上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 zrL$]Oy}x 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 .4M.y:F 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 A gg<tM{yB 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 aS{n8P6vW 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 st3l2Q [attachment=120542] )=Z>#iH1 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 !&ayYu##{ 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ]&xk30 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 ?{|q5n 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 RO VW s/ 1. Essential Macleod软件介绍 zRl3KjET 1.1 介绍软件 RLynEV;] 1.2 创建一个简单的设计 %C'?@,7C 1.3 绘图和制表来表示性能 }Jve cRtg1 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 V2?=4mb 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) YEs & 1.6 特定设计的公式技术 fc%xS7& 1.7 交互式绘图 4(~L#}:r! 2. 光学薄膜理论基础 C'+YQ]u 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 gsvuE 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 z(e xA 3. 材料管理 /-ch`u md 3.1 材料模型 iNz=e=+Si 3.2 介质薄膜光学常数的提取 }~jlj 3.3 金属薄膜光学常数的提取 YTX,cj#D^& 3.4 基板光学常数的提取 1k5Who@ 4. 光学薄膜设计优化方法 .hP D$o 4.1 参考波长与g ,j}6?
Q 4.2 四分之一规则 *_{j=sd 4.3 导纳与导纳图 z^q0/' 4.4 斜入射光学导纳 P[#e/qnXu| 4.5 光学薄膜设计的进展 o\<ULW* 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ;|5F[ 4.6.1 优化目标设置 e*(!^Q1 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) M~#g RAUJ 4.6.3 膜层锁定和链接 # E^1|: 5. Essential Macleod中各个模块的应用 y$F'(b|) 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 _476pZ_ 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 E7 Ul;d
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 gQelD6c 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 d>&,9c% 5.5 如何在Function中编写脚本 A*R^n}sh 6. 光学薄膜系统案例 e&F8m%t 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 He/8=$c% 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 o&zJ=k[4 6.3 Stack应用范例说明 N1S{suic 7. 薄膜性能分析 %2/EaaR 7.1 电场分布 qIE9$7*X 7.2 公差与灵敏度分析 +z\^t_"f 7.3 反演工程 Nk
8 B_{ 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 )?naN 8. 真空技术 /cdC'g 8.1 常用真空泵介绍 k&q;JyUi 8.2 真空密封和检漏 K5VWt)Z# 9. 薄膜制备技术 7P5)Z-K[ 9.1 常见薄膜制备技术 L>&t|T2 10. 薄膜制备工艺 K.nHii 10.1 薄膜制备工艺因素 f:,DWw`B 10.2 薄膜均匀性修正技术 [{,T.;'<j 10.3 光学薄膜监控技术 4Zddw0|2 11. 激光薄膜 GL0L!="! 11.1 薄膜的损伤问题 "]x'PI 4J 11.2 激光薄膜的制备流程 d-ZJL6- 11.3 激光薄膜的制备技术 SC!RbW@3 12. 光学薄膜特性测量 c(E{6g? 12.1 薄膜光谱测量 $q{!5-e 12.2 薄膜光学常数测量 J T7nG.9 12.3 薄膜应力测量 &|ex`nwc0 12.4 薄膜损伤测量 Al^d$FaF 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] t?&|8SId
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] 1..+F0U
内容简介 9Cp-qA%t Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [z\$?VJspQ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 q=m'^
,gPS 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 TR`U-= jH, 1~`fVg
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 @6sqMw} P [ck84F/ 目录 f:w?pE Preface 1 9(7-{,c 内容简介 2 Tc:)-
z[o 目录 i qLG&WB 1 引言 1 A#<? 4& 2 光学薄膜基础 2 [;yOBF 2.1 一般规则 2 )
