首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 {sq:vu@NC  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 I;, n|o  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 L}g#h+GP[  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 o{mVXidE  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 X]GodqL\  
[attachment=120542] 2:yXeSeA  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 [w+1<ou;j  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;oVOq$ql  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ^R7X!tOq4  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 n2[h`zm1{B  
1. Essential Macleod软件介绍 sULsUt#  
1.1 介绍软件 gh^w !tH3  
1.2 创建一个简单的设计 e\*(F3r  
1.3 绘图和制表来表示性能 cnG>EG  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 v+<4?]EJ  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) MdTu722  
1.6 特定设计的公式技术 AOTtAV_e  
1.7 交互式绘图 T[cJ   
2. 光学薄膜理论基础 'Ir   
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 9p4SxMMO  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 4 .(5m\s!  
3. 材料管理 RyWfoLc  
3.1 材料模型 2Z`Jr/  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 q+w] Xs;  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Vk76cV D  
3.4 基板光学常数的提取 : ' pK  
4. 光学薄膜设计优化方法 Ngm/5Lc  
4.1 参考波长与g '68#7Hs.  
4.2 四分之一规则 XuU>.T$]c  
4.3 导纳与导纳图 Z 2$S'}F  
4.4 斜入射光学导纳 cBCC/n  
4.5 光学薄膜设计的进展 iqsR]mab  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 k#p6QA hS  
4.6.1 优化目标设置 GW.Y= S  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) AD6 b  
4.6.3 膜层锁定和链接 p DU+(A4>  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 lr -+|>M)  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 _skE\7&>X  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 zYftgH_o  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 :e}j$v F  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 _m%Ab3iT~  
5.5 如何在Function中编写脚本 v\}{eP'  
6. 光学薄膜系统案例 ;YBk.} %  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Scmew  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 98UI]? 4  
6.3 Stack应用范例说明 Kzwe36O;?  
7. 薄膜性能分析 UHIXy#+o5  
7.1 电场分布 E*+]Iq1u  
7.2 公差与灵敏度分析 )31xl6@  
7.3 反演工程 F C=N}5u  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 A "'h0D  
8. 真空技术 ~ D/1U)kt  
8.1 常用真空泵介绍 $bZ5@)E  
8.2 真空密封和检漏 Ve40H6 Ox  
9. 薄膜制备技术 pE.TG4  
9.1 常见薄膜制备技术 e&Z ?I2J  
10. 薄膜制备工艺 OgCNq W d-  
10.1 薄膜制备工艺因素 X%`:waR  
10.2 薄膜均匀性修正技术 QS-X_  
10.3 光学薄膜监控技术 (>*L-&-  
11. 激光薄膜 UGoB7TEfn  
11.1 薄膜的损伤问题 r[2*K 9  
11.2 激光薄膜的制备流程 W/%9=g$m  
11.3 激光薄膜的制备技术 shVEAT'`  
12. 光学薄膜特性测量 }=u#,nDl>$  
12.1 薄膜光谱测量 DJ!pZUO{  
12.2 薄膜光学常数测量 7<X!Xok  
12.3 薄膜应力测量 2=naPTP(  
12.4 薄膜损伤测量 >.hDt9@4  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
9]I{GyH  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
1I8<6pi-  
内容简介 ^Qxv5HS2  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 r( zn1;zl  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 w)/~Gn676  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6Z@T /"mU(  
7(<r4{1?  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
d?/>Qqw:#  
qGP}  
目录 /!*=*  
Preface 1 x,GLGGi}_x  
内容简介 2 S&c5Q*->[  
目录 i -Q%Pg<Q-#  
1  引言 1 Z!l]v.S  
2  光学薄膜基础 2 df&.!7_R`  
2.1  一般规则 2 "2PT]!  
2.2  正交入射规则 3 oZi{v]4  
2.3  斜入射规则 6 O! _d5r&,  
2.4  精确计算 7 cPg{k}9Tvy  
2.5  相干性 8 Y6(= cm  
2.6 参考文献 10 A5sz[k  
3  Essential Macleod的快速预览 10 ^szi[Cj  
4  Essential Macleod的特点 32 Qr?1\H:Lq  
4.1  容量和局限性 33 qtFHA+bO  
4.2  程序在哪里? 33 g3(LDqB'.  
