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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 UwQ3q  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ;3sT>UB  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Sb[rSczS~  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 T}]Ao  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 zFuUv_t  
[attachment=120542] c\4n7m,y  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 (*fsv g~  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 HNuwq\w  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 e@,,;YO#4  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Pjb9FCA'  
1. Essential Macleod软件介绍 7RD` *s  
1.1 介绍软件 <p0$Q!^dK=  
1.2 创建一个简单的设计 |H_)u  
1.3 绘图和制表来表示性能 ;+b}@e  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 @7^#_772  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) khv!\^&DD  
1.6 特定设计的公式技术 FVQWz[N  
1.7 交互式绘图 D#t5*bwK  
2. 光学薄膜理论基础 n"K7@[d  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 #1bgV  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 }5tn  
3. 材料管理 Eq<#pX6  
3.1 材料模型 0RSa{iS*A  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 H@j^,  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 2aje$w-  
3.4 基板光学常数的提取 nG%j4r ;  
4. 光学薄膜设计优化方法 #Aanv  
4.1 参考波长与g ]VYl Eqe  
4.2 四分之一规则 ToJru  
4.3 导纳与导纳图 I3 x}F$^  
4.4 斜入射光学导纳 &s<  
4.5 光学薄膜设计的进展 Csc2yI%3  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ,6buo~?W:  
4.6.1 优化目标设置 GKd>AP_  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 3CHte*NL=  
4.6.3 膜层锁定和链接 F_Pd\Aq8  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 #129 i2  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )w` Nkx  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 XbOL/6V ^[  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 j5)qF1W,  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 r#}Sy \  
5.5 如何在Function中编写脚本 HYH!;  
6. 光学薄膜系统案例 5UM[Iz  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 N+V-V-PVk  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 DJW1kR  
6.3 Stack应用范例说明 vxt^rBA  
7. 薄膜性能分析 nz',Zm},  
7.1 电场分布 :ZIcWIV-  
7.2 公差与灵敏度分析 Ji[w; [qL  
7.3 反演工程 FT enXJ/c  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ^,5.vfES  
8. 真空技术 >lW*%{|b$^  
8.1 常用真空泵介绍 T:&+#0<  
8.2 真空密封和检漏 rN~`4mZ  
9. 薄膜制备技术 a wK'XFk  
9.1 常见薄膜制备技术 nJya1AH;  
10. 薄膜制备工艺 ]xG4T>S  
10.1 薄膜制备工艺因素 T7Ac4LA  
10.2 薄膜均匀性修正技术 \nyFN  
10.3 光学薄膜监控技术 ({9!P30:  
11. 激光薄膜 HlSuhbi'@  
11.1 薄膜的损伤问题 Wd}mC<rv1  
11.2 激光薄膜的制备流程 Z9D4;1  
11.3 激光薄膜的制备技术 1m)/_y~1 k  
12. 光学薄膜特性测量 80EY7#r@w  
12.1 薄膜光谱测量 IXN4?=)I  
12.2 薄膜光学常数测量 Nw2 bn  
12.3 薄膜应力测量 zef,*dQY   
12.4 薄膜损伤测量 .'1j5Y-l`N  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
z>:7}=H0  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
K5lp -F  
内容简介 eQx"nl3U%  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。  c$|dK  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 NHF?73:  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,lJ6"J\8.  
^IpiNY/%Q  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
9F](%/  
5!zvoX9  
目录 /<$"c"UQ  
Preface 1 G~L?q~b  
内容简介 2 ?Q3~n^  
目录 i Fc~w`~tv  
1  引言 1 srLr~^$j[  
2  光学薄膜基础 2 }j1Zk4}[x  
2.1  一般规则 2  ^gyp- !  
