上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 '{B!6|"X 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 M4W5f#C5Ee 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 :Q@&5!]>d 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ZGd!IghL 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 k%G1i-]4 [attachment=120542] mbueP.q[? 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 k|!EDze43? 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 B9J&=6`) 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 to$h2#i_ 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 P$-X)c$& 1. Essential Macleod软件介绍 tmtT( 1.1 介绍软件 }3L@J8:D" 1.2 创建一个简单的设计 ;I!MLI 1.3 绘图和制表来表示性能 BGu?<bET 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 FJ6u.u 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ,11H.E
Z 1.6 特定设计的公式技术 2Roc|)-47 1.7 交互式绘图 q')R4=0
K 2. 光学薄膜理论基础 o+$7'+y1n- 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 J>bJ
449B 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 e[#j.|m 3. 材料管理 [bk?!0]aV 3.1 材料模型 qm8&*UuKJ 3.2 介质薄膜光学常数的提取 1OF&
* 3.3 金属薄膜光学常数的提取 L~NbdaO 3.4 基板光学常数的提取 bG(3^"dS 4. 光学薄膜设计优化方法 E!P yL>){ 4.1 参考波长与g [Yc G(^^ 4.2 四分之一规则 ]h5Yg/sms 4.3 导纳与导纳图 +qwjbA+ 4.4 斜入射光学导纳 >M/V oV 4.5 光学薄膜设计的进展 9BuSN*4 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 <h'5cO 4.6.1 优化目标设置 L');!/: 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) la+[bm<v 4.6.3 膜层锁定和链接 M!XsJ<jN/ 5. Essential Macleod中各个模块的应用 t8+X%-r 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 D
'Zt 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ssN6M./6 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 lH6OcD:kj 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 `.Qi?* ^ 5.5 如何在Function中编写脚本 ~15N7=wCM 6. 光学薄膜系统案例 20nP/e 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 De(Hw&
IV 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 LB a[:j2 6.3 Stack应用范例说明 W|g4z7Pb 7. 薄膜性能分析 ZU%[guf 7.1 电场分布 |* ;B 7.2 公差与灵敏度分析 c5D) 7.3 反演工程 n+A?"`6*# 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 vbC\?\_ 8. 真空技术 Bx4w)9+3 8.1 常用真空泵介绍 ~2QR{; XQ 8.2 真空密封和检漏 L'0B$6 9. 薄膜制备技术 9E"vN 9.1 常见薄膜制备技术 ^Uf]Q$uCjE 10. 薄膜制备工艺 G#u6Am)T 10.1 薄膜制备工艺因素 P;ci9vk 10.2 薄膜均匀性修正技术 ='s(| 10.3 光学薄膜监控技术 zU
gE~ 11. 激光薄膜 iA' lon 11.1 薄膜的损伤问题 fj;y}t1E] 11.2 激光薄膜的制备流程 JSCZ{vJ$ 11.3 激光薄膜的制备技术 Vt".%d/`7 12. 光学薄膜特性测量 /2=#t-p+ 12.1 薄膜光谱测量 ~nh:s|l6%M 12.2 薄膜光学常数测量 Wp!%-vzy& 12.3 薄膜应力测量 a!"$~y$* 12.4 薄膜损伤测量 &h^9}>rVjV 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] y}My.c
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] 5ft`zf
内容简介 4,CXJ2 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 T>2[=J8U 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 UQC=g 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $m].8? MHX?@.
