上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 D!P?sq _5r 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 R#`itIYh 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 IN"vi|1 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 \1Bgs^ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 "4`%NA [attachment=120542] O7\s1
V; 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 toWmm(7v 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;FmSL#]I 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Cb6MD 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 kmoJ`W} N 1. Essential Macleod软件介绍 q>[% C5 1.1 介绍软件 \PFx#
:-c 1.2 创建一个简单的设计 O)Qz$ 1.3 绘图和制表来表示性能 Lm?*p>\Q 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 gctaarB& 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) y#0w\/< 1.6 特定设计的公式技术 g@2.A;N0 1.7 交互式绘图 #SYWAcTkO} 2. 光学薄膜理论基础 Q#N+5<]J)# 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 6:,^CI|@t 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 9X%Klm 5w 3. 材料管理 _E;Y
~I,i 3.1 材料模型 v2{O67j}
o 3.2 介质薄膜光学常数的提取 p[)<d_ 3.3 金属薄膜光学常数的提取
SoX V 3.4 基板光学常数的提取 2UF94 4. 光学薄膜设计优化方法 (HI%C@e9 4.1 参考波长与g ~Hs{(7 4.2 四分之一规则 5avO48;Vc 4.3 导纳与导纳图 bw\=F_>L 4.4 斜入射光学导纳 Lm|X5RVq 4.5 光学薄膜设计的进展 =dBrmMh 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 q?L(V+X 4.6.1 优化目标设置 G!8pF 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) b..$5 4.6.3 膜层锁定和链接 .LhmYbQ2WE 5. Essential Macleod中各个模块的应用 p]&Q`oh 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ]e.+u 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 [MS.5+1Y 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 8~E)gV+v 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 c0&'rxi(B 5.5 如何在Function中编写脚本 7Ca\ (82 6. 光学薄膜系统案例 r6JkoPMh 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ts<dUO
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 9/Dt:R3QU 6.3 Stack应用范例说明 v{ n}%akc 7. 薄膜性能分析 4P!DrOB 7.1 电场分布 UwkX[u 7.2 公差与灵敏度分析 <UJJ],)^1A 7.3 反演工程 v4_OUA>z, 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 T''+zk 8. 真空技术 wG5RN;`V 8.1 常用真空泵介绍 k{jw%a<Sc 8.2 真空密封和检漏 c)MR+'d\WO 9. 薄膜制备技术 2nkj;x{H$ 9.1 常见薄膜制备技术 ~[TKVjyO 10. 薄膜制备工艺 jHH 10.1 薄膜制备工艺因素 ;J-Ogt @d7 10.2 薄膜均匀性修正技术 zL'IN)7MU 10.3 光学薄膜监控技术 Us,[x Q 11. 激光薄膜 (V.,~t@ 11.1 薄膜的损伤问题 7/_ VE 11.2 激光薄膜的制备流程 @O}j:b 11.3 激光薄膜的制备技术 4V|z)=)A 12. 光学薄膜特性测量 4>VZk^%b# 12.1 薄膜光谱测量 `l2< 12.2 薄膜光学常数测量 F.pHL)37 12.3 薄膜应力测量 |$w={N^4 12.4 薄膜损伤测量 /Jf`x>eiH 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] ^>8]3@ Nh
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] Q\#{2!I
内容简介 ef}E.Bl Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5A$az03y$\ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ?lDcaI>+n 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 c48J!,jCd' Pgw%SMEp
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 8V|jL?a~ _SIs19"lR 目录 (Ef2
w[' Preface 1 R g0
XW6 内容简介 2 Uk*;C 目录 i m/hi~.D9 1 引言 1 I0w@S7 2 光学薄膜基础 2 rw8J:?0x 2.1 一般规则 2 R_>TEYZ 2.2 正交入射规则 3 Q;XHHk 2.3 斜入射规则 6 A2|o=mOH 2.4 精确计算 7 u@bOEcxK 2.5 相干性 8 ()C^ta_] 2.6 参考文献 10 $]%<r?MUb- 3 Essential Macleod的快速预览 10 L_U3*#Zdz7 4 Essential Macleod的特点 32 E]H 4.1 容量和局限性 33 sh
!~T<yy 4.2 程序在哪里? 33 !