2.2  正交入射规则 3 V2,WP  
2.3  斜入射规则 6 ^BX@0"&-  
2.4  精确计算 7 0AKwZ' &H  
2.5  相干性 8 o z{j2%  
2.6 参考文献 10 BfT,  
3  Essential Macleod的快速预览 10 A*~1Uz\t  
4  Essential Macleod的特点 32 i)i)3K2  
4.1  容量和局限性 33 )X;cS} yp  
4.2  程序在哪里? 33 <\g&%c,   
4.3  数据文件 35 l%(`<a]VIB  
4.4  设计规则 35 t`,IW{  
4.5  材料数据库和资料库 37 })lT fy  
4.5.1材料损失 38 %UQB?dkf$  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 gj,J3x4TK/  
4.5.2 材料库 41 &;U7/?Q  
4.5.3导出材料数据 43 A'1AU:d  
4.6  常用单位 43 {7>CA'>  
4.7  插值和外推法 46 O)uM&B=  
4.8  材料数据的平滑 50 vqOLSE"t*O  
4.9 更多光学常数模型 54 OX/.v?c  
4.10  文档的一般编辑规则 55 '5/}MMT  
4.11 撤销和重做 56 bV*zMoD#  
4.12  设计文档 57 vGwD~R  
4.10.1  公式 58 u^zitW!X$  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <]^;/2 .B  
4.10.3  沉积密度 59 dm=F:\C  
4.10.4 平行和楔形介质 60 @:9fS  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 rDX'oP:  
4.10.4  性能 61 (mIJI,[xn  
4.10.5  保存设计和性能 64 .Pes{uHg  
4.10.6  默认设计 64 ;kW}'&Ug  
4.11  图表 64 n E}<e:  
4.11.1  合并曲线图 67 Jav2A6a  
4.11.2  自适应绘制 68 *P R_Y=v%  
4.11.3  动态绘图 68 L?27q  
4.11.4  3D绘图 69 MlK`sH6  
4.12  导入和导出 73 G+ v, Hi1  
4.12.1  剪贴板 73 $>ZP%~O  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 9m !!b{  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 Z/kaRnG[@t  
4.13  背景 77 1DLG]-j}  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ioNa~F&  
4.15  生成Rugate 84 Jrd4a~XP  
4.16  参考文献 91 ,&&M|,NQ&s  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 >2CusT2  
5.1  Jobs 92 A1QI4.K  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 !x$ :8R  
5.3  输入材料 94 cYM~IA  
5.4  设计数据文件夹 95 Cz@FZb8  
5.5  默认设计 95 plx/}ah8  
6  细化和合成 97 H<Kkj  
6.1  优化介绍 97 2Uv3_i<  
6.2  细化 (Refinement) 98 d&T6p&V$  
6.3  合成 (Synthesis) 100 [AX"ne# M*  
6.4  目标和评价函数 101 dH2]ZE0V  
6.4.1  目标输入 102  Q A)9  
6.4.2  目标 103 ::OFW@dS  
6.4.3  特殊的评价函数 104 9c^skNbS  
6.5  层锁定和连接 104 n!ZP?]FR  
6.6  细化技术 104 w"a 9'r  
6.6.1  单纯形 105 hK39_A-  
6.6.1.1 单纯形参数 106 4Wla&yy  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 H*{k4  
6.6.2.1 Optimac参数 108 nl'J.dJe  
6.6.3  模拟退火算法 109 G?1x+H;o5  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 K 5qLBz@U  
6.6.4  共轭梯度 111 JC&6q >$  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 U8K &Q4^  
6.6.5  拟牛顿法 112 &#-|Yh/  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 r'd:SaU+  
6.6.6  针合成 113 Vo9>o@FlLM  
6.6.6.1 针合成参数 114 R] Disljq  
6.6.7 差分进化 114 7.$]f71z  
6.6.8非局部细化 115 w`j*W$82  
6.6.8.1非局部细化参数 115 ]CIQq1iY  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 OgKWgvy  
6.7.1  细化 116 /1 US,  
6.7.2  合成 117 Q)G!Y (g\  
6.8  参考文献 117 B9LSxB  
7  导纳图及其他工具 118 E#<7\ p>  
7.1  简介 118 J&63Z  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 &gWMl`3^*!  
