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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 =27ZY Z  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 srH.$Y;~  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 @`aPr26>?  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 5Trc#i<\  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ucUu hS5  
[attachment=120542]  ;ih;8  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 8x9;3{R   
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 0&c<1;  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 T^Hq 5Oy  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 }U**)"  
1. Essential Macleod软件介绍 9/O\769"'  
1.1 介绍软件 9<5ii  
1.2 创建一个简单的设计 L tK,_j  
1.3 绘图和制表来表示性能 'i 8`LPQ  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 x/%/MFK)>8  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) cd4HbSp  
1.6 特定设计的公式技术 % xBQX  
1.7 交互式绘图 4!Lj\.!$  
2. 光学薄膜理论基础  xC2y/ ?  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 3 op{h6  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 %/RT}CBBsW  
3. 材料管理 i$H9~tPs  
3.1 材料模型 -c %'f&P  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 IC-W[~  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 H WFnIUv  
3.4 基板光学常数的提取 .<6'*X R  
4. 光学薄膜设计优化方法 /=KEM gI?  
4.1 参考波长与g m2Wi "X(I_  
4.2 四分之一规则 3GXmyo:o$  
4.3 导纳与导纳图 &Vg)/t;  
4.4 斜入射光学导纳 ^C;ULUn3  
4.5 光学薄膜设计的进展 'Ge8l%p  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Y7 e1%,$v  
4.6.1 优化目标设置 "1hFx=W+\  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Q=^TKsu  
4.6.3 膜层锁定和链接 ](z*t+">  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 *Q;?p hr  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 m|PJwd6  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 A#]78lR  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 e,l-}=5* P  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 4C9k0]k2  
5.5 如何在Function中编写脚本 _Pn 1n  
6. 光学薄膜系统案例 7~VDk5Z6  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 M/YS%1  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Dc0CQGx9b  
6.3 Stack应用范例说明 i.e4<|{  
7. 薄膜性能分析 @E=77Jn[px  
7.1 电场分布 Y$W)JWMY`  
7.2 公差与灵敏度分析 Lg|]|,%e  
7.3 反演工程 *Z3b6X'e  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 -6# _t  
8. 真空技术 Sea6xGdq  
8.1 常用真空泵介绍 2 e&M/{  
8.2 真空密封和检漏 F:LrQu  
9. 薄膜制备技术 Am#Pa,g  
9.1 常见薄膜制备技术 >txeo17Ba\  
10. 薄膜制备工艺 Tj!rAMQk  
10.1 薄膜制备工艺因素 wM! dz&  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ]aYuBoj  
10.3 光学薄膜监控技术 (SByN7[g b  
11. 激光薄膜 G'{&*]Z\:  
11.1 薄膜的损伤问题 rW`l1yi*$  
11.2 激光薄膜的制备流程 TpxAp',#7  
11.3 激光薄膜的制备技术 Ij:yTu   
12. 光学薄膜特性测量 6u{%jSA>D\  
12.1 薄膜光谱测量 d1 lxz?r  
12.2 薄膜光学常数测量 @%r "7%tq>  
12.3 薄膜应力测量 Fm+V_.H/;  
12.4 薄膜损伤测量 ,?wxW  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
{5c]\{O?[  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
 Au*1-  
内容简介 }Zfi/^0U  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 z<8VJZd  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 N\Ab0mDOV.  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Op hD_^  
%I@ vMs^  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
~iq=J5IN#  
$}=r 45e0K  
目录 K+Pa b ?  
Preface 1 )*aAkM  
内容简介 2 3!i{4/  
目录 i x\YVB',h  
1  引言 1 ^grDP*;W  
2  光学薄膜基础 2 7yOBxb   
2.1  一般规则 2 Jv!f6*&<  
2.2  正交入射规则 3 N[N4!k )!$  
2.3  斜入射规则 6 kH4m6p  
2.4  精确计算 7 *?+2%zP  
2.5  相干性 8 (*\y  
2.6 参考文献 10 =FfR?6 ~  
3  Essential Macleod的快速预览 10 (iht LFp  
4  Essential Macleod的特点 32 +P.JiH`\=  
4.1  容量和局限性 33 VREDVLQT  
4.2  程序在哪里? 33 t<%+))b  
4.3  数据文件 35 " +hUt  
4.4  设计规则 35 )M8@|~~  
4.5  材料数据库和资料库 37 ^!x qOp!  
