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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 Jv8VM\ *  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 y:Agmr,S  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ^e]h\G  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 E_0i9  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 g)}q3-<AK>  
[attachment=120542] It]GlxMX  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 tlYB'8bJY  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ]l"9B'XR  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 L=5Y^f'aU  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 &{bNa:@  
1. Essential Macleod软件介绍 !/]z-z2>  
1.1 介绍软件 wauM|/KG  
1.2 创建一个简单的设计 :|-^et]a8  
1.3 绘图和制表来表示性能 S3Fj /2Q8  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Lie= DD  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) @cQ |`  
1.6 特定设计的公式技术 !FQS9SoO9  
1.7 交互式绘图 6A4{6B  
2. 光学薄膜理论基础 4O4}C#6(4  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 EL6<%~,V"I  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #dFE}!"#`  
3. 材料管理 Y2|c;1~5$  
3.1 材料模型 u~!Pzz3"  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 Bw.?Me)mf|  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 ;,Os3  
3.4 基板光学常数的提取 KDr)'gl&  
4. 光学薄膜设计优化方法 JHuA}f{2&  
4.1 参考波长与g pIPjTQ?cq  
4.2 四分之一规则 /px`FuJI(  
4.3 导纳与导纳图 @2eH;?uO  
4.4 斜入射光学导纳 u&'&E   
4.5 光学薄膜设计的进展 =%{E^z>1  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 9 1ec^g  
4.6.1 优化目标设置 o}Zl/&(  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Hiih$O+  
4.6.3 膜层锁定和链接 6-\C?w A  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 -AXMT3p=1  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ig'4DmNC  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 w!RJ8  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 BQ {'r^u  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 D7C%Y^K]>E  
5.5 如何在Function中编写脚本 h: zi8;(  
6. 光学薄膜系统案例 mFyYn,Mu|  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ze uSk| O  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 iJk/fvi  
6.3 Stack应用范例说明 ?xt${?KP  
7. 薄膜性能分析 6MbMAh5>  
7.1 电场分布 7mYBxE/  
7.2 公差与灵敏度分析 zU# OjvNk  
7.3 反演工程 u]<`y6=&C  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 tp b(.`G  
8. 真空技术 ^ |>)H  
8.1 常用真空泵介绍 {'G u@l  
8.2 真空密封和检漏 eD N%p  
9. 薄膜制备技术 d-"[-+)-  
9.1 常见薄膜制备技术 9|hPl-. .W  
10. 薄膜制备工艺 e(k$k>?  
10.1 薄膜制备工艺因素 7P D D  
10.2 薄膜均匀性修正技术 gC/-7/}  
10.3 光学薄膜监控技术 Ec['k&*7,  
11. 激光薄膜 gR{.0e  
11.1 薄膜的损伤问题 Mp^U)S+  
11.2 激光薄膜的制备流程 9'!I6;M  
11.3 激光薄膜的制备技术 !B&1{  
12. 光学薄膜特性测量 }q~xr3#  
12.1 薄膜光谱测量 [oS.B\Vc  
12.2 薄膜光学常数测量 !n5s/"'H  
12.3 薄膜应力测量 Jm}zit:o  
12.4 薄膜损伤测量 +isaqfy/  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
z(beT e  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
7033#@_  
内容简介 XJf1LGT5  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 O[#B906JB  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :aMp,DfM]P  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .:jfNp~jt  
hH@pA:`s  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
D\V (r\i  
evHKq}{  
目录 y8\4TjS1  
Preface 1 JY@x.?N5$  
内容简介 2 V %Rz(a+c  
目录 i qbdv  
1  引言 1 VUGVIy.  