7.2.1  四分之一波长规则 119 Yz2{LW[K  
7.2.2  导纳图 120 ,TF<y#wed  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >G<\1R  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Ehb?CnV#J  
7.5  斜入射导纳图 141 :/@k5#DY  
7.6  对称周期 141 n9kd2[s|  
7.7  参考文献 142 tg7C;rJ  
8  典型的镀膜实例 143 -_2Dy1  
8.1  单层抗反射薄膜 145 qSEB}1  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 YER:ICQ  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 AZxrJ2G  
8.4  W-膜层 148 3`&VRF8  
8.5  V-膜层 149 ^91sl5c8yD  
8.6  V-膜层高折射基底 150 @[d#mz  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 J4gI=@e  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 X2 \E9hJg  
8.9  四层抗反射薄膜 153 <`c25ih.4  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 OgEUq''  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /&D'V_Q`*  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 0NQ7#A  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 H\)gE>  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 <#xrrRhm}  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 c8#T:HM|`  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Zk]k1]u*5  
8.17  1/4波长堆栈 162 *>e~_{F  
8.18  陷波滤波器 163 6Cl+KcJH  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 s.^c..e75C  
8.20  褶皱 165 Lzh9DYU6  
8.21  消偏振分光器1 169 uQ:Qb|  
8.22  消偏振分光器2 171 gI)w^7Gi  
8.23  消偏振立体分光器 172 s8t f@H4r  
8.24  消偏振截止滤光片 173 kU #:I9PO  
8.25  立体偏振分束器1 174 0=OD?48<  
8.26  立方偏振分束器2 177 M0O>Ljo4RN  
8.27  相位延迟器 178 T$ H2'tK|  
8.28  红外截止器 179 <^ #P6  
8.29  21层长波带通滤波器 180 #mgA/q?A  
8.30  49层长波带通滤波器 181 0fnZR$PB  
8.31  55层短波带通滤波器 182 7^ B3lC)  
8.32  47 红外截止器 183 i[^k.W3gf  
8.33  宽带通滤波器 184 UskZ%J  
8.34  诱导透射滤波器 186 r~)VGdB+  
8.35  诱导透射滤波器2 188 X!T|07#c  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 |.j^G2x  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 /"(b.&  
8.35  增益平坦滤波器 193 G3H#XK D  
8.38  啁啾反射镜 1 196 M} O[`Fx{W  
8.39  啁啾反射镜2 198 jo_o` j  
8.40  啁啾反射镜3 199 |xq} '.C  
8.41  带保护层的铝膜层 200 "YuZ fL`bb  
8.42  增加铝反射率膜 201 pAEN XC\,  
8.43  参考文献 202 hgj CXl  
9  多层膜 204 L<0=giE  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 /ca(a\@R  
9.2  内部透过率 204 )nhfkW=e  
9.3 内部透射率数据 205 2[.5oz`  
9.4  实例 206 3nwz<P  
9.5  实例2 210 BpH|/7  
9.6  圆锥和带宽计算 212 (Ar?QwP9>  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 PM@XtL7J  
10  光学薄膜的颜色 216 !{IC[g n  
10.1  导言 216 5QR}IxQ  
10.2  色彩 216 ?4:rP@  
10.3  主波长和纯度 220 [d0%.+U  
10.4  色相和纯度 221 #De(*&y2  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3KtAK9PT  
10.6 色差 226 CP +4k.)*O  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 9KXym }  
10.8  颜色渲染指数 234 YQ52~M0L  
10.9  色差计算 235 6mwvI4)  
10.10  参考文献 236 8AryIgy>@  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 vsH3{:&;"P  
11.1  短脉冲 238 n-d:O\]  
11.2  群速度 239 XHy ?  
11.3  群速度色散 241 Ga.0Io&}C  
11.4  啁啾(chirped) 245 ~fBex_.o*  
11.5  光学薄膜—相变 245 U>oW~Z  
11.6  群延迟和延迟色散 246 &uPDZ#C-  
11.7  色度色散 246 Q ]/B/  
11.8  色散补偿 249 $iwIF7,\P  
11.9  空间光线偏移 256 (e(Rr 4  
11.10  参考文献 258 RXM}hqeG  
12  公差与误差 260 MZ)T0|S_  
12.1  蒙特卡罗模型 260 O5O.><RP  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 691G15  
12.2.1  误差工具 267 )qmFK .;%  
12.2.2  灵敏度工具 271 |IAW{_9)U  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 t|.Ft<c#  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 _1P`]+K\D$  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 x=h0Fq ,T  
12.3  参考文献 276 yu=piP  
13  Runsheet 与Simulator 277 q4) Ey  
13.1  原理介绍 277 #J\s%60pt  
13.2  截止滤光片设计 277 8|6~o.B.G  
14  光学常数提取 289 ]Ym=+lgi  
14.1  介绍 289 BO"qD[S  
14.2  电介质薄膜 289 g*F~8+]Y  
14.3  n 和k 的提取工具 295 +|9f%f6vp  
14.4  基底的参数提取 302 )&Mq,@  
14.5  金属的参数提取 306 >d97l&W  
14.6  不正确的模型 306 Uh}+"h5  
14.7  参考文献 311 W]zwghxH  
15  反演工程 313 vnL?O8`c  
15.1  随机性和系统性 313 J]dW1boT@  
15.2  常见的系统性问题 314 GoazH?%  
15.3  单层膜 314 W1hX?!xp!  
