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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 G_] (7  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00  !mX 2  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ~^Y(f'{  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 9H<6k*  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 >@BvyZ)i  
[attachment=120542] b}[W[J}`  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 YbrsXp"  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 wb }W;C@  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 *?`:=  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 >aZ$x/U+Iw  
1. Essential Macleod软件介绍 P:")Qb2  
1.1 介绍软件 Uv06f+P(  
1.2 创建一个简单的设计 04wmN  
1.3 绘图和制表来表示性能 J !:ss  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 l%^'K%'b  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) S/ Y1NH  
1.6 特定设计的公式技术 7='M&Za  
1.7 交互式绘图 :B<lDcFKJ  
2. 光学薄膜理论基础 )up!W4h6o  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 "(+ >#  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 UUx0#D/U0C  
3. 材料管理 ,zLi{a6  
3.1 材料模型 5UwaBPj4  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 !=.5$/  
3.3 金属薄膜光学常数的提取  @GYM4T  
3.4 基板光学常数的提取 LV&tu7c  
4. 光学薄膜设计优化方法 c4R6E~S  
4.1 参考波长与g Pv`^#BX'  
4.2 四分之一规则 wK[xLf  
4.3 导纳与导纳图 {}ZQK  
4.4 斜入射光学导纳 o(. PxcD  
4.5 光学薄膜设计的进展 : /9@p  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nJYcC"f  
4.6.1 优化目标设置 J}coWjw`q  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) @Zs}8YhC  
4.6.3 膜层锁定和链接 kg$<^:uX  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 AG#5_0]P~  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ^z$-NSlI  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 eA>O<Z1>  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 $H/3t?6h`  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 Rp)82- .  
5.5 如何在Function中编写脚本 ztG_::QtG]  
6. 光学薄膜系统案例 b0i]T?#  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 EM*YN=So  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 UKx91a}g  
6.3 Stack应用范例说明 PCs+` WP!M  
7. 薄膜性能分析 v!ULErs  
7.1 电场分布 .3,s4\.kT  
7.2 公差与灵敏度分析 Pb.-Z@  
7.3 反演工程 3_IuK 6K2  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 i`Es7 }  
8. 真空技术 v"L<{HN  
8.1 常用真空泵介绍 }abM:O "Y  
8.2 真空密封和检漏 lhx6+w  
9. 薄膜制备技术 xv9Z~JwH  
9.1 常见薄膜制备技术 H~@E&qd  
10. 薄膜制备工艺 vcAs!ls+  
10.1 薄膜制备工艺因素 S@zsPzw  
10.2 薄膜均匀性修正技术 gydPy*  
10.3 光学薄膜监控技术 PK u+$  
11. 激光薄膜 r9G<HKl  
11.1 薄膜的损伤问题 )[6H!y5  
11.2 激光薄膜的制备流程 j3~:\H  
11.3 激光薄膜的制备技术 r}9qK%C G.  
12. 光学薄膜特性测量 A%u-6"  
12.1 薄膜光谱测量 X#(?V[F]  
12.2 薄膜光学常数测量 $CO^dFf  
12.3 薄膜应力测量 KLs%{'[7:  
12.4 薄膜损伤测量 5A /G?  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
cp2e,%o  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
u|=_!$8  
内容简介 ZYrXav<  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 W z3y+I/&  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 iD_NpH q  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]xA;*b;| h  
eQno]$-\  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
kVQKP  U  
_I~W!8&w>  
目录 ]E88zWDY`  
Preface 1 [z`U 9J  
内容简介 2 U=p,drF,A  
目录 i <r,l  
1  引言 1 6.2_UN^<  
2  光学薄膜基础 2 ld4QhZia  
2.1  一般规则 2 &?/h#oF@\  
2.2  正交入射规则 3 '6fMF#X4F  
2.3  斜入射规则 6 (D{Fln\  
2.4  精确计算 7 VLN=9  
2.5  相干性 8 7f'9Dm`  
2.6 参考文献 10 (H<S&5[  
3  Essential Macleod的快速预览 10 YrjF1hJ  
4  Essential Macleod的特点 32 rFSLTbTf  
4.1  容量和局限性 33 R|ViLty  
4.2  程序在哪里? 33 Ezm ~SY  
