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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 W ,]Ua]  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 &t6SI'  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 l u{6  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 +j8-l-o  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 FiXE0ZI$0q  
[attachment=120542] nU2w\(3|  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 AuBBSk8($  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ,n>K$  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 /kO%aN  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 '8@4FXK  
1. Essential Macleod软件介绍 BGu<1$ G  
1.1 介绍软件 "%rU1/@#  
1.2 创建一个简单的设计 1u }2}c|  
1.3 绘图和制表来表示性能 Gch3|e  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 ~ sWXd~\  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) uCWBM  
1.6 特定设计的公式技术 9!Fg1 h=  
1.7 交互式绘图 a72L%oJ   
2. 光学薄膜理论基础 ;_=dB[M  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 =C^4nP-  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 h?->A#  
3. 材料管理 3JF" O+@  
3.1 材料模型 `yRt?UQRS  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 9m%+6#|  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ZJjm r,1  
3.4 基板光学常数的提取 +' .o  
4. 光学薄膜设计优化方法 uxW<Eh4H*  
4.1 参考波长与g %=vU Z4  
4.2 四分之一规则 ]==S?_.B3n  
4.3 导纳与导纳图 S09Xe_q  
4.4 斜入射光学导纳 gm: xtN  
4.5 光学薄膜设计的进展 O%} hNTS"  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 0v3 8LBH)  
4.6.1 优化目标设置 {]7lh#M  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) qFY>/fCP4  
4.6.3 膜层锁定和链接 IfCa6g<&(  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 A_.}- dzF  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 =cx_3gCr{  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4(8BWP~.y2  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 |1+ mHp  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 CL!s #w1I\  
5.5 如何在Function中编写脚本 =MmAnjo  
6. 光学薄膜系统案例 ;,@Fz  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 7wbpQ&1_  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 FeZGPxc~  
6.3 Stack应用范例说明 W)odaab7  
7. 薄膜性能分析 bW^{I,b<F  
7.1 电场分布 z) "(&__  
7.2 公差与灵敏度分析 q9$K.=_5  
7.3 反演工程 A=wh&X  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 i%r+/D)KvG  
8. 真空技术 mbIHzzW>  
8.1 常用真空泵介绍 W3B:)<f  
8.2 真空密封和检漏 6lQP+! EF  
9. 薄膜制备技术 9%?a\#C  
9.1 常见薄膜制备技术 DC'L-]#<  
10. 薄膜制备工艺 m*>gG{3;  
10.1 薄膜制备工艺因素 Okd7ua-f  
10.2 薄膜均匀性修正技术 IG8I<+<o  
10.3 光学薄膜监控技术 nS^,Sq\Ak  
11. 激光薄膜 [5MV$)"!j  
11.1 薄膜的损伤问题 8iUKG  
11.2 激光薄膜的制备流程 'u:J "  
11.3 激光薄膜的制备技术 &f/"ir[8i  
12. 光学薄膜特性测量 iz6+jHu'l  
12.1 薄膜光谱测量 jh~E!%d77  
12.2 薄膜光学常数测量 B5#>ieM*  
12.3 薄膜应力测量 i#Z#(D `m  
12.4 薄膜损伤测量 JuR x>F4  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
~Z ;.n p(T  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
1Zgv+.  
