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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 LXC9I/j/  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 "AnC?c9?-^  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 N`L0Vd  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 I+[>I=ewa  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 -xEXN[\S  
[attachment=120542] 1p/3!1  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 DVB{2~7 4  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 4{rZppm  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 KLitg6&P  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 OZ |IA:,}  
1. Essential Macleod软件介绍 *KV0%)}sbL  
1.1 介绍软件 '%dfz K*Z  
1.2 创建一个简单的设计 YkniiB[/  
1.3 绘图和制表来表示性能 DRp~jW(\y  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 h?BFvbAt  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 2(u,SQ  
1.6 特定设计的公式技术 O4cr*MCb5  
1.7 交互式绘图 Jrti cK$  
2. 光学薄膜理论基础 4W#vP  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 ER5gmmVP@p  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 CF&6J$ZBgJ  
3. 材料管理 vY${;#~|  
3.1 材料模型 OwH81#   
3.2 介质薄膜光学常数的提取 TgmnG/Z  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 jV>raCK_  
3.4 基板光学常数的提取 ]* F\"C@  
4. 光学薄膜设计优化方法 %,6#2X nX%  
4.1 参考波长与g mKL<<L [  
4.2 四分之一规则 GqaDL3Niqs  
4.3 导纳与导纳图 Jq&uF*!  
4.4 斜入射光学导纳 .TND  a&  
4.5 光学薄膜设计的进展 h_:C+)13`x  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 4'g;TI^  
4.6.1 优化目标设置 >L;eO'D  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 4'`{H@]tb  
4.6.3 膜层锁定和链接 vY  }A  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 <acUKfpY  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 \?0&0;5  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 / ';0H_  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 ypKUkH/  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 6y+Kjd/D  
5.5 如何在Function中编写脚本 544X1Ww2  
6. 光学薄膜系统案例 7\$qFF-y  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 6r"eN%m  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 #A1Z'y0  
6.3 Stack应用范例说明 R7$:@<:g  
7. 薄膜性能分析 Ljxz.2LGr  
7.1 电场分布 ,2j&ko1  
7.2 公差与灵敏度分析 CFzNwgv]z  
7.3 反演工程 Rot@x r7Hc  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 >}`:Ac  
8. 真空技术 !;i`PPRwk  
8.1 常用真空泵介绍 M dZ&A}S  
8.2 真空密封和检漏 (l-tvk4Ln  
9. 薄膜制备技术 E^ P,*s  
9.1 常见薄膜制备技术 <j*;.yyC  
10. 薄膜制备工艺 kzn5M&f>  
10.1 薄膜制备工艺因素 HJXT9;w  
10.2 薄膜均匀性修正技术 zLD0RBj7p  
10.3 光学薄膜监控技术 3 Nreqq  
11. 激光薄膜 ZHU5SXu  
11.1 薄膜的损伤问题 *c~T@m~DR  
11.2 激光薄膜的制备流程 \ e\?I9  
11.3 激光薄膜的制备技术 1crnm J!C  
12. 光学薄膜特性测量 cik!GA  
12.1 薄膜光谱测量 WHsgjvh"  
12.2 薄膜光学常数测量 i]Fp..`v~  
12.3 薄膜应力测量 z.$4!$q  
12.4 薄膜损伤测量 SB1upTn  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
BSYzC9h`  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
!V"<U2  
内容简介 )PG6gZYW  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ?u/@PR\D  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ]h>_\9qO  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]ndvt[4L  
:=/85\P0SU  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
KM}f:_J*lg  
|X0Y-  
目录 |]J>R  
Preface 1 5mJJU  
内容简介 2 ),UX4%K=  
目录 i Bg&i63XL$$  
1  引言 1 LQ(yScA@  
2  光学薄膜基础 2 WFO4gB*  
2.1  一般规则 2 Y? x,  
2.2  正交入射规则 3 oFy=-p+C  
2.3  斜入射规则 6 (g[h 8 c  
2.4  精确计算 7 -~v|Rt  
2.5  相干性 8  {Or;  
2.6 参考文献 10 w.H%R-Be  
3  Essential Macleod的快速预览 10 biSz?DJ>  
4  Essential Macleod的特点 32 W%T>SpFl  
4.1  容量和局限性 33 tSVc|j  
4.2  程序在哪里? 33 9Wnn'T@Tl  
4.3  数据文件 35 cxA^:3  
4.4  设计规则 35 V.O(S\  
4.5  材料数据库和资料库 37 .q `Hjmg<  
4.5.1材料损失 38 gCioq.  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 o*DN4oa)  
4.5.2 材料库 41 q;<h[b?  
