上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 1GB]Yi[> 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 afzx?ekdF 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 -eIo
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 W1Ye+vg/s 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 B]Ec [attachment=120542] oXN(S:ZF 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 23 #JmR 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 <K,X5ctM} 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 V`HnFAW 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 t)rPXvx}! 1. Essential Macleod软件介绍 Cpy&2o-%v 1.1 介绍软件 4:pgZz! 1.2 创建一个简单的设计 Rw FA 1.3 绘图和制表来表示性能 =6'bGC%c 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 Ih4$MG6QC 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) #,1z=/d. 1.6 特定设计的公式技术 t1yOAbI 1.7 交互式绘图 %~8f0B|im 2. 光学薄膜理论基础 ]yL+lv 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 O'{kNr{u 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #f/4%|t: 3. 材料管理 9)o@d`*
3.1 材料模型 'cQ,;y 3.2 介质薄膜光学常数的提取 $)BPtGMGo 3.3 金属薄膜光学常数的提取 NJV kn~< 3.4 基板光学常数的提取
Gv}Q/v 4. 光学薄膜设计优化方法 y6x./1Nb}< 4.1 参考波长与g " Up(Vj@ 4.2 四分之一规则 u0G
tzk 4.3 导纳与导纳图 p<}y'7( 4.4 斜入射光学导纳 }xi?vAaTl 4.5 光学薄膜设计的进展 ]<L~f~vU 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 pl)?4[`LUc 4.6.1 优化目标设置 }V`_(%Q-e 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) #8ltV` 4.6.3 膜层锁定和链接 c~;VvYu 5. Essential Macleod中各个模块的应用 (@qS 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 b{{ H@LTW 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 /e^) *r 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 svb7-.! 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 %<[{zd1C- 5.5 如何在Function中编写脚本 `~"'\Hw 6. 光学薄膜系统案例 >5"e<mwD7d 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Un,'a8>V` 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 5??}9 6.3 Stack应用范例说明 qswC>Gi 7. 薄膜性能分析 ZkQ6~cM 7.1 电场分布 ,4 _H{+M 7.2 公差与灵敏度分析 kv, !"< 7.3 反演工程 4
2DMmwB 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 w/rJj* 8. 真空技术 $Bl51VjN 8.1 常用真空泵介绍 S<*IoZ?T 8.2 真空密封和检漏 yjH'< 9. 薄膜制备技术 r]DU 9.1 常见薄膜制备技术 y'I
m/{9U 10. 薄膜制备工艺 ?!/8~'xA6 10.1 薄膜制备工艺因素 5>daWmD 10.2 薄膜均匀性修正技术 ksuePMIK 10.3 光学薄膜监控技术 N- knhA 11. 激光薄膜 _~ei1
G.R 11.1 薄膜的损伤问题 B8n[ E 11.2 激光薄膜的制备流程 NH}o`x/ 11.3 激光薄膜的制备技术 \[.qN 12. 光学薄膜特性测量 %"fO^KA.h] 12.1 薄膜光谱测量 RWo7_X O 12.2 薄膜光学常数测量 OdY9g2y#m 12.3 薄膜应力测量 !G0Mg; , 12.4 薄膜损伤测量 aX6}:"R2C 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] K[0z$T\
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] cfa1"u""e
内容简介 vM5/KrW Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 S.1>bs2 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Ak('4j!*}^ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 jgG9?w)|u !K}W.yv,
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 #OM)71kB8 Ut;4`>T 目录 g52)/HM Preface 1 3W_7xLA 内容简介 2 nXoDI1<[ 目录 i CMOyK^(e 1 引言 1 -.8K"j{N 2 光学薄膜基础 2 *?HoN;^ 2.1 一般规则 2 Fb8d=Zc 2.2 正交入射规则 3 ~n%Lo3RiP 2.3 斜入射规则 6 X#JUorGp 2.4 精确计算 7 4