7@ `ut 2.2 正交入射规则 3 *W1dG#Np} 2.3 斜入射规则 6 q5+4S5R*^ 2.4 精确计算 7 D|p9qe5% 2.5 相干性 8 I)[DTCJ~ 2.6 参考文献 10 1{.|+S Z! 3 Essential Macleod的快速预览 10 L,`LN> 4 Essential Macleod的特点 32 k FD;i 4.1 容量和局限性 33 IdYt\^@> 4.2 程序在哪里? 33 1#2 I 4.3 数据文件 35 =zPCrEk0 4.4 设计规则 35 vWv" 4.5 材料数据库和资料库 37 a0E)2vt4 4.5.1材料损失 38 pRpBhm;iJ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 XFpjYwn 4.5.2 材料库 41 h"Q8b}$^) 4.5.3导出材料数据 43 #L;dI@7C 4.6 常用单位 43 N!=v4f 4.7 插值和外推法 46 ]|ag 4.8 材料数据的平滑 50 4f@rv^f(X 4.9 更多光学常数模型 54 uyWunpT 4.10 文档的一般编辑规则 55 mdDOvm:& 4.11 撤销和重做 56 _8J.fT$${ 4.12 设计文档 57 ((;!<5-`s 4.10.1 公式 58 -f^tE,- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 q~o<*W 4.10.3 沉积密度 59 $( kF# 4.10.4 平行和楔形介质 60 q3N
jky1w 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 P|E| $)m 4.10.4 性能 61 "Gzz4D 4.10.5 保存设计和性能 64 + GN(Ug'R 4.10.6 默认设计 64 _ <V)-Y 4.11 图表 64 exUFS5d 4.11.1 合并曲线图 67 [l??A3G 4.11.2 自适应绘制 68 ,/2Vt/lt 4.11.3 动态绘图 68 s
5Qcl;} 4.11.4 3D绘图 69
ltSU fI 4.12 导入和导出 73 4k1xy## 4.12.1 剪贴板 73 pYEMmZ?L 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 /Cr%{'Pzk 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 AV]2euyn 4.13 背景 77 2@],ZLa 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ec;o\erPG 4.15 生成Rugate 84 WE#^a6 4.16 参考文献 91 pah'>dAL 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 {}n^cq 5.1 Jobs 92 'JE`(xD 5.2 创建一个新Job(工作) 93 /36:ms A 5.3 输入材料 94 EME|k{W 5.4 设计数据文件夹 95 _N cR)2 5.5 默认设计 95 RbnVL$c 6 细化和合成 97 qInR1 r< 6.1 优化介绍 97
jB2[( 6.2 细化 (Refinement) 98 #zs~," dRv 6.3 合成 (Synthesis) 100 ;igIZ$& 6.4 目标和评价函数 101 h(dvZ=
% 6.4.1 目标输入 102 F/{!tx 6.4.2 目标 103 %[TR^Th6 6.4.3 特殊的评价函数 104 5C]x!>kX 6.5 层锁定和连接 104 0#hlsfc]\ 6.6 细化技术 104 !f[_+CD 6.6.1 单纯形 105 q?yVR3]M 6.6.1.1 单纯形参数 106 /{_:{G!Q0 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 cV6D<,) 6.6.2.1 Optimac参数 108 #trK^( 6.6.3 模拟退火算法 109 !e<^?
r4 6.6.3.1 模拟退火参数 109 0s[Hkhls 6.6.4 共轭梯度 111
UI0VtR] 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 2%m BK 6.6.5 拟牛顿法 112 LEdh!</'24 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 b8UO,fY q 6.6.6 针合成 113 <%eG:n,# 6.6.6.1 针合成参数 114 4+8@`f>s 6.6.7 差分进化 114 @":
^)87 6.6.8非局部细化 115 Wac&b 6.6.8.1非局部细化参数 115 :5<UkN)R( 6.7 我应该使用哪种技术? 116 k y7Gwc 6.7.1 细化 116 kTgEd]^&D 6.7.2 合成 117 x 9fip- 6.8 参考文献 117 1Pu~X
\sO 7 导纳图及其他工具 118 8nV+e~-w 7.1 简介 118 24eLB?H 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 T8$y[W-c 7.2.1 四分之一波长规则 119 73;GW4, 7.2.2 导纳图 120 u*`GiZAO 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }Sv:`9= 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 $U~]=.n 7.5 斜入射导纳图 141 TvbE2Q;/UL 7.6 对称周期 141 aW7^d'ZZ\ 7.7 参考文献 142 gM:".Ee 8 典型的镀膜实例 143 ON(kt3.h 8.1 单层抗反射薄膜 145 wmLs/:~ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 %h!B^{0 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 (!WD1w 8.4 W-膜层 148 Q;rX;p^W 8.5 V-膜层 149
