上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 qW`DCZu 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 mwO9`AU; 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 {Kz!)uaC 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 u4h.\ul8% 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 p# JPLCs [attachment=120542] KzQuLD(e 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 QYc/f"9 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 iX-.mq$ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 x27$h)R0v 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 CbFO9q 1. Essential Macleod软件介绍 >dXB)yl 1.1 介绍软件 %xA-j]%?ep 1.2 创建一个简单的设计 8ib e#jlg 1.3 绘图和制表来表示性能 \%_sL#? 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 +2>, -V 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) M[cAfu 1.6 特定设计的公式技术 V/tl-;W 1.7 交互式绘图 1BSn#Dnj 2. 光学薄膜理论基础 ]e$n ;tuW 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 9M-W 1prb 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 5t|$Yt[ 3. 材料管理 ^UBzX;|p 3.1 材料模型 OZ/"W)
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ~5>TMIDiuR 3.3 金属薄膜光学常数的提取 *Ag3qnY 3.4 基板光学常数的提取 9'p*7o 4. 光学薄膜设计优化方法 / 2MhP=, 4.1 参考波长与g WR_B:%W. 4.2 四分之一规则 %Vfr#j$= 4.3 导纳与导纳图 &~'i,v|E 4.4 斜入射光学导纳 r@PVSH/ 4.5 光学薄膜设计的进展 lT~WP)
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Wu/:ES)C 4.6.1 优化目标设置 /T2 v`Li 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) }"[/BT5t 4.6.3 膜层锁定和链接 X9?0`6Li 5. Essential Macleod中各个模块的应用 HkY#i;%N 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 R
G~GVf 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 \+&)9 !K 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 v^ v \6uEP 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 qpzyl~g:C 5.5 如何在Function中编写脚本 )u0/s' 6. 光学薄膜系统案例 bdEIvf7 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 5W=Jn?y2 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 Tl#2w= 6.3 Stack应用范例说明 QZ[S,
c^ 7. 薄膜性能分析 o_5[}d 7.1 电场分布 X&Sah}0V& 7.2 公差与灵敏度分析 PDLps[a 7.3 反演工程 '8FHn~F 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 /1uGsE+[ 8. 真空技术 /82E[P"}6R 8.1 常用真空泵介绍 c= ?Tu 8.2 真空密封和检漏 GkI{7GD:z 9. 薄膜制备技术 wWSE[S$V 9.1 常见薄膜制备技术 Tt=;of{ 10. 薄膜制备工艺 #%L_wJB- 10.1 薄膜制备工艺因素 HrMbp 10.2 薄膜均匀性修正技术 [;o>q;75Jz 10.3 光学薄膜监控技术 <fA}_BH%] 11. 激光薄膜 D&pX0 11.1 薄膜的损伤问题 O@w_"TJP/z 11.2 激光薄膜的制备流程 ]z| 2 11.3 激光薄膜的制备技术 t<RPDQ> 12. 光学薄膜特性测量 q8,,[R_ 12.1 薄膜光谱测量 UUa@7|x 12.2 薄膜光学常数测量 wDW/?lT& 12.3 薄膜应力测量 G*~CB\K_ 12.4 薄膜损伤测量 .[1@wW&L 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] 52^,qP'6
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] 6Q{OM:L/;.
内容简介 S,f#g?V Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 JSaF7(a = 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 sP~xe( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 .Yz^r?3t 0}|%pmY`
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日