4.5.3导出材料数据 43 POdUV  
4.6  常用单位 43 v%"|WV[N  
4.7  插值和外推法 46 \ ^ZlG.  
4.8  材料数据的平滑 50 aa>xIW,u  
4.9 更多光学常数模型 54 wF|fK4F  
4.10  文档的一般编辑规则 55 GliwY_  
4.11 撤销和重做 56 h3bff#<K  
4.12  设计文档 57 O-LO/*5MI  
4.10.1  公式 58 5]n[]FW  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ebT:/wu,2  
4.10.3  沉积密度 59 5Yl <h)1  
4.10.4 平行和楔形介质 60 k`0>36  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 }emN9Rj  
4.10.4  性能 61 ppZDGpp  
4.10.5  保存设计和性能 64 Z @^9PQG$  
4.10.6  默认设计 64 q:dHC,fO  
4.11  图表 64 Z&|Kki*  
4.11.1  合并曲线图 67 X:6c}p%,!  
4.11.2  自适应绘制 68 Q^ pmQ  
4.11.3  动态绘图 68 l-SAC3qhG  
4.11.4  3D绘图 69 kPVO?uO  
4.12  导入和导出 73 7g%E`3)"  
4.12.1  剪贴板 73 4:|S` jm  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76  .Nw=[  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 }o L'8-y  
4.13  背景 77 tS|(K=$  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 T(t+ iv  
4.15  生成Rugate 84 '7+4`E  
4.16  参考文献 91 lEhk'/~  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 _tBTE%sO  
5.1  Jobs 92 rcMwFE?|xq  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Olh<,p+x  
5.3  输入材料 94 _~piZmkG$  
5.4  设计数据文件夹 95 ~C>?W[Y  
5.5  默认设计 95 BsEF'h'Owh  
6  细化和合成 97 !Cr(P e]  
6.1  优化介绍 97 gREzZ+([  
6.2  细化 (Refinement) 98 Y8o)FVcyNy  
6.3  合成 (Synthesis) 100 .Yf:[`Q6g  
6.4  目标和评价函数 101 E=>FjCsu<-  
6.4.1  目标输入 102 <-[wd.M_  
6.4.2  目标 103 4"(<X  
6.4.3  特殊的评价函数 104 *g6n  
6.5  层锁定和连接 104 a'2$nbp}  
6.6  细化技术 104 ; mZW{j  
6.6.1  单纯形 105 cUY`97bn  
6.6.1.1 单纯形参数 106 rNB_W.  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 8P1=[i]  
6.6.2.1 Optimac参数 108 4|CtRF<L  
6.6.3  模拟退火算法 109 E;+O($bA  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 h"_MA_]~  
6.6.4  共轭梯度 111 i'#E )  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 yt.F\[1  
6.6.5  拟牛顿法 112 3?1`D/  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H[S%J3JI  
6.6.6  针合成 113 D^=J|7e  
6.6.6.1 针合成参数 114 P;Ga4Q.  
6.6.7 差分进化 114 #MRMNL@   
6.6.8非局部细化 115 ;4.!H,d  
6.6.8.1非局部细化参数 115 kzt(i Y_6  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 m+lvl  
6.7.1  细化 116 v"#mzd.tW  
6.7.2  合成 117 fSs4ZXC  
6.8  参考文献 117 S/4^ d &Gr  
7  导纳图及其他工具 118 jO!y_Y]B  
7.1  简介 118 {\c(ls{  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 aB7+Tb  
7.2.1  四分之一波长规则 119 UFp,a0|  
7.2.2  导纳图 120 [3{W^WSOz  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 @wE5S6! B\  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 "4uS3h2r  
7.5  斜入射导纳图 141 qzf!l"bT  
7.6  对称周期 141 &NH$nY.r  
7.7  参考文献 142 xwJH(_-  
8  典型的镀膜实例 143 2vAQ  
8.1  单层抗反射薄膜 145 F W/W%^  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 `C$:Yf]%nG  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 L$IQuy  
8.4  W-膜层 148 f"qga/  
8.5  V-膜层 149 aC%m-m  
8.6  V-膜层高折射基底 150 QlO0qbG[y  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 }j*KcB_  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 QA5Qwe L  
8.9  四层抗反射薄膜 153 A-T]9f9  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 rdJ d#S  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 5[* qi?w=  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Z;:u'=  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 d5D$&5Ec  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 kH]yl 2  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 E}40oID  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 .pN`;*7`  
8.17  1/4波长堆栈 162 n~A%q,DmF  
8.18  陷波滤波器 163 Axe8n1*y  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 rzh#CnL3  
8.20  褶皱 165 bpKZ3}U  
8.21  消偏振分光器1 169 |aT| l^2R@  
8.22  消偏振分光器2 171 v(EEG/~  
8.23  消偏振立体分光器 172 +(C6#R<LI  
8.24  消偏振截止滤光片 173 .)<(Oj|4  
8.25  立体偏振分束器1 174 dv.(7Y7.x  
8.26  立方偏振分束器2 177 DsT>3  
8.27  相位延迟器 178 1rkE yh??  