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 P3)Nl^/ 5qZ1FE 目录 1DE<rKI Preface 1 g!?:Ye`5 内容简介 2 'rO!AcdLU 目录 i $RIecv<e_ 1 引言 1 t>urc 2 光学薄膜基础 2 OwH81# 2.1 一般规则 2 :D%"EJ 2.2 正交入射规则 3 Y2ZT.l 2.3 斜入射规则 6 1 u| wMO 2.4 精确计算 7 aI6$? wus 2.5 相干性 8 #LL?IRH9^ 2.6 参考文献 10 AX;8^6.F3 3 Essential Macleod的快速预览 10 mpI5J'>] 4 Essential Macleod的特点 32 b&~4t/Vq 4.1 容量和局限性 33 Ma.`A 4.2 程序在哪里? 33 K1r#8Q!t 4.3 数据文件 35 C&*oI =6 4.4 设计规则 35 RrX[|GLSJ 4.5 材料数据库和资料库 37 F)&@P-9+ 4.5.1材料损失 38 :PIF07$xl 4.5.1材料数据库和导入材料 39 V5sg#|& 4.5.2 材料库 41 ~]pE'\D7Ad 4.5.3导出材料数据 43 \Xm,OE_v" 4.6 常用单位 43 ~P8tUhffK 4.7 插值和外推法 46 h{HF8>u[ 4.8 材料数据的平滑 50 Bg5Wba%NK 4.9 更多光学常数模型 54 %{AO+u2i 4.10 文档的一般编辑规则 55 hAYTj0GZ 4.11 撤销和重做 56 b$ve sJ 4.12 设计文档 57 -fwoTGlX 4.10.1 公式 58 WN{ 9 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :3XA!o&.T3 4.10.3 沉积密度 59 pm*xb]8y 4.10.4 平行和楔形介质 60 MBt9SXM 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 P3cR l'] 4.10.4 性能 61 M9V
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-U18 4.10.5 保存设计和性能 64 A<5ZF27 4.10.6 默认设计 64 co~Pyj 4.11 图表 64 !/}O>v~o 4.11.1 合并曲线图 67 Y
;u<GOe 4.11.2 自适应绘制 68 8P^ITL z% 4.11.3 动态绘图 68 Gb8D[1=u= 4.11.4 3D绘图 69 1<BX]-/tP 4.12 导入和导出 73 )~+E[| 4.12.1 剪贴板 73 /tP|b_7O 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 !lf|7 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 m@"QDMHk. 4.13 背景 77 eoai(&o0$ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /4a._@1h[y 4.15 生成Rugate 84 cxA ^:3 4.16 参考文献 91 G B>QK 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]$Yvj!K*Q 5.1 Jobs 92 ,_Z5m; 5.2 创建一个新Job(工作) 93 v%"|WV[N 5.3 输入材料 94 5jd,{< 5.4 设计数据文件夹 95 6^]!gR#B 5.5 默认设计 95 i\KQ!f>A 6 细化和合成 97 pQshUm"_ 6.1 优化介绍 97 FrTi+& < 6.2 细化 (Refinement) 98 .Xce9C0SW 6.3 合成 (Synthesis) 100 -i)ZQCE 6.4 目标和评价函数 101 fb{``,nO 6.4.1 目标输入 102 n^z]q;IN2. 6.4.2 目标 103 JBJhG<J 6.4.3 特殊的评价函数 104 { jhr< 6.5 层锁定和连接 104 vH#huZA?7 6.6 细化技术 104 P8>~c9$I 6.6.1 单纯形 105 $lLz3YS 6.6.1.1 单纯形参数 106 <)u`~$n2 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 %]>KvoA 6.6.2.1 Optimac参数 108 $e*ce94 6.6.3 模拟退火算法 109 AS\F{ !O 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Vm3v-=6 6.6.4 共轭梯度 111 gREzZ+([ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {vuZ{IJa 6.6.5 拟牛顿法 112 w)Q0_2p. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 pov)Z):}G< 6.6.6 针合成 113 BZR:OtR^ 6.6.6.1 针合成参数 114 ;
mZW{j 6.6.7 差分进化 114 <Dwar>} 6.6.8非局部细化 115 K2J\awX 6.6.8.1非局部细化参数 115 K#pNec 6.7 我应该使用哪种技术? 116 DP3PYJ%+B 6.7.1 细化 116 JwAYG5W 6.7.2 合成 117 /7}It$|nhy 6.8 参考文献 117 &o,<ijJ:^m 7 导纳图及其他工具 118 e A#;AQm 7.1 简介 118 kzt(i Y_6 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 vSi.txV2 7.2.1 四分之一波长规则 119 cVv;Jn 7.2.2 导纳图 120 %?p1d! 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 R}q>O5O 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 >D(R YI 7.5 斜入射导纳图 141 \lZf< |