4.3  数据文件 35 zhU)bb[A  
4.4  设计规则 35 b-@VR  
4.5  材料数据库和资料库 37 H6x~mZu_:T  
4.5.1材料损失 38 )wo'i]#2:  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 G#8HY VF  
4.5.2 材料库 41 SPe Se/  
4.5.3导出材料数据 43 NHUx-IqOX  
4.6  常用单位 43 ^/2n[orl5  
4.7  插值和外推法 46 !t{3IE  
4.8  材料数据的平滑 50 M/ 0!B_(R  
4.9 更多光学常数模型 54 E:f0NV3"1  
4.10  文档的一般编辑规则 55 v1QE|@  
4.11 撤销和重做 56 Gb<)U[Hfd  
4.12  设计文档 57 ,+KZn}>  
4.10.1  公式 58 ~a4htj  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 x,STt{I=  
4.10.3  沉积密度 59 \('8 _tqI"  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ?7'uo$  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 #]oVVf_  
4.10.4  性能 61 Z+=WgEu1  
4.10.5  保存设计和性能 64 OO] ~\j  
4.10.6  默认设计 64 OA_:_%a(  
4.11  图表 64 .KGW#Qk8  
4.11.1  合并曲线图 67 @U_w:Q<9u  
4.11.2  自适应绘制 68 xpKD 'O=T  
4.11.3  动态绘图 68 KO<Yc`Fs  
4.11.4  3D绘图 69 ddmTMfH  
4.12  导入和导出 73 5v=%pQbY  
4.12.1  剪贴板 73 9Y- Sqk+  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Di<KRg1W]}  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 E#`=xg  
4.13  背景 77 YW}q@AY7  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ;+g p#&i`  
4.15  生成Rugate 84 3aQWzEnh  
4.16  参考文献 91 =da_zy  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 `$jc=ZLm  
5.1  Jobs 92 =2BGS\$#  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 t(-noy)  
5.3  输入材料 94 Xa.Qt.C  
5.4  设计数据文件夹 95 o> WH;EBL  
5.5  默认设计 95 )d bi  
6  细化和合成 97 3<1Uq3Pa  
6.1  优化介绍 97 PGsXB"k<8  
6.2  细化 (Refinement) 98 !krbGpTVH  
6.3  合成 (Synthesis) 100 @Nn9- #iW  
6.4  目标和评价函数 101 fmXA;^%  
6.4.1  目标输入 102 5vj;lJKcd`  
6.4.2  目标 103 D+]#qS1q  
6.4.3  特殊的评价函数 104 V]tuc s  
6.5  层锁定和连接 104 m:59f9WXA  
6.6  细化技术 104 2K'3ry)[y  
6.6.1  单纯形 105 J4#t1P@Na  
6.6.1.1 单纯形参数 106 8C#R  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 r9sW:cM:e  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ?1K|.lr  
6.6.3  模拟退火算法 109 r`pg`ChHv  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 aB;syl{  
6.6.4  共轭梯度 111 8 sZ~3  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 UM(tM9  
6.6.5  拟牛顿法 112 acz8 H 0cS  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 UB }n=  
6.6.6  针合成 113  ~Jrtm7  
6.6.6.1 针合成参数 114 Q<3=s6@T  
6.6.7 差分进化 114 cu5Yvp  
6.6.8非局部细化 115 q{HfT d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 bYGK}:T8U  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 L!Iu\_{q  
6.7.1  细化 116 @cA`del  
6.7.2  合成 117 uV!Ax *'  
6.8  参考文献 117 Z|K+{{C  
7  导纳图及其他工具 118 l69&-Nyg  
7.1  简介 118 ` =g9Rg/<  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 N@lTn}U  
7.2.1  四分之一波长规则 119 9"Oz-!Y4  
7.2.2  导纳图 120 k3h,c;  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 x*Y&s<  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 4n @}X-)  
7.5  斜入射导纳图 141 3JVENn9  
7.6  对称周期 141 W+-a@)sh3Q  
7.7  参考文献 142 !qsk;Vk7Z  
8  典型的镀膜实例 143 D0 Yl?LU3  
8.1  单层抗反射薄膜 145 Gx ci  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 \Y&*sfQ  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #5-5N5-1  
8.4  W-膜层 148 ;UTT>j  
8.5  V-膜层 149 6!bp;iLKy  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Fk@A;22N  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 +b"RZ:tKp  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +e?mKLw14  
