上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 >z%WW&Z' 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ,Ij/
^EC} 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 &' y}L' 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 b`Jsu!?{ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 NO/5pz}1 [attachment=120542] glkH??S 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 OB^j
b8 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 gNkBHwv 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 B5R 7geC 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 !t{ 1. Essential Macleod软件介绍 pX$X8z% 1.1 介绍软件 ,% .)mf 1.2 创建一个简单的设计 [A]
+Azc 1.3 绘图和制表来表示性能 jR+kx:+ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 jfam/LL{V 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) (.wR!l#! 1.6 特定设计的公式技术 |@f\[v9` 1.7 交互式绘图 gO@LJ 2. 光学薄膜理论基础 M6V^ur 1 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *D`$oK,U 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ; 3sjTqD 3. 材料管理 C}pQFL{B5 3.1 材料模型 =rkW325O 3.2 介质薄膜光学常数的提取 F[)tg#}@G 3.3 金属薄膜光学常数的提取 T&:~= 3.4 基板光学常数的提取 PeLzZ'$D 4. 光学薄膜设计优化方法 t\v~ A0 4.1 参考波长与g uU-1;m#N? 4.2 四分之一规则 Bo'v!bI7 4.3 导纳与导纳图 r029E- 4.4 斜入射光学导纳 ZqjLZ9?q 4.5 光学薄膜设计的进展 S/l6c P 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Ka%#RNW 4.6.1 优化目标设置 k\g:uIsv$ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) QNx xW2+ 4.6.3 膜层锁定和链接 YTr+"\CkA 5. Essential Macleod中各个模块的应用 .&8a ;Q?c 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 @Q&k6.{4Z 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Wdga(8t 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {K:]dO 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 C<w&mFozL 5.5 如何在Function中编写脚本 Q|U
[|U 6. 光学薄膜系统案例 ]*Kv[%r07c 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 l|;]"&|_]c 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 >Nx4 +| 6.3 Stack应用范例说明 r$x;rL4 7. 薄膜性能分析 T#[#w*w/ 7.1 电场分布 dx$+,R~y 7.2 公差与灵敏度分析 0JqvV 7.3 反演工程 ,"YTG*ky
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
*D1vla8 8. 真空技术 Z.s0ddMs 8.1 常用真空泵介绍
Oq)7XL4 8.2 真空密封和检漏 ),^pi? 9. 薄膜制备技术 .kgt?r
9.1 常见薄膜制备技术 M)H*$!x}> 10. 薄膜制备工艺 #qK5i1< 10.1 薄膜制备工艺因素 E Q:6R|L 10.2 薄膜均匀性修正技术
+AFBTJ 10.3 光学薄膜监控技术 FJT0lC 11. 激光薄膜 h
R6Pj"@0 11.1 薄膜的损伤问题 Nu'ox. V 11.2 激光薄膜的制备流程 d"Zyc(Jk 11.3 激光薄膜的制备技术 ?0qP6'nWx 12. 光学薄膜特性测量 3UUN@Tx 12.1 薄膜光谱测量 %8d]JQ 12.2 薄膜光学常数测量 Dt iM}=: 12.3 薄膜应力测量 xLgZtLt9 12.4 薄膜损伤测量 U\-R'Z>M 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] wrsr U
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] GR_caP
内容简介 %36@1l-N Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 nyBT4e 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 KleiX7 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 !fjB oK+ \^jRMIM==