4.5.1材料损失 38 |7!Bk$(vA  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 =>7czw:S 1  
4.5.2 材料库 41 m3XT8F*&  
4.5.3导出材料数据 43 X n Rm9%  
4.6  常用单位 43 UU ' 9  
4.7  插值和外推法 46 7mL1$i6=  
4.8  材料数据的平滑 50 S KGnx  
4.9 更多光学常数模型 54 kH=qJ3Z  
4.10  文档的一般编辑规则 55 M{p9b E[j  
4.11 撤销和重做 56 1[\I9dv2  
4.12  设计文档 57 WN o+%  
4.10.1  公式 58 LN9.Q'@r?  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "@rHGxK  
4.10.3  沉积密度 59 (U:6vk3Q  
4.10.4 平行和楔形介质 60 MPLeqk$;  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 2~h Q   
4.10.4  性能 61 D3y4e8+Z'  
4.10.5  保存设计和性能 64 "WH &BhQYD  
4.10.6  默认设计 64 `0-i>>  
4.11  图表 64 V=c?V/pl  
4.11.1  合并曲线图 67 epcvwM/A  
4.11.2  自适应绘制 68 M`xI N~  
4.11.3  动态绘图 68 p$<){,R  
4.11.4  3D绘图 69 tR_DN  
4.12  导入和导出 73 &09G9GsnQ  
4.12.1  剪贴板 73 :)Da^V  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 4 &0MB>m  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 E&Sr+D aPD  
4.13  背景 77 B0^:nYko  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 m3|l-[!OA"  
4.15  生成Rugate 84 4ZB]n,pfT  
4.16  参考文献 91 Kc+9n%sp  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 <iM}p^jX9  
5.1  Jobs 92 Gz7,g Y  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 H-8_&E?6m  
5.3  输入材料 94 ~u r}6T  
5.4  设计数据文件夹 95 51'V[tI;8  
5.5  默认设计 95 .L ^F4  
6  细化和合成 97 " pL5j  
6.1  优化介绍 97 }RQ'aeVl(  
6.2  细化 (Refinement) 98 xww\L &y  
6.3  合成 (Synthesis) 100 (AHTv8  
6.4  目标和评价函数 101 q'jInwY|x  
6.4.1  目标输入 102 sO)!}#,   
6.4.2  目标 103 YW"nPZNPy~  
6.4.3  特殊的评价函数 104 XOEf,"  
6.5  层锁定和连接 104 vQ[ Tc V  
6.6  细化技术 104 4n%|h-!8  
6.6.1  单纯形 105 )7WLbj!M  
6.6.1.1 单纯形参数 106 7s;*vd>  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 u#0EZ2 >#  
6.6.2.1 Optimac参数 108 H)K.2Q  
6.6.3  模拟退火算法 109 / q^_ 'Lp  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ua+Us"M3}  
6.6.4  共轭梯度 111 TaZlfe5z  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 I2?g'tz  
6.6.5  拟牛顿法 112 Dj w#{WR  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 07Oagq(  
6.6.6  针合成 113 %3q7i`AZ  
6.6.6.1 针合成参数 114 GGFrV8  
6.6.7 差分进化 114 kb'l@d#E  
6.6.8非局部细化 115 T"E%;'(cp)  
6.6.8.1非局部细化参数 115 dz?Ey~;M  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 5_SxX@fW %  
6.7.1  细化 116 ]kH8T'  
6.7.2  合成 117 l{. XhB  
6.8  参考文献 117 sA+( |cEh  
7  导纳图及其他工具 118 S|_lb MZM  
7.1  简介 118 D*8oFJub  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 G)%r|meKGB  
7.2.1  四分之一波长规则 119 #}8gHI-9%  
7.2.2  导纳图 120 K ?V' ?s  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 YTfMYH=}  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 j7C&&G q  
7.5  斜入射导纳图 141 QB7^8O!<  
7.6  对称周期 141 a<Ps6'  
7.7  参考文献 142 vFK(Dx  
8  典型的镀膜实例 143 5I5#LQv0  
8.1  单层抗反射薄膜 145 q)]S:$?BT  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 +VHo YEW  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 _u;34H&/  
8.4  W-膜层 148 0f,Ii_k bT  
8.5  V-膜层 149 3L;&MG=  
8.6  V-膜层高折射基底 150 M_\)<a(8  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 `R:HMO[ow  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 " R-Pe\W  
8.9  四层抗反射薄膜 153 TzsNhrU{  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 >8DZj&j  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 M\=/i\-  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 YuzgR;Z  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 0,m@BsK  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 tVAH\*a,/  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 (M,*R v  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 2tdr1+U?g  
8.17  1/4波长堆栈 162 N#vV;  
8.18  陷波滤波器 163 .T7S1C $HP  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Fx@@.O6  
8.20  褶皱 165 ],Y+|uX->  
8.21  消偏振分光器1 169 )>WSuf j  
8.22  消偏振分光器2 171 M"z3F!-j  
8.23  消偏振立体分光器 172 ]q@W(\I  
8.24  消偏振截止滤光片 173 uJ%XF*>_D  
8.25  立体偏振分束器1 174 qF4pTQf  
8.26  立方偏振分束器2 177  .KE2sodq  
8.27  相位延迟器 178 |FZIUS{]  
8.28  红外截止器 179 'U4@Sax,  
8.29  21层长波带通滤波器 180 SWMi+)  
8.30  49层长波带通滤波器 181 c`!8!R  
8.31  55层短波带通滤波器 182 \oAxmvt  
8.32  47 红外截止器 183 LF_am*F  
8.33  宽带通滤波器 184 M1=y-3dW3  
8.34  诱导透射滤波器 186 -wn(J5NnR  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ?1/wl;=fm  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 OEj%cB!  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 9rQw~B<S  
8.35  增益平坦滤波器 193 ScTeh  
8.38  啁啾反射镜 1 196 kI#yW!  
