上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 S}Wj.l+F 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 $'CS/U`E} 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 "\Dqtr w 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 pWE(?d_M{G 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 lGahwn: [attachment=120542] mN{H^ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 7)D[ }UXz 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 38-kl,Vw 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 7p'pz8n`X 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 !lg_zAV 1. Essential Macleod软件介绍 KU"+i8" 1.1 介绍软件 PSAEW.L 1.2 创建一个简单的设计 9E5*%Hu_ 1.3 绘图和制表来表示性能 Zt41f PQ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 m==DBh 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 5/6Jq 1.6 特定设计的公式技术 j/oc+ M^ 1.7 交互式绘图 _)pOkS 2. 光学薄膜理论基础 v"
#8^q 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 VXk[p 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 3bGU;2~} 3. 材料管理 ]4c*Nh%8 3.1 材料模型 Vq#0MY)2gS 3.2 介质薄膜光学常数的提取 d\Up6F 3.3 金属薄膜光学常数的提取 *>aVU' 3.4 基板光学常数的提取 Cs"ivET 4. 光学薄膜设计优化方法 ;L76V$& 4.1 参考波长与g )RFY2} 4.2 四分之一规则 Ot=nKdP}D 4.3 导纳与导纳图 N49{J~ 4.4 斜入射光学导纳 ci?\W6 4.5 光学薄膜设计的进展 u-.5rH l 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 pIrL7Pb0 4.6.1 优化目标设置 D)4#AI 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 6C"${}SF` 4.6.3 膜层锁定和链接 KX\=wFbP) 5. Essential Macleod中各个模块的应用 3`3my= 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Su@V5yz 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ae3 Gn}tf 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ulg= ,+%r 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 0%rE*h9+ 5.5 如何在Function中编写脚本 :zIB3nT^ 6. 光学薄膜系统案例 ]GHw~s? 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 2sqH
>fen 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 M?sTz@tqq 6.3 Stack应用范例说明 2GigeN|1N 7. 薄膜性能分析 Rbgy?8#9 7.1 电场分布 mm!JNb9( 7.2 公差与灵敏度分析 /i!/)]*- 7.3 反演工程 T{3-H(-gA 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 I+Qt5Ox 8. 真空技术 jv29,46K 8.1 常用真空泵介绍 /55 3v;l< 8.2 真空密封和检漏 (3x2^M8 9. 薄膜制备技术 AKLFUk 9.1 常见薄膜制备技术 o<s~455m/ 10. 薄膜制备工艺 .db:mSrL 10.1 薄膜制备工艺因素 1,P2}mYv 10.2 薄膜均匀性修正技术 6m(+X
MS 10.3 光学薄膜监控技术 {^:i}4ZRl 11. 激光薄膜 +:C.G[+ 11.1 薄膜的损伤问题 HN;f~EQT 11.2 激光薄膜的制备流程 _w <6o<@ 11.3 激光薄膜的制备技术 G!F_Q7|- 12. 光学薄膜特性测量 nH?#_ 5F1 12.1 薄膜光谱测量 ? R[GSS1 12.2 薄膜光学常数测量 sx[mbKj< 12.3 薄膜应力测量 0LHge7482 12.4 薄膜损伤测量 SrdCLT8 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] Ln h'y`q
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] cE,,9M@^
内容简介 apxq] !
` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &oVZ2.O#( 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 rUB67ok* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ZOJ7^g bC&xN@4
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ^!(tc=sr CfOhk 目录 ~fpk`&nhe Preface 1 ))6iVgSE$ 内容简介 2 VRv.H8^{ 目录 i {4R;C~E8 1 引言 1 2F,?}jJ.K 2 光学薄膜基础 2
Es:oXA 2.1 一般规则 2 y.Yni*xt/ 2.2 正交入射规则 3 $L]E<
gWrP 2.3 斜入射规则 6 ,UT :wpc^i 2.4 精确计算 7 >hotkMX `3 2.5 相干性 8 @A%\;oo 2.6 参考文献 10 cbx(
L8 3 Essential Macleod的快速预览 10 w^ 8^0i- 4 Essential Macleod的特点 32 ot^$/(W 4.1 容量和局限性 33 Zr!CT5C5 4.2 程序在哪里? 33 >lK:~~1 4.3 数据文件 35 Ve\!:,(Y_ 4.4 设计规则 35 wqQrby< 4.5 材料数据库和资料库 37 hya
$Vp 4.5.1材料损失 38 AT^MQvn
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]<o^Q[OL 4.5.2 材料库 41 LaIH3!M3 4.5.3导出材料数据 43 n]_<6{: U 4.6 常用单位 43 _7-P8"m 4.7 插值和外推法 46 `uqsYY`V 4.8 材料数据的平滑 50 Z#_VxA>]v 4.9 更多光学常数模型 54 R8u9tTW 4.10 文档的一般编辑规则 55 J35[GZ';D 4.11 撤销和重做 56 r}XsJ$ 4.12 设计文档 57 p@=B\A] 4.10.1 公式 58 5AAPtZ\lH 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 4
eP-yi 4.10.3 沉积密度 59 z]Mu8 4.10.4 平行和楔形介质 60 ddeH-Z 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 A|0\ct 4.10.4 性能 61 l$!g#?w 4.10.5 保存设计和性能 64 wArtg'=X 4.10.6 默认设计 64 }mQh^ 4.11 图表 64 v0~*?m4 4.11.1 合并曲线图 67 q;qY#wD@ 4.11.2 自适应绘制 68 X$$b :q 4.11.3 动态绘图 68 G2_l}q~ 4.11.4 3D绘图 69 i<uk} 4.12 导入和导出 73 JKYkS*.a} 4.12.1 剪贴板 73 .:+&2#b 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 IqmQQ_KH 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ew6\Z$1c~ 4.13 背景 77 F5EsaF'e4 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 e^Lt{/ 4.15 生成Rugate 84 vZ2/>}!Z= 4.16 参考文献 91 h*X
u/aOg 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ePwoza
5.1 Jobs 92 j[YO1q* 5.2 创建一个新Job(工作) 93 7S]akcT/ 5.3 输入材料 94 `Ot;KDz 5.4 设计数据文件夹 95 km#Rh^ 5.5 默认设计 95 :k.C|V!W 6 细化和合成 97 }Dc?Emb 6.1 优化介绍 97 `!iVMTp 6.2 细化 (Refinement) 98 g6 T /k7a 6.3 合成 (Synthesis) 100 roG f
& 6.4 目标和评价函数 101 ;b1*2- 6.4.1 目标输入 102 D^JuL6U 6.4.2 目标 103 aY@st]p 6.4.3 特殊的评价函数 104 i\u m;\ 6.5 层锁定和连接 104 JRl`evTS 6.6 细化技术 104 3XomnL{ 6.6.1 单纯形 105 9zK5Y+! 6.6.1.1 单纯形参数 106 :raYt5n1,y 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 1K'.QRZMb9 6.6.2.1 Optimac参数 108 F~_)auH 6.6.3 模拟退火算法 109 Yv [j5\:x 6.6.3.1 模拟退火参数 109 X$4 5<oz 6.6.4 共轭梯度 111 A#B6]j) 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 $s-HG[lX[ 6.6.5 拟牛顿法 112 L[FNr& 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 i=G.{. 6.6.6 针合成 113 8 m
T..23 6.6.6.1 针合成参数 114 Kn<z<>vO 6.6.7 差分进化 114 m"Y|xvIA 6.6.8非局部细化 115 ?~>#(Q 6.6.8.1非局部细化参数 115 JQ.w6aE 6.7 我应该使用哪种技术? 116 OCVF+D : 6.7.1 细化 116 tag~SG`ov 6.7.2 合成 117 :.
