上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 :O,,fJ<x.O 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 a]V#mF |{ 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 KIuj;|!q 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 k<fR)o 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ^|U5@u_ [attachment=120542] es69P) 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 !eb{#9S* 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ~tNk\Kkv 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 #EKnjh=Uq 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 p8s%bPjK 1. Essential Macleod软件介绍 .d#Hh&jj 1.1 介绍软件 A&KY7[<AC{ 1.2 创建一个简单的设计 $y<`Jy]+)~ 1.3 绘图和制表来表示性能 fe6Op 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 H`3w=T+I 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) iRW5*-66f 1.6 特定设计的公式技术 %0815
5M 1.7 交互式绘图 \Ym$to 2. 光学薄膜理论基础 `"~ X1; 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 - 3<&sTR 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 z __#PQ,n 3. 材料管理 (/>
yfL]J 3.1 材料模型 sSiZG 3.2 介质薄膜光学常数的提取 ~Wm'~y> 3.3 金属薄膜光学常数的提取 guy!/zQ>A 3.4 基板光学常数的提取 EO",|V- 4. 光学薄膜设计优化方法 ?q'r9Ehe 4.1 参考波长与g v<0S@9~ 4.2 四分之一规则 BNJG-b|g^ 4.3 导纳与导纳图 *D7oHwDU 4.4 斜入射光学导纳 HW6Cz>WxOW 4.5 光学薄膜设计的进展 Frhm4H%,_R 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 z%6egi> 4.6.1 优化目标设置 eEmLl(Lb 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) k[1[Y{n. 4.6.3 膜层锁定和链接 HqOnZ>D 5. Essential Macleod中各个模块的应用 at3YL[,[Z 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Z\?!&& 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 p7*7V.>X 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {5fq4AA6 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 d?CU+=A&| 5.5 如何在Function中编写脚本 ?GZ?HK| 6. 光学薄膜系统案例 QX-M'ur99 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ,.gI'YPQC 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 sg]g;U 6.3 Stack应用范例说明 "bjbJC&T 7. 薄膜性能分析 xA}{ZnTbN 7.1 电场分布 .e:+Ek+ 7.2 公差与灵敏度分析 52
DSKL 7.3 反演工程 8wS9%+ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 F|WH=s3 8. 真空技术 =\<!kJ\yH 8.1 常用真空泵介绍 =0U"07%} 8.2 真空密封和检漏 G~4|]^`g 9. 薄膜制备技术 {\=NZ\ 9.1 常见薄膜制备技术 y+VRD 10. 薄膜制备工艺 @qsOWx`l$ 10.1 薄膜制备工艺因素 AWmJm) 10.2 薄膜均匀性修正技术 TF,a`?c` 10.3 光学薄膜监控技术 k.F(*kh 11. 激光薄膜 klj.\wg/p{ 11.1 薄膜的损伤问题 lU3Xd_v
O 11.2 激光薄膜的制备流程 Nk>6:Ho{G 11.3 激光薄膜的制备技术 _lk5\bu 12. 光学薄膜特性测量 K;f=l5 12.1 薄膜光谱测量 &-Z#+>=H( 12.2 薄膜光学常数测量 7.v{ =UP 12.3 薄膜应力测量 D_cd
l^ 12.4 薄膜损伤测量 @]{:juD~ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] (WS<6j[q
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] jM(!!AjpC
内容简介 z;i4F.p Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 a% 82I::t 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 z: W1(/W~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 EY!P"u; f]^ @z<FC
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 }pPt- k i>rsq[l 目录 ?x =Sm|Ej Preface 1 d e~3: 内容简介 2 C;!h4l7L 目录 i =}4lx^`oeT 1 引言 1 j: B,K.: 2 光学薄膜基础 2 +&TcTu#.` 2.1 一般规则 2 }A_>J7w 2.2 正交入射规则 3 27jZ~Bp$ 2.3 斜入射规则 6 %^8>= 2.4 精确计算 7 8"S?
