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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 %S$P<nKN5  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 --S1p0  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 0L->e(Vf7u  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 ;Fo%R$y  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 "LwLTPC2  
[attachment=120542] i rjOGn  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 U}#3 LFr.?  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 VT>TmfN(I  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 &xhwx>C`K  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 4OX2GH=W  
1. Essential Macleod软件介绍 l=|>9,La  
1.1 介绍软件 -DVoO2|Dv  
1.2 创建一个简单的设计 L{pz)')I  
1.3 绘图和制表来表示性能 e>F i  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 b#uNdq3  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) #%Hk-a=>)#  
1.6 特定设计的公式技术 -|z ]Ir  
1.7 交互式绘图 ;$a+ >  
2. 光学薄膜理论基础 QR+xPY~  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 "Wz8f  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _ MsO2A  
3. 材料管理 Bb[WtT}=  
3.1 材料模型 { ^J/S}L]  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 [zC1LTXe  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 <v=$A]K  
3.4 基板光学常数的提取 ]et ]Vkg  
4. 光学薄膜设计优化方法 IOfxx>=3  
4.1 参考波长与g +N6IdDN3  
4.2 四分之一规则 I45 kPfu  
4.3 导纳与导纳图 D =+md  
4.4 斜入射光学导纳 }n Ea9h  
4.5 光学薄膜设计的进展 `Wl_yC_*G;  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 RGu`Jk  
4.6.1 优化目标设置 HbI'n,+  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 8=K%7:b  
4.6.3 膜层锁定和链接 a/\SPXQ/9  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 "U"phLX  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 |mMK9OEu  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 ^cUmLzM  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 M2kvj'WWq  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 V jdu9Ez  
5.5 如何在Function中编写脚本 ._E 6?  
6. 光学薄膜系统案例 8A jQPDn+  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 c>|1%}"?  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 qix$ }(P  
6.3 Stack应用范例说明 @=7[KMb  
7. 薄膜性能分析 f};RtRo2  
7.1 电场分布 L[s`8u<_)z  
7.2 公差与灵敏度分析 3u 'VPF2  
7.3 反演工程 =:M/hM)#  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 B_uhNLd  
8. 真空技术 v~*Co}0OB  
8.1 常用真空泵介绍 oSf6J:?*e  
8.2 真空密封和检漏 A=Y A#0  
9. 薄膜制备技术 |Q(3rcOrV"  
9.1 常见薄膜制备技术 4 -CGe  
10. 薄膜制备工艺 !.G knDT  
10.1 薄膜制备工艺因素 dEhFuNO<2  
10.2 薄膜均匀性修正技术 _4f=\  
10.3 光学薄膜监控技术 @*16agGg  
11. 激光薄膜 Zt"#'1  
11.1 薄膜的损伤问题 {X\%7Zef+  
11.2 激光薄膜的制备流程 KqL+R$??"(  
11.3 激光薄膜的制备技术 1gA^Qv~?  
12. 光学薄膜特性测量 .GSK!1{@  
12.1 薄膜光谱测量 "X(9.6$_  
12.2 薄膜光学常数测量 O:]e4r,'  
12.3 薄膜应力测量 yMz dM&a!*  
12.4 薄膜损伤测量 b$eN]L   
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
^, &'  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
aBd>.]l?  
