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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 '{B!6|"X  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 M4W5f#C5Ee  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 :Q@&5!]>d  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ZGd!IghL  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 k%G1i-] 4  
[attachment=120542] mbueP.q[?  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 k|!EDze43?  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 B9J&=6`)  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 to$h2#i_  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 P$-X)c$&  
1. Essential Macleod软件介绍 tmtT (  
1.1 介绍软件 }3L@J8:D"  
1.2 创建一个简单的设计 ;I!MLI  
1.3 绘图和制表来表示性能 BGu?<bET  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 FJ6u.u  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ,11H.E Z  
1.6 特定设计的公式技术 2Roc|)-47  
1.7 交互式绘图 q')R4=0 K  
2. 光学薄膜理论基础 o+$7'+y1n-  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 J>bJ 449B  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 e[#j.|m  
3. 材料管理 [bk?!0]aV  
3.1 材料模型 qm8&*UuKJ  
3.2 介质薄膜光学常数的提取  1OF& *  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 L~NbdaO  
3.4 基板光学常数的提取 bG(3^"dS  
4. 光学薄膜设计优化方法 E!P yL>){  
4.1 参考波长与g [YcG(^^  
4.2 四分之一规则 ]h5Yg/sms  
4.3 导纳与导纳图 +qwjbA+  
4.4 斜入射光学导纳 >M/V oV  
4.5 光学薄膜设计的进展 9BuSN*4  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 <h'5cO  
4.6.1 优化目标设置 L');!/:  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) la+[bm< v  
4.6.3 膜层锁定和链接 M!XsJ<jN/  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 t8+X%-r  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估  D 'Zt  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ssN6M./6  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 lH6OcD:kj  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 `.Qi?* ^  
5.5 如何在Function中编写脚本 ~15N7=wCM  
6. 光学薄膜系统案例 20nP/ e  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 De(Hw& IV  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 LBa[:j2  
6.3 Stack应用范例说明 W|g4z7Pb  
7. 薄膜性能分析 ZU%[guf  
7.1 电场分布 |* ;B  
7.2 公差与灵敏度分析 c5D)   
7.3 反演工程 n+A?"`6*#  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 vbC\?\_  
8. 真空技术 Bx4w)9+3  
8.1 常用真空泵介绍 ~2QR{; XQ  
8.2 真空密封和检漏 L'0B$6  
9. 薄膜制备技术 9E"vN  
9.1 常见薄膜制备技术 ^Uf]Q$uCjE  
10. 薄膜制备工艺 G#u6Am)T  
10.1 薄膜制备工艺因素 P;ci9vk  
10.2 薄膜均匀性修正技术 = 's(|  
10.3 光学薄膜监控技术 zU gE~  
11. 激光薄膜 iA'lon  
11.1 薄膜的损伤问题 fj;y}t1E]  
11.2 激光薄膜的制备流程 JS CZ{v J$  
11.3 激光薄膜的制备技术 Vt".%d/`7  
12. 光学薄膜特性测量 /2=#t-p+  
12.1 薄膜光谱测量 ~nh:s|l6%M  
12.2 薄膜光学常数测量 Wp!%-vzy&  
12.3 薄膜应力测量 a!"$~y$*  
12.4 薄膜损伤测量 &h^9}>rVjV  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
y}My.c  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
5 ft`zf  
内容简介 4,CXJ2  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 T>2[=J8U  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 UQC=g  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $m].8?  
