上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 wIvo"|% 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 %
ZU/x
d 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 G;iEo4\? 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 _.)eL3OF 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Jf;?XP]z [attachment=120542] R
W/z1 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。
ZI>km?w 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 JCniN";r[ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 N_C;&hJN$w 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 (g!p>m!Z 1. Essential Macleod软件介绍 es:2M |#O 1.1 介绍软件 AONDx3[
1.2 创建一个简单的设计 >!6JKL~= 1.3 绘图和制表来表示性能 %3Z/+uT@v] 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 d9^E.8p$ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) {Tp2H_EG 1.6 特定设计的公式技术 ~%k ?L4% 1.7 交互式绘图 aBuoHdg; 2. 光学薄膜理论基础 ^C)n$L>C0 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 |,C#:"z; 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 lEjwgk { 3. 材料管理 A#wEuX=[ 3.1 材料模型 sYSLmUZ{ 3.2 介质薄膜光学常数的提取 7E$&2U^Js 3.3 金属薄膜光学常数的提取 7L5P%zLtB 3.4 基板光学常数的提取 YNdrWBf) 4. 光学薄膜设计优化方法 :a[Ihqfg 4.1 参考波长与g RBKOM$7 4.2 四分之一规则 3Hi+Z}8 4.3 导纳与导纳图
-T@`hk` 4.4 斜入射光学导纳 T.e.{yO 4.5 光学薄膜设计的进展 yBpk$ 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 X@N$Z{ 4.6.1 优化目标设置 s54nF\3V 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) +|cI:|H> 4.6.3 膜层锁定和链接 $m$;v<PSe 5. Essential Macleod中各个模块的应用 U%<rn(xWXD 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 XKOUQc4!R 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 n
1b(\PA 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 IXLO>>` 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 @exey 5.5 如何在Function中编写脚本 &7mW9] 6. 光学薄膜系统案例 ff?t[GS 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 UKd'+R] 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 1k8x%5p 6.3 Stack应用范例说明 f7urJ'!V 7. 薄膜性能分析 j1$8#/r;c 7.1 电场分布 7u.|XmUz 7.2 公差与灵敏度分析 !\ND( 7.3 反演工程 <Q< AwP 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 zSTR^sgJ 8. 真空技术 Pf_F59" 8.1 常用真空泵介绍 `bI)<B 8.2 真空密封和检漏 Lz9#A. 9. 薄膜制备技术 G`h+l< 9.1 常见薄膜制备技术 ^WYQ]@rh3 10. 薄膜制备工艺 FVsj; 10.1 薄膜制备工艺因素 <~emx'F| 10.2 薄膜均匀性修正技术 UM%o\BiO 10.3 光学薄膜监控技术 FwAKP>6 * 11. 激光薄膜 \kIMDg3} 11.1 薄膜的损伤问题 t
!`Jse> 11.2 激光薄膜的制备流程 CBT>"sYE1 11.3 激光薄膜的制备技术 ^ZeJ[t&!# 12. 光学薄膜特性测量 km5~Gc} 12.1 薄膜光谱测量 I+
l% Sn#\ 12.2 薄膜光学常数测量 GOy%^:Xd 12.3 薄膜应力测量 7Ey#u4Q 12.4 薄膜损伤测量 mdih-u(T| 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543]
,<,:8B
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] $o?@0
内容简介 `iKj Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <lxD}DH= 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 [U
=Uo* 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 'XOX@UH d M(q'%XL^
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 DC+wD
Bp; 5~
' Ie<Y_ 目录 :&XH?/Wi Preface 1 ,8G{]X) 内容简介 2 |+IZS/W" 目录 i ybdd;t}&1 1 引言 1 C_fY %O 2 光学薄膜基础 2 X<OSN&d
2.1 一般规则 2 Px@/Q 2.2 正交入射规则 3 I8Vb-YeS 2.3 斜入射规则 6 #_
C 2.4 精确计算 7 a?5[k}\ 2.5 相干性 8 g+8hp@a 2.6 参考文献 10 ~3h-j K? 3 Essential Macleod的快速预览 10 hPhZUL% 4 Essential Macleod的特点 32 .S\&L-{ 4.1 容量和局限性 33 XJ0{
4.2 程序在哪里? 33 W1aa:hEf 4.3 数据文件 35 d^ ZMS~\* 4.4 设计规则 35 m#H3:-h, 4.5 材料数据库和资料库 37 +A_J1iJ< 4.5.1材料损失 38 ,hxkk` 4.5.1材料数据库和导入材料 39 HG>j5 4.5.2 材料库 41 ,"}Rg1\4t 4.5.3导出材料数据 43 &Bb<4R 4.6 常用单位 43 `'_m\uo 4.7 插值和外推法 46 _>o-UBb4]T 4.8 材料数据的平滑 50 o/cjXun* 4.9 更多光学常数模型 54 M.}7pJ7f 4.10 文档的一般编辑规则 55 3B0lb"e 4.11 撤销和重做 56 R!
