上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 @5}gsC 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 +CTmcbyOi 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Ls:=A6AGM 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 9[|4[3K 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 )XVh&'(r [attachment=120542] ZxS&4>. 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 H|+tC=]4IZ 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 BQjam+u6 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 SQKt}kDbM 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ,sb1"^Wc 1. Essential Macleod软件介绍 nN ~GP"} 1.1 介绍软件 U7%28#@ 1.2 创建一个简单的设计 d]M[C[TOX 1.3 绘图和制表来表示性能 FWTx&Ip 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 If}lJ6jZ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) '>^Xqn 1.6 特定设计的公式技术 d~[UXQC 1.7 交互式绘图 &jJckT 2. 光学薄膜理论基础 Sa}D.SBg 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {of]/3= 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 1-$P0 3. 材料管理 -fux2?8M 3.1 材料模型 Uh+jt,RB` 3.2 介质薄膜光学常数的提取 m,NMTyJoz 3.3 金属薄膜光学常数的提取 La}o(7=s 3.4 基板光学常数的提取 *:QXz<_x+ 4. 光学薄膜设计优化方法
gNa#| 4.1 参考波长与g >RR<eYu7m 4.2 四分之一规则 YZ[%uArm 4.3 导纳与导纳图 )Z:m)k>r; 4.4 斜入射光学导纳 {aJz. `u\ 4.5 光学薄膜设计的进展 %vc'{`P 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nO@+s
F 4.6.1 优化目标设置 slSR=XOG 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) *tAqt2{48 4.6.3 膜层锁定和链接 p}8ratmN 5. Essential Macleod中各个模块的应用 [s %\.y(q 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )@c3##Zp) 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 .cw=*<zeg 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Mw|SH;nM 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \DyKtrnm% 5.5 如何在Function中编写脚本 6 ">oo- 6. 光学薄膜系统案例 gX"T*d>y 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Q2$/e+ 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 e3rfXhp 6.3 Stack应用范例说明 nh|EZp] 7. 薄膜性能分析 -4`sqv ] 7.1 电场分布 36i_D6 7.2 公差与灵敏度分析 B'/Icg.T 7.3 反演工程 P6E1^$e 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
.
X0t" 8. 真空技术 G 4"lZM 8.1 常用真空泵介绍 feg`(R2 8.2 真空密封和检漏 (lb`#TTGx 9. 薄膜制备技术 165WO}(;/ 9.1 常见薄膜制备技术 T Xl\hL\+ 10. 薄膜制备工艺 dAwS<5! 10.1 薄膜制备工艺因素 9!S^^;PN& 10.2 薄膜均匀性修正技术 ;.r2$/E 10.3 光学薄膜监控技术 1G_xP^H! 11. 激光薄膜 I tgH>L' 11.1 薄膜的损伤问题 sx90lsu 11.2 激光薄膜的制备流程 7rPLnB] 11.3 激光薄膜的制备技术 i/M+t~ 12. 光学薄膜特性测量 T/5nu?v 12.1 薄膜光谱测量 >2t
cEz% 12.2 薄膜光学常数测量 p1uN]T7> 12.3 薄膜应力测量 Z
c<]^QR 12.4 薄膜损伤测量 =*[, *A 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] eAU"fu6d
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] yx 7loy$[
内容简介 3v G Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;_wMWl0F 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Cea"qNq=k 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6e&g$R
v C,R,:zR
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 <f[9j u uq]iMz> 目录 3lyQn" Preface 1 w4`!Te 内容简介 2 -D$3!ccX 目录 i dY 6B%V 1 引言 1 H.)fOctbO 2 光学薄膜基础 2 a'm!M:w 2.1 一般规则 2 2;O c^ 2.2 正交入射规则 3 [gTQ- 2.3 斜入射规则 6 \v.HG]
