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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 8@rddk  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 e)BU6m%  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室  :d) y  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 xky +"  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 N1!O8"Q|*3  
[attachment=120542] Gv\39+9 =  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ka=EOiX.  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;]vJ[mi~  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 oU`{6 ~;  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 b%wm-p  
1. Essential Macleod软件介绍 @h=r;N#/`P  
1.1 介绍软件 2r^G;,{  
1.2 创建一个简单的设计 AJYZ`  
1.3 绘图和制表来表示性能 >}H3V]  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 8.WZC1N  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) _<^mi!Y  
1.6 特定设计的公式技术 r}nz )=\Cj  
1.7 交互式绘图 Ci9]#)"c  
2. 光学薄膜理论基础 8{4SaT.-Rm  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 }kZ)|/]kn  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 GtLn h~)  
3. 材料管理 ihp>cl?  
3.1 材料模型 EBMZ7b-7  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 qbx}9pp}g  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 D;! aix3  
3.4 基板光学常数的提取 qxbGUyH==  
4. 光学薄膜设计优化方法 CbW>yr  
4.1 参考波长与g L)"E_  
4.2 四分之一规则 '5etZ!:  
4.3 导纳与导纳图 b=PB"-  
4.4 斜入射光学导纳 S; Fj9\2)I  
4.5 光学薄膜设计的进展 9f #6Q*/  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 H: rrY  
4.6.1 优化目标设置 i87+9X  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 0zc~!r~  
4.6.3 膜层锁定和链接 $N/"c$50,  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 sjj,q?  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 L %20tm  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 W[B;;"ro  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Z/oP?2/Afh  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 VMl)_M:'  
5.5 如何在Function中编写脚本 AQgagE^  
6. 光学薄膜系统案例  WfH4*e  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 !n3J6%b9y/  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 1X-fiQJe  
6.3 Stack应用范例说明 yL #2|t(  
7. 薄膜性能分析 Jty/gjK+  
7.1 电场分布  % Z-B{I(  
7.2 公差与灵敏度分析 M/evZ?uis  
7.3 反演工程 3?r?)$Jk  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 oi\e[qE  
8. 真空技术 q[ 5&  
8.1 常用真空泵介绍 - p*j9 z  
8.2 真空密封和检漏 3-4CGSX;X  
9. 薄膜制备技术 I?X!v6  
9.1 常见薄膜制备技术 QLDld[  
10. 薄膜制备工艺 G F17oMi  
10.1 薄膜制备工艺因素 <2ymfL-q  
10.2 薄膜均匀性修正技术 z;1qYW[-A  
10.3 光学薄膜监控技术 vv^(c w>A  
11. 激光薄膜 [DSD[[ z[  
11.1 薄膜的损伤问题 &XZS}n  
11.2 激光薄膜的制备流程 j-(k`w\  
11.3 激光薄膜的制备技术 ZnZ`/zNO  
12. 光学薄膜特性测量 " "{#~X}  
12.1 薄膜光谱测量 xC YL3hl  
12.2 薄膜光学常数测量 zrE Dld9  
12.3 薄膜应力测量 "PfNC<MQo  
12.4 薄膜损伤测量 rssn'h  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
7thB1cOJ  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
IgNL1KRD  
内容简介 hx:"'m5  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 p -wEPC0  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Q|Go7MQZ@k  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 eG08Xt |lc  
+ieRpVg  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
pa2cM%48  
p^X \~Yibs  
目录 P<MNwdf(+  
Preface 1 B`/p[U5  
内容简介 2 bFwc>  
目录 i woyeKOr  
1  引言 1 ZuVes?&j  
2  光学薄膜基础 2 Xw]L'+V=  
2.1  一般规则 2 H-'~c \)  
2.2  正交入射规则 3 .!yw@kg  
2.3  斜入射规则 6 yGX"1Fb?;x  
2.4  精确计算 7 FWl'='5L  
2.5  相干性 8 KpSho<  
2.6 参考文献 10 kdp- |9  
3  Essential Macleod的快速预览 10 xy Pz_9  
4  Essential Macleod的特点 32  HV\l86}  
4.1  容量和局限性 33 65AG# O5R  
4.2  程序在哪里? 33 &'A8R;b}-?  
4.3  数据文件 35 N3?@CM^hHw  
4.4  设计规则 35 +5oK91o[y  
4.5  材料数据库和资料库 37 oa:30@HSb  
4.5.1材料损失 38 WN9K*Tt~o&  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 {n-6e[  
4.5.2 材料库 41 x$;kA}gy  
4.5.3导出材料数据 43 rBrJTF:.  
