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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 !~ZAm3GwL  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 .N  Z  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 W%< z|  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 x{$/|_  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 Ap!i-E,"J  
[attachment=120542] opon "{  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 a- 7RJ.  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 w)"F=33}5  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 -n6e;p]  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Q `z2SYz>  
1. Essential Macleod软件介绍 UMlvu?u2p1  
1.1 介绍软件 lO8GnkLE  
1.2 创建一个简单的设计 5O:4-} hz  
1.3 绘图和制表来表示性能 $!\Z_ :  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Z#s-(wf  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) =wFl(Q6J  
1.6 特定设计的公式技术 MUMB\K*$  
1.7 交互式绘图 \}; 4rm}V  
2. 光学薄膜理论基础 ;H"OZRQ  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 :<,tGYg/!  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 3PaMq6Ca  
3. 材料管理 XPMvAZL  
3.1 材料模型 IgKrcpK#}?  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 K,Hxe;-  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 }C5Fvy6uz  
3.4 基板光学常数的提取 ez[$;>  
4. 光学薄膜设计优化方法 OTmr-l6  
4.1 参考波长与g 8hZc#b;  
4.2 四分之一规则 <|VV8r93  
4.3 导纳与导纳图 c"NGE  
4.4 斜入射光学导纳 'F7UnkKO|  
4.5 光学薄膜设计的进展 d@{#F"o  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ,sltB3f  
4.6.1 优化目标设置 j.KV :zJU  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 3SI%>CO}  
4.6.3 膜层锁定和链接 $QaEU="Z  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 r z5@E  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Mqm9i  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 .zvvk  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 *)Pb-c  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 cEEnR1  
5.5 如何在Function中编写脚本 X'usd$[ .  
6. 光学薄膜系统案例 NP$ D9#   
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 phy:G}F6%  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 z#+Sf.  
6.3 Stack应用范例说明 ]v0=jm5A  
7. 薄膜性能分析 eyG[1EEU  
7.1 电场分布 ^- s`$lTp  
7.2 公差与灵敏度分析 &}FWpo!  
7.3 反演工程 |6~ Kin  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 .wkW<F7  
8. 真空技术 ^fti<Lw5  
8.1 常用真空泵介绍 c1g'l.XL 3  
8.2 真空密封和检漏 2.&%mSN  
9. 薄膜制备技术 k<%y+v  
9.1 常见薄膜制备技术 sh}eKwh  
10. 薄膜制备工艺 ccgV-'IG9  
10.1 薄膜制备工艺因素 Enqs|fkbN  
10.2 薄膜均匀性修正技术 $K_-I8e|  
10.3 光学薄膜监控技术 6v&@Rlg  
11. 激光薄膜 +xBM\Dz8  
11.1 薄膜的损伤问题 FK;2u $:  
11.2 激光薄膜的制备流程 pYX!l:hk  
11.3 激光薄膜的制备技术 h~k+!\  
12. 光学薄膜特性测量 b R9iqRbn  
12.1 薄膜光谱测量 &H?Vlx Ix  
12.2 薄膜光学常数测量 J%8hf%! ud  
12.3 薄膜应力测量 8 %^W<.Y  
12.4 薄膜损伤测量 Lg+cHaA  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
qino:_g  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
[.>g.p,;  
内容简介 pY(S]i  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 QVWUm!  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 BV]$= e'  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 #=I5_u  
\7 }{\hY-  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
XF99h&;9  
PfJfa/#pA  
目录 qz|xow/ns@  
Preface 1 sKDL=c;?j  
内容简介 2 MMf_  
目录 i 9f$3{ g{m  
1  引言 1 >;k~B  
2  光学薄膜基础 2 =p#:v  
2.1  一般规则 2 ybpU?n  
2.2  正交入射规则 3 x$6FvgP(  
2.3  斜入射规则 6 DO ,7vMO  
2.4  精确计算 7 #YB3Ug]z  
2.5  相干性 8 /UiB1-*b  
2.6 参考文献 10 S?# 'Y*h  
3  Essential Macleod的快速预览 10 qEnmms1  
4  Essential Macleod的特点 32 -d6PXf5  
4.1  容量和局限性 33 }Z% j=c"d  
4.2  程序在哪里? 33 ;`FR1KIg  
4.3  数据文件 35 }~! D]/B  
4.4  设计规则 35 1Ewg_/R  
4.5  材料数据库和资料库 37 420cbD3a  
4.5.1材料损失 38 TXfG@4~kC  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 5z"[{ #/  
4.5.2 材料库 41 *5R91@xt  
4.5.3导出材料数据 43 61`tQFx,  
4.6  常用单位 43 =<z~OE'lV  
4.7  插值和外推法 46 wbh^ZMQ  
4.8  材料数据的平滑 50 yb'v*B ]  
4.9 更多光学常数模型 54 Sigu p#.p  
4.10  文档的一般编辑规则 55 )Tad]Hd"W  
4.11 撤销和重做 56 5z 9'~Gfb  
4.12  设计文档 57 &Y$)s<u8.  