/u 2.4 精确计算 7 M'b:B*>6 2.5 相干性 8 [3GKPX:OA/ 2.6 参考文献 10 rkbl/py 3 Essential Macleod的快速预览 10 =tLU] 4 Essential Macleod的特点 32 y}CkzD 4.1 容量和局限性 33 kA1f[AL 4.2 程序在哪里? 33 J,6!7a 4.3 数据文件 35 $/MY,:*e 4.4 设计规则 35 B<rPvM7a 4.5 材料数据库和资料库 37 nz}]C04:- 4.5.1材料损失 38 wYC9~ms- 4.5.1材料数据库和导入材料 39 R
A*(|n> 4.5.2 材料库 41 4p*?7g_WVH 4.5.3导出材料数据 43 a"MTQFm' 4.6 常用单位 43 Cb+P7[X- 4.7 插值和外推法 46 1 VPg`+o 4.8 材料数据的平滑 50 b;SFI^
4.9 更多光学常数模型 54 [>Ikitow 4.10 文档的一般编辑规则 55 p<<6}3~ 4.11 撤销和重做 56 K
lPm= 4.12 设计文档 57 ::kpl2r\c 4.10.1 公式 58 k0gJ('zah 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 y-D>xV)n 4.10.3 沉积密度 59 Y}85J:q] 4.10.4 平行和楔形介质 60 Qf/j: 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 &;'w8_K"^ 4.10.4 性能 61 39'X$! 4.10.5 保存设计和性能 64 fp`U?S6 4.10.6 默认设计 64 Vj?*=UL 4.11 图表 64 X%RQB$ 4.11.1 合并曲线图 67 dOYlI`4 4.11.2 自适应绘制 68 {LjK_J' 4.11.3 动态绘图 68 /5Gnb.zN) 4.11.4 3D绘图 69 8JQ<LrIt9 4.12 导入和导出 73
J(H??9(s 4.12.1 剪贴板 73 _:oMyK' 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 $IZ*|>( 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 O e0KAn 4.13 背景 77 L5hQdT/b$ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 j 8~Gv=(h 4.15 生成Rugate 84 ][s*~VK; 4.16 参考文献 91 BA`kxL/x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 J@=!w[v+ 5.1 Jobs 92 H620vlC}V 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Fj[ dO& 5.3 输入材料 94 %Z-Tb OX 5.4 设计数据文件夹 95 ~hxeD" w 5.5 默认设计 95 3<V.6'*k 6 细化和合成 97 w*]_FqE 6.1 优化介绍 97 TXY 6.2 细化 (Refinement) 98 /v<e$0~s< 6.3 合成 (Synthesis) 100 $Qx(aWE0 6.4 目标和评价函数 101 %3#b6m~ 6.4.1 目标输入 102 ee__3>H"/ 6.4.2 目标 103 b}"vIRz 6.4.3 特殊的评价函数 104 O&gy( 6.5 层锁定和连接 104 (7
]\p 6.6 细化技术 104 ;h*"E(Pp 6.6.1 单纯形 105 55u^u F 6.6.1.1 单纯形参数 106 >?:i6&4o 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 /i7>&ND.r 6.6.2.1 Optimac参数 108 \!?
PhNv 6.6.3 模拟退火算法 109 AZBY, :>D 6.6.3.1 模拟退火参数 109 C5W- B8> 6.6.4 共轭梯度 111 2=/-d$ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \, X?K 6.6.5 拟牛顿法 112 kiBOyC!r6 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Z=1,<ydKV 6.6.6 针合成 113 }K qw\]` 6.6.6.1 针合成参数 114 .1l[l5$ 6.6.7 差分进化 114 1bFEx_ 6.6.8非局部细化 115 k_.j% 6.6.8.1非局部细化参数 115 \dQ2[Ek 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Z:}2F^6 6.7.1 细化 116 u8$~N$L 6.7.2 合成 117 k-t,y|N
6.8 参考文献 117 QvyUd%e'5A 7 导纳图及其他工具 118 g*\v}6
h 7.1 简介 118 ).@)t:uNa 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 :7'0:'0$t 7.2.1 四分之一波长规则 119 ~T{d9yNW1 7.2.2 导纳图 120 ek_i{'hFd 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 TO;]9`~;Mu 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 YpbdScz 7.5 斜入射导纳图 141 ygu?w7 7.6 对称周期 141 +O%a:d% 7.7 参考文献 142 K;(|v3g6 8 典型的镀膜实例 143 xf3/<x!B 8.1 单层抗反射薄膜 145 |7 W6I$Xl 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 YP@?j 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 U7Sl@-#| 8.4 W-膜层 148 .