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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 M6 "PX *K  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 'x#~'v*  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 tKOmoC  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 C_}]`[  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 KxJ!,F{>H  
[attachment=120542] Ju@c~Xm  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ?=sDM& '  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 *a M=Z+  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 hR?{3d#x2  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 2~)`N>@  
1. Essential Macleod软件介绍 I3L<[-ZE  
1.1 介绍软件 0*3R=7_},o  
1.2 创建一个简单的设计 I{ C SH  
1.3 绘图和制表来表示性能 {UI+$/v#  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 I5 p ? [  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) sUO`uqZV  
1.6 特定设计的公式技术 |tH4:%Q'  
1.7 交互式绘图  ?(1 y  
2. 光学薄膜理论基础 76{G'}B  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 tCH!my_  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 MAR'y8I  
3. 材料管理 ~Fcm[eoC  
3.1 材料模型 ~!d\^Z^i  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 +Mb.:_7'  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 _1\v  
3.4 基板光学常数的提取 L,/%f<wd  
4. 光学薄膜设计优化方法 %$Tji  
4.1 参考波长与g eu-*?]&Di  
4.2 四分之一规则 tXs\R(?T  
4.3 导纳与导纳图 c7k~S-nU  
4.4 斜入射光学导纳 &DX! f  
4.5 光学薄膜设计的进展 =&]g "a'  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 IM'r8 V  
4.6.1 优化目标设置 -uG +BraI  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) (y~TL*B  
4.6.3 膜层锁定和链接 JX;G<lev  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 WSB 0~+  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 `*R:gE=  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Z@S3ZGe  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 *i%.;Z"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 D/&o& G96  
5.5 如何在Function中编写脚本 [}=B8#Jl-C  
6. 光学薄膜系统案例 45c$nuZ  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 UB@+c k  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 /W<;Z;zk  
6.3 Stack应用范例说明 KkbDW3-  
7. 薄膜性能分析 r`d4e,(  
7.1 电场分布 \Gvm9M  
7.2 公差与灵敏度分析 [RhO$c$[\  
7.3 反演工程 LU%E:i|  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 }&J q}j  
8. 真空技术 ~B?y{  
8.1 常用真空泵介绍 ^hM4j{|&M  
8.2 真空密封和检漏 29.h91  
9. 薄膜制备技术 @qAS*3j  
9.1 常见薄膜制备技术 f2`2,?  
10. 薄膜制备工艺 ]{@-HTt  
10.1 薄膜制备工艺因素 `Ggbi4),  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Z@!+v 19^  
10.3 光学薄膜监控技术 @# l= l  
11. 激光薄膜 VpDbHAg  
11.1 薄膜的损伤问题 7Ak6,BuI%  
11.2 激光薄膜的制备流程 n{mfn *r.  
11.3 激光薄膜的制备技术 gjDHo$  
12. 光学薄膜特性测量 0aB;p7~&  
12.1 薄膜光谱测量 eD6fpe\(  
12.2 薄膜光学常数测量 0 M[EEw3  
12.3 薄膜应力测量 !%c\N8<>GD  
12.4 薄膜损伤测量 q@8*Xa>  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
/*mI<[xb  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
E:nF$#<'N  
内容简介 lt8|9"9<  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 UZ+<\+q3^  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -uf|w?  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 eeB{c.#  
tG a8W  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
zK@@p+n_#.  
3 Za}b|  
目录 [{,1=AB  
Preface 1 l]8uk^E  
内容简介 2 T_4/C2  
目录 i XwaXdvmK  
1  引言 1 4,DeHJjAlE  
2  光学薄膜基础 2 ]}Yl7/gM1}  
2.1  一般规则 2 X'iWJ8  
2.2  正交入射规则 3 /7YIn3  
2.3  斜入射规则 6 KbeC"mi  
2.4  精确计算 7 %EB/b  
2.5  相干性 8 zTU0HR3A  
2.6 参考文献 10 }qD\0+`qi  
3  Essential Macleod的快速预览 10 >z@0.pN]7  
4  Essential Macleod的特点 32 +6+i!Sip  
4.1  容量和局限性 33 oUlVI*~ND  
4.2  程序在哪里? 33 |yPu!pfl  
4.3  数据文件 35 sfl<qD+?  
