上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 tc{23Rf% 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 Lh &L5p7 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ~X;(m<f2 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 w?AE8n$8 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 ]sjOn?YA+ [attachment=120542] ``kKi3TWJ 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 b>%I=H%g 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 l!ye\ 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 w9}I*Nra 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 na
FZ<'t>& 1. Essential Macleod软件介绍 jkNZv. )p 1.1 介绍软件 $ZDh8
*ND 1.2 创建一个简单的设计 i[ BR"( 1.3 绘图和制表来表示性能 lb1(1|# 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 4(JxZ49 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) s=huOjKL]
1.6 特定设计的公式技术 yh5KN_W 1.7 交互式绘图 ej<z]{`05 2. 光学薄膜理论基础 YKh%`Y1< 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 [jumq1 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 1&YP}sg) 3. 材料管理 i=2+1;K 3.1 材料模型 CWkm\= 3.2 介质薄膜光学常数的提取 Qb# S)[6s+ 3.3 金属薄膜光学常数的提取 q@(N 38D 3.4 基板光学常数的提取 I{cn ,,8 4. 光学薄膜设计优化方法 ==(M
vu` 4.1 参考波长与g ;T52aX 4.2 四分之一规则 ]Ly)%a32 4.3 导纳与导纳图 =GR
Em5 4.4 斜入射光学导纳 +N4h
Q" 4.5 光学薄膜设计的进展 kd\G> 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Mdwh-Cis/ 4.6.1 优化目标设置 udc9$uO 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) `bC_J,>_ 4.6.3 膜层锁定和链接 N=+Up\h 5. Essential Macleod中各个模块的应用 1xtbhk]D 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 w#b~R^U 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 <E\BKC%M 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 fQx 4/4j 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 0XozYyq 5.5 如何在Function中编写脚本 ~`N|sI, 6. 光学薄膜系统案例 t%dPj8~ 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 GV[[[fu 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 :,VyOmf 6.3 Stack应用范例说明 kD;BwU[ 7. 薄膜性能分析 \O/=g6w|t} 7.1 电场分布 E0oJ|My 7.2 公差与灵敏度分析 qbAoab53 7.3 反演工程 L:^'cl}
G 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 Ta[}k/zW 8. 真空技术 P7Y[?='v 8.1 常用真空泵介绍 lMO0d_:b1 8.2 真空密封和检漏 ,zw 9. 薄膜制备技术 zR<jZwo]# 9.1 常见薄膜制备技术 "1#,d#Q $ 10. 薄膜制备工艺 Ahebr{u 10.1 薄膜制备工艺因素 WD)[Ac[ 10.2 薄膜均匀性修正技术 a,tP.Xsl 10.3 光学薄膜监控技术 9SFiL#1 11. 激光薄膜 G/`_$ c 11.1 薄膜的损伤问题 {jq-dL 11.2 激光薄膜的制备流程 '",5Bu#C 11.3 激光薄膜的制备技术 HxM-VK ' 12. 光学薄膜特性测量 `H|g~7KD& 12.1 薄膜光谱测量 0s4j> 12.2 薄膜光学常数测量 kdo)y(fn@ 12.3 薄膜应力测量 -J6}7>4^8} 12.4 薄膜损伤测量 0+H"$2/ 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] eX$Biv1N
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] +<|w|c
内容简介 }ps6}_FE Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5s|gKM 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 v]1rH$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 N,1wfOE A6Qi^TI