4.10.1  公式 58 ufS0UD8%H  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~)]n67Or~  
4.10.3  沉积密度 59 :*)b<:4  
4.10.4 平行和楔形介质 60 >I9|N}I  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 8YkCTJfBGu  
4.10.4  性能 61 *AA78G|  
4.10.5  保存设计和性能 64 ^%Fn|U\u  
4.10.6  默认设计 64 %YI!{  
4.11  图表 64 B \>W  
4.11.1  合并曲线图 67 J*]JH{  
4.11.2  自适应绘制 68 ;($ 3,d8  
4.11.3  动态绘图 68 3vF-SgCV  
4.11.4  3D绘图 69 d(6&kXK  
4.12  导入和导出 73 8'Q1'yc  
4.12.1  剪贴板 73 qN6GLx%  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 o)Nm5g  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 R|dSjEs  
4.13  背景 77 vmT6^G  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Aq{7WA  
4.15  生成Rugate 84 kF7`R4Sz  
4.16  参考文献 91 `;#I_R_K  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 K<7 Db4H  
5.1  Jobs 92 pt8#cU\  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Kw,ln<)2  
5.3  输入材料 94 iuWw(dJk  
5.4  设计数据文件夹 95 B~/ejC!  
5.5  默认设计 95 ,:"c"   
6  细化和合成 97 Y'M}lv$sa  
6.1  优化介绍 97 / lN09j  
6.2  细化 (Refinement) 98 cUM#|K#6  
6.3  合成 (Synthesis) 100 UQ)7uYQ5  
6.4  目标和评价函数 101 0 +"P 1/  
6.4.1  目标输入 102 3|.KEJC"  
6.4.2  目标 103 u"M^qRhD  
6.4.3  特殊的评价函数 104 ?&r >`H E  
6.5  层锁定和连接 104 p?eQN Y  
6.6  细化技术 104 S:xG:[N@  
6.6.1  单纯形 105 &?B\(?*  
6.6.1.1 单纯形参数 106 407;M%?'A  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 j=TG&#e  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ^tKJ}}  
6.6.3  模拟退火算法 109 HH,G3~EBF  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 qVmG"et'J  
6.6.4  共轭梯度 111 [:C!g#o  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 kR|(hA,$N  
6.6.5  拟牛顿法 112 Wy,Tf*[  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }-ysP$  
6.6.6  针合成 113 ]; G$~[  
6.6.6.1 针合成参数 114 K>fY9`Whm  
6.6.7 差分进化 114 jYJfo<  
6.6.8非局部细化 115 OL)M`eVQ'  
6.6.8.1非局部细化参数 115 @X*r5hjc  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 k84JDPu#  
6.7.1  细化 116 &li&P5!i  
6.7.2  合成 117 }9ZcO\M  
6.8  参考文献 117 LuIs4&[EW  
7  导纳图及其他工具 118 IOi6' 1l  
7.1  简介 118 >QM$ NIf@  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 v_Y'o _  
7.2.1  四分之一波长规则 119 #y%?A;  
7.2.2  导纳图 120 dsJHhsu6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 UHW;e}O5  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 iv62Fs'  
7.5  斜入射导纳图 141 Q!dNJQpb  
7.6  对称周期 141 '^Ce9r}  
7.7  参考文献 142 ,zY!EHpx  
8  典型的镀膜实例 143 +A,t9 3:k  
8.1  单层抗反射薄膜 145 g>*t"Rf:  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 1p9+c~4l:  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #.n%$r  
8.4  W-膜层 148 p6'wg#15  
8.5  V-膜层 149 /K]<7  
8.6  V-膜层高折射基底 150 )#l,RJ(  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 "|l-NUe  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 /^z5;aG  
8.9  四层抗反射薄膜 153 @}cZxFQ!C  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 H|iY<7@  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *m[ow s  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 bqDHLoB\1  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 -dn\*n5  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 hup< U+p  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 9 6'{ES9D  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 YSE6PG   
8.17  1/4波长堆栈 162 Zu/}TS9bi  
8.18  陷波滤波器 163 e.|_=Gd2/  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 } 6Uw4D61  
8.20  褶皱 165 z2QZ;ZjvRS  
8.21  消偏振分光器1 169 V5{^R+_)Ya  
8.22  消偏振分光器2 171 p}'uCT ga  
8.23  消偏振立体分光器 172 g.d%z  
8.24  消偏振截止滤光片 173 -a[] #v9  
8.25  立体偏振分束器1 174 NN9` jP2  
8.26  立方偏振分束器2 177 058+_xX  
8.27  相位延迟器 178 HwH Wi  
8.28  红外截止器 179 6DG:imGl  
8.29  21层长波带通滤波器 180 kG7q4jFwP  
8.30  49层长波带通滤波器 181 # N.(ZP  
8.31  55层短波带通滤波器 182 >"Z^8J  
8.32  47 红外截止器 183 )c#m<_^  
8.33  宽带通滤波器 184 *SX'Or,  
8.34  诱导透射滤波器 186 xNh#=6__9  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Uaho.(_GP  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 N'nqVYTU  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ^vjN$JB  
8.35  增益平坦滤波器 193 x^| J-  
8.38  啁啾反射镜 1 196 eswsxJ/!  