2  光学薄膜基础 2 Yim`3>#t  
2.1  一般规则 2 K\>CXa  
2.2  正交入射规则 3 h3:dO|Z  
2.3  斜入射规则 6 ^7% KS  
2.4  精确计算 7 |/AY!Y3  
2.5  相干性 8 p uLQ_MNV  
2.6 参考文献 10 )haHI)xR  
3  Essential Macleod的快速预览 10 {!vz 6QDS  
4  Essential Macleod的特点 32 iG;GAw|E  
4.1  容量和局限性 33 ^!>o5Y)  
4.2  程序在哪里? 33 kP}91kja  
4.3  数据文件 35 ?{I]!gI  
4.4  设计规则 35 TJp0^&Q  
4.5  材料数据库和资料库 37 K.jm>]'z4;  
4.5.1材料损失 38 EJ3R{^  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 9}6^5f?|  
4.5.2 材料库 41 .%EEly  
4.5.3导出材料数据 43 t Sf`  
4.6  常用单位 43 .EUOKPK4W  
4.7  插值和外推法 46 S}cm.,/w  
4.8  材料数据的平滑 50 i&?do{YQ)  
4.9 更多光学常数模型 54 .J3Dk=/  
4.10  文档的一般编辑规则 55 h47l;`kD-#  
4.11 撤销和重做 56 x?|   
4.12  设计文档 57 L3- tD67oa  
4.10.1  公式 58 $?u ^hMU=  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 W:16qbK  
4.10.3  沉积密度 59 u)fmXoQ  
4.10.4 平行和楔形介质 60 @rVBL<!o,  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 #wZ:E,R  
4.10.4  性能 61 0BTLIV$d;  
4.10.5  保存设计和性能 64 4!dN^;Cb  
4.10.6  默认设计 64 UN}jpu<h  
4.11  图表 64 -*EK-j  
4.11.1  合并曲线图 67 }Ik{tUS$  
4.11.2  自适应绘制 68 G&Sp }  
4.11.3  动态绘图 68 v+|N7  
4.11.4  3D绘图 69 A@0%7xm  
4.12  导入和导出 73 *:}NS8hP  
4.12.1  剪贴板 73 6"W~%FSJX  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 <j.bG 7  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 X|7Y|0o  
4.13  背景 77 \}e1\MiZ  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 WeTsva+  
4.15  生成Rugate 84 rE bC_<  
4.16  参考文献 91 0VB~4NNR  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 pU*dE   
5.1  Jobs 92 =,~h]_\_  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 j9za)G-J  
5.3  输入材料 94 ;?i(WV}ee  
5.4  设计数据文件夹 95 +BRmqJ3  
5.5  默认设计 95 Z?5kO-[  
6  细化和合成 97 5u\si4BL{  
6.1  优化介绍 97 oP".>g-.  
6.2  细化 (Refinement) 98 WKQVT I&A.  
6.3  合成 (Synthesis) 100 t "J"G@1)  
6.4  目标和评价函数 101 v 6?{g  
6.4.1  目标输入 102 qF(F<$B  
6.4.2  目标 103 q@p-)+D;  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Y$ ;C@I  
6.5  层锁定和连接 104 RTNUHz;{L  
6.6  细化技术 104 XnQo0 R.PW  
6.6.1  单纯形 105 bO: Ei  
6.6.1.1 单纯形参数 106 g`!:7|&,_  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 }xHoitOD  
6.6.2.1 Optimac参数 108 _{o=I?+]  
6.6.3  模拟退火算法 109 B8_ w3;x  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 z$E+xZ  
6.6.4  共轭梯度 111 Dqe/n_Z  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 jl=<Q.Mm7  
6.6.5  拟牛顿法 112 qDO4&NO  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3Bz0B a  
6.6.6  针合成 113 A:EF#2) g  
6.6.6.1 针合成参数 114 QH6Lb%]/  
6.6.7 差分进化 114 dvk? A$  
6.6.8非局部细化 115 \c+)Y}:D  
6.6.8.1非局部细化参数 115 *lg1iP{]  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 qbkvwL9  
6.7.1  细化 116 %,GY&hTw  
6.7.2  合成 117 &2{h]V6  
6.8  参考文献 117 nv(Pwb3B  
7  导纳图及其他工具 118 o*\kg+8  
7.1  简介 118 sD.bBz  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Ay!=Yk ^~  
7.2.1  四分之一波长规则 119 S?%V o* Y  
7.2.2  导纳图 120 ?MuM _6  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 f8)D|  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 sf]y\_zU  
7.5  斜入射导纳图 141 LKG],1n-  
7.6  对称周期 141 #JGy2Hk$^  
7.7  参考文献 142 l0g#&V--  
8  典型的镀膜实例 143 (j+C&*u  
8.1  单层抗反射薄膜 145 wYhWRgP  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 *~fZ9EkD  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %FQMB  
8.4  W-膜层 148 V# |#% 8  
8.5  V-膜层 149 /g712\?M4  
8.6  V-膜层高折射基底 150 'bkecC  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ,-t3gc1~X  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7[QU *1bk  
8.9  四层抗反射薄膜 153 er^z:1'  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 B}gi /  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \i "I1xU  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 =R!=uml(  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 O%A:2Y79  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ;'dw`)~jQ  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 R 3 Eh47  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 +GgWd=X.Y  
8.17  1/4波长堆栈 162 FqQm *k_  
8.18  陷波滤波器 163 yEtSyb~GK  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 JTpKF_Za<  
8.20  褶皱 165 e6k}-<W*q  
8.21  消偏振分光器1 169 X^?<, Y)1.  