8d'0N 8.6 V-膜层高折射基底 150 5rik7a)Z] 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 )SGq[B6@I 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |CyE5i0 8.9 四层抗反射薄膜 153 [4f{w%~^ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 b>ySv 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Avb\{)s+ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 tWcHb # 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Dlvz) 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 #ABZ&Z 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ww1[rCh\+ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 K$=zi}J W 8.17 1/4波长堆栈 162 wibNQ`4k 8.18 陷波滤波器 163 D&y7-/ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 0g8NHkM:2a 8.20 褶皱 165 cr;da) 8.21 消偏振分光器1 169 es7=%!0 8.22 消偏振分光器2 171 V'gh6`v 8.23 消偏振立体分光器 172 ?:0Jav 8.24 消偏振截止滤光片 173 f!X[c?Xy" 8.25 立体偏振分束器1 174 Z%UP6% 8.26 立方偏振分束器2 177 >A"(KSNL 8.27 相位延迟器 178 G3T]`Atf 8.28 红外截止器 179 5b7RYV 8.29 21层长波带通滤波器 180 Ny/MJ#Lq 8.30 49层长波带通滤波器 181 p]c%f2E>d 8.31 55层短波带通滤波器 182 5z)~\;[ - 8.32 47 红外截止器 183 J{G?-+` 8.33 宽带通滤波器 184 K|=A: 8.34 诱导透射滤波器 186 @=u3ZVD 8.35 诱导透射滤波器2 188 \ Cj7k^ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Ow,b^| 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 FS1z`wYP 8.35 增益平坦滤波器 193 )4 ;`^]F 8.38 啁啾反射镜 1 196 Fsg*FH7J 8.39 啁啾反射镜2 198 (QB2T2x 8.40 啁啾反射镜3 199 .=;
; 8.41 带保护层的铝膜层 200 47/iF97 8.42 增加铝反射率膜 201 \~ wMfP8 8.43 参考文献 202 <1!O1ab 9 多层膜 204 klhtKp_p 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Y_P!B^z3 9.2 内部透过率 204 ,/unhfs1q 9.3 内部透射率数据 205 a8Wwq?@ 9.4 实例 206 f*8DCh!r" 9.5 实例2 210 %&bY]w 9.6 圆锥和带宽计算 212 3G4-^hY< 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 TD_Oo-+\ 10 光学薄膜的颜色 216 V(*(F7+ 10.1 导言 216 93hxSRw 10.2 色彩 216 #`s"WnP9'! 10.3 主波长和纯度 220 Z3!`J& 10.4 色相和纯度 221 }(u
ol 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 P!k{u^$L 10.6 色差 226 ^<AwG= 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 }ad|g6i` 10.8 颜色渲染指数 234 / XIhj 10.9 色差计算 235 SgOheN- 10.10 参考文献 236 <a+Z;> 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 %8x#rohP 11.1 短脉冲 238 0m ? )ROaJ 11.2 群速度 239 E_LN]v 11.3 群速度色散 241 zx7{U8*`< 11.4 啁啾(chirped) 245 u#SWj,X 11.5 光学薄膜—相变 245 Ga'swP=hf 11.6 群延迟和延迟色散 246 {l>hMxij 11.7 色度色散 246 >o,TZc\ 11.8 色散补偿 249 A5w6]: f2 11.9 空间光线偏移 256 0ZO2#>gh$ 11.10 参考文献 258 v.5+7,4 12 公差与误差 260 u<&m]]* 12.1 蒙特卡罗模型 260 DlNX 3 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ;bhT@aB1 12.2.1 误差工具 267 W@!S%Y9 12.2.2 灵敏度工具 271 ete.!*= 12.2.2.1 独立灵敏度 271 #3d(M 12.2.2.2 灵敏度分布 275 >&k-'`Nw 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 pD]OT-8 12.3 参考文献 276 -Y;3I00( 13 Runsheet 与Simulator 277
j
<RrLn_ 13.1 原理介绍 277 gPc=2 13.2 截止滤光片设计 277 7=, ; h 14 光学常数提取 289 c[Zje7 @ 14.1 介绍 289 -|\ZrE_h 14.2 电介质薄膜 289 2GStN74X r 14.3 n 和k 的提取工具 295 7"xd1l?zz 14.4 基底的参数提取 302 WMP,\=6k0 14.5 金属的参数提取 306 <rS F* 14.6 不正确的模型 306 RCLeA=/N@0 14.7 参考文献 311 Xb,3Dvf 15 反演工程 313 pY$Q 15.1 随机性和系统性 313 }4S6Xe 15.2 常见的系统性问题 314 76` .Y 15.3 单层膜 314 dAe')N:KPI 15.4 多层膜 314 !5?<% * 15.5 含义 319 ^/=KK:n~ 15.6 反演工程实例 319 6\S~P/PkE 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ua `RJ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 /5AJ.r 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 .w,q0<} 16.1 光学性质的热致偏移 329 /|&*QLy 16.2 应力工具 335 :p6M= 16.3 均匀性误差 339 G 9vpt M 16.3.1 圆锥工具 339 IdxzE_@ 16.3.2 波前问题 341 pFz`}?c0 16.4 参考文献 343 <_KIK 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 9JKEw 17.1 引言 345 q6X1P"%. 17.2 操作数 345 EDs\,f} 18 如何在Function中编写脚本 351 B48={ 18.1 简介 351 ~.lPEA %% 18.2 什么是脚本? 351 fLAw12;^ 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 t<?,F 18.4 基础 352 w"&n?L 18.4.1 Classes(类别) 352 fa2kG&, _ 18.4.2 对象 352 9k[9P;"F: 18.4.3 信息(Messages) 352 GNJj=1Lsd 18.4.4 属性 352