8.39  啁啾反射镜2 198 0NB6S&lI^k  
8.40  啁啾反射镜3 199 'V5^D<1P  
8.41  带保护层的铝膜层 200 KGclo-,  
8.42  增加铝反射率膜 201 @]#0jiS  
8.43  参考文献 202 b&;1b<BwD  
9  多层膜 204 F-)lRGw  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 ?5#Ng,8iT  
9.2  内部透过率 204 uLsGb=m%b  
9.3 内部透射率数据 205 *JX)q  
9.4  实例 206 {P_~_5o_  
9.5  实例2 210 AFWcTz6#d  
9.6  圆锥和带宽计算 212 \ :8eN}B  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 rdsm /^,s  
10  光学薄膜的颜色 216 ,R1`/aRy  
10.1  导言 216 bc"E=z  
10.2  色彩 216 }*~EA=YN;  
10.3  主波长和纯度 220 U-ILzK  
10.4  色相和纯度 221 FKd5]am  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 \guZc}V]:\  
10.6 色差 226 Rla4XN=mf  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 66?!"w  
10.8  颜色渲染指数 234 *Rv eR?kO  
10.9  色差计算 235 "msCiqF{z  
10.10  参考文献 236 A / N$  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 :5G3 uN+\  
11.1  短脉冲 238 FX"%  
11.2  群速度 239 Z1FO.[FV  
11.3  群速度色散 241 fv !l{  
11.4  啁啾(chirped) 245 G qI^$5?  
11.5  光学薄膜—相变 245 [IVT0 i  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ObIi$uJX  
11.7  色度色散 246  U&PAs e  
11.8  色散补偿 249 n*^g^gp  
11.9  空间光线偏移 256 p;:tzH\l  
11.10  参考文献 258 2B_6un];W  
12  公差与误差 260 ^CTgo,uf6H  
12.1  蒙特卡罗模型 260 #D3e\(  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 QeA)@x.p  
12.2.1  误差工具 267 @5H1Ni5/o@  
12.2.2  灵敏度工具 271 Z&=K+P  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 z12[vN  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 BbZ-dXC<  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 =y8HOT}8  
12.3  参考文献 276 GBvB0kC)c  
13  Runsheet 与Simulator 277 -vI?b#  
13.1  原理介绍 277 !arcQ:T@G  
13.2  截止滤光片设计 277 $Trkow%F]  
14  光学常数提取 289 k0?4vA  
14.1  介绍 289 FyYQ4ov0&o  
14.2  电介质薄膜 289 6g!#"=ls;  
14.3  n 和k 的提取工具 295 6hYv  
14.4  基底的参数提取 302 9u1)Kr=e  
14.5  金属的参数提取 306 %}P^B^O  
14.6  不正确的模型 306 qt}vM*0}V  
14.7  参考文献 311 EuqmA7s8A  
15  反演工程 313 c6s*u%+},  
15.1  随机性和系统性 313 K;G1cFFyG  
15.2  常见的系统性问题 314 bvn?wK   
15.3  单层膜 314 r!yrPwKL  
15.4  多层膜 314 UuAn`oYhV  
15.5  含义 319 0G9@A8LU  
15.6  反演工程实例 319 je.jui"  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 rx'},[b]3  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 <"/Y`/  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 %p"x|e  
16.1  光学性质的热致偏移 329 _< 69d  
16.2  应力工具 335  2 Ua_7  
16.3  均匀性误差 339 *(L4rK\2  
16.3.1  圆锥工具 339 b ,7:=-D  
16.3.2  波前问题 341 &529.>  
16.4  参考文献 343 Gp$[u4-6M6  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 7'j?GzaQ+  
17.1  引言 345 KU3lAjzN  
17.2  操作数 345 Ka2U@fK"  
18  如何在Function中编写脚本 351 OCo=h|qBp  
18.1  简介 351 ~.AUy%$_g+  
18.2  什么是脚本? 351 Y:G6Nd VFM  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 KwWqsuju  
18.4  基础 352 z]Z>+|  
18.4.1  Classes(类别) 352 %B3E9<9>U  
18.4.2  对象 352 s>~!r.GC  
18.4.3  信息(Messages) 352 8;p6~&).C~  
18.4.4  属性 352 jN 5Hku[?  