8.22  消偏振分光器2 171 xzy7I6X  
8.23  消偏振立体分光器 172 ];^A8?  
8.24  消偏振截止滤光片 173 6 EE7<&  
8.25  立体偏振分束器1 174 Rs{L  
8.26  立方偏振分束器2 177 09eS&J<R  
8.27  相位延迟器 178 @h X  
8.28  红外截止器 179 >c\'4M8Cz  
8.29  21层长波带通滤波器 180 J:'cj5@  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ,|"tLN *m  
8.31  55层短波带通滤波器 182 D<#+ R"  
8.32  47 红外截止器 183 ]OM|Oo  
8.33  宽带通滤波器 184 CY0|.x  
8.34  诱导透射滤波器 186 [L|H1ll  
8.35  诱导透射滤波器2 188 b'O>&V`  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 4<70mUnt  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 xqO'FQO%  
8.35  增益平坦滤波器 193 ;) 5d wq  
8.38  啁啾反射镜 1 196 b3MgJT"mN  
8.39  啁啾反射镜2 198 cuBOE2vB.  
8.40  啁啾反射镜3 199 2JYyvJ>  
8.41  带保护层的铝膜层 200 D.j'n-yw  
8.42  增加铝反射率膜 201 1s=M3m&H  
8.43  参考文献 202 {~k /xM.-  
9  多层膜 204  {IYfq)c  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 y;yXOE_  
9.2  内部透过率 204 &'N{v@Oi)  
9.3 内部透射率数据 205 8}\VlH]  
9.4  实例 206 0MF[e3)a  
9.5  实例2 210 ['sj'3cW-  
9.6  圆锥和带宽计算 212  1SP )`Q  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 #c'yAa  
10  光学薄膜的颜色 216 p8oOm>B96n  
10.1  导言 216 ?zQ\u{]=  
10.2  色彩 216 :f ybH)*  
10.3  主波长和纯度 220 92WvD  
10.4  色相和纯度 221 3)T'&HKQ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 dfiA- h  
10.6 色差 226 vmvk  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 rm;'/l8Y-E  
10.8  颜色渲染指数 234 2Auhv!xV  
10.9  色差计算 235 k8F<j)"  
10.10  参考文献 236 wW1aG  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 pB&3JmgR$)  
11.1  短脉冲 238 >:Na^+c  
11.2  群速度 239 UQaLhK v:  
11.3  群速度色散 241  VljAAt  
11.4  啁啾(chirped) 245 `g<@F^x5  
11.5  光学薄膜—相变 245 D*o_IrG_(  
11.6  群延迟和延迟色散 246 %UI.E=`n  
11.7  色度色散 246 VtUe$ft  
11.8  色散补偿 249 V'#dY~E-P  
11.9  空间光线偏移 256 }BKEz[G(  
11.10  参考文献 258 cZ k? o  
12  公差与误差 260 II3)Cz}xRG  
12.1  蒙特卡罗模型 260 =zDU!< U  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Yew n  
12.2.1  误差工具 267 -/ ; y*mP  
12.2.2  灵敏度工具 271 @v ss:'l  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 -X'HZ\)  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,G!M?@Q  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 od{Y` .<  
12.3  参考文献 276 R5g -b2Lm  
13  Runsheet 与Simulator 277 |Up+Kc:z/n  
13.1  原理介绍 277 FAfk;<#'n+  
13.2  截止滤光片设计 277 UQ:H3  
14  光学常数提取 289 8;ke,x  
14.1  介绍 289 >N@tInE  
14.2  电介质薄膜 289 Yc3\NqQM  
14.3  n 和k 的提取工具 295 a*$to/^r  
14.4  基底的参数提取 302 7*^-3Tt83  
14.5  金属的参数提取 306 x9Fga_  
14.6  不正确的模型 306 _7'9omq@  
14.7  参考文献 311 ;n%SjQ'%  
15  反演工程 313 ];Z)=y,vM  
15.1  随机性和系统性 313 Tz4,lwuWX7  
15.2  常见的系统性问题 314 :6S!1roi  
15.3  单层膜 314 !Y>lAxd  
15.4  多层膜 314 +>/ariRr  
15.5  含义 319 .+MJ' bW  
15.6  反演工程实例 319 8W#/=Xh?  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 CL.JalR`b  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 mEfI2P)#|  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 lqn7$  
16.1  光学性质的热致偏移 329 au@ LQxKQ  
16.2  应力工具 335 'DO^($N  
16.3  均匀性误差 339 HS XS%v/Y  
16.3.1  圆锥工具 339 7cW9@xPe  
16.3.2  波前问题 341 f uQbDb&  
16.4  参考文献 343 (+6 8s9XS7  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 Ni#!C:q  
17.1  引言 345 GL[#XB>n  
17.2  操作数 345 <nlZ?~%}  
18  如何在Function中编写脚本 351 11[[Hk X@  
18.1  简介 351 ZQXv-"  
18.2  什么是脚本? 351 oW(lQ'"  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 {STOWuY  
18.4  基础 352 fOJ 0#^Z  
18.4.1  Classes(类别) 352 l9KL P  
18.4.2  对象 352 xI}o8GKQq  
18.4.3  信息(Messages) 352 8@]*X,umc  
18.4.4  属性 352 5LdVcXf  
18.4.5  方法 353 to,DN2rN  
18.4.6  变量声明 353 *GleeJWz  
18.5  创建对象 354 w F6ywr  
18.5.1  创建对象函数 355 =}>wxO  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 G6(k wv4  
18.5.3 丢弃对象 356 :Rv ?>I j  
18.5.4  总结 356 (MhC83|?  