ja~Q 6.8 参考文献 117 ]B"YW_.x2 7 导纳图及其他工具 118 4-: TQp( 7.1 简介 118 GGR hM1II 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 E1e#E3Yq}s 7.2.1 四分之一波长规则 119 oAgO3x
7.2.2 导纳图 120 M4 :}`p=
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 p;VHg 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 `II/nv0jn 7.5 斜入射导纳图 141 U0kEhMIIf 7.6 对称周期 141 H/Fq'FsQB 7.7 参考文献 142 \D37l_ 8 典型的镀膜实例 143 9"YOj_z 8.1 单层抗反射薄膜 145 p kR+H| 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 *[eh0$ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 YQI&8~z 8.4 W-膜层 148 ,^UNQO*{GI 8.5 V-膜层 149 k*8
ld-O 8.6 V-膜层高折射基底 150 pU |SUM 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 )./%/
_*K 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 FM3DJ?\L- 8.9 四层抗反射薄膜 153 T53|*~u 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ~#b&UR 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 {u}Lhv 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 mqg[2VTRP 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2vit{ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 |oSx*Gh 8.15十五层宽带抗反射膜 159 j<LDJi>O 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 8Jd\2T7 h 8.17 1/4波长堆栈 162
j'V# =vH 8.18 陷波滤波器 163 t6u01r{~` 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 *$ihNX]YG 8.20 褶皱 165 <XV\8Y+n 8.21 消偏振分光器1 169 V+mTo^ 8.22 消偏振分光器2 171 >~kSe=Hsb4 8.23 消偏振立体分光器 172 4$=Dq$4z 8.24 消偏振截止滤光片 173 xsq+RBJi 8.25 立体偏振分束器1 174 os]P6TFFX? 8.26 立方偏振分束器2 177 0!c^pOq6 8.27 相位延迟器 178
=jX'FNv# 8.28 红外截止器 179 .I@jt?6X 8.29 21层长波带通滤波器 180 g$\Z-!( 8.30 49层长波带通滤波器 181 RQZ|:SvV 8.31 55层短波带通滤波器 182 ~
l'dpg 8.32 47 红外截止器 183 v}v! hs Q 8.33 宽带通滤波器 184 |d* K'+ 8.34 诱导透射滤波器 186 S?bG U8R5 8.35 诱导透射滤波器2 188 a_UVb'z 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 .cTK\ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 n_Ht{2I 8.35 增益平坦滤波器 193 m8q3Pp 8.38 啁啾反射镜 1 196 |Go?A/' 8.39 啁啾反射镜2 198 Xi]WDH \ 8.40 啁啾反射镜3 199 cC_L4 8.41 带保护层的铝膜层 200 l@8UL</W 8.42 增加铝反射率膜 201 ydCVG," 8.43 参考文献 202 @Fp-6J 9 多层膜 204 AZ7 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 +`_I! 9.2 内部透过率 204 Kp+Lk 9.3 内部透射率数据 205 ?qeBgkL(B^ 9.4 实例 206 kMGK8y 9.5 实例2 210 OIK14D: 9.6 圆锥和带宽计算 212 +UxhSFU 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 7a@%^G @! 10 光学薄膜的颜色 216 9{?L3V!+r 10.1 导言 216 [Yx)`e 10.2 色彩 216 e>-a\g 10.3 主波长和纯度 220 D@V1}/$UoN 10.4 色相和纯度 221 etX&o5A 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 2 0Xqs, 10.6 色差 226 HSk gS 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 x~Egax 10.8 颜色渲染指数 234 :/N/u5.] 10.9 色差计算 235 IR (6 10.10 参考文献 236 4~Ptn / g 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 biCX:m+_? 11.1 短脉冲 238 LFsrqdzJ 11.2 群速度 239 7Vf2Qx1_ 11.3 群速度色散 241 ceakTAB[ 11.4 啁啾(chirped) 245 -9XB.)\# 11.5 光学薄膜—相变 245 sp4J%2b 11.6 群延迟和延迟色散 246 xkIRI1*! 11.7 色度色散 246 Vy-EY*r| 11.8 色散补偿 249 oT7= 11.9 空间光线偏移 256 H[ 6L! 11.10 参考文献 258 olNgtSX 12 公差与误差 260
uqy b 12.1 蒙特卡罗模型 260 \#P>k;D 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 d,fX3 12.2.1 误差工具 267 |=C&JA 12.2.2 灵敏度工具 271 3/P#2&jt 12.2.2.1 独立灵敏度 271 lW^bn(_gQ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 EP.nVvuL 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 =yv_i]9AN 12.3 参考文献 276 ~$1Zw&X 13 Runsheet 与Simulator 277 {{b&l! 13.1 原理介绍 277 ecK{+Z'G 13.2 截止滤光片设计 277 5"4O_JQ 14 光学常数提取 289 u~#QvA~] 14.1 介绍 289 60KhwD1 14.2 电介质薄膜 289 j9zK=eG 14.3 n 和k 的提取工具 295 ,wJ#0? 14.4 基底的参数提取 302 I\JJ7/S`t 14.5 金属的参数提取 306 pyEi@L1p 14.6 不正确的模型 306 2ZMYA=[! 14.7 参考文献 311 <eU28M?\ 15 反演工程 313 8}m bfuo1 15.1 随机性和系统性 313 `=A*ei5 15.2 常见的系统性问题 314 k r0PL)$ 15.3 单层膜 314 Mp:/[%9Fi 15.4 多层膜 314 \%nFCK0 15.5 含义 319 [#y/` 15.6 反演工程实例 319 h+e Oe} 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 gxEa?QH 15.6.2 反演工程提取折射率 327 1eC1Cyw 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Si,[7um 16.1 光学性质的热致偏移 329 6LUO 16.2 应力工具 335 wB6ILTu1 16.3 均匀性误差 339 'p=5hsG 16.3.1 圆锥工具 339 D9H(kk