s6% :Yg 4.12 设计文档 57 L?&'xzt B 4.10.1 公式 58 QvPD8B 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0Sl]!PZR1 4.10.3 沉积密度 59 L}{`h 4.10.4 平行和楔形介质 60 D]! aT+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 1{"llD 4.10.4 性能 61 IputF<p 4.10.5 保存设计和性能 64 Pj#'}ru! 4.10.6 默认设计 64 %rKK[ 4.11 图表 64 vW,snxK6y& 4.11.1 合并曲线图 67 5m$2Ku 4.11.2 自适应绘制 68 q!'rz 4.11.3 动态绘图 68 c/W=$3 4.11.4 3D绘图 69 {2'm^0Kl 4.12 导入和导出 73 XdEPbD- 4.12.1 剪贴板 73 3M*Bwt;F_ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 jD,Baz< 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 <g8K})P 4.13 背景 77 7J$b$P0} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 I~eSZ?$s# 4.15 生成Rugate 84 i?;r7> 4.16 参考文献 91 n_K~vD 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ["<nq`~ 5.1 Jobs 92 OV CR0 5.2 创建一个新Job(工作) 93 aiCFH_H4;L 5.3 输入材料 94 C2e.2)y 5.4 设计数据文件夹 95 JYqSL)Ta*t 5.5 默认设计 95 $e%2t^ i.g 6 细化和合成 97 8Ad606 6.1 优化介绍 97 u8b2$D 6.2 细化 (Refinement) 98 PnT)LqEF 6.3 合成 (Synthesis) 100 Z*{]
, 6.4 目标和评价函数 101 <T?oKOD ] 6.4.1 目标输入 102 |BMV.Zi 6.4.2 目标 103 w6|9|f/ 6.4.3 特殊的评价函数 104 7;`o(
[N 6.5 层锁定和连接 104 ytEC 6.6 细化技术 104 yQS+P8x&|] 6.6.1 单纯形 105 6"T['6:j 6.6.1.1 单纯形参数 106 2 mjV~ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 1a0kfM$ 6.6.2.1 Optimac参数 108 AtS;IRN@ 6.6.3 模拟退火算法 109 DbX{#4lx 6.6.3.1 模拟退火参数 109 $Byj}^ ;1 6.6.4 共轭梯度 111 = 64r:E 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 84zTCX 6.6.5 拟牛顿法 112 td2/9|Q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 5vzceQE} 6.6.6 针合成 113 F^aR+m 6.6.6.1 针合成参数 114 I&c ~8Dw 6.6.7 差分进化 114 eS/B24;* 6.6.8非局部细化 115 9D\4n 6.6.8.1非局部细化参数 115 }Y(]6$uS 6.7 我应该使用哪种技术? 116 3{%LS"c 6.7.1 细化 116 Qq-"Cg@-/ 6.7.2 合成 117 n]W_e 6.8 参考文献 117 w^k;D,h 7 导纳图及其他工具 118 T<yP* b2E 7.1 简介 118 XK(`mEi
7.2 薄膜作为导纳的变换 118 .k{ j]{k 7.2.1 四分之一波长规则 119 ?C0l~:j7D 7.2.2 导纳图 120 tL
SN`6[: 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 oz'\q0 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ivgpS5 M`Y 7.5 斜入射导纳图 141 k#TYKft 7.6 对称周期 141 6~:Sgt nU 7.7 参考文献 142 SZ![%)83 8 典型的镀膜实例 143 v;#=e$%}MO 8.1 单层抗反射薄膜 145 c47")2/yO 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :yT-9Ze%q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 zboF
1v` 8.4 W-膜层 148 5y2?
