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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 tc{23Rf%  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 Lh &L5p7  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ~X;(m<f2  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 w?AE8n$8  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ]sjOn?YA+  
[attachment=120542] ``kKi3TWJ  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 b>%I=H%g  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 l!ye\  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 w9}I*Nra  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 na FZ<'t>&  
1. Essential Macleod软件介绍 jkNZv. )p  
1.1 介绍软件 $ZDh8 *ND  
1.2 创建一个简单的设计 i[ BR"(  
1.3 绘图和制表来表示性能 lb1(1 |#  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4(JxZ49  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) s=huOjKL]  
1.6 特定设计的公式技术 yh5KN_W  
1.7 交互式绘图 ej<z]{`05  
2. 光学薄膜理论基础 YKh%`Y1<  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 [jumq1  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 1&YP}sg)  
3. 材料管理 i=2+1 ;K  
3.1 材料模型 CWkm\=  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Qb# S)[6s+  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 q@(N 38D  
3.4 基板光学常数的提取 I{cn ,,8  
4. 光学薄膜设计优化方法 ==(M vu`  
4.1 参考波长与g ;T52 aX  
4.2 四分之一规则 ]Ly)%a32  
4.3 导纳与导纳图 =GR Em5  
4.4 斜入射光学导纳 +N4h Q"  
4.5 光学薄膜设计的进展 kd \G>  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Mdwh-Cis/  
4.6.1 优化目标设置 udc9$uO  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) `bC_J,>_  
4.6.3 膜层锁定和链接 N=+Up\h  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 1xtbhk]D  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 w#b~R^U  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 <E\BKC%M  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 fQx 4/4j  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 0XozYyq  
5.5 如何在Function中编写脚本 ~`N|sI,  
6. 光学薄膜系统案例 t%dPj8~  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 GV[[[fu  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 :,VyOmf  
6.3 Stack应用范例说明 kD; BwU[  
7. 薄膜性能分析 \O/=g6w|t}  
7.1 电场分布 E 0oJ|My  
7.2 公差与灵敏度分析 qbAoab53  
7.3 反演工程 L:^'cl} G  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Ta[}k/zW  
8. 真空技术 P7Y[?='v  
8.1 常用真空泵介绍 lMO0d_:b1  
8.2 真空密封和检漏 , zw  
9. 薄膜制备技术 zR<jZwo]#  
9.1 常见薄膜制备技术 "1#,d#Q$  
10. 薄膜制备工艺 Ahebr{u  
10.1 薄膜制备工艺因素 WD)[Ac[  
10.2 薄膜均匀性修正技术 a,tP.Xsl  
10.3 光学薄膜监控技术 9SFiL#1  
11. 激光薄膜 G/`_$ c  
11.1 薄膜的损伤问题 {jq-dL  
11.2 激光薄膜的制备流程 '",5Bu#C  
11.3 激光薄膜的制备技术 HxM-VK '  
12. 光学薄膜特性测量 `H|g~7KD&  
12.1 薄膜光谱测量 0 s 4j>  
12.2 薄膜光学常数测量 kdo)y(fn@  
12.3 薄膜应力测量 -J6}7>4^8}  
12.4 薄膜损伤测量 0+H"$2/  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
eX$Biv1N  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
+<|w|c  
内容简介 }ps6}_FE  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5s|gKM  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 v]1rH$  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 N,1wfOE  
A6Qi^TI  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
[gE2lfaEy  
f Gfv{4R  
目录 L@ay4,e.bz  
Preface 1 qy]-YJZ  
内容简介 2 BxG;vS3>*e  
目录 i WgL! @g  
1  引言 1 :H87x?e[  
2  光学薄膜基础 2 >9klh-f  
2.1  一般规则 2 a|>MueJ  
2.2  正交入射规则 3 _1Eyqh`oh  
2.3  斜入射规则 6 mU_O64  
2.4  精确计算 7 n#R!`*[  
2.5  相干性 8 aG ,uF  
2.6 参考文献 10 ])JJ`Z8Bk  
3  Essential Macleod的快速预览 10 p[$I{F*a  
4  Essential Macleod的特点 32 8BN'fWl&E  
4.1  容量和局限性 33 M1i|qjb:l  
4.2  程序在哪里? 33 WZr~Pb9  
4.3  数据文件 35 _Dv^~e1c  
4.4  设计规则 35 3_>R's8P  
4.5  材料数据库和资料库 37 I@B7uFj  
4.5.1材料损失 38 0Nfj}sXCWE  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 3m^BYr*y^  
4.5.2 材料库 41 jL8zH  
4.5.3导出材料数据 43 tEUmED0FY  
4.6  常用单位 43 hG67%T'}A  
4.7  插值和外推法 46 Y `{U45  
4.8  材料数据的平滑 50 O<hHo]jLF  
4.9 更多光学常数模型 54 bODl q  
4.10  文档的一般编辑规则 55 }B5I#Af7  
4.11 撤销和重做 56 p#kC#{<nE  
4.12  设计文档 57 JjmL6(*ui  
4.10.1  公式 58 RD4)NN6y5}  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 d.Z]R&X08  
4.10.3  沉积密度 59 zxh"@j$?  