Toqq 2.5 相干性 8 8 K>Ejr 2.6 参考文献 10 vro5G') 3 Essential Macleod的快速预览 10 }\\6"90g* 4 Essential Macleod的特点 32 \~q cYp 4.1 容量和局限性 33 i(>v~T,( 4.2 程序在哪里? 33 qS+I lg 4.3 数据文件 35 3H47 vm(` 4.4 设计规则 35 =R\-mov$ 4.5 材料数据库和资料库 37 rO{"jJ
4.5.1材料损失 38 FwGMrJW 4.5.1材料数据库和导入材料 39 6MRS0{ 4.5.2 材料库 41 O/R>&8R$ 4.5.3导出材料数据 43 > 'KQL?!F 4.6 常用单位 43 s97L/iH 4.7 插值和外推法 46 mJ5LRpXN 4.8 材料数据的平滑 50 3/hAxd 4.9 更多光学常数模型 54 :WnXoL 4.10 文档的一般编辑规则 55 V_7xXuM/ 4.11 撤销和重做 56 <ByDT$E_ 4.12 设计文档 57 0#KB.2AP 4.10.1 公式 58 { e% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eDSBs3k7H 4.10.3 沉积密度 59 %z0@4Gq 4.10.4 平行和楔形介质 60 9w FQ<r 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rJm%qSZz 4.10.4 性能 61 jNNl5. 4.10.5 保存设计和性能 64 ;EfMTI}6K 4.10.6 默认设计 64
qz:_T 4.11 图表 64 ^5~[G%G4 4.11.1 合并曲线图 67 {N,w5!cP 4.11.2 自适应绘制 68 T{lJ[M 4.11.3 动态绘图 68 Fw5r\J87c 4.11.4 3D绘图 69 MPd#C*c 4.12 导入和导出 73 d|sI>6jD 4.12.1 剪贴板 73 CQ3{'"b 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 VU*{E 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 _?2xIo 4.13 背景 77 93( 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 P5P<-T{-c 4.15 生成Rugate 84 b\\?aR
| 4.16 参考文献 91 Va/p
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 y!^RL,HIL 5.1 Jobs 92 :1>R~2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 /qL&)24 5.3 输入材料 94 fwQ%mU+ 5.4 设计数据文件夹 95 #zt+U^#) 5.5 默认设计 95 tI C_/
6 6 细化和合成 97 i,,>@R 6.1 优化介绍 97 uyG4zV\h* 6.2 细化 (Refinement) 98 es(vWf' 6.3 合成 (Synthesis) 100 j{P,(- 6.4 目标和评价函数 101 _H8)O2mJ 6.4.1 目标输入 102 (|5g`JDG 6.4.2 目标 103 sEvJ!$Tt?I 6.4.3 特殊的评价函数 104 u-k?ef 6.5 层锁定和连接 104 xI~\15PhG 6.6 细化技术 104 r/O(EW#=8 6.6.1 单纯形 105 Qg
_?..% 6.6.1.1 单纯形参数 106 <ZrZSt+< 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Z9aDE@A 6.6.2.1 Optimac参数 108 >)pwmIn< 6.6.3 模拟退火算法 109 sinG $= 6.6.3.1 模拟退火参数 109 oaBfq8,; 6.6.4 共轭梯度 111 +uwjZN'9a 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ]@?3,N 6.6.5 拟牛顿法 112 ($W9
? 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 km<~Hw>Z 6.6.6 针合成 113 xHr 6.6.6.1 针合成参数 114
3nK'yC 6.6.7 差分进化 114 >uJrq""+ 6.6.8非局部细化 115 KQ9:lJKr 6.6.8.1非局部细化参数 115 up2%QbN( 6.7 我应该使用哪种技术? 116 iKS9Xss8 6.7.1 细化 116 d)o<R;F 6.7.2 合成 117 %r!# 6.8 参考文献 117 a*IJ)'S 7 导纳图及其他工具 118 ?n@PZL= ] 7.1 简介 118 [bOy,^@4 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 v*BA\& 7.2.1 四分之一波长规则 119 Q#g
s)2 7.2.2 导纳图 120 W'0wT ZG 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (I~,&aBr 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 )sS<%Xf 7.5 斜入射导纳图 141 @i)tQd!s 7.6 对称周期 141 !J6s^um 7.7 参考文献 142 n'h
)(^ 8 典型的镀膜实例 143 'FUPv61() 8.1 单层抗反射薄膜 145 gCm?nb) 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 +NXj/ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 [
$"iO#oO 8.4 W-膜层 148 d,)F #;^5 8.5 V-膜层 149 g*tLqV 8.6 V-膜层高折射基底 150 <zDe;& 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ~!nd'{{9 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 B6pz1P?e} 8.9 四层抗反射薄膜 153 /Bwea];^Q 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 fVN}7PH7+ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 '
