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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 G.Tpl-m  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 k52QaMKa~A  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 `_GO=QQ  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ijF V<P  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 .3@Ng  
[attachment=120542]  //<:k8  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 7,h3V=^)Q  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 PK+ x6]x  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 "qS!B.rt:  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 7H%_sw5S.  
1. Essential Macleod软件介绍 3T1P$E" m  
1.1 介绍软件 bE d?^h  
1.2 创建一个简单的设计 ZOuR"9]  
1.3 绘图和制表来表示性能 ~T02._E  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 /ERNS/w  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) "R23Pi  
1.6 特定设计的公式技术 @bT3'K-4  
1.7 交互式绘图  i S  
2. 光学薄膜理论基础 VHW`NP 5Jl  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $T),DUYO  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 t!{x<9  
3. 材料管理 N<liS3>  
3.1 材料模型 \45(#H<$  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Ff<)4`J  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 4{Udz!  
3.4 基板光学常数的提取 MqdB\OW&  
4. 光学薄膜设计优化方法  , ]7XMU3  
4.1 参考波长与g 6.'$EtH  
4.2 四分之一规则 y"-{$N  
4.3 导纳与导纳图 IBET'!j4"  
4.4 斜入射光学导纳 =/Wu'gG)  
4.5 光学薄膜设计的进展 dF e4K"  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能  2:'lZQ  
4.6.1 优化目标设置 C2G  |?=  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) JpK[&/Ct  
4.6.3 膜层锁定和链接 YBvd q1  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 O&V[g>x"U  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 p+[} Hxx=  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 43L|QFo  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ;&kn"b}G;  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \XS]N_}8>  
5.5 如何在Function中编写脚本 fa{@$ppx  
6. 光学薄膜系统案例 uN bIX:L,  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 kOipH |.x  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ! =WcF5  
6.3 Stack应用范例说明 Ea]T>4  
7. 薄膜性能分析 AS|Rd+ .  
7.1 电场分布 ]fE3s{y &-  
7.2 公差与灵敏度分析 oy5+ }`  
7.3 反演工程 C3}Aq8$6  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 RZh}:  
8. 真空技术 }9CrFTbx;  
8.1 常用真空泵介绍 dB3N%pB^  
8.2 真空密封和检漏 A(+:S"|@  
9. 薄膜制备技术 hVUIBJ/5(-  
9.1 常见薄膜制备技术 S+ebO/$>  
10. 薄膜制备工艺 DA=1KaJ.  
10.1 薄膜制备工艺因素 <hv7s,i  
10.2 薄膜均匀性修正技术 lzDdD3Ouc  
10.3 光学薄膜监控技术 =}R~0|^  
11. 激光薄膜 o&$hYy"<.L  
11.1 薄膜的损伤问题 tD-gc ''H  
11.2 激光薄膜的制备流程 _{Y$o'*#I  
11.3 激光薄膜的制备技术 tpYa?ZCM  
12. 光学薄膜特性测量 tjxvN 4l  
12.1 薄膜光谱测量 dy:d=Z  
12.2 薄膜光学常数测量 /{X_ .fv<v  
12.3 薄膜应力测量 Ae49n4J  
12.4 薄膜损伤测量 {/ &B!zvl  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
|$e:*  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
4ht\&2&:  
内容简介 C9jbv/c  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 >a=d;  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 O2v.  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 h|p[OecG  
xl2g0?  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
IN^_BKQt  
F=}Z51|:~  
目录 \hbiU ]  
Preface 1 _M5Xk?e=  
内容简介 2 54q3R`y  
目录 i ^~l  $&~  
1  引言 1 hhmGv9P  
2  光学薄膜基础 2 yd>}wHt  
2.1  一般规则 2 Of`c`-<j  
2.2  正交入射规则 3 &Rp"rMeW  
2.3  斜入射规则 6 'qy#)F  
2.4  精确计算 7 Q4wc-s4RN  
2.5  相干性 8 *48IF33&s  
2.6 参考文献 10 #C\4/g? =,  
3  Essential Macleod的快速预览 10 :3? |VE F  
4  Essential Macleod的特点 32 p4wr`" Zz  
4.1  容量和局限性 33 GZ8:e3ri  
4.2  程序在哪里? 33 Bq!cY Wj  
4.3  数据文件 35 9+Nw/eszO  
4.4  设计规则 35 L'9N9CR{i  
4.5  材料数据库和资料库 37  Oh`2tc-  
4.5.1材料损失 38 mP-2s;q  