l-UrnZ 2.5 相干性 8 j3/6hE> 2.6 参考文献 10 Og1vD5a 3 Essential Macleod的快速预览 10 5V =mj+X? 4 Essential Macleod的特点 32 hCr,6nc C 4.1 容量和局限性 33 =RRv&
"2r 4.2 程序在哪里? 33 6vE#$(n#a& 4.3 数据文件 35 ,zHL8SiTX 4.4 设计规则 35 S2*sh2-&6 4.5 材料数据库和资料库 37 RO/(Ldh 4.5.1材料损失 38 #Pf<2S
4.5.1材料数据库和导入材料 39 bo\Ah/. 4.5.2 材料库 41 oe
6-F)+ 4.5.3导出材料数据 43 Q>Z~={" 4.6 常用单位 43 g@4~, 4.7 插值和外推法 46 S\A0gOL^ 4.8 材料数据的平滑 50
J9*;Bqzim 4.9 更多光学常数模型 54 ,h'Q 4.10 文档的一般编辑规则 55 d<Q%h?E 4.11 撤销和重做 56 _LC*_LT_ 4.12 设计文档 57 5 D^#6h 4 4.10.1 公式 58 @_-,Q5 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Z.Z;p/4F 4.10.3 沉积密度 59 $6wSqH?q 4.10.4 平行和楔形介质 60 o ^UOkxs. 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
J@_^] 4.10.4 性能 61 vn$=be8l4 4.10.5 保存设计和性能 64 :dULsl$Nz 4.10.6 默认设计 64 NFEr ,n 4.11 图表 64 n(eo_.W2| 4.11.1 合并曲线图 67 i({\fb|0 4.11.2 自适应绘制 68 @!!u>1 4.11.3 动态绘图 68 b5^>QzgD 4.11.4 3D绘图 69 \ Voly 4.12 导入和导出 73 ;NdH]a{ 4.12.1 剪贴板 73 0,DrVGa 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 >L4F'#I 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Y8v[kuo7 4.13 背景 77 _!DH/?aU 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 FVrB#Hw~ 4.15 生成Rugate 84 # M/n\em"X 4.16 参考文献 91 *(q?O_3,b 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 X coPkW 5.1 Jobs 92 8Z9>h:c1 5.2 创建一个新Job(工作) 93 IA.7If&k 5.3 输入材料 94 >(igVaZ> 5.4 设计数据文件夹 95 e8xq`:4Y 5.5 默认设计 95 @XzfuuE] 6 细化和合成 97 (W:@v&p 6.1 优化介绍 97 AkS16A 6.2 细化 (Refinement) 98 [5p9p1@u{C 6.3 合成 (Synthesis) 100 [y'blCb 6.4 目标和评价函数 101 W&
0R/y7 6.4.1 目标输入 102 1#_pj
eG 6.4.2 目标 103 h?SRX_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 C@`#@1X 6.5 层锁定和连接 104 T{+a48,; 6.6 细化技术 104 8Z\q)T 6.6.1 单纯形 105 [iq^'E 6.6.1.1 单纯形参数 106 eQ/w
Mr 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ]9w)0iH 6.6.2.1 Optimac参数 108 8HBwcXYoHh 6.6.3 模拟退火算法 109 O5p$
A@ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Ii[U% 6.6.4 共轭梯度 111 `&q+ f+z 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {*O+vtir% 6.6.5 拟牛顿法 112 mm:TR?^ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 $#D#ezvxe 6.6.6 针合成 113 yVK
;
" 6.6.6.1 针合成参数 114 ZOV,yuD{8{ 6.6.7 差分进化 114 er3~gm 6.6.8非局部细化 115 IL.bwtpQD 6.6.8.1非局部细化参数 115 xk>cdgt 6.7 我应该使用哪种技术? 116 dyn)KDS 6.7.1 细化 116 h?n?3x!( 6.7.2 合成 117 E<3xv;v8r 6.8 参考文献 117 |Vz)!M 7 导纳图及其他工具 118
O[MFp 7.1 简介 118 Fn`Zw:vp6 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e7xv~C>g 7.2.1 四分之一波长规则 119 IWq\M,P 7.2.2 导纳图 120 4lX_2QT]E 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #!O)-dyF 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 T>nH= 7.5 斜入射导纳图 141 Wgte.K> / 7.6 对称周期 141 Pa d)| 7.7 参考文献 142 "QXnE^ 8 典型的镀膜实例 143 oZY|o0/9 8.1 单层抗反射薄膜 145 8/)\nV$0Y 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Y2l;NSWU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 0g:q%P0 8.4 W-膜层 148 nn:'<6"oV 8.5 V-膜层 149 uNuFD|aQ. 8.6 V-膜层高折射基底 150 iKPgiL~ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 KQ]sUNH 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 _w?!Mu 8.9 四层抗反射薄膜 153 )HE{`yiLL 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 qtAt=` s 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 s1cu5eCt 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 t6+W 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 xP_%d, 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 y'^U4# ( 8.15十五层宽带抗反射膜 159 6}R*7iMs 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 9;{(.K 8.17 1/4波长堆栈 162 &\6},JN 8.18 陷波滤波器 163 -(