R@<4Ib| 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 (7wR*vO^ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 =}"hC`3e 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 1Ev+':% 8.15十五层宽带抗反射膜 159 0,A?*CO 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 6 aK--k 8.17 1/4波长堆栈 162 s,29_z7 8.18 陷波滤波器 163 QJE-$ : 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 <V8i>LBlz 8.20 褶皱 165 GB+d0 S4 8.21 消偏振分光器1 169 y-X'eCUz 8.22 消偏振分光器2 171 'q^Gg;c>+ 8.23 消偏振立体分光器 172 O``MUb b 8.24 消偏振截止滤光片 173 N*MR6~z4 8.25 立体偏振分束器1 174 m{5$4v,[ 8.26 立方偏振分束器2 177 i;xMf5Jz 8.27 相位延迟器 178 V$_0VN'+Z 8.28 红外截止器 179 1c4%g-]7 8.29 21层长波带通滤波器 180 w${=dW@K 8.30 49层长波带通滤波器 181 Gehl/i- 8.31 55层短波带通滤波器 182 $P@cS1sB 8.32 47 红外截止器 183 ).S<{zm7 8.33 宽带通滤波器 184 w+Z};C 8.34 诱导透射滤波器 186 UKBMGzu2: 8.35 诱导透射滤波器2 188 c\'pA^m6 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Iq=B]oE 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &; skB. 8.35 增益平坦滤波器 193 iQIw]*h^ 8.38 啁啾反射镜 1 196 Xda<TX@- 8.39 啁啾反射镜2 198 3,5wWT]
) 8.40 啁啾反射镜3 199 .:raeDrd 8.41 带保护层的铝膜层 200 &aQ)x 8.42 增加铝反射率膜 201 UmE{>5Pt 8.43 参考文献 202 Z4-dF;7 9 多层膜 204 KEN-G 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 csM|VNE> 9.2 内部透过率 204 o5@ jMU; 9.3 内部透射率数据 205 "3MUrIsB> 9.4 实例 206 A(p 9.5 实例2 210 1c"m$)a4 9.6 圆锥和带宽计算 212 z{jAt6@7 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 ~
7Nyi dV; 10 光学薄膜的颜色 216 p4EItRZS 10.1 导言 216 ?t42=nvf 10.2 色彩 216 j*`!o/=LI 10.3 主波长和纯度 220 &s;^q 10.4 色相和纯度 221 x=#5\t9 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 z n! 10.6 色差 226 z\Y^x9 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 P$ef,ZW" 10.8 颜色渲染指数 234 ]+dl=SmF 10.9 色差计算 235 _q_[<{# 10.10 参考文献 236 yjR
O9 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 {:X];A$ 11.1 短脉冲 238 L,pSdeq 11.2 群速度 239 )YtL=w?L' 11.3 群速度色散 241 jFTV\|C 11.4 啁啾(chirped) 245 O mIB k 11.5 光学薄膜—相变 245 Ur(o&, 11.6 群延迟和延迟色散 246 WGluY>C; 11.7 色度色散 246 9prsL#Fn 11.8 色散补偿 249 b[;3KmUB 11.9 空间光线偏移 256 gtGKV 11.10 参考文献 258 N:[;E3?O 12 公差与误差 260 &:#8ol(n5b 12.1 蒙特卡罗模型 260 32LB*zc 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 cEjdImAzU 12.2.1 误差工具 267 ydqmuZ%2h# 12.2.2 灵敏度工具 271 PB67?d~ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 HHTsHb{7 12.2.2.2 灵敏度分布 275 o>-v?Ug 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 z8 ;#H
tr 12.3 参考文献 276 }cej5/* 13 Runsheet 与Simulator 277 F'$S!K58 13.1 原理介绍 277 TK/'=8 13.2 截止滤光片设计 277 vW-`=30 14 光学常数提取 289 sg"D;b:X 14.1 介绍 289 s [F' h-y 14.2 电介质薄膜 289 \u-e\w 14.3 n 和k 的提取工具 295 tZCe?n] 14.4 基底的参数提取 302 G=5t5[KC 14.5 金属的参数提取 306 xyjVdD\ 14.6 不正确的模型 306 <bZm 14.7 参考文献 311 x0h3jw+6 15 反演工程 313 5vF}F^ 15.1 随机性和系统性 313 Q_0x6]/! 15.2 常见的系统性问题 314 E5BgQ5'
15.3 单层膜 314 y*b.eO 15.4 多层膜 314 3|+f si)x 15.5 含义 319 }R&5qpl 15.6 反演工程实例 319 &f<1=2dm 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 RL
Zf{Q> 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Te@6N\g
16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 $dp#nyP 16.1 光学性质的热致偏移 329 CCh8? sM 16.2 应力工具 335 wV[V#KpX8- 16.3 均匀性误差 339 l5Wa'~0qA 16.3.1 圆锥工具 339 TBKd|D'H 16.3.2 波前问题 341 `$sY^EX 16.4 参考文献 343 7Jx-W| 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 L0mnU)Q}C 17.1 引言 345 iqednk% 17.2 操作数 345 4JZHjf0M6 18 如何在Function中编写脚本 351 Kxl,]
