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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 1GB]Yi[>  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 afzx?ekdF  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 -  eIo  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 W1Ye+vg/s  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 B]E c  
[attachment=120542] oXN(S:ZF  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 23 #JmR  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 <K,X5ctM}  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 V`HnFAW  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 t)rPXvx}!  
1. Essential Macleod软件介绍 Cpy&2o-%v  
1.1 介绍软件 4:pgZz!  
1.2 创建一个简单的设计 Rw FA  
1.3 绘图和制表来表示性能 =6'bGC%c  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Ih4$MG6QC  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) #,1z=/d.  
1.6 特定设计的公式技术 t1yOAbI  
1.7 交互式绘图 %~8f0B|im  
2. 光学薄膜理论基础 ]yL+lv  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 O'{kNr{u  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #f/4%|t:  
3. 材料管理 9)o@d`*  
3.1 材料模型 'cQ,;y  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 $)BPtGMGo  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 NJVkn~<  
3.4 基板光学常数的提取 Gv}Q/v   
4. 光学薄膜设计优化方法 y6x./1Nb}<  
4.1 参考波长与g " Up(Vj@  
4.2 四分之一规则 u0G tzk  
4.3 导纳与导纳图 p<}y'7(  
4.4 斜入射光学导纳 }xi?vAaTl  
4.5 光学薄膜设计的进展 ]<L~f~vU  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 pl)?4[`LUc  
4.6.1 优化目标设置 }V`_ (%Q-e  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) #8ltV`  
4.6.3 膜层锁定和链接 c~;VvYu  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 (@qS  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 b{{ H@LTW  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 /e^) *r  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 svb7-.!  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 %<[{zd1C-  
5.5 如何在Function中编写脚本 `~"'\Hw  
6. 光学薄膜系统案例 >5"e<mwD7d  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Un,'a8>V`  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 5?? }9  
6.3 Stack应用范例说明 qswC> Gi  
7. 薄膜性能分析 ZkQ6~cM  
7.1 电场分布 ,4 _H{+M  
7.2 公差与灵敏度分析 kv,!"<  
7.3 反演工程 4 2DMmwB   
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 w/rJj*  
8. 真空技术 $Bl51Vj N  
8.1 常用真空泵介绍 S<*IoZ?T  
8.2 真空密封和检漏 yjH'<  
9. 薄膜制备技术 r]D U  
9.1 常见薄膜制备技术 y'I m/{9U  
10. 薄膜制备工艺 ?!/8~'xA6  
10.1 薄膜制备工艺因素 5>daWmD  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ksuePMIK  
10.3 光学薄膜监控技术 N-knhA  
11. 激光薄膜 _~ei1 G.R  
11.1 薄膜的损伤问题 B8n[ E  
11.2 激光薄膜的制备流程 NH}o`x/  
11.3 激光薄膜的制备技术 \[.qN  
12. 光学薄膜特性测量 %"fO^KA.h]  
12.1 薄膜光谱测量 RWo7_XO  
12.2 薄膜光学常数测量 OdY9g2y#m  
12.3 薄膜应力测量 !G0Mg; ,  
12.4 薄膜损伤测量 aX6}:"R2C  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
K[0z$T\  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
cfa1"u""e  
内容简介 vM5/KrW  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 S.1>bs2  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Ak('4j!*}^  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 jgG9?w)|u  
!K}W.yv,  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
#OM)71kB8  
Ut;4`>T  
目录 g52)/HM  
Preface 1 3W_7xLA  
内容简介 2 nXoDI1<[  
目录 i CMOyK^(e  
1  引言 1 -.8K"j{N  
2  光学薄膜基础 2 *?HoN;^  
2.1  一般规则 2 Fb8d= Zc  
2.2  正交入射规则 3 ~n%Lo3RiP  
2.3  斜入射规则 6 X#JUorGp  
2.4  精确计算 7 4 l-Urn Z  
2.5  相干性 8 j3/6hE>  
2.6 参考文献 10 Og1vD5a  
3  Essential Macleod的快速预览 10 5V =mj+X?  
4  Essential Macleod的特点 32 hCr,6ncC  
4.1  容量和局限性 33 =RRv& "2r  
4.2  程序在哪里? 33 6vE#$(n#a&  
4.3  数据文件 35 ,zHL8SiTX  
4.4  设计规则 35 S2*sh2-&6  
4.5  材料数据库和资料库 37 RO/(Ldh  
4.5.1材料损失 38 #Pf<2S  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 bo\Ah/.  