18.4.5  方法 353 kJ>l, AD/  
18.4.6  变量声明 353 *f.eyg#  
18.5  创建对象 354 q>r9ooN  
18.5.1  创建对象函数 355 \ Yz>=rY  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ]ss0~2  
18.5.3 丢弃对象 356 h(]O;a-  
18.5.4  总结 356 @= 6}w_  
18.6  脚本中的表格 357 R8Lp8!F'  
18.6.1  方法1 357 v%/_*69a  
18.6.2  方法2 357 ]0xbvJ8oK  
18.7 2D Plots in Scripts 358 2y#4rl1Utx  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;Y j_@=   
18.9  注释 360 U{h5uezD  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 sBu=@8R]y  
18.11  一个更高级的脚本 362 #; E,>0  
18.12  <esc>键 364 C $aiOK-]+  
18.13 包含文件 365 N|z-s  
18.14  脚本被优化调用 366 L/<^uO1  
18.15  脚本中的对话框 368 B y6:  
18.15.1  介绍 368 5IBe;o  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 +G? 4Wc1  
18.15.3  输入框函数 370 8G1Tpn  
18.15.4  自定义对话框 371 2z:4\Y5  
18.15.5  对话框编辑器 371 ):+n!P  
18.15.6  控制对话框 377 ^] Lr_k  
18.15.7  更高级的对话框 380 ^;c!)0Q<Z  
18.16 Types语句 384 X;v/$=-mz  
18.17 打开文件 385 ,/m<=`*N|  
18.18 Bags 387 +~  :1H.  
18.13  进一步研究 388 45edyQ  
19  vStack 389 C z4"[C`;  
19.1  vStack基本原理 389 t\CVL?e`  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 my[)/'  
19.3  五棱镜 393 =JOupw  
19.4 光束距离 396 6t *pV [  
19.5 误差 399 6WgGewn  
19.6  二向分色棱镜 399 MH'S,^J  
19.7  偏振泄漏 404 G!8O*4+A  
19.8  波前误差—相位 405 gr4Hh/V  
19.9  其它计算参数 405 Od>Ta_  
20  报表生成器 406 &rorBD 5aj  
20.1  入门 406 d&(GIH E&d  
20.2  指令(Instructions) 406 G! zV=p  
20.3  页面布局指令 406 "T<Q#^m  
20.4  常见的参数图和三维图 407 c*1t<OAS~  
20.5  表格中的常见参数 408 P_z3TK  
20.6  迭代指令 408 )j4]Y dJ  
20.7  报表模版 408 a_L&*%;  
20.8  开始设计一个报表模版 409 1G=1FGvP  
21  一个新的project 413 ]B:g<}5$4  
21.1  创建一个新Job 414 :w#Zs)N  
21.2  默认设计 415 rfkk3oy  
21.3  薄膜设计 416 it ,i^32|  
21.4  误差的灵敏度计算 420 /$! / F@^  
21.5  显色指数计算 422 *"P :ySA  
21.6  电场分布 424 YnNB#x8|  
后记 426 +%7yJmMw  
62PtR`b >  
9<.FwV >  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 G{knO?BK  
a,#f%#J\  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
)V!9&  
0X~   
目  录 9FP6Z[4  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 &[3 xpi{v  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 R KFz6t  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 {e/12q  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Lf3Ri/@ p  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 XK`>#*"V  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ^Gq4Yr  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 hW~,Uqy  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ]\v'1m"  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 -=&r}/&  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 [`Ol&R4k  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 T8GxoNm  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Gk;==~  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 d0Py[37V  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ?uc=(J+6  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /j0<x^m/  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 MQ$[jOAqP  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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