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 [gE2lfaEy fGfv{4R 目录 L@ay4,e.bz Preface 1 qy]-YJZ 内容简介 2 BxG;vS3>*e 目录 i WgL!@g 1 引言 1 :H87x?e[ 2 光学薄膜基础 2 >9klh-f 2.1 一般规则 2 a|>MueJ 2.2 正交入射规则 3 _1Eyqh`oh 2.3 斜入射规则 6 mU_O64 2.4 精确计算 7 n#R!`*[ 2.5 相干性 8 aG ,uF 2.6 参考文献 10 ])JJ`Z8Bk 3 Essential Macleod的快速预览 10 p[$I{F*a 4 Essential Macleod的特点 32 8BN'fWl&E 4.1 容量和局限性 33 M1i|qjb:l 4.2 程序在哪里? 33 WZr~Pb9 4.3 数据文件 35 _Dv^~e1c 4.4 设计规则 35 3_ >R's8P 4.5 材料数据库和资料库 37 I@B7uFj 4.5.1材料损失 38 0Nfj}sXCWE 4.5.1材料数据库和导入材料 39 3m^BYr*y^ 4.5.2 材料库 41 jL8zH 4.5.3导出材料数据 43 tEUmED0FY 4.6 常用单位 43 hG67%T'}A 4.7 插值和外推法 46 Y `{U45 4.8 材料数据的平滑 50 O<hHo]jLF 4.9 更多光学常数模型 54 bODl
q 4.10 文档的一般编辑规则 55 }B5I#Af7 4.11 撤销和重做 56 p#kC#{<nE 4.12 设计文档 57 JjmL6(*ui 4.10.1 公式 58 RD4)NN6y5} 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 d.Z]R&X08 4.10.3 沉积密度 59 zxh"@j$? 4.10.4 平行和楔形介质 60 EI;\of2, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 (gZ!o_ 4.10.4 性能 61 >g[W@FhT'k 4.10.5 保存设计和性能 64 X_qXH5^% 4.10.6 默认设计 64 sa` Yan 4.11 图表 64 ST3qg6Cq2J 4.11.1 合并曲线图 67 VC.?]'OqD 4.11.2 自适应绘制 68 T)u w2 4.11.3 动态绘图 68 AUC<
m. 4.11.4 3D绘图 69 vf2K2\fn 4.12 导入和导出 73 ^Toi_ 4.12.1 剪贴板 73 +6=!ve} 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 BUb(BzC 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 4(R2V] 4.13 背景 77 ,B2-'O 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 %gaKnT(|r 4.15 生成Rugate 84 e0L;V@R 4.16 参考文献 91 tX251S 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 asg>TOW 5.1 Jobs 92 _#C}hwOR>X 5.2 创建一个新Job(工作) 93 fDd!Mt 5.3 输入材料 94 &f*d FUM]I 5.4 设计数据文件夹 95 |=LkV"_v 5.5 默认设计 95 K>[H@|k\k
6 细化和合成 97 W%1S:2+Kl 6.1 优化介绍 97 zjA/Z( 6.2 细化 (Refinement) 98 q8Dwu3D 6.3 合成 (Synthesis) 100 }kj6hnQ 6.4 目标和评价函数 101 {<kG{i/ 6.4.1 目标输入 102 Bt,Xe~$z- 6.4.2 目标 103 O[!o1. 6.4.3 特殊的评价函数 104 D@^ZpN8r 6.5 层锁定和连接 104 >| ?T| 6.6 细化技术 104 {n]sRz 6.6.1 单纯形 105
qR qy 6.6.1.1 单纯形参数 106 2?QJh2 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 LzRiiP^q 6.6.2.1 Optimac参数 108 D.(G 9H 6.6.3 模拟退火算法 109 ^>Y%L(> 6.6.3.1 模拟退火参数 109 R(sM(x5a` 6.6.4 共轭梯度 111 B5:g{,C 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <^U(ya 6.6.5 拟牛顿法 112 BuTIJb+Q\ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 91H0mP>ki 6.6.6 针合成 113 FE}!bKh 6.6.6.1 针合成参数 114 :eW~nI.Vc 6.6.7 差分进化 114 Db(_T8sU 6.6.8非局部细化 115 |lxy< C4V 6.6.8.1非局部细化参数 115 `fZD%o3l 6.7 我应该使用哪种技术? 116 n#Roz5/U 6.7.1 细化 116 J\3} il
N 6.7.2 合成 117 -kbm$~P 6.8 参考文献 117 T3./V0]\I 7 导纳图及其他工具 118 1>w^ q`P 7.1 简介 118 pFTlhj)1 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 aMQjoamz 7.2.1 四分之一波长规则 119 yvCR = C 7.2.2 导纳图 120 hFMst%:y$ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 nud=uJ"( 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 {X<4wxeTo 7.5 斜入射导纳图 141 z,FTsR$x 7.6 对称周期 141 W@,p9=425 7.7 参考文献 142 V<4+g/ 8 典型的镀膜实例 143 P0e ""9JOo 8.1 单层抗反射薄膜 145 _AYC|R| 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 c%@~%IGF 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 uxyTu2L7 8.4 W-膜层 148 liqR#< 8.5 V-膜层 149 >}b6J7_ 8.6 V-膜层高折射基底 150 ceZ8}Sh 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Pzp+I} 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 RR!!hY3 K 8.9 四层抗反射薄膜 153 HDVl5X`j' 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ie@`S&.8 T 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ZuvPDW% 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 u=;nU(]M ' 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 IT`=\K/[4 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 oL Vtu5 8.15十五层宽带抗反射膜 159 kq~[k. 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
