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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 1mH%H*#  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ZH,4oF  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 [zkikZy  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 1tMQqI`N  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 B*1W`f  
[attachment=120542] q o 1lj"P  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 B[5r|d'  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;AJTytE>%  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 %ZP+zh n}  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 rw7_5l  
1. Essential Macleod软件介绍 7^*"O&y_al  
1.1 介绍软件 xJs;v  
1.2 创建一个简单的设计 j' 0r'  
1.3 绘图和制表来表示性能 "YU{Fkl#j  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 SC &~s$P;  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) :_kAl? eJ  
1.6 特定设计的公式技术 N#C1-*[C  
1.7 交互式绘图 %\$;(#h  
2. 光学薄膜理论基础 QK`i%TXJ  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $ (=~r`O+1  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 B;K`q  
3. 材料管理 ;z~n.0'  
3.1 材料模型 [&?8,Q(  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 sj?3M@l95W  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 2[fN\e{  
3.4 基板光学常数的提取  j2l55@  
4. 光学薄膜设计优化方法 X+k}2HvNG  
4.1 参考波长与g 'R<&d}@P*#  
4.2 四分之一规则 z*$q8Z&7rg  
4.3 导纳与导纳图 Q7X3X,  
4.4 斜入射光学导纳 SLfFqc+n0  
4.5 光学薄膜设计的进展 E\nv~Y?SG  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Va VN  
4.6.1 优化目标设置 R%D'`*+  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) L6Wt3U`l  
4.6.3 膜层锁定和链接 !R-z%  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 WKz> !E%  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 Zk8|K'oHx  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 8vSse  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 2lKV#9"  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 {O<l[|Ip  
5.5 如何在Function中编写脚本 6r: ?;j~l  
6. 光学薄膜系统案例 jw}}^3.  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 r|e-<t4.9L  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 ((tv2  
6.3 Stack应用范例说明 9+s.w25R  
7. 薄膜性能分析 73#x|lY  
7.1 电场分布 E{^XlY  
7.2 公差与灵敏度分析 )}vNOE?X~  
7.3 反演工程 Vm}%ttTC  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 :j')E`#   
8. 真空技术 <GHYt#GIZ+  
8.1 常用真空泵介绍 {U<xdG  
8.2 真空密封和检漏 zk*c)s  
9. 薄膜制备技术 /2EHv.e `  
9.1 常见薄膜制备技术 vx_o(wof  
10. 薄膜制备工艺 8}X5o]Mv  
10.1 薄膜制备工艺因素 ;w|b0V6  
10.2 薄膜均匀性修正技术 P}ok*{"J<>  
10.3 光学薄膜监控技术 KDl_?9E5  
11. 激光薄膜 ")O`mXg-  
11.1 薄膜的损伤问题 "8^5>EJWv  
11.2 激光薄膜的制备流程 U j+j}C  
11.3 激光薄膜的制备技术 ;z M*bWh9  
12. 光学薄膜特性测量 T,xPSN2A*  
12.1 薄膜光谱测量 x3qW0K8  
12.2 薄膜光学常数测量 /!^&;$A'  
12.3 薄膜应力测量 oI)GKA_Ng7  
12.4 薄膜损伤测量 Yt|6 X:l  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
,QzL)W7  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
8Og_W8  
内容简介 )X9W y!w0  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Y]]}*8  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 C2Xd?d  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 k+I}PuG  
+xc'1id@[  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
5JEbe   
'13ZX:  
目录 sY?,0T_m  
Preface 1 '47P|t  
内容简介 2 3^s/bm$g  
目录 i D]c`B  
1  引言 1 xI>A6  
2  光学薄膜基础 2 :Mm3 gW)  
2.1  一般规则 2 moP,B~  
2.2  正交入射规则 3 vSi_t K4  
2.3  斜入射规则 6 8NaqZ+5x  
2.4  精确计算 7 Dfq(Iv  
2.5  相干性 8 >``MR%E:<  
2.6 参考文献 10 G8Nt 8U~  
3  Essential Macleod的快速预览 10 p-1 3H0Kt  
4  Essential Macleod的特点 32 asY[8r?U  
4.1  容量和局限性 33 (JM4R8fR&  
4.2  程序在哪里? 33 DjSbyXvrg  
4.3  数据文件 35 P!"&%d  
4.4  设计规则 35 \:'%9 x  
4.5  材料数据库和资料库 37 J'N!Omz  
4.5.1材料损失 38 [D*UT#FM  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 H[DUZ,J  
4.5.2 材料库 41 @6l%,N<fou  
4.5.3导出材料数据 43 ,V*%V;  
4.6  常用单位 43 PJ='tJDj  
4.7  插值和外推法 46 Oft4- 4$E  
4.8  材料数据的平滑 50 n_3O-X(  
4.9 更多光学常数模型 54 1"pw  
4.10  文档的一般编辑规则 55 tv!_e$CR  
4.11 撤销和重做 56 5|jw^s7  
4.12  设计文档 57 x3PD1JUf  
4.10.1  公式 58 +la2n(CAK  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Qg6 W5Hc  
4.10.3  沉积密度 59 .BFYY13H  
4.10.4 平行和楔形介质 60 K_K5'2dE  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 <{~6}6o  
4.10.4  性能 61 %/9 EORdeH  
4.10.5  保存设计和性能 64 `'V4PUe  
4.10.6  默认设计 64 765p/**  
4.11  图表 64 SJIOI@\b  
4.11.1  合并曲线图 67 #> j.$2G>  
4.11.2  自适应绘制 68 6;|n]m\Vd  
4.11.3  动态绘图 68 >@"Oe  
4.11.4  3D绘图 69 irN6g#B?  