4.5.2 材料库 41 oe 6-F)+  
4.5.3导出材料数据 43 Q>Z~={"  
4.6  常用单位 43 g@4~,  
4.7  插值和外推法 46 S\A0gOL^  
4.8  材料数据的平滑 50 J9*;Bqzim  
4.9 更多光学常数模型 54 , h'Q  
4.10  文档的一般编辑规则 55 d<Q%h?E  
4.11 撤销和重做 56 _LC*_LT_  
4.12  设计文档 57 5 D^#6h 4  
4.10.1  公式 58 @_-,Q5  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Z.Z;p/4F  
4.10.3  沉积密度 59 $6wSqH?q  
4.10.4 平行和楔形介质 60 o^UOkxs.  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 J@_^]  
4.10.4  性能 61 vn$=be8l4  
4.10.5  保存设计和性能 64 :dULsl$Nz  
4.10.6  默认设计 64 NFEr ,n  
4.11  图表 64 n(eo_.W2|  
4.11.1  合并曲线图 67 i({\fb|0  
4.11.2  自适应绘制 68 @!! u>1  
4.11.3  动态绘图 68 b5^>QzgD  
4.11.4  3D绘图 69 \ Voly  
4.12  导入和导出 73 ;NdH]a {  
4.12.1  剪贴板 73 0,DrVGa  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 >L4F'#I  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Y8v[kuo7  
4.13  背景 77 _!DH/?aU  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 FVrB#Hw~  
4.15  生成Rugate 84 # M/n\em"X  
4.16  参考文献 91 *(q?O_3,b  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 X coPkW  
5.1  Jobs 92 8Z9>h:c1  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 IA.7If&k  
5.3  输入材料 94 >(igVaZ>  
5.4  设计数据文件夹 95 e8xq`:4Y  
5.5  默认设计 95 @XzfuuE]  
6  细化和合成 97 (W:@v&p  
6.1  优化介绍 97  AkS16A  
6.2  细化 (Refinement) 98 [5p9p1@u{C  
6.3  合成 (Synthesis) 100 [y'blCb  
6.4  目标和评价函数 101 W& 0R/y7  
6.4.1  目标输入 102 1#_ pj eG  
6.4.2  目标 103 h?SRX_  
6.4.3  特殊的评价函数 104 C@`#@1X  
6.5  层锁定和连接 104 T{+a48,;  
6.6  细化技术 104 8Z\q)T  
6.6.1  单纯形 105 [iq^'E  
6.6.1.1 单纯形参数 106 eQ/w Mr  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ]9w)0iH  
6.6.2.1 Optimac参数 108 8HBwcXYoHh  
6.6.3  模拟退火算法 109 O5p$ A @  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ii[U%  
6.6.4  共轭梯度 111 `&q+ f+z  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {*O+vtir%  
6.6.5  拟牛顿法 112 mm: TR?^  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 $#D#ezvxe  
6.6.6  针合成 113 yVK ; "  
6.6.6.1 针合成参数 114 ZOV,yuD{8{  
6.6.7 差分进化 114 er3~gm  
6.6.8非局部细化 115 IL.bwt pQD  
6.6.8.1非局部细化参数 115 xk>cdgt  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 dyn)KDS  
6.7.1  细化 116 h?n?3x!(  
6.7.2  合成 117 E<3xv;v8r  
6.8  参考文献 117 |Vz)!M  
7  导纳图及其他工具 118 O[MFp  
7.1  简介 118 Fn`Zw:vp6  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 e7xv~C>g  
7.2.1  四分之一波长规则 119 IWq\M,P  
7.2.2  导纳图 120 4lX_2QT]E  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #!O)-dyF  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 T>nH=  
7.5  斜入射导纳图 141 Wgte.K> /  
7.6  对称周期 141 Pa d)|  
7.7  参考文献 142 "QXnE^  
8  典型的镀膜实例 143 oZY|o0/9  
8.1  单层抗反射薄膜 145 8/)\nV$0Y  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Y2l;NSWU  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0g: q%P0  
8.4  W-膜层 148 nn:'<6"oV  
8.5  V-膜层 149 uNuFD|aQ.  
8.6  V-膜层高折射基底 150 iKPgiL~  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 KQ]sUNH  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 _w?!Mu  
8.9  四层抗反射薄膜 153 )HE{`yiLL  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 qtAt=` s  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 s1cu5eCt  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 t6+W  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 xP_%d,  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 y'^U4# (  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 6}R*7iM s  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 9;{(.K  
8.17  1/4波长堆栈 162 &\6},JN  
8.18  陷波滤波器 163 -( p%+`  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3^ UoK  
8.20  褶皱 165 tTTHQ7o*BD  
8.21  消偏振分光器1 169 (kY  0<  
8.22  消偏振分光器2 171 hL/u5h%$  
8.23  消偏振立体分光器 172 #|je m   
8.24  消偏振截止滤光片 173 8=Oym~  
8.25  立体偏振分束器1 174 kI(3Pf ].  
