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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 qW`DCZu  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 mwO9`AU;  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 {Kz!)uaC  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 u4h.\ul8%  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 p# JPLCs  
[attachment=120542] KzQuLD(e  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 QY c/f"9  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 iX-.mq$  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 x27$h)R0v  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 CbFO9q  
1. Essential Macleod软件介绍 >dXB)yl  
1.1 介绍软件 %xA-j]%?ep  
1.2 创建一个简单的设计 8ib e#jlg  
1.3 绘图和制表来表示性能 \%_sL#?  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 +2>, -V  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) M[cAfu  
1.6 特定设计的公式技术 V/tl-;W  
1.7 交互式绘图 1BSn#Dnj  
2. 光学薄膜理论基础 ]e$n;tuW  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 9M-W 1prb  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 5t|$Yt[  
3. 材料管理 ^UBzX;|p  
3.1 材料模型 OZ/"W)  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ~5>TMIDiuR  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 *Ag3qnY  
3.4 基板光学常数的提取 9'p*7o  
4. 光学薄膜设计优化方法 / 2MhP=,  
4.1 参考波长与g WR_B:%W.  
4.2 四分之一规则 %Vfr#j$=  
4.3 导纳与导纳图 &~'i,v|E  
4.4 斜入射光学导纳 r@PVSH/  
4.5 光学薄膜设计的进展 lT~WP)  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Wu/:ES)C  
4.6.1 优化目标设置 /T 2 v`Li  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) }"[/BT5t  
4.6.3 膜层锁定和链接 X9?0`6Li  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 HkY#i;%N  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 R G~GVf  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 \+&)9 !K  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 v^ v \6uEP  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 qpzyl~g:C  
5.5 如何在Function中编写脚本 )u0 /s'  
6. 光学薄膜系统案例 bdEI vf7  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 5W=Jn?y2  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Tl#2w=  
6.3 Stack应用范例说明 QZ[S, c^  
7. 薄膜性能分析 o_5[}d  
7.1 电场分布 X&Sah}0V&  
7.2 公差与灵敏度分析 PDLps[a  
7.3 反演工程 '8FHn~F  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 /1uGsE+[  
8. 真空技术 /82E[P"}6R  
8.1 常用真空泵介绍 c= ?Tu  
8.2 真空密封和检漏 GkI{7GD:z  
9. 薄膜制备技术 wWSE[S$V  
9.1 常见薄膜制备技术 Tt=;of{  
10. 薄膜制备工艺 #%L_wJB-  
10.1 薄膜制备工艺因素 HrMbp  
10.2 薄膜均匀性修正技术 [;o>q;75Jz  
10.3 光学薄膜监控技术 <fA}_BH%]  
11. 激光薄膜 D&pX0  
11.1 薄膜的损伤问题 O@w_"TJP/z  
11.2 激光薄膜的制备流程 ]z| 2  
11.3 激光薄膜的制备技术 t< RPDQ>  
12. 光学薄膜特性测量 q8,,[R_  
12.1 薄膜光谱测量 UUa@7|x  
12.2 薄膜光学常数测量 wD W/?lT&  
12.3 薄膜应力测量 G*~CB\K_  
12.4 薄膜损伤测量 .[1@wW&L  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
52^,qP'6  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
6Q{OM:L/;.  