8.9  四层抗反射薄膜 153 }CnqJ@>C5  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ,_@C(O  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *{8<4CVv  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 QlmZBqK}&  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 7 ^7Rk  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 W iqlc  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 AuuZWd  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 V#["Z}  
8.17  1/4波长堆栈 162 F(c~D0  
8.18  陷波滤波器 163 eIBHAdU+g/  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8.FBgZh*  
8.20  褶皱 165 v-M3/*  
8.21  消偏振分光器1 169 eSo/1D  
8.22  消偏振分光器2 171 }_93}e  
8.23  消偏振立体分光器 172 _Mq0QQ42  
8.24  消偏振截止滤光片 173 MF:]J  
8.25  立体偏振分束器1 174 =67dpQ'y  
8.26  立方偏振分束器2 177 /cHd&i,>  
8.27  相位延迟器 178 gdkl,z3N3  
8.28  红外截止器 179 -6a4H?L  
8.29  21层长波带通滤波器 180 [~03Z[_"/  
8.30  49层长波带通滤波器 181 BayO+,>K  
8.31  55层短波带通滤波器 182 sf )ojq6s  
8.32  47 红外截止器 183 7 zo)t1H1  
8.33  宽带通滤波器 184 dzJ\+ @4  
8.34  诱导透射滤波器 186 PhF.\W b  
8.35  诱导透射滤波器2 188 np3$bqm  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 rvO7e cR"  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 t I}@1  
8.35  增益平坦滤波器 193 09z%y[z  
8.38  啁啾反射镜 1 196 F F<xsoZJ  
8.39  啁啾反射镜2 198 YoiM\gw  
8.40  啁啾反射镜3 199 *fyC@fI>  
8.41  带保护层的铝膜层 200 EOJk7  
8.42  增加铝反射率膜 201 B;xw @:H  
8.43  参考文献 202 W/_=S+CvK  
9  多层膜 204 v,t;!u,40  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 %\6ns  
9.2  内部透过率 204 @V{s'V   
9.3 内部透射率数据 205 @8WG  
9.4  实例 206 _/;k ;$gDp  
9.5  实例2 210 LDlj4>%pW^  
9.6  圆锥和带宽计算 212 \Y.&G,?  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 UB[tYZ  
10  光学薄膜的颜色 216 C@+"d3  
10.1  导言 216 lr SdFJ%  
10.2  色彩 216 %gj's-!!  
10.3  主波长和纯度 220 `k y>M-  
10.4  色相和纯度 221 v~^c-]4I  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3=o^Vv  
10.6 色差 226 i!8 o(!I  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Ar&]/X,WG  
10.8  颜色渲染指数 234 #hL<9j  
10.9  色差计算 235 ,Q|[Yr  
10.10  参考文献 236  E~oQ%X~  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 R^zTgyr  
11.1  短脉冲 238 C =fs[  
11.2  群速度 239 0v6(A4Y  
11.3  群速度色散 241 ?DPN a  
11.4  啁啾(chirped) 245 xK4b(KJj  
11.5  光学薄膜—相变 245 g-^Cf   
11.6  群延迟和延迟色散 246 A*l(0`aWq  
11.7  色度色散 246 Ju5<wjQR\  
11.8  色散补偿 249 |rJ1/T.9  
11.9  空间光线偏移 256 9L3#aE]C  
11.10  参考文献 258 gQy {OU  
12  公差与误差 260 mq~rD)T  
12.1  蒙特卡罗模型 260 ,arFR'u>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 QuFcc}{<]  
12.2.1  误差工具 267 :%GxU;<E{  
12.2.2  灵敏度工具 271 0Yz &aH  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 O8BxXa@5  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 "0Xa?z8"  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ~F7 +R   
12.3  参考文献 276 RFF&-M]  
13  Runsheet 与Simulator 277 G<.p".o4  
13.1  原理介绍 277 :@LFNcWE  
13.2  截止滤光片设计 277 B ;Zsp  
14  光学常数提取 289 s_Y1rD*B  
14.1  介绍 289 Xh==F:  
14.2  电介质薄膜 289 fuJ6 fmT  
14.3  n 和k 的提取工具 295 S-^y;#=  
14.4  基底的参数提取 302 g Z3VT{  
14.5  金属的参数提取 306 F 7+Gt Ed  
14.6  不正确的模型 306 ,aI 6P-  
14.7  参考文献 311 J;+A G^U<  
15  反演工程 313 {E!"^^0`  
15.1  随机性和系统性 313 e-<fkU9^W  
15.2  常见的系统性问题 314 YpQ/ )fSEV  
15.3  单层膜 314 =x "N0p  
15.4  多层膜 314 [uOW\)`  
15.5  含义 319 KA:>7-  
15.6  反演工程实例 319 :CEhc7gU  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 M ,.++W\  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ]/;0  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 9TGjcZ1S'  
16.1  光学性质的热致偏移 329 %XGwQB$zk8  
16.2  应力工具 335 F?2(U\k#  
16.3  均匀性误差 339 *au&ODa  
16.3.1  圆锥工具 339 N*JWd  
16.3.2  波前问题 341 @Tmqw(n{  
16.4  参考文献 343 "Yw-1h`fR  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 k>#,1GbNZy  