8.26  立方偏振分束器2 177 CQ6I4k  
8.27  相位延迟器 178 ELnUpmv\  
8.28  红外截止器 179 /Lr`Aka5  
8.29  21层长波带通滤波器 180 <v -YMk@  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ZlC+DXg#S  
8.31  55层短波带通滤波器 182 EQ^]W-gN  
8.32  47 红外截止器 183 J2x}@p  
8.33  宽带通滤波器 184 iupkb  
8.34  诱导透射滤波器 186 V0>[bzI  
8.35  诱导透射滤波器2 188 E]n]_{BN]  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 e{87n>+,  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 h&L-G j  
8.35  增益平坦滤波器 193 lFtEQ '}  
8.38  啁啾反射镜 1 196 '/UT0{2;rS  
8.39  啁啾反射镜2 198 1-^D2B[-  
8.40  啁啾反射镜3 199 a_S`$(7k  
8.41  带保护层的铝膜层 200 zOSUYn  
8.42  增加铝反射率膜 201 ?q4`&";{3  
8.43  参考文献 202 I^f|U  
9  多层膜 204 1o\2\B=k{  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 fh)eL<I  
9.2  内部透过率 204 :35h0;8+  
9.3 内部透射率数据 205 c"kB@P  
9.4  实例 206 NX%1L! #  
9.5  实例2 210 v4Ag~Evcx  
9.6  圆锥和带宽计算 212 | WJ]7C  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 y>t:flD*  
10  光学薄膜的颜色 216 \i,H1a  
10.1  导言 216 x*F- d2D  
10.2  色彩 216 /y{fDCC  
10.3  主波长和纯度 220 ~cp=B>*(  
10.4  色相和纯度 221 tgCp2 `n  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 #FAW@6QG  
10.6 色差 226 wxK71OH  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 [Uq`B &F:  
10.8  颜色渲染指数 234 +-;v+{  
10.9  色差计算 235 .?g=mh79(  
10.10  参考文献 236 "2C}Pr ,p8  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 NVkYm+J#  
11.1  短脉冲 238 ZMMx)}hS  
11.2  群速度 239 p#4*:rpq4  
11.3  群速度色散 241 J&h59dm-  
11.4  啁啾(chirped) 245 X4:84  
11.5  光学薄膜—相变 245 mIG>`7`7N  
11.6  群延迟和延迟色散 246 $H3C/|  
11.7  色度色散 246 {~51h}>b#  
11.8  色散补偿 249 [-l>f P0  
11.9  空间光线偏移 256 ={cM6F}a@  
11.10  参考文献 258 ^pe/~ :a  
12  公差与误差 260 <astIu Au  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ~2hzyEh  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 11QZ- ^  
12.2.1  误差工具 267 & ;5f/  
12.2.2  灵敏度工具 271 Oz\J+  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 :tFc Pc'  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,V]FAIJ  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 _Fj\0S"  
12.3  参考文献 276 x v$fw>  
13  Runsheet 与Simulator 277 vxPr)"Vvz  
13.1  原理介绍 277 -6_<]  
13.2  截止滤光片设计 277 %jj-\Gz!  