4.5.1材料数据库和导入材料 39  U:|H9+5  
4.5.2 材料库 41 FT/amCRyT  
4.5.3导出材料数据 43 aws"3O% uW  
4.6  常用单位 43 ez*jjm  
4.7  插值和外推法 46 3ATjsOL  
4.8  材料数据的平滑 50 -_~)f{KN@  
4.9 更多光学常数模型 54 H?U't 09  
4.10  文档的一般编辑规则 55 m mw-a0  
4.11 撤销和重做 56 ^\wl2  
4.12  设计文档 57 =!,Gst_  
4.10.1  公式 58 Nl*i5 io  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 [xdj6W  
4.10.3  沉积密度 59 I]uhi{\C  
4.10.4 平行和楔形介质 60 %EI<@Ps8c  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 C5n?0I9  
4.10.4  性能 61 d 4O   
4.10.5  保存设计和性能 64 2P5_zND  
4.10.6  默认设计 64 eb!_ie"D  
4.11  图表 64 , Oli  
4.11.1  合并曲线图 67 qtzRCA!9(Z  
4.11.2  自适应绘制 68 7GZq|M_:y  
4.11.3  动态绘图 68 >o[|"oLO  
4.11.4  3D绘图 69 e|'N(D}h*  
4.12  导入和导出 73 ("Dv>&w9  
4.12.1  剪贴板 73 LfX0Z=<  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 K/Y Agg  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 k dU! kj  
4.13  背景 77 *gu8-7'  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 'IQsve7cI  
4.15  生成Rugate 84 1^{`lK~2  
4.16  参考文献 91 SRz&Nb  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 kh?. K#  
5.1  Jobs 92 fk3kbdI  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 )U(u>SV(\  
5.3  输入材料 94 7+ XM3  
5.4  设计数据文件夹 95 K.DXJ UR  
5.5  默认设计 95 `WlE| G[  
6  细化和合成 97 4}yE+dRUK:  
6.1  优化介绍 97 a8s4T$  
6.2  细化 (Refinement) 98 3jPB#%F  
6.3  合成 (Synthesis) 100  Q_4Zb  
6.4  目标和评价函数 101 T1N H eH>  
6.4.1  目标输入 102 p`>d7S>"  
6.4.2  目标 103 V5 MO}  
6.4.3  特殊的评价函数 104 xP@/9SM  
6.5  层锁定和连接 104 '29WscU  
6.6  细化技术 104 oR %agvc^^  
6.6.1  单纯形 105 =nhzMU9c\y  
6.6.1.1 单纯形参数 106 )HVcG0H1  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 nj2gs,k  
6.6.2.1 Optimac参数 108 K $-;;pUl  
6.6.3  模拟退火算法 109 iBvOJs  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 I; j3*lV_  
6.6.4  共轭梯度 111 gdi`x|0  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 - L~Uu^o  
6.6.5  拟牛顿法 112 $D_HZ"ytu  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 4lz{G*u  
6.6.6  针合成 113 E`xU m9F  
6.6.6.1 针合成参数 114 Y';>O`  
6.6.7 差分进化 114 ,")F[%v  
6.6.8非局部细化 115 nW5K[/1D  
6.6.8.1非局部细化参数 115 <lo`q<q  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 V0NVGRQ  
6.7.1  细化 116 dVGbe07  
6.7.2  合成 117 =_QkH!vI  
6.8  参考文献 117 ~@fR[sg<  
7  导纳图及其他工具 118 .#!mDlY;  
7.1  简介 118 rYGRz#:~+  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ")M;+<c"l  
7.2.1  四分之一波长规则 119  aZgNPw  
7.2.2  导纳图 120 WK; (P4Z  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ;.s: X  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ']?=[`#NL  
7.5  斜入射导纳图 141 JEHK:1^  
7.6  对称周期 141 o#e7,O  
7.7  参考文献 142 r~oSP^e'  
8  典型的镀膜实例 143 'h}7YP, w  
8.1  单层抗反射薄膜 145 s*JE)  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 n`<U"$*  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9^zx8MRXd  
8.4  W-膜层 148 *Nlu5(z  
8.5  V-膜层 149 F<r4CHfh;  
8.6  V-膜层高折射基底 150 m2b`/JW  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 tpU D0Z)  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 xIgql}.  
8.9  四层抗反射薄膜 153 !6E:5=L^  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 h7?.2Q&S  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 fn1pa@P  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ,so4Lb(vG  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ^saM$e^c:  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 'v`_Ii|-  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 J@` 8(\(  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 *V|zx#RN  
8.17  1/4波长堆栈 162 XGIpUz  
8.18  陷波滤波器 163 z!CD6W1n  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8c).8RLf  
8.20  褶皱 165 k4R4YI"jV  
8.21  消偏振分光器1 169 M(5D'4.  