内容简介 ;fm> \f  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aydf# [F  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 mFuHZ)iQG  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 <s (o?U  
,+'VQa"]  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
/}3I:aJwb  
cx*$GaMk  
目录 o? wEX%  
Preface 1 cnU()pd  
内容简介 2 T2ZN=)xZ1  
目录 i V`"Cd?R0Z  
1  引言 1 d PF*G$  
2  光学薄膜基础 2 ?p &Xf>K  
2.1  一般规则 2 jlaC: (6  
2.2  正交入射规则 3 ZtOv'nTD  
2.3  斜入射规则 6 _>Oc> .MB  
2.4  精确计算 7 NPt3#k^bW  
2.5  相干性 8 [}?E,1Q3  
2.6 参考文献 10 wl%I(Cw{]  
3  Essential Macleod的快速预览 10 1<pb=H  
4  Essential Macleod的特点 32 SM[VHNr,-  
4.1  容量和局限性 33 NrfAr}v'E  
4.2  程序在哪里? 33 )$QZ",&5  
4.3  数据文件 35 X/A(8rvCr  
4.4  设计规则 35 I\$?'q>  
4.5  材料数据库和资料库 37 'F Cmbry  
4.5.1材料损失 38 x8RiYi+  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 /*m6-DC  
4.5.2 材料库 41 ST[E$XL6  
4.5.3导出材料数据 43 t^g+nguz  
4.6  常用单位 43 7y=1\KW(  
4.7  插值和外推法 46 j.SE'a_  
4.8  材料数据的平滑 50 3u1\zse  
4.9 更多光学常数模型 54 \-{2E  
4.10  文档的一般编辑规则 55 WTu1t]  
4.11 撤销和重做 56 ~Da-|FKa>  
4.12  设计文档 57 FtybF  
4.10.1  公式 58 3ZX#6*(}2  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 RtF!(gd  
4.10.3  沉积密度 59 [g$IN/o%  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;Bne=vjQp  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 o:lMRP~  
4.10.4  性能 61 kQO5sX$;  
4.10.5  保存设计和性能 64 Poxoc-s  
4.10.6  默认设计 64 (kSb74*g  
4.11  图表 64 .}iRe}=  
4.11.1  合并曲线图 67 w9CX5Fg  
4.11.2  自适应绘制 68 Gn 1  
4.11.3  动态绘图 68 256V xn  
4.11.4  3D绘图 69 a*!9RQ  
4.12  导入和导出 73 9K=K,6 b  
4.12.1  剪贴板 73 gmtS3,  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 M8f[ck  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 8k?V&J `  
4.13  背景 77 \r- v]]_<d  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 8,]wOxwqi  
4.15  生成Rugate 84 M~g@y$  
4.16  参考文献 91 P B{7u  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 GCp90  
5.1  Jobs 92 fs8C ^Ik>~  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ZKVM9ofXRi  
5.3  输入材料 94 -5,+gakSk  
5.4  设计数据文件夹 95 .8]=yPm  
5.5  默认设计 95 e J:#vX86  
6  细化和合成 97 j&`D{z-c~  
6.1  优化介绍 97 r ['zp=9  
6.2  细化 (Refinement) 98 UW-`k1  
6.3  合成 (Synthesis) 100 hGo/Ve+@  
6.4  目标和评价函数 101 X92I==-w  
6.4.1  目标输入 102 ~?KbpB|  
6.4.2  目标 103 b:x*Hjf  
6.4.3  特殊的评价函数 104 \d QRQL{LL  
6.5  层锁定和连接 104 lk4$c1ao2@  
6.6  细化技术 104 h`Xl~=  
6.6.1  单纯形 105 JgcMk]|'  
6.6.1.1 单纯形参数 106 +"PME1  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 >,n K  
6.6.2.1 Optimac参数 108 1c:/c|shQ_  
6.6.3  模拟退火算法 109 fILD~  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 L}>ts(!q&  
6.6.4  共轭梯度 111 "_ON0._(/  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 0t)5KO  
6.6.5  拟牛顿法 112 (YHK,aC>u  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 KZ|p_{0&  
6.6.6  针合成 113 10m`LG  
6.6.6.1 针合成参数 114 CjLiLB  
6.6.7 差分进化 114 W(PNw2  
6.6.8非局部细化 115 @gm!D`YL  
6.6.8.1非局部细化参数 115 a-9sc6@  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 8!7`F.BX  
6.7.1  细化 116 ^6 \@$   
6.7.2  合成 117 f&C]}P  
6.8  参考文献 117 K]ds2Kp&  
7  导纳图及其他工具 118 M(W-\ L  
7.1  简介 118 kS)|oU K  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ?P Mi#H  
7.2.1  四分之一波长规则 119 FK;2u $:  
7.2.2  导纳图 120 ePTN^#|W  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 h~k+!\  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 M|qJZ#{4>  
7.5  斜入射导纳图 141 &H?Vlx Ix  
7.6  对称周期 141 b%e7rY2  
7.7  参考文献 142 8 %^W<.Y  
8  典型的镀膜实例 143 EP8R[Q0_"  
8.1  单层抗反射薄膜 145 (sEZNo5n  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 5h p)Z7  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 10r9sR  
8.4  W-膜层 148 ~uEI}z  
8.5  V-膜层 149 +aRHMH  
8.6  V-膜层高折射基底 150 laaoIL^  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 W+aW2  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 &(~"OD  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ~{[,0,lWU  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Tywrh9[  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 JO\KTWtjO  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ilFS9A3P  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 T_~xDQ`v  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ;ZR^9%+y9  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 H;RgYu2J  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 WRN}>]NgQ  
8.17  1/4波长堆栈 162 ;f2<vp;U  
8.18  陷波滤波器 163 _sIr'sR~  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 L$=a,$  
8.20  褶皱 165 ?^{Ey[)'(  
8.21  消偏振分光器1 169 r+}<]?aT>-  
8.22  消偏振分光器2 171 Z/b,aZhB  
8.23  消偏振立体分光器 172 RzqU`<//  
8.24  消偏振截止滤光片 173 #\MkbZc d  
8.25  立体偏振分束器1 174 Q@.%^1Mp  
8.26  立方偏振分束器2 177 nLBi} T  
8.27  相位延迟器 178 B[[1=  
8.28  红外截止器 179 ". wG~H  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Hu$JCB-%  
8.30  49层长波带通滤波器 181 s7:w>,v/  
8.31  55层短波带通滤波器 182 'z">4{5  
8.32  47 红外截止器 183 "oT]_WHqo  
8.33  宽带通滤波器 184  Rlx  
8.34  诱导透射滤波器 186 \-I)dMm[  
8.35  诱导透射滤波器2 188 'd9cCQ}  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 (.~'\@  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &%@>S.  
