上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 UwQ3q 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ;3sT>UB 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Sb[rSczS~ 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 T}]Ao 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 zFuUv_t [attachment=120542] c\4n 7m,y 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 (*fsv
g~ 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 HNuwq\w 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 e@,,;YO#4 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 Pjb9FCA' 1. Essential Macleod软件介绍 7RD` *s 1.1 介绍软件 <p0$Q!^dK= 1.2 创建一个简单的设计 |H_)u 1.3 绘图和制表来表示性能 ;+b}@e 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 @7^#_772 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) khv! \^&DD 1.6 特定设计的公式技术 FVQWz[N 1.7 交互式绘图 D#t5*bwK 2. 光学薄膜理论基础 n"K7@[d 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 #1bgV 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 }5tn 3. 材料管理 Eq<#pX6 3.1 材料模型 0RSa{iS*A 3.2 介质薄膜光学常数的提取 H@j ^, 3.3 金属薄膜光学常数的提取 2aje$w- 3.4 基板光学常数的提取 nG%j4r ; 4. 光学薄膜设计优化方法 #Aan v 4.1 参考波长与g ]VYl Eqe 4.2 四分之一规则 ToJru 4.3 导纳与导纳图 I3x}F$^ 4.4 斜入射光学导纳 &s < 4.5 光学薄膜设计的进展 Csc2 yI%3 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ,6buo~?W: 4.6.1 优化目标设置 GKd>AP_ 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) 3CHte*NL= 4.6.3 膜层锁定和链接 F_Pd\Aq8 5. Essential Macleod中各个模块的应用
#129 i2 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )w`Nkx 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 XbOL/6V ^[ 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 j5)qF1W, 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 r#}Sy\ 5.5 如何在Function中编写脚本 HYH!; 6. 光学薄膜系统案例 5UM[Iz 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 N+V-V-PVk 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 DJW1kR 6.3 Stack应用范例说明 vxt^rBA 7. 薄膜性能分析 nz',Zm}, 7.1 电场分布 :ZIcWIV- 7.2 公差与灵敏度分析 Ji[w; [qL 7.3 反演工程 FTenXJ/c 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 ^,5.vfES 8. 真空技术 >lW*%{|b$^ 8.1 常用真空泵介绍 T:&+#0< 8.2 真空密封和检漏 rN~`4mZ 9. 薄膜制备技术 awK'XFk 9.1 常见薄膜制备技术 nJya1AH; 10. 薄膜制备工艺 ]x G4T>S 10.1 薄膜制备工艺因素 T7Ac4LA 10.2 薄膜均匀性修正技术 \nyFN 10.3 光学薄膜监控技术 ({9!P30: 11. 激光薄膜 HlSuhbi'@ 11.1 薄膜的损伤问题 Wd}mC<rv1 11.2 激光薄膜的制备流程 Z9D4;1 11.3 激光薄膜的制备技术 1m)/_y~1
k 12. 光学薄膜特性测量 80EY7#r@w 12.1 薄膜光谱测量 IXN4?=)I 12.2 薄膜光学常数测量 Nw2 bn 12.3 薄膜应力测量 zef,*dQY 12.4 薄膜损伤测量 .'1j5Y-l`N 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] z>:7}=H0
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] K5lp-F
内容简介 eQx"nl3U% Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
c$|dK 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 NHF?73: 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,lJ6"J\8. ^IpiNY/%Q
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 9F](%/ 5!zvoX9 目录 /<$"c"UQ Preface 1 G~L?q~b 内容简介 2 ?Q3~n ^ 目录 i Fc~w`~tv 1 引言 1 srLr~^$j[ 2 光学薄膜基础 2 }j1Zk4}[x 2.1 一般规则 2 ^gyp-
! 2.2 正交入射规则 3 V2,WP 2.3 斜入射规则 6 ^BX@0"&- 2.4 精确计算 7 0AKwZ'
&H 2.5 相干性 8 o
z{j2% 2.6 参考文献 10 BfT, 3 Essential Macleod的快速预览 10