4.4  设计规则 35 N;`n@9BF  
4.5  材料数据库和资料库 37 0</);g}  
4.5.1材料损失 38 Y.p;1"  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^iV)MTT  
4.5.2 材料库 41 tKXIk9e  
4.5.3导出材料数据 43 }O p; g^W  
4.6  常用单位 43 )9]PMA?u  
4.7  插值和外推法 46 {+>-7 9b  
4.8  材料数据的平滑 50 )8ZH-|N`!E  
4.9 更多光学常数模型 54 f3y=Wxk[  
4.10  文档的一般编辑规则 55 j#4kY R{  
4.11 撤销和重做 56 2D5StCF$O  
4.12  设计文档 57 dk^~;m#iN  
4.10.1  公式 58 N8df8=.kw  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 493*{  
4.10.3  沉积密度 59 4#Jg9o   
4.10.4 平行和楔形介质 60 ,eS)e+yzc2  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 d&>^&>?$zh  
4.10.4  性能 61 "\yT7?},  
4.10.5  保存设计和性能 64 1< ?4\?j  
4.10.6  默认设计 64 $%f&a3#  
4.11  图表 64 2&cT~ZX&'  
4.11.1  合并曲线图 67 o)/ 0a  
4.11.2  自适应绘制 68 Zv{'MIv&v  
4.11.3  动态绘图 68 <:CkgR$/{  
4.11.4  3D绘图 69 P.DK0VgY  
4.12  导入和导出 73 ;$Jo+#  
4.12.1  剪贴板 73 }x ,S%M-  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 \Vk:93OH21  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 {M)Nnst"~  
4.13  背景 77 s5. CFA  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 #w=~lq)9  
4.15  生成Rugate 84 yB!dp;gM{  
4.16  参考文献 91 |w3M7;~eF  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 m]&SNz=  
5.1  Jobs 92 v"0J&7!J  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 3OB"#Ap8<  
5.3  输入材料 94 C,eu9wOT  
5.4  设计数据文件夹 95 dc'Y `e  
5.5  默认设计 95 qxc[M8s  
6  细化和合成 97 # f\rt   
6.1  优化介绍 97 $/ ],tSm  
6.2  细化 (Refinement) 98 N$tGQ@  
6.3  合成 (Synthesis) 100 5mR 1@  
6.4  目标和评价函数 101 -G=]=f/'  
6.4.1  目标输入 102 yt2PU_),  
6.4.2  目标 103 U $UIN#  
6.4.3  特殊的评价函数 104 1Z&(6cDY8M  
6.5  层锁定和连接 104 -:rUw$3J  
6.6  细化技术 104 \{D" !e  
6.6.1  单纯形 105 ;AG()NjOO:  
6.6.1.1 单纯形参数 106 !5N.B|N t  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 \{YU wKK/A  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Uw:"n]G]D?  
6.6.3  模拟退火算法 109 .RL=xb|[  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 G+m }MOQP7  
6.6.4  共轭梯度 111 2KZneS`  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 D6Wa.,r  
6.6.5  拟牛顿法 112 moE2G?R  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Tj- s4x  
6.6.6  针合成 113 Alq(QDs  
6.6.6.1 针合成参数 114 h@BY]80  
6.6.7 差分进化 114 "Y.y:Vv;  
6.6.8非局部细化 115 \)Cl%Em  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ]_$[8#kg  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 V~ _>U}  
6.7.1  细化 116 oL<St$1  
6.7.2  合成 117 qJw_  
6.8  参考文献 117 !Z6{9sKR=]  
7  导纳图及其他工具 118 ss-D(K"  
7.1  简介 118 " Yy n/  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 6w77YTJ  
7.2.1  四分之一波长规则 119 eV~goj  
7.2.2  导纳图 120 i@'dH3-kO  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 t$ *0{w E  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 T^q 0'#/  
7.5  斜入射导纳图 141 jj>]9z  
7.6  对称周期 141 A%-6`>  
7.7  参考文献 142 p b,. r  
8  典型的镀膜实例 143 b`_Q8 J  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Y9|!+,  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 #LCb  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ,u!sjx  
8.4  W-膜层 148 :Tq~8!s  
8.5  V-膜层 149 %XTI-B/K  
8.6  V-膜层高折射基底 150 :@&/kyGH  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Q@HV- (A  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 g,Y/M3>(  
8.9  四层抗反射薄膜 153 B erwI 7!=  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 D`AsRd  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .|=\z9_7S8  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 L%5%T;0'~  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 :Q q#Z  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 WPDyu.QD  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 h7@6T+#WoT  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ctV,Q3'Z  
