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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 }}kS~ w-#  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ;FV~q{  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 *%ed;>6:Q  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 |#DC.Ga!  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 s[0prm5.  
[attachment=120542] {B'Gm]4  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 D)H?=G  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ()+jrrK  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 O vyB<r  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 R-g>W  
1. Essential Macleod软件介绍 xHM&csL  
1.1 介绍软件 U6/m_`nc  
1.2 创建一个简单的设计 0Zc*YdH  
1.3 绘图和制表来表示性能 "Cb.cO$i;  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 a z:~{ f*-  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) cc2d/<:  
1.6 特定设计的公式技术 M^|"be~{'  
1.7 交互式绘图 +Op%,,Db  
2. 光学薄膜理论基础 NDs]}5#   
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 yS:IRI.  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 8I5VrT  
3. 材料管理 7$q2v=tH_  
3.1 材料模型 H3p4,Y}'#  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 [[*0MA2Y  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 aIzp\$NWVK  
3.4 基板光学常数的提取 =`7#^7Q9  
4. 光学薄膜设计优化方法 9sfB+]}h  
4.1 参考波长与g aIn)']  
4.2 四分之一规则 Z3X&<Y5  
4.3 导纳与导纳图 s60:0>  
4.4 斜入射光学导纳 6]@|7|N>X  
4.5 光学薄膜设计的进展 *oX  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 vUo.BA#;.b  
4.6.1 优化目标设置 )"pxry4v7J  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) ])$. "g  
4.6.3 膜层锁定和链接 `aO@N(  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 <WHs  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 SBN_>;$c5}  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Ads<-.R  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +}`O^#<qLX  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 U'h[ {ek  
5.5 如何在Function中编写脚本 JucxhjV#,  
6. 光学薄膜系统案例 ,/w852|ub  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 %_j?<h&  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Q#J>vwi=  
6.3 Stack应用范例说明 (Qh7bfd  
7. 薄膜性能分析 `%mBu`A  
7.1 电场分布 '^-4{Y^2E  
7.2 公差与灵敏度分析 -}N\REXE  
7.3 反演工程 jy__Y=1}  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Mc$v~|i6  
8. 真空技术 0oi5]f6g?8  
8.1 常用真空泵介绍 Q:fUM[  
8.2 真空密封和检漏 Y;> p)'z  
9. 薄膜制备技术 \}4#**]  
9.1 常见薄膜制备技术 0LHiOav  
10. 薄膜制备工艺 a`@<ZsR  
10.1 薄膜制备工艺因素 21/a3Mlx#  
10.2 薄膜均匀性修正技术 O275AxaN  
10.3 光学薄膜监控技术 xeP;"J}  
11. 激光薄膜 dl7p1Cr  
11.1 薄膜的损伤问题 Vm1c-,)3  
11.2 激光薄膜的制备流程 P B6/<n9#  
11.3 激光薄膜的制备技术 WJFTy+bD  
12. 光学薄膜特性测量 |E_+*1lq.  
12.1 薄膜光谱测量 1O3<%T#LOZ  
12.2 薄膜光学常数测量 p3A-WK|NX  
12.3 薄膜应力测量 YI),q.3X~  
12.4 薄膜损伤测量 XUqE5[O%  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
bU4+P A@$  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
4qSS<SqY  
内容简介 :J4C'N  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 %wjU^Urya  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .IAHy)li"  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]kplb0`  
tSXjp  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
8JFkeU%yO  
"6NNId|Y  
目录 OB  i!fLa  
Preface 1 4#7@KhK}  
内容简介 2 O"-PNF,J  
目录 i em9]WSfZ@`  
1  引言 1 QsF<=b~  
2  光学薄膜基础 2 ~z1KD)^   
2.1  一般规则 2 fi4/@tV?$L  
2.2  正交入射规则 3 owY_cDzrH  
2.3  斜入射规则 6 (PrPH/$  
2.4  精确计算 7 B?YfOSF=5  
2.5  相干性 8 6exlb:  
2.6 参考文献 10 e4W];7_K!  
3  Essential Macleod的快速预览 10 C<=p"pWw  
4  Essential Macleod的特点 32 x2&! PpM  
4.1  容量和局限性 33 leYmV FE  
4.2  程序在哪里? 33 =$zr t  
4.3  数据文件 35 BMj&*p8R  
4.4  设计规则 35 eD1MP<>h  
4.5  材料数据库和资料库 37 rMFZ#38d  
4.5.1材料损失 38 dvWlx]'  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 S"A_TH  
4.5.2 材料库 41 adE0oXQH"  
4.5.3导出材料数据 43 lR K ?%~  
4.6  常用单位 43 :3*oAh8|  
4.7  插值和外推法 46 !9cPNIi  
4.8  材料数据的平滑 50 k 5r*?Os  
4.9 更多光学常数模型 54 9/KQAc*  
4.10  文档的一般编辑规则 55 qq%_ksQ  
4.11 撤销和重做 56 ~4` ec   
4.12  设计文档 57 ;S27m]Q?  