A*~1Uz\t 4 Essential Macleod的特点 32 i)i)3K2 4.1 容量和局限性 33 )X;cS}
yp 4.2 程序在哪里? 33 <\g&%c, 4.3 数据文件 35 l%(`<a]VIB 4.4 设计规则 35 t`,IW{ 4.5 材料数据库和资料库 37 })lT fy 4.5.1材料损失 38 %UQB?dkf$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 gj,J3x4TK/ 4.5.2 材料库 41 &;U7/?Q 4.5.3导出材料数据 43 A'1AU:d 4.6 常用单位 43 {7>CA'> 4.7 插值和外推法 46 O)uM&B= 4.8 材料数据的平滑 50 vqOLSE"t*O 4.9 更多光学常数模型 54 OX/.v?c 4.10 文档的一般编辑规则 55 '5/}MMT 4.11 撤销和重做 56 bV*zMoD# 4.12 设计文档 57 vGwD~R 4.10.1 公式 58 u^zitW!X$ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <]^;/2.B 4.10.3 沉积密度 59 dm=F:\C 4.10.4 平行和楔形介质 60 @:9fS 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rDX'oP: 4.10.4 性能 61 (mIJI,[xn 4.10.5 保存设计和性能 64 .Pes{uHg 4.10.6 默认设计 64 ;kW}'&Ug 4.11 图表 64 n
E}<e: 4.11.1 合并曲线图 67 Ja v2A6a 4.11.2 自适应绘制 68 *P R_Y=v% 4.11.3 动态绘图 68 L?27q 4.11.4 3D绘图 69 MlK`sH6 4.12 导入和导出 73 G+ v, Hi1 4.12.1 剪贴板 73 $>ZP%~O
4.12.2 不通过剪贴板导入 76 9m!! b{ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Z/kaRnG[@t 4.13 背景 77 1DLG]-j} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ioNa~F& 4.15 生成Rugate 84 Jrd4a~XP 4.16 参考文献 91 ,&&M|,NQ&s 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 >2CusT 2 5.1 Jobs 92 A1QI4.K 5.2 创建一个新Job(工作) 93 !x$:8R 5.3 输入材料 94 cYM~IA 5.4 设计数据文件夹 95 Cz@FZb8 5.5 默认设计 95 pl x/}ah8 6 细化和合成 97 H<Kkj 6.1 优化介绍 97 2Uv3_i< 6.2 细化 (Refinement) 98 d&T6p&V$ 6.3 合成 (Synthesis) 100 [AX"ne#M* 6.4 目标和评价函数 101 dH2]ZE0V 6.4.1 目标输入 102
Q
A)9 6.4.2 目标 103 ::OFW@dS 6.4.3 特殊的评价函数 104 9c^skNbS 6.5 层锁定和连接 104 n!ZP?]FR 6.6 细化技术 104 w"a 9'r 6.6.1 单纯形 105 hK39_A- 6.6.1.1 单纯形参数 106 4Wla&yy 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 H*{k4 6.6.2.1 Optimac参数 108 nl'J.dJe 6.6.3 模拟退火算法 109 G?1x+H;o5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 K 5qLBz@U 6.6.4 共轭梯度 111 JC&6q>$ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 U8K&Q4^ 6.6.5 拟牛顿法 112 -|Yh/ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 r'd:SaU+ 6.6.6 针合成 113 Vo9>o@FlLM 6.6.6.1 针合成参数 114 R] Disljq 6.6.7 差分进化 114 7.$]f71z 6.6.8非局部细化 115 w`j*W$82 6.6.8.1非局部细化参数 115 ]CIQq1iY 6.7 我应该使用哪种技术? 116 OgKWgvy 6.7.1 细化 116 /1 US, 6.7.2 合成 117 Q)G!Y
(g\ 6.8 参考文献 117 B 9LSxB 7 导纳图及其他工具 118 E#<7\p> 7.1 简介 118 J&63Z 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 &gWMl`3^*! 7.2.1 四分之一波长规则 119 Yz2{LW[K 7.2.2 导纳图 120 ,TF<y#wed 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >G<\1R 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Ehb?CnV#J 7.5 斜入射导纳图 141 :/@k5#DY 7.6 对称周期 141 n9kd2[s| 7.7 参考文献 142 tg7C;rJ 8 典型的镀膜实例 143 -_2Dy1 8.1 单层抗反射薄膜 145 qSEB}1 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 YER:ICQ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 AZxrJ2G 8.4 W-膜层 148 3`&VRF8 8.5 V-膜层 149 ^91sl5c8yD 8.6 V-膜层高折射基底 150 @[d#mz 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 J4gI=@e 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 X2\E9hJg 8.9 四层抗反射薄膜 153 <`c25ih.4 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 OgEUq'' 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 /&D'V_Q`* 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 0 NQ7#A 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 H\)gE> 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <#xrrRhm} 8.15十五层宽带抗反射膜 159 c8#T:HM|` 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Zk]k1]u*5 8.17 1/4波长堆栈 162 *>e~_{F 8.18 陷波滤波器 163 6Cl+KcJH 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 s.