MHX?@. v  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
P3)Nl^/  
5qZ1FE  
目录 1DE<rKI  
Preface 1 g!?:Ye`5  
内容简介 2 'rO!AcdLU  
目录 i $RIecv<e_  
1  引言 1 t>urc  
2  光学薄膜基础 2 OwH81#   
2.1  一般规则 2 :D%"EJ  
2.2  正交入射规则 3 Y2ZT.l  
2.3  斜入射规则 6 1 u| wMO  
2.4  精确计算 7 aI6$?wus  
2.5  相干性 8 #LL?IRH9^  
2.6 参考文献 10 AX;8^6.F3  
3  Essential Macleod的快速预览 10 mpI5J'>]  
4  Essential Macleod的特点 32 b&~4t/Vq  
4.1  容量和局限性 33 Ma.`A  
4.2  程序在哪里? 33 K1r#8Q!t  
4.3  数据文件 35 C&*oI =6  
4.4  设计规则 35 RrX[|GLSJ  
4.5  材料数据库和资料库 37 F)&@P-9+  
4.5.1材料损失 38 :PIF07$xl  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 V5sg#|&  
4.5.2 材料库 41 ~]pE'\D7Ad  
4.5.3导出材料数据 43 \Xm,OE_v"  
4.6  常用单位 43 ~P8tUhffK  
4.7  插值和外推法 46 h{HF8>u[  
4.8  材料数据的平滑 50 Bg5Wba%NK  
4.9 更多光学常数模型 54 %{AO+u2i  
4.10  文档的一般编辑规则 55 hAYTj0GZ  
4.11 撤销和重做 56 b$ve sJ  
4.12  设计文档 57 -fwoTGlX  
4.10.1  公式 58 WN{ 9  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :3XA!o&.T3  
4.10.3  沉积密度 59 pm*xb]8y  
4.10.4 平行和楔形介质 60 MBt9SXM  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 P3cRl']  
4.10.4  性能 61 M9V q -U18  
4.10.5  保存设计和性能 64 A<5ZF27  
4.10.6  默认设计 64 co~Pyj  
4.11  图表 64 !/}O>v~o  
4.11.1  合并曲线图 67 Y ;u<GOe  
4.11.2  自适应绘制 68 8P^I TL z%  
4.11.3  动态绘图 68 Gb8D[1=u=  
4.11.4  3D绘图 69 1<BX]-/tP  
4.12  导入和导出 73 )~+E[|  
4.12.1  剪贴板 73 /tP|b _7O  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 !lf|7  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 m@"QDMHk.  
4.13  背景 77 eoai(&o0$  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /4a._@1h[y  
4.15  生成Rugate 84 cxA^:3  
4.16  参考文献 91 GB>QK  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]$Yvj!K*Q  
5.1  Jobs 92 ,_Z5m;  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 v%"|WV[N  
5.3  输入材料 94 5jd,{<  
5.4  设计数据文件夹 95 6^]!gR#B  
5.5  默认设计 95 i\KQ!f>A  
6  细化和合成 97 pQshUm"_  
6.1  优化介绍 97 FrTi+& <  
6.2  细化 (Refinement) 98 .Xce9C0SW  
6.3  合成 (Synthesis) 100 -i)ZQCE  
6.4  目标和评价函数 101 fb{`` ,nO  
6.4.1  目标输入 102 n^z]q;IN2.  
6.4.2  目标 103 JBJhG<J  
6.4.3  特殊的评价函数 104 { jhr<  
6.5  层锁定和连接 104 vH#huZA?7  
6.6  细化技术 104 P8>~c9$I  
6.6.1  单纯形 105 $lLz 3YS  
6.6.1.1 单纯形参数 106 <)u`~$n2  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 %] >KvoA  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $e*ce94  
6.6.3  模拟退火算法 109 AS\F{ !O  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Vm3v-=6  
6.6.4  共轭梯度 111 gREzZ+([  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {vuZ{I Ja  
6.6.5  拟牛顿法 112 w)Q0_2p.  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 pov)Z):}G<  
6.6.6  针合成 113 BZR:OtR^  
6.6.6.1 针合成参数 114 ; mZW{j  
6.6.7 差分进化 114 <Dwar>}  
6.6.8非局部细化 115 K2J \awX  
6.6.8.1非局部细化参数 115 K#pNe c  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 DP3PYJ%+B  
6.7.1  细化 116 JwAYG5W  
6.7.2  合成 117 /7}It$|nhy  
6.8  参考文献 117 &o,<ijJ:^m  
7  导纳图及其他工具 118 eA#;AQm  
7.1  简介 118 kzt(i Y_6  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 vSi.txV2  
7.2.1  四分之一波长规则 119 cVv;Jn  
7.2.2  导纳图 120 %?p1d!  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R}q>O5O  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 >D(RYI  
7.5  斜入射导纳图 141 \lZf<f  
7.6  对称周期 141 {TX]\ufG  
7.7  参考文献 142 &NH$nY.r  
8  典型的镀膜实例 143 J"=vE=  
8.1  单层抗反射薄膜 145 _nbBIaHN{  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146  DX"xy  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %*`J k#W:  
8.4  W-膜层 148 W9D86]3Y  
8.5  V-膜层 149 (^u1~1E 5  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ]3KhgK%c8  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 C4~;yhz  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 = c>Qx"Sw  
8.9  四层抗反射薄膜 153 dt`{!lts'  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ,'p2v)p^4  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ~~SwCXZ+b^  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 #ZYVc|sT+  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 2ioQb`=  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 HA2k [F@3^  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 B:!W$ <  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 U2ZD]q  
8.17  1/4波长堆栈 162 89wU-Aggq  
8.18  陷波滤波器 163 m3mp/g.>  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 5lm<%  
8.20  褶皱 165 )e a:Q?  