[|vx!p 4.3 数据文件 35 -?aw^du 4.4 设计规则 35 fsrg2:kQ 4.5 材料数据库和资料库 37 loeLj4"" 4.5.1材料损失 38 t ?9;cS4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 )7I.N]= 4.5.2 材料库 41 DO1 JPeIi 4.5.3导出材料数据 43 HTDyuqs 4.6 常用单位 43 y'_V/w s 4.7 插值和外推法 46 ?Rt1CDu 4.8 材料数据的平滑 50 68p\WheCal 4.9 更多光学常数模型 54 ?)?IZ Qj 4.10 文档的一般编辑规则 55 m0I # 4.11 撤销和重做 56
1o|0x\ q 4.12 设计文档 57 JA?,0S 4.10.1 公式 58 iM?I
/\ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eg$5z
Z 4.10.3 沉积密度 59 "rjv5*z^& 4.10.4 平行和楔形介质 60 'YZI>V* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ~'^!udF- 4.10.4 性能 61 h;EwkbDQg> 4.10.5 保存设计和性能 64 Q{qj 4.10.6 默认设计 64 V@#*``M,3 4.11 图表 64 X(r)Z\ 4.11.1 合并曲线图 67 $Yx6#m}[M 4.11.2 自适应绘制 68 (#j2P0B 4.11.3 动态绘图 68 bmj8WZ 4.11.4 3D绘图 69 Yg=E@F
4.12 导入和导出 73 -5V)q.Og 4.12.1 剪贴板 73 ?418*tXd 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 GOYn\N;V2 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (
}]37 4.13 背景 77 |D;_:x9 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ).0V%}> 4.15 生成Rugate 84 tC2 )j7@ 4.16 参考文献 91 !j!Z%]7 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 %_B:EMPd 5.1 Jobs 92 '2|1%NSW9 5.2 创建一个新Job(工作) 93 {B FT 5.3 输入材料 94 JqI6k6~Q^ 5.4 设计数据文件夹 95 IF&g.R 5.5 默认设计 95 -yX.Jv 6 细化和合成 97 \6`v.B&v 6.1 优化介绍 97 xa87xX=a 6.2 细化 (Refinement) 98 Tjnt(5 g 6.3 合成 (Synthesis) 100 8- dRdQu] 6.4 目标和评价函数 101 P]pmt1a 6.4.1 目标输入 102 ,U6*kvHS6 6.4.2 目标 103 N<KKY"?I' 6.4.3 特殊的评价函数 104 eaV3)uP 6.5 层锁定和连接 104 u^`eKak"l 6.6 细化技术 104 6#E]zmXO2 6.6.1 单纯形 105 {E!$ xY8 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]s*5[=uc2 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Bz~ -2#l 6.6.2.1 Optimac参数 108 !"g=&Uy& 6.6.3 模拟退火算法 109 M*d-z 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #V<`U:. 6.6.4 共轭梯度 111 -L@]I$Yo 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >$2E1HW. 6.6.5 拟牛顿法 112 s{yJ:WncI 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 IYuyj(/! 6.6.6 针合成 113 $Llta,ULE 6.6.6.1 针合成参数 114 OI~}e,[2z 6.6.7 差分进化 114 V3##
B}2[Y 6.6.8非局部细化 115 .|T2\M 6.6.8.1非局部细化参数 115 &(gm4bTg 6.7 我应该使用哪种技术? 116 riID,aut 6.7.1 细化 116 YV*b~6{d 6.7.2 合成 117 pPoH5CzcK 6.8 参考文献 117 m])Lw@#9W 7 导纳图及其他工具 118 Xa4GqV9M/- 7.1 简介 118 <\h*Zy 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 $np=eT) 7.2.1 四分之一波长规则 119 7nm}fT
z7 7.2.2 导纳图 120 doLkrEm& 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >Cvjs 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 O'fk&&l 7.5 斜入射导纳图 141 ;U
|NmC + 7.6 对称周期 141 =KV@&Y^x4 7.7 参考文献 142 <lFdexH"T 8 典型的镀膜实例 143 zEy&4Kl{+ 8.1 单层抗反射薄膜 145 ]22C)< 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 EY]a6@; 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 USprsaj 8.4 W-膜层 148 $)Wb#B 8.5 V-膜层 149 5Yl6? 8.6 V-膜层高折射基底 150 Gi*<~`Gr 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Y =9j2 ]t 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 "r@G@pe 8.9 四层抗反射薄膜 153 rw&y,%2 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 =qw&dwIQ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 T:U4:"