f 8.5 V-膜层 149 5M]z5}n/ 8.6 V-膜层高折射基底 150 C.:=lo B 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 _zxLwU1(x 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )Ag/Qep 8.9 四层抗反射薄膜 153 0XwHP{XaO 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 .UCt|> $ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 lor8@Qz 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 *MNHT`Y^o 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 $v.C0 x 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 1xNVdI 8.15十五层宽带抗反射膜 159 NW|f7
ItX 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 p5=|Y^g ! 8.17 1/4波长堆栈 162 O/%< }3Sq 8.18 陷波滤波器 163 ~cAZB9Fa 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 q"KnLA( 8.20 褶皱 165 M
x5`yT7 8.21 消偏振分光器1 169 iVtl72O 8.22 消偏振分光器2 171 q+SD6qM 8.23 消偏振立体分光器 172 >M%\T}5 8.24 消偏振截止滤光片 173 V=I"-k}RL 8.25 立体偏振分束器1 174 @4~=CV%j 8.26 立方偏振分束器2 177 F1;lQA*7K. 8.27 相位延迟器 178 >>l`,+y 8.28 红外截止器 179 eC
DIwB28 8.29 21层长波带通滤波器 180 :_<_[Y]1 8.30 49层长波带通滤波器 181 _eSdnHWx 8.31 55层短波带通滤波器 182 K)7zKEp`cj 8.32 47 红外截止器 183 P47V:E% 8.33 宽带通滤波器 184 Bsf7mcXz7z 8.34 诱导透射滤波器 186 {P9J8@D 8.35 诱导透射滤波器2 188 >t,M 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 v1U?&C 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Rx07trfN 8.35 增益平坦滤波器 193 C#rc@r,F 8.38 啁啾反射镜 1 196 QR?yG+VU 8.39 啁啾反射镜2 198 ;?fS(Vz~ 8.40 啁啾反射镜3 199 uy _wp^ 8.41 带保护层的铝膜层 200 seFGJfN\?f 8.42 增加铝反射率膜 201 &hHW3Q(1 8.43 参考文献 202 gC%G;-gm 9 多层膜 204 %z]U LEYrZ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 P;ZU-G4@ 9.2 内部透过率 204 lv0nEj8F 9.3 内部透射率数据 205 #$~ba%t9% 9.4 实例 206 2N#$X'8 9.5 实例2 210 }TRAw#h 9.6 圆锥和带宽计算 212 x} /,yaWZ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 Zd^6ulx 10 光学薄膜的颜色 216 DF]9@{ 10.1 导言 216 <Tw>|cFT 10.2 色彩 216 'XQ`g CF= 10.3 主波长和纯度 220 #v#<itfFH 10.4 色相和纯度 221 :,;K>l^U 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ;DA8B'^> 10.6 色差 226 +i ?S 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 A,-6|&F 10.8 颜色渲染指数 234 e"]8T}, 10.9 色差计算 235 C,V%B 10.10 参考文献 236 N/YWb y=H 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 z't??6 11.1 短脉冲 238 9Gy 11.2 群速度 239 (YBMsh 11.3 群速度色散 241 ~0$NJrUy 11.4 啁啾(chirped) 245 5*PYT=p} 11.5 光学薄膜—相变 245 .Ig+Dj{) 11.6 群延迟和延迟色散 246 wHZW ` 11.7 色度色散 246 =@Dwlze 11.8 色散补偿 249 R2etB*k6[ 11.9 空间光线偏移 256 ~ *:F{ 11.10 参考文献 258 AT2v!mNyCw 12 公差与误差 260 .Xm(D>>k 12.1 蒙特卡罗模型 260 f-6vLX\Vu 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 :.(;<b<\ 12.2.1 误差工具 267 ?1L.:CS 12.2.2 灵敏度工具 271 U~{du;\ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 { pu85'DV 12.2.2.2 灵敏度分布 275 n%h^o 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 bQe^Px5
!. 12.3 参考文献 276 5vo.[^ty 13 Runsheet 与Simulator 277 o:Qv
JcB 13.1 原理介绍 277 IcP)FB4 13.2 截止滤光片设计 277 A,i75kd 14 光学常数提取 289 Vc^HVyAx@n 14.1 介绍 289 Yw _+`,W 14.2 电介质薄膜 289 3X9b2RY*L/ 14.3 n 和k 的提取工具 295 I8oo~2Qw 14.4 基底的参数提取 302 w6`9fX6{h 14.5 金属的参数提取 306 5<I 14.6 不正确的模型 306 [{4MR%-- 14.7 参考文献 311 `[o)<<} 15 反演工程 313 :^UFiUzrE 15.1 随机性和系统性 313 y(R?