4.12  导入和导出 73 Yv:55+e!|  
4.12.1  剪贴板 73 C -iK$/U  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 i86>]  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 JA)] _H P  
4.13  背景 77 xhRngHU\z<  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <vXGi  
4.15  生成Rugate 84 Y5F]:gs@  
4.16  参考文献 91 {'U Rz[g  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 H<^/Ati,|  
5.1  Jobs 92 @-+Q# Zz`  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 ^a#X9  
5.3  输入材料 94 Me=CSQqf<  
5.4  设计数据文件夹 95 ;pnD0bH  
5.5  默认设计 95 jAud {m*T  
6  细化和合成 97 /{|fyKo\?  
6.1  优化介绍 97 Zfyo-Wk  
6.2  细化 (Refinement) 98 QcgfBsv96  
6.3  合成 (Synthesis) 100 .w]GWL  
6.4  目标和评价函数 101 q `pP$i:  
6.4.1  目标输入 102 )KP5Wud X  
6.4.2  目标 103 F+@5C:<?  
6.4.3  特殊的评价函数 104 '3?\K3S4i  
6.5  层锁定和连接 104 bR V+>;L0@  
6.6  细化技术 104 HeG)/W?r  
6.6.1  单纯形 105 VO"("7L  
6.6.1.1 单纯形参数 106 C*`mM'#  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 8cA~R-  
6.6.2.1 Optimac参数 108 s M+WkN}{  
6.6.3  模拟退火算法 109 x:QgjK  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 zD<or&6  
6.6.4  共轭梯度 111 G_SG  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 lEV]4 t_H  
6.6.5  拟牛顿法 112 ,u/aT5\_  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 @WI2hHD  
6.6.6  针合成 113 hiUD]5Kp  
6.6.6.1 针合成参数 114 yR4|S2D3xn  
6.6.7 差分进化 114 ;6!Pwb;hY  
6.6.8非局部细化 115 kV3 8`s>+  
6.6.8.1非局部细化参数 115 H=\3Jj(4  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 /RMPS. d {  
6.7.1  细化 116 eQ&ZX3*}  
6.7.2  合成 117 I6Ce_|n ?k  
6.8  参考文献 117 5Lf{8UxI  
7  导纳图及其他工具 118 f-%NaTI  
7.1  简介 118 !&"<oPjr+  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Qm/u h  
7.2.1  四分之一波长规则 119 w08?DD]CDt  
7.2.2  导纳图 120 !=N"vD*  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 CjiVnWSz<  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 65Cg]Dt71  
7.5  斜入射导纳图 141 B` k\EL'  
7.6  对称周期 141 kSDZZx  
7.7  参考文献 142 x l#LrvxI  
8  典型的镀膜实例 143 D#o}cC.  
8.1  单层抗反射薄膜 145 0q'w8]m  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 DS)RX.k_#  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 o0pII )v  
8.4  W-膜层 148 [B|MlrZ  
8.5  V-膜层 149 EbdfV-E  
8.6  V-膜层高折射基底 150 cra+T+|>Kc  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 o9H^?Rut  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 pbU!dOU~e  
8.9  四层抗反射薄膜 153 GxKqD;;u?=  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 _~T!9  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >>5NX"{  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 IhA*"  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ;]pJj6J&v  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 V?=8".GiX  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 DuOG {  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 %Jrt4sg[j-  
8.17  1/4波长堆栈 162 @0SC"CqM  
8.18  陷波滤波器 163 TqddOp  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^/U|2'$'>E  
8.20  褶皱 165 1Y]TA3:  
8.21  消偏振分光器1 169 G rk@dZI  
8.22  消偏振分光器2 171 x(eb5YS  
8.23  消偏振立体分光器 172 ]~E0gsq  
8.24  消偏振截止滤光片 173 gwWN%Z"  
8.25  立体偏振分束器1 174 - h9?1vc7  
8.26  立方偏振分束器2 177 >`%'4<I  
8.27  相位延迟器 178 a$Cdhx !  
