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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 w Iv o"|%  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 % ZU/x d  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 G;iEo4\?  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 _.)eL3OF  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Jf;?XP]z  
[attachment=120542] R W/z1  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。  ZI>km?w  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 JCniN";r[  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 N_C;&hJN$w  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 (g!p>m!Z  
1. Essential Macleod软件介绍 es:2M |#O  
1.1 介绍软件 AONDx3[   
1.2 创建一个简单的设计 >!6JKL~=  
1.3 绘图和制表来表示性能 %3Z/+uT@v]  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 d9^E.8p$  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) {Tp2H_EG  
1.6 特定设计的公式技术 ~%k?L4%  
1.7 交互式绘图 aBuoHdg;  
2. 光学薄膜理论基础 ^C)n$L>C0  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |,C#:"z;  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 lEjwgk {  
3. 材料管理 A#wEuX=[  
3.1 材料模型 sY SLmUZ{  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 7E$&2U^Js  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 7L5P%zLtB  
3.4 基板光学常数的提取 YNdrWBf)  
4. 光学薄膜设计优化方法 :a[Ihqfg  
4.1 参考波长与g RBKOM$7  
4.2 四分之一规则 3Hi+Z}8  
4.3 导纳与导纳图 -T@`hk`  
4.4 斜入射光学导纳 T.e.{yO  
4.5 光学薄膜设计的进展 yBpk$  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 X@N$Z{  
4.6.1 优化目标设置 s54nF\3V  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) +|cI:|H>  
4.6.3 膜层锁定和链接 $m$;v<PSe  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 U%<rn(xWXD  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 XKOUQc4!R  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 n 1b(\PA  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 IXLO>>`  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 @exey  
5.5 如何在Function中编写脚本 &7mW9]  
6. 光学薄膜系统案例 ff? t[GS  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 UKd'+R]  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 1 k8x%5p  
6.3 Stack应用范例说明 f7urJ'!V  
7. 薄膜性能分析 j1$8#/r;c  
7.1 电场分布 7u.|XmUz  
7.2 公差与灵敏度分析 !\ND(  
7.3 反演工程 <Q < AwP  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 zSTR^sgJ  
8. 真空技术 Pf_F59"  
8.1 常用真空泵介绍 `bI)<B  
8.2 真空密封和检漏 Lz9#A.  
9. 薄膜制备技术 G`h+l<  
9.1 常见薄膜制备技术 ^WYQ]@rh3  
10. 薄膜制备工艺 FVsj;  
10.1 薄膜制备工艺因素 <~emx'F|  
10.2 薄膜均匀性修正技术 UM%o\BiO  
10.3 光学薄膜监控技术 FwAKP>6*  
11. 激光薄膜 \kIMDg3}  
11.1 薄膜的损伤问题 t !`Jse>  
11.2 激光薄膜的制备流程 CBT>"sYE1  
11.3 激光薄膜的制备技术 ^ZeJ[t&!#  
12. 光学薄膜特性测量 km5~Gc}  
12.1 薄膜光谱测量 I+ l%Sn#\  
12.2 薄膜光学常数测量 GOy%^:Xd  
12.3 薄膜应力测量 7Ey#u4Q  
12.4 薄膜损伤测量 mdih-u(T|  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
,<,:8B  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
$o?@ 0  
内容简介 `iKj  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <lxD}DH=  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 [U =Uo*  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 'XOX@UH d  
M(q'%XL^  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
DC+wD Bp;  
5~ 'Ie<Y_  
目录 :& XH?/Wi  
Preface 1 ,8G{]X)  
内容简介 2 |+IZS/W"  
目录 i ybdd;t}&1  
1  引言 1 C_fY %O  
2  光学薄膜基础 2 X<OSN&d  
2.1  一般规则 2 Px@/Q  
2.2  正交入射规则 3 I8Vb-YeS  
2.3  斜入射规则 6 #_  C  
2.4  精确计算 7 a?5[k}\  
2.5  相干性 8 g+8hp@a  
2.6 参考文献 10 ~3h-jK?  