8.21  消偏振分光器1 169 OU/MiyP2  
8.22  消偏振分光器2 171 ?84 s4BpV1  
8.23  消偏振立体分光器 172 n(L\||#+  
8.24  消偏振截止滤光片 173 v7DE  
8.25  立体偏振分束器1 174 8[J}CdS  
8.26  立方偏振分束器2 177 T)Y=zIQ1]7  
8.27  相位延迟器 178 Oh'Y0_oB>  
8.28  红外截止器 179 VxXzAeM  
8.29  21层长波带通滤波器 180 [&nh5 |f  
8.30  49层长波带通滤波器 181 <_XWWT%  
8.31  55层短波带通滤波器 182 U)o$WH.b  
8.32  47 红外截止器 183 @ )-$kk*  
8.33  宽带通滤波器 184 ^1L>l9F  
8.34  诱导透射滤波器 186 ea~:}!-P  
8.35  诱导透射滤波器2 188 W~p/,HcM  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 sH?/E6  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 e`v`XSA[p  
8.35  增益平坦滤波器 193  R#DwF,  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Ce")[<:  
8.39  啁啾反射镜2 198 =@8H"&y`  
8.40  啁啾反射镜3 199 zBJ7(zh!  
8.41  带保护层的铝膜层 200 |R#"Th6mH!  
8.42  增加铝反射率膜 201 ZJ 77[  
8.43  参考文献 202 !Wy[).ZAf  
9  多层膜 204 SY^dWLf  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 QtJg ^2@  
9.2  内部透过率 204 -M1YE  
9.3 内部透射率数据 205 `/MvQ/  
9.4  实例 206 NSFs\a@1  
9.5  实例2 210 $8'O  
9.6  圆锥和带宽计算 212 &09U@uc$  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 f uB)qt!E  
10  光学薄膜的颜色 216 9Y<#=C  
10.1  导言 216 `)Z!V?&!  
10.2  色彩 216 XbZ*&  
10.3  主波长和纯度 220 w1|A5q'M  
10.4  色相和纯度 221 /De^  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 | /|  
10.6 色差 226 iK IOh('G  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 BkZV!Eg  
10.8  颜色渲染指数 234 Z-B%'/.  
10.9  色差计算 235 'vbc#_;  
10.10  参考文献 236 & BvZF  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 hHPs&EA.p  
11.1  短脉冲 238 k3t78Qg  
11.2  群速度 239  N<L`c/  
11.3  群速度色散 241 `+/H^  
11.4  啁啾(chirped) 245 P\&! ]  
11.5  光学薄膜—相变 245 3s>'hn  
11.6  群延迟和延迟色散 246 l6u&5[C  
11.7  色度色散 246 ,JEbd1Uf  
11.8  色散补偿 249 :EtMH(  
11.9  空间光线偏移 256 lI/0:|l  
11.10  参考文献 258 2F8|I7R  
12  公差与误差 260 $^tv45  
12.1  蒙特卡罗模型 260 P=5NKg  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 3},Zlu  
12.2.1  误差工具 267 Oc&),ru2l  
12.2.2  灵敏度工具 271 ?v-1zCls  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 cMzkL%  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 8)VgS &B~  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 <fdPLw;@e4  
12.3  参考文献 276 !?[oIQ)h  
13  Runsheet 与Simulator 277 htPqT,L  
13.1  原理介绍 277 0 3~Ikll  
13.2  截止滤光片设计 277 somfv$'B  
14  光学常数提取 289 OSzjK7:  
14.1  介绍 289 Yn9j-`  
14.2  电介质薄膜 289 :Au /2  
14.3  n 和k 的提取工具 295 G*\h\ @  
14.4  基底的参数提取 302 cywg[  
14.5  金属的参数提取 306 %q_Miu@  
14.6  不正确的模型 306 ~k'V*ERNSj  
14.7  参考文献 311 iS@\ =CK  
15  反演工程 313 *(cU]NUH_  
15.1  随机性和系统性 313 TD04/ ISHT  
15.2  常见的系统性问题 314 Y(GN4@`S  
15.3  单层膜 314 AH.9A_dG  
15.4  多层膜 314 #Nte^E4  
15.5  含义 319 zL s^,x  
15.6  反演工程实例 319 l9{#sas  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 "uu)2Xe  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 EaS~`  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 !W1eUY  
16.1  光学性质的热致偏移 329 [V@yRWI  
16.2  应力工具 335 |0{ i9 .=  
16.3  均匀性误差 339 J"[3~&em  
16.3.1  圆锥工具 339 @~jxG%y86  
16.3.2  波前问题 341 7tH]*T9e>  
16.4  参考文献 343 Sb^ b)q"  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 9y"TDo  
17.1  引言 345 '7nJb6V,0l  
17.2  操作数 345 I$N7pobh  
18  如何在Function中编写脚本 351 X9'xn 0n;  
18.1  简介 351 xQz#i-v  
18.2  什么是脚本? 351 ~eo^`4O{{  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Zd>ZY,-5  