4.3  数据文件 35 6Q]JY,+  
4.4  设计规则 35 ,MG`} *N}  
4.5  材料数据库和资料库 37 r5N H*\Q  
4.5.1材料损失 38 LbR'nG{J  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 x1}Ono3"T  
4.5.2 材料库 41 v'r)d-T   
4.5.3导出材料数据 43 Au:R]7   
4.6  常用单位 43 ^S!;snhn  
4.7  插值和外推法 46 :Vw{ l B  
4.8  材料数据的平滑 50 ; {v2s;  
4.9 更多光学常数模型 54 "ZFH_5<  
4.10  文档的一般编辑规则 55 =uR3|U(.|u  
4.11 撤销和重做 56 j@{dsS: 6  
4.12  设计文档 57 1had8K-  
4.10.1  公式 58 r Cb#E}  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 6-+ wfrN2  
4.10.3  沉积密度 59 y>^0q/=]?O  
4.10.4 平行和楔形介质 60 xT!<x({  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 kr-5O0tmf  
4.10.4  性能 61  , YlS  
4.10.5  保存设计和性能 64 %N0m$*  
4.10.6  默认设计 64 {$ v^2K'C  
4.11  图表 64 2HF`}H)H  
4.11.1  合并曲线图 67 WADEDl&,'  
4.11.2  自适应绘制 68 {xh5s<uOj  
4.11.3  动态绘图 68 |f(*R_R  
4.11.4  3D绘图 69 ,RP9v*  
4.12  导入和导出 73 :@-.whj  
4.12.1  剪贴板 73 kU.@HJ[@j  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Sf@xP.d  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Q8$;##hzt  
4.13  背景 77 %Hhk 6tR,  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 6;;2e> e  
4.15  生成Rugate 84 U\M9sTqo  
4.16  参考文献 91 "F4 3q8P  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 A8Km8"  
5.1  Jobs 92 08! _B\  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 U]g9t<jD  
5.3  输入材料 94 gAf4wq  
5.4  设计数据文件夹 95 $9:  @M.  
5.5  默认设计 95 D|^N9lDaQ  
6  细化和合成 97 ,LDL%<7t  
6.1  优化介绍 97 W_,7hvE?"H  
6.2  细化 (Refinement) 98 ^66OzT8A  
6.3  合成 (Synthesis) 100 *kcc]*6@s  
6.4  目标和评价函数 101 `,4@;j<^@  
6.4.1  目标输入 102 E[4 vUnm-  
6.4.2  目标 103 1aUg({  
6.4.3  特殊的评价函数 104 fzvyR2 I  
6.5  层锁定和连接 104 ixE w!t  
6.6  细化技术 104 kp#XpcS  
6.6.1  单纯形 105 Oqq' r"S  
6.6.1.1 单纯形参数 106 f.uy;v  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 u6| IKZ  
6.6.2.1 Optimac参数 108 34nfL: y  
6.6.3  模拟退火算法 109 IreY8.FND  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 @]p {%"$  
6.6.4  共轭梯度 111 #&1gVkvp  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {7;QZk(  
6.6.5  拟牛顿法 112 MU\Pggs  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 p1 ("  
6.6.6  针合成 113 _x^rHADp  
6.6.6.1 针合成参数 114 0Ng?U+6  
6.6.7 差分进化 114 |f!J-H)  
6.6.8非局部细化 115 o$V0(1N  
6.6.8.1非局部细化参数 115 VT=gb/W6)a  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 w0vsdM;G  
6.7.1  细化 116 :"H? phk  
6.7.2  合成 117 '2|P-/jU  
6.8  参考文献 117 `(=?k[48  
7  导纳图及其他工具 118 #;?/fZjY  
7.1  简介 118 b#R$P]dr=  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 {TdxsE>  
7.2.1  四分之一波长规则 119 gGx(mX._L?  