18.6  脚本中的表格 357 !l|v O(  
18.6.1  方法1 357 I$/*Pt];  
18.6.2  方法2 357 +^ a9i5  
18.7 2D Plots in Scripts 358 b&[9m\AX`  
18.8 3D Plots in Scripts 359 :f%FM&b  
18.9  注释 360 (XA=d 4  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 yTzP{I  
18.11  一个更高级的脚本 362 5OeTOI()&5  
18.12  <esc>键 364 YL-/z4g  
18.13 包含文件 365 KiYO,nD;\  
18.14  脚本被优化调用 366 1{l18B`  
18.15  脚本中的对话框 368 u$ C@0d  
18.15.1  介绍 368 9<u^.w  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 #[0:5$-[  
18.15.3  输入框函数 370 Ck;O59A"&-  
18.15.4  自定义对话框 371 @)s;u}H  
18.15.5  对话框编辑器 371 fHhm)T8KB  
18.15.6  控制对话框 377 uw!  
18.15.7  更高级的对话框 380 h07Z.q ;  
18.16 Types语句 384 e9e%8hL  
18.17 打开文件 385 MJNY#v3  
18.18 Bags 387 d\aKGq;8C  
18.13  进一步研究 388 *z[G+JX  
19  vStack 389 [M>Md-pj  
19.1  vStack基本原理 389 0q'd }DW  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Ww5c9orXn  
19.3  五棱镜 393 I@Zd<Rn  
19.4 光束距离 396 RrrW0<Ed  
19.5 误差 399 t`NZ_w /  
19.6  二向分色棱镜 399 #p& &w1  
19.7  偏振泄漏 404 -c-af%xD  
19.8  波前误差—相位 405 2WQKj9iyN  
19.9  其它计算参数 405 x ,$N!X  
20  报表生成器 406 Gr9/@U+  
20.1  入门 406 5\93-e  
20.2  指令(Instructions) 406 qu]ch&"?U  
20.3  页面布局指令 406 /2}o:vLj  
20.4  常见的参数图和三维图 407 r /v'h@  
20.5  表格中的常见参数 408 &:}e`u@5|  
20.6  迭代指令 408 #qkokV6`  
20.7  报表模版 408 +./c=o/v  
20.8  开始设计一个报表模版 409 dxqVZksg(9  
21  一个新的project 413 KHwzQ<Z3  
21.1  创建一个新Job 414 ] jbQou@  
21.2  默认设计 415 9$,x^Qx  
21.3  薄膜设计 416 eduaG,+k7p  
21.4  误差的灵敏度计算 420 pR_cI]{=SA  
21.5  显色指数计算 422 v|5:;,I  
21.6  电场分布 424 D|-^}I4  
后记 426 d:/8P985  
 2|'v[  
!iKR~&UpAL  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 m-f"EFmP  
>! +.M9  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
q6A!xQs<  
R=M"g|U6  
目  录 JA W}]:jC  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 &`>[4D*  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 )"?6EsSF  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Ol,;BZHc\  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 .qVz rS  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 gfE<XrG  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Zgp]s+%E  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 mv@cGdxu  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 EtN@ 6xP  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 @|Z:7n6S  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 "zW3d KVc  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 1);$#Dlt k  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 =! v.VF\;  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 WqN=  D5  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 [?)=3Pp  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /64jO?mp  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ~ILig}I  
H+ra w/"  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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