上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 G_]
(7 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 !mX 2 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ~^Y(f'{ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 9H<6k* 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 >@BvyZ)i [attachment=120542] b}[W[J}` 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 YbrsXp" 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 wb
}W;C@ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 *?`:= 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 >aZ$x/U+Iw 1. Essential Macleod软件介绍 P:")Qb2 1.1 介绍软件 Uv06f+P( 1.2 创建一个简单的设计 04wmN 1.3 绘图和制表来表示性能 J!:ss 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 l%^'K%'b 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) S/
Y1NH 1.6 特定设计的公式技术 7='M&Za 1.7 交互式绘图 :B<lDcFKJ 2. 光学薄膜理论基础 )up!W4h6o 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 " (+># 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 UUx0#D/U0C 3. 材料管理 ,zLi{a6 3.1 材料模型 5UwaBPj4 3.2 介质薄膜光学常数的提取 !=.5$/ 3.3 金属薄膜光学常数的提取 @GYM4T 3.4 基板光学常数的提取 LV&tu7c 4. 光学薄膜设计优化方法 c4R6E~S 4.1 参考波长与g Pv`^#BX' 4.2 四分之一规则 wK[xLf 4.3 导纳与导纳图 {}ZQK 4.4 斜入射光学导纳 o(.
PxcD 4.5 光学薄膜设计的进展 : /9@p 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nJYcC"f 4.6.1 优化目标设置 J}coWjw`q 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) @Zs}8YhC 4.6.3 膜层锁定和链接 kg$<^:uX 5. Essential Macleod中各个模块的应用 AG#5_0]P~ 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ^z$-NSlI 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 eA>O<Z1> 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $H/3t? 6h` 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Rp)82-
. 5.5 如何在Function中编写脚本 ztG_::QtG] 6. 光学薄膜系统案例 b0i]T?# 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 EM*YN=S o 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 UKx91a}g 6.3 Stack应用范例说明 PCs+`
WP!M 7. 薄膜性能分析 v!ULErs 7.1 电场分布 .3,s4\.kT 7.2 公差与灵敏度分析 Pb.-Z@ 7.3 反演工程 3_IuK6K2 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 i` Es7 } 8. 真空技术 v"L<{HN 8.1 常用真空泵介绍 }abM:O
"Y 8.2 真空密封和检漏 lhx6+w 9. 薄膜制备技术 xv9Z~JwH 9.1 常见薄膜制备技术 H~@E&qd 10. 薄膜制备工艺 vcAs!ls+ 10.1 薄膜制备工艺因素 S@zsPzw 10.2 薄膜均匀性修正技术 gydPy* 10.3 光学薄膜监控技术 PKu+$ 11. 激光薄膜 r9G<HKl 11.1 薄膜的损伤问题 )[6H!y5 11.2 激光薄膜的制备流程 j3 ~: \H 11.3 激光薄膜的制备技术 r}9qK%C G. 12. 光学薄膜特性测量 A%u-6" 12.1 薄膜光谱测量 X#(?V[F] 12.2 薄膜光学常数测量 $CO^dFf 12.3 薄膜应力测量 KLs%{'[7: 12.4 薄膜损伤测量 5A/G? 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] cp2e,%o
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] u|=_!$8
内容简介 ZYrXav< Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W z3y+I/& 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 iD_NpH q 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]xA;*b;|h eQno]$-\