4.10.1  公式 58 ;B7|tajd  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 &>4$ [m>n  
4.10.3  沉积密度 59 ]Oh>ECA|D  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ;RZa<2  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 F7Yuky  
4.10.4  性能 61 cW/~4.v$  
4.10.5  保存设计和性能 64 %a^!~qV  
4.10.6  默认设计 64 |-Klh  
4.11  图表 64 |Qq'_4:  
4.11.1  合并曲线图 67 FsZEB/c  
4.11.2  自适应绘制 68 u}0t`w:  
4.11.3  动态绘图 68 ,qh  
4.11.4  3D绘图 69 <sG>[\i  
4.12  导入和导出 73 ]>!_OCe&  
4.12.1  剪贴板 73 E0Xu9IW/A  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 w8Vzx8  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ?UIb!k>  
4.13  背景 77 [o6<aE-  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Y mSaIf  
4.15  生成Rugate 84 `b$I)UUm  
4.16  参考文献 91 uty]-k   
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 \05C'z3]  
5.1  Jobs 92 w8zQDPVB%  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 [qo* ,CRz  
5.3  输入材料 94 (VR nv  
5.4  设计数据文件夹 95 2)H|/  
5.5  默认设计 95 $(hZw  
6  细化和合成 97 nI` 1@ vB&  
6.1  优化介绍 97 sbb{VV`I  
6.2  细化 (Refinement) 98 ?q7Gs)B=^'  
6.3  合成 (Synthesis) 100 v2SsfhT  
6.4  目标和评价函数 101 e=C,`&s z  
6.4.1  目标输入 102 SxyFFt  
6.4.2  目标 103 4^A'A.0  
6.4.3  特殊的评价函数 104 d@~)Wlje  
6.5  层锁定和连接 104 |MGw$  
6.6  细化技术 104 wjs7K|PK  
6.6.1  单纯形 105 *9 xD]ZZF  
6.6.1.1 单纯形参数 106 H$HhB8z3  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 JD .z}2+  
6.6.2.1 Optimac参数 108 D-/A>  
6.6.3  模拟退火算法 109 3x$#L!VuU  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 L.(k8eX  
6.6.4  共轭梯度 111 @B <_h+  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 qz):YHxT]n  
6.6.5  拟牛顿法 112 \>Q,AyL  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 p^3d1H3   
6.6.6  针合成 113 bEJZh%j!  
6.6.6.1 针合成参数 114 O\z%6:'M  
6.6.7 差分进化 114 Si(?+bda0c  
6.6.8非局部细化 115 \qPrY.-  
6.6.8.1非局部细化参数 115 R8]bi|e)  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 auU{I y   
6.7.1  细化 116 G"(!5+DLy  
6.7.2  合成 117 q}lSnWY[[  
6.8  参考文献 117 bT |FJ\aC  
7  导纳图及其他工具 118 #:X :~T  
7.1  简介 118 4i\n1RW  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 -b<+Ra  
7.2.1  四分之一波长规则 119 sT ONkd  
7.2.2  导纳图 120 \hVFK6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 {$JIR}4S  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 }OZfsYPz}T  
7.5  斜入射导纳图 141 nN: i{t4f  
7.6  对称周期 141 78kk"9h'  
7.7  参考文献 142 {Ffr l(*  
8  典型的镀膜实例 143 !{+(oDN  
8.1  单层抗反射薄膜 145 rx<fjA%  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 & |r)pl0$  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 2zAS \Y  
8.4  W-膜层 148 ?:,j9:m?  
8.5  V-膜层 149 qohUxtnTK>  
8.6  V-膜层高折射基底 150 RN;Tqq):  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 V*)gJg  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 _F$?Z  
8.9  四层抗反射薄膜 153 mOBS[M5*  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 @YRBZ6FH  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 %~@}wHMB  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 gs'( px  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 +aMPwTF:3  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 )Fbkt(1  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Q[ IaA"  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Z^b1i`v  
8.17  1/4波长堆栈 162 )%0#XC^/X5  
8.18  陷波滤波器 163 VrHFM(RNe  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 8ARpjYZP  
8.20  褶皱 165 IP-mo!Y.  