8.22  消偏振分光器2 171 RpN <=  
8.23  消偏振立体分光器 172 0yTQ{'Cc  
8.24  消偏振截止滤光片 173 HRHrSf7  
8.25  立体偏振分束器1 174 `a'` $'j  
8.26  立方偏振分束器2 177 N84qcc  
8.27  相位延迟器 178 ,n5a])Dg  
8.28  红外截止器 179 xid:"y=_&  
8.29  21层长波带通滤波器 180 {!t=n   
8.30  49层长波带通滤波器 181 stXda@y<p  
8.31  55层短波带通滤波器 182 Wp4K6x  
8.32  47 红外截止器 183 .e$%[ )D  
8.33  宽带通滤波器 184 iGa}3pF  
8.34  诱导透射滤波器 186 D3.VXuKn6  
8.35  诱导透射滤波器2 188 `,Zb2"  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 (nz}J)T&  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 CJA+v-  
8.35  增益平坦滤波器 193 .K7C-Xn=  
8.38  啁啾反射镜 1 196 O PiaG!3<  
8.39  啁啾反射镜2 198 [B,p,Q"  
8.40  啁啾反射镜3 199 d h?dO`  
8.41  带保护层的铝膜层 200 bK7.St  
8.42  增加铝反射率膜 201 TkT-$=i  
8.43  参考文献 202 ,Hh*3rR^  
9  多层膜 204 -<d(  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 {Zwf..,  
9.2  内部透过率 204 Bb_Q_<DTs  
9.3 内部透射率数据 205 4d-q!lRpa  
9.4  实例 206 l0#4Fma  
9.5  实例2 210 h--45`cE  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Y?t2,cm   
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 4cB&Hk  
10  光学薄膜的颜色 216 %`oHemSy  
10.1  导言 216 9A<0zt  
10.2  色彩 216 {? 2;0}3?;  
10.3  主波长和纯度 220 |h D~6a  
10.4  色相和纯度 221 /f]/8b g>  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 J7m`]!*t  
10.6 色差 226 g? I!OG  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 4Pf+]R  
10.8  颜色渲染指数 234 k- vA#  
10.9  色差计算 235 `:gYXeR  
10.10  参考文献 236 E [*0Bo]  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 req-Q |  
11.1  短脉冲 238 V" }*"P-%  
11.2  群速度 239 %yKKUZ~  
11.3  群速度色散 241 UEN56@eCNf  
11.4  啁啾(chirped) 245 g@(4ujOT  
11.5  光学薄膜—相变 245 Y2D >tpqNw  
11.6  群延迟和延迟色散 246 8? F 2jv  
11.7  色度色散 246 ETg{yBsp  
11.8  色散补偿 249 "?[7#d])  
11.9  空间光线偏移 256 j"0rkN3$J  
11.10  参考文献 258 F;W'  
12  公差与误差 260 d QDLI  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Kk>DYHZ6y  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 2$Wo&Q^_  
12.2.1  误差工具 267 vgN@~Xa  
12.2.2  灵敏度工具 271 F Nlx1U[  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 =G*z 5 3  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 K?JV]^  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 01o [!nT  
12.3  参考文献 276 +8eVj#N  
13  Runsheet 与Simulator 277 w O89&XZ<  
13.1  原理介绍 277 %2,/jhHL  
13.2  截止滤光片设计 277 P]- #wz=S  
14  光学常数提取 289 EFD?di)s  
14.1  介绍 289 Qqh^E_O  
14.2  电介质薄膜 289 hu&n=6  
14.3  n 和k 的提取工具 295 s4N,^_j  
14.4  基底的参数提取 302 }9 ?y'6l  
14.5  金属的参数提取 306 e]Puv)S>{8  
14.6  不正确的模型 306 -FaaFw:Z;A  
14.7  参考文献 311 *cPN\Iu.W  
15  反演工程 313 L@+Z)# V  
15.1  随机性和系统性 313 `}Eh[EOHJ  
15.2  常见的系统性问题 314 zNwc((  
15.3  单层膜 314 "5 y<G:$+~  
15.4  多层膜 314 m $)YYpX  
15.5  含义 319 l*qk1H"g  
15.6  反演工程实例 319 :Nkz,R?  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 B9AbKK$`  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 $8=(I2&TW  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 Pm~,Ky&Hl  
16.1  光学性质的热致偏移 329 =8@RKG`>;  
16.2  应力工具 335 N7a[B>+`  
16.3  均匀性误差 339 |Cu1uwy  
16.3.1  圆锥工具 339 _E&U?>g+  
16.3.2  波前问题 341 t={poQC~  
16.4  参考文献 343 u!M& ;QL  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 8z?$t-DO  
17.1  引言 345 G$|G w  
17.2  操作数 345 0:jsV|5B8  
18  如何在Function中编写脚本 351 \6Xn]S  
18.1  简介 351 f^~2^p 1te  
18.2  什么是脚本? 351 7WXiG0  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 @ }ZGY^  
