上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 Q>Zc
eJ; 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 oDz|%N2s| 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 C;N6",s! 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 [eDrjf3m 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 89g
a+#7 [attachment=120542] !S#3mT- 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 0lg$zi x( 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要
j)?M 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 V0>X2&.A 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 gM\>{ihM' 1. Essential Macleod软件介绍 Qs6Vu)U= 1.1 介绍软件 ir_XU/ve 1.2 创建一个简单的设计 bOFzq>k_ 1.3 绘图和制表来表示性能 yu6{ 6[
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 alaL/p{O 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) =cS&>MT 1.6 特定设计的公式技术 G`Nw]_
Z_ 1.7 交互式绘图 25$_tZPAI 2. 光学薄膜理论基础 ,PTM'O@aU# 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 %o0b~R 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ew~Z/ A 3. 材料管理 %8FfP5# 3.1 材料模型 `
kT\V' 3.2 介质薄膜光学常数的提取 o utJ/~9; 3.3 金属薄膜光学常数的提取 j Q5 F} 3.4 基板光学常数的提取 7__[=)(b2X 4. 光学薄膜设计优化方法 4,I,f>V 4.1 参考波长与g hG?y)g\A 4.2 四分之一规则 S4x9k{Xn 4.3 导纳与导纳图 9\_AB.Z: 4.4 斜入射光学导纳 4>*=q*<V5E 4.5 光学薄膜设计的进展 $[>{s9E 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nK1eh@a9Qv 4.6.1 优化目标设置 WigtTAh4 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) _O`p (6 4.6.3 膜层锁定和链接 !p&<.H_ 5. Essential Macleod中各个模块的应用 J\L'HIs 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 i1vz{Tc 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 _QL|pLf- 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 .<%tu 0 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 r&]XNq'P9 5.5 如何在Function中编写脚本 d`^3fr'.4A 6. 光学薄膜系统案例
8G:/f3B= 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 jIubJQR~ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 n/_q 6.3 Stack应用范例说明 g,Ob/g8uc 7. 薄膜性能分析 *7xcwjeP 7.1 电场分布 z9aR/:W} 7.2 公差与灵敏度分析 r1L@p[> 7.3 反演工程 U>2KjZB 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |[?Otv 8. 真空技术 ;g0Q_F@;p 8.1 常用真空泵介绍 t*IePz] / 8.2 真空密封和检漏 ):$KM{X 9. 薄膜制备技术 Ei!Z]jeK 9.1 常见薄膜制备技术 DBAyc# 10. 薄膜制备工艺 fsL9d} 10.1 薄膜制备工艺因素 d%7?913 10.2 薄膜均匀性修正技术 4 /_jrZO 10.3 光学薄膜监控技术 *9\j1Nd 11. 激光薄膜 hVzyvpw 11.1 薄膜的损伤问题 4 Ej->T. 11.2 激光薄膜的制备流程 6$urrSQ`N0 11.3 激光薄膜的制备技术 //63|;EEkl 12. 光学薄膜特性测量 cp`Jep<T 12.1 薄膜光谱测量 Wk%|%/: 12.2 薄膜光学常数测量 >(RkoExO/ 12.3 薄膜应力测量 Cbff:IP 12.4 薄膜损伤测量 32ki ?\P 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] .LDZqWr-
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] iB)\*)
内容简介 $JY\q2 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 6>]_H(z7 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 wH~A>
4*( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Nc\DXc-N
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 L`nW&;w' !n-Sh<8 目录
|vs5N2_ Preface 1 =yod 内容简介 2 )L b` 4B 目录 i r2RJb6 1 引言 1 VIAq$iu7 2 光学薄膜基础 2 kLgkUck8] 2.1 一般规则 2 #*iUZo 2.2 正交入射规则 3 #}^waYAk) 2.3 斜入射规则 6 4/(#masIL 2.4 精确计算 7 U"GxXrl 2.5 相干性 8 u"0{)
, 2.6 参考文献 10 "@G[:(BoB< 3 Essential Macleod的快速预览 10 H:DR?'yW 4 Essential Macleod的特点 32 ._rPM>B? 4.1 容量和局限性 33 [Mu9"kF 4.2 程序在哪里? 33 ]+I9{%zB%8 4.3 数据文件 35 PysDDU}v 4.4 设计规则 35 9k6s 4.5 材料数据库和资料库 37 PNm@mC_fh 4.5.1材料损失 38 dj0%?g> 4.5.1材料数据库和导入材料 39 pT,8E(*l2 4.5.2 材料库 41 QM(xMq
4.5.3导出材料数据 43 AS;Sz/YP 4.6 常用单位 43 D\Ez~.H 4.7 插值和外推法 46 xa)p, 4.8 材料数据的平滑 50 _^_3>}y5op 4.9 更多光学常数模型 54 /r7xA}se^ 4.10 文档的一般编辑规则 55 yY8zTWji_ 4.11 撤销和重做 56 89M'klZ 4.12 设计文档 57 `CWhjL8^ 4.10.1 公式 58 z6`0Uv~ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Htgo=7!?\3 4.10.3 沉积密度 59 fqI67E$59 4.10.4 平行和楔形介质 60 f-M:ap(O 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 _$UJ'W})/ 4.10.4 性能 61 kZ5#a)U< 4.10.5 保存设计和性能 64 $#rkvG_w 4.10.6 默认设计 64 q(n"r0)= 4.11 图表 64 KS*,'hvY 4.11.1 合并曲线图 67 Z
