上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 Jv8VM\* 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 y:Ag mr,S 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ^e]h\G 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 E_0i9 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 g)}q3-<AK> [attachment=120542] It]GlxMX 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 tlYB'8bJY 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ]l"9B'XR 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 L=5Y^f'aU 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 &{bNa:@ 1. Essential Macleod软件介绍 !/]z-z2> 1.1 介绍软件 wauM|/KG 1.2 创建一个简单的设计 :|-^et]a8 1.3 绘图和制表来表示性能 S3Fj /2Q8 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Lie= DD 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) @cQ
|` 1.6 特定设计的公式技术 !FQS9SoO9 1.7 交互式绘图 6A4{6B 2. 光学薄膜理论基础 4O4}C#6(4 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 EL6<%~,V"I 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #dFE}!"#` 3. 材料管理 Y2|c;1~5$ 3.1 材料模型 u~!Pzz3" 3.2 介质薄膜光学常数的提取 Bw.?Me)mf| 3.3 金属薄膜光学常数的提取 ;,Os3 3.4 基板光学常数的提取 KDr)'gl& 4. 光学薄膜设计优化方法 JHuA}f{2& 4.1 参考波长与g pIPjTQ?cq 4.2 四分之一规则 /px`FuJI( 4.3 导纳与导纳图 @2eH;?uO 4.4 斜入射光学导纳 u&'&E
4.5 光学薄膜设计的进展 =%{E^z>1 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 91ec^g 4.6.1 优化目标设置 o}Zl/&( 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) Hiih$O+ 4.6.3 膜层锁定和链接 6-\C?w
A 5. Essential Macleod中各个模块的应用 -AXMT3p=1 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ig'4DmNC 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 w!R J8 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 BQ{'r^u 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 D7C%Y^K]>E 5.5 如何在Function中编写脚本 h:
zi8;( 6. 光学薄膜系统案例 mFyYn,Mu| 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 zeuSk|O 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 iJk/fvi 6.3 Stack应用范例说明 ?xt${?KP 7. 薄膜性能分析 6M bMAh5> 7.1 电场分布 7mYBxE/ 7.2 公差与灵敏度分析 zU#
OjvNk 7.3 反演工程 u]<`y6=&C 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 tp b(.`G 8. 真空技术 ^ |>)H 8.1 常用真空泵介绍 {'Gu@l 8.2 真空密封和检漏 eD N%p 9. 薄膜制备技术 d-"[-+)- 9.1 常见薄膜制备技术 9|hPl-.
.W 10. 薄膜制备工艺 e(k$k>? 10.1 薄膜制备工艺因素 7P DD 10.2 薄膜均匀性修正技术 gC/-7/} 10.3 光学薄膜监控技术 Ec['k&*7, 11. 激光薄膜 gR{.0e 11.1 薄膜的损伤问题 Mp^U)S+ 11.2 激光薄膜的制备流程 9'!I6;M 11.3 激光薄膜的制备技术 !B&1{ 12. 光学薄膜特性测量 }q~xr3# 12.1 薄膜光谱测量 [oS.B\Vc 12.2 薄膜光学常数测量 !n5s/"'H 12.3 薄膜应力测量 Jm}zit:o 12.4 薄膜损伤测量 +isaqfy/ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] z(beT e
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] 7033#@_