18.4  基础 352 J1-):3A  
18.4.1  Classes(类别) 352 Qp&?L"U)2  
18.4.2  对象 352 E:Y:X~vy  
18.4.3  信息(Messages) 352 P $h;SK  
18.4.4  属性 352 ",ad7Y7i  
18.4.5  方法 353 TczXHT}G  
18.4.6  变量声明 353 v,\93mNp[  
18.5  创建对象 354 r"]Oe$[#  
18.5.1  创建对象函数 355 u '@Ely  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $Z7:#cZ Y  
18.5.3 丢弃对象 356 &V;x 4  
18.5.4  总结 356 ocP*\NR  
18.6  脚本中的表格 357 7sN0`7  
18.6.1  方法1 357 jmPp-} tS7  
18.6.2  方法2 357 {Vl"m 2  
18.7 2D Plots in Scripts 358 M;@Ex`+?i  
18.8 3D Plots in Scripts 359 _&mc8ftT  
18.9  注释 360 'X ~Ab  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 8a!2zwUBV  
18.11  一个更高级的脚本 362 O &\<FT5  
18.12  <esc>键 364 QZYM9a>  
18.13 包含文件 365 7?]!Ecr"  
18.14  脚本被优化调用 366 cB36p&%  
18.15  脚本中的对话框 368 U:Fpj~E_w  
18.15.1  介绍 368 ;l#?SYY  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 5z[6rT=a  
18.15.3  输入框函数 370 JSUzEAKe  
18.15.4  自定义对话框 371 !z.^(Tj  
18.15.5  对话框编辑器 371 ep`/:iYW  
18.15.6  控制对话框 377 6%z`)d  
18.15.7  更高级的对话框 380 zPA>af~Ej  
18.16 Types语句 384 aEZJNWv  
18.17 打开文件 385 TR_(_Yd?36  
18.18 Bags 387 9cbB[c_.  
18.13  进一步研究 388 s~#?9vW  
19  vStack 389 q2D`1nT  
19.1  vStack基本原理 389 \J\vp0[nO}  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 6p e4Ni7I2  
19.3  五棱镜 393 2%*|fF}I  
19.4 光束距离 396 *Y^5M"AB_  
19.5 误差 399 jeyaT^F(   
19.6  二向分色棱镜 399 &AN%QhI  
19.7  偏振泄漏 404 wP+'04H0  
19.8  波前误差—相位 405 {=UKTk/t8  
19.9  其它计算参数 405 v UJ sFR  
20  报表生成器 406 30e(4@!4vW  
20.1  入门 406 ,[+ZjAyG}#  
20.2  指令(Instructions) 406 F&-5&'6G+  
20.3  页面布局指令 406 2I9{+>k  
20.4  常见的参数图和三维图 407 K1CMLX]m  
20.5  表格中的常见参数 408 8j({=xbg&  
20.6  迭代指令 408 u~j'NOv  
20.7  报表模版 408 )3d:S*ly  
20.8  开始设计一个报表模版 409 9p!dQx  
21  一个新的project 413 Zm?G'06  
21.1  创建一个新Job 414 KX&Od@cQ$  
21.2  默认设计 415 B]CS2LEqh  
21.3  薄膜设计 416 hwG||;&/H  
21.4  误差的灵敏度计算 420 GZ-n! ^  
21.5  显色指数计算 422 b3jU~L$  
21.6  电场分布 424 oQKcGUZ  
后记 426 KG7X8AaK#  
M<hs_8_*  
INeWi=1  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 UwzE'#Q-  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
?`BED6$`G9  
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目  录 8M5!5Jzv  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 J_)z:`[yE  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 s}p GJ&C  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 '+GVozc6c"  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ~]D \&D9=?  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 3IRRFIiO  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 b{ubp  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 %`<`z yf  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 kcZ;SYosj  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 +{ ,w#@  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vY TPZ@RL  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 au9Wo<mR  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 #uDBF  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Vzv.e6_  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 He$mu=$q{  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 (B~V:Yt  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 \Lh<E5@]  
86) 3XE[ 5  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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