^L&iR0 18.4.5 方法 353 `x%>8/ 18.4.6 变量声明 353 *siFj
CN< 18.5 创建对象 354 5d!-G$@ 18.5.1 创建对象函数 355 S?BG_J6A7 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 Lbb0_-'] 18.5.3 丢弃对象 356 t.\dpBq 18.5.4 总结 356 U\!X,a*ts{ 18.6 脚本中的表格 357 =zs`#-^8 18.6.1 方法1 357 }f7j8py 18.6.2 方法2 357 6/dI6C! 18.7 2D Plots in Scripts 358 DkAAV9* 18.8 3D Plots in Scripts 359 0Pi:N{x8 18.9 注释 360 .Rf_Cl 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 DrK{}uM 18.11 一个更高级的脚本 362 liz~7RY4 18.12 <esc>键 364 2Q:+_v 18.13 包含文件 365 -!]ZMi9 18.14 脚本被优化调用 366 l0i^uMS 18.15 脚本中的对话框 368 pIKPXqA 18.15.1 介绍 368 t}tEvh 18.15.2 消息框-MsgBox 368 xWQ`tWA:J 18.15.3 输入框函数 370 ZO$%[ftb 18.15.4 自定义对话框 371 h;NYdX5 18.15.5 对话框编辑器 371 ,L'zRyP 18.15.6 控制对话框 377 qK&d]6H
R 18.15.7 更高级的对话框 380 cq4Ipe 18.16 Types语句 384 g_COp"!~9 18.17 打开文件 385 ~z;FP$U 18.18 Bags 387 As<bL:>dE 18.13 进一步研究 388 ZLAy-
9^Y 19 vStack 389 gEE\y{y 19.1 vStack基本原理 389 x{WD;$J 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 i@M[>~ 19.3 五棱镜 393 UByv?KZi 19.4 光束距离 396 K0Fh%Y4)QH 19.5 误差 399 k7usMVAA 19.6 二向分色棱镜 399 \d$!a5LF} 19.7 偏振泄漏 404 _b;{_g 19.8 波前误差—相位 405 /FEVmH?
19.9 其它计算参数 405 aPbE;"
f 20 报表生成器 406 KRDmY+ 20.1 入门 406 G{%L B}2 20.2 指令(Instructions) 406 0F><P?5 20.3 页面布局指令 406 yd`mG{Z 20.4 常见的参数图和三维图 407 WlBc.kFck 20.5 表格中的常见参数 408 SQt4v" 20.6 迭代指令 408 =P
#] 20.7 报表模版 408 ;cN{a& 20.8 开始设计一个报表模版 409 p|D/;Mk 21 一个新的project 413 t" Z6[XG 21.1 创建一个新Job 414 C/6V9;U 21.2 默认设计 415 PdtvU-( 21.3 薄膜设计 416
`~CQU 21.4 误差的灵敏度计算 420 r#]WI| 21.5 显色指数计算 422 6 3,H{ 21.6 电场分布 424 !^Y(^RS@ 后记 426 P;]F(in= L AAHEv ?zHPJLv|Y 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ~|xA4u5LG oWo-
j< 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] naznayy ]G< Vg5 目 录 7,9=uk>0\ ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 A` o8'+`C 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 FZE"7ec>m 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 mk+B9?;cF- 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 Jidwt$1l( 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 `
3K)GA 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 0$fpIz 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 uw+M 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 @xYlS5{ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 >y:,9; 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 KE3;V2Ym f 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 >{J(>B\ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 :I^;jdL 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 !lc[ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 j@uOOhy 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 74k dsgQf 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 G.d TvLv dNL(G%Qj+" 价 格:400元
|