17.1  引言 345 e"en ma\_  
17.2  操作数 345 {UT>> *C  
18  如何在Function中编写脚本 351 !Dp4uE:Pq  
18.1  简介 351 s]Z/0:`  
18.2  什么是脚本? 351 cad1eOT'  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 V.J[Uwf  
18.4  基础 352 TL@_m^SM  
18.4.1  Classes(类别) 352 +s&+G![  
18.4.2  对象 352 SZJ~ktXC-V  
18.4.3  信息(Messages) 352 qA:CV(Z  
18.4.4  属性 352 _QCspPT' c  
18.4.5  方法 353 Q%4>okj,  
18.4.6  变量声明 353 $oK,&_  
18.5  创建对象 354 ?bbu^;2*f  
18.5.1  创建对象函数 355 o?uTL>Zin  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 '/ 3..3k  
18.5.3 丢弃对象 356 eG26m_S=  
18.5.4  总结 356 u#XNl":x  
18.6  脚本中的表格 357 * EOIgQp  
18.6.1  方法1 357 >69xl^Gd  
18.6.2  方法2 357 }_}C ^  
18.7 2D Plots in Scripts 358 M9*7r\hqYV  
18.8 3D Plots in Scripts 359 pc}Q_~e  
18.9  注释 360 e $QX?y .  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 SiHZco I  
18.11  一个更高级的脚本 362 M5 ep\^  
18.12  <esc>键 364 S:{hgi,T*  
18.13 包含文件 365 # 4`*`)%  
18.14  脚本被优化调用 366 zllY $V&<!  
18.15  脚本中的对话框 368 @u3K.}i:g  
18.15.1  介绍 368 7)G- EAF  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ?m#X";^V  
18.15.3  输入框函数 370 2Jrr;"r  
18.15.4  自定义对话框 371 4\<[y]pv  
18.15.5  对话框编辑器 371 fKIwdk%!-  
18.15.6  控制对话框 377 _m0H gLS~  
18.15.7  更高级的对话框 380 7 }(LO^,A  
18.16 Types语句 384 Ac<V!v71  
18.17 打开文件 385 f33'2PYl  
18.18 Bags 387 hu[=9#''$  
18.13  进一步研究 388 %stZ'IX  
19  vStack 389 0iqa]Am  
19.1  vStack基本原理 389 qQ%zSJ?  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 2?rg&og6  
19.3  五棱镜 393 i{PRjkR  
19.4 光束距离 396 /ow/)\/}  
19.5 误差 399 ')I/D4v  
19.6  二向分色棱镜 399 & PrV+Lv  
19.7  偏振泄漏 404 w(n&(5FzB<  
19.8  波前误差—相位 405 fHYEK~!C04  
19.9  其它计算参数 405 Z'<=06  
20  报表生成器 406 ymXR#E  
20.1  入门 406 Fgxh?Wd9  
20.2  指令(Instructions) 406 Qpiv,n  
20.3  页面布局指令 406 ovzIJbf  
20.4  常见的参数图和三维图 407 &$jg *Kr  
20.5  表格中的常见参数 408 ]oP2T:A  
20.6  迭代指令 408 b,/fz6 {N  
20.7  报表模版 408 A_T-]YQ  
20.8  开始设计一个报表模版 409 n@{fqj  
21  一个新的project 413 fm87?RgXD  
21.1  创建一个新Job 414 ?mS798=f  
21.2  默认设计 415 A{\7HV5  
21.3  薄膜设计 416 D|9C|q  
21.4  误差的灵敏度计算 420 o %A4wEye  
21.5  显色指数计算 422 %l[Cm4  
21.6  电场分布 424 :1eI"])(  
后记 426 `23&vGk}  
=A9>Ej/  
nCh9IF[BL/  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 }b2U o&][  
?2OT:/I,  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
4z Af|Je  
%~J90a  
目  录 nVw]0Yl  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 :ZL;wtT  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 ww nc  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 -'3vQXj&  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 n_AW0i .  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 lYv :  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Wt()DG|[  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 AvRZf-Geg  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 :aLShxKA  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 N+\#k*n?  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Q#urx^aw  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 5|x&Z/hL  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 =t<!W  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 u!oHP  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 pZ+zm6\$  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312  Us k@{  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ?`AzgM[I  
qi`*4cas*A  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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