7.2.2  导纳图 120 sg49a9`8  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #kA?*i[T  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 E'5KJn;_7  
7.5  斜入射导纳图 141 `"<hO 'WU  
7.6  对称周期 141 md!!$+a%|  
7.7  参考文献 142 e4tC[6;  
8  典型的镀膜实例 143 B692Mn  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ?mSZQF:d@  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 %[M0TE=J  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0C  K  
8.4  W-膜层 148 # ,eC&X45  
8.5  V-膜层 149 {2q0Ko<  
8.6  V-膜层高折射基底 150 lNtxM"G&  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 5h0Hk<N  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7J ?s&x  
8.9  四层抗反射薄膜 153 _Hfpizm  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 B& R?{y*  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ^u1Nbo  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 |5X59! JL  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 9yWf*s<  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 N:'!0|6?x-  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 5 6.JB BZZ  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 B3u/ y  
8.17  1/4波长堆栈 162 ;Bj&9DZd  
8.18  陷波滤波器 163 u86PTp+  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ~(huUW  
8.20  褶皱 165 pV;0Hcy  
8.21  消偏振分光器1 169 E)f9`][  
8.22  消偏振分光器2 171 udIm}jRA"  
8.23  消偏振立体分光器 172 ZbjUOlE02  
8.24  消偏振截止滤光片 173 b18f=<#  
8.25  立体偏振分束器1 174 VmN7a6a  
8.26  立方偏振分束器2 177 m<kJH<!j  
8.27  相位延迟器 178 4cM0f,nc+  
8.28  红外截止器 179 1#Hr{&2  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $Bl51Vj N  
8.30  49层长波带通滤波器 181 \=mLL|a  
8.31  55层短波带通滤波器 182 vw(ecs^C  
8.32  47 红外截止器 183 +G[zE  
8.33  宽带通滤波器 184 u%E8&T8,  
8.34  诱导透射滤波器 186 (C"q-0?n  
8.35  诱导透射滤波器2 188 CSq|R-@< U  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ?Tu=-ppw  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 A9u>bWIE7  
8.35  增益平坦滤波器 193 JtxVF !v  
8.38  啁啾反射镜 1 196 R8eBIJ/@_  
8.39  啁啾反射镜2 198 )T^w c:  
8.40  啁啾反射镜3 199 ->.9[|lIg  
8.41  带保护层的铝膜层 200 #N >66!/V  
8.42  增加铝反射率膜 201 ls!A'@J  
8.43  参考文献 202 9p3~WA/M@  
9  多层膜 204 F kf4R5Y?  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ;in-)`UC!  
9.2  内部透过率 204 GEh(pJ  
9.3 内部透射率数据 205 Z f<T`'_d  
9.4  实例 206 $x]/|u/9  
9.5  实例2 210 -PGxG 8S  
9.6  圆锥和带宽计算 212 !6RDq`  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 NCG;`B`i  
10  光学薄膜的颜色 216 i20y\V os?  
10.1  导言 216 qQG? k~r  
10.2  色彩 216 Y)1J8kq_  
10.3  主波长和纯度 220 JS%LJ _J  
10.4  色相和纯度 221 a`#lYM%(>  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 -WF((s;<#  
10.6 色差 226 CMOyK^(e  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 -.8K"j{N  
10.8  颜色渲染指数 234 2ww H3}  
10.9  色差计算 235 <!UnH6J.b  
10.10  参考文献 236 #{J~ km/  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 .Wy'  
11.1  短脉冲 238 'ROz|iJ  
11.2  群速度 239 r hucBm  
11.3  群速度色散 241 YW/V}C'>  
11.4  啁啾(chirped) 245 =#y;J(>~|  
11.5  光学薄膜—相变 245 z |~+0  
11.6  群延迟和延迟色散 246 6vE#$(n#a&  
11.7  色度色散 246 ,zHL8SiTX  
11.8  色散补偿 249 S2*sh2-&6  
11.9  空间光线偏移 256 y2s(]# 8  
11.10  参考文献 258 jaKW[@<  
12  公差与误差 260 @P75f5p}<  
12.1  蒙特卡罗模型 260 6Q]c}  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 }8aqSD<:  
12.2.1  误差工具 267 7kE+9HmfMk  
12.2.2  灵敏度工具 271 ([>__c/Nd  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 rXD:^wUSc  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 H{=G\N{  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 TaHcvjhR  
12.3  参考文献 276 l7^^Mnk C  
13  Runsheet 与Simulator 277 u^{p' a'  
13.1  原理介绍 277 ux(~+<k  
13.2  截止滤光片设计 277 2-8Dc4H]r  
14  光学常数提取 289 GF% /q:9  
14.1  介绍 289 !ae?EJm"  
14.2  电介质薄膜 289 ~Hub\kn  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Ti_G  
14.4  基底的参数提取 302 }s<;YC  
14.5  金属的参数提取 306 eUB!sR%  
14.6  不正确的模型 306 9S}rTZkEq  
14.7  参考文献 311 Jk&!(YK&  
15  反演工程 313 ny1O- `!1  
15.1  随机性和系统性 313 2672oFD  
15.2  常见的系统性问题 314 : q%1Vi  
15.3  单层膜 314 0q-lyVZ^X  
15.4  多层膜 314 x} c  
15.5  含义 319 %~Rg`+  
15.6  反演工程实例 319 Y8v[kuo7  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 _!DH/?aU  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 FVrB#Hw~  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 # M/n\em"X  
16.1  光学性质的热致偏移 329 7:uz{xPK6  
16.2  应力工具 335 E\s1p: %  
16.3  均匀性误差 339 U{oM*[  
16.3.1  圆锥工具 339 ]7W!f 2@  
16.3.2  波前问题 341 {O y|c  
16.4  参考文献 343 sZ&|omN  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 V^[&4  
17.1  引言 345 l_:P |  
17.2  操作数 345 mKO~`Wq%@  
18  如何在Function中编写脚本 351 r.#r!.6 q  
18.1  简介 351 *.>@  
18.2  什么是脚本? 351 <af# C2`B  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 -sJD:G,%  
18.4  基础 352 s a o&  
18.4.1  Classes(类别) 352 mL`8COA  
18.4.2  对象 352 K\U`gTGc  
18.4.3  信息(Messages) 352 i]k)wr(  
18.4.4  属性 352 *,lDo9  
18.4.5  方法 353 vMou`[\WlJ  
18.4.6  变量声明 353 =oL:|$Pj  
18.5  创建对象 354 E#(e2Z=  
18.5.1  创建对象函数 355 Q2m[XcnX  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 TA*}p=?6?!  