Hp} 8.17 1/4波长堆栈 162 b/B`&CIA0" 8.18 陷波滤波器 163 [OZ=iz. 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 s
S5fd)x 8.20 褶皱 165 96pk[5lj{? 8.21 消偏振分光器1 169 [z% ?MIT 8.22 消偏振分光器2 171 pp]_/46nN 8.23 消偏振立体分光器 172 b"M`@';+ 8.24 消偏振截止滤光片 173 s`=/fvf. 8.25 立体偏振分束器1 174 r1ok u0 o 8.26 立方偏振分束器2 177 w,Zx5bBg% 8.27 相位延迟器 178 oU0
h3 8.28 红外截止器 179 H5rPq_R 8.29 21层长波带通滤波器 180 M6]0Y@@> 8.30 49层长波带通滤波器 181 >u5g?yzw 8.31 55层短波带通滤波器 182 0UGiPH,() 8.32 47 红外截止器 183 :%#r.p"6x 8.33 宽带通滤波器 184 AL]h|)6QpC 8.34 诱导透射滤波器 186 f[Fgh@4cj 8.35 诱导透射滤波器2 188 vZE|Z[M+< 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 sr+gD*@h 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 lMwk.# 8.35 增益平坦滤波器 193 3gG+`{< 8.38 啁啾反射镜 1 196 iog #
, 8.39 啁啾反射镜2 198 mT6q}``vtG 8.40 啁啾反射镜3 199 .vN%UNu 8.41 带保护层的铝膜层 200 6!+X.+ 8.42 增加铝反射率膜 201 LgP> u?]n 8.43 参考文献 202 @1v3-n= 9 多层膜 204 x^)g'16` 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 eb!s'@ 9.2 内部透过率 204 ,$h(fM8GC 9.3 内部透射率数据 205 *O+R|Cdp/ 9.4 实例 206 mN\%fJ7 9.5 实例2 210 xN`r4 9.6 圆锥和带宽计算 212 -".kH<SWv 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 JG@L5f 10 光学薄膜的颜色 216 QSHJmk 6L 10.1 导言 216 4<T*i{[ 10.2 色彩 216 9DOkQnnc 10.3 主波长和纯度 220 Ak5[PBbW 10.4 色相和纯度 221 eQU-&-wt0 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 -,QKTxwo> 10.6 色差 226 \fK47oV 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ZD5I5 10.8 颜色渲染指数 234 d"B@c;dD 10.9 色差计算 235 C}b|2y 10.10 参考文献 236 5^i.;>(b 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <.,RBo 11.1 短脉冲 238 y]}b?R~p= 11.2 群速度 239 ]?0{(\ 11.3 群速度色散 241 *A?8F"6> 11.4 啁啾(chirped) 245 +`;+RDKY* 11.5 光学薄膜—相变 245 0 kf(g156 11.6 群延迟和延迟色散 246 :7p9t.R<$h 11.7 色度色散 246 x37/cu 11.8 色散补偿 249 c ]>DI&$;J 11.9 空间光线偏移 256 ud0QZ X 11.10 参考文献 258 I&L.;~ 12 公差与误差 260 )v%l0_z{ 12.1 蒙特卡罗模型 260 K;oV"KRK 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 HLjvKE=W 12.2.1 误差工具 267 /8xH$n&xoC 12.2.2 灵敏度工具 271 ;>NP.pnA) 12.2.2.1 独立灵敏度 271 X*pZNz&E 12.2.2.2 灵敏度分布 275 tT;8r8@ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 h&lyxYZ+T$ 12.3 参考文献 276 oW0gU?Rr)u 13 Runsheet 与Simulator 277 Q_ctX|. 13.1 原理介绍 277 [6AHaOhR' 13.2 截止滤光片设计 277 8r,9OM 14 光学常数提取 289 `-VG ?J 14.1 介绍 289 i<%m Iq1L 14.2 电介质薄膜 289 0 _Q*E3 14.3 n 和k 的提取工具 295 RX:R*{]- 14.4 基底的参数提取 302 q 75ky1^1: 14.5 金属的参数提取 306 pe|X@o 14.6 不正确的模型 306 oP/>ju 14.7 参考文献 311 NX?}{'f 15 反演工程 313 LU%#mY 15.1 随机性和系统性 313 ^^%JoQ. 15.2 常见的系统性问题 314 n_v02vFAHT 15.3 单层膜 314 .>}BNy 15.4 多层膜 314 &x`&03X 15.5 含义 319 rfYP*QQY 15.6 反演工程实例 319 G'u|Q
mb1 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 k@S)j< 15.6.2 反演工程提取折射率 327 p"2m90IO 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Ua %UbAt 16.1 光学性质的热致偏移 329 %NNj9Bl<VV 16.2 应力工具 335 jh[