(.G`aKnF 8.5 V-膜层 149 zv3<i ( 8.6 V-膜层高折射基底 150 ".7KEnx 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 e^K=8IW 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 P St|!GST 8.9 四层抗反射薄膜 153 B3i=pcef 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ;L/T}!Dx 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 1OJD\wc 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 1QdB`8in 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 G5Dji_ | 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 -a#AE|` 8.15十五层宽带抗反射膜 159 [zO(V`S2 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ZYp-dlEXq 8.17 1/4波长堆栈 162 e?'k[ES^ 8.18 陷波滤波器 163 d+wNGN 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 *1 eTf 8.20 褶皱 165 & m ";D 8.21 消偏振分光器1 169 5&7?0h+I 8.22 消偏振分光器2 171 (Su2\x 8.23 消偏振立体分光器 172 ^[,1+WS% 8.24 消偏振截止滤光片 173 mZ.6Njb 8.25 立体偏振分束器1 174 M}RFFg 8.26 立方偏振分束器2 177 gB'Ah -@,P 8.27 相位延迟器 178 X<bj2 w 8.28 红外截止器 179 c^/?VmCQ} 8.29 21层长波带通滤波器 180 &-.eu 8.30 49层长波带通滤波器 181 bJ5z?? 8.31 55层短波带通滤波器 182 `oI/;& 8.32 47 红外截止器 183 XdXS^QA.s 8.33 宽带通滤波器 184 b`%e{99\ 8.34 诱导透射滤波器 186 )^a#Xn3z 8.35 诱导透射滤波器2 188 x#xO { 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 !wufoK 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 "r(pK@h 8.35 增益平坦滤波器 193 V,%5
hl'& 8.38 啁啾反射镜 1 196 {?M*ZRO' 8.39 啁啾反射镜2 198 Hw-oh?= 8.40 啁啾反射镜3 199 IF21T 8.41 带保护层的铝膜层 200 eEb1R}@ 8.42 增加铝反射率膜 201 [[Eu?vQ9R 8.43 参考文献 202 a5g{.:NfO 9 多层膜 204 }qX&*DU_@ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 |a~&E@0c 9.2 内部透过率 204 !ES#::;z? 9.3 内部透射率数据 205 mI*>7? 9.4 实例 206 [==Z1Q;= 9.5 实例2 210 gKH"f%lK 9.6 圆锥和带宽计算 212 a[9OtZX< 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 ~8 a>D<b 10 光学薄膜的颜色 216 Hu!>RSg,,2 10.1 导言 216 =-&iF 10.2 色彩 216 ]cY'6'}Hz 10.3 主波长和纯度 220 dK`O,[} 10.4 色相和纯度 221 "f$A0RL 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 m<HjL 10.6 色差 226 tQ<2K*3] 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ju6_L< 10.8 颜色渲染指数 234 PqeQe5 10.9 色差计算 235 ;SP3nU)) 10.10 参考文献 236 ^mb*w)-p? 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 |?b"my$g$ 11.1 短脉冲 238 aWK7 -n 11.2 群速度 239 5?Ao9Q]@ 11.3 群速度色散 241 yKy)fn! 11.4 啁啾(chirped) 245 R^C;D2 11.5 光学薄膜—相变 245 P+l^Ep8P 11.6 群延迟和延迟色散 246 ^]K)V 11.7 色度色散 246 87*[o 11.8 色散补偿 249 h$h`XBVZe; 11.9 空间光线偏移 256 AR2+W^aM3 11.10 参考文献 258 "N"k8,LH 12 公差与误差 260 25KZe s) 12.1 蒙特卡罗模型 260 q.tL' 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 DEp:
vlW@ 12.2.1 误差工具 267 FA GVpO[ 12.2.2 灵敏度工具 271 <GR: 5pJ% 12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?5M2DLh~ 12.2.2.2 灵敏度分布 275 P"VLGa 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 b%$C!Tq' 12.3 参考文献 276 yXmp]9$ 13 Runsheet 与Simulator 277 |pg5m*h 13.1 原理介绍 277 Nd)o1{I 13.2 截止滤光片设计 277 f%l#g ]] 14 光学常数提取 289 jC7XdYp 14.1 介绍 289 FkkB#Jk4 14.2 电介质薄膜 289 >U.uRq 14.3 n 和k 的提取工具 295 a
OHAG 14.4 基底的参数提取 302 >FhBl\oIi 14.5 金属的参数提取 306 7K4%`O
14.6 不正确的模型 306 ,~w)@.