'-$cvH7_ I]3!M`IMG 目录 n36iY'<) G Preface 1 MmFtG- 内容简介 2 =Lnip<t>ja 目录 i +8"P*z, 1 引言 1 FIu^Qd 2 光学薄膜基础 2 n-,mC/4 2.1 一般规则 2 %;<g!Vw.k 2.2 正交入射规则 3 ?ef7%0 2.3 斜入射规则 6 L:Mjd47L 2.4 精确计算 7 ml!c0< 2.5 相干性 8 q]*jTb 2.6 参考文献 10 Y]5MM:mI 3 Essential Macleod的快速预览 10 O`aNNy 4 Essential Macleod的特点 32 $D D esy3 4.1 容量和局限性 33
bf2r8 4.2 程序在哪里? 33 ;vbMC74J# 4.3 数据文件 35 }OTJ{eG 4.4 设计规则 35 ^&$86-PB/ 4.5 材料数据库和资料库 37 !\O!Du 4.5.1材料损失 38 %az6\"n 4.5.1材料数据库和导入材料 39 EWv[Sp 4.5.2 材料库 41 F" 4;nU 4.5.3导出材料数据 43 u,N<U t 4.6 常用单位 43 VUz+_) 4.7 插值和外推法 46 ^L8:..+: 4.8 材料数据的平滑 50 w ykaf 4.9 更多光学常数模型 54 obPG]*3 4.10 文档的一般编辑规则 55 [;ZC_fD 4.11 撤销和重做 56 fL]jk1.Xv- 4.12 设计文档 57 F~bDg tN3 4.10.1 公式 58 f&RjvVP?s 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
:Gx5vo 4.10.3 沉积密度 59 {))Cb9' 4.10.4 平行和楔形介质 60 W
)Ps2 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 >l=^3B,j 4.10.4 性能 61 qElPYN*wF 4.10.5 保存设计和性能 64 Dk8@x8
4.10.6 默认设计 64 ;cp||uO 4.11 图表 64 f|)~_JH 4.11.1 合并曲线图 67 v$g\]QS
p 4.11.2 自适应绘制 68 peOoZdJd 4.11.3 动态绘图 68 gkKNOus 4.11.4 3D绘图 69 #CB Kt, 4.12 导入和导出 73 (N)>?r@n` 4.12.1 剪贴板 73 Rtl1eJ- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lLglF4 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 fE3%$M[V7 4.13 背景 77 `9P`f4x 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 R|wS*xd , 4.15 生成Rugate 84 bT|-G2g7Z 4.16 参考文献 91 yMD0Tj5ZQ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Cn5;h(r 5.1 Jobs 92 Pj{I}4P` 5.2 创建一个新Job(工作) 93 =ReSlt 5.3 输入材料 94 \YF07L]qs- 5.4 设计数据文件夹 95 nHp$5|r< 5.5 默认设计 95 lk
/Ke 6 细化和合成 97 "I{Lcn~!@ 6.1 优化介绍 97 Ap |g[J 6.2 细化 (Refinement) 98 jJ,y+o 6.3 合成 (Synthesis) 100 Ra:UnA 6.4 目标和评价函数 101 c%+uji6 6.4.1 目标输入 102 B+pLW/4l 6.4.2 目标 103 s;]"LD@ 6.4.3 特殊的评价函数 104 +~M.VsX 6.5 层锁定和连接 104 %e|UA-( 6.6 细化技术 104 `49!di[ 6.6.1 单纯形 105 R"\(a 6.6.1.1 单纯形参数 106 s*eM}d.p 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \nL@P6X 6.6.2.1 Optimac参数 108 Rd5pLrr[0) 6.6.3 模拟退火算法 109 EZhk(LE 6.6.3.1 模拟退火参数 109 K
6,c||#< 6.6.4 共轭梯度 111 w6^TwjjZ$ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 `FX?P`\@I 6.6.5 拟牛顿法 112 .f!:@fX>= 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 st#^pWL 6.6.6 针合成 113 |I|,6*)xg 6.6.6.1 针合成参数 114 (IA:4E} 6.6.7 差分进化 114 qP=a:R- 6.6.8非局部细化 115 s=z$;1C 6.6.8.1非局部细化参数 115 pK/RkA1 6.7 我应该使用哪种技术? 116 H$
:BJ$x@ 6.7.1 细化 116 Vn_>c#B 6.7.2 合成 117 F#qc#s 6.8 参考文献 117 4=& d{.E 7 导纳图及其他工具 118 -;i:bE 7.1 简介 118 eQqCRXx 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <N=ow"rD 7.2.1 四分之一波长规则 119 cwQ*P$n 7.2.2 导纳图 120 1WY$Vs 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vJ&35nF& 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 i9peQ61{ 7.5 斜入射导纳图 141 *;lb<uLv 7.6 对称周期 141 gDX\ p>7 7.7 参考文献 142 =~dsIG 8 典型的镀膜实例 143 f
uH3C~u7< 8.1 单层抗反射薄膜 145 0zA:?} 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 &G3$q,`H 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D{4]c)> 8.4 W-膜层 148 Xxm7s S 8.5 V-膜层 149 eYv+tjIF 8.6 V-膜层高折射基底 150 =knBwjeD 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 `_J>R 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |Y( 8.9 四层抗反射薄膜 153 7?