4.10.4 平行和楔形介质 60 EI;\of2,  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 (g Z!o_  
4.10.4  性能 61 >g[W@FhT'k  
4.10.5  保存设计和性能 64 X_qXH5^%  
4.10.6  默认设计 64 sa`Yan  
4.11  图表 64 ST3qg6Cq2J  
4.11.1  合并曲线图 67 VC.?]'OqD  
4.11.2  自适应绘制 68 T)uw2  
4.11.3  动态绘图 68 AUC< m.  
4.11.4  3D绘图 69 vf2K2\fn  
4.12  导入和导出 73 ^Toi_  
4.12.1  剪贴板 73 +6=!ve}  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 BUb(BzC  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 4(R2V]  
4.13  背景 77 ,B2 -'O  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 %gaKnT(|r  
4.15  生成Rugate 84 e0L;V@R  
4.16  参考文献 91 tX251S  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 asg>TO W  
5.1  Jobs 92 _#C}hwOR>X  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 fDd!Mt  
5.3  输入材料 94 &f*dFUM]I  
5.4  设计数据文件夹 95 |=LkV"_v  
5.5  默认设计 95 K>[H@|k\k  
6  细化和合成 97 W%1S:2+Kl  
6.1  优化介绍 97  zjA/Z(  
6.2  细化 (Refinement) 98 q8Dwu3D  
6.3  合成 (Synthesis) 100 }kj6hnQ  
6.4  目标和评价函数 101 {<kG{i/  
6.4.1  目标输入 102 Bt,Xe~$z-  
6.4.2  目标 103 O[ !o1.  
6.4.3  特殊的评价函数 104 D@^ZpN8r  
6.5  层锁定和连接 104 >|?T|  
6.6  细化技术 104 {n]sRz  
6.6.1  单纯形 105  qR qy  
6.6.1.1 单纯形参数 106 2?QJh2  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 LzRiiP^q  
6.6.2.1 Optimac参数 108 D.(G9H  
6.6.3  模拟退火算法 109 ^>Y%L(>  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 R(sM(x5a`  
6.6.4  共轭梯度 111 B5:g{,C  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <^U(ya  
6.6.5  拟牛顿法 112 BuTIJb+Q\  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 91H0mP>ki  
6.6.6  针合成 113 FE}!bKh  
6.6.6.1 针合成参数 114 :eW~nI.Vc  
6.6.7 差分进化 114 Db(_T8sU  
6.6.8非局部细化 115 |l xy< C4V  
6.6.8.1非局部细化参数 115 `fZD%o3l  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 n#Roz5/U  
6.7.1  细化 116 J\3} il N  
6.7.2  合成 117 -kbm$~P  
6.8  参考文献 117 T3./V0]\I  
7  导纳图及其他工具 118 1>w^ q`P  
7.1  简介 118 pFTlhj)1  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 aMQjoamz  
7.2.1  四分之一波长规则 119 yvCR =C  
7.2.2  导纳图 120 hFMst%:y$  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 nud=uJ"(  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 {X<4wxeTo  
7.5  斜入射导纳图 141 z,FTsR$x  
7.6  对称周期 141 W@,p9=425  
7.7  参考文献 142 V<4+g/  
8  典型的镀膜实例 143 P0e""9JOo  
8.1  单层抗反射薄膜 145 _AYC|R|  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 c%@~%IGF  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 uxyTu2L7  
8.4  W-膜层 148 liqR#<  
8.5  V-膜层 149 >}b6J7_  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ceZ8} Sh  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 Pzp+I}  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 RR!!hY3 K  
8.9  四层抗反射薄膜 153 HDVl5X`j'  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ie@`S&.8 T  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ZuvPDW%  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 u=;nU(]M '  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 IT`=\K/[4  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 oL Vtu5  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 kq~[k.  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Hp}  
8.17  1/4波长堆栈 162 b/B`&CIA0"  
8.18  陷波滤波器 163 [OZ=iz.  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 s S5fd)x  
8.20  褶皱 165 96pk[5lj{?  