8.21  消偏振分光器1 169 E/ Pa0.  
8.22  消偏振分光器2 171 o(}vR<tD\  
8.23  消偏振立体分光器 172 >zhbOkR9c  
8.24  消偏振截止滤光片 173 l+@NjZGm<  
8.25  立体偏振分束器1 174 ,>)/y  
8.26  立方偏振分束器2 177 mwBOhEefNJ  
8.27  相位延迟器 178 C{4[7  
8.28  红外截止器 179 Y.ic=<0H  
8.29  21层长波带通滤波器 180 {'JoVJKv  
8.30  49层长波带通滤波器 181 A^G%8 )\  
8.31  55层短波带通滤波器 182 dQt]r  
8.32  47 红外截止器 183 }oU0J  
8.33  宽带通滤波器 184 i0hF9M  
8.34  诱导透射滤波器 186 =MA$xz3  
8.35  诱导透射滤波器2 188 C"K(-/  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 GC.   
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Que-  
8.35  增益平坦滤波器 193 nF]lSg&]X  
8.38  啁啾反射镜 1 196 .z+ [3Oj_E  
8.39  啁啾反射镜2 198 t ?rUbN  
8.40  啁啾反射镜3 199 d=`hFwD9  
8.41  带保护层的铝膜层 200 }Til $TT%H  
8.42  增加铝反射率膜 201 id'E_]r  
8.43  参考文献 202 SRyAW\*LWU  
9  多层膜 204 =XuBan3B>  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Ny\p$v "p  
9.2  内部透过率 204 [WW3'= e^  
9.3 内部透射率数据 205 w,n&K6<  
9.4  实例 206 [jU.58*  
9.5  实例2 210 )ERmSWq/u  
9.6  圆锥和带宽计算 212 llN#4D9s  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 S}WQ~e  
10  光学薄膜的颜色 216 ,t2Mur  
10.1  导言 216 06X4mu{  
10.2  色彩 216 sF[7pE  
10.3  主波长和纯度 220 RDGefxv  
10.4  色相和纯度 221 h)7hk*I  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 |L wn<y  
10.6 色差 226 3 vr T`  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ;&=c@>!xP#  
10.8  颜色渲染指数 234 "h58I)O  
10.9  色差计算 235 X!6oviT|m  
10.10  参考文献 236 Qx<86aKkF  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 JlaT -j  
11.1  短脉冲 238 ?Pbh&!  
11.2  群速度 239 HX}9;O  
11.3  群速度色散 241 A43 mX !g\  
11.4  啁啾(chirped) 245 ol#| .a2O  
11.5  光学薄膜—相变 245 3Q;XvrGA  
11.6  群延迟和延迟色散 246 #u]'3en  
11.7  色度色散 246 u]`ur#_  
11.8  色散补偿 249 ,]FcWx \u  
11.9  空间光线偏移 256 >/J!:Htk+K  
11.10  参考文献 258 0[L)`7  
12  公差与误差 260 pA?kv]l(  
12.1  蒙特卡罗模型 260 NLnfCY-h  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 o!$O+%4  
12.2.1  误差工具 267 $*-UY  
12.2.2  灵敏度工具 271 Fm-D>PR  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 F4:giu ht  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Aq3.%,X2H  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 4s_|6{ANS  
12.3  参考文献 276 :n0czO6 E  
13  Runsheet 与Simulator 277 5yl[#>qt  
13.1  原理介绍 277 mu$0x)  
13.2  截止滤光片设计 277 ))NiX^)8^  
14  光学常数提取 289 F'Lav?^  
14.1  介绍 289 + $Yld{i  
14.2  电介质薄膜 289 09_5niaz[  
14.3  n 和k 的提取工具 295 8n2MZ9p]  
14.4  基底的参数提取 302 I%?ia5]H  
14.5  金属的参数提取 306 MGbl-,]  
14.6  不正确的模型 306 S!oG|%VuB#  
14.7  参考文献 311 IN!,|)8s  
15  反演工程 313 Y;I>rC (  
15.1  随机性和系统性 313 rf\A[)<:  
15.2  常见的系统性问题 314 vQ_D%f4;  
15.3  单层膜 314 %4#Q3YlyD  
15.4  多层膜 314 bf*VY&S- T  
15.5  含义 319 5vSJjhS  
15.6  反演工程实例 319 k. @OFkX.  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .$~zxd#zo  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 Kh' 7N!  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 V;-$k@$b.  