8.35  增益平坦滤波器 193 Q&?B^[N*Q  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Kg#s<#h  
8.39  啁啾反射镜2 198 DWu~%U8  
8.40  啁啾反射镜3 199 q4ej7T8  
8.41  带保护层的铝膜层 200 qgsw8O&  
8.42  增加铝反射率膜 201 wI2fCq(a0  
8.43  参考文献 202 u|\K kk  
9  多层膜 204 WvWZzlw  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 T%1Kh'92  
9.2  内部透过率 204 Fo&ecWhw  
9.3 内部透射率数据 205 v QDkZ  
9.4  实例 206 R!7a;J}  
9.5  实例2 210 M pLn)  
9.6  圆锥和带宽计算 212 BaE}|4  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 =N{-lyr)  
10  光学薄膜的颜色 216 K${CHKFf  
10.1  导言 216 LQ4F/[1}  
10.2  色彩 216 rcG-V f@  
10.3  主波长和纯度 220 ~Ec@hz]js  
10.4  色相和纯度 221 mNr<=Z%b  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 a|@1RH>7H  
10.6 色差 226 UJGmaE  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 dV+GWJNNE  
10.8  颜色渲染指数 234 JL&ni]m  
10.9  色差计算 235 3G-f+HN^E  
10.10  参考文献 236 K@;ls  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 !6{b)P  
11.1  短脉冲 238 3Tr}t.mt  
11.2  群速度 239 q|.K& @_'K  
11.3  群速度色散 241 N;XJMk_ H  
11.4  啁啾(chirped) 245 d,%@*v]S  
11.5  光学薄膜—相变 245 w}Xy;0c  
11.6  群延迟和延迟色散 246 vKNxL^x  
11.7  色度色散 246 v@ OM  
11.8  色散补偿 249 s&Qil07 Vl  
11.9  空间光线偏移 256 K2t|d[r  
11.10  参考文献 258 wvg>SfV,e  
12  公差与误差 260 bL18G(5  
12.1  蒙特卡罗模型 260 +0FmeM&`h_  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 "Yf?33UNZ  
12.2.1  误差工具 267 nv"D  
12.2.2  灵敏度工具 271 XX'Rv]T  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 VWcR@/3  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 >rzpYc'~w  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 5}_DyoV  
12.3  参考文献 276 ^tFgkzXm  
13  Runsheet 与Simulator 277 <D{_q.`vA  
13.1  原理介绍 277 cy4V*zwp  
13.2  截止滤光片设计 277 O8S"B6?$~'  
14  光学常数提取 289 3?oj46gP  
14.1  介绍 289 0P6< 4  
14.2  电介质薄膜 289 O{`r.H1',  
14.3  n 和k 的提取工具 295 $)Pmr1==  
14.4  基底的参数提取 302  p(Bn!  