8.28  红外截止器 179 ZE2$I^DY-  
8.29  21层长波带通滤波器 180 U2ZD]q  
8.30  49层长波带通滤波器 181 3>R#zJf  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ~Uxsn@nLr  
8.32  47 红外截止器 183 8"fD`jtQ  
8.33  宽带通滤波器 184 5lm<%  
8.34  诱导透射滤波器 186 2UFv9  
8.35  诱导透射滤波器2 188 hA33K #bC  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 1$%V{4bJ  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 J,AR5@)1  
8.35  增益平坦滤波器 193 p TeOW9  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ,ztI,1"k  
8.39  啁啾反射镜2 198 n(L\||#+  
8.40  啁啾反射镜3 199 WV#%PJ  
8.41  带保护层的铝膜层 200 Vv8jEZ8  
8.42  增加铝反射率膜 201 ^Nmg07_R  
8.43  参考文献 202 'rr^2d]`ST  
9  多层膜 204 []A%<EI7  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 hNd}Y'%V  
9.2  内部透过率 204 #3_*]8K.R  
9.3 内部透射率数据 205 ;ByOth|9P  
9.4  实例 206 VxXzAeM  
9.5  实例2 210 ;~\MZYs3m  
9.6  圆锥和带宽计算 212 qt;y2gf=  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 tPGJ<30  
10  光学薄膜的颜色 216 ^",ACWF4Sk  
10.1  导言 216 {WPobP"  
10.2  色彩 216 T+<A`k: -  
10.3  主波长和纯度 220 x >^Si/t  
10.4  色相和纯度 221 <~n$1aA  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 H8`(O"V  
10.6 色差 226 Hv\-_>}K  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 Xa[?^P  
10.8  颜色渲染指数 234 9$|Gfyv  
10.9  色差计算 235 FDv+*sZ  
10.10  参考文献 236 \@1=stK:F  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 !}r% u."  
11.1  短脉冲 238 DNj "SF(J  
11.2  群速度 239 #*g5u{k'P  
11.3  群速度色散 241 5GPo*Qpl  
11.4  啁啾(chirped) 245 stk9Ah  
11.5  光学薄膜—相变 245 ?zsB6B?;  
11.6  群延迟和延迟色散 246 8WXJ.  
11.7  色度色散 246 %B)6$!x  
11.8  色散补偿 249 sSQs#+ &=[  
11.9  空间光线偏移 256 ea 00\  
11.10  参考文献 258 %0mMz.f  
12  公差与误差 260 3neIR@W  
12.1  蒙特卡罗模型 260 qg}O/K  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ^+m+zd_  
12.2.1  误差工具 267 `p7&> BOA  
12.2.2  灵敏度工具 271 I~9hx*!%%  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 y:v xE8$Q  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 sPb=82~z  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 <@Fy5k-%.  
12.3  参考文献 276 P7x =  
13  Runsheet 与Simulator 277 S9>0t0  
13.1  原理介绍 277 3:f[gV9K  
13.2  截止滤光片设计 277 ?&^?-S% p  
14  光学常数提取 289 ZKOXI%~Mc  
14.1  介绍 289 5n ^TRB  
14.2  电介质薄膜 289 lZrVY+ D  
14.3  n 和k 的提取工具 295 f uB)qt!E  
14.4  基底的参数提取 302 9Y<#=C  
14.5  金属的参数提取 306 ph#tgLJ  
14.6  不正确的模型 306 vUnRi=:|  
14.7  参考文献 311 WMBm6?54  
15  反演工程 313 !Y:0c#MPH  
15.1  随机性和系统性 313 hAjM1UQ,Y  
15.2  常见的系统性问题 314 AT\qiznvP  
15.3  单层膜 314 fVM`-8ZTq  
15.4  多层膜 314 ~(@ E`s&{  
15.5  含义 319 6Vbzd0dk  
15.6  反演工程实例 319 6Kj'Zy VL  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ?*oKX  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 KPpHwcYxT  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 [M%9_CfZOy  
16.1  光学性质的热致偏移 329 JMS(9>+TA  
16.2  应力工具 335 "sKa`WN}  
16.3  均匀性误差 339 W},b{NT  
16.3.1  圆锥工具 339 V`-vR2(  
16.3.2  波前问题 341 @YH+c G|  
16.4  参考文献 343 ZJjTzEV%^B  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Bs M uQ|!  