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 kVQKP U _I~W!8&w> 目录 ]E88zWDY` Preface 1 [z`U9J 内容简介 2 U=p,drF,A 目录 i <r,l 1 引言 1 6.2_UN^< 2 光学薄膜基础 2 ld4QhZia 2.1 一般规则 2 &?/h#oF@\ 2.2 正交入射规则 3 '6fMF#X4F 2.3 斜入射规则 6 (D{Fln\ 2.4 精确计算 7 VLN=9 2.5 相干性 8 7f'9Dm` 2.6 参考文献 10 (H<S&5[ 3 Essential Macleod的快速预览 10 YrjF1hJ 4 Essential Macleod的特点 32 rFSLTbTf 4.1 容量和局限性 33 R|ViLt y 4.2 程序在哪里? 33 Ezm ~SY 4.3 数据文件 35 zhU)bb[A 4.4 设计规则 35 b-@VR 4.5 材料数据库和资料库 37 H6x~mZu_:T 4.5.1材料损失 38 )wo'i]#2: 4.5.1材料数据库和导入材料 39 G#8HY VF 4.5.2 材料库 41 SPeSe/ 4.5.3导出材料数据 43 NHUx-IqOX 4.6 常用单位 43 ^/2n[orl5 4.7 插值和外推法 46 !t{3IE 4.8 材料数据的平滑 50 M/ 0!B_(R 4.9 更多光学常数模型 54 E:f0NV3"1 4.10 文档的一般编辑规则 55 v1QE|@ 4.11 撤销和重做 56 Gb<)U[Hfd 4.12 设计文档 57 ,+KZn}> 4.10.1 公式 58 ~a4htj 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 x,STt{I= 4.10.3 沉积密度 59 \('8_tqI" 4.10.4 平行和楔形介质 60 ?7'uo$ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 #]oVVf_ 4.10.4 性能 61 Z+=W gEu1 4.10.5 保存设计和性能 64 OO]~\j 4.10.6 默认设计 64 OA_:_%a( 4.11 图表 64 .KGW#Qk8 4.11.1 合并曲线图 67 @U_w:Q<9u 4.11.2 自适应绘制 68 xpKD 'O=T 4.11.3 动态绘图 68 KO<Yc`Fs 4.11.4 3D绘图 69 ddmTMfH 4.12 导入和导出 73 5v=%pQbY 4.12.1 剪贴板 73 9Y- Sqk+ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Di<KRg1W]} 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 E#`=xg 4.13 背景 77 YW}q@AY7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ;+g
p#&i` 4.15 生成Rugate 84 3aQWzEnh 4.16 参考文献 91 =da_zy 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 `$jc=ZLm 5.1 Jobs 92 =2BGS\$# 5.2 创建一个新Job(工作) 93 t(-noy) 5.3 输入材料 94 Xa.Qt.C 5.4 设计数据文件夹 95 o>W H;EBL 5.5 默认设计 95 )dbi 6 细化和合成 97 3<1Uq3Pa 6.1 优化介绍 97 PGsXB"k<8 6.2 细化 (Refinement) 98 !krbGpTVH 6.3 合成 (Synthesis) 100 @Nn9-#iW 6.4 目标和评价函数 101 fmXA;^% 6.4.1 目标输入 102 5vj;lJKcd` 6.4.2 目标 103 D+]#qS1q 6.4.3 特殊的评价函数 104 V]tucs 6.5 层锁定和连接 104 m:59f9WXA 6.6 细化技术 104 2K'3ry)[y 6.6.1 单纯形 105 J4#t1P@Na 6.6.1.1 单纯形参数 106 8C#R 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 r9sW:cM:e 6.6.2.1 Optimac参数 108 ?1K|.lr 6.6.3 模拟退火算法 109 r`pg`ChHv 6.6.3.1 模拟退火参数 109 aB;syl{ 6.6.4 共轭梯度 111 8 sZ~3 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 UM(tM9 6.6.5 拟牛顿法 112 acz8
H0cS 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 UB }n= 6.6.6 针合成 113 ~Jrtm7 6.6.6.1 针合成参数 114 Q<3=s6@T 6.6.7 差分进化 114 cu5Yvp 6.6.8非局部细化 115 q{HfT
d 6.6.8.1非局部细化参数 115 bYGK}:T8U 6.7 我应该使用哪种技术? 116 L!Iu\_{q 6.7.1 细化 116 @cA`del 6.7.2 合成 117 uV!Ax*' 6.8 参考文献 117 Z|K+{{C 7 导纳图及其他工具 118 l69&-Nyg 7.1 简介 118 `=g9Rg/< 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 N@lTn}U 7.2.1 四分之一波长规则 119 9"O z-!Y4 7.2.2 导纳图 120 k3h,c; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 x*Y&s< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 4n @}X-) 7.5 斜入射导纳图 141 3JV ENn9 7.6 对称周期 141 W+-a@)sh3Q 7.7 参考文献 142 !qsk;Vk7Z 8 典型的镀膜实例 143 D0Yl?LU3 8.1 单层抗反射薄膜 145 Gx
ci 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 \Y&* sfQ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #5-5N5-1 8.4 W-膜层 148 ;UTT>j
