上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 M6"PX *K 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 'x#~'v* 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 tKOmoC 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 C_}]`[ 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 KxJ!,F{>H [attachment=120542] Ju@c~Xm 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ?=sDM& ' 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 *aM=Z+ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 hR?{3d#x2 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 2~)`N>@ 1. Essential Macleod软件介绍 I3L<[-ZE 1.1 介绍软件 0*3R=7_},o 1.2 创建一个简单的设计 I{C
SH 1.3 绘图和制表来表示性能 {UI+$/v# 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 I5p?
[ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) sUO`u qZV 1.6 特定设计的公式技术 |tH4:%Q' 1.7 交互式绘图 ?(1y 2. 光学薄膜理论基础 76{G'}B 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 tCH!my_ 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 MAR'y8I 3. 材料管理 ~Fcm[eoC 3.1 材料模型 ~!d\^Z^i 3.2 介质薄膜光学常数的提取 +Mb.:_7' 3.3 金属薄膜光学常数的提取 _1\v 3.4 基板光学常数的提取 L,/%f<wd 4. 光学薄膜设计优化方法 %$Tji 4.1 参考波长与g eu-*?]&Di 4.2 四分之一规则 tX s\R(?T 4.3 导纳与导纳图 c7k~S-nU 4.4 斜入射光学导纳 &DX! f 4.5 光学薄膜设计的进展 =&]g "a' 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 IM'r8V 4.6.1 优化目标设置 -uG+BraI 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) (y~TL*B 4.6.3 膜层锁定和链接 JX;G<lev 5. Essential Macleod中各个模块的应用 WSB0~+ 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 `*R:gE= 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Z@S3ZGe 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 *i%.;Z" 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 D/&o&G96 5.5 如何在Function中编写脚本 [}=B8#Jl-C 6. 光学薄膜系统案例 45c$nuZ 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 UB@+ck 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 /W<;Z;zk 6.3 Stack应用范例说明 KkbD W3- 7. 薄膜性能分析 r`d4e,( 7.1 电场分布 \ Gvm9M 7.2 公差与灵敏度分析 [RhO$c$[\ 7.3 反演工程 LU%E:i| 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 }&J q}j 8. 真空技术 ~B?y{ 8.1 常用真空泵介绍 ^hM4j{|&M 8.2 真空密封和检漏 29.h91 9. 薄膜制备技术 @qAS*3j 9.1 常见薄膜制备技术 f2`2,? 10. 薄膜制备工艺 ]{@-HTt 10.1 薄膜制备工艺因素 `Ggbi4), 10.2 薄膜均匀性修正技术 Z@!+v19^ 10.3 光学薄膜监控技术 @#l= l 11. 激光薄膜 VpDbHAg 11.1 薄膜的损伤问题 7Ak6,BuI% 11.2 激光薄膜的制备流程 n{mfn*r. 11.3 激光薄膜的制备技术 gjD Ho$ 12. 光学薄膜特性测量 0aB;p7~& 12.1 薄膜光谱测量 eD6fpe\( 12.2 薄膜光学常数测量 0M[EEw3 12.3 薄膜应力测量 !%c\N8<>GD 12.4 薄膜损伤测量 q@8*Xa > 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] /*mI<[xb
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] E:nF$#<'N
内容简介 lt8|9"9< Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 UZ+<\+q3^ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -uf|w? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 eeB{c.# tGa8W
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 zK@@p+n_#. 3
Za} b| 目录 [{,1=AB Preface 1 l]8uk^E 内容简介 2 T_4/C2 目录 i XwaXdvmK 1 引言 1 4,DeHJjAlE 2 光学薄膜基础 2 ]}Yl7/gM1} 2.1 一般规则 2 X'iWJ8 2.2 正交入射规则 3 /7YIn3 2.3 斜入射规则 6 KbeC"mi 2.4 精确计算 7 %EB/b 2.5 相干性 8 zTU0HR3A 2.6 参考文献 10 }qD\0+`qi 3 Essential Macleod的快速预览 10 >z@0.pN]7 4 Essential Macleod的特点 32 +6+i!Sip 4.1 容量和局限性 33 oUlVI*~ND 4.2 程序在哪里? 33 |yPu!pfl 4.3 数据文件 35 sfl<qD+? 4.4 设计规则 35 N;`n@9BF 4.5 材料数据库和资料库 37 0</);g} 4.5.1材料损失 38 Y.p;1" 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^iV)MTT 4.5.2 材料库 41 tKXIk9e 4.5.3导出材料数据 43 }O
p;
g^W 4.6 常用单位 43 )9]P MA?u 4.7 插值和外推法 46 {+>-7
9b 4.8 材料数据的平滑 50 )8ZH-|N`!E 4.9 更多光学常数模型 54 f3y=Wxk[ 4.10 文档的一般编辑规则 55 j#4kY R{ 4.11 撤销和重做 56 2D5StCF$O 4.12 设计文档 57 dk^~;m#iN 4.10.1 公式 58 N8df8=.kw 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 493*{ 4.10.3 沉积密度 59 4 #Jg9o 4.10.4 平行和楔形介质 60 ,eS)e+yzc2 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 d&>^&>?$zh 4.10.4 性能 61 "\yT7?}, 4.10.5 保存设计和性能 64 1< ?4\?j 4.10.6 默认设计 64 $%f&a3# 4.11 图表 64 2&cT~ZX&' 4.11.1 合并曲线图 67 o)/ 0a 4.11.2 自适应绘制 68 Zv{'MIv&v 4.11.3 动态绘图 68 <:CkgR$/{ 4.11.4 3D绘图 69 P.DK0VgY 4.12 导入和导出 73 ;$Jo+# 4.12.1 剪贴板 73 }x,S%M- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 \Vk:93OH21 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 {M)Nnst"~ 4.13 背景 77 s5.CFA 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 #w=~lq)9 4.15 生成Rugate 84 yB!dp;gM{ 4.16 参考文献 91 |w3M7;~eF 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 m]&SN z= 5.1 Jobs 92