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 (]OFS;% 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Rxx>{+f4M 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 )Lb72;!? 8.15十五层宽带抗反射膜 159 .?f:Nb.O 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 d]MGN^%o 8.17 1/4波长堆栈 162 aRX 8.18 陷波滤波器 163 c -w0 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 prUHjS 8.20 褶皱 165 i-,'.w 8.21 消偏振分光器1 169 C,.-Q"juH 8.22 消偏振分光器2 171 ms7SoYbSu 8.23 消偏振立体分光器 172
qtzFg# 8.24 消偏振截止滤光片 173 [.a;L"> 8.25 立体偏振分束器1 174 C%]."R cMC 8.26 立方偏振分束器2 177 uWTN2jr 8.27 相位延迟器 178 QNb>rLj52 8.28 红外截止器 179 AVv#\JrRW 8.29 21层长波带通滤波器 180 "c,!vc4 8.30 49层长波带通滤波器 181 OTE<x"=h 8.31 55层短波带通滤波器 182 ?ql2wWsQO 8.32 47 红外截止器 183 QF.3c6O@ 8.33 宽带通滤波器 184 HVGr-/ 8.34 诱导透射滤波器 186 PPj[;(A 8.35 诱导透射滤波器2 188 UW/N MjK 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 7b46t2W< 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 /VO^5Dnb 8.35 增益平坦滤波器 193 ]H+{eJB7O 8.38 啁啾反射镜 1 196 5z~\5x 8.39 啁啾反射镜2 198 "J!}3)n 8.40 啁啾反射镜3 199 +2Ql~w@$^l 8.41 带保护层的铝膜层 200 ]^ #`j 8.42 增加铝反射率膜 201 J\{$ot 8.43 参考文献 202 ;E#\ 9 多层膜 204 {i>Jfl]G} 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 87<9V.s2 9.2 内部透过率 204 Gqt-_gga 9.3 内部透射率数据 205 !}5*?k
g 9.4 实例 206 4uUs7T 9.5 实例2 210 f05=Mc&) 9.6 圆锥和带宽计算 212 Y208b?=9w 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 o%`npi1y 10 光学薄膜的颜色 216 {zP#woz2Q 10.1 导言 216 %2D17*eK 10.2 色彩 216 x@m<Ym- 10.3 主波长和纯度 220 wbi3lH:; 10.4 色相和纯度 221 g~!$i`_b 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ue6d~8& 10.6 色差 226 \QT9HAdd@ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ;'HF'Z 10.8 颜色渲染指数 234 ru{f]| 10.9 色差计算 235 P'tMu6+) 10.10 参考文献 236 G52Z)^ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 HabzCH 11.1 短脉冲 238 .oR3Q/|k] 11.2 群速度 239 etyCrQ
?U 11.3 群速度色散 241 NR4Jn?l{ 11.4 啁啾(chirped) 245 #*2Rp8n 11.5 光学薄膜—相变 245 $"8d:N?I[ 11.6 群延迟和延迟色散 246 5+K;_) 11.7 色度色散 246 8Z# 21X> 11.8 色散补偿 249 P+Z\3re 11.9 空间光线偏移 256 /\J|Uj 11.10 参考文献 258 =j~Q/-`EC0 12 公差与误差 260 `*yAiv> 12.1 蒙特卡罗模型 260 XlkGjjW#/J 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Au5rR>W 12.2.1 误差工具 267 U=cWmH 12.2.2 灵敏度工具 271 R#qI(V 12.2.2.1 独立灵敏度 271 r5 yO5W 12.2.2.2 灵敏度分布 275 c!Dc8=nE0m 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 8Kk\*8 < 12.3 参考文献 276 hCC}d0gf`n 13 Runsheet 与Simulator 277 XoItV 13.1 原理介绍 277 aFY u}kl 13.2 截止滤光片设计 277 _]|Qec) 14 光学常数提取 289 =_PvrB 2' 14.1 介绍 289 PAZ$_eSK6 14.2 电介质薄膜 289 S&?7K-F>_o 14.3 n 和k 的提取工具 295 |0
!I5|<k 14.4 基底的参数提取 302 v <Hb-~ 14.5 金属的参数提取 306 KDey(DN: 14.6 不正确的模型 306 f=`33m5 14.7 参考文献 311 #$'FSy# 15 反演工程 313 4:1)~z 15.1 随机性和系统性 313 _k2w(ew? 15.2 常见的系统性问题 314 =;{^"#r\ 15.3 单层膜 314 ^%#grX# 15.4 多层膜 314 r]LCvsVa 15.5 含义 319 nl
n OwyMJ 15.6 反演工程实例 319 EJm4xkYLj1 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 FifbxL 15.6.2 反演工程提取折射率 327 o\6iq 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 p=gX!4,9< 16.1 光学性质的热致偏移 329 - k`.j 16.2 应力工具 335 B8V,)rn 16.3 均匀性误差 339 w%xCTeK[ 16.3.1 圆锥工具 339 &ao(!/im 16.3.2 波前问题 341 *YvRNHP 16.4 参考文献 343 K)[8 H~Lm 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 1 Z[f
