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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 jR"ACup(  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 gt!t Du  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 .s>.O6(^%  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 -|GX]jx(Y  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 c Sktm&SP  
[attachment=120542] w5q'M  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 JxlZ,FF$@  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 Ha~} NO  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 p*~b5'+ C+  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 du&9mOrr  
1. Essential Macleod软件介绍 3e1^r_YI  
1.1 介绍软件 BCt>P?,UO  
1.2 创建一个简单的设计 [q~3$mjQ  
1.3 绘图和制表来表示性能 .:iO$wjp5  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 8YO` TgW  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) T<U_Iq  
1.6 特定设计的公式技术 uOb}R   
1.7 交互式绘图 &W N R{  
2. 光学薄膜理论基础 YT<(2u#Ng  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 YRU#/TP  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 S~V?Qe@&Z  
3. 材料管理 TeH_DVxj  
3.1 材料模型 .|GnTC q  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 #g]eDU-[  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 Rzxkz  
3.4 基板光学常数的提取 c4M]q4]F  
4. 光学薄膜设计优化方法 CFG(4IMx  
4.1 参考波长与g {#&jW  
4.2 四分之一规则 I1W~;2cK  
4.3 导纳与导纳图 r-5xo.J'  
4.4 斜入射光学导纳 }PzHtA,V  
4.5 光学薄膜设计的进展 nOK1Wc%/'  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 k];fQ7}m<0  
4.6.1 优化目标设置 jNW/Biy4u  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) K4^mG  
4.6.3 膜层锁定和链接 A&:~dZ:%w  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 |],ocAN{  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 % r0AhWv  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 +6f[<^K#  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 j\2q2_f  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 }c'T]h\S  
5.5 如何在Function中编写脚本 p0C|ECH  
6. 光学薄膜系统案例 9tIE+RD  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 n@9R|biO  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 "\"sM{x  
6.3 Stack应用范例说明 J;Eg"8x]  
7. 薄膜性能分析 q[%SF=~<k{  
7.1 电场分布 |4F'Zu}g>  
7.2 公差与灵敏度分析 c)zwyBz  
7.3 反演工程 pGsu#`t  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 }Pj;9ivz  
8. 真空技术 MzIn~[\  
8.1 常用真空泵介绍 ]gmkajCzD  
8.2 真空密封和检漏 A'T: \Wl  
9. 薄膜制备技术 =7 -@&S=?s  
9.1 常见薄膜制备技术 YT)@&HaF  
10. 薄膜制备工艺 ?xtP\~  
10.1 薄膜制备工艺因素 |%fM*F^7/  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ]SNcL[U  
10.3 光学薄膜监控技术 ^qV6 khg  
11. 激光薄膜 a/U4pSug  
11.1 薄膜的损伤问题 #80M+m  
11.2 激光薄膜的制备流程 z:JJ>mxV  
11.3 激光薄膜的制备技术 _[ S<Cb*1  
12. 光学薄膜特性测量 DQ= /Jr~  
12.1 薄膜光谱测量 myDcr|j-a  
12.2 薄膜光学常数测量 zE]h]$oi  
12.3 薄膜应力测量 7aeyddpM  
12.4 薄膜损伤测量 |:5[`  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
HI{IC!6  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
$mF9os-  
内容简介 p-B |Gr|  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 /t_AiM,(  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $WG<  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^MUvd  
;g_<i_ *x#  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
9v(k<('_  
5VGr<i&A  
目录 ]McDN[h:  
Preface 1 F'^?s= QX  
内容简介 2 nSB@xP#&  
目录 i Vi<F@ji  
1  引言 1 !Bn,f2  
2  光学薄膜基础 2 i" >kF@]c8  
2.1  一般规则 2 ZG Qz@H5  
2.2  正交入射规则 3 YY 8vhnw  
2.3  斜入射规则 6 d`4F  
2.4  精确计算 7 E>k!d'+tb  
2.5  相干性 8 rjL4t^rT  
2.6 参考文献 10 hbE~.[Y2r  
3  Essential Macleod的快速预览 10 :U/x(  
4  Essential Macleod的特点 32 YH'j"|{  
4.1  容量和局限性 33 aui3Mq#f  
4.2  程序在哪里? 33 '*n2<y  
4.3  数据文件 35 \Qei}5P,  
4.4  设计规则 35 XJZS}Z7h  
4.5  材料数据库和资料库 37 (GbZt{.  