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 jdx T662q MIh\z7gW 目录 x0) WrDb Preface 1 Y%>u.HzL 内容简介 2 LC\U6J't1 目录 i Z#YNL-x 1 引言 1 BO%'/2eV 2 光学薄膜基础 2 KKWvV4u 2.1 一般规则 2 IFhS(3YK[ 2.2 正交入射规则 3 H6U5- 2.3 斜入射规则 6 Kx?8HA[5 2.4 精确计算 7 z\woTL6D] 2.5 相干性 8 .N`*jT 2.6 参考文献 10 ;k,@^f8 3 Essential Macleod的快速预览 10 v *`M3jb 4 Essential Macleod的特点 32 JV_VM{w{K 4.1 容量和局限性 33 P+QL||>L 4.2 程序在哪里? 33 7+qKA1t^ 4.3 数据文件 35 |"+Ufw^ 4.4 设计规则 35 9[sOh<W 4.5 材料数据库和资料库 37 &So1;RR,_M 4.5.1材料损失 38 ,i8%qm8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 n=|% H'U 4.5.2 材料库 41 0?dr( 4.5.3导出材料数据 43 [AA}P/iW 4.6 常用单位 43 n7yp6Db 4.7 插值和外推法 46 2U(qyC 4.8 材料数据的平滑 50 o$rF-? 4.9 更多光学常数模型 54 h_SkX@"/- 4.10 文档的一般编辑规则 55 ? Dn} 4.11 撤销和重做 56 3rjKwh7 4.12 设计文档 57 +w"?q'SnF 4.10.1 公式 58 JYv<QsD 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <Y2$'ETD 4.10.3 沉积密度 59 %%zlqd"0 4.10.4 平行和楔形介质 60 beSU[ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Hmnxmgx 4.10.4 性能 61 <fV][W 4.10.5 保存设计和性能 64 jL'`M%8O 4.10.6 默认设计 64 j#Tl\S!m.I 4.11 图表 64 -4P `:bF 4.11.1 合并曲线图 67 }W&9} 9p" 4.11.2 自适应绘制 68 &b7_%,Bx4 4.11.3 动态绘图 68 5;,h8vW 4.11.4 3D绘图 69 P{yb%@I~J 4.12 导入和导出 73 x":o*(rSQ 4.12.1 剪贴板 73 ?_cOU@n 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 `b%lojT. 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 _A])q 4.13 背景 77 Z*Gf`d: 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 C,GZ 4.15 生成Rugate 84 n.z,-H17 4.16 参考文献 91 DfP-(Lm) 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 qZ&~&f|>e 5.1 Jobs 92 0U H] 5.2 创建一个新Job(工作) 93 (<8}un 5.3 输入材料 94 v(!:HK0oeT 5.4 设计数据文件夹 95 w( _42)v]g 5.5 默认设计 95 9 <{C9 6 细化和合成 97 R&a$w8 6.1 优化介绍 97 ??U/Qi180 6.2 细化 (Refinement) 98 OZnKJ< 6.3 合成 (Synthesis) 100 &i.sSqSI5 6.4 目标和评价函数 101 7CvBE;i 6.4.1 目标输入 102 m[74 p 6.4.2 目标 103 )>S,#_e*b 6.4.3 特殊的评价函数 104 TlRc8r| 6.5 层锁定和连接 104 }v4dOGc? 6.6 细化技术 104 q!?*M?Oz 6.6.1 单纯形 105 b*M?\ aA 6.6.1.1 单纯形参数 106 Dfa3#{ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 7t:tS7{} 6.6.2.1 Optimac参数 108 $2?j2}M 6.6.3 模拟退火算法 109 VqpC@C$ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 v{fcQb 6.6.4 共轭梯度 111 !hhL", 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -!:5jfT" 6.6.5 拟牛顿法 112 RZ xwr 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 5<R m{ 6.6.6 针合成 113 s&(; 6.6.6.1 针合成参数 114 i>s 6.6.7 差分进化 114 ,<r&]
eC 6.6.8非局部细化 115 |=m.eU 6.6.8.1非局部细化参数 115 VL$
T 6.7 我应该使用哪种技术? 116 }$4z$& 6.7.1 细化 116 (rkg0 6.7.2 合成 117 Wi'}d6c 6.8 参考文献 117 LzNfMvh 7 导纳图及其他工具 118 wz*iwd- 7.1 简介 118 eY5mwJ0K 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ACdPF_Y] 7.2.1 四分之一波长规则 119 pX?3inQP%( 7.2.2 导纳图 120 Es%f@$0uy 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 JHt
U" 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Z,A $h>Z 7.5 斜入射导纳图 141 e12QYoh 7.6 对称周期 141 Q>Zc
eJ; 7.7 参考文献 142 MmR6V#@: 8 典型的镀膜实例 143 oDz|%N2s| 8.1 单层抗反射薄膜 145 P<<+;'] 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 {YzCgf 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "J 1A9| 8.4 W-膜层 148 AcPLJ!y 8.5 V-膜层 149 .4)oZ 8.6 V-膜层高折射基底 150 h@!p:] 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 :aej.>I0 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {_-kwg{"( 8.9 四层抗反射薄膜 153 jTvcKm|q 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 +*]$PVAFA 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 D=TS IJ@ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 L(VFzPkY% 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 %