内容简介 XJf1LGT5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 O[#B906JB 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :aMp,DfM]P 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .:jfNp~jt hH@pA:`s
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 D\V
(r\i evHKq}{ 目录 y8\4TjS1 Preface 1 J Y@x.?N5$ 内容简介 2 V %Rz(a+c 目录 i qbdv 1 引言 1 VUGVIy. 2 光学薄膜基础 2 Yim` 3>#t 2.1 一般规则 2 K\>CXa 2.2 正交入射规则 3 h3:dO|Z 2.3 斜入射规则 6 ^7%
KS 2.4 精确计算 7 |/AY!Y3 2.5 相干性 8 p uLQ_MNV 2.6 参考文献 10 )haHI)xR 3 Essential Macleod的快速预览 10 {!vz 6QDS 4 Essential Macleod的特点 32 iG;GAw|E 4.1 容量和局限性 33 ^!>o5Y) 4.2 程序在哪里? 33 kP}91kja 4.3 数据文件 35 ?{I]!gI 4.4 设计规则 35 T Jp0^&Q 4.5 材料数据库和资料库 37 K.jm>]'z4; 4.5.1材料损失 38 EJ3R{^ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 9}6^5f?| 4.5.2 材料库 41 .% EEly 4.5.3导出材料数据 43 t Sf` 4.6 常用单位 43 .EUOKPK4W 4.7 插值和外推法 46 S}cm.,/w 4.8 材料数据的平滑 50 i&?do{YQ) 4.9 更多光学常数模型 54 .J3Dk=/ 4.10 文档的一般编辑规则 55 h47l;`kD-# 4.11 撤销和重做 56 x?| 4.12 设计文档 57 L3-tD67oa 4.10.1 公式 58 $?u ^hMU= 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 W:16qbK 4.10.3 沉积密度 59 u)fmXoQ 4.10.4 平行和楔形介质 60 @rVBL<!o, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 #wZ:E,R 4.10.4 性能 61 0BTLIV$d; 4.10.5 保存设计和性能 64 4!dN^;Cb 4.10.6 默认设计 64 UN}jpu<h 4.11 图表 64 -*EK-j 4.11.1 合并曲线图 67 }Ik{tUS$ 4.11.2 自适应绘制 68 G&Sp } 4.11.3 动态绘图 68 v+|N7 4.11.4 3D绘图 69 A@0%7xm 4.12 导入和导出 73 *:}NS8hP 4.12.1 剪贴板 73 6"W~%FSJX 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 <j.bG 7 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 X|7Y|0o 4.13 背景 77 \}e1\MiZ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 WeTs va+ 4.15 生成Rugate 84 rE
bC_< 4.16 参考文献 91 0VB~4NNR 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 pU*dE
5.1 Jobs 92 =,~h]_\_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 j9za)G-J 5.3 输入材料 94 ;?i(WV}ee 5.4 设计数据文件夹 95 +BRmqJ3 5.5 默认设计 95 Z?5kO-[ 6 细化和合成 97 5u\si4 BL{ 6.1 优化介绍 97 oP".>g-. 6.2 细化 (Refinement) 98 WKQVT I&A. 6.3 合成 (Synthesis) 100 t "J"G@1) 6.4 目标和评价函数 101 v 6?{g 6.4.1 目标输入 102 qF(F<$B 6.4.2 目标 103 q@p-)+D; 6.4.3 特殊的评价函数 104 Y$ ;C@I 6.5 层锁定和连接 104 RTNUHz;{L 6.6 细化技术 104 XnQo0
R.PW 6.6.1 单纯形 105 bO:Ei 6.6.1.1 单纯形参数 106 g`!:7|&,_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 }xHoitOD 6.6.2.1 Optimac参数 108 _{o=I?+] 6.6.3 模拟退火算法 109 B8_w3;x 6.6.3.1 模拟退火参数 109 z$E+xZ 6.6.4 共轭梯度 111 Dqe/n_Z 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 jl=<Q.Mm7 6.6.5 拟牛顿法 112 qDO4&NO 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3Bz0B a 6.6.6 针合成 113 A:EF#2)g 6.6.6.1 针合成参数 114 QH6Lb%]/ 6.6.7 差分进化 114 dvk?A$ 6.6.8非局部细化 115 \c+)Y}:D 6.6.8.1非局部细化参数 115 *lg1iP{] 6.7 我应该使用哪种技术? 116 qbkvwL9 6.7.1 细化 116 %,GY&hTw 6.7.2 合成 117 &2{h]V6 6.8 参考文献 117 nv(Pwb3B 7 导纳图及其他工具 118 o*\kg+8 7.1 简介 118 sD.bBz 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Ay!