4.5.1材料损失 38 JId|LHf*P  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 31~Rs?~f(  
4.5.2 材料库 41 -*~~ 00w  
4.5.3导出材料数据 43 Q i\"b  
4.6  常用单位 43 l]z=0  
4.7  插值和外推法 46 = K3NKPUI  
4.8  材料数据的平滑 50 "E%3q3|"l  
4.9 更多光学常数模型 54 _vr;cjMI  
4.10  文档的一般编辑规则 55 7r wNjY#  
4.11 撤销和重做 56  R]"3^k*  
4.12  设计文档 57 &KVXU0F^z  
4.10.1  公式 58 \Ea(f**2B  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 5FwVR3,  
4.10.3  沉积密度 59 TqTz  
4.10.4 平行和楔形介质 60 i=X B0-  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 \wxLt}T-Q  
4.10.4  性能 61 l$3YJ.n|s~  
4.10.5  保存设计和性能 64 "wj-Qgz  
4.10.6  默认设计 64 b]@@x;v$@  
4.11  图表 64 *#Hw6N0#   
4.11.1  合并曲线图 67 |ZJ<N\\h-  
4.11.2  自适应绘制 68 v7G&`4~  
4.11.3  动态绘图 68 1eMz"@ Q9  
4.11.4  3D绘图 69 41NVF_R6J  
4.12  导入和导出 73 fQ_(2+ FM  
4.12.1  剪贴板 73 ?$Ii_.  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 {x<yDDIv_  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 )m.U"giG++  
4.13  背景 77 m! _*Q  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 FFpG>+*3  
4.15  生成Rugate 84 d{:0R9  
4.16  参考文献 91 |7%#z~rT  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 *W$bhC'w  
5.1  Jobs 92 dI) 9@UL  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 jRNDi_u?Wb  
5.3  输入材料 94 &@/25Y2  
5.4  设计数据文件夹 95 m$}Jw<.W  
5.5  默认设计 95 _"G./X  
6  细化和合成 97 w^8i!jCy  
6.1  优化介绍 97 iuS*Vw  
6.2  细化 (Refinement) 98 {`=k$1  
6.3  合成 (Synthesis) 100 g<PglRr"  
6.4  目标和评价函数 101 vbSycZ2M7  
6.4.1  目标输入 102 5;q{9wvqO  
6.4.2  目标 103 Rxk0^d:sNi  
6.4.3  特殊的评价函数 104 g~]?6;uu  
6.5  层锁定和连接 104 > ,;<Bz|X  
6.6  细化技术 104 )k6kK}  
6.6.1  单纯形 105 ^]ig*oS\`  
6.6.1.1 单纯形参数 106 OO*2>Qy~z  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 8KHT"uc'*J  
6.6.2.1 Optimac参数 108 vz3#.a~2  
6.6.3  模拟退火算法 109 ^!sIEL  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 !i5~>p|4@  
6.6.4  共轭梯度 111 Q$8&V}jVW  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 gt)wk93d>  
6.6.5  拟牛顿法 112 DZqY=Sze  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 i:\|G^h  
6.6.6  针合成 113 M}x]\#MMY  
6.6.6.1 针合成参数 114 {W$K@vuV;?  
6.6.7 差分进化 114 olca Z  
6.6.8非局部细化 115 rWNywxnT  
6.6.8.1非局部细化参数 115 /nB|Fo_&Q  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 XN}^:j_2  
6.7.1  细化 116 <#~n5W{l  
6.7.2  合成 117 oUx%ra{  
6.8  参考文献 117 SkyX\&  
7  导纳图及其他工具 118 &AP`k  
7.1  简介 118 MZ"|Jn  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ,v_NrX=f?  
7.2.1  四分之一波长规则 119 M3Oqto<8"  
7.2.2  导纳图 120 ch]{ =61  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Cxra(!&  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 |(3"_  
7.5  斜入射导纳图 141 5[Uv%A?H#_  
7.6  对称周期 141 yoG*c%3V?  
7.7  参考文献 142 BV=~ !tsl  
8  典型的镀膜实例 143 {fa3"k_ke  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ]Gf`nJDV  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 cUC!'+L  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ':!aFMj^  