8.28  红外截止器 179 9s_,crq5  
8.29  21层长波带通滤波器 180 q2et|QCru  
8.30  49层长波带通滤波器 181 th&[Nt7  
8.31  55层短波带通滤波器 182 :M6+p'`j  
8.32  47 红外截止器 183 !ki.t  
8.33  宽带通滤波器 184 }sOwp}FV8X  
8.34  诱导透射滤波器 186 )}_a 0bt  
8.35  诱导透射滤波器2 188 WuZ/C_  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ''Cay0h  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 T.qNCJmB  
8.35  增益平坦滤波器 193 ](^(=%  
8.38  啁啾反射镜 1 196 ti<;7Yb  
8.39  啁啾反射镜2 198 6KOlY>m]  
8.40  啁啾反射镜3 199 _z1(y}u}  
8.41  带保护层的铝膜层 200 ,Uy|5zv  
8.42  增加铝反射率膜 201 2[ r^M'J  
8.43  参考文献 202 91xB9k1zO  
9  多层膜 204 xQp|;oW;z  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 h`H,a7  
9.2  内部透过率 204 HO' '&hz  
9.3 内部透射率数据 205 /0eYMG+K=  
9.4  实例 206 xQ'2BAEa  
9.5  实例2 210 P:N1#|g  
9.6  圆锥和带宽计算 212 HuV J\%.  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 {pHM},WJ  
10  光学薄膜的颜色 216 U_{Ux 2  
10.1  导言 216 Nq@+'<@p$  
10.2  色彩 216 '`Wwt.A  
10.3  主波长和纯度 220 L^{|uP15N  
10.4  色相和纯度 221 "&%#!2  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 VV9_`myN7  
10.6 色差 226 nM0[P6p  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ?K3(D;5 &i  
10.8  颜色渲染指数 234 -c}, :G"  
10.9  色差计算 235 ,yTjU{<"  
10.10  参考文献 236 $]q8, N|1  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 =lu/9 i6  
11.1  短脉冲 238 Ck /F9(  
11.2  群速度 239 is@b&V]  
11.3  群速度色散 241 _{ZqO;[u  
11.4  啁啾(chirped) 245 m{7(PHpw  
11.5  光学薄膜—相变 245 bl'z<S, '  
11.6  群延迟和延迟色散 246 5A4&+rdU  
11.7  色度色散 246 Y9`5G%  
11.8  色散补偿 249 @ G4X  
11.9  空间光线偏移 256 <3j"&i]Tm*  
11.10  参考文献 258 8zBWIi  
12  公差与误差 260 wGZR31  
12.1  蒙特卡罗模型 260 "$}vP<SM  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 _Dwqy(   
12.2.1  误差工具 267 @GvztVYo  
12.2.2  灵敏度工具 271 po}F6m8bX  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ZZyDG9a>7  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Vy|6E#U  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 YQS5P#  
12.3  参考文献 276 %~QO8q_7  
13  Runsheet 与Simulator 277 x1BobhU~Zl  
13.1  原理介绍 277 MG?0>^F  
13.2  截止滤光片设计 277 Rd>B0;4  
14  光学常数提取 289 M5trNSL&u  
14.1  介绍 289 G!XIc>F*  
14.2  电介质薄膜 289 0Ld@H)  
14.3  n 和k 的提取工具 295 >G'SbQ8  
14.4  基底的参数提取 302 W.w)H@]7m  
14.5  金属的参数提取 306 SKW%X8  
14.6  不正确的模型 306 Kb^>-[Yx  
14.7  参考文献 311 l]]l  
15  反演工程 313 ?}B:  
15.1  随机性和系统性 313 nA~E "*  
15.2  常见的系统性问题 314  ]@M5&  
15.3  单层膜 314 Q*XE h  
15.4  多层膜 314 8+Bu+|c%f  
15.5  含义 319 bTSL<"(]N  
15.6  反演工程实例 319 e hA;i.n  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 g5q$A9.Jl  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 wWXD\{Hk  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 )aX2jSp  
16.1  光学性质的热致偏移 329 dHk{.n^p  
16.2  应力工具 335 s-ZI ^I2\  
16.3  均匀性误差 339 c~o+WI Ym  
16.3.1  圆锥工具 339 rP(eva  
16.3.2  波前问题 341 SZ_V^UX_  
16.4  参考文献 343 b,IocD6v;P  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 kHv[H]+v  
17.1  引言 345 P%MfCpyj  
17.2  操作数 345 ,2]X}&{i  
18  如何在Function中编写脚本 351 [>|FB'  
18.1  简介 351 `.2h jO  
18.2  什么是脚本? 351 O0PJ6:9P  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 jp+_@S>  
18.4  基础 352 K]xa/G(  
18.4.1  Classes(类别) 352 vs j3  
18.4.2  对象 352 5ZY)nelc  