15.4  多层膜 314 z<i,D08|d  
15.5  含义 319 6(>WGR  
15.6  反演工程实例 319 QypZH"Np  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 /eb-'m  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 y`6\L$c  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 L$kgK# T  
16.1  光学性质的热致偏移 329 wh*:\_!0\  
16.2  应力工具 335 BtzYA"  
16.3  均匀性误差 339 H~eGgm;p  
16.3.1  圆锥工具 339 94y9W#  
16.3.2  波前问题 341 xvB8YW"  
16.4  参考文献 343 <cj}:H *  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 _CL{IY  
17.1  引言 345 6`Lcs  
17.2  操作数 345 'mJ13  
18  如何在Function中编写脚本 351 L?Cjo4xS  
18.1  简介 351 vbaC+AiX  
18.2  什么是脚本? 351 @+E7w6>%  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 #n#HzbT  
18.4  基础 352 i&*<lff  
18.4.1  Classes(类别) 352 i(Vm!Y82  
18.4.2  对象 352 >4M<W4  
18.4.3  信息(Messages) 352 .zIgbv s  
18.4.4  属性 352 DL1 +c`d  
18.4.5  方法 353 f7 wm w2  
18.4.6  变量声明 353  HD H  
18.5  创建对象 354 ] );NnsG  
18.5.1  创建对象函数 355 Sk$KqHX(  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 u-:MVEm  
18.5.3 丢弃对象 356 ly=a>}F_  
18.5.4  总结 356 /=@e &e  
18.6  脚本中的表格 357 MO TE/JG  
18.6.1  方法1 357 (-J<Vy]  
18.6.2  方法2 357 GL`tOD:P"  
18.7 2D Plots in Scripts 358 =|"= l1  
18.8 3D Plots in Scripts 359 C5MqwNX  
18.9  注释 360 q~M2:SN@X  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 F 3s?&T)[G  
18.11  一个更高级的脚本 362 jqtVpNwM  
18.12  <esc>键 364 86qcf"?E  
18.13 包含文件 365 (kY@7)d'e  
18.14  脚本被优化调用 366 ol}`Wwy  
18.15  脚本中的对话框 368 |EEi&GOR(y  
18.15.1  介绍 368 ]'g:B p  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 YXRjx .srf  
18.15.3  输入框函数 370 o[^Q y(2~  
18.15.4  自定义对话框 371 ^vM_kAr A  
18.15.5  对话框编辑器 371 z37Z %^  
18.15.6  控制对话框 377 mr qaM2,(I  
18.15.7  更高级的对话框 380 Why"G1`  
18.16 Types语句 384 H?{ MRe  
18.17 打开文件 385 87}(AO)  
18.18 Bags 387 6KO(j/Gwp  
18.13  进一步研究 388 ~of,,&  
19  vStack 389 . pP7"E4]  
19.1  vStack基本原理 389 | k}e&Q_/G  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 JqSr[q  
19.3  五棱镜 393 A_F0\ EN*  
19.4 光束距离 396 tah }^  
19.5 误差 399 K_&_z  
19.6  二向分色棱镜 399 U(Z!J6{c  
19.7  偏振泄漏 404 CIy^`2wq  
19.8  波前误差—相位 405 LihdZ )  
19.9  其它计算参数 405 KSsWjF}d  
20  报表生成器 406 O5OXw]  
20.1  入门 406 (Vap7.6;_  
20.2  指令(Instructions) 406 3HKxYvc C  
20.3  页面布局指令 406 `x2,;h!:)N  
20.4  常见的参数图和三维图 407 /ao<A\KR  
20.5  表格中的常见参数 408 AK;^9b-}q:  
20.6  迭代指令 408 3.FR C  
20.7  报表模版 408 y!hi"!  
20.8  开始设计一个报表模版 409 AIv<f9*.:  
21  一个新的project 413 }DHUTP2;yz  
21.1  创建一个新Job 414 jzMg'z/@J  
21.2  默认设计 415 GMe0;StT  
21.3  薄膜设计 416 ^Et ,TF\  
21.4  误差的灵敏度计算 420 +4HlRGH  
21.5  显色指数计算 422 x=vK EyS@  
21.6  电场分布 424 ^vW$XRnt  
后记 426 N6q5`Ry  
j/' g$  
KC]tY9 FK  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 gi1j/j7  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
B/G3T u uG  
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目  录 J^h'9iQpi  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 x G^f  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 MH FaSl  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 & +]x;K  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 3(o7co-f  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 J?,?fqb  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 yf?W^{^|  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 DyIV/  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 L20rv:W$h  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 *F|+2?a:$  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 #4N >d~  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 =Sa~\k+  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284  C/  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 # \<P]<C  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 "f<#.}8  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 g}YToOs  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 3; A$<s  
{KsVK4\r  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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查看本帖完整版本: [-- 上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五) --] [-- top --]

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