17.1  引言 345 /2m?15c+  
17.2  操作数 345 $7'g Rb4  
18  如何在Function中编写脚本 351 eJo3 MK  
18.1  简介 351 !gmH$1w  
18.2  什么是脚本? 351 ,o7hk{fR*  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 :Yj) CGl$  
18.4  基础 352 !8@*F  
18.4.1  Classes(类别) 352 er.CDKD%L  
18.4.2  对象 352 \M"UmSB o  
18.4.3  信息(Messages) 352 QQpP#F|w  
18.4.4  属性 352 t nS+5F  
18.4.5  方法 353 #DjCzz\  
18.4.6  变量声明 353 34QfgMyH  
18.5  创建对象 354 '>v^6i S  
18.5.1  创建对象函数 355 1,V`8 [  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 oQ7]= |  
18.5.3 丢弃对象 356 &|<xqt  
18.5.4  总结 356 )){xlFA}  
18.6  脚本中的表格 357 &VBd~4|p  
18.6.1  方法1 357 TFepxF  
18.6.2  方法2 357 {R^'=(YFy  
18.7 2D Plots in Scripts 358 `PL[lP-<  
18.8 3D Plots in Scripts 359 sK 2 e&  
18.9  注释 360 h)v^q: ='  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 EHlytG}@  
18.11  一个更高级的脚本 362 4{qB X?  
18.12  <esc>键 364 @wq#>bm  
18.13 包含文件 365 ?'r9"M>  
18.14  脚本被优化调用 366 {NCF6M k  
18.15  脚本中的对话框 368 w18RA#Zo/  
18.15.1  介绍 368 w^1Fi8+  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 3g~^LZ66  
18.15.3  输入框函数 370 &l}?v@@+_  
18.15.4  自定义对话框 371 -K[782Q  
18.15.5  对话框编辑器 371 x>~p;z#VX  
18.15.6  控制对话框 377 @:x"]!1  
18.15.7  更高级的对话框 380 htPqT,L  
18.16 Types语句 384 1>r ,vD&  
18.17 打开文件 385 `Vq`z]}  
18.18 Bags 387 5v^L9!`@%v  
18.13  进一步研究 388 > 4oY3wk8  
19  vStack 389 o;[bJ Z\^x  
19.1  vStack基本原理 389 4 UAvw  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 c0 WFlj9b  
19.3  五棱镜 393 A.Bk/N1G  
19.4 光束距离 396 &gc `<kLu  
19.5 误差 399 !CjqL~  
19.6  二向分色棱镜 399 ,kgF2K!  
19.7  偏振泄漏 404 o7+>G~i  
19.8  波前误差—相位 405 ^t[HoFRa  
19.9  其它计算参数 405 *wi}>_\  
20  报表生成器 406 4B?!THjk  
20.1  入门 406 0W>9'Rw  
20.2  指令(Instructions) 406 +ySY>`1k~  
20.3  页面布局指令 406 Napf"Av  
20.4  常见的参数图和三维图 407 CQODXB^  
20.5  表格中的常见参数 408 YYRT.U'  
20.6  迭代指令 408 6(sIYZ2yq  
20.7  报表模版 408 A6ewdT?>,  
20.8  开始设计一个报表模版 409 F3ZxhkF  
21  一个新的project 413 NE"jh_m-  
21.1  创建一个新Job 414 'Zk<l#"}  
21.2  默认设计 415 CsSp=(  
21.3  薄膜设计 416 i=v]:TOu  
21.4  误差的灵敏度计算 420 (OQ?<'Qa  
21.5  显色指数计算 422 1h"_[`L'  
21.6  电场分布 424 uC~g#[I QM  
后记 426 ^ua12f  
"uu)2Xe  
GoE#Mxhxo  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 YDiN^q7  
\Kd7dK9&]  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
${U6=  
[V@yRWI  
目  录 OoP@-D"e  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 Kla:e[{  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 pH9HK  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ~,}s(`~   
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 jeDlH6X'  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 F>:%Cyo0!  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ~Sy-ga J  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 qmmv7==  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 |*Ot/TvG  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 q|q:: q*  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 da*9(!OV  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 PW_`qP:  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 _1JmjIH)M  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 =aow d4 t  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 TC-f%1(  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 k)E;(  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 r#xk`a  
xQz#i-v  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
课程最后报名中,有兴趣的小伙伴别错过
查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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