8.17  1/4波长堆栈 162 E)3NxmM#  
8.18  陷波滤波器 163 mBC+6(5V  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?1".;foZ  
8.20  褶皱 165 2+O'9F_v  
8.21  消偏振分光器1 169 4.(4x&  
8.22  消偏振分光器2 171 =Runf +}  
8.23  消偏振立体分光器 172 PRT +mT  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ^}C\zW  
8.25  立体偏振分束器1 174 eiOW#_"\  
8.26  立方偏振分束器2 177 @|)Z"m7  
8.27  相位延迟器 178 H:\k}*w  
8.28  红外截止器 179 Ct|A:/z(  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $]8Q(/mbK  
8.30  49层长波带通滤波器 181 J-4:H gx  
8.31  55层短波带通滤波器 182 jq-_4}w?C  
8.32  47 红外截止器 183  LIdF 0  
8.33  宽带通滤波器 184 Np)lIGE  
8.34  诱导透射滤波器 186 1&$ nVQ  
8.35  诱导透射滤波器2 188 &~w}_Fjk  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 DeYV$W B  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 E!AE4B1bd  
8.35  增益平坦滤波器 193 WjjB<YKzF  
8.38  啁啾反射镜 1 196 p<;0g9,1  
8.39  啁啾反射镜2 198 {y;n:^  
8.40  啁啾反射镜3 199 QdC<Sk!G  
8.41  带保护层的铝膜层 200 R FH0  
8.42  增加铝反射率膜 201 *9i{,I@  
8.43  参考文献 202 #89!'W  
9  多层膜 204 \|ao`MMaD<  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 KY N0  
9.2  内部透过率 204 3k?X-|O8AZ  
9.3 内部透射率数据 205 ~v"L!=~G;a  
9.4  实例 206 C8\^#5  
9.5  实例2 210 bJ;'`sw1  
9.6  圆锥和带宽计算 212 sN wI 0o  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 bYPKh  
10  光学薄膜的颜色 216 yiI1x*^  
10.1  导言 216 ,v&(YOd  
10.2  色彩 216 sT' 5%4  
10.3  主波长和纯度 220 x3krbUlx  
10.4  色相和纯度 221 r"R#@V\'1b  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 OUXR  
10.6 色差 226 Hq 188<  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 "g#i'"qnW  
10.8  颜色渲染指数 234 <d_!mKw  
10.9  色差计算 235 eR"<33{  
10.10  参考文献 236 V2G6Kw9gt  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 I!?}jo3  
11.1  短脉冲 238 /H==Hm/  
11.2  群速度 239 ! v0LBe4  
11.3  群速度色散 241 1sH& sGy7  
11.4  啁啾(chirped) 245 tnG# IU *  
11.5  光学薄膜—相变 245 B93+BwN>95  
11.6  群延迟和延迟色散 246 K96<M);:g  
11.7  色度色散 246 -D$8  
11.8  色散补偿 249 0K2`-mL  
11.9  空间光线偏移 256 ia 73?*mXT  
11.10  参考文献 258 >e"#'K0?\  
12  公差与误差 260 jalg5`PU0  
12.1  蒙特卡罗模型 260 VU d\QR-  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 XvlU*TO~(~  
12.2.1  误差工具 267 &JI8]JmU)  
12.2.2  灵敏度工具 271 b>N8F^}~O  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 K6)j0 ]K1  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Ez=Olbk  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 UZsH9 o  
12.3  参考文献 276 ^ovR7+V  
13  Runsheet 与Simulator 277 aAA U{EWW  
13.1  原理介绍 277 ( ICd}  
13.2  截止滤光片设计 277 'X2POay1  
14  光学常数提取 289 w*JGUk  
14.1  介绍 289 }!C)}.L<  
14.2  电介质薄膜 289 {jX2}  
14.3  n 和k 的提取工具 295 J6aef ^>  
14.4  基底的参数提取 302 N' `A?&2ru  
14.5  金属的参数提取 306 )%@J=&G8TT  
14.6  不正确的模型 306 Hg$lXtn]  
14.7  参考文献 311 eHDN\QA 2  
15  反演工程 313 NPe%F+X  
15.1  随机性和系统性 313 *w&Y$8c(  
15.2  常见的系统性问题 314 l2P=R)@{  
15.3  单层膜 314 YV anW  
15.4  多层膜 314 P(z++A&  
15.5  含义 319 vOpK Np  
15.6  反演工程实例 319 )/?$3h;  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 e;}7G  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 e&aWq@D  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 8eHyL  
16.1  光学性质的热致偏移 329 4Ic*9t3  
16.2  应力工具 335 V /V9B2.$  
16.3  均匀性误差 339 *itUWpNhr  
16.3.1  圆锥工具 339 EA]U50L(  
16.3.2  波前问题 341 R',rsGd`6j  
16.4  参考文献 343 Ge-vWf-RbB  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 (c &mCJN  
17.1  引言 345 FE|JHh$  
17.2  操作数 345 "mvt>X  
18  如何在Function中编写脚本 351 zuy4G9P  
18.1  简介 351 JB[~;nLlC  
18.2  什么是脚本? 351 EGF '"L  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 8&`LYdzt  
18.4  基础 352 dvJ M6W>^=  
18.4.1  Classes(类别) 352 #Kex vP&*  
18.4.2  对象 352 y ~!Zg}o  
18.4.3  信息(Messages) 352 D!-g&HBTC  
18.4.4  属性 352 X!dYdWw*m  
18.4.5  方法 353 _C[q4?  