内容简介 SIZ&0V  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ez/>3:;  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _ea|E  8  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HEk{!Y  
hAV@/oQ  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
y]okOEV0  
h3[x ZJO  
目录 [ KDNKK  
Preface 1 }*P?KV (  
内容简介 2 [k]3#<sS  
目录 i YfstE3BV  
1  引言 1 IkuE|  
2  光学薄膜基础 2  9+ A~(  
2.1  一般规则 2 ]&?8l:3-G  
2.2  正交入射规则 3 ;d .gVR_V  
2.3  斜入射规则 6 IvX+yU  
2.4  精确计算 7 =D`:2k~ ,  
2.5  相干性 8 >qU5(M_&L  
2.6 参考文献 10 l*z+<c6$_  
3  Essential Macleod的快速预览 10 #Ibpf ,  
4  Essential Macleod的特点 32 7.*Mmx~]=  
4.1  容量和局限性 33 d3]<'B:nb  
4.2  程序在哪里? 33 Ftdx+\O_i&  
4.3  数据文件 35 2xBYJoF(  
4.4  设计规则 35 7fC:' 1]G  
4.5  材料数据库和资料库 37 m@W>ku  
4.5.1材料损失 38 3>6rO4,  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 G-TD9OgZ  
4.5.2 材料库 41 #0:rBKm,  
4.5.3导出材料数据 43 b(Yxsy{U  
4.6  常用单位 43 Yw6uh4  
4.7  插值和外推法 46 6@x^,SA  
4.8  材料数据的平滑 50 R:`)*=rL%  
4.9 更多光学常数模型 54 I uC7Hx`z  
4.10  文档的一般编辑规则 55 -br): }f  
4.11 撤销和重做 56 wg4Ol*y'  
4.12  设计文档 57 C^fn[plL  
4.10.1  公式 58 o;u~Yg  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "vfpG7CG  
4.10.3  沉积密度 59 N<O<wtXIj  
4.10.4 平行和楔形介质 60 cEIs9;  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 k+zskfo  
4.10.4  性能 61 txiX1o!/L  
4.10.5  保存设计和性能 64 #fDM{f0]R  
4.10.6  默认设计 64 `<6FCn4{X  
4.11  图表 64 :eH\9$F`x;  
4.11.1  合并曲线图 67 nwVW'M]r  
4.11.2  自适应绘制 68 c=D~hzN  
4.11.3  动态绘图 68 BdP+>Ij  
4.11.4  3D绘图 69 Y[s}?Xu]w#  
4.12  导入和导出 73 HLCI  
4.12.1  剪贴板 73 Ab8Ke|fA  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 mRy0zN>?  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 !j& #R%D  
4.13  背景 77 F#~*j  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 VHG}'r9KC%  
4.15  生成Rugate 84 7u:QT2=&  
4.16  参考文献 91 lHFk~Qp[  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 o%OwKp s  
5.1  Jobs 92 uQ%3?bx)T  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 }nptmc  
5.3  输入材料 94 Q)=2%X  
5.4  设计数据文件夹 95 ,'n`]@0?\  
5.5  默认设计 95 !AG {`[b  
6  细化和合成 97 @SI,V8i  
6.1  优化介绍 97 2$'bOo  
6.2  细化 (Refinement) 98 )SJ"IY\P  
6.3  合成 (Synthesis) 100 tNQACM8F;  
6.4  目标和评价函数 101 dl(!{tZ#  
6.4.1  目标输入 102 Lf`<4 P  
6.4.2  目标 103 +$F,!rV-s  
6.4.3  特殊的评价函数 104 e>P>DmlW  
6.5  层锁定和连接 104 J06 D_'{  
6.6  细化技术 104 $EL:Jx2<  
6.6.1  单纯形 105 mNsd&Rk'  
6.6.1.1 单纯形参数 106 EeGTBVms  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 s{*bFA Z1F  
6.6.2.1 Optimac参数 108 L4ZB0PmN'  
6.6.3  模拟退火算法 109 !="8ok+  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 m ?*h\NaB  
6.6.4  共轭梯度 111 !Sl_qL  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 &}t8O?!  
6.6.5  拟牛顿法 112 ,YJn=9pTl  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 g@.e%  
6.6.6  针合成 113 .#Z"Sj  
6.6.6.1 针合成参数 114  ?<T=g  
6.6.7 差分进化 114 r]U8WM3r  
6.6.8非局部细化 115 SXC 7LJm<g  
6.6.8.1非局部细化参数 115 /&9R*xNST#  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 l&5Tft  
6.7.1  细化 116 @<&u;8y-Cn  
6.7.2  合成 117 v3G$9 (NE;  
6.8  参考文献 117 rs,'vV-2\  
7  导纳图及其他工具 118 HA[7)T N1E  
7.1  简介 118 4_# (y^9  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 //RD$e?h~  
7.2.1  四分之一波长规则 119 *U$%mZS]1  
7.2.2  导纳图 120 8A}<-?>  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 D/=k9[b!  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 8m?cvI  
7.5  斜入射导纳图 141 g+7j?vC{'  
7.6  对称周期 141 j6j4M,UI43  
7.7  参考文献 142 xdVsbW)L2  
8  典型的镀膜实例 143 IVVX3RI  
8.1  单层抗反射薄膜 145 h6}rOchj  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146  y(#6nG@S  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 T^{=cx9x9  
8.4  W-膜层 148 2H`>Kj  
