上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 S_VZ^1X] 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 V9 dRn2- [ 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8AK=FX&@& 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 R>iRnrn:- 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 '*~_!lE5 [attachment=120542] + S^OzCGk 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 AUm"^-@x#> 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 a$*)d($ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 #MyR:V*a 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 +;P8QZK6 1. Essential Macleod软件介绍 ;p!|E3o. 1.1 介绍软件 k e
sg ]K 1.2 创建一个简单的设计 -r6cK,WVU 1.3 绘图和制表来表示性能 4Y)rgLFj 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 G98P<cyD 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) "+g9}g 1.6 特定设计的公式技术 #JFTD[1 1.7 交互式绘图 0GtL6M@pP 2. 光学薄膜理论基础 R; wq 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 p=7{ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 S4m??B 3. 材料管理 .>Gnb2
3.1 材料模型 ,dTRM 3.2 介质薄膜光学常数的提取 s\k4<d5 3.3 金属薄膜光学常数的提取 \pXs&}%1,F 3.4 基板光学常数的提取 pO*$'8L 4. 光学薄膜设计优化方法 p5C:MA~* 4.1 参考波长与g yM*-em 4.2 四分之一规则 !\
IgTt, 4.3 导纳与导纳图 Df\~ ZWs! 4.4 斜入射光学导纳 ^u?#fLr 4.5 光学薄膜设计的进展 B^;P:S<yG 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 5/vfmDt3'G 4.6.1 优化目标设置 N%hV +># Z 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) xpJ6M<O{8 4.6.3 膜层锁定和链接 \>T+\?M 5. Essential Macleod中各个模块的应用
|a3v!va 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 f4JmY1)@ 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 B}PT-S1l 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 .l| [e 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 tl 0_Sd 5.5 如何在Function中编写脚本 ?s=O6D&
6. 光学薄膜系统案例 cBZKt 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 $2p=vi3 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 BB x359 6.3 Stack应用范例说明 0rt@4"~~w 7. 薄膜性能分析 _JVFn= 7.1 电场分布 SdOa#U) 7.2 公差与灵敏度分析 {X85 7.3 反演工程 R&>G6jZ?8 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 KASuSg+ 8. 真空技术 ))/NGa 8.1 常用真空泵介绍
~ 4v 8.2 真空密封和检漏 e-!6m#0 9. 薄膜制备技术 YXJr eM5 9.1 常见薄膜制备技术
Z~g6C0 10. 薄膜制备工艺 )\S3Q 10.1 薄膜制备工艺因素 TY."?` [FK 10.2 薄膜均匀性修正技术 3 291"0 10.3 光学薄膜监控技术 aVg~/ 11. 激光薄膜 50s1o{xwc 11.1 薄膜的损伤问题 Re=()M 11.2 激光薄膜的制备流程 Vu0d\l^$ 11.3 激光薄膜的制备技术 q7}r D$ 12. 光学薄膜特性测量 FAkrM?0/ 12.1 薄膜光谱测量 1zGD~[M 12.2 薄膜光学常数测量 1^f7 12.3 薄膜应力测量 PBeBI: 12.4 薄膜损伤测量 S55h}5Y 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] og`rsl
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] Tv d}5~
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内容简介 TpAE 9S Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 j8cIpbp8x 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 L;7u0Yg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Qe[ejj1o: <y
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 b<\2j5 Udi 目录 4.=jKj9j Preface 1 :F |ll? 内容简介 2 t3qPocYQ 目录 i Y>/T+ub 1 引言 1 =bBV