=Yk^~ 7.2.1 四分之一波长规则 119 S?%V o* Y 7.2.2 导纳图 120 ?MuM _6 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 f8)D| 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 sf]y\_zU 7.5 斜入射导纳图 141 LKG],1n- 7.6 对称周期 141 #JGy2Hk$^ 7.7 参考文献 142 l0g#&V-- 8 典型的镀膜实例 143 (j+C&*u 8.1 单层抗反射薄膜 145 wYhWRgP 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 *~fZ9EkD 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %FQMB 8.4 W-膜层 148 V#|#%
8 8.5 V-膜层 149 /g712\?M4 8.6 V-膜层高折射基底 150 'bkecC 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ,-t3gc1~X 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7[QU
*1bk 8.9 四层抗反射薄膜 153 er^z:1' 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 B} gi / 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \i "I1xU 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 =R!=uml( 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 O%A:2Y79 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ;'dw`)~jQ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 R3Eh47 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 +GgWd=X.Y 8.17 1/4波长堆栈 162 FqQm*k_ 8.18 陷波滤波器 163 yEtSyb~GK 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 JTpKF_Za< 8.20 褶皱 165 e6k}-<W*q 8.21 消偏振分光器1 169 X^?<, Y)1. 8.22 消偏振分光器2 171 xzy7I6X 8.23 消偏振立体分光器 172 ];^A8? 8.24 消偏振截止滤光片 173 6
EE7<& 8.25 立体偏振分束器1 174 Rs{L 8.26 立方偏振分束器2 177 09 eS&J<R 8.27 相位延迟器 178 @h
X 8.28 红外截止器 179 >c\'4M8Cz 8.29 21层长波带通滤波器 180 J:'cj5@ 8.30 49层长波带通滤波器 181 ,|"tLN*m 8.31 55层短波带通滤波器 182 D<#+ R" 8.32 47 红外截止器 183 ]OM|Oo 8.33 宽带通滤波器 184 CY0|.x 8.34 诱导透射滤波器 186 [L|H1ll 8.35 诱导透射滤波器2 188 b'O>&V` 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 4<70mUnt 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 xqO'FQO% 8.35 增益平坦滤波器 193 ;)5d
wq 8.38 啁啾反射镜 1 196 b3MgJT"mN 8.39 啁啾反射镜2 198 cuBOE2vB. 8.40 啁啾反射镜3 199 2JYyvJ> 8.41 带保护层的铝膜层 200 D.j'n-yw 8.42 增加铝反射率膜 201 1s=M3m&H 8.43 参考文献 202 {~k/xM.- 9 多层膜 204 {IYfq)c 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 y;yXOE_ 9.2 内部透过率 204 &'N{v@Oi) 9.3 内部透射率数据 205 8}\VlH] 9.4 实例 206 0MF[e3)a 9.5 实例2 210 ['sj'3cW- 9.6 圆锥和带宽计算 212 1SP)`Q 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 #c'yAa 10 光学薄膜的颜色 216 p8oOm>B96n 10.1 导言 216 ?zQ\u{]= 10.2 色彩 216 :f ybH)* 10.3 主波长和纯度 220 92WvD 10.4 色相和纯度 221 3)T'&HKQ 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 dfiA- h 10.6 色差 226 vmvk 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 rm;'/l8Y-E 10.8 颜色渲染指数 234 2Auhv!xV 10.9 色差计算 235 k8F<j)" 10.10 参考文献 236 w W1aG 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 pB&3JmgR$) 11.1 短脉冲 238 >:Na^ +c 11.2 群速度 239 UQaLhKv: 11.3 群速度色散 241 VljAAt 11.4 啁啾(chirped) 245 `g<@F^x5 11.5 光学薄膜—相变 245 D*o_IrG_( 11.6 群延迟和延迟色散 246 %UI.E=`n 11.7 色度色散 246 VtUe$ft 11.8 色散补偿 249 V'#dY~E-P 11.9 空间光线偏移 256 }BKEz[G( 11.10 参考文献 258 cZk?o 12 公差与误差 260 II3)Cz}xRG 12.1 蒙特卡罗模型 260 =zDU!