内容简介 S,f#g?V  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 JSaF7(a =  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 sP~xe(  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .Yz^r?3t  
0}|%pmY`  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
'-$cvH7_  
I]3!M`IMG  
目录 n36iY'<)G  
Preface 1 MmFtG-  
内容简介 2 =Lnip<t>ja  
目录 i +8"P*z,  
1  引言 1 FIu^Qd  
2  光学薄膜基础 2 n-,mC /4  
2.1  一般规则 2 %;<g!Vw.k  
2.2  正交入射规则 3 ?ef7%0  
2.3  斜入射规则 6 L:Mjd47L  
2.4  精确计算 7 ml!c0<  
2.5  相干性 8 q]*jTb  
2.6 参考文献 10 Y]5MM:mI  
3  Essential Macleod的快速预览 10 O`aNNy  
4  Essential Macleod的特点 32 $D D esy3  
4.1  容量和局限性 33 bf2r8   
4.2  程序在哪里? 33 ;vbM C74J#  
4.3  数据文件 35 }OTJ{eG  
4.4  设计规则 35 ^&$86-PB/  
4.5  材料数据库和资料库 37 !\O!Du  
4.5.1材料损失 38 %az6\"n  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 EWv[Sp  
4.5.2 材料库 41 F" 4;nU  
4.5.3导出材料数据 43 u,N<U t  
4.6  常用单位 43 VUz+ _)  
4.7  插值和外推法 46 ^L8:..+:  
4.8  材料数据的平滑 50 w ykaf   
4.9 更多光学常数模型 54  obPG]*3  
4.10  文档的一般编辑规则 55 [;ZC_fD  
4.11 撤销和重做 56 fL]jk1.Xv-  
4.12  设计文档 57 F~bDg tN3  
4.10.1  公式 58 f&RjvVP?s  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :Gx5vo  
4.10.3  沉积密度 59 {))Cb9'  
4.10.4 平行和楔形介质 60 W )Ps2  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 >l=^3B,j  
4.10.4  性能 61 qEl PYN*wF  
4.10.5  保存设计和性能 64 Dk8@x8  
4.10.6  默认设计 64 ;cp||uO  
4.11  图表 64 f|)~_J H  
4.11.1  合并曲线图 67 v$g\]QS p  
4.11.2  自适应绘制 68 peOoZdJd  
4.11.3  动态绘图 68 gkKNOus  
4.11.4  3D绘图 69 #CB Kt,  
4.12  导入和导出 73 (N)>?r@n`  
4.12.1  剪贴板 73 Rtl 1eJ-  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 lLglF4  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 fE3%$M[V7  
4.13  背景 77 `9P`f4x  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 R|wS*xd,  
4.15  生成Rugate 84 bT|-G2g7Z  
4.16  参考文献 91 yMD0Tj5ZQ  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 Cn5;h(r  
5.1  Jobs 92 Pj{I} 4P`  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 =ReSlt  
5.3  输入材料 94 \YF07L]qs-  
5.4  设计数据文件夹 95 nHp$5|r<  
5.5  默认设计 95 l k /Ke  
6  细化和合成 97 "I{Lcn~!@  
6.1  优化介绍 97 Ap|g[J  
6.2  细化 (Refinement) 98 jJ,y+o  
6.3  合成 (Synthesis) 100 Ra:UnA  
6.4  目标和评价函数 101 c%+uji6  
6.4.1  目标输入 102 B+pLW/4l  
6.4.2  目标 103 s ;]"LD@  
6.4.3  特殊的评价函数 104 +~M.Vs X  
6.5  层锁定和连接 104 %e|UA-(  
6.6  细化技术 104 `49!di[  
6.6.1  单纯形 105 R"\(a  
6.6.1.1 单纯形参数 106 s*eM}d.p  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 \nL@P6X  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Rd5pLrr[0)  
6.6.3  模拟退火算法 109 EZ hk(LE  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 K 6,c||#<  
6.6.4  共轭梯度 111 w6^TwjjZ$  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 `FX?P`\@I  
6.6.5  拟牛顿法 112 .f!:@fX>=  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 s t#^pWL  
6.6.6  针合成 113 |I|,6*)xg  
6.6.6.1 针合成参数 114 (IA:4E}  
6.6.7 差分进化 114 qP=a:R-  
6.6.8非局部细化 115 s= z$;1C  
6.6.8.1非局部细化参数 115 pK/RkA1  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 H$ :BJ$x@  
6.7.1  细化 116 Vn_>c#B  
6.7.2  合成 117 F#qc#s  
6.8  参考文献 117 4=& d{.E  
7  导纳图及其他工具 118 -; i:bE  
7.1  简介 118 eQqCRXx  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 <N=ow"rD  
7.2.1  四分之一波长规则 119 cwQ *P$n  
7.2.2  导纳图 120 1WY$Vs  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vJ&35nF&  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 i9peQ61{  
7.5  斜入射导纳图 141 *;lb<uLv  
7.6  对称周期 141 gDX\ p>7  
7.7  参考文献 142 =~dsIG  
8  典型的镀膜实例 143 f uH3C~u7<  
8.1  单层抗反射薄膜 145 0zA:?}  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 &G3$q,`H  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D{4]c)>  
8.4  W-膜层 148 Xxm7s S  
8.5  V-膜层 149 eYv+tjIF  
8.6  V-膜层高折射基底 150 =knBwjeD  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 `_J>R  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 | Y(  
8.9  四层抗反射薄膜 153 7? ="{;  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 W:2]d  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #"o`'5  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 [-#q'S  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 L1q]  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 6%&w\<(SG  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 GbC JGqOR  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 t & 5s.  