3  Essential Macleod的快速预览 10 hPhZUL%  
4  Essential Macleod的特点 32 .S\&L-{  
4.1  容量和局限性 33 XJ0 {  
4.2  程序在哪里? 33 W1aa:hEf  
4.3  数据文件 35 d^ ZMS~\*  
4.4  设计规则 35 m#H3:-h,  
4.5  材料数据库和资料库 37 + A_J1iJ<  
4.5.1材料损失 38 ,hxkk`  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 HG >j5  
4.5.2 材料库 41 ,"}Rg1\4t  
4.5.3导出材料数据 43 &Bb<4R  
4.6  常用单位 43 `'_m\uo  
4.7  插值和外推法 46 _>o-UBb4]T  
4.8  材料数据的平滑 50 o/cjXun*  
4.9 更多光学常数模型 54 M.}7pJ7f  
4.10  文档的一般编辑规则 55 3B0lb "e  
4.11 撤销和重做 56 R! s6% :Yg  
4.12  设计文档 57 L?&'xzt B  
4.10.1  公式 58 QvPD8B  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0Sl]!PZR1  
4.10.3  沉积密度 59 L}{`h  
4.10.4 平行和楔形介质 60 D]! aT+  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 1{"llD  
4.10.4  性能 61 IputF<p  
4.10.5  保存设计和性能 64 Pj#'}ru!  
4.10.6  默认设计 64 %rKK[  
4.11  图表 64 vW,snxK6y&  
4.11.1  合并曲线图 67 5m$2Ku  
4.11.2  自适应绘制 68 q!'rz  
4.11.3  动态绘图 68 c/W=$3  
4.11.4  3D绘图 69 {2'm^0Kl  
4.12  导入和导出 73 XdEPbD-  
4.12.1  剪贴板 73 3M*Bwt;F_  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 jD,Baz<  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 <g8K})P  
4.13  背景 77 7J$b$P0}  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 I~eSZ?$s#  
4.15  生成Rugate 84 i?;r7>  
4.16  参考文献 91 n_K~ vD  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ["<nq`~  
5.1  Jobs 92 OV CR0  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 aiCFH_H4;L  
5.3  输入材料 94 C2e.2)y  
5.4  设计数据文件夹 95 JYqSL)Ta*t  
5.5  默认设计 95 $e%2t^ i.g  
6  细化和合成 97 8Ad606  
6.1  优化介绍 97 u8b2$D  
6.2  细化 (Refinement) 98 PnT)LqEF  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Z*{] ,  
6.4  目标和评价函数 101 <T?oKOD ]  
6.4.1  目标输入 102 |BMV.Zi  
6.4.2  目标 103 w6|9|f/  
6.4.3  特殊的评价函数 104 7;`o( [N  
6.5  层锁定和连接 104 ytEC   
6.6  细化技术 104 yQS+P8x&|]  
6.6.1  单纯形 105 6" T['6:j  
6.6.1.1 单纯形参数 106 2 mjV~  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 1a0kfM$  
6.6.2.1 Optimac参数 108 AtS;IRN@  
6.6.3  模拟退火算法 109 D bX{#4lx  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 $Byj}^;1  
6.6.4  共轭梯度 111 =64r:E  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111  84zTCX  
6.6.5  拟牛顿法 112 td2/9|Q  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 5vzceQE}  
6.6.6  针合成 113 F^aR+m  
6.6.6.1 针合成参数 114 I&c ~8Dw  
6.6.7 差分进化 114 eS/B24;*  
6.6.8非局部细化 115 9D\4n  
6.6.8.1非局部细化参数 115 }Y(]6$uS  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 3{% LS"c  
6.7.1  细化 116 Qq-"Cg@-/  
6.7.2  合成 117  n]W_e  
6.8  参考文献 117 w^k;D,h  
7  导纳图及其他工具 118 T<yP* b2E  
7.1  简介 118 XK(`mEi  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 .k{ j]{k  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ?C0l~:j7D  
7.2.2  导纳图 120 tL SN`6[:  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124  oz'\q0  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ivgpS5 M`Y  
7.5  斜入射导纳图 141 k#TYKft  
7.6  对称周期 141 6~:Sgt nU  
7.7  参考文献 142 SZ![%)83  
8  典型的镀膜实例 143 v;#=e$%}MO  
8.1  单层抗反射薄膜 145 c47")2/yO  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 :yT-9Ze%q  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 zboF 1v`  
8.4  W-膜层 148 5y2? f  
8.5  V-膜层 149 5M]z5}n/  
8.6  V-膜层高折射基底 150 C.:=lo B  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 _zxLwU1(x  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )Ag/Qep  
8.9  四层抗反射薄膜 153 0XwHP{XaO  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 .UCt|> $  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 lor8@Qz  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 *MN HT`Y^o  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 $v.C0 x  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 1xNVdI   
8.15十五层宽带抗反射膜 159 NW|f7 ItX  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 p5=|Y^g !  