14.5  金属的参数提取 306 F6\r"63  
14.6  不正确的模型 306 E>6:59+  
14.7  参考文献 311 JIyIQg'5i  
15  反演工程 313 B%d2tsDw  
15.1  随机性和系统性 313 Ok2>%e  
15.2  常见的系统性问题 314 p&ml$N9fd  
15.3  单层膜 314 Z]I yj 97  
15.4  多层膜 314 'HDbU#vD  
15.5  含义 319 3RTraF  
15.6  反演工程实例 319 YKs^aQm#  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 rC!~4xj-  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 SgocHpyg  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 (~FLG I  
16.1  光学性质的热致偏移 329 r)SwV!b  
16.2  应力工具 335 (J^2|9r  
16.3  均匀性误差 339 -KG3_kE  
16.3.1  圆锥工具 339 27Ve$Q8]v  
16.3.2  波前问题 341 U i ~*]  
16.4  参考文献 343 bbO1`b-  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 I7nZ9n|KU  
17.1  引言 345 y-c2tF@'v  
17.2  操作数 345 7T3ub3\  
18  如何在Function中编写脚本 351 ]1<O [d  
18.1  简介 351 @}cZxFQ!C  
18.2  什么是脚本? 351 A_WtmG_9  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 v/yt C/WH"  
18.4  基础 352 "m:4e`_dz  
18.4.1  Classes(类别) 352 )gR !G]Y  
18.4.2  对象 352 ;eRYgC  
18.4.3  信息(Messages) 352 va/$dD9  
18.4.4  属性 352 7}<05 7Xn'  
18.4.5  方法 353 SlZ>N$E  
18.4.6  变量声明 353 *!*J5/ b  
18.5  创建对象 354 s) vHLf4T  
18.5.1  创建对象函数 355 @gZ<!g/vza  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 C,xM) V^a  
18.5.3 丢弃对象 356 0FV?By  
18.5.4  总结 356 E5<}7Pt  
18.6  脚本中的表格 357 d?/?VooU  
18.6.1  方法1 357 ?Q)z5i'g#  
18.6.2  方法2 357 (fjAsbT  
18.7 2D Plots in Scripts 358 n8eR?'4  
18.8 3D Plots in Scripts 359 6Q. _zk  
18.9  注释 360 >"Z^8J  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 THM\-abz  
18.11  一个更高级的脚本 362 [1Yx#t  
18.12  <esc>键 364 ^c{,QS{  
18.13 包含文件 365 xED`8PCfu  
18.14  脚本被优化调用 366 #~r+   
18.15  脚本中的对话框 368 YolO-5  
18.15.1  介绍 368 [~ sXjaL8  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 u,e(5LU  
18.15.3  输入框函数 370 ~_TmS9  
18.15.4  自定义对话框 371 ;y7V-sf  
18.15.5  对话框编辑器 371 /QsFeH  
18.15.6  控制对话框 377 < ealt  
18.15.7  更高级的对话框 380 Xp=Y<`dX  
18.16 Types语句 384 b g'B^E3  
18.17 打开文件 385 _|S>, D'  
18.18 Bags 387 T7AFL=  
18.13  进一步研究 388 e4V4%Qw  
19  vStack 389 Ne<"o]_M  
19.1  vStack基本原理 389 QJ`#&QRp  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 N;A #3Ter  
19.3  五棱镜 393 pHFh7-vj  
19.4 光束距离 396 HV`{YuP  
19.5 误差 399 4-4lh TE(  
19.6  二向分色棱镜 399 iAX\F`  
19.7  偏振泄漏 404 dF{3 ~0+,  
19.8  波前误差—相位 405 v2dCkn /  
19.9  其它计算参数 405 8=!M0i  
20  报表生成器 406 {R7>-Y[4)2  
20.1  入门 406 .#uRJo%8  
20.2  指令(Instructions) 406 ~ySmN}3~'  
20.3  页面布局指令 406 {_1^ GIIS  
20.4  常见的参数图和三维图 407 9x,Aqr$t  
20.5  表格中的常见参数 408 *J!oV0#1  
20.6  迭代指令 408 <R7* 00  
20.7  报表模版 408 :".:Wd  
20.8  开始设计一个报表模版 409 Q/6T?{\U7  
21  一个新的project 413 U A T46  
21.1  创建一个新Job 414 =z]&E 78Y  
21.2  默认设计 415 GdavCwJ  
21.3  薄膜设计 416 ~F*pV*  
21.4  误差的灵敏度计算 420 f- pt8  
21.5  显色指数计算 422 p#O#M N*  
21.6  电场分布 424 WIXzxI<)  
后记 426 ^Ois]#py  
lnW/T--  
5+GW% U/  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 xTX\% s|  
]nN']?{7PW  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
PGMu6$  
[UquI "  
目  录 ??{(.`}R~  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 mSAuS)YD  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 a J[VX)"J  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 4x=rew>Ew  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ={b/s31H:  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 0\wMlV`F  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 T1;yw1/m5\  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ;C-5R U V  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 3=) /-l  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 673v  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 -B$oq8)n*  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 <\?ySto  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 $Ha?:jSc  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 +Bv{A3E9  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Es zwg  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 &qFdP'E;$  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 P6S^wjk  
d6<,R;)  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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