/VCjuV 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ` 3qf}=Z` 8.15十五层宽带抗反射膜 159 alaL/p{O 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ;7QXs39S 8.17 1/4波长堆栈 162 ZH_$Q$9 8.18 陷波滤波器 163 /I=|;FGq 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 5@w6pda 8.20 褶皱 165 h|CZ~ 8.21 消偏振分光器1 169 hul,Yd) Z 8.22 消偏振分光器2 171 J rx^ 8.23 消偏振立体分光器 172 $nO~A7 8.24 消偏振截止滤光片 173 73;Y(uh9 8.25 立体偏振分束器1 174 x#D%3v"l_* 8.26 立方偏振分束器2 177 /Sw~<B!8N 8.27 相位延迟器 178 ub-3/T 8.28 红外截止器 179 SIJ7Y{\. 8.29 21层长波带通滤波器 180 QnWE;zN[7A 8.30 49层长波带通滤波器 181 ga5Q 8.31 55层短波带通滤波器 182 3%kUj 8.32 47 红外截止器 183 pAE
(i7 8.33 宽带通滤波器 184 fp' '+R[ 8.34 诱导透射滤波器 186 9Da{|FyrD 8.35 诱导透射滤波器2 188 qzUiBwUi@ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 *[Z`0AgP 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 z1mB Hz6 8.35 增益平坦滤波器 193 P R%)3 8.38 啁啾反射镜 1 196 djdTh
+>28 8.39 啁啾反射镜2 198 i%K6<1R;y{ 8.40 啁啾反射镜3 199 V*j l 8.41 带保护层的铝膜层 200 # )y`Zz{h 8.42 增加铝反射率膜 201 >1j#XA8 8.43 参考文献 202 -V/y~/]J 9 多层膜 204 |g&V? lI 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 TEz;:* ,CG 9.2 内部透过率 204 d @R7b^#g 9.3 内部透射率数据 205 3W?7hh 9.4 实例 206 gk%nF 9.5 实例2 210 |>;PV4])( 9.6 圆锥和带宽计算 212 |OH*c3~r 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 &=g3J4$z 10 光学薄膜的颜色 216 cRLw)"| 10.1 导言 216 a{kJ`fK 10.2 色彩 216 .4zzPD$1 10.3 主波长和纯度 220 fDy*dp4z 10.4 色相和纯度 221 "ko*-FrQ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ip-X r|Bq 10.6 色差 226 ^Arv6kD, 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 C+NN.5No 10.8 颜色渲染指数 234 !mlfG"FE 10.9 色差计算 235 J@5iD 10.10 参考文献 236 ?Q"andf 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <?.eU<+O`S 11.1 短脉冲 238 d{S'6*`D 11.2 群速度 239 duG!QS: 11.3 群速度色散 241
d$$5&a 11.4 啁啾(chirped) 245 dc)%5fV\ 11.5 光学薄膜—相变 245 %1i:*~g 11.6 群延迟和延迟色散 246
:^)?AO#J 11.7 色度色散 246 Jt8;ddz 11.8 色散补偿 249 tWIOy6` 11.9 空间光线偏移 256 fd'kv 11.10 参考文献 258 w"'
Pn`T 12 公差与误差 260 l
U/Xi 12.1 蒙特卡罗模型 260 Nc\DXc-N
12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ~B;}jI]d[ 12.2.1 误差工具 267 p1UloG\ 12.2.2 灵敏度工具 271 &>jz[3 12.2.2.1 独立灵敏度 271 syX?O'xJ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 Qt.*Z;Gs 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 '[$KG 12.3 参考文献 276 Z<X=00,wg 13 Runsheet 与Simulator 277 P]Fb0X 13.1 原理介绍 277 ~5P9^`KNH 13.2 截止滤光片设计 277 fpf]qQ
W~7 14 光学常数提取 289 cEL:5*cAU} 14.1 介绍 289 {)qr3-EM# 14.2 电介质薄膜 289 [%K6-\S 14.3 n 和k 的提取工具 295 Qder8I 14.4 基底的参数提取 302 'h$1
z$X5 14.5 金属的参数提取 306 l[E^nh> 14.6 不正确的模型 306 1
uU$V
= 14.7 参考文献 311 cO5F=ZxR 15 反演工程 313 "1a;);S=*) 15.1 随机性和系统性 313 9`f@"%h 15.2 常见的系统性问题 314 V(`]hH0;T 15.3 单层膜 314 l#[Z$+!09 15.4 多层膜 314 J1w[gf]J 15.5 含义 319 XUP{]w`.Z 15.6 反演工程实例 319 }d%CZnY&7 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 m"!SyN}&9? 15.6.2 反演工程提取折射率 327 A+l(ew5Lw$ 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 `rn/H;r!Z 16.1 光学性质的热致偏移 329 l= {Y[T& 16.2 应力工具 335 hV@ N-u^ 16.3 均匀性误差 339 ?M:>2wl 16.3.1 圆锥工具 339 4Fp[94b 16.3.2 波前问题 341 ta?NO{* 16.4 参考文献 343 lAnq2j| 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 _<AkM" 17.1 引言 345 ?s2-iuMPd 17.2 操作数 345 &PJ;B)b 18 如何在Function中编写脚本 351 KS*,'hvY 18.1 简介 351 ?