8.4  W-膜层 148 2B"&WKk  
8.5  V-膜层 149 y-N]{!  
8.6  V-膜层高折射基底 150 h]pz12Yf  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 /X%+z5  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 _)[UartKx  
8.9  四层抗反射薄膜 153 "NtY[sT{V  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 $rm/{i_7  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 P7\?WN$p  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 il% u)NN  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 M< /  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 A\<W x/  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 pD;fFLvN  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Ui.S)\B  
8.17  1/4波长堆栈 162 CD[}|N  
8.18  陷波滤波器 163 %S/?Ci  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ZdgzPs"  
8.20  褶皱 165 nt8& Mf  
8.21  消偏振分光器1 169 u=t.1eS5  
8.22  消偏振分光器2 171 oS^KC}X  
8.23  消偏振立体分光器 172 Ug\$Ob5=q  
8.24  消偏振截止滤光片 173 LB`{35b-  
8.25  立体偏振分束器1 174 -ARks_\  
8.26  立方偏振分束器2 177 ;OZl' . %`  
8.27  相位延迟器 178 Up5|tx7  
8.28  红外截止器 179 sO{TGk]*  
8.29  21层长波带通滤波器 180 }:57Ym)7w  
8.30  49层长波带通滤波器 181 )3k?{1:  
8.31  55层短波带通滤波器 182 1Eb2X}XC  
8.32  47 红外截止器 183 y/+ IPR  
8.33  宽带通滤波器 184 rFaG-R  
8.34  诱导透射滤波器 186 e, fZ>EJ  
8.35  诱导透射滤波器2 188 HI7w@V8Ed  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 LGK@taw^  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 V!/9GeIF  
8.35  增益平坦滤波器 193 Whe-()pG{  
8.38  啁啾反射镜 1 196 .y<u+)  
8.39  啁啾反射镜2 198 KwU;+=_.  
8.40  啁啾反射镜3 199  { &Vt]9  
8.41  带保护层的铝膜层 200 )D ~ 5  
8.42  增加铝反射率膜 201 w[C*w\A\M  
8.43  参考文献 202 qA"BoSw4  
9  多层膜 204 2T(7V[C%9  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 "6 ~5RCZ  
9.2  内部透过率 204 W4UK?#S+  
9.3 内部透射率数据 205 b!bg sd  
9.4  实例 206 &8?O ~X=/  
9.5  实例2 210 t YxN^VqU  
9.6  圆锥和带宽计算 212 mm;sf  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 5?Pf#kq  
10  光学薄膜的颜色 216 qw1W }+~g  
10.1  导言 216 XJ5@/BW  
10.2  色彩 216 }x+6<Rp'E_  
10.3  主波长和纯度 220 +P8CC fPu  
10.4  色相和纯度 221 huW,kk<]y  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3?&v:H  
10.6 色差 226 u`D _  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ;wkMa;%`g|  
10.8  颜色渲染指数 234 H]7bqr  
10.9  色差计算 235 4XAs^>N+  
10.10  参考文献 236 ]6M,s0  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 ',K:.$My  
11.1  短脉冲 238 ;dPaWS1D  
11.2  群速度 239 N`?|~g3  
11.3  群速度色散 241 Bal e_s^  
11.4  啁啾(chirped) 245 lrj&60R`w  
11.5  光学薄膜—相变 245 Va?i#<a  
11.6  群延迟和延迟色散 246 h3-^RE5\`S  
11.7  色度色散 246 %P D}VF/Y  
11.8  色散补偿 249 Yxbg _RQm  
11.9  空间光线偏移 256 dr c-5{M  
11.10  参考文献 258 n_Qua|R  
12  公差与误差 260 {Wi*B(  
12.1  蒙特卡罗模型 260 3n)$\aBE  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ;0Q" [[J  
12.2.1  误差工具 267 ^RO<r}B u  
12.2.2  灵敏度工具 271 l i)6^f#  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 1Iy1xiP  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 6 &0r/r  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 @_?2iN?4Z  
12.3  参考文献 276 ^2);*X>  
13  Runsheet 与Simulator 277 @6|<c  
13.1  原理介绍 277 v0VQ4>  
13.2  截止滤光片设计 277 Rk7F;2  
14  光学常数提取 289 ^lt2,x   
14.1  介绍 289 ^ghYi|kQq  
14.2  电介质薄膜 289 yo/;@}g}  
14.3  n 和k 的提取工具 295 wU>Fz*  
14.4  基底的参数提取 302 g(W+[kj)  
14.5  金属的参数提取 306 R?{xs  
14.6  不正确的模型 306 !+A%`m  
14.7  参考文献 311 (WJ)!  
15  反演工程 313 ?_d6 ;  
15.1  随机性和系统性 313 1Acs0` 3  
15.2  常见的系统性问题 314 rhcax%Cd  
15.3  单层膜 314 VnVBA-#r|  
15.4  多层膜 314 g4b#U\D@)/  
15.5  含义 319 ,h*N9}xYTi  
15.6  反演工程实例 319 iiQ q112`  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 y: x<`E=  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 m$=}nI(H  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 qFwt^w  
16.1  光学性质的热致偏移 329 |T@SlNi]  
16.2  应力工具 335 9?MzIt  
16.3  均匀性误差 339 !u@P\8M}  
16.3.1  圆锥工具 339 D\b$$z]q  
16.3.2  波前问题 341 nH&z4-1Y?  