,wa=] 15.2 常见的系统性问题 314 q'pK,uNW 15.3 单层膜 314 bo.(zAz 15.4 多层膜 314 d0'JC* 15.5 含义 319 ?!qY,9lhH 15.6 反演工程实例 319 W\1i,ew> 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 (F7(^.MG 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Y@'8[]=0 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Lb LiB*D#s 16.1 光学性质的热致偏移 329 }@if6(0 16.2 应力工具 335 q&C""!h^ 16.3 均匀性误差 339 {M,,npl 16.3.1 圆锥工具 339 ceNix!P 16.3.2 波前问题 341 rD>*j~_+P 16.4 参考文献 343 ,C3,TkA] 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 EpQ8a[<-3 17.1 引言 345 &.TTJsKG h 17.2 操作数 345 \uss Uv 18 如何在Function中编写脚本 351 W0I#\b18 18.1 简介 351 Spt?>sm 18.2 什么是脚本? 351 fdONP>K[E 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 o\vBOp?hj 18.4 基础 352 "
RxP^l 18.4.1 Classes(类别) 352 TLehdZ>^ 18.4.2 对象 352 ">?vir^ 18.4.3 信息(Messages) 352 <nEi<iAY>U 18.4.4 属性 352 [w ;kkMJAy 18.4.5 方法 353 G[jW<'f 18.4.6 变量声明 353 3Hf0MAt 18.5 创建对象 354 Z`YJBcXR 18.5.1 创建对象函数 355 &^4++ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 Q1@A2+ c 18.5.3 丢弃对象 356 1}~(Yj@f% 18.5.4 总结 356 6'xsG?{JY 18.6 脚本中的表格 357 \W,I?Kx$ 18.6.1 方法1 357 ^n0]dizB 18.6.2 方法2 357 }1IpON
18.7 2D Plots in Scripts 358 )>BHL3@ 18.8 3D Plots in Scripts 359 YuB+k^ 18.9 注释 360 1?Z4K/ 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 qWw\_S 18.11 一个更高级的脚本 362 n_'{^6*O 18.12 <esc>键 364 +{/ 18.13 包含文件 365 tDUwy^j 18.14 脚本被优化调用 366 K_&4D' 18.15 脚本中的对话框 368 w3$ 18.15.1 介绍 368 eF2|Wjl``; 18.15.2 消息框-MsgBox 368 aMTu-hA 18.15.3 输入框函数 370 47J5oPT2' 18.15.4 自定义对话框 371 B7imV@< 18.15.5 对话框编辑器 371 4*$G & TX 18.15.6 控制对话框 377 ~Jf{4*>y 18.15.7 更高级的对话框 380 sJNFFOz 18.16 Types语句 384 o=`C<} 18.17 打开文件 385 +
nF'a( 18.18 Bags 387 ;| 1$Q!4 18.13 进一步研究 388
O#I1V K 19 vStack 389 z?35=%~w 19.1 vStack基本原理 389 6uR^%W8] 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 :,)lm.}]t 19.3 五棱镜 393 K#. 19.4 光束距离 396 S{3nM< 19.5 误差 399 fDSv?crv 19.6 二向分色棱镜 399 ^Ox3XC 19.7 偏振泄漏 404 qgrg CJ 19.8 波前误差—相位 405 63A}TBC 19.9 其它计算参数 405 j)q\9#sI/( 20 报表生成器 406 Dl}$pN 20.1 入门 406 |ZQ@fmvL/p 20.2 指令(Instructions) 406 %Rsp;1Z 20.3 页面布局指令 406 Q%f|~Kl-hd 20.4 常见的参数图和三维图 407 +]Y,q
w 20.5 表格中的常见参数 408 GAAm0; 20.6 迭代指令 408 aFLO{t r` 20.7 报表模版 408 H$6`{lx, 20.8 开始设计一个报表模版 409 V(E/'DR 21 一个新的project 413 N\bocMc,X 21.1 创建一个新Job 414 >]c*'~G& |