8.39  啁啾反射镜2 198 c!>",rce  
8.40  啁啾反射镜3 199 F7qQrE5bl  
8.41  带保护层的铝膜层 200 8nHFNOv6  
8.42  增加铝反射率膜 201 X5Ff2@."y|  
8.43  参考文献 202 EyPF'|Qtn  
9  多层膜 204 ~JxAo\2i  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 rTLo6wI  
9.2  内部透过率 204 aG/L'weR  
9.3 内部透射率数据 205 St~a/L q6  
9.4  实例 206 hS:j$j e  
9.5  实例2 210 YNWAef4  
9.6  圆锥和带宽计算 212 gAViwy9{  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 FQ6{NMz,h  
10  光学薄膜的颜色 216 9Y-6e0B:  
10.1  导言 216 \j3XT}  
10.2  色彩 216 :ODG]-QF  
10.3  主波长和纯度 220 'Gds?o8  
10.4  色相和纯度 221 $sR-J'EE!  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 9x9~u8j  
10.6 色差 226 7"Iagrgw  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 +b6kU{  
10.8  颜色渲染指数 234 4?9cyv4H  
10.9  色差计算 235 ,mW-O!$3W  
10.10  参考文献 236 V61.UEN  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 h"5!puN+  
11.1  短脉冲 238 f1UGDC<p9  
11.2  群速度 239 /J0ctJ2k  
11.3  群速度色散 241 # ~T K C|G  
11.4  啁啾(chirped) 245 \Z%V)ZRi=  
11.5  光学薄膜—相变 245 q(cSHHv+  
11.6  群延迟和延迟色散 246 h$eVhN &Vv  
11.7  色度色散 246 !]z6?kUK  
11.8  色散补偿 249 EkEU}2  
11.9  空间光线偏移 256 $f]dL};  
11.10  参考文献 258 8]-c4zK  
12  公差与误差 260 p6e9mSs  
12.1  蒙特卡罗模型 260 gXI8$W>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 V57tn6 >b  
12.2.1  误差工具 267 pJ 7="n  
12.2.2  灵敏度工具 271 .kkrU  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 vD*9b.*  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 +HOHu*D  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 v&i,}p^M5  
12.3  参考文献 276 -YHyJs-bU  
13  Runsheet 与Simulator 277 ~)&im.Q4  
13.1  原理介绍 277 ' ;PHuMY#X  
13.2  截止滤光片设计 277 X0QLT:J b  
14  光学常数提取 289 c_YP#U  
14.1  介绍 289 $"G=r(MW  
14.2  电介质薄膜 289 4(FEfde=  
14.3  n 和k 的提取工具 295 >m;*Zk`  
14.4  基底的参数提取 302 ]aF!0Fln~  
14.5  金属的参数提取 306 RRH[$jk  
14.6  不正确的模型 306 /}=Bi-  
14.7  参考文献 311 9:tn! <^=I  
15  反演工程 313 }yW*vy6`  
15.1  随机性和系统性 313 YZH &KGY  
15.2  常见的系统性问题 314 8hx 3pvmk  
15.3  单层膜 314 %+,7=Wt-  
15.4  多层膜 314 BCtm05  
15.5  含义 319 zU1[+JJY"{  
15.6  反演工程实例 319 Hkck=@>8H*  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 {a `#O9  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 S=bdue  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 ) HN,Az"  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ') -Rv]xe  
16.2  应力工具 335 x.OCE`  
16.3  均匀性误差 339 Os# V=P  
16.3.1  圆锥工具 339 m|5yET  
16.3.2  波前问题 341 L93KsI  
16.4  参考文献 343 7CKh?>  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 c<gvUVHIxR  
17.1  引言 345 {tlt5p!4  
17.2  操作数 345 ;%H/^b.c  
18  如何在Function中编写脚本 351 sC=fXCGW\p  
18.1  简介 351 Y79{v nlGk  
18.2  什么是脚本? 351 17nONhh  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 mSu1/?PS  
18.4  基础 352 psHW(Z8G  
18.4.1  Classes(类别) 352 C/{tvY /o  
18.4.2  对象 352 CQ+WBTiC  
18.4.3  信息(Messages) 352 5|E_ ,d!v  
18.4.4  属性 352 ;ESuj'*t  
18.4.5  方法 353 3:;2Av2(X.  