< U 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Yewn 12.2.1 误差工具 267 -/ ;y*mP 12.2.2 灵敏度工具 271 @vss:'l 12.2.2.1 独立灵敏度 271 -X'HZ\) 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,G!M?@Q 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 od{Y`
.< 12.3 参考文献 276 R5g-b2Lm 13 Runsheet 与Simulator 277 |Up+Kc:z/n 13.1 原理介绍 277 FAfk;<#'n+ 13.2 截止滤光片设计 277 UQ:H3 14 光学常数提取 289 8;ke,x 14.1 介绍 289 >N@tInE 14.2 电介质薄膜 289 Yc3\NqQM 14.3 n 和k 的提取工具 295 a*$to/^r 14.4 基底的参数提取 302 7*^-3Tt83 14.5 金属的参数提取 306 x9Fga _ 14.6 不正确的模型 306 _7'9omq@ 14.7 参考文献 311 ;n%SjQ'% 15 反演工程 313 ];Z)=y,vM 15.1 随机性和系统性 313 Tz4,lwuWX7 15.2 常见的系统性问题 314 :6S!1roi 15.3 单层膜 314 !Y>lAx d 15.4 多层膜 314 +>/ariRr 15.5 含义 319 .+MJ' bW 15.6 反演工程实例 319 8W#/=Xh? 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 CL.JalR`b 15.6.2 反演工程提取折射率 327 mEfI2P)#| 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 lqn7$ 16.1 光学性质的热致偏移 329 au@ LQxKQ 16.2 应力工具 335 'DO^ ($N 16.3 均匀性误差 339 HS XS%v/Y 16.3.1 圆锥工具 339 7cW9@xPe 16.3.2 波前问题 341 f uQbDb& 16.4 参考文献 343 (+68s9XS7 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 Ni#!C:q 17.1 引言 345 GL[#XB>n 17.2 操作数 345 <nlZ?~%} 18 如何在Function中编写脚本 351 11[[H kX@ 18.1 简介 351 ZQXv-" 18.2 什么是脚本? 351 oW(lQ'" 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 {STOWuY 18.4 基础 352 fOJ0#^Z 18.4.1 Classes(类别) 352 l9KLP 18.4.2 对象 352 xI}o8G KQq 18.4.3 信息(Messages) 352 8@]*X,umc 18.4.4 属性 352 5LdVcXf 18.4.5 方法 353 to,DN2rN 18.4.6 变量声明 353 *GleeJWz 18.5 创建对象 354 w
F6ywr 18.5.1 创建对象函数 355 =}>wxO 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 G6(kwv4 18.5.3 丢弃对象 356 :Rv?>I j 18.5.4 总结 356 (MhC83|? 18.6 脚本中的表格 357 !l|vO( 18.6.1 方法1 357 I$/*Pt]; 18.6.2 方法2 357 +^ a9i5 18.7 2D Plots in Scripts 358 b&[9m\AX` 18.8 3D Plots in Scripts 359 :f%FM&b 18.9 注释 360 (XA=d
4 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 yTzP{I 18.11 一个更高级的脚本 362 5OeTOI()&5 18.12 <esc>键 364 YL-/z4g 18.13 包含文件 365 KiYO,nD;\ 18.14 脚本被优化调用 366 1{l18B` 18.15 脚本中的对话框 368
u$ C@0d 18.15.1 介绍 368 9<u^.w 18.15.2 消息框-MsgBox 368 #[0:5$-[ 18.15.3 输入框函数 370 Ck;O59A"&- 18.15.4 自定义对话框 371 @)s;u}H 18.15.5 对话框编辑器 371 fHhm)T8KB 18.15.6 控制对话框 377 uw! 18.15.7 更高级的对话框 380 h07Z.q ; 18.16 Types语句 384 e9e%8hL 18.17 打开文件 385 MJNY#v3 18.18 Bags 387 d\aKGq;8C 18.13 进一步研究 388 *z[G+JX 19 vStack 389 [M>Md-pj 19.1 vStack基本原理 389 0q'd }D W 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 Ww5c9orXn 19.3 五棱镜 393 I@Zd< |