^c..e75C 8.20 褶皱 165 Lzh9DYU6 8.21 消偏振分光器1 169 uQ:Qb| 8.22 消偏振分光器2 171 gI)w^7Gi 8.23 消偏振立体分光器 172 s8t f@H4r 8.24 消偏振截止滤光片 173 kU#:I9PO 8.25 立体偏振分束器1 174 0=OD?48< 8.26 立方偏振分束器2 177 M0O>Ljo4RN 8.27 相位延迟器 178 T$H2'tK| 8.28 红外截止器 179 <^#P6 8.29 21层长波带通滤波器 180 #mgA/q?A 8.30 49层长波带通滤波器 181 0fnZR$PB 8.31 55层短波带通滤波器 182 7^B3lC) 8.32 47 红外截止器 183 i[^k.W3gf 8.33 宽带通滤波器 184 UskZ%J 8.34 诱导透射滤波器 186 r~)VGdB+ 8.35 诱导透射滤波器2 188 X!T|07#c 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 |.j^G2x 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 /"(b.& 8.35 增益平坦滤波器 193 G3H#XK D 8.38 啁啾反射镜 1 196 M} O[`Fx{W 8.39 啁啾反射镜2 198 jo_o`j 8.40 啁啾反射镜3 199 |xq}'.C 8.41 带保护层的铝膜层 200 "YuZ fL`bb 8.42 增加铝反射率膜 201 pAENXC\, 8.43 参考文献 202 hgj CXl 9 多层膜 204 L<0=giE 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 /ca(a\@R 9.2 内部透过率 204 )nhfkW=e 9.3 内部透射率数据 205 2[.5o z` 9.4 实例 206 3nwz<P 9.5 实例2 210 BpH|/7 9.6 圆锥和带宽计算 212 (Ar?QwP9> 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 PM@XtL7J 10 光学薄膜的颜色 216 !{IC[g n 10.1 导言 216 5QR}IxQ 10.2 色彩 216 ?4:rP@ 10.3 主波长和纯度 220 [d0%.+U 10.4 色相和纯度 221 #De(*&y2 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 3KtAK9PT 10.6 色差 226 CP +4k.)*O 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 9KXym } 10.8 颜色渲染指数 234 YQ52~M0L 10.9 色差计算 235 6mwvI4) 10.10 参考文献 236 8AryIgy>@ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 vsH3{:&;"P 11.1 短脉冲 238 n-d:O\] 11.2 群速度 239 XHy? 11.3 群速度色散 241 Ga.0Io&}C 11.4 啁啾(chirped) 245 ~fBex_.o* 11.5 光学薄膜—相变 245 U>oW~Z 11.6 群延迟和延迟色散 246 &uPDZ#C- 11.7 色度色散 246 Q]/B/ 11.8 色散补偿 249 $iwIF7,\P 11.9 空间光线偏移 256 (e(Rr4 11.10 参考文献 258 RXM}hqeG 12 公差与误差 260 MZ)T0|S_ 12.1 蒙特卡罗模型 260 O5O.><RP 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 691G15 12.2.1 误差工具 267 )qmFK
.;% 12.2.2 灵敏度工具 271 |IAW{_9)U 12.2.2.1 独立灵敏度 271 t|.Ft<c# 12.2.2.2 灵敏度分布 275 _1P`]+K\D$ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 x =h0Fq,T 12.3 参考文献 276 yu=piP 13 Runsheet 与Simulator 277 q4)Ey 13.1 原理介绍 277 #J\s%60pt 13.2 截止滤光片设计 277 8|6~o.B.G 14 光学常数提取 289 ]Ym=+lgi 14.1 介绍 289 BO"qD[S 14.2 电介质薄膜 289 g*F~8+]Y 14.3 n 和k 的提取工具 295 +|9f%f6vp 14.4 基底的参数提取 302 )&Mq,@ 14.5 金属的参数提取 306 >d97l&W 14.6 不正确的模型 306 Uh}+"h5 14.7 参考文献 311 W]zwghxH 15 反演工程 313 vnL?O8`c 15.1 随机性和系统性 313 J]dW1boT@ 15.2 常见的系统性问题 314 GoazH?% 15.3 单层膜 314 W1hX?!xp! 15.4 多层膜 314 z<i,D08|d 15.5 含义 319 6(>WGR 15.6 反演工程实例 319 QypZH"Np 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 /eb-'m 15.6.2 反演工程提取折射率 327 y`6\L$c 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 L$kgK# T 16.1 光学性质的热致偏移 329 wh*:\_!0\ 16.2 应力工具 335 BtzYA" 16.3 均匀性误差 339 H~eGgm;p 16.3.1 圆锥工具 339 94y9W# 16.3.2 波前问题 341 xvB8YW" 16.4 参考文献 343 < |