#p?: 16.3 均匀性误差 339 -$.0Dc)3! 16.3.1 圆锥工具 339 nE_Cuc>K\ 16.3.2 波前问题 341 Hb+X}7c$ 16.4 参考文献 343 le.anJAr 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 a0PE^U 17.1 引言 345 h\(B#SN 17.2 操作数 345 C,fY.CeI 18 如何在Function中编写脚本 351 zX98c 18.1 简介 351 GWhE8EDT 18.2 什么是脚本? 351 dPsLZ"I 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 P>(&glr| 18.4 基础 352 A_Rrcsl4 18.4.1 Classes(类别) 352 ?\ZL#)hr"p 18.4.2 对象 352 OZf6/10O/ 18.4.3 信息(Messages) 352 3A_G=WaED 18.4.4 属性 352 YxXqI 18.4.5 方法 353 %)?`{O~ h 18.4.6 变量声明 353 6hO-H&r++ 18.5 创建对象 354 "tUwo(K[ 18.5.1 创建对象函数 355 :5J_5,?;` 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 eIH$"f;L 18.5.3 丢弃对象 356 Fk{J@Y 18.5.4 总结 356 eeM?]J- 18.6 脚本中的表格 357 \8{\;L C 18.6.1 方法1 357 zEj#arSE4 18.6.2 方法2 357 {{\ce;hN 18.7 2D Plots in Scripts 358 eNbpwne 18.8 3D Plots in Scripts 359 +"dv7 18.9 注释 360 Jd_;@(Eg= 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 Tg0CE60"
18.11 一个更高级的脚本 362 0Qnd6mb 18.12 <esc>键 364 {L].T# 18.13 包含文件 365 `PgdJrE 18.14 脚本被优化调用 366 7VAJJv3 18.15 脚本中的对话框 368 Rb EKP(uw 18.15.1 介绍 368 ;'0=T0\ 18.15.2 消息框-MsgBox 368 FQk!d$BG 18.15.3 输入框函数 370 ]n;1x1' 18.15.4 自定义对话框 371 ~W-cGb3c 18.15.5 对话框编辑器 371 H}/05e 18.15.6 控制对话框 377 "u492^ 18.15.7 更高级的对话框 380 |
&7S8Q 18.16 Types语句 384 ; b*i3*!g 18.17 打开文件 385 x6W`hpL 18.18 Bags 387 z=g$Exl 18.13 进一步研究 388 ml0*1Dw 19 vStack 389 Su7bm1 19.1 vStack基本原理 389 [ *>AN7W 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 XogVpkA 19.3 五棱镜 393
s2REt$.q 19.4 光束距离 396 =n+ \\D 19.5 误差 399 .UQE{.? 19.6 二向分色棱镜 399 0^3+P%(o@ 19.7 偏振泄漏 404 ]Y`Ib0$ 19.8 波前误差—相位 405 $!B}$I;cd 19.9 其它计算参数 405 #+k*1Jg 20 报表生成器 406 ac8P\2{" 20.1 入门 406 iOCqE 5d3 20.2 指令(Instructions) 406 esX)"_xf 20.3 页面布局指令 406 ?6"{!s{v 20.4 常见的参数图和三维图 407 H43MoC 20.5 表格中的常见参数 408 Mxl]"?z 20.6 迭代指令 408 =5x&8i 20.7 报表模版 408 b~w=v_[(I 20.8 开始设计一个报表模版 409 xfFg,9w8 21 一个新的project 413 yK%ebq] 21.1 创建一个新Job 414 lz<]5T| 21.2 默认设计 415 :J/M,3 21.3 薄膜设计 416 \r{W 21.4 误差的灵敏度计算 420 ]uQqn]+I! 21.5 显色指数计算 422 =d)-Fd2li 21.6 电场分布 424 C\*4q8( 后记 426 y*23$fj( }H"kU2l bB}5U@G| 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 (Pbg[AY T~4N+fK 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] OI}cs2m ~*W!mlg 目 录 {{yZ@>o6 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 4\M.6])_ 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 5jxQW
; 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?OlV"zK 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 x[3A+ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 [7FItlF%I 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Np+&t} 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 o*rQP!8,oy 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 eKvV*[Na 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 Qnd5X`jF# 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Av' GB 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 wU\s;
dK 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 VVP:w%yW 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ^BQrbY 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 n\z,/'d" 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @&|l^ 1 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 :GpDg d5 7i)= 价 格:400元
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