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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 IDn<5#  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 h&K$(}X  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8!|vp7/  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 _%R^8FjH*  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 /i8OyRpSyk  
[attachment=120542] zoi0Z  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 C*ep8{B  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 VxDIA_@y  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 r QiRhp  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ^85Eveu  
1. Essential Macleod软件介绍 xI{fd1  
1.1 介绍软件 iXy1{=BDv  
1.2 创建一个简单的设计 ~<!j]@.  
1.3 绘图和制表来表示性能 6&0@k^7~  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 g,]o+nT  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) +# 'w} P  
1.6 特定设计的公式技术 {Vj&i.2,  
1.7 交互式绘图 MoN0w.V  
2. 光学薄膜理论基础 Wz.iDRFl  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 r<fcZ)jt|  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ;>mM9^Jaf  
3. 材料管理 =s":Mx,o  
3.1 材料模型 ya1 aWs~  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 1s(T#jh  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 YA,~qT|  
3.4 基板光学常数的提取 LUD .  
4. 光学薄膜设计优化方法 SI~jM:S}  
4.1 参考波长与g  .x%w#  
4.2 四分之一规则 >I\B_q  
4.3 导纳与导纳图 9[zxq`qT}+  
4.4 斜入射光学导纳 Hc'Pp{| X  
4.5 光学薄膜设计的进展 {)"[_<  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 BL 1KM2]  
4.6.1 优化目标设置 0Q a 0  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) BeLD`4K  
4.6.3 膜层锁定和链接 rs?Dn6:;B  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 >\[]z^J  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 .2c/V  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 l+@;f(8}  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 _ cQ '3@  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 =oI[E~1<  
5.5 如何在Function中编写脚本 \"(?k>]E  
6. 光学薄膜系统案例 GIzB1cl:  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 exJc[G&t(  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 uX1;  
6.3 Stack应用范例说明 FShjUl>mV  
7. 薄膜性能分析 y#B=9Ri=z  
7.1 电场分布 ~g/"p`2-N  
7.2 公差与灵敏度分析 QO}~"lMj  
7.3 反演工程 ^+D/59I  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 4+q,[m-$(  
8. 真空技术 A .&c>{B7  
8.1 常用真空泵介绍 nSyLt6zn\  
8.2 真空密封和检漏 n5kGHL2   
9. 薄膜制备技术 =F$?`q`  
9.1 常见薄膜制备技术 eZOR{|z  
10. 薄膜制备工艺 4& cQW)  
10.1 薄膜制备工艺因素 [tk x84M8  
10.2 薄膜均匀性修正技术 }y6@YfV${  
10.3 光学薄膜监控技术 u!|_bI3  
11. 激光薄膜 %]}JWXo f  
11.1 薄膜的损伤问题 Ztmh z_u7  
11.2 激光薄膜的制备流程 D/Ki^E  
11.3 激光薄膜的制备技术  Kg';[G\  
12. 光学薄膜特性测量 7JBs7LG  
12.1 薄膜光谱测量 */h(4Hz  
12.2 薄膜光学常数测量 Oq~{HJ{  
12.3 薄膜应力测量 0RA#Y(IR  
12.4 薄膜损伤测量 xR0*w7YE  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
SX"|~Pi(  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
ij0I!ilG4  
内容简介 v_5qE  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g ZtQtFi  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 pRV.\*:c  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 bK%F_v3'  
m8F$h-  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
MS;^:t1`  
AVQcD`V3B  
目录 a%Q`R;W  
Preface 1 )!27=R/  
内容简介 2 "'[M~Js  
目录 i Y^Buz<OiG  
1  引言 1 !6-t_S  
2  光学薄膜基础 2 w3,KqF  
2.1  一般规则 2 P_3IFHe  
2.2  正交入射规则 3 =F_uK7W  
2.3  斜入射规则 6 #).^k-  
2.4  精确计算 7 *,G< X^  
2.5  相干性 8 ,JdBVt  
2.6 参考文献 10 4A@HR  
3  Essential Macleod的快速预览 10 RL4|!HzR  
4  Essential Macleod的特点 32 Z0Sqw  
4.1  容量和局限性 33 (E0WZ $f}  
4.2  程序在哪里? 33 h>!h|Ma  
4.3  数据文件 35 []@@  
4.4  设计规则 35 sC\?{B0 r  
4.5  材料数据库和资料库 37 |.Vgk8oTl  
4.5.1材料损失 38 5/P. 4<c7  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 _'cB<9P  
4.5.2 材料库 41 mh"PAp  
4.5.3导出材料数据 43 ;g?PK5rB(  
4.6  常用单位 43 (nLzWvN  
4.7  插值和外推法 46 Fxa{ 9'99  
4.8  材料数据的平滑 50 D,.`mX  
4.9 更多光学常数模型 54 }Y7P2W+4?  