p%+` 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 3^
UoK 8.20 褶皱 165 tTTHQ7o*BD 8.21 消偏振分光器1 169 (kY0< 8.22 消偏振分光器2 171 hL/u5h%$ 8.23 消偏振立体分光器 172 #|je m 8.24 消偏振截止滤光片 173 8=Oym~ 8.25 立体偏振分束器1 174 kI(3Pf]. 8.26 立方偏振分束器2 177 CQ6I4k 8.27 相位延迟器 178 ELnUpmv\ 8.28 红外截止器 179 /Lr`Aka5 8.29 21层长波带通滤波器 180 <v -YMk@ 8.30 49层长波带通滤波器 181 ZlC+DXg#S 8.31 55层短波带通滤波器 182 EQ^]W-gN 8.32 47 红外截止器 183 J2x}@p 8.33 宽带通滤波器 184 iupkb 8.34 诱导透射滤波器 186 V0>[bzI 8.35 诱导透射滤波器2 188 E]n]_{BN] 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 e{87n>+, 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 h&L-G j 8.35 增益平坦滤波器 193 lFtEQ '} 8.38 啁啾反射镜 1 196 '/UT0{2;rS 8.39 啁啾反射镜2 198 1-^D2B[- 8.40 啁啾反射镜3 199 a_S`$(7k 8.41 带保护层的铝膜层 200 zOSUYn 8.42 增加铝反射率膜 201 ?q4`&";{3 8.43 参考文献 202 I^f|U 9 多层膜 204 1o\2\B=k{ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 fh)eL<I 9.2 内部透过率 204 :35h0;8+ 9.3 内部透射率数据 205 c"kB @P
9.4 实例 206 NX%1L!
# 9.5 实例2 210 v4Ag~Evcx 9.6 圆锥和带宽计算 212 | WJ]7C 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 y>t:flD* 10 光学薄膜的颜色 216 \i,H1a 10.1 导言 216 x*F-d2D 10.2 色彩 216 /y{fDCC 10.3 主波长和纯度 220 ~cp=B>*( 10.4 色相和纯度 221 tgCp2`n 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 #FAW@6QG 10.6 色差 226 wxK71OH 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 [Uq`B&F: 10.8 颜色渲染指数 234 +-;v+{ 10.9 色差计算 235 .?g=mh79( 10.10 参考文献 236 "2C}Pr,p8 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 NVkYm+J# 11.1 短脉冲 238 ZMMx)}hS 11.2 群速度 239 p#4*:rpq4 11.3 群速度色散 241 J&h59dm- 11.4 啁啾(chirped) 245 X4:84 11.5 光学薄膜—相变 245 mIG>`7`7N 11.6 群延迟和延迟色散 246 $H3C/| 11.7 色度色散 246 {~51h}>b# 11.8 色散补偿 249 [-l>fP0 11.9 空间光线偏移 256 ={cM6F}a@ 11.10 参考文献 258 ^pe/~ :a 12 公差与误差 260 <astIu Au 12.1 蒙特卡罗模型 260 ~2hzyEh 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 11QZ- ^ 12.2.1 误差工具 267 & ;5f/ 12.2.2 灵敏度工具 271 Oz\J+ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 :tFcPc' 12.2.2.2 灵敏度分布 275 ,V]FAIJ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 _Fj\0S" 12.3 参考文献 276 xv$fw> 13 Runsheet 与Simulator 277
vxPr)"Vvz 13.1 原理介绍 277 -6_<] 13.2 截止滤光片设计 277 %jj-\Gz! 14 光学常数提取 289 _G-6G=q 14.1 介绍 289 ;9)nG,P3 14.2 电介质薄膜 289 &,p6lbP 14.3 n 和k 的提取工具 295 YSB> WBS-< 14.4 基底的参数提取 302 V+>RF 14.5 金属的参数提取 306 3_;=y\F 14.6 不正确的模型 306 {c?{M.R 14.7 参考文献 311 o\W>$$EXD 15 反演工程 313 !}P^O(oY 15.1 随机性和系统性 313 MTE1\, 15.2 常见的系统性问题 314 GfP' 15.3 单层膜 314 |uFb(kL[U 15.4 多层膜 314 ?T%"Jgy8 15.5 含义 319 F\;l) 15.6 反演工程实例 319 |,n(9Ix 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 f9_Pn'"I 15.6.2 反演工程提取折射率 327 Bf^K?:r"V 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 obbg#, 16.1 光学性质的热致偏移 329 *R4=4e2#S 16.2 应力工具 335 ScInOPb'K 16.3 均匀性误差 339 Tp~Qg{%Og 16.3.1 圆锥工具 339 4s>L]!