16.4  参考文献 343 ~abyjM  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 `_)H aF>/  
17.1  引言 345 Vy I\Jmr  
17.2  操作数 345 n0T|U  
18  如何在Function中编写脚本 351 g i6s+2  
18.1  简介 351 &>C+5`bg  
18.2  什么是脚本? 351 .Y{x!Q"  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 P%lD9<jED  
18.4  基础 352 E`I(x&_  
18.4.1  Classes(类别) 352 aqN{@|  
18.4.2  对象 352 QMz=e  
18.4.3  信息(Messages) 352 l[c '%M|N  
18.4.4  属性 352 O*GF/ R8B  
18.4.5  方法 353 4r7F8*z  
18.4.6  变量声明 353 \.}T_,I  
18.5  创建对象 354 &TBFt;  
18.5.1  创建对象函数 355 babL.Ua8o  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 j!>P7 8  
18.5.3 丢弃对象 356 OQ hQ!6  
18.5.4  总结 356 <+g77NL  
18.6  脚本中的表格 357 6vsA8u(|V#  
18.6.1  方法1 357 EN\cwa#FU  
18.6.2  方法2 357 dh7`eAMY   
18.7 2D Plots in Scripts 358 #| _VN %!  
18.8 3D Plots in Scripts 359 _\X ,a5Un  
18.9  注释 360 q+\<%$:u  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 G|f9l?p  
18.11  一个更高级的脚本 362 JkWhYP}  
18.12  <esc>键 364 fV|uKs(W  
18.13 包含文件 365 ,M.}Qak^  
18.14  脚本被优化调用 366 #4O4,F>e  
18.15  脚本中的对话框 368 vvv'!\'#  
18.15.1  介绍 368 '~&W'='b;  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 1#6emMV.`  
18.15.3  输入框函数 370 __'4Qt   
18.15.4  自定义对话框 371 ]"Uzn  
18.15.5  对话框编辑器 371 O*l,&5  
18.15.6  控制对话框 377 @@H_3!B%4v  
18.15.7  更高级的对话框 380 PM[_0b  
18.16 Types语句 384 'Gl~P><e  
18.17 打开文件 385 W+!UVUpW  
18.18 Bags 387 ]nUrE6  
18.13  进一步研究 388 W:]2T p  
19  vStack 389 "u7[[.P)  
19.1  vStack基本原理 389 }w$2,r gA  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 o@zxzZWg  
19.3  五棱镜 393 9)1Ye  
19.4 光束距离 396 NS z }  
19.5 误差 399 iibG$?(  
19.6  二向分色棱镜 399 hU""YP ~y  
19.7  偏振泄漏 404 ce\d35x!  
19.8  波前误差—相位 405 qX-ptsQ  
19.9  其它计算参数 405 X?'cl]1?  
20  报表生成器 406 A+RW=|:  
20.1  入门 406 r)5xS]  
20.2  指令(Instructions) 406 .g*N +T6O  
20.3  页面布局指令 406 m}wn+R  
20.4  常见的参数图和三维图 407 *I(6hB  
20.5  表格中的常见参数 408 88osWo6rG  
20.6  迭代指令 408 pz /[ ${X  
20.7  报表模版 408 (NvjX})eh  
20.8  开始设计一个报表模版 409 `xBoNQai  
21  一个新的project 413 =Nt HV4=b  
21.1  创建一个新Job 414 %42a>piev  
21.2  默认设计 415 o4kLgY !Q  
21.3  薄膜设计 416 =Pl@+RgK+  
21.4  误差的灵敏度计算 420 +<1 |apS1  
21.5  显色指数计算 422 FYYc+6n  
21.6  电场分布 424 QgqJ #  
后记 426 "sN%S's  
G{} 2"/   
N@c G jpQ  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 4[$:KGh3  
;98&5X\u<  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
TF/NA\0c$  
O%T?+1E  
目  录 M_ukG~/  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 #-'`Yb w  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 M 5sk&>  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?@G s7'  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Gw<D'b)!  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 A7X a  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Zt!#KSF7%  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 A O:F*%Q u  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 bZYayjxZ5i  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 @JbxGi  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 [ey# ,&T  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 wSjDa.?'  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 e3 v^j$  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 "u^Erj# /  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 1jg* DQ7L  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 ,j*9)  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 +\T8`iCFB  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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