8.21  消偏振分光器1 169 [z%?MIT  
8.22  消偏振分光器2 171 pp]_/46nN  
8.23  消偏振立体分光器 172 b"M`@';+  
8.24  消偏振截止滤光片 173 s`=/fvf.  
8.25  立体偏振分束器1 174 r1oku0o  
8.26  立方偏振分束器2 177 w,Zx5bBg%  
8.27  相位延迟器 178 oU0 h3  
8.28  红外截止器 179 H5rPq_R  
8.29  21层长波带通滤波器 180 M6]0Y@@>  
8.30  49层长波带通滤波器 181 >u5g?yzw  
8.31  55层短波带通滤波器 182 0UGiPH,()  
8.32  47 红外截止器 183 :%#r.p"6x  
8.33  宽带通滤波器 184 AL]h|)6QpC  
8.34  诱导透射滤波器 186 f[Fgh@4cj  
8.35  诱导透射滤波器2 188 vZE|Z[M+<  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 sr+gD*@h  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 lMwk.#  
8.35  增益平坦滤波器 193 3gG+`{<  
8.38  啁啾反射镜 1 196 iog # ,  
8.39  啁啾反射镜2 198 mT6q}``vtG  
8.40  啁啾反射镜3 199 .vN%UNu  
8.41  带保护层的铝膜层 200 6!+X.+  
8.42  增加铝反射率膜 201 LgP>u?]n  
8.43  参考文献 202 @1v3-n=  
9  多层膜 204 x^)g'16`  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 eb!s'@  
9.2  内部透过率 204 ,$h(fM8GC  
9.3 内部透射率数据 205 *O+R|Cdp/  
9.4  实例 206 mN\%f J7  
9.5  实例2 210 xN`r4  
9.6  圆锥和带宽计算 212 -".kH<SWv  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 JG@L5f  
10  光学薄膜的颜色 216 QSHJmk 6L  
10.1  导言 216 4<T*i{[  
10.2  色彩 216 9DOkQnnc  
10.3  主波长和纯度 220 Ak5[PBbW  
10.4  色相和纯度 221 eQU-&-wt0  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 -,QKTxwo>  
10.6 色差 226 \ fK47oV  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ZD5I5  
10.8  颜色渲染指数 234 d"B@c;dD  
10.9  色差计算 235 C}b|2y  
10.10  参考文献 236 5^i.;>(b  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <.,RBo  
11.1  短脉冲 238 y]}b?R~p=  
11.2  群速度 239 ]?0{(\  
11.3  群速度色散 241 *A?8F"6>  
11.4  啁啾(chirped) 245 +`;+RDKY*  
11.5  光学薄膜—相变 245 0 kf(g156  
11.6  群延迟和延迟色散 246 :7p9t.R<$h  
11.7  色度色散 246 x37/cu  
11.8  色散补偿 249 c ]>DI&$;J  
11.9  空间光线偏移 256 ud0QZ X  
11.10  参考文献 258 I&L.;~  
12  公差与误差 260 )v%l0_z{  
12.1  蒙特卡罗模型 260 K;oV"KRK  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 H LjvKE=W  
12.2.1  误差工具 267 /8xH$n&xoC  
12.2.2  灵敏度工具 271 ;>NP.pnA)  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 X*pZNz&E  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 tT;8r8@  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 h&lyxYZ+T$  
12.3  参考文献 276 oW0gU?Rr)u  
13  Runsheet 与Simulator 277 Q_ctX|.  
13.1  原理介绍 277 [6AHaOhR'  
13.2  截止滤光片设计 277 8r,9OM  
14  光学常数提取 289 `-VG ?J  
14.1  介绍 289 i<%m Iq1L  
14.2  电介质薄膜 289 0 _Q * E3  
14.3  n 和k 的提取工具 295 RX:R*{]-  
14.4  基底的参数提取 302 q75ky1^1:  
14.5  金属的参数提取 306 pe|X@o  
14.6  不正确的模型 306 oP/>ju  
14.7  参考文献 311 NX?}{'f  
15  反演工程 313 LU%#mY  
15.1  随机性和系统性 313 ^^%JoQ.  
15.2  常见的系统性问题 314 n_v02vFAHT  
15.3  单层膜 314 .>}BNy  
15.4  多层膜 314 & x`&03X  
15.5  含义 319 rfYP*QQY  
15.6  反演工程实例 319 G'u|Q mb1  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 k@S)j<  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 p"2m90IO  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Ua %UbAt  
16.1  光学性质的热致偏移 329 %NNj9Bl<VV  
16.2  应力工具 335 jh[ #p?:  
16.3  均匀性误差 339 -$. 0Dc)3!  