8.5 V-膜层 149 6!bp;iLKy 8.6 V-膜层高折射基底 150 Fk@A;22N 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 +b"RZ:tKp 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +e?mKLw14 8.9 四层抗反射薄膜 153 }CnqJ@>C5 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ,_@C(O 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *{8<4CVv 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 QlmZBqK}& 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 7^7Rk 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 W iql c 8.15十五层宽带抗反射膜 159 AuuZWd 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 V #["Z} 8.17 1/4波长堆栈 162 F(c~D0 8.18 陷波滤波器 163 eIBHAdU+g/ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8.FBgZh* 8.20 褶皱 165 v- M3/* 8.21 消偏振分光器1 169 eSo/1D 8.22 消偏振分光器2 171 }_93}e 8.23 消偏振立体分光器 172 _Mq0QQ42 8.24 消偏振截止滤光片 173 MF:]J 8.25 立体偏振分束器1 174 =67dpQ'y 8.26 立方偏振分束器2 177 /cHd&i,> 8.27 相位延迟器 178 gdkl,z3N3 8.28 红外截止器 179 - 6a4H?L 8.29 21层长波带通滤波器 180 [~03Z[_"/ 8.30 49层长波带通滤波器 181 BayO+,>K 8.31 55层短波带通滤波器 182 sf )ojq6s 8.32 47 红外截止器 183 7zo)t1H1 8.33 宽带通滤波器 184 dzJ\+
@4 8.34 诱导透射滤波器 186 PhF.\Wb 8.35 诱导透射滤波器2 188 np3$bqm 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 rvO7e cR" 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 t
I}@1 8.35 增益平坦滤波器 193 09z%y[z 8.38 啁啾反射镜 1 196 F F<xsoZJ 8.39 啁啾反射镜2 198 YoiM\gw 8.40 啁啾反射镜3 199 *fyC@fI> 8.41 带保护层的铝膜层 200 EOJ k7 8.42 增加铝反射率膜 201 B;xw @:H 8.43 参考文献 202 W/_=S+CvK 9 多层膜 204 v,t;!u,40 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 %\6ns 9.2 内部透过率 204 @V{s'V 9.3 内部透射率数据 205 @8WG 9.4 实例 206 _/;k;$gDp 9.5 实例2 210 LDlj4>%pW^ 9.6 圆锥和带宽计算 212 \Y.&G,? 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 UB[tYZ 10 光学薄膜的颜色 216 C@+"d3 10.1 导言 216 lrSdFJ% 10.2 色彩 216 %gj's-!! 10.3 主波长和纯度 220 `k y>M- 10.4 色相和纯度 221 v~^c-]4I 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3=o^Vv 10.6 色差 226 i!8 o(!I 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 Ar&]/X,WG 10.8 颜色渲染指数 234 #hL<9j 10.9 色差计算 235 ,Q|[Yr 10.10 参考文献 236
E~oQ%X~ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 R^zTgyr 11.1 短脉冲 238 C =fs[ 11.2 群速度 239 0v6(A4Y 11.3 群速度色散 241 ?DPNa 11.4 啁啾(chirped) 245 xK4b(KJj 11.5 光学薄膜—相变 245 g-^Cf 11.6 群延迟和延迟色散 246 A*l(0`aWq 11.7 色度色散 246 J u5<wjQR\ 11.8 色散补偿 249 |rJ1/T.9 11.9 空间光线偏移 256 9L3#aE]C 11.10 参考文献 258 gQy{OU 12 公差与误差 260 mq~rD)T 12.1 蒙特卡罗模型 260 ,arFR'u> 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 QuFcc}{<] 12.2.1 误差工具 267 :%GxU;<E{ 12.2.2 灵敏度工具 271 0Yz
&aH 12.2.2.1 独立灵敏度 271 O8BxXa@5 12.2.2.2 灵敏度分布 275 "0Xa?z8" 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ~F7 +R 12.3 参考文献 276 RFF&-M] 13 Runsheet 与Simulator 277 G<.p".o4 13.1 原理介绍 277 :@LFNcWE 13.2 截止滤光片设计 277 B ;Zsp 14 光学常数提取 289 s_Y1rD*B 14.1 介绍 289 Xh==F: 14.2 电介质薄膜 289
fuJ6
fmT 14.3 n 和k 的提取工具 295 S-^y;#= 14.4 基底的参数提取 302 g Z3VT{ 14.5 金属的参数提取 306 F 7+Gt
Ed 14.6 不正确的模型 306 ,aI 6P- 14.7 参考文献 311 J;+AG^U< 15 反演工程 313 {E!"^^0` 15.1 随机性和系统性 313 e-<fkU9^W 15.2 常见的系统性问题 314 YpQ/ )fSEV 15.3 单层膜 314 =x
"N0p 15.4 多层膜 314 [uOW\)` 15.5 含义 319 KA:>7- 15.6 反演工程实例 319 :CEhc7gU 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 M ,.++W\ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 ]/;0 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 9TGjcZ1S' 16.1 光学性质的热致偏移 329 %XGwQB$zk8 16.2 应力工具 335 F?2(U\k# 16.3 均匀性误差 339 *au&ODa 16.3.1 圆锥工具 339 N*JWd 16.3.2 波前问题 341 @Tmqw(n{ 16.4 参考文献 343 "Yw-1h`fR 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 k>#,1GbNZy 17.1 引言 345 e"en
ma\_ 17.2 操作数 345 {UT>>