4.10  文档的一般编辑规则 55 12#yHsk  
4.11 撤销和重做 56 \uHC9}0  
4.12  设计文档 57 IrYj#,xJ  
4.10.1  公式 58 ]vf_4QW=  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 /95z1e  
4.10.3  沉积密度 59 >6Pe~J5,:  
4.10.4 平行和楔形介质 60 GjwH C{  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Vyi.:lL _8  
4.10.4  性能 61 q(~jP0pj%  
4.10.5  保存设计和性能 64 eMdP4<u  
4.10.6  默认设计 64 uSXnf  
4.11  图表 64 [O\ )R[J  
4.11.1  合并曲线图 67 !4cCq_  
4.11.2  自适应绘制 68 $A~aNI  
4.11.3  动态绘图 68 % m6qL  
4.11.4  3D绘图 69 cu1!WD  
4.12  导入和导出 73 p,z>:3M  
4.12.1  剪贴板 73 ugN%8N  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 *P\lzM  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 P'B|s /)  
4.13  背景 77 L=;T$4+p  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &I ~'2mpk  
4.15  生成Rugate 84 =,it`8;  
4.16  参考文献 91 r ts2Jk7f  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 }0<2n~3P  
5.1  Jobs 92 }8 ;,2E*z  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 "a;$uW@.6  
5.3  输入材料 94 XPrnQJ  
5.4  设计数据文件夹 95 0 J"g"=  
5.5  默认设计 95 U^[AW$WzU  
6  细化和合成 97 en|~`]HF  
6.1  优化介绍 97 fCu;n%   
6.2  细化 (Refinement) 98 nT:<_'!  
6.3  合成 (Synthesis) 100 9+*{3 t  
6.4  目标和评价函数 101 dCn9]cj/  
6.4.1  目标输入 102 & +`g~6U  
6.4.2  目标 103 Rm n|!C%%K  
6.4.3  特殊的评价函数 104 zytW3sTZA  
6.5  层锁定和连接 104 ]Z UE !  
6.6  细化技术 104 /Cwwz  
6.6.1  单纯形 105 7~"eT9W V  
6.6.1.1 单纯形参数 106 &to~#.qc  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 l-r$czY  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ]Rf$&7`g{  
6.6.3  模拟退火算法 109 LsGO~EiJ  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 `yl|N L  
6.6.4  共轭梯度 111 A]QGaWK  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 EpACd8Fb  
6.6.5  拟牛顿法 112 =_E$* }  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 07qjWo/t  
6.6.6  针合成 113 n=DmdQ}  
6.6.6.1 针合成参数 114 g}6M+QNj  
6.6.7 差分进化 114 OPUrz?p2C  
6.6.8非局部细化 115 6E ^m*la%  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Zd)LVc[  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 #Q_Scxf  
6.7.1  细化 116 o4a@{nt^,  
6.7.2  合成 117 V`/c#y||  
6.8  参考文献 117 sw1gpkX  
7  导纳图及其他工具 118 J7WNgl% u  
7.1  简介 118 [KGj70|~  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 , DuyPBAms  
7.2.1  四分之一波长规则 119 OP(om$xm  
7.2.2  导纳图 120 lM#/F\  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 +Y+fM  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 xzx~H>M  
7.5  斜入射导纳图 141 w=nS*Qy 2  
7.6  对称周期 141 4Af7x6a;  
7.7  参考文献 142 (:H4  
8  典型的镀膜实例 143 &`!H1E^  
8.1  单层抗反射薄膜 145 { .i^&  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 8rBa}v9  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Tsu\4 cL]  
8.4  W-膜层 148 6R3/"&P(/#  
8.5  V-膜层 149 o@$py U8  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Wl&6T1A`"  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 d@ZXCiA},  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 hE\gXb  
8.9  四层抗反射薄膜 153 ~r})&`5  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 W>CG;x{  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 A] 'XC"lS  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ?` ebi|6  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 [ p0_I7  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ?: vB_@  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [BKTZQ@G@  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Lrt~Q:z2u  