8.17  1/4波长堆栈 162 k{^iv:  
8.18  陷波滤波器 163 }O6E5YCm  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2]tW&y_i  
8.20  褶皱 165 :IozWPs*  
8.21  消偏振分光器1 169 Lcs?2c:%  
8.22  消偏振分光器2 171 3X1 U  
8.23  消偏振立体分光器 172 1kh()IrA  
8.24  消偏振截止滤光片 173 7+P-MT  
8.25  立体偏振分束器1 174 biH ZyUJ  
8.26  立方偏振分束器2 177 H*&!$s.  
8.27  相位延迟器 178 e~$aJO@B.R  
8.28  红外截止器 179 &LhR0A  
8.29  21层长波带通滤波器 180 #23($CSE  
8.30  49层长波带通滤波器 181 U{3Pk0rZ  
8.31  55层短波带通滤波器 182 WAGU|t#."  
8.32  47 红外截止器 183 va;fT+k=  
8.33  宽带通滤波器 184 i0[mU,  
8.34  诱导透射滤波器 186 6 $+b2&V  
8.35  诱导透射滤波器2 188 v <E#`4{  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 PE2O$:b\  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <{k8 K6  
8.35  增益平坦滤波器 193 r59BBW)M  
8.38  啁啾反射镜 1 196 #!]~E@;E  
8.39  啁啾反射镜2 198 j4eq.{$  
8.40  啁啾反射镜3 199 "'U]4Z%q!  
8.41  带保护层的铝膜层 200 4,7W*mr3(  
8.42  增加铝反射率膜 201 E <h9o>h  
8.43  参考文献 202 7u[$  
9  多层膜 204 ZG_iF#  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 6Zq7O\  
9.2  内部透过率 204 :&$ WWv  
9.3 内部透射率数据 205 ZgL]ex  
9.4  实例 206 L7$1rO<  
9.5  实例2 210 *!yY7 ~#  
9.6  圆锥和带宽计算 212 &^])iG,Ew  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Ve\P,.  
10  光学薄膜的颜色 216 #:} mi;{  
10.1  导言 216 pL{:8Ed  
10.2  色彩 216 =-n7/  
10.3  主波长和纯度 220 B3V+/o6  
10.4  色相和纯度 221 <|4L+?_(&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ')~[J$qz  
10.6 色差 226 N##- vV  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 S)G*+)  
10.8  颜色渲染指数 234 1Et{lrgh f  
10.9  色差计算 235 &8QkGUbS<  
10.10  参考文献 236 ? ]hS^&  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 SSa0 x9T  
11.1  短脉冲 238 /3Cd P'c  
11.2  群速度 239 vU,;asgy  
11.3  群速度色散 241 Yjp*T:6  
11.4  啁啾(chirped) 245 F48W8'un  
11.5  光学薄膜—相变 245 =fy'w3m  
11.6  群延迟和延迟色散 246 -3&mgd  
11.7  色度色散 246 8WMGuv  
11.8  色散补偿 249 :N ]H"u9X  
11.9  空间光线偏移 256 L$ ZZ]?7j  
11.10  参考文献 258 P/doNv}iG  
12  公差与误差 260 ;@G5s+<l  
12.1  蒙特卡罗模型 260 p#tbN5i[{7  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 { ^ @c96&  
12.2.1  误差工具 267 Q(ec>+oi  
12.2.2  灵敏度工具 271 }-15^2  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 %Y<3v \`_  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 8Xk,Nbcqt  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ]{PJ  
12.3  参考文献 276 C9"yu&l  
13  Runsheet 与Simulator 277 Q804_F F#  
13.1  原理介绍 277 g%T`6dvT  
13.2  截止滤光片设计 277 C&-]RffA  
14  光学常数提取 289 SbN.z  
14.1  介绍 289 NM&R\GI  
14.2  电介质薄膜 289 N2e]S8-  
14.3  n 和k 的提取工具 295 <-Q0s%mNj,  
14.4  基底的参数提取 302 /F7X"_(H  
14.5  金属的参数提取 306 \K(QE ~y'W  
14.6  不正确的模型 306 g"Gj8QLDz  
14.7  参考文献 311 TC^fyxq  
15  反演工程 313 P_N i 5s)  
15.1  随机性和系统性 313 px=r~8M9}  
15.2  常见的系统性问题 314 E.+BqWZ!  