8.17  1/4波长堆栈 162 O/%< }3Sq  
8.18  陷波滤波器 163 ~cAZB9Fa  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 q"KnLA(  
8.20  褶皱 165 M x5`yT7  
8.21  消偏振分光器1 169 iVtl72O  
8.22  消偏振分光器2 171 q+SD6qM  
8.23  消偏振立体分光器 172 >M%\T}5  
8.24  消偏振截止滤光片 173 V=I"-k}RL  
8.25  立体偏振分束器1 174 @4~=CV%j  
8.26  立方偏振分束器2 177 F1;lQA*7K.  
8.27  相位延迟器 178 >>l`,+y  
8.28  红外截止器 179 eC DIwB28  
8.29  21层长波带通滤波器 180 :_<_[Y]1  
8.30  49层长波带通滤波器 181 _eSd nHWx  
8.31  55层短波带通滤波器 182 K)7zKEp`cj  
8.32  47 红外截止器 183 P47V:E%  
8.33  宽带通滤波器 184 Bsf7mcXz7z  
8.34  诱导透射滤波器 186 {P9J8@D  
8.35  诱导透射滤波器2 188 >t,M  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 v1U?&C  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Rx07trfN  
8.35  增益平坦滤波器 193 C#rc@r,F  
8.38  啁啾反射镜 1 196 QR?yG+VU  
8.39  啁啾反射镜2 198 ;?fS(Vz~  
8.40  啁啾反射镜3 199 uy_wp^  
8.41  带保护层的铝膜层 200 seFGJfN\?f  
8.42  增加铝反射率膜 201 &hHW3Q(1  
8.43  参考文献 202 gC%G;-gm  
9  多层膜 204 %z]U LEYrZ  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 P;ZU-G4@   
9.2  内部透过率 204 lv0nEj8F  
9.3 内部透射率数据 205 #$~ba %t9%  
9.4  实例 206 2N#$X'8  
9.5  实例2 210 }TRAw#h  
9.6  圆锥和带宽计算 212 x}/,yaWZ  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Zd^6ulx  
10  光学薄膜的颜色 216 DF]9@{  
10.1  导言 216 <Tw>|cFT  
10.2  色彩 216 'XQ`g CF=  
10.3  主波长和纯度 220 #v#<itfFH  
10.4  色相和纯度 221 :,;K>l^U  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;DA8B'^>  
10.6 色差 226 +i ?S  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 A,-6|&F  
10.8  颜色渲染指数 234 e"]8T},  
10.9  色差计算 235 C,V%B  
10.10  参考文献 236 N/YWby=H  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 z't? ?6  
11.1  短脉冲 238 9 Gy  
11.2  群速度 239 (YBMsh  
11.3  群速度色散 241 ~0$NJrUy  
11.4  啁啾(chirped) 245 5*PYT=p}  
11.5  光学薄膜—相变 245 .Ig+Dj{)  
11.6  群延迟和延迟色散 246 wHZW `  
11.7  色度色散 246 =@Dwlze  
11.8  色散补偿 249 R2etB*k6[  
11.9  空间光线偏移 256 ~ * :F{  
11.10  参考文献 258 AT2v!mNyCw  
12  公差与误差 260 .Xm(D>>k  
12.1  蒙特卡罗模型 260 f-6vLX\Vu  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 :.(;<b<\  
12.2.1  误差工具 267 ?1L.:CS  
12.2.2  灵敏度工具 271 U~{du;\  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 { pu85'DV  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 n%h^o   
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 bQe^Px5 !.  