16.3.1  圆锥工具 339 nE_Cuc>K\  
16.3.2  波前问题 341 Hb+X}7c$  
16.4  参考文献 343 le.anJAr  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 a0PE^U  
17.1  引言 345 h\(B#SN  
17.2  操作数 345 C,fY.CeI  
18  如何在Function中编写脚本 351 zX98c  
18.1  简介 351 GWhE8EDT  
18.2  什么是脚本? 351 d PsLZ"I  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 P>(&glr|  
18.4  基础 352 A_Rrcsl4  
18.4.1  Classes(类别) 352 ?\ZL#)hr"p  
18.4.2  对象 352 OZf6/10O/  
18.4.3  信息(Messages) 352 3A_G=WaED  
18.4.4  属性 352 YxXq I  
18.4.5  方法 353 %)?`{O~ h  
18.4.6  变量声明 353 6hO-H&r++  
18.5  创建对象 354 "tUwo(K[  
18.5.1  创建对象函数 355 :5J_5,?;`  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 eIH$"f;L  
18.5.3 丢弃对象 356 Fk{J@Y  
18.5.4  总结 356 eeM?]J-  
18.6  脚本中的表格 357 \8{\;L C  
18.6.1  方法1 357 zEj#arSE4  
18.6.2  方法2 357 {{\ce;hN  
18.7 2D Plots in Scripts 358 eNbpwne  
18.8 3D Plots in Scripts 359 +"dv7  
18.9  注释 360 Jd_;@(Eg=  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 Tg0CE60"  
18.11  一个更高级的脚本 362 0 Qnd6mb  
18.12  <esc>键 364 {L].T#  
18.13 包含文件 365 `PgdJrE  
18.14  脚本被优化调用 366 7VAJJv3  
18.15  脚本中的对话框 368 RbEKP(uw  
18.15.1  介绍 368 ;'0=T0\  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 FQk!d$BG  
18.15.3  输入框函数 370 ]n;1x1'  
18.15.4  自定义对话框 371 ~W-cGb3c  
18.15.5  对话框编辑器 371 H}/05e  
18.15.6  控制对话框 377 "u492^  
18.15.7  更高级的对话框 380 | &7S8Q  
18.16 Types语句 384 ; b*i3*!g  
18.17 打开文件 385 x6W `hpL  
18.18 Bags 387 z=g$Exl  
18.13  进一步研究 388 ml0*1Dw  
19  vStack 389 Su7bm1  
19.1  vStack基本原理 389 [ *>AN7W   
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 XogVpkA  
19.3  五棱镜 393 s2REt$.q  
19.4 光束距离 396 =n+ \\D  
19.5 误差 399 .UQE{.?  
19.6  二向分色棱镜 399 0^3+P%(o@  
19.7  偏振泄漏 404 ]Y`Ib0$  
19.8  波前误差—相位 405 $!B}$I;cd  
19.9  其它计算参数 405 #+k*1 Jg  
20  报表生成器 406 ac8P\2{"  
20.1  入门 406 iOCqE 5d3  
20.2  指令(Instructions) 406 esX)"_xf  
20.3  页面布局指令 406 ?6"{!s{v  
20.4  常见的参数图和三维图 407 H43MoC  
20.5  表格中的常见参数 408 Mxl]"?z  
20.6  迭代指令 408 =5x&8i  
20.7  报表模版 408 b~w=v_[(I  
20.8  开始设计一个报表模版 409 xfFg,9w8  
21  一个新的project 413 yK%ebq]  
21.1  创建一个新Job 414 lz<]5T|  
21.2  默认设计 415 :J/M,3  
21.3  薄膜设计 416 \r {W  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ]uQqn]+I!  
21.5  显色指数计算 422 =d)-Fd2li  
21.6  电场分布 424 C\*4q8(  
后记 426 y*23$fj(  
}H"kU2l  
bB}5U@G|  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 (Pbg[AY  
T~4N+fK  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
OI}cs2m  
~*W!mlg  
目  录 {{yZ@>o6  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 4\M.6])_   
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 5jxQW ;  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?OlV"zK  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 x[ 3A+  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [7FItlF%I  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Np+&t}  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 o*rQP!8,oy  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 eKvV*[N a  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Qnd5X`jF#  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Av'GB  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 wU\s; dK  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 VVP:w%yW  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ^ BQrbY  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 n\z,/'d"  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @&|l^ 1  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 :GpDg  
d5 7i)=  
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infotek 2023-10-11 11:55
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