14.7 参考文献 311 {1ceF 15 反演工程 313 W%:zvqg
v 15.1 随机性和系统性 313 )Jn80~U|1 15.2 常见的系统性问题 314 Un+Jz
?Y 15.3 单层膜 314 4 ETVyK|
15.4 多层膜 314 );LwWKa 15.5 含义 319 9)X<}*(qo 15.6 反演工程实例 319 \rO>FE 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .;s4T?j@w 15.6.2 反演工程提取折射率 327 S?<Qa; 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 MQu6Tm H 16.1 光学性质的热致偏移 329 ~;` #{$/C& 16.2 应力工具 335 ],4LvIPD 16.3 均匀性误差 339 Ss}0.5Bq 16.3.1 圆锥工具 339 upKrr 16.3.2 波前问题 341 ('oUcDOFTS 16.4 参考文献 343 &*SnDuc 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 mer{Jys 17.1 引言 345 ,|/$|$' 17.2 操作数 345 N<%,3W_-_ 18 如何在Function中编写脚本 351 R~([ 18.1 简介 351 a#=-Aj- 18.2 什么是脚本? 351 :gC2zv 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 X'<xw 18.4 基础 352 [5-5tipvWp 18.4.1 Classes(类别) 352 '@P[fSQ 18.4.2 对象 352 &B
C#u.^! 18.4.3 信息(Messages) 352 I&c#U+-A' 18.4.4 属性 352 sjGZ
,?% 18.4.5 方法 353 :SGQ4@BV 18.4.6 变量声明 353 ){~.jP=-# 18.5 创建对象 354 4 vphLAm 18.5.1 创建对象函数 355 ?0X.Ith^. 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 t=#)3C`Q} 18.5.3 丢弃对象 356 0XNb@ogo 18.5.4 总结 356 DQ$/0bq 18.6 脚本中的表格 357 !T)>q%@ai 18.6.1 方法1 357 5**xU+& 18.6.2 方法2 357 ~r3g~MCHS 18.7 2D Plots in Scripts 358 +l\Dp 18.8 3D Plots in Scripts 359 Heu@{t.[!D 18.9 注释 360 !/SFEL@_B 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 QNY{pk 18.11 一个更高级的脚本 362 V
Euv 18.12 <esc>键 364 P<~y$B 18.13 包含文件 365 HYS7=[hv6 18.14 脚本被优化调用 366 &V$R@~x 18.15 脚本中的对话框 368 Uan;}X7@ 18.15.1 介绍 368 ececN{U/ 18.15.2 消息框-MsgBox 368 4m:E:zVn 18.15.3 输入框函数 370 %k_JLddlW 18.15.4 自定义对话框 371 <Coh
&g_ 18.15.5 对话框编辑器 371 yI)2:Ca* 18.15.6 控制对话框 377 <G={Vfr 18.15.7 更高级的对话框 380
hT[O5
18.16 Types语句 384 5h&8!!$[ 18.17 打开文件 385 t@\0$V
\X 18.18 Bags 387 jsj" W&J 18.13 进一步研究 388 tP9}:gu 19 vStack 389 JT+P>\\];' 19.1 vStack基本原理 389 Jx]`!dP3 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 }PVB+i M 19.3 五棱镜 393 6*E7} 19.4 光束距离 396 n"JrjvS 19.5 误差 399 VQyDd~Za 19.6 二向分色棱镜 399 BshS@"8r 19.7 偏振泄漏 404 (Jm_2CN7X 19.8 波前误差—相位 405 PuWF:'w r 19.9 其它计算参数 405 .gB*Y!c7 20 报表生成器 406 7K~=Q Ec 20.1 入门 406 )u$A!+fo 20.2 指令(Instructions) 406 YG_3@`-< 20.3 页面布局指令 406 I/adzLQ 20.4 常见的参数图和三维图 407 ;rX4${h 20.5 表格中的常见参数 408 V>hy5hDpH 20.6 迭代指令 408 4D8q Gti 20.7 报表模版 408 <m!\Ma 20.8 开始设计一个报表模版 409 <_+8 c{G 21 一个新的project 413 TUT>* 21.1 创建一个新Job 414 ^>>Naid 21.2 默认设计 415 %}@^[E) 21.3 薄膜设计 416 CzgLgh;:T 21.4 误差的灵敏度计算 420 +#O?sI# 21.5 显色指数计算 422 : v]< h 21.6 电场分布 424 MkQSq
MU= 后记 426 q8U]Hyp(` z;-2xD0&U[ a}yJ$6xi 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 2axH8ONMu o_cj-
《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] hod|o1C& G 2mv6xK' 目 录 wi!Ml4Sb ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 x`$4 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 *@yYqI<1a 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 1:-$mt_* 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 %P?W^mI 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %FwLFo^v 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 #/n\C 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Cu}Rq!9i 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 R{.ku!w 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !=a8^CV 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 # H4dmnV 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 kWWb<WRW: 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ydpsPU?wj5 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 CEwG#fZ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 N-suBRnW 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 _9<Ko.GVq 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 )yjHABGJ hNQ,U{`;^ 价 格:400元
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