16.1  光学性质的热致偏移 329 OF_g0Zu  
16.2  应力工具 335 > 3SZD  
16.3  均匀性误差 339  HQ0fY  
16.3.1  圆锥工具 339 ;&$Nn'~a  
16.3.2  波前问题 341 *Y\C5L ]  
16.4  参考文献 343 N)0V6q"  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 WETnrA"N  
17.1  引言 345 VX{9g#y$j  
17.2  操作数 345 %K/zVYGm&  
18  如何在Function中编写脚本 351 r&0IhE  
18.1  简介 351 I|eYeJ3  
18.2  什么是脚本? 351 +J;T= p  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 8?z7!k]  
18.4  基础 352 8H7=vk+  
18.4.1  Classes(类别) 352 2}<_l 2  
18.4.2  对象 352 0~( f<:  
18.4.3  信息(Messages) 352 D.:6X'hp  
18.4.4  属性 352 .d?2Kc)SV\  
18.4.5  方法 353 'OjsV$_  
18.4.6  变量声明 353 %}/|/=  
18.5  创建对象 354 K Ml>~r  
18.5.1  创建对象函数 355 FzM<0FJRX  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 UVz}"TRq.  
18.5.3 丢弃对象 356 qC:QY6g$N  
18.5.4  总结 356 !L?diR  
18.6  脚本中的表格 357 *i,@d&J y]  
18.6.1  方法1 357 ;'i>^zX`  
18.6.2  方法2 357 FhJtiw@  
18.7 2D Plots in Scripts 358 .d;|iwl  
18.8 3D Plots in Scripts 359 \\iX9-aI<  
18.9  注释 360 /]>8V'e\  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 W<tw],M-#  
18.11  一个更高级的脚本 362 O;83A  
18.12  <esc>键 364 ^=@`U_(,G  
18.13 包含文件 365 3!qp+i)?  
18.14  脚本被优化调用 366 b2Oj 1dP1  
18.15  脚本中的对话框 368 /^rJ`M[;  
18.15.1  介绍 368 >j6"\1E+Dz  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 LCMZw6p  
18.15.3  输入框函数 370 /L^pU-}Z0  
18.15.4  自定义对话框 371 5=hMTztf!!  
18.15.5  对话框编辑器 371 cP2n,>:  
18.15.6  控制对话框 377 r(OH  
18.15.7  更高级的对话框 380 7w5C NV  
18.16 Types语句 384 FT[of(g^  
18.17 打开文件 385 /H~]5JZ3-E  
18.18 Bags 387 K)N'~jCG  
18.13  进一步研究 388 c@|f'V4  
19  vStack 389 AOv>O52F/Q  
19.1  vStack基本原理 389 %v)+]Ds{  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 9+"ISXS  
19.3  五棱镜 393 XE($t2x,M  
19.4 光束距离 396 7 0Wy]8<P  
19.5 误差 399 o7kQ&w   
19.6  二向分色棱镜 399 ;U[W $w[  
19.7  偏振泄漏 404 uFnq3m^u  
19.8  波前误差—相位 405 BT|n+Y[  
19.9  其它计算参数 405 4|h>.^  
20  报表生成器 406 k2:mIp\  
20.1  入门 406 "Tnmn@  
20.2  指令(Instructions) 406 Pf#DBW*  
20.3  页面布局指令 406 Rja>N)MzBf  
20.4  常见的参数图和三维图 407 icN#8\E  
20.5  表格中的常见参数 408 /E^j}H{  
20.6  迭代指令 408 51'{Jx8  
20.7  报表模版 408 A \-r%&.  
20.8  开始设计一个报表模版 409 bo[[<j!"I  
21  一个新的project 413 T854}RX[{  
21.1  创建一个新Job 414 @<z#a9  
21.2  默认设计 415 17[vq!x6  
21.3  薄膜设计 416 Y@MFH>*  
21.4  误差的灵敏度计算 420 g-<[* nF  
21.5  显色指数计算 422 #C+7~ns'  
21.6  电场分布 424 v-XB\|f  
后记 426 K}8wCS F  
q],/%W  
-~_;9[uV  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 FB n . 4  
Z4{~  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
$o^N_`l  
)w0K2&)A  
目  录 )]{&  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 PjkjUP  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 c{!XDiT]P  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 \"l/D?+Q  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 /igbn  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 J(kC  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 y])z,#%ED  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 g/OL ^A  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 kXW$[R  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Pql;5 ~/  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 9P#<T7  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 D]hwG0Chd  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 *"sDsXo- I  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 |"k+j_/+  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 FWuk@t[<O  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 (kZ2D  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 lU%L  
CYN")J8V  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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