15.3  单层膜 314 w@&(=C  
15.4  多层膜 314 ~k780  
15.5  含义 319 R1NwtnS  
15.6  反演工程实例 319 nZ8f}R!f:  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 d0 qc%.s  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 \2NT7^H#  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 fMZzR|_18  
16.1  光学性质的热致偏移 329 LQ3J$N  
16.2  应力工具 335 z< ,rE  
16.3  均匀性误差 339 )ME'qA3K  
16.3.1  圆锥工具 339 "6zf-++%  
16.3.2  波前问题 341 >^ijj`{d  
16.4  参考文献 343 GBo'=  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 +je{%,*  
17.1  引言 345 q_[V9  
17.2  操作数 345 _W^{,*p  
18  如何在Function中编写脚本 351 2V)qnMxAZJ  
18.1  简介 351 2JX@#vQ4  
18.2  什么是脚本? 351 Xw |6 #^  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 J'#R9NO<  
18.4  基础 352 XYdr~/[HPy  
18.4.1  Classes(类别) 352 *>8Y/3Y\B  
18.4.2  对象 352 &&K"3"um  
18.4.3  信息(Messages) 352 +L\bg| ;  
18.4.4  属性 352 \>nY%*  
18.4.5  方法 353 =?s0.(;  
18.4.6  变量声明 353 >a$b4 pvh  
18.5  创建对象 354 'ghwc:Og|%  
18.5.1  创建对象函数 355 zPt0IB_j'  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 +3%i7  
18.5.3 丢弃对象 356 Z&j?@k,k  
18.5.4  总结 356 T$r?LIa ,Q  
18.6  脚本中的表格 357 IM9P5?kJ ?  
18.6.1  方法1 357 5x1_rjP$|  
18.6.2  方法2 357 B#Z-kFn@  
18.7 2D Plots in Scripts 358 #uillSV  
18.8 3D Plots in Scripts 359 rtY4 B~_  
18.9  注释 360 \r7gubD  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 AagWswv{Bf  
18.11  一个更高级的脚本 362 k:k!4   
18.12  <esc>键 364 ;gmfWHB<  
18.13 包含文件 365 -|x YT+?%  
18.14  脚本被优化调用 366 tpP2dg9dF  
18.15  脚本中的对话框 368 DA -W =Cc  
18.15.1  介绍 368 4C[n@ p2  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 Q]NGd 0J  
18.15.3  输入框函数 370 5|Or,8r(C  
18.15.4  自定义对话框 371 <"rckPv_H  
18.15.5  对话框编辑器 371 h`HdM58CQ  
18.15.6  控制对话框 377 ` "JslpN  
18.15.7  更高级的对话框 380 wM#BQe3t#  
18.16 Types语句 384 {P>%l\?  
18.17 打开文件 385 n]+v Eu|  
18.18 Bags 387 oHI/tS4 _  
18.13  进一步研究 388 #v QyECf  
19  vStack 389 (!9ybH;T  
19.1  vStack基本原理 389 `GD>3-   
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 70&]nb6f  
19.3  五棱镜 393 L_4Zx sIv  
19.4 光束距离 396 F9&ae*>,  
19.5 误差 399 _Z|3qQ  
19.6  二向分色棱镜 399 @JL+xfz  
19.7  偏振泄漏 404 %: .{?FB_  
19.8  波前误差—相位 405 %Kq`8  
19.9  其它计算参数 405 td6$w:SN,l  
20  报表生成器 406 "RF<i3{S  
20.1  入门 406 g@jAIy]  
20.2  指令(Instructions) 406 :W\xZ  
20.3  页面布局指令 406 Ka"Z,\T   
20.4  常见的参数图和三维图 407 IO\ >U(:vx  
20.5  表格中的常见参数 408 "7k 82dw  
20.6  迭代指令 408 =tv,B3Mo  
20.7  报表模版 408 kr C4O2Fkj  
20.8  开始设计一个报表模版 409 =+qtk(p  
21  一个新的project 413 j5EZJ`  
21.1  创建一个新Job 414 SOI$Mx  
21.2  默认设计 415 c_fx,; ;  
21.3  薄膜设计 416 @KhDQ0v]5  
21.4  误差的灵敏度计算 420 R`F54?th  
21.5  显色指数计算 422 OeuM9c{  
21.6  电场分布 424 D9;2w7v  
后记 426 >h0iq  
Y?(kE` R  
o 26R]  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 k|$08EK $  
-Cjc~{B>7X  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
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目  录 lw4#xH-?  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 cuO)cj]@e  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 6q[|U_3I@  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 )Jx+R ;Z  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 O\h*?, )  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %T hY6y(  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ,9I %t%sb  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 e`pYO]Z  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 zI5 #'<n  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 I%]~]a  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ~C1lbn b  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 $4^cbk  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 *9#6N2J$M  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 si:p98[w  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 OOzk@j^  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 v71j1Q}6  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 kdVc;v/5  
I}djDtJ  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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