4.6  常用单位 43 3%DDN\q\u  
4.7  插值和外推法 46 /qObXI  
4.8  材料数据的平滑 50 > ?<C+ZHh  
4.9 更多光学常数模型 54 n Wb0S  
4.10  文档的一般编辑规则 55 5$Da\?Fpn  
4.11 撤销和重做 56 0zrZrl  
4.12  设计文档 57 .wJv_  
4.10.1  公式 58 6ujePi <U  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~CQTPR  
4.10.3  沉积密度 59 <imIgt|`2  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ar[*!:!  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 (|_N2R!  
4.10.4  性能 61 mQ qv{1  
4.10.5  保存设计和性能 64 1k?k{Ri  
4.10.6  默认设计 64 -$+`v<[r  
4.11  图表 64 3PgiV%]  
4.11.1  合并曲线图 67 0 V3`rK  
4.11.2  自适应绘制 68 iR6w)  
4.11.3  动态绘图 68 $pGdGV\H  
4.11.4  3D绘图 69 (OT&:WwW  
4.12  导入和导出 73 -3T~+  
4.12.1  剪贴板 73 7qT>wCVT  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 e9@7GaL`"S  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 9>1Gj-S2:  
4.13  背景 77 4Y:[YlfD.  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ,+hH|$  
4.15  生成Rugate 84 ^*A8 NdaB  
4.16  参考文献 91 M73d^z  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 9e>Dqlv  
5.1  Jobs 92 UqEpeLK  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 W*/0[|n*  
5.3  输入材料 94 ^;gwD4(hs  
5.4  设计数据文件夹 95 1Kc[ ).O1  
5.5  默认设计 95 >YuiCf?c7  
6  细化和合成 97 QGM@m:O  
6.1  优化介绍 97 )[d>?%vfd  
6.2  细化 (Refinement) 98 %YbcI|i]<0  
6.3  合成 (Synthesis) 100 LH]<+Zren  
6.4  目标和评价函数 101 WZ]f \S  
6.4.1  目标输入 102 B`i 5lD  
6.4.2  目标 103 csNB  \  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ubZcpqm?Q  
6.5  层锁定和连接 104 AHl1{* [  
6.6  细化技术 104 }Rx`uRx\  
6.6.1  单纯形 105 8O_0x)X  
6.6.1.1 单纯形参数 106 /Xo8 kC  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 M9scZuj  
6.6.2.1 Optimac参数 108 Od5I:p]N  
6.6.3  模拟退火算法 109 0}d^UGD  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 TqN4OkCm/  
6.6.4  共轭梯度 111 ()+PP}:$A  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2qkZ B0[  
6.6.5  拟牛顿法 112 @ky<5r*JU(  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 X cDu&6Dy  
6.6.6  针合成 113 !.}ZlA  
6.6.6.1 针合成参数 114 |NoTwK  
6.6.7 差分进化 114 l6O8:XI  
6.6.8非局部细化 115 MzudCMF  
6.6.8.1非局部细化参数 115 do>,ELS+m  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 oR_qAb  
6.7.1  细化 116 F:B 8J4/  
6.7.2  合成 117 4UV<Q*B\F  
6.8  参考文献 117 -IF3'VG  
7  导纳图及其他工具 118  s%c>Ge  
7.1  简介 118 Sh+$w=vC  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ?5e]^H}  
7.2.1  四分之一波长规则 119 J jp)%c#_  
7.2.2  导纳图 120 p,'Z{7HG  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 HX&G  k  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Sl7x>=  
7.5  斜入射导纳图 141 Sq Y$\&%  
7.6  对称周期 141 FC BsC#  
7.7  参考文献 142 #lld*I"d  
8  典型的镀膜实例 143 5y`n8. (?  