18.5.3 丢弃对象 356 Sj(>G;  
18.5.4  总结 356 MW rhVn{R  
18.6  脚本中的表格 357 ,(x` zpp _  
18.6.1  方法1 357 |U{~t<BF#  
18.6.2  方法2 357 95@u|#n  
18.7 2D Plots in Scripts 358 '{ =F/q  
18.8 3D Plots in Scripts 359 =Vs?=|r  
18.9  注释 360 SEzjc ~@3  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 "*X\'LPs=  
18.11  一个更高级的脚本 362 JX 5/PCO  
18.12  <esc>键 364 3R%JmLM+R9  
18.13 包含文件 365 `0]N#G T  
18.14  脚本被优化调用 366 ms}o[Z@n  
18.15  脚本中的对话框 368 RNB&!NC  
18.15.1  介绍 368 h]&  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 (!{*@?S  
18.15.3  输入框函数 370 C;JW \J~W  
18.15.4  自定义对话框 371 M]{~T7n-  
18.15.5  对话框编辑器 371 8ly)G  
18.15.6  控制对话框 377 7_s+7x =  
18.15.7  更高级的对话框 380 >@ 8'C"F  
18.16 Types语句 384 Q}B]b-c+E  
18.17 打开文件 385 r4iNX+h?V  
18.18 Bags 387 i3|xdYe$  
18.13  进一步研究 388 ]h`*w  
19  vStack 389 \[[xyd  
19.1  vStack基本原理 389 klQmo30i  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 =bD.5,F)  
19.3  五棱镜 393 tb~E.Lm\  
19.4 光束距离 396 $)ka1L"N  
19.5 误差 399 \v-I<"::  
19.6  二向分色棱镜 399 U'" #jT  
19.7  偏振泄漏 404 @,sjM]  
19.8  波前误差—相位 405 lJFy(^KQG,  
19.9  其它计算参数 405 vJ&D>Vh4e  
20  报表生成器 406 3h.,7,T  
20.1  入门 406 I(R%j]LX&  
20.2  指令(Instructions) 406 |33t5}we  
20.3  页面布局指令 406 JGvhw,g  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ghB&wOm/  
20.5  表格中的常见参数 408 <]G'& iv>  
20.6  迭代指令 408 HJg&fkHn1  
20.7  报表模版 408 rM= :{   
20.8  开始设计一个报表模版 409 "0PsCr}!  
21  一个新的project 413 S"G(_%  
21.1  创建一个新Job 414 z~`X4Segw  
21.2  默认设计 415 $6UU58>n  
21.3  薄膜设计 416 YL|)`m0-^5  
21.4  误差的灵敏度计算 420 /YZMP'v  
21.5  显色指数计算 422 8~Zw"  
21.6  电场分布 424 oCkG  
后记 426 {c3FJ5:  
Gu$J;bXVj  
tc`3-goX  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 w`8H=Hf  
r{r~!=u  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
N5zWeFq@6  
|z3!3?%R  
目  录 ;Z0&sFm  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 |Y}YhUI&  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 /hqn>t  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 =C,DR4xh  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 b1#C,UWK  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 K!9K^h  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 (Ox&B+\v+v  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 p : z ][I  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 I^f|U  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 1o\2\B=k{  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 TE o  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 :35h0;8+  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 c"kB@P  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 U`3?bhzua  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 '"7b;%EN'  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 \PT!mbB?  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 PCaFG;}  
53aJnxX  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
对课程和书籍感兴趣的小伙伴们,可以联系我
infotek 2023-10-20 08:54
课程最后报名中,有兴趣的小伙伴别错过
查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计