16.3.2 波前问题 341 lv_|ws 16.4 参考文献 343 Nz`4q%+ 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 O>)<w
Ms` 17.1 引言 345 I@VhxJh 17.2 操作数 345 0-H! \IB 18 如何在Function中编写脚本 351 WVc3C-h, 18.1 简介 351 "(y",!U@ 18.2 什么是脚本? 351 >C"f'!oM,j 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 Qq;` 9-&j 18.4 基础 352 TRwlUC3hQ 18.4.1 Classes(类别) 352 0HUSN_3F 18.4.2 对象 352 aC0[ OmbG 18.4.3 信息(Messages) 352 >$=-0?. 18.4.4 属性 352 :'aT4 18.4.5 方法 353 cstSLXD 18.4.6 变量声明 353 &fJ92v?%^S 18.5 创建对象 354 Qmxe*@{` 18.5.1 创建对象函数 355 Jy)E!{#x 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 6e,|HV 18.5.3 丢弃对象 356 Ad)Po 18.5.4 总结 356 ^R* _Q,o# 18.6 脚本中的表格 357 aY 8"Sw|4 18.6.1 方法1 357 c|<*w[%C 18.6.2 方法2 357 (4_7ICFI 18.7 2D Plots in Scripts 358 -x~h.s, 18.8 3D Plots in Scripts 359 WPVur{?< 18.9 注释 360 Q3MG+@) S 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 `YTagUq7 18.11 一个更高级的脚本 362 x\t)uM% 18.12 <esc>键 364 |4uH 18.13 包含文件 365 jR-`ee}y2 18.14 脚本被优化调用 366 *Dr -{\9 18.15 脚本中的对话框 368 '>[l1<d!G 18.15.1 介绍 368 7Iu^l4=2 18.15.2 消息框-MsgBox 368 OjxaA[$ 18.15.3 输入框函数 370 BrYU*aPW; 18.15.4 自定义对话框 371 ,bT|:T@ny 18.15.5 对话框编辑器 371 L3:dANG 18.15.6 控制对话框 377 yM$@*od 18.15.7 更高级的对话框 380 DQ7+ 18.16 Types语句 384 m&/{iCwp 18.17 打开文件 385 %bo0-lnp 18.18 Bags 387 C"bG?Mb 18.13 进一步研究 388 vK2sj1Hzr 19 vStack 389 (.Hiee43 19.1 vStack基本原理 389 @y%4BU&>0 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 x`8rR;N! 19.3 五棱镜 393 rU?sUm,ch 19.4 光束距离 396 0r?975@A 19.5 误差 399 pG?AwB~@n 19.6 二向分色棱镜 399 %H=d_Nm{ 19.7 偏振泄漏 404 PW(4-H 19.8 波前误差—相位 405 ConXP\M- 19.9 其它计算参数 405 ]v=*WK 20 报表生成器 406 >ZMB}pt` 20.1 入门 406 v"M5';ZS> 20.2 指令(Instructions) 406 E(DNK 20.3 页面布局指令 406 &u5OL?> 20.4 常见的参数图和三维图 407 ^Rr0)4ns 20.5 表格中的常见参数 408 _ndc^OG 20.6 迭代指令 408 }*.S=M]y$ 20.7 报表模版 408 4yhan/zA 20.8 开始设计一个报表模版 409 [fF0Qa- 21 一个新的project 413 `.3! 21.1 创建一个新Job 414 qEvHrsw}, 21.2 默认设计 415 r0ml|PX 21.3 薄膜设计 416 '6l4MR$j&m 21.4 误差的灵敏度计算 420 VC%{qal;q 21.5 显色指数计算 422 IS *-MLi 21.6 电场分布 424 Oax*3TD 后记 426 [J0f:&7\ @c&}\#; 8bQ\7jb 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 @<]sW*s D$C >ZF 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] nx#0*r}5 ks92-%;: 目 录 r!H'8O! ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 (S1c6~ 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 BJGL &N 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 *'5)CC 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 C:S*juK 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 2aQR#lcv 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ?f@g1jJP 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 32yGIRV 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ?y1']GAo 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 8<BYAHY^ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 WZz8VF 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ><<(6 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ,;3#}OGg 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 y|r+< 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 }xZR`xP( 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =T_E]>FF9 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ^L}ICm_# Y0nnn 价 格:400元
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