18.4.6  变量声明 353 !VJ5(b  
18.5  创建对象 354 #6%9*Rh  
18.5.1  创建对象函数 355 e viv,  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 fq"<=  
18.5.3 丢弃对象 356 rz @;Zn  
18.5.4  总结 356 C/w!Y)nB=  
18.6  脚本中的表格 357 xxlYn9ke  
18.6.1  方法1 357 lQolE P.pc  
18.6.2  方法2 357 .Y"H{|]Mnh  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ^Cs5A0xo#s  
18.8 3D Plots in Scripts 359 OEN!~-u  
18.9  注释 360 ; iK9'u  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 :i4>&4j  
18.11  一个更高级的脚本 362 HJn  
18.12  <esc>键 364 3 oG5E"G  
18.13 包含文件 365 O#e'.n!rI  
18.14  脚本被优化调用 366 <opBOZ d  
18.15  脚本中的对话框 368 W\tSXM-Hg  
18.15.1  介绍 368 ]i3 1@O  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 G:]w UC\  
18.15.3  输入框函数 370 x-:a5Kz!  
18.15.4  自定义对话框 371 PV*U4aP  
18.15.5  对话框编辑器 371 u5, \Kz  
18.15.6  控制对话框 377 q~^qf  
18.15.7  更高级的对话框 380 @GB~rfB[  
18.16 Types语句 384 kAEm#oz=g  
18.17 打开文件 385 j5,vSh~q;'  
18.18 Bags 387 0t-!6  
18.13  进一步研究 388 39w|2%(O.  
19  vStack 389 :CQ-?mT^LA  
19.1  vStack基本原理 389 c:/ H}2/C  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 se)vi;J7K  
19.3  五棱镜 393 2\Vzfca  
19.4 光束距离 396 M mjeFv  
19.5 误差 399 z4 snH%q  
19.6  二向分色棱镜 399 [ ET03 nZ  
19.7  偏振泄漏 404 , 8NY<sFh  
19.8  波前误差—相位 405 a| *{BlY  
19.9  其它计算参数 405 ~"E@do("  
20  报表生成器 406 ~f[AEE~,s+  
20.1  入门 406 bN6FhKg|  
20.2  指令(Instructions) 406 E6{|zF/3'  
20.3  页面布局指令 406 Sc!{ o!9\  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;$Eg4uX  
20.5  表格中的常见参数 408 poqcoSL"}  
20.6  迭代指令 408 a)+;<GZ~  
20.7  报表模版 408 /e^q>>z  
20.8  开始设计一个报表模版 409 <5s51b <  
21  一个新的project 413 t,*hxzD"  
21.1  创建一个新Job 414 f_*Bd.@  
21.2  默认设计 415 ".9 b}}  
21.3  薄膜设计 416 eB`7C"Z  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ohFUy}y  
21.5  显色指数计算 422 TwlrncK*  
21.6  电场分布 424 >Cb[  
后记 426 D0(%{S^  
,;aELhMZ  
mCa [?  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 LRqBP|bjCD  
d]JiJgfa%  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
KaJCfu yp  
#K|:BS  
目  录 [xF(t @p  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Pg]&^d&$  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 H'fmQf  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 !2)$lM1@J  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 NuLyu=.?  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Iv6(Z>pAB  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 '!)|;qe  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 }uJH!@j  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 mHqw,28}  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 oUMY?[Wp  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 }H!l@  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 GA, 6G [E  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 "r6DZi(^K  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 rkF]Q_'`t;  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 :G/T{87H  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @`&kn;7T  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ]] R*sd*  
9?xMsu-H  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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