12.3  参考文献 276 5vo.[^ty  
13  Runsheet 与Simulator 277 o:Qv JcB  
13.1  原理介绍 277 IcP)FB 4  
13.2  截止滤光片设计 277 A,i75kd  
14  光学常数提取 289 Vc^HVyAx@n  
14.1  介绍 289 Yw _+`,W   
14.2  电介质薄膜 289 3X9b2RY*L/  
14.3  n 和k 的提取工具 295 I8oo~2Q w  
14.4  基底的参数提取 302 w6`9fX6{h  
14.5  金属的参数提取 306 5<I   
14.6  不正确的模型 306 [{4 MR%--  
14.7  参考文献 311 `[o)<<}  
15  反演工程 313 :^UFiUzrE  
15.1  随机性和系统性 313 y(R? ,wa=]  
15.2  常见的系统性问题 314 q'pK,uNW  
15.3  单层膜 314 b o.(zAz  
15.4  多层膜 314 d0'J C*  
15.5  含义 319 ?!qY,9lhH  
15.6  反演工程实例 319 W\1i,ew>  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 (F7(^.MG  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Y@'8[]=0  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Lb LiB*D#s  
16.1  光学性质的热致偏移 329 }@if6(0  
16.2  应力工具 335 q&C""!h^  
16.3  均匀性误差 339 {M,,npl  
16.3.1  圆锥工具 339 ceNix!P  
16.3.2  波前问题 341 rD>*j~_+P  
16.4  参考文献 343 ,C3,TkA]  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 EpQ8a[<-3  
17.1  引言 345 &.TTJsKG h  
17.2  操作数 345 \uss Uv  
18  如何在Function中编写脚本 351 W0I#\b18  
18.1  简介 351 Spt ? >sm  
18.2  什么是脚本? 351 fdONP>K[E  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 o\vBOp?hj  
18.4  基础 352 " R xP^l  
18.4.1  Classes(类别) 352 TLehdZ>^  
18.4.2  对象 352 ">?vir^  
18.4.3  信息(Messages) 352 <nEi<iAY>U  
18.4.4  属性 352 [w ;kkMJAy  
18.4.5  方法 353 G[jW<'f  
18.4.6  变量声明 353 3Hf0MAt  
18.5  创建对象 354 Z`YJBcXR  
18.5.1  创建对象函数 355 &^ 4++  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355  Q1@A2+ c  
18.5.3 丢弃对象 356 1}~(Yj@f%  
18.5.4  总结 356 6'xsG?{JY  
18.6  脚本中的表格 357 \W,I?Kx$  
18.6.1  方法1 357 ^n0]dizB  
18.6.2  方法2 357 }1IpON  
18.7 2D Plots in Scripts 358 )>BHL3@  
18.8 3D Plots in Scripts 359 YuB+k^  
18.9  注释 360 1?Z4 K /  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 qWw\_S  
18.11  一个更高级的脚本 362 n_'{^6*O  
18.12  <esc>键 364 +{/  
18.13 包含文件 365 tDUwy^j  
18.14  脚本被优化调用 366 K _&4D'  
18.15  脚本中的对话框 368 w3$   
18.15.1  介绍 368 eF2|Wjl``;  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 aMTu-hA  
18.15.3  输入框函数 370 47J5oPT2'  
18.15.4  自定义对话框 371 B7imV@<  
18.15.5  对话框编辑器 371 4*$G & TX  
18.15.6  控制对话框 377 ~Jf{4*>y  
18.15.7  更高级的对话框 380 sJNFFOz  
18.16 Types语句 384 o=`C<}  
18.17 打开文件 385 + nF'a(  
18.18 Bags 387 ;| 1$Q!4  
18.13  进一步研究 388  O#I1V K  
19  vStack 389 z?35=%~w   
19.1  vStack基本原理 389 6uR^%W8]  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 :,)lm.}]t  
19.3  五棱镜 393 K #.  
19.4 光束距离 396 S{3nM<  
19.5 误差 399 fDSv?crv  
19.6  二向分色棱镜 399 ^Ox3XC  
19.7  偏振泄漏 404 qgrg CJ  
19.8  波前误差—相位 405 63A}TBC  
19.9  其它计算参数 405 j)q\9#sI/(  
20  报表生成器 406 Dl}$pN  
20.1  入门 406 |ZQ@fmvL/p  
20.2  指令(Instructions) 406 %Rsp;1Z  
20.3  页面布局指令 406 Q%f|~Kl-hd  
20.4  常见的参数图和三维图 407 +]Y,q w  
20.5  表格中的常见参数 408 GAAm0;  
20.6  迭代指令 408 aFLO{tr`  
20.7  报表模版 408 H$6`{lx,  
20.8  开始设计一个报表模版 409 V(E/'DR  
21  一个新的project 413 N\bocMc,X  
21.1  创建一个新Job 414 >]c*'~G&  
21.2  默认设计 415 +U@<\kIF  
21.3  薄膜设计 416 LcE+GC  
21.4  误差的灵敏度计算 420 e>AE8T  
21.5  显色指数计算 422 Sf r&p>{,  
21.6  电场分布 424 ?^N3&ukkyo  
后记 426 3g6j?yYqb  
L{c q, jk  
y\x+  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 c ;'[W60  
 Sr?#S  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
C$5[X7'  
z0do;_x]E  
目  录 )Dz+X9;g+  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 plZ>03(6Q  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 ?y!E-&  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 vEn4L0D  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 kTvd+TP4  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 YtWJX kB  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ;{[.Zu  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 & :7ZQ1  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 42qYg(tZ  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 4f;HQ-Iv  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 S1?-I_t+]  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 H8On<C=  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 O &-wxJ]S  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 B9J&=6`)  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 T|6a("RL  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 tq|hPd<C  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 6w@ Ii;  
,#kIr  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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