)c\B 4.11.2 自适应绘制 68 uw3vYYFX 4.11.3 动态绘图 68 1]/;qNEv 4.11.4 3D绘图 69 d[6 'w ? 4.12 导入和导出 73 6k hBT'n 4.12.1 剪贴板 73 =q VT 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 y,:WLk~ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 LuySa2, 4.13 背景 77 =dQ[I6 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 $W7}Igx# 4.15 生成Rugate 84 6/<Hx@r ( 4.16 参考文献 91 &5y 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 1J[$f>%n] 5.1 Jobs 92 Cf(WO-F^ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 /phMrL= 5.3 输入材料 94 J$6WU z:? 5.4 设计数据文件夹 95 ,P9F*;Dj 5.5 默认设计 95 -*7i:mg 6 细化和合成 97 #ZJ 1\Ov 6.1 优化介绍 97 ~u%$ 9IhM 6.2 细化 (Refinement) 98 azZtuDfv 6.3 合成 (Synthesis) 100 /xUF@%rT 6.4 目标和评价函数 101 [7}3k?42X 6.4.1 目标输入 102 K/zb6=-> 6.4.2 目标 103 %?[gBf[y 6.4.3 特殊的评价函数 104 ,\i*vJ#f 6.5 层锁定和连接 104 tU?BR<q 6.6 细化技术 104 |tAkv 6.6.1 单纯形 105 '9!_:3[d\] 6.6.1.1 单纯形参数 106 =@d#@ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 yP7b))AW9 6.6.2.1 Optimac参数 108 xT 06*wQ 6.6.3 模拟退火算法 109 Z5xQ
-T` 6.6.3.1 模拟退火参数 109 t]SB.ja 6.6.4 共轭梯度 111 t{c:<nN 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 c>$d!IKCL 6.6.5 拟牛顿法 112 B& @ pZYl 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 RNc:qV<H 6.6.6 针合成 113 wn@~80)$ 6.6.6.1 针合成参数 114 (2eS:1+'8 6.6.7 差分进化 114 ,marNG 6.6.8非局部细化 115 s'yR2JYv 6.6.8.1非局部细化参数 115 [y8(v ~H 6.7 我应该使用哪种技术? 116 x1Gx9z9 6.7.1 细化 116 -F?97&G$ 6.7.2 合成 117 Stwg[K0< 6.8 参考文献 117 {>
,M 7 导纳图及其他工具 118 *sldv 7.1 简介 118 /wEl\Kx 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 >/74u/& 7.2.1 四分之一波长规则 119 ho$}#o 7.2.2 导纳图 120 9C)VW 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 \i+AMduAo 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 c1E{J<pZ 7.5 斜入射导纳图 141 Q~(Qh_Ff 7.6 对称周期 141 S"*k#ao 7.7 参考文献 142 B>1,I'/$. 8 典型的镀膜实例 143 ?;o0~][! 8.1 单层抗反射薄膜 145 G2N0'R" 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 w)|9iL8 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 R]yce2w" z 8.4 W-膜层 148 |= cc >] 8.5 V-膜层 149 &Y^4>y% 8.6 V-膜层高折射基底 150 ^1~lnD~0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 2pmj*Y3"8 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 x%s1)\^A 8.9 四层抗反射薄膜 153 9ye!kYF, 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 j5D Cc,s 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qeFaY74S 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 :rM2G@{ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 `^#4okg] 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <lR:^M[v5< 8.15十五层宽带抗反射膜 159 6am6'_{ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 YCE *Dm 8.17 1/4波长堆栈 162 x"sbm 8.18 陷波滤波器 163 C[.Xi 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^~N:lW#= 8.20 褶皱 165 H
~3.F 8.21 消偏振分光器1 169 cWo>DuW& 8.22 消偏振分光器2 171 qqo#H O 8.23 消偏振立体分光器 172 $gnrd~v4e 8.24 消偏振截止滤光片 173 4
. c1 8.25 立体偏振分束器1 174 Pk;/4jt4 8.26 立方偏振分束器2 177 k={1zl ; 8.27 相位延迟器 178 %0 {_b68x 8.28 红外截止器 179 Z$INmo6 8.29 21层长波带通滤波器 180 #w%-IhP 8.30 49层长波带通滤波器 181 U"/T`f'H z 8.31 55层短波带通滤波器 182 g%Tokl 8.32 47 红外截止器 183 Mi#i 3y( 8.33 宽带通滤波器 184 . q
-:3b 8.34 诱导透射滤波器 186 `Y.~eE 8.35 诱导透射滤波器2 188 |pS]zD 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 C)R hld 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 h STcL:b
8.35 增益平坦滤波器 193 OqS!y(
( 8.38 啁啾反射镜 1 196 u=Ik&^v
Wq 8.39 啁啾反射镜2 198 QY4;qA 8.40 啁啾反射镜3 199 d:|x e : 8.41 带保护层的铝膜层 200 .s>@@m- 8.42 增加铝反射率膜 201 {
i6L/U. 8.43 参考文献 202 g_{N^wS 9 多层膜 204 ~tWh6-:|{J 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Z[w}PN,xV 9.2 内部透过率 204 Q*I8RAfd 9.3 内部透射率数据 205 9#7W+9 9.4 实例 206 @Ol(:{< 9.5 实例2 210 G=[<KtWa 9.6 圆锥和带宽计算 212 ,x1OQ jtY 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 UFT JobU 10 光学薄膜的颜色 216 FS=yc.Q_ 10.1 导言 216 T5|kO:CbHq 10.2 色彩 216 /d}"s.3p 10.3 主波长和纯度 220 , d $"`W2 10.4 色相和纯度 221 $365VTh" 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 q=->) &D% 10.6 色差 226 w!H(zjv&( 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ?e6>dNw 10.8 颜色渲染指数 234 2?