18.4.6  变量声明 353 !\.pq  2  
18.5  创建对象 354 EVC]sUT  
18.5.1  创建对象函数 355 0*D$R`$  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 CD ( :jM?  
18.5.3 丢弃对象 356 65$+{s  
18.5.4  总结 356 Doyx[zZ  
18.6  脚本中的表格 357 "8jf81V*  
18.6.1  方法1 357 8(&[Rs?K  
18.6.2  方法2 357 \B,@`dw  
18.7 2D Plots in Scripts 358 {dMsz   
18.8 3D Plots in Scripts 359 9c,'k#k  
18.9  注释 360 MH9q ;?.J  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 JL}_72gs  
18.11  一个更高级的脚本 362 V_}"+&W9  
18.12  <esc>键 364 *Y7u'v  
18.13 包含文件 365 .Una+Z  
18.14  脚本被优化调用 366 RF53Jyt  
18.15  脚本中的对话框 368 9BBmw(M}  
18.15.1  介绍 368 ( !fKNia@S  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 peuZ&yK+"  
18.15.3  输入框函数 370 r 8rgY42  
18.15.4  自定义对话框 371 k(7&N0V%zz  
18.15.5  对话框编辑器 371 ;1O_M9  
18.15.6  控制对话框 377 >T3-  
18.15.7  更高级的对话框 380 rkCx{pe9  
18.16 Types语句 384 n QZwC  
18.17 打开文件 385 >kDQkhZ  
18.18 Bags 387 VfC<WVYiZ  
18.13  进一步研究 388 }DfshZ0QM  
19  vStack 389 *>'V1b4}  
19.1  vStack基本原理 389 ?u=Fj_N_  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 d#rf5<i  
19.3  五棱镜 393 aPfO$b:  
19.4 光束距离 396 (U_ujPD ?  
19.5 误差 399 (G4at2YLd  
19.6  二向分色棱镜 399 Z=Y& B>:[  
19.7  偏振泄漏 404 ~{B7 k:  
19.8  波前误差—相位 405 Gm.T;fc:  
19.9  其它计算参数 405 L<-_1!wh  
20  报表生成器 406 ;jvBF4Lb>  
20.1  入门 406 )E@.!Ut4o  
20.2  指令(Instructions) 406 '(yAfL 9}  
20.3  页面布局指令 406 lC("y' ::  
20.4  常见的参数图和三维图 407 `nv~NLkl  
20.5  表格中的常见参数 408 ,nLy4T&"  
20.6  迭代指令 408 0g y/:T  
20.7  报表模版 408 D] jz A x  
20.8  开始设计一个报表模版 409 {V$|3m>:*  
21  一个新的project 413 Tx=-Bb~;  
21.1  创建一个新Job 414 E+R1 !.  
21.2  默认设计 415 8\ +T8(m  
21.3  薄膜设计 416 zrL$]Oy}x  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Bp`]  
21.5  显色指数计算 422 kmsb hYM)  
21.6  电场分布 424 i,E{f  
后记 426 aS{n8P6vW  
st3l2Q  
)=Z>#iH1  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 !&ayYu##{  
]&xk30  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
?{|q5n  
RO VW s/  
目  录 :W:K:lk  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ~u!|qM  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 N^ds RYC  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 W*4-.*U8a  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 M7a.8-!1  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 o]` *M|  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 YX7L?=;.@  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 dTC7Fm  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 {M$1N5Eh  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 oMD>Yw c-  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 $L>@Ed<  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 /vde2.|  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284  |`f$tj  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 6C^ D#.S  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ,p@y] cr  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 #`iB`|  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 @ ZwvBH  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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