8.5  V-膜层 149 y0p\Gu;3j  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ^+0>,-)F  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 dkqyn"^  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7u rD  
8.9  四层抗反射薄膜 153 X<5&R{oZ  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 G&t|aY-   
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 rHuzGSX54  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 wEN[o18{  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 suYbD!`(  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 6G}4KGQc  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 .*X=[" F  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 J#q^CWN3R  
8.17  1/4波长堆栈 162 |>1#)cONW  
8.18  陷波滤波器 163 ,`YIcrya:  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 @sW!g;\T  
8.20  褶皱 165 bAy\Sr #/  
8.21  消偏振分光器1 169 uy<<m"cA;  
8.22  消偏振分光器2 171 gI"cZ h3}  
8.23  消偏振立体分光器 172 D6"d\F m<  
8.24  消偏振截止滤光片 173 }Oqt=Wm  
8.25  立体偏振分束器1 174 \;!7IIe#  
8.26  立方偏振分束器2 177 (;H% r &  
8.27  相位延迟器 178 M?o_J4  
8.28  红外截止器 179 4#:C t* f  
8.29  21层长波带通滤波器 180 !6z{~Z:   
8.30  49层长波带通滤波器 181 )eqF21\  
8.31  55层短波带通滤波器 182 hztqZ:  
8.32  47 红外截止器 183 F/[m.!Eo  
8.33  宽带通滤波器 184 P,(_y8  
8.34  诱导透射滤波器 186 X?;iSekI4  
8.35  诱导透射滤波器2 188 9MQjSNYzo  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Mz86bb^J  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 TB=_r(:l+  
8.35  增益平坦滤波器 193 IYHNN  
8.38  啁啾反射镜 1 196 #?,"/Btq  
8.39  啁啾反射镜2 198 NciIqF  
8.40  啁啾反射镜3 199 >3~)2)Q  
8.41  带保护层的铝膜层 200 7%[ YX  
8.42  增加铝反射率膜 201 /k(wb4Hv  
8.43  参考文献 202  cV_-Bcb  
9  多层膜 204 C\vOxBAB  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 g \ou+M#  
9.2  内部透过率 204 ZHlHnUo  
9.3 内部透射率数据 205 mahNQ5W*)  
9.4  实例 206 }Z t#OA $  
9.5  实例2 210 K4+|K:e  
9.6  圆锥和带宽计算 212 !H<%X~|,  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Rha|Rk~  
10  光学薄膜的颜色 216 lN0u1)'2  
10.1  导言 216 4i5b.b U$  
10.2  色彩 216 HgBu:x?&  
10.3  主波长和纯度 220 4sW~7:vU  
10.4  色相和纯度 221 bI_MF/r''  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 z.?slYe[  
10.6 色差 226 %iJ}H6m  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ,V^$Meh  
10.8  颜色渲染指数 234 ;t,v/(/3  
10.9  色差计算 235 @8+v6z  
10.10  参考文献 236 {"2CI^!/U.  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 TJ_6:;4,|_  
11.1  短脉冲 238 y$_]}<b  
11.2  群速度 239 8?x:PkK  
11.3  群速度色散 241 ?Zk;NL9  
11.4  啁啾(chirped) 245 $<Y%4LI  
11.5  光学薄膜—相变 245 jzZ]+'t  
11.6  群延迟和延迟色散 246 N8x.D-=gG  
11.7  色度色散 246 %tZrP$DQ  
11.8  色散补偿 249 ZLPj1L  
11.9  空间光线偏移 256 ]*Q,~uV^|  
11.10  参考文献 258 {MTtj4$  
12  公差与误差 260 };EB  
12.1  蒙特卡罗模型 260 UI%4d3   
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ^tI&5S]nE  
12.2.1  误差工具 267 |JP'j1 Ka  
12.2.2  灵敏度工具 271 ; sqxFF@  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?r5a*  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Jf\`?g3#  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 mZmEE2h  
12.3  参考文献 276 -5|el3%)  
13  Runsheet 与Simulator 277 Q<ia  
13.1  原理介绍 277 [TFp2B~)#  
13.2  截止滤光片设计 277 vts"  
14  光学常数提取 289 ;Ru[^p.{  
14.1  介绍 289 pG"h ZB3)  
14.2  电介质薄膜 289 ;ceg:-Zqo  
14.3  n 和k 的提取工具 295 JnIG;/  
14.4  基底的参数提取 302 Dhfor+Epy  
14.5  金属的参数提取 306 ,8d&uR}x  
14.6  不正确的模型 306 2;3&&yK2b  
14.7  参考文献 311 YnW9uy5  
15  反演工程 313 3Co1bY:  
15.1  随机性和系统性 313 [McqwU/Q  
15.2  常见的系统性问题 314 5p5"3m;M7  
15.3  单层膜 314 ]gm3|-EiY  
15.4  多层膜 314 a1u4v/Qu9  
15.5  含义 319 1uR@ZK  
15.6  反演工程实例 319 r KdsVW  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 *.+F]-  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 L~by`q N_  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 @ 'N $5  