A0y 2 光学薄膜基础 2 U<YcUmX 2.1 一般规则 2 rD\)ndPv 2.2 正交入射规则 3 >1}@Q(n/}{ 2.3 斜入射规则 6 +]3kcm7B 2.4 精确计算 7 r|_@S[hZg 2.5 相干性 8 0.aIcc 2.6 参考文献 10 O"M2*qiH 3 Essential Macleod的快速预览 10 e9=UTn{! 4 Essential Macleod的特点 32 dwpE(G y6c 4.1 容量和局限性 33 _qxBjB4t"a 4.2 程序在哪里? 33 EED0U? 4.3 数据文件 35 `<Q[$z 4.4 设计规则 35 ^ Fnag]qQ 4.5 材料数据库和资料库 37 nO+-o;DbC 4.5.1材料损失 38 @!Z1*a. 4.5.1材料数据库和导入材料 39 $} @gR]
Z 4.5.2 材料库 41 o"V+W 4.5.3导出材料数据 43 )ZW[$:wA 4.6 常用单位 43 n)Z u> 4.7 插值和外推法 46 68UfuC 4.8 材料数据的平滑 50 M!/!*,~ 4.9 更多光学常数模型 54 qs%UJ0tR 4.10 文档的一般编辑规则 55 eJ%b"H! 4.11 撤销和重做 56 /V{1Zw= 4.12 设计文档 57 ,Y4>$:#n/ 4.10.1 公式 58
hm\UqIt 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *mJ\Tzc) 4.10.3 沉积密度 59 #z1/VZ 4.10.4 平行和楔形介质 60 ~n~j2OE 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Dr)jB*yK 4.10.4 性能 61 j8G$ , ~v 4.10.5 保存设计和性能 64 l;SXR <EU 4.10.6 默认设计 64 I/*^s 4.11 图表 64 _P`
^B 4.11.1 合并曲线图 67 .k-t5d 4.11.2 自适应绘制 68 x[y}{T 4.11.3 动态绘图 68 G=F _{z\} 4.11.4 3D绘图 69 vdcPpj^d5 4.12 导入和导出 73 8:;]tt 4.12.1 剪贴板 73 ``-pjD(t 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Sy/Z}H 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ICEyz|
C 4.13 背景 77 mKqXB\< 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 l>?f+70 4.15 生成Rugate 84 ~:
fSD0 4.16 参考文献 91 y`i?Qo3 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 jLA)Y
[h 5.1 Jobs 92 5WA:gy gB& 5.2 创建一个新Job(工作) 93 0R,. 5.3 输入材料 94 `TYC]9 5.4 设计数据文件夹 95 r1Hh @sxn 5.5 默认设计 95 c*y*UG 6 细化和合成 97 ^?2zoS#iw 6.1 优化介绍 97 XtQwLH+F
6.2 细化 (Refinement) 98 ~z\a:+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 EOZ 6F-': 6.4 目标和评价函数 101 w~q ]& 6.4.1 目标输入 102 BCuoFw) 6.4.2 目标 103 ULhXyItL 6.4.3 特殊的评价函数 104 sYfm]Faz 6.5 层锁定和连接 104 MGf *+!y, 6.6 细化技术 104 D~bx'Wr+ 6.6.1 单纯形 105 ts%
n tnvI 6.6.1.1 单纯形参数 106 )Ii`/I^ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 764eXh 6.6.2.1 Optimac参数 108 ZXN`8!]& 6.6.3 模拟退火算法 109 D@O5G d 6.6.3.1 模拟退火参数 109 @u`W(Ow 6.6.4 共轭梯度 111 kl[(!"p 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 3:G$Y:#P 6.6.5 拟牛顿法 112 %#o@ c 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -\USDi( 6.6.6 针合成 113 ?lfyC/ 6.6.6.1 针合成参数 114 I o"3wL)2 6.6.7 差分进化 114 +_k A&Q(t 6.6.8非局部细化 115 +!W:gA 6.6.8.1非局部细化参数 115 y@,PTF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 E=CA Wj\ 6.7.1 细化 116 lXF7)H&T 6.7.2 合成 117 8#HnV%|N 6.8 参考文献 117 6.a5%: 7 导纳图及其他工具 118 op/_:#&' 7.1 简介 118 `K:n=hpF 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 IN@o9pUjV 7.2.1 四分之一波长规则 119 ~1E!Co 7.2.2 导纳图 120 IdMwpru( 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 zRd.!Rv 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 F:d2; 7.5 斜入射导纳图 141 ,(Ol]W} 7.6 对称周期 141 cWG%>.`5r 7.7 参考文献 142 SSCs96 8 典型的镀膜实例 143 H2H[ DVKv 8.1 单层抗反射薄膜 145 V?'p E 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 \NMqlxp2 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 w;{Q)_A 8.4 W-膜层 148 _3D9>8tzE7 8.5 V-膜层 149 sp:4b$zX 8.6 V-膜层高折射基底 150 =PQ4S2Q 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 JV@G9PT 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 KO7& |