 E5BgQ5'  
15.3  单层膜 314 y*b.eO  
15.4  多层膜 314 3|+f si)x  
15.5  含义 319 }R&5qpl  
15.6  反演工程实例 319 &f<1=2dm  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 RL Zf{Q>  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Te@6N\g  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 $dp#nyP  
16.1  光学性质的热致偏移 329 CCh8?sM  
16.2  应力工具 335 wV[V#KpX8-  
16.3  均匀性误差 339 l5Wa'~0qA  
16.3.1  圆锥工具 339 TBKd|D'H  
16.3.2  波前问题 341 `$sY^EX  
16.4  参考文献 343 7 Jx-W|  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 L0mnU)Q}C  
17.1  引言 345 iqednk%  
17.2  操作数 345 4JZHjf0M6  
18  如何在Function中编写脚本 351 Kxl,] |e>  
18.1  简介 351 R=?po=  
18.2  什么是脚本? 351 ff}a <w  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 s9rtXBJP  
18.4  基础 352 Az< 9hk  
18.4.1  Classes(类别) 352 V9E6W*IE  
18.4.2  对象 352 \;*}zX  
18.4.3  信息(Messages) 352 8q?;Hg  
18.4.4  属性 352 .y7)XLC  
18.4.5  方法 353 [+l  
18.4.6  变量声明 353 KHlIK`r  
18.5  创建对象 354 xeHb89GnoQ  
18.5.1  创建对象函数 355 2yQ}Lxr(  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 Rz zFhU#r  
18.5.3 丢弃对象 356 fcE)V#c"g  
18.5.4  总结 356 +~4bB$6*4)  
18.6  脚本中的表格 357 a}Fk x  
18.6.1  方法1 357 ;sChxQ=.^  
18.6.2  方法2 357 k?HrD"k"  
18.7 2D Plots in Scripts 358 YXzZ-28,<  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;>Ca(Y2M  
18.9  注释 360 *F szGn<  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 P*SCHe'  
18.11  一个更高级的脚本 362 ?cO8'4 bq  
18.12  <esc>键 364 NYjS  
18.13 包含文件 365 nQ642i%RQ  
18.14  脚本被优化调用 366 Y%/ YFO2vb  
18.15  脚本中的对话框 368 TmYP_5g:  
18.15.1  介绍 368 *f TG8h  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Xn/ n|[  
18.15.3  输入框函数 370 \o B'  
18.15.4  自定义对话框 371 g%\$ !b  
18.15.5  对话框编辑器 371 8Z dUPW\e  
18.15.6  控制对话框 377 }. xrJ52Tz  
18.15.7  更高级的对话框 380 W]O@DS zR  
18.16 Types语句 384 7!r#(>I6?1  
18.17 打开文件 385 {xv?wenE  
18.18 Bags 387 3ximNQ} S  
18.13  进一步研究 388 |"R_-U  
19  vStack 389 ?Q96,T-) c  
19.1  vStack基本原理 389 `V&1]C8x  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 }Kj Ju;  
19.3  五棱镜 393 Y$`eg|$  
19.4 光束距离 396 KZF0rW  
19.5 误差 399 J%\- 1  
19.6  二向分色棱镜 399 ?GO SeV  
19.7  偏振泄漏 404 ym|NT0_0  
19.8  波前误差—相位 405 FjZc#\^9  
19.9  其它计算参数 405 4mN].X[,  
20  报表生成器 406 Zk=*7?!!  
20.1  入门 406 oTCzYY  
20.2  指令(Instructions) 406 KdT[*-  
20.3  页面布局指令 406 E dn[cH7  
20.4  常见的参数图和三维图 407 T- |9o|~z  
20.5  表格中的常见参数 408 \.H9$C$  
20.6  迭代指令 408 JiFA]M`^Q  
20.7  报表模版 408 \ ]   
20.8  开始设计一个报表模版 409 7}4'dW.  
21  一个新的project 413 Vi|7%!j<  
21.1  创建一个新Job 414 uf)W-Er6~  
21.2  默认设计 415 b!0DH[XKV  
21.3  薄膜设计 416 /gz:zThf{  
21.4  误差的灵敏度计算 420 O' +"d%2'  
21.5  显色指数计算 422 *u>lx!g  
21.6  电场分布 424 90/vJN  
后记 426 {p`mfEE (  
{O^TurbTFA  
.u1X+P7  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :O $@shV  
T><{ze  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
Ia629gi5s  
d^F|lc ]8  
目  录 -2F@~m|  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 J yj0Gco  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 <B6[i*&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 EgTFwEj  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Ji;SY{~kv  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 wV\%R,bZj  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 w *50ZS;N  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 #s"851e  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 zfhTc=(/  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 CqqXVF3  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Dv&>*0B  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 }N3V5cab  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 0$6*o}N%  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 2-++i:, g  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 `Da+75 f6v  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 h#i\iK&A  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ![ZmV  
XCDSmZ  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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