18.4.3  信息(Messages) 352 "+uNmUUnm  
18.4.4  属性 352 Krs2Gre}  
18.4.5  方法 353 DS xUdEK6  
18.4.6  变量声明 353 "3F;cCDv]  
18.5  创建对象 354 }Up.){.%  
18.5.1  创建对象函数 355 g`>og^7g  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 &J!aw  
18.5.3 丢弃对象 356 |/ }\6L]  
18.5.4  总结 356 c={Ft*N  
18.6  脚本中的表格 357 F6hmku>\1  
18.6.1  方法1 357 n$(p-po  
18.6.2  方法2 357 8by@iQ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 }!TL2er_  
18.8 3D Plots in Scripts 359 AddeaB5<  
18.9  注释 360 *XWq?hi  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 wLV~F[:  
18.11  一个更高级的脚本 362 ]Zf6Yw.Y  
18.12  <esc>键 364 4eH.9t  
18.13 包含文件 365 <:|3rfm#  
18.14  脚本被优化调用 366 O3o: qly!  
18.15  脚本中的对话框 368 8I,QD` xu  
18.15.1  介绍 368 F%rHU5CkV  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 #;# 3%?  
18.15.3  输入框函数 370 +([!A6:  
18.15.4  自定义对话框 371 ,1/}^f6  
18.15.5  对话框编辑器 371 .C]cK%OO N  
18.15.6  控制对话框 377 !Ss HAE|  
18.15.7  更高级的对话框 380 :"o o>  
18.16 Types语句 384 l?*r5[O>n  
18.17 打开文件 385 l|V;Ys5f  
18.18 Bags 387 +1 eCvt:,  
18.13  进一步研究 388 gX5&d\y  
19  vStack 389 {I{:GcS  
19.1  vStack基本原理 389 V84*0&qOW  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 V^il$'  
19.3  五棱镜 393 DDd|T;8  
19.4 光束距离 396 !8tS|C#2  
19.5 误差 399 R \s!*)  
19.6  二向分色棱镜 399 [t0rfl{.  
19.7  偏振泄漏 404 T{vR,  
19.8  波前误差—相位 405 <EO<x D=:  
19.9  其它计算参数 405 k6\^p;!Y  
20  报表生成器 406 qO`qJ/  
20.1  入门 406 )fU(AXSP  
20.2  指令(Instructions) 406 "?.~/@  
20.3  页面布局指令 406 rSV gWr8  
20.4  常见的参数图和三维图 407 Cpx+qQt0  
20.5  表格中的常见参数 408 y~<@x.  
20.6  迭代指令 408 AN9[G  
20.7  报表模版 408 99 wc  
20.8  开始设计一个报表模版 409 o!&W sD  
21  一个新的project 413 F:37MUQi  
21.1  创建一个新Job 414 ]qw0V   
21.2  默认设计 415 K \Eo z]?  
21.3  薄膜设计 416 Ey&aB YR  
21.4  误差的灵敏度计算 420 #-cTc&$O;  
21.5  显色指数计算 422 'i>xf ^  
21.6  电场分布 424 u2sR.%2U<  
后记 426 J7i+c];!<  
RHNk%9  
8}BBOD  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 Q*O<@   
'5H4z7)  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
*i<\iMoW  
pvXcLR)L+3  
目  录 }C(5-7  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 (B`sQw@tu  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 s'_,:R\VM>  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 PCfo  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 G{c#\?12C  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 .]76!(fWZ  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 LAZVW</  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 /r.6XZs6  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 !Ua&0s%  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 w+f=RHX"{  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213  U w Eiz  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 g*-2* \  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 :%tuNJjj  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 V,LVB_6  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 u3ds QU  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 :):zNn_>`  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Q_}/ Pn$1  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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