8.1  单层抗反射薄膜 145 X@ j.$0 eK  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 THl={,Rw`  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {BS}9jZx  
8.4  W-膜层 148 d%wy@h  
8.5  V-膜层 149 KqI<#hUl  
8.6  V-膜层高折射基底 150 bB->7.GXu  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ?n0Z4 8%  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 C ks;f6G  
8.9  四层抗反射薄膜 153 X{YY)}^  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 _9<nM48+t  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 pSC\[%K  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 a(Fx1`}  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 !`h^S)$  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 "7X[@xX@  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 iT2{3 t  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 f}%paE"  
8.17  1/4波长堆栈 162 7kDqgod^A  
8.18  陷波滤波器 163 KyQd6 1  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 h%*@82DKK  
8.20  褶皱 165 Wp2$L-T&$  
8.21  消偏振分光器1 169 >=+: lD  
8.22  消偏振分光器2 171 q@(MD3OE  
8.23  消偏振立体分光器 172 ;if PqL kO  
8.24  消偏振截止滤光片 173 5z~O3QX  
8.25  立体偏振分束器1 174 w28&qNha  
8.26  立方偏振分束器2 177 ZCC T  
8.27  相位延迟器 178 hq|I%>y  
8.28  红外截止器 179 {IgL H`@  
8.29  21层长波带通滤波器 180 |mp~d<&  
8.30  49层长波带通滤波器 181 [0M`uf/u  
8.31  55层短波带通滤波器 182 4A {6)<e  
8.32  47 红外截止器 183 y`Nprwb  
8.33  宽带通滤波器 184 N}\%r&KR=  
8.34  诱导透射滤波器 186 W_bp~Wu  
8.35  诱导透射滤波器2 188 p-o8Ctc?V  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 KKcajN  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 \0,8?S  
8.35  增益平坦滤波器 193 F +Dke>j  
8.38  啁啾反射镜 1 196 &)ED||r,  
8.39  啁啾反射镜2 198 vXLGdv::  
8.40  啁啾反射镜3 199 ~4V-{-=0a7  
8.41  带保护层的铝膜层 200 9pMXjsE   
8.42  增加铝反射率膜 201 _X]\#^UiO2  
8.43  参考文献 202 /:.p{y  
9  多层膜 204 "969F(S$  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 N eC]MW  
9.2  内部透过率 204 >*]dB|2  
9.3 内部透射率数据 205 Tf{lH9ca$  
9.4  实例 206 s/\<;g:u^  
9.5  实例2 210 /)*si  
9.6  圆锥和带宽计算 212 eZdFfmYW^R  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 "~:P-]`G  
10  光学薄膜的颜色 216 I1 +A$<Fa  
10.1  导言 216 U)6Ew4uRxV  
10.2  色彩 216 %$6?em_  
10.3  主波长和纯度 220 ,~G:>q$ad  
10.4  色相和纯度 221 H g04pZupN  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 =v(&qh9Q2  
10.6 色差 226 's\rQ-TV  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9 Eqv^0u  
10.8  颜色渲染指数 234 FG5YZrONx  
10.9  色差计算 235 KSve_CBOh  
10.10  参考文献 236 9WT{~PGj  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 iit 5IV  
11.1  短脉冲 238 DCSmEy`.  
11.2  群速度 239 qS/ 'Kyp_  
11.3  群速度色散 241 pebNE3`#  
11.4  啁啾(chirped) 245 Im"8+756  
11.5  光学薄膜—相变 245 X- P%^mK  
11.6  群延迟和延迟色散 246 CuFlI?~8 z  
11.7  色度色散 246 =6d'/D#J  
11.8  色散补偿 249 (YY!e2  
11.9  空间光线偏移 256  ,8)aK y  
11.10  参考文献 258 S76x EL  
12  公差与误差 260 d;g]OeF  
12.1  蒙特卡罗模型 260 TeHxqWx  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 nkkUby9  
12.2.1  误差工具 267 *t bgIW+h  
12.2.2  灵敏度工具 271 ekCt1^5Y  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 G7k.YtW  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 }+fBJ$  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 FPkig`(3  
12.3  参考文献 276 :Tdl84   
13  Runsheet 与Simulator 277 V>"N VRY  
13.1  原理介绍 277 yHnN7&  
13.2  截止滤光片设计 277 F> b<t.yV  
14  光学常数提取 289 yHs'E4V`$  
14.1  介绍 289 1>)uI@?Rb  
14.2  电介质薄膜 289 M5`wfF,j  
14.3  n 和k 的提取工具 295 vpP8'f.  