W$8 16.3.2 波前问题 341 JT6Be8
16.4 参考文献 343 &?@U_emLi 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 4M>]0%3.D 17.1 引言 345 <uoVGV5N 17.2 操作数 345 9@M;\ @&g 18 如何在Function中编写脚本 351 ""V\hHdp
18.1 简介 351 <Cs9$J 18.2 什么是脚本? 351 )<'2 vpz 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 ~QE?GL 18.4 基础 352 2WKIO|' 18.4.1 Classes(类别) 352 3M[d6@a 18.4.2 对象 352 _ !"[Zr 18.4.3 信息(Messages) 352 9XS>;<"2 18.4.4 属性 352 nyhHXVRH 18.4.5 方法 353 `7`` 1TL 18.4.6 变量声明 353 l'!_km0{d 18.5 创建对象 354 bS|h~B]rd 18.5.1 创建对象函数 355 5K|`RzZ`B$ 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 ij?]fXf:)y 18.5.3 丢弃对象 356 )WEOqaR] 18.5.4 总结 356 0Iyb} 18.6 脚本中的表格 357 = =KDr0|G 18.6.1 方法1 357
NQ '|M 18.6.2 方法2 357 <Z1m9O "sy 18.7 2D Plots in Scripts 358 )h(=X&(d 18.8 3D Plots in Scripts 359 - sq=| 18.9 注释 360 ,*L3 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 %&'[? LXD 18.11 一个更高级的脚本 362 X"f] 18.12 <esc>键 364 ^#h ;bX# 18.13 包含文件 365 [W'2z,S`WD 18.14 脚本被优化调用 366 {>ghX_m| 18.15 脚本中的对话框 368 [w FK!? 18.15.1 介绍 368 W$D:mw7 18.15.2 消息框-MsgBox 368 qssK0!- 18.15.3 输入框函数 370 XaU^^K 18.15.4 自定义对话框 371 -Y"2c,~pH 18.15.5 对话框编辑器 371 /GNm>NSK 18.15.6 控制对话框 377 Ni;jMc 18.15.7 更高级的对话框 380 6%c]{eTd9 18.16 Types语句 384 |mw3v> 18.17 打开文件 385 oSR;Im<2 18.18 Bags 387 >\lBbqa#
18.13 进一步研究 388 ,}^;q58 19 vStack 389 (
~>-6Nb 5 19.1 vStack基本原理 389 5S! !@P!, 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 +=kz".$ 19.3 五棱镜 393 5cr\ JR 19.4 光束距离 396 &x4|!"G 19.5 误差 399 >IS BK[=H 19.6 二向分色棱镜 399 5G#2#Al(F
19.7 偏振泄漏 404 k <LFH( 19.8 波前误差—相位 405 6I5LZ^/ G9 19.9 其它计算参数 405 y 5Kr<cF^ 20 报表生成器 406 sdQ"[`~2R 20.1 入门 406 I^``x+a 20.2 指令(Instructions) 406 r;zG
20.3 页面布局指令 406 7*Gg#XQ>( 20.4 常见的参数图和三维图 407 ukee.:{ 20.5 表格中的常见参数 408 V$MMK 20.6 迭代指令 408 R36A_ 20.7 报表模版 408 Lnltt86 20.8 开始设计一个报表模版 409 m8 *)@e 21 一个新的project 413 F{m?:A 21.1 创建一个新Job 414 \q|<\~A 21.2 默认设计 415 @PKY>58) 21.3 薄膜设计 416 #ChF{mh 21.4 误差的灵敏度计算 420 7Rr
+Uzb( 21.5 显色指数计算 422 SivJaY% 21.6 电场分布 424 _s0;mvz' 后记 426 Yc>.P *b(nX,e
t "[2^2G 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Fau24-g yt`K^07@ 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] mv`ND& t \,XG 目 录 x?G"58 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ;<K#h9#*7
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 oMb@)7 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 V.kf@ 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 yT C+5_7 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 K!|J/W 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 WQltUaF 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 PCiwQ4~ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 AbOF/g)C 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 lD1m<AC 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ks(BS k4 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 EpH\;25u 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 u'"]{.K>fb 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 .arWbTR)~U 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 r[KX"U- 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 B5/"2i 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 $xq$ 2Afg.-7EP 价 格:400元
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