{T) 17.1 引言 345 CMl~=[foW 17.2 操作数 345 -MfQ&U 18 如何在Function中编写脚本 351 FtIa*j^G 18.1 简介 351 fKkjn4&W 18.2 什么是脚本? 351 8;n_TMb 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 Tbf:eVIG 18.4 基础 352 KQmZ#W%2m 18.4.1 Classes(类别) 352
%}b8aG+ 18.4.2 对象 352 (E!!pz 18.4.3 信息(Messages) 352 {exrwnIZj 18.4.4 属性 352 O4Dr ]Xc] 18.4.5 方法 353 C2/}d? bki 18.4.6 变量声明 353 A3+6#?:; 18.5 创建对象 354 x-_vl
9P) 18.5.1 创建对象函数 355 &s
VadOBQ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 K
,isjh2 18.5.3 丢弃对象 356 bQQVj?8jp 18.5.4 总结 356 A6p`ma $L 18.6 脚本中的表格 357 kGHC]Fb) 18.6.1 方法1 357 BHr|.9g]%% 18.6.2 方法2 357 edpW8eND 18.7 2D Plots in Scripts 358 ~UPZ< 18.8 3D Plots in Scripts 359 u$\a3yi 18.9 注释 360 MCYl{uH! 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 3-x%wD. 18.11 一个更高级的脚本 362 pFO^/P' 18.12 <esc>键 364 1"]P`SY$r 18.13 包含文件 365 3,6Ox45 18.14 脚本被优化调用 366 fN[8N$1- 18.15 脚本中的对话框 368 Yc#IFmC} 18.15.1 介绍 368 #n7Yr,|Z 18.15.2 消息框-MsgBox 368 FvXqggfGv 18.15.3 输入框函数 370 2`Gv5}LfyR 18.15.4 自定义对话框 371 NFyMY#\] 18.15.5 对话框编辑器 371 qrBZvJU 18.15.6 控制对话框 377 fx?$9(r, 18.15.7 更高级的对话框 380 = `t^~.5 18.16 Types语句 384 LmLGki$w 18.17 打开文件 385 {o|k.zy 18.18 Bags 387 %ROwr[Dj= 18.13 进一步研究 388 srmKaa| 19 vStack 389 {fz$Z!8- 19.1 vStack基本原理 389 dM]#WBOPy 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 YfDWM7x7, 19.3 五棱镜 393 jw>hk 19.4 光束距离 396 Iti0qnBN5 19.5 误差 399 qd6fU^)i 19.6 二向分色棱镜 399 TFH&(_b 19.7 偏振泄漏 404 ,8VU&?`<} 19.8 波前误差—相位 405 Oh; Jw 19.9 其它计算参数 405 yyP-=Lhmo= 20 报表生成器 406 R7_VXvm>z 20.1 入门 406 j43$]'- 20.2 指令(Instructions) 406 qqOFr!)g 20.3 页面布局指令 406 9- )qZ 20.4 常见的参数图和三维图 407 {IM! Wb 20.5 表格中的常见参数 408 ..qd,9H 20.6 迭代指令 408 $8=@R' 20.7 报表模版 408 !Q%P%P<$ 20.8 开始设计一个报表模版 409 +%#8k9Y 21 一个新的project 413 ]<trA$ 0 21.1 创建一个新Job 414 6X_\Ve 21.2 默认设计 415 bB6[Xj{ 21.3 薄膜设计 416 SbT5u3,' 21.4 误差的灵敏度计算 420 i[nF.I5*f 21.5 显色指数计算 422 WES#ZYtT 21.6 电场分布 424 IVjU`ij 后记 426 b"CAKl r`M6!}oa ?M}S|dsmE 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 |g&ymFc w *!wQ,o 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] $g\&5sstE \8v91g91f 目 录 W!la -n ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 <+U|dX 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 !a-b6Aa 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 /@Y CA}|/ 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 )&W**!(C 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 bbN%$/d 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ?J!3j{4e 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 nzsl@1s 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 8OFj0S1r` 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 iEHh{H( 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 SoQR#(73HK 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 z@U}~TvP 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 D$r
Uid 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ]k%PG-9 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 4<S' 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 9;=dxWf 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 `!4,jd +RDJY(Y$ 价 格:400元
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