14.4  基底的参数提取 302 /rnP/X)T  
14.5  金属的参数提取 306 \]qwD m/  
14.6  不正确的模型 306 OyATb{`'  
14.7  参考文献 311 1i 7p'  
15  反演工程 313 q]DE\*@  
15.1  随机性和系统性 313 RJE<1!{  
15.2  常见的系统性问题 314 \ocC'FmE  
15.3  单层膜 314 Q32GI,M%B  
15.4  多层膜 314 eo<=Q|nI&  
15.5  含义 319 / jN &VpDG  
15.6  反演工程实例 319 mU;\,96#  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Bw4PxJs-  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ,%]x T>kH  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 puK /;nns  
16.1  光学性质的热致偏移 329 k-8$ 43  
16.2  应力工具 335 fYzZW  
16.3  均匀性误差 339 #4{9l SbU  
16.3.1  圆锥工具 339 q&@q /9kz  
16.3.2  波前问题 341 %5/h;4   
16.4  参考文献 343 ol@LLT_m  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Os)}kkja  
17.1  引言 345 to3D#9Ep  
17.2  操作数 345 iYz!:TxP  
18  如何在Function中编写脚本 351 4fau 9bW  
18.1  简介 351 R|K#nh  
18.2  什么是脚本? 351 3ms{gZbw  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 +\~Mx>Cn  
18.4  基础 352 YCu9dBeVS  
18.4.1  Classes(类别) 352 h9j/mUwV  
18.4.2  对象 352 sRSy++FRF  
18.4.3  信息(Messages) 352 }zqYn`ffD  
18.4.4  属性 352 QE~#eo  
18.4.5  方法 353 h7[PU^m  
18.4.6  变量声明 353 pu5-=QN  
18.5  创建对象 354 =xPBolxm5U  
18.5.1  创建对象函数 355 5# $5ct  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 e]u3[ao  
18.5.3 丢弃对象 356 v1~`76^  
18.5.4  总结 356 \bumB<w(]  
18.6  脚本中的表格 357 j:J{m0  
18.6.1  方法1 357 Pt8 U0)i)  
18.6.2  方法2 357 7VKTI:5y  
18.7 2D Plots in Scripts 358 qY%{c-aMA  
18.8 3D Plots in Scripts 359 2z[A&s_  
18.9  注释 360 }|4dEao\  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 [9xUMX^}  
18.11  一个更高级的脚本 362 Wf:I 0  
18.12  <esc>键 364 3qBZzM O*  
18.13 包含文件 365 $K*&Wdo  
18.14  脚本被优化调用 366 t"]~e"  
18.15  脚本中的对话框 368 9UeK}Rl^n  
18.15.1  介绍 368 mdPEF)-  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 d=8q/]_p  
18.15.3  输入框函数 370 w65D;9/;  
18.15.4  自定义对话框 371 M}BqSzd*  
18.15.5  对话框编辑器 371 #F!'B|n  
18.15.6  控制对话框 377 Z}4 `y"By  
18.15.7  更高级的对话框 380 l]v>PIh~N  
18.16 Types语句 384 ,1&</R_  
18.17 打开文件 385 ay,E!G&H  
18.18 Bags 387 ({#M*=&"  
18.13  进一步研究 388 ZdY)&LJ  
19  vStack 389 -VlXZj@u+  
19.1  vStack基本原理 389 uQlQ%n%  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ::A]p@  
19.3  五棱镜 393 7iBN!"G0  
19.4 光束距离 396 C"!k`i=Lj  
19.5 误差 399 L.) 0!1  
19.6  二向分色棱镜 399 o `N /w  
19.7  偏振泄漏 404 01" b9`jU  
19.8  波前误差—相位 405 &?gvW//L2  
19.9  其它计算参数 405 smN |r  
20  报表生成器 406 qg#|1J6e  
20.1  入门 406 _}(ej&'f  
20.2  指令(Instructions) 406 o7;#B)jWS  
20.3  页面布局指令 406 5T4!' 4n  
20.4  常见的参数图和三维图 407 BNe6q[ )W~  
20.5  表格中的常见参数 408 sHQ82uX  
20.6  迭代指令 408 0O:')R&  
20.7  报表模版 408  +*aZ9g  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ;VAHgIpx;  
21  一个新的project 413 hbg:}R=B<  
21.1  创建一个新Job 414 I>(\B|\6  
21.2  默认设计 415 Vy7o}z`  
21.3  薄膜设计 416 4]18=?r>  
21.4  误差的灵敏度计算 420 BHa'`lCb  
21.5  显色指数计算 422 >l3iAy!sZ  
21.6  电场分布 424 7; e$ sr  
后记 426 -@EAL:kY  
5p7?e3  
1$#{om9  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ckTk2xPQ  
<4|/AF*>  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
3EN(Pz L  
Lradyo44u\  
目  录 -x?I6>{  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 )IH|S5mG?  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 d1rIU6  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 vRQ7=N{3  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ecRY,MN  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ?\.aq p1B  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 7} 2Aq  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 iYk4=l  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 = olmBXn/  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 p2/Pj)2  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 KtO|14R:  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 HDY2<Hzc  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 muJR~4  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 DZ7<-SFU  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 9$[PA jwk  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 =W_Pph  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 p&nPzZQL(  
J )DFH~p  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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