14  光学常数提取 289 _G-6G=q  
14.1  介绍 289 ;9)nG,P3  
14.2  电介质薄膜 289 &,p6lbP  
14.3  n 和k 的提取工具 295 YSB> WBS-<  
14.4  基底的参数提取 302 V+>RF  
14.5  金属的参数提取 306 3_;=y\F  
14.6  不正确的模型 306 {c?{M.R  
14.7  参考文献 311 o\W>$$EXD  
15  反演工程 313 !}P^O(oY  
15.1  随机性和系统性 313 MTE 1\,  
15.2  常见的系统性问题 314 GfP'  
15.3  单层膜 314 |uFb(kL[U  
15.4  多层膜 314 ?T%"Jgy8  
15.5  含义 319 F\;l)  
15.6  反演工程实例 319 |,n(9Ix  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 f9_Pn'"I  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Bf^K?:r"V  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 obbg# ,  
16.1  光学性质的热致偏移 329 *R4=4e2#S  
16.2  应力工具 335 ScInOPb'K  
16.3  均匀性误差 339 Tp~Qg{%Og  
16.3.1  圆锥工具 339 4s>L]! W$8  
16.3.2  波前问题 341 JT6Be8   
16.4  参考文献 343 &?@U_emLi  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 4M>]0%3.D  
17.1  引言 345 <uoVGV5N  
17.2  操作数 345 9@M;\ @&g  
18  如何在Function中编写脚本 351 ""V\hHdp  
18.1  简介 351 <Cs9$J  
18.2  什么是脚本? 351 )<'2 vpz  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ~QE?GL   
18.4  基础 352 2WKIO|'  
18.4.1  Classes(类别) 352 3M[d6@a  
18.4.2  对象 352 _ !"[Zr  
18.4.3  信息(Messages) 352 9XS>;<"2  
18.4.4  属性 352 nyhHXVRH  
18.4.5  方法 353 `7`` 1TL  
18.4.6  变量声明 353 l'!_km0{d  
18.5  创建对象 354 bS|h~B]rd  
18.5.1  创建对象函数 355 5K|`RzZ`B$  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ij?]fXf:)y  
18.5.3 丢弃对象 356 )WEOqaR]  
18.5.4  总结 356 0Iyb}  
18.6  脚本中的表格 357 ==KDr 0|G  
18.6.1  方法1 357 NQ '|M  
18.6.2  方法2 357 <Z1m9O "sy  
18.7 2D Plots in Scripts 358 )h(=X&(d  
18.8 3D Plots in Scripts 359  - sq= |  
18.9  注释 360 ,*L3  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 %&'[? LXD  
18.11  一个更高级的脚本 362 X"f]  
18.12  <esc>键 364 ^#h ;bX#  
18.13 包含文件 365 [W'2z,S`WD  
18.14  脚本被优化调用 366 {>ghX_m |  
18.15  脚本中的对话框 368 [w  FK!?  
18.15.1  介绍 368 W$D:mw7  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 qssK0!-  
18.15.3  输入框函数 370 Xa U ^^K  
18.15.4  自定义对话框 371 -Y"2c,~pH  
18.15.5  对话框编辑器 371 /GNm>NSK  
18.15.6  控制对话框 377 Ni;jMc  
18.15.7  更高级的对话框 380 6%c]{eTd9  
18.16 Types语句 384 |mw3v>  
18.17 打开文件 385 oSR;Im<2  
18.18 Bags 387 >\lBbq a#  
18.13  进一步研究 388 ,}^;q58  
19  vStack 389 ( ~>-6Nb 5  
19.1  vStack基本原理 389 5S! !@P!,  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 +=kz".$  
19.3  五棱镜 393 5cr\ JR  
19.4 光束距离 396 &x4|!" G  
19.5 误差 399 >ISBK[=H  
19.6  二向分色棱镜 399 5G#2#Al(F  
19.7  偏振泄漏 404 k <LFH(  
19.8  波前误差—相位 405 6I5LZ^/G9  
19.9  其它计算参数 405 y 5Kr<cF^  
20  报表生成器 406 sdQ "[`~2R  
20.1  入门 406 I^``x+a  
20.2  指令(Instructions) 406 r;zG  
20.3  页面布局指令 406 7*Gg#XQ>(  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ukee.:{  
20.5  表格中的常见参数 408 V$  MMK  
20.6  迭代指令 408 R36A_  
20.7  报表模版 408 Lnltt86  
20.8  开始设计一个报表模版 409 m8* )@e  
21  一个新的project 413 F{m?:A  
21.1  创建一个新Job 414 \q|<\~A  
21.2  默认设计 415 @PKY>58)  
21.3  薄膜设计 416 #ChF{mh  
21.4  误差的灵敏度计算 420 7Rr +Uzb(  
21.5  显色指数计算 422 SivJaY%  
21.6  电场分布 424 _s0;mvz'  
后记 426 Y c>.P  
*b(nX,e  
t "[2^2G  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Fau24-g  
yt`K^07@  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
mv`ND&  
t\,X G  
目  录 x?G"58  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ;<K#h9#*7  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 oMb@)7  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 V.kf@  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 yT C+5_7  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 K!|J/W  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 WQltUaF  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 PCiwQ4~  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 AbOF/ g)C  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 lD1m<AC  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ks(BS k4  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 EpH\;25u  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 u'"]{.K>fb  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 .arWbTR)~U  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 r[KX"U-  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 B5/"2i  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $x q$  
2Afg.-7EP  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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