18.4  基础 352 Kjv2J;Xuh  
18.4.1  Classes(类别) 352 @PKAz&0  
18.4.2  对象 352 Zi ma^IL  
18.4.3  信息(Messages) 352 80dSQ"y  
18.4.4  属性 352 z"9aAytd  
18.4.5  方法 353 FX cc1X/  
18.4.6  变量声明 353 z_'dRw  
18.5  创建对象 354 Oxpo6G  
18.5.1  创建对象函数 355 S3nB:$_-;  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ykJ+%gla  
18.5.3 丢弃对象 356 <. ezw4ju  
18.5.4  总结 356 makaI0M  
18.6  脚本中的表格 357 Rz)v-Yu  
18.6.1  方法1 357 dP?nP(l  
18.6.2  方法2 357 L(W%~UGN V  
18.7 2D Plots in Scripts 358 t2~"B&7My  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ]Qh[%GD  
18.9  注释 360 $ V3n~.=  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 w 7Cne%J8  
18.11  一个更高级的脚本 362 dvC0 <*V  
18.12  <esc>键 364  |h  
18.13 包含文件 365 bN]\K/  
18.14  脚本被优化调用 366 u}^a^B$  
18.15  脚本中的对话框 368 u<$S>  
18.15.1  介绍 368 A{G5Plrh  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 N`J:^,H  
18.15.3  输入框函数 370 7k.d|<mRv  
18.15.4  自定义对话框 371 ;OQ#@|D  
18.15.5  对话框编辑器 371 4F}g(  
18.15.6  控制对话框 377 )-MA!\=<  
18.15.7  更高级的对话框 380 od;Bb  
18.16 Types语句 384 bXa %EMF  
18.17 打开文件 385 USlF+RY@3L  
18.18 Bags 387 5w]DncdQ~  
18.13  进一步研究 388 c(QG4.)m  
19  vStack 389 oH!$eAU?  
19.1  vStack基本原理 389 cdd P T  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ZD$-V 3e`  
19.3  五棱镜 393 "bv,I-\  
19.4 光束距离 396 8XLxT(YFIs  
19.5 误差 399 4he v ;  
19.6  二向分色棱镜 399 +s#S{b  
19.7  偏振泄漏 404 >lUBt5gU  
19.8  波前误差—相位 405 }IxY(`:qs  
19.9  其它计算参数 405 WZfk}To1#  
20  报表生成器 406 9:bh3@r/  
20.1  入门 406 9O(i+fM  
20.2  指令(Instructions) 406 rD:gN%B=  
20.3  页面布局指令 406 _lP4ez Y  
20.4  常见的参数图和三维图 407  ]2hF!{wc  
20.5  表格中的常见参数 408 0IoXDx  
20.6  迭代指令 408 K,`).YK  
20.7  报表模版 408 .6lY*LI  
20.8  开始设计一个报表模版 409 L,s|gt v  
21  一个新的project 413 z ^gDbXS  
21.1  创建一个新Job 414 (mD-FR@#  
21.2  默认设计 415 ">0/>>Ry  
21.3  薄膜设计 416 z&>9 s)^-  
21.4  误差的灵敏度计算 420 S!`4Bl  
21.5  显色指数计算 422 ]# tGT0   
21.6  电场分布 424 .0 R/'!e  
后记 426 DTX/3EN  
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书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 pfJVE  
Im0+`9Jw  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
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pq/ FLYiv  
目  录 qv ;1$  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 y]~+`9  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 W TXD4}  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?3B t ;<^  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 1j${,>4tQ  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 V7K tbL#  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Mip m&5R  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 }iiG$?|.  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 D7gX,e  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 886 ('  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Q G=-LXv:@  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 n)1  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 |p=.Gg=2  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 vV:M S O'r  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 LX(iuf+l  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 84hi, S5P  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $BR=IYby  
V1CSXY\2  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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