16.1  光学性质的热致偏移 329 SW+;%+`  
16.2  应力工具 335 -yg;,nCg  
16.3  均匀性误差 339 p=Le oc1  
16.3.1  圆锥工具 339 o{n#f?EA  
16.3.2  波前问题 341 v0tFU!Q%  
16.4  参考文献 343 OYn5k6  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 7!FiPH~kM  
17.1  引言 345 ko'V8r `V  
17.2  操作数 345 _bg Zl  
18  如何在Function中编写脚本 351 :`"- Jf  
18.1  简介 351 Yl?s^]SFU  
18.2  什么是脚本? 351 aG4 ^xOD  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 61OlnmvE  
18.4  基础 352 ImH9 F\  
18.4.1  Classes(类别) 352 ]Y76~!N  
18.4.2  对象 352 99,=dzm  
18.4.3  信息(Messages) 352 /h`gQyGuY  
18.4.4  属性 352 SMRCG"3qwA  
18.4.5  方法 353 {#`wW`U^  
18.4.6  变量声明 353 S1'?"zAmd  
18.5  创建对象 354 4gdXO  
18.5.1  创建对象函数 355 l[m*csDk"  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 $AMcU5^b7  
18.5.3 丢弃对象 356 .pm%qEh  
18.5.4  总结 356 TL7qOA7^X  
18.6  脚本中的表格 357 KV9~L`=]i  
18.6.1  方法1 357 a>,_o(]cW  
18.6.2  方法2 357 8oRq3"  
18.7 2D Plots in Scripts 358 ]VtP7 Y  
18.8 3D Plots in Scripts 359 9L4;#cy  
18.9  注释 360 B> \q!dX3  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 M 0RA&  
18.11  一个更高级的脚本 362 7v0VZ(UR  
18.12  <esc>键 364 NiE`u m  
18.13 包含文件 365 v4uQ0~k~X  
18.14  脚本被优化调用 366 P *PJ  
18.15  脚本中的对话框 368 .'2I9P\!  
18.15.1  介绍 368 CtD<% v3`  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 \9od*y  
18.15.3  输入框函数 370 ;:J"- p  
18.15.4  自定义对话框 371 BePb8 k<y  
18.15.5  对话框编辑器 371 IDh`*F  
18.15.6  控制对话框 377 ]*U; }  
18.15.7  更高级的对话框 380 pm i[M)D  
18.16 Types语句 384 EQZ/v gho  
18.17 打开文件 385 [)I W9E v  
18.18 Bags 387 a[sdYZ  
18.13  进一步研究 388 Xa$%`  
19  vStack 389 0R(['s:3`  
19.1  vStack基本原理 389 hjk]?MC  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 e},:QL0X  
19.3  五棱镜 393 }S13]Kk?=  
19.4 光束距离 396 -qpM 6t  
19.5 误差 399 w Bm4~ ~_  
19.6  二向分色棱镜 399 Fy$ C._C$  
19.7  偏振泄漏 404 ~G6xk/+n-m  
19.8  波前误差—相位 405 Ag2Q!cq  
19.9  其它计算参数 405 |Dq?<Ha  
20  报表生成器 406 qvhG ^b0h  
20.1  入门 406  z{V#_(  
20.2  指令(Instructions) 406 YWV)C?5x&  
20.3  页面布局指令 406 )fS6H<*  
20.4  常见的参数图和三维图 407 P#8lO%;  
20.5  表格中的常见参数 408 3!#FG0Z   
20.6  迭代指令 408 |N 2r?b/g  
20.7  报表模版 408 WUQa2$.  
20.8  开始设计一个报表模版 409 <&)zT#"  
21  一个新的project 413 9O^~l2`  
21.1  创建一个新Job 414 Nr]guC?rE  
21.2  默认设计 415 7suT26C  
21.3  薄膜设计 416 I {%( G(  
21.4  误差的灵敏度计算 420 iF.f*3-NJB  
21.5  显色指数计算 422 Cgf4E{\U!  
21.6  电场分布 424 7.n\a@I/  
后记 426 6ZjY-)h  
A4;~+L:M  
i-dosY`81  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 BI!EmA  
07ppq?,y  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
'C:i5?zh(q  
"l#"c{ee{  
目  录 Lc-Wf zT  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 j^f54Ky.  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 37M,Os1(  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 !I91kJt7  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 (gcy3BX;  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ke/4l?zs  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 hW;n^\lF#e  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 EgzdRB\Cf  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ^EmePkPI  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200  _Vc4F_  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 _Ii=3Qsf  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 W3%RB[s-  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 , BZ(-M  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 FZ8Qj8  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 1h)K3cC  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 #AO}JP  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Q!7mN?l  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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