|ZbQz(bL 18.2 什么是脚本? 351 ,7wYa& 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 1m5l((d 18.4 基础 352 d[6 'w ? 18.4.1 Classes(类别) 352 2Hd\>{* 18.4.2 对象 352 Hhtl~2t!0 18.4.3 信息(Messages) 352 XZ%[;[ 18.4.4 属性 352 (u tP@d^ 18.4.5 方法 353 kN/YnY*J< 18.4.6 变量声明 353 ~\am%r> 18.5 创建对象 354 0`E G-Hw 18.5.1 创建对象函数 355 _*H Hdd5I 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 ChK-L6 18.5.3 丢弃对象 356 TU6s~ 18.5.4 总结 356 LcGKYl(\K 18.6 脚本中的表格 357 ;O7"!\ 18.6.1 方法1 357 4`8s]X 18.6.2 方法2 357 g>t1rZ 18.7 2D Plots in Scripts 358 eKOEOm+ 18.8 3D Plots in Scripts 359 K+)3 LR^ 18.9 注释 360 g**!'T4&o 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 2OoANiX 18.11 一个更高级的脚本 362 4w+AOWjd 18.12 <esc>键 364 K/zb6=-> 18.13 包含文件 365 \a+Q5g 18.14 脚本被优化调用 366 9]v,3'QI 18.15 脚本中的对话框 368 tU?BR<q 18.15.1 介绍 368 +q
pW"0[ 18.15.2 消息框-MsgBox 368 "73*0'm 18.15.3 输入框函数 370 _&]7 18.15.4 自定义对话框 371 M d4Q.8 18.15.5 对话框编辑器 371 ^`!+7! 18.15.6 控制对话框 377 t{c:<nN 18.15.7 更高级的对话框 380 ND1hZ3(^ 18.16 Types语句 384 H5 z1_O_+ 18.17 打开文件 385 :#g.%& 18.18 Bags 387 +rv##Z 18.13 进一步研究 388 z]9t 5I 19 vStack 389 (d#&m+
g] 19.1 vStack基本原理 389 :m`D 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 C&yZ` [K 19.3 五棱镜 393 d 0B`5#4 19.4 光束距离 396 U@q5`4-!8 19.5 误差 399 CF>&mXg\ 19.6 二向分色棱镜 399 Ug+ K:YUq 19.7 偏振泄漏 404 Lk|`\I
T 19.8 波前误差—相位 405 oz=V|7, 19.9 其它计算参数 405 I8! .n 20 报表生成器 406 #M~yt`R~ 20.1 入门 406 oh-EEo4, 20.2 指令(Instructions) 406 }vh
<x6 20.3 页面布局指令 406 Y-bTKSn 20.4 常见的参数图和三维图 407 hV~M!vFxA 20.5 表格中的常见参数 408 8XYxyOl 20.6 迭代指令 408 JOG-i 20.7 报表模版 408 Pd+*syOM 20.8 开始设计一个报表模版 409 SZT n=\ 21 一个新的project 413 0UJ6>Rj 21.1 创建一个新Job 414 VHPqEaR 21.2 默认设计 415 SZXSVz0j 21.3 薄膜设计 416 rmggP( 21.4 误差的灵敏度计算 420 ?5CE<[ 21.5 显色指数计算 422 6fw7\u 21.6 电场分布 424 F5X9)9S 后记 426 WyOav6/*K^ d-b<_k{p 1Du5Z9AM 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 8?8V; 0rL.~2)V 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] \)5mO 8w sSfP.R 目 录 7 q!==P= ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 C-A?
mIC 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 [_jw8` 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 /:]<z6R 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 4L:O0Ggz} 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 2H w7V3q 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 842v^ 2 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Yr"Of*VNH 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Pk;/4jt4 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ~ Rk.x
+ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 0R? @JC 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 _IdW5G 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Wu*
4r0 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 U"/T`f'H z 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 g%Tokl 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Mi#i 3y( 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 {St- xTuJ~$( 价 格:400元
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