|e> 18.1 简介 351 R=?po= 18.2 什么是脚本? 351 ff}a <w 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 s9rtXBJP 18.4 基础 352 Az< 9hk 18.4.1 Classes(类别) 352 V9E6W*IE 18.4.2 对象 352 \;*}zX 18.4.3 信息(Messages) 352 8q?;Hg 18.4.4 属性 352 .y7) XLC 18.4.5 方法 353 [+l 18.4.6 变量声明 353 KHlIK`r 18.5 创建对象 354 xeHb89GnoQ 18.5.1 创建对象函数 355 2yQ}Lxr( 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 RzzFhU#r 18.5.3 丢弃对象 356 fcE)V#c"g 18.5.4 总结 356 +~4bB$6*4) 18.6 脚本中的表格 357 a}Fk x 18.6.1 方法1 357 ;sChxQ=.^ 18.6.2 方法2 357 k?HrD" k" 18.7 2D Plots in Scripts 358 YXzZ-28,< 18.8 3D Plots in Scripts 359 ;>Ca(Y2M 18.9 注释 360 *F
szGn< 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 P*SCHe' 18.11 一个更高级的脚本 362 ?cO8'4 bq 18.12 <esc>键 364 NYjS 18.13 包含文件 365 nQ642i%RQ 18.14 脚本被优化调用 366 Y%/ YFO2vb 18.15 脚本中的对话框 368
TmYP_5g: 18.15.1 介绍 368 *f
TG8h 18.15.2 消息框-MsgBox 368 Xn/ n|[ 18.15.3 输入框函数 370 \oB' 18.15.4 自定义对话框 371 g %\$ !b 18.15.5 对话框编辑器 371 8Z
dUPW\e 18.15.6 控制对话框 377 }. xrJ52Tz 18.15.7 更高级的对话框 380 W]O@DS zR 18.16 Types语句 384 7!r#(>I6?1 18.17 打开文件 385 {xv?wenE 18.18 Bags 387 3ximNQ}S 18.13 进一步研究 388 |"R_-U 19 vStack 389 ?Q96,T-)
c 19.1 vStack基本原理 389 `V&1]C8x 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 }Kj Ju; 19.3 五棱镜 393 Y$`eg|$ 19.4 光束距离 396 KZF0rW 19.5 误差 399 J%\- 1 19.6 二向分色棱镜 399 ?GO
SeV 19.7 偏振泄漏 404 ym|NT0_0 19.8 波前误差—相位 405 FjZc#\^9 19.9 其它计算参数 405 4mN].X[, 20 报表生成器 406 Zk=*7?!! 20.1 入门 406 oTCzY Y 20.2 指令(Instructions) 406 KdT[*- 20.3 页面布局指令 406 E dn[cH7 20.4 常见的参数图和三维图 407 T-|9o|~z 20.5 表格中的常见参数 408 \.H9$C$ 20.6 迭代指令 408 JiFA]M`^Q 20.7 报表模版 408 \ ] 20.8 开始设计一个报表模版 409 7}4'dW. 21 一个新的project 413 Vi|7%!j< 21.1 创建一个新Job 414 uf)W-Er6~ 21.2 默认设计 415 b!0DH[XKV 21.3 薄膜设计 416 /gz:zThf{ 21.4 误差的灵敏度计算 420 O' +"d%2' 21.5 显色指数计算 422 *u>lx!g 21.6 电场分布 424 90/vJN 后记 426 {p`mfEE( {O^TurbTFA .u1X+P7 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 :O $@shV T><{ze 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] Ia629gi5s d^F|lc ]8 目 录 -2F@~m| ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Jyj0Gco 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 <B6[i*& 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 EgTFwEj 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Ji;SY{~kv 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 wV\%R,bZj 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 w*50ZS;N 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 #s"851e 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 zfhTc=(/ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 CqqXVF3 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Dv&>*0B 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 }N3V5cab 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 0$6*o}N% 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 2-++i:, g 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 `Da+75 f6v 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 h#i\iK&A 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ![ZmV XCDSmZ 价 格:400元
|