v"0J&7!J 5.2 创建一个新Job(工作) 93 3OB"#Ap8< 5.3 输入材料 94 C,eu9wOT 5.4 设计数据文件夹 95 dc'Y`e 5.5 默认设计 95 qxc[M8s 6 细化和合成 97 # f\rt
6.1 优化介绍 97 $/ ],tSm 6.2 细化 (Refinement) 98 N$tGQ@
6.3 合成 (Synthesis) 100 5mR 1@ 6.4 目标和评价函数 101 -G=]=f/' 6.4.1 目标输入 102 yt2PU_), 6.4.2 目标 103 U$UIN# 6.4.3 特殊的评价函数 104 1Z&(6cDY8M 6.5 层锁定和连接 104 -:rUw$3J 6.6 细化技术 104 \{D"
!e 6.6.1 单纯形 105 ;AG()NjOO: 6.6.1.1 单纯形参数 106 !5N.B|Nt 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 \{YU wKK/A 6.6.2.1 Optimac参数 108 Uw:"n]G]D? 6.6.3 模拟退火算法 109 .RL=xb|[ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 G+m }MOQP7 6.6.4 共轭梯度 111 2KZneS` 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 D6Wa.,r 6.6.5 拟牛顿法 112 moE2G?R 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Tj- s4x 6.6.6 针合成 113 Alq(QDs 6.6.6.1 针合成参数 114 h@BY]80 6.6.7 差分进化 114 "Y.y:Vv; 6.6.8非局部细化 115 \)Cl%Em 6.6.8.1非局部细化参数 115 ]_$[8#kg 6.7 我应该使用哪种技术? 116 V~ _>U} 6.7.1 细化 116 oL<St$1 6.7.2 合成 117 qJw_ 6.8 参考文献 117 !Z6{9sKR=] 7 导纳图及其他工具 118 ss-D(K" 7.1 简介 118 "Yy n/ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6w7 7YTJ 7.2.1 四分之一波长规则 119 eV~goj 7.2.2 导纳图 120 i@'dH3-kO
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 t$ *0{w
E 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 T^q
0'#/ 7.5 斜入射导纳图 141 jj>]9z 7.6 对称周期 141 A %-6`> 7.7 参考文献 142 p b,. r 8 典型的镀膜实例 143 b`_Q8 J 8.1 单层抗反射薄膜 145 Y9|!+,
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #LCb 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ,u!sjx 8.4 W-膜层 148 :Tq~8!s 8.5 V-膜层 149 %XTI-B/K 8.6 V-膜层高折射基底 150 :@&/kyGH 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Q@H V- (A 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 g,Y/M3>( 8.9 四层抗反射薄膜 153 BerwI
7!= 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 D`AsRd 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 .|=\z9_7S8 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 L%5%T;0'~ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 :Qq#Z 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 WPDyu.QD 8.15十五层宽带抗反射膜 159 h7@6T+#WoT 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ctV,Q3'Z 8.17 1/4波长堆栈 162 E)3NxmM# 8.18 陷波滤波器 163 mBC+6(5V 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ?1".;foZ 8.20 褶皱 165 2+O'9F_v 8.21 消偏振分光器1 169 4.(4x& 8.22 消偏振分光器2 171 =Runf
+} 8.23 消偏振立体分光器 172 PRT +mT 8.24 消偏振截止滤光片 173 ^}C\zW 8.25 立体偏振分束器1 174 eiOW#_"\ 8.26 立方偏振分束器2 177 @|)Z"m7 8.27 相位延迟器 178 H:\k}*w 8.28 红外截止器 179 Ct|A:/z( 8.29 21层长波带通滤波器 180 $]8Q(/mbK 8.30 49层长波带通滤波器 181 J-4:H
gx 8.31 55层短波带通滤波器 182 jq-_4}w?C 8.32 47 红外截止器 183 LIdF 0 8.33 宽带通滤波器 184 Np)lIGE 8.34 诱导透射滤波器 186 1&$ nVQ 8.35 诱导透射滤波器2 188 &~w}_Fjk 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 DeYV$W
B 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 E!AE4B1bd 8.35 增益平坦滤波器 193 WjjB<YKzF 8.38 啁啾反射镜 1 196 p<;0g9,1 8.39 啁啾反射镜2 198 {y;n:^ 8.40 啁啾反射镜3 199 QdC<Sk!G 8.41 带保护层的铝膜层 200 RFH0 8.42 增加铝反射率膜 201 *9i{,I@ 8.43 参考文献 202 #89!'W 9 多层膜 204 \|ao`MMaD< 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 KY N0 9.2 内部透过率 204 3k?X-|O8AZ 9.3 内部透射率数据 205 ~v"L!=~G;a 9.4 实例 206 C8 \^#5 9.5 实例2 210 bJ;'`sw1 9.6 圆锥和带宽计算 212 sNwI0o 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 bYPK h 10 光学薄膜的颜色 216 yiI1x*^ 10.1 导言 216 ,v&(Y Od 10.2 色彩 216 sT' 5%4 10.3 主波长和纯度 220 x3krbUlx 10.4 色相和纯度 221 r"R#@V\'1b 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 OUXR 10.6 色差 226 Hq 188< 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 "g#i'"qnW 10.8 颜色渲染指数 234 < |