="{; 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 W:2]d 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 #"o`'5 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 [-#q'S 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 L 1q] 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 6%&w\<(SG 8.15十五层宽带抗反射膜 159 GbC JGqOR 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 t & 5s. 8.17 1/4波长堆栈 162 k{^iv: 8.18 陷波滤波器 163 }O6E5YCm 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2]tW&y_i 8.20 褶皱 165 :IozWPs* 8.21 消偏振分光器1 169 Lcs?2c:% 8.22 消偏振分光器2 171 3X1
U 8.23 消偏振立体分光器 172 1kh()IrA 8.24 消偏振截止滤光片 173 7+P-MT 8.25 立体偏振分束器1 174 biHZyUJ 8.26 立方偏振分束器2 177 H*&!$s. 8.27 相位延迟器 178 e~$aJO@B.R 8.28 红外截止器 179 &LhR0A 8.29 21层长波带通滤波器 180 #23($CSE 8.30 49层长波带通滤波器 181 U{3Pk0rZ 8.31 55层短波带通滤波器 182 WAGU|t#." 8.32 47 红外截止器 183 va;fT+k= 8.33 宽带通滤波器 184 i0[mU, 8.34 诱导透射滤波器 186 6
$+b2&V 8.35 诱导透射滤波器2 188 v
<E#`4{ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 PE2O$:b\ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <{k8 K6 8.35 增益平坦滤波器 193 r59BBW)M 8.38 啁啾反射镜 1 196 #!]~E@;E 8.39 啁啾反射镜2 198 j 4eq.{$ 8.40 啁啾反射镜3 199 "'U]4Z%q! 8.41 带保护层的铝膜层 200 4,7W*mr3( 8.42 增加铝反射率膜 201 E
<h9o>h 8.43 参考文献 202 7u[$ 9 多层膜 204 ZG_iF# 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 6Zq7O\ 9.2 内部透过率 204 :&$WWv 9.3 内部透射率数据 205 ZgL ]ex 9.4 实例 206 L7$1 rO< 9.5 实例2 210 *!yY7 ~# 9.6 圆锥和带宽计算 212 &^])iG,Ew 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 Ve\P ,. 10 光学薄膜的颜色 216 #:}mi;{ 10.1 导言 216 pL{:8Ed 10.2 色彩 216 =-n7/ 10.3 主波长和纯度 220 B3V+/o6 10.4 色相和纯度 221 <|4L+?_(& 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ')~[J$qz 10.6 色差 226 N##-
vV 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 S)G*+) 10.8 颜色渲染指数 234 1Et{lrgh
f 10.9 色差计算 235 &8QkGUbS< 10.10 参考文献 236 ? ]hS^& 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 SSa0x9T 11.1 短脉冲 238 /3CdP'c 11.2 群速度 239 vU,;asgy 11.3 群速度色散 241
Yjp*T:6 11.4 啁啾(chirped) 245 F48W8'un 11.5 光学薄膜—相变 245 =fy'w3m 11.6 群延迟和延迟色散 246 -3&mgd 11.7 色度色散 246 8WMGuv 11.8 色散补偿 249 :N
]H"u9X 11.9 空间光线偏移 256 L$
ZZ]?7j 11.10 参考文献 258 P/doNv}iG 12 公差与误差 260 ;@G5s+<l 12.1 蒙特卡罗模型 260 p#tbN5i[{7 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 {
^
@c96& 12.2.1 误差工具 267 Q(ec>+oi 12.2.2 灵敏度工具 271 }-15^2 12.2.2.1 独立灵敏度 271 %Y<3v\`_ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 8Xk,Nbcqt 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ]{PJ 12.3 参考文献 276 C9"yu&l 13 Runsheet 与Simulator 277 Q804_F
F# 13.1 原理介绍 277 g%T` 6dvT 13.2 截止滤光片设计 277 C &-]RffA 14 光学常数提取 289 SbN.z 14.1 介绍 289 NM&R\GI 14.2 电介质薄膜 289 N2e]S8- 14.3 n 和k 的提取工具 295 <-Q0s%mNj, 14.4 基底的参数提取 302 /F7X"_(H 14.5 金属的参数提取 306 \K(QE ~y'W 14.6 不正确的模型 306 g"Gj8QLDz 14.7 参考文献 311 TC^fyxq 15 反演工程 313 P_Ni
5s) 15.1 随机性和系统性 313 px=r~8M9} 15.2 常见的系统性问题 314 E.+BqWZ! 15.3 单层膜 314 w@&(=C 15.4 多层膜 314 ~k780 15.5 含义 319 R1NwtnS 15.6 反演工程实例 319 nZ8f}R!f: 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 d0 qc%.s 15.6.2 反演工程提取折射率 327 \2NT7^H# 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 fMZzR|_18 16.1 光学性质的热致偏移 329 LQ3J$N 16.2 应力工具 335 z<,rE 16.3 均匀性误差 339 )ME'qA3K 16.3.1 圆锥工具 339 "6zf-++% 16.3.2 波前问题 341 >^ijj`{d 16.4 参考文献 343 GBo'= 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 +je{%,* 17.1 引言 345 q_[V9 17.2 操作数 345 _W^{,*p 18 如何在Function中编写脚本 351 2V)qnMxAZJ 18.1 简介 351 2JX@#vQ4 18.2 什么是脚本? 351 Xw |6
#^ 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 J'#R9NO< 18.4 基础 352 XYdr~/[HPy 18.4.1 Classes(类别) 352 *>8Y/3Y\B 18.4.2 对象 352 & |