8.17  1/4波长堆栈 162 Ly`.~t(~l  
8.18  陷波滤波器 163 qpf|.m  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 N- <,wUxf  
8.20  褶皱 165 8v^AVg  
8.21  消偏振分光器1 169 Wb^g{F!W  
8.22  消偏振分光器2 171 ?ODBW/{[G  
8.23  消偏振立体分光器 172 5}9rpN{y  
8.24  消偏振截止滤光片 173 F CfU=4O  
8.25  立体偏振分束器1 174 L?(1 [jB4G  
8.26  立方偏振分束器2 177 .zW.IM}Z  
8.27  相位延迟器 178 1TN+pmc}@  
8.28  红外截止器 179 U6nC <3f F  
8.29  21层长波带通滤波器 180 iqd7  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ,0,& L  
8.31  55层短波带通滤波器 182 @-1VN;N  
8.32  47 红外截止器 183 ?|<p^:  
8.33  宽带通滤波器 184 Y$hLsM\%  
8.34  诱导透射滤波器 186 WR* <|  
8.35  诱导透射滤波器2 188 DQN"85AIZ  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ))6iVgSE$  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 2+YM .Zl  
8.35  增益平坦滤波器 193 *ES"^N/88  
8.38  啁啾反射镜 1 196 i~DLo3  
8.39  啁啾反射镜2 198 G@dw5EfF9  
8.40  啁啾反射镜3 199 m FC9\   
8.41  带保护层的铝膜层 200 b]Lp_t  
8.42  增加铝反射率膜 201 SzjylUYV  
8.43  参考文献 202 gln X C  
9  多层膜 204 / Kj;%  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 `C*psS  
9.2  内部透过率 204 nhq,Y0YH  
9.3 内部透射率数据 205 f5CnJhE|)  
9.4  实例 206 p!LaR.8]  
9.5  实例2 210 Y-"7R>^I  
9.6  圆锥和带宽计算 212 0o?2Sf`L\*  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 rY=dNK]d  
10  光学薄膜的颜色 216 c=:A/z{  
10.1  导言 216 i"M$hXO  
10.2  色彩 216 d+7Dy3i|g=  
10.3  主波长和纯度 220 (Vy`u)gG  
10.4  色相和纯度 221 7lQ:}&  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 G:PcV_ihx  
10.6 色差 226 +d8?=LX  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 K./L'Me  
10.8  颜色渲染指数 234 rEs Gf+4  
10.9  色差计算 235 .t%` "C  
10.10  参考文献 236 M|'![]-  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 vo'{phtF)M  
11.1  短脉冲 238 j2!^iGS}  
11.2  群速度 239 Z7?- c  
11.3  群速度色散 241 Dj{t[z]$k  
11.4  啁啾(chirped) 245 6:Zd,N=  
11.5  光学薄膜—相变 245 0p \,}t\E  
11.6  群延迟和延迟色散 246 F='rGQK!1  
11.7  色度色散 246 JsQmn<Yt  
11.8  色散补偿 249 |Z{ DU(?[b  
11.9  空间光线偏移 256 /{\mV(F(  
11.10  参考文献 258 vqBT^Q_q;  
12  公差与误差 260 ^Ea^t.c}_  
12.1  蒙特卡罗模型 260 k3B]u.Lo  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 qRA ,-N  
12.2.1  误差工具 267 gl"1;C  
12.2.2  灵敏度工具 271 'uV;)~  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 vEb_z[gd  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 0%hOB :  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 zF=E5TL-,4  
12.3  参考文献 276 )XL}u4X  
13  Runsheet 与Simulator 277 Z^vcODeC$  
13.1  原理介绍 277 9iQc\@eGd  
13.2  截止滤光片设计 277 wWUt44:0O  
14  光学常数提取 289 J@ pCF@'  
14.1  介绍 289 "( P-VX  
14.2  电介质薄膜 289 hj-#pL-t  
14.3  n 和k 的提取工具 295 "': u#UdS  
14.4  基底的参数提取 302 UZRCJ  
14.5  金属的参数提取 306 p7Q %)5o  
14.6  不正确的模型 306 .R>4'#8q  
14.7  参考文献 311 SAw. 6<Wy-  
15  反演工程 313 x3?:"D2  
15.1  随机性和系统性 313 Snf1vH  
15.2  常见的系统性问题 314 aY@st]p  
15.3  单层膜 314 +zLh<q0  
15.4  多层膜 314 JRl`evTS  
15.5  含义 319 3XomnL{  
15.6  反演工程实例 319 9zK5Y+!  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 )'gO?cN  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 QO%#.s  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 LZG ~1tf  
16.1  光学性质的热致偏移 329 00)=3@D  
16.2  应力工具 335 4{oS(Vl!  