*C 18 如何在Function中编写脚本 351 !Dp4uE:Pq 18.1 简介 351 s]Z/0:` 18.2 什么是脚本? 351 cad1eOT' 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 V.J[Uwf 18.4 基础 352 TL@_m^SM 18.4.1 Classes(类别) 352 +s&+G![ 18.4.2 对象 352 SZJ~ktXC-V 18.4.3 信息(Messages) 352 qA:CV(Z 18.4.4 属性 352 _QCspPT' c 18.4.5 方法 353 Q%4>okj, 18.4.6 变量声明 353 $oK,&_ 18.5 创建对象 354 ?bbu^;2*f 18.5.1 创建对象函数 355 o?uTL>Zin 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 '/
3..3k 18.5.3 丢弃对象 356 eG26m_S= 18.5.4 总结 356 u#XNl":x 18.6 脚本中的表格 357 *EOIgQp 18.6.1 方法1 357 >69xl^Gd 18.6.2 方法2 357 }_}C ^ 18.7 2D Plots in Scripts 358 M9*7r\hqYV 18.8 3D Plots in Scripts 359 pc}Q_~e 18.9 注释 360 e$QX?y . 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 SiHZco
I 18.11 一个更高级的脚本 362 M5 ep\^ 18.12 <esc>键 364 S:{hgi,T* 18.13 包含文件 365 #
4`*`)% 18.14 脚本被优化调用 366 zllY$V&<! 18.15 脚本中的对话框 368 @u3K.}i:g 18.15.1 介绍 368 7)G- EAF 18.15.2 消息框-MsgBox 368 ?m#X";^V 18.15.3 输入框函数 370 2J rr;"r 18.15.4 自定义对话框 371 4\<[y]pv 18.15.5 对话框编辑器 371 fKIwdk%!- 18.15.6 控制对话框 377 _m0HgLS~ 18.15.7 更高级的对话框 380 7}(LO^,A 18.16 Types语句 384 Ac<V!v71 18.17 打开文件 385 f33'2PYl 18.18 Bags 387 hu[=9#''$ 18.13 进一步研究 388 %stZ'IX 19 vStack 389 0iqa]Am 19.1 vStack基本原理 389 qQ%zSJ? 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 2?rg&og6 19.3 五棱镜 393 i{PRjkR 19.4 光束距离 396 /ow/)\/} 19.5 误差 399 ')I/D4v 19.6 二向分色棱镜 399 & PrV+Lv 19.7 偏振泄漏 404 w(n&(5FzB< 19.8 波前误差—相位 405 fHYEK~!C04 19.9 其它计算参数 405 Z'<=06 20 报表生成器 406 ymXR#E 20.1 入门 406 Fgxh?Wd9 20.2 指令(Instructions) 406 Qpiv,n 20.3 页面布局指令 406 ov zIJbf 20.4 常见的参数图和三维图 407 &$jg *Kr 20.5 表格中的常见参数 408 ]oP2T:A 20.6 迭代指令 408 b,/fz6
{N 20.7 报表模版 408 A_T-]YQ 20.8 开始设计一个报表模版 409 n@{fqj 21 一个新的project 413 fm87?RgXD 21.1 创建一个新Job 414 ?mS798=f 21.2 默认设计 415 A{\7HV 5 21.3 薄膜设计 416 D|9C|q 21.4 误差的灵敏度计算 420 o %A4wEye 21.5 显色指数计算 422 %l[Cm4 21.6 电场分布 424 :1eI"])( 后记 426 `23&vGk} =A9>Ej/ nCh9IF[BL/ 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 }b2U o&][ ?2OT :/ I, 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] 4z Af|Je % ~J90a 目 录 nVw]0Yl ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :ZL;wtT 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 wwnc 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 -'3vQXj& 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 n_AW0i. 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 lYv : 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Wt()DG|[ 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 AvRZf-Geg 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 :aLShxKA 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 N+\#k*n? 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Q#urx^aw 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 5|x&Z/hL 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 = t<!W 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 u!oHP 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 pZ+zm6\$ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Usk@{ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ?`AzgM[I qi`*4cas*A 价 格:400元
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