yo 10.9 色差计算 235 e(/F:ZEh 10.10 参考文献 236 hsrf 2Xw[ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 "P#1= 11.1 短脉冲 238 8Yk*$RR9 11.2 群速度 239 .B<Bqr@?8 11.3 群速度色散 241 Dq~;h \=' 11.4 啁啾(chirped) 245 )aGSZ1`/ 11.5 光学薄膜—相变 245 _b%) 11.6 群延迟和延迟色散 246 Jn=;gtD-* 11.7 色度色散 246 Le?g,c 11.8 色散补偿 249 #0T/^ # 11.9 空间光线偏移 256 @I-gs( 11.10 参考文献 258 9h6Oq(0b8 12 公差与误差 260 ,k~' S~w. 12.1 蒙特卡罗模型 260 u#EcR}=] 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 -GFZFi 12.2.1 误差工具 267 siI%6Gn; 12.2.2 灵敏度工具 271 -O\i^?lD; 12.2.2.1 独立灵敏度 271 HdxP:s.T 12.2.2.2 灵敏度分布 275 F<b'{qf" 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 z
mip 12.3 参考文献 276 v
=y
2 13 Runsheet 与Simulator 277 M\4`S& 13.1 原理介绍 277 3E*m.jX 13.2 截止滤光片设计 277 :Q"|%#P 14 光学常数提取 289 }ww/e\|Nt= 14.1 介绍 289 (&eF E ;c 14.2 电介质薄膜 289 Sj ~SG 14.3 n 和k 的提取工具 295 V>T?'GbS 14.4 基底的参数提取 302 MBg[hu% 14.5 金属的参数提取 306 :1UMA@HP 14.6 不正确的模型 306 ~>(~2083*; 14.7 参考文献 311 ISNL='% 15 反演工程 313 T#-;>@a} 15.1 随机性和系统性 313 u|t l@_ 15.2 常见的系统性问题 314 KL=<s#
15.3 单层膜 314 ]7Vg9&1` 15.4 多层膜 314 m4@NW*G{ 15.5 含义 319 4{kH;~
z$ 15.6 反演工程实例 319 ]S&ki}i& 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 |~BnE
15.6.2 反演工程提取折射率 327 J;obh.}u"{ 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Z,#H\1v3lB 16.1 光学性质的热致偏移 329 RX>P-vp 16.2 应力工具 335 }?9&xVh?\ 16.3 均匀性误差 339 *z VN6wG{ 16.3.1 圆锥工具 339 zw+aZDcV( 16.3.2 波前问题 341 l{Df{1b. 16.4 参考文献 343 RN(I}]] a 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 aq$ hE-{28 17.1 引言 345 _F%`7j 17.2 操作数 345 uTR^K=Ve 18 如何在Function中编写脚本 351 bOj)Wu 18.1 简介 351 z;S-Q, 18.2 什么是脚本? 351 )6)bI.BY 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 D8Fi{?A#FV 18.4 基础 352 |2q3spd 18.4.1 Classes(类别) 352 'vBZh1`p 18.4.2 对象 352 Vbl-Ff 18.4.3 信息(Messages) 352 12n:)yQy 18.4.4 属性 352 u)0I$Tc" 18.4.5 方法 353 /J#(8p 18.4.6 变量声明 353 *z0d~j*W; 18.5 创建对象 354 B}d&tH2^s 18.5.1 创建对象函数 355 |[>@Kk4 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 k|)fl l 18.5.3 丢弃对象 356 ]X>yZec 18.5.4 总结 356 G7CeWfS 18.6 脚本中的表格 357 )SmnLvL 18.6.1 方法1 357 < |