16.3  均匀性误差 339 yzQ^KqLH  
16.3.1  圆锥工具 339 34\:1z+s M  
16.3.2  波前问题 341 $Sfx0?'  
16.4  参考文献 343 kdHP v=/U  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 e^ygQ<6%  
17.1  引言 345 XN1\!CM8  
17.2  操作数 345 ;\Vi~2!8  
18  如何在Function中编写脚本 351 d;10[8:5=  
18.1  简介 351 l^ aUN  
18.2  什么是脚本? 351 'v*Y7zZ#K  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 /_G^d1T1?L  
18.4  基础 352 }TS4D={1  
18.4.1  Classes(类别) 352 +W P  
18.4.2  对象 352 4-:TQp(  
18.4.3  信息(Messages) 352 4uG:*0{Yx  
18.4.4  属性 352 E1e#E3Yq}s  
18.4.5  方法 353 BejeFV3  
18.4.6  变量声明 353 h (`Erb  
18.5  创建对象 354 ,3`RM $  
18.5.1  创建对象函数 355 s!d"(K9E  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $|yO mh  
18.5.3 丢弃对象 356 s1eGItx[w  
18.5.4  总结 356 #D-L>7,jA  
18.6  脚本中的表格 357 Iv5 agh%  
18.6.1  方法1 357 elBmF#,j 7  
18.6.2  方法2 357 iX{Lc+u3  
18.7 2D Plots in Scripts 358 =fZ)2q  
18.8 3D Plots in Scripts 359 MQv2C@K9F  
18.9  注释 360 D<2|&xaR  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 StP7t  
18.11  一个更高级的脚本 362 _bO4s#yI  
18.12  <esc>键 364 aQK>q. t  
18.13 包含文件 365 .D`""up|{  
18.14  脚本被优化调用 366 .WR+)^&zz  
18.15  脚本中的对话框 368 >6(91J  
18.15.1  介绍 368 +h$) l/>:  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 IwHYuOED]  
18.15.3  输入框函数 370 3 UBg"1IC  
18.15.4  自定义对话框 371 ~fE6g3  
18.15.5  对话框编辑器 371 tC=`J%Ik  
18.15.6  控制对话框 377 9Xg+$/  
18.15.7  更高级的对话框 380 xCOC5f5*@  
18.16 Types语句 384 ?{ "_9g9  
18.17 打开文件 385 P2S$Dk_<\X  
18.18 Bags 387 JZ5N Q)sX  
18.13  进一步研究 388 dX0"h5v1  
19  vStack 389 x*A_1_A  
19.1  vStack基本原理 389 F~cvob{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 zd+_ BPT  
19.3  五棱镜 393 `&"-|  
19.4 光束距离 396 ;c'9Xyl-  
19.5 误差 399 J0e~s  
19.6  二向分色棱镜 399 eJB !|  
19.7  偏振泄漏 404 j zaC  
19.8  波前误差—相位 405 szY=N7\S*  
19.9  其它计算参数 405 (bIg6_U7\  
20  报表生成器 406 "YUyM5X  
20.1  入门 406 z@nJ-*'U8  
20.2  指令(Instructions) 406 y~JCSzpU  
20.3  页面布局指令 406 ptS1d$  
20.4  常见的参数图和三维图 407  6[<*C?  
20.5  表格中的常见参数 408 g9fS|T  
20.6  迭代指令 408 ?t&sT  
20.7  报表模版 408 (Z YGfX  
20.8  开始设计一个报表模版 409 qFo'"z`84  
21  一个新的project 413 i>n.r_!E  
21.1  创建一个新Job 414 D2`tWRm0  
21.2  默认设计 415 X`dd"8%  
21.3  薄膜设计 416 \(PC#H%  
21.4  误差的灵敏度计算 420 Xj/U~  
21.5  显色指数计算 422 %=:*yf>}  
21.6  电场分布 424 Y!VYD_'P  
后记 426 qV%t[>  
. mDh9V5  
YEZd8Y  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 "JLKO${ Y  
}*{@-v|_R  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
18|i{fE;  
"x. |'  
目  录 $'I+] ;  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 D:9/;9V  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 "#H@d+u  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 [TAW68f'  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 I*/?*p/I  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 WKf->W  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ;- D1n  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 U2*g9Es  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 uaMf3HeYV  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 WxE4r  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 VZ?"yUZ Id  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 gO*:< B g  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 r7z8ICX'q  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 &u62@ug#}  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 _~aFzM  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 8Z TN  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $2uZdl8Rvj  
}QszOi\fV1  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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