上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)
时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 R%Ui6dCLo 授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00 w PG1P'w; 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 _4.]A3;} 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 xb+RRTgj 课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 `?zg3GD_ [attachment=120542] c%AFo]H 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 cQ3W;F8|n 获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ;0w ^ud 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 <THZ2`tTK3 本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 T}L^CU0 1. Essential Macleod软件介绍 ?Y?gzD 1.1 介绍软件 z.2r@Psk 1.2 创建一个简单的设计 |+Hp+9J 1.3 绘图和制表来表示性能 V-KL% 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 [K cki+ 1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) A9\]3 LY 1.6 特定设计的公式技术 ;ZQ-uz 1.7 交互式绘图 F`Dg*O 2. 光学薄膜理论基础 heE}_,$| 2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 !US8aT 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 w(76H^e 3. 材料管理 Vs#"SpH{' 3.1 材料模型 prNhn:j 3.2 介质薄膜光学常数的提取 @4IW=V 3.3 金属薄膜光学常数的提取 di6B!YQP 3.4 基板光学常数的提取 !c3```* 4. 光学薄膜设计优化方法 o"rq/\ovv 4.1 参考波长与g _j:UGMTi(U 4.2 四分之一规则 [[:UhrH- 4.3 导纳与导纳图 f4]N0 4.4 斜入射光学导纳 ,HFs.9#&B 4.5 光学薄膜设计的进展 Y3#Nux% 4.6 Macleod软件的设计与优化功能 [8>z#*B 4.6.1 优化目标设置 aq3~!T;W 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) /@ y;iJk; 4.6.3 膜层锁定和链接 ?e
F@Q!h 5. Essential Macleod中各个模块的应用 HXQ e\r 5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 T vrk^! 5.2 光通信用窄带滤光片模拟 bGbqfO` 5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 `W@T'T" 5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 #SKfE 5.5 如何在Function中编写脚本 ~9Zh,p; 6. 光学薄膜系统案例 ze`1fO|% 6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 J,f/fPaf7 6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 YEzU{J 6.3 Stack应用范例说明 ^>C11v 7. 薄膜性能分析 *)u?~r(F 7.1 电场分布 %BUEX 7.2 公差与灵敏度分析 Z&_y0W=t 7.3 反演工程 cA D[3b[Gk 7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 |xn#\epy@ 8. 真空技术 'It?wB W 8.1 常用真空泵介绍 et=7}K]l 8.2 真空密封和检漏 8zY)J # 9. 薄膜制备技术 n-DaX
kK 9.1 常见薄膜制备技术 5sCFzo<=vh 10. 薄膜制备工艺 O|QUNr9 10.1 薄膜制备工艺因素 l^\(ss0~ 10.2 薄膜均匀性修正技术 2d*_Qq1 10.3 光学薄膜监控技术 ]*qU+& 11. 激光薄膜 *h$&0w
y 11.1 薄膜的损伤问题 6^)rv-L~5y 11.2 激光薄膜的制备流程 1BJ<m5/1% 11.3 激光薄膜的制备技术 bNGCOj 12. 光学薄膜特性测量 (Yv{{mIy 12.1 薄膜光谱测量 MaO"#{i 12.2 薄膜光学常数测量 ',7a E@PJ 12.3 薄膜应力测量 ^i+[m 12.4 薄膜损伤测量 w/W7N 12.5 薄膜形貌、结构与组分分析[attachment=120543] LN4qYp6)G
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541] 书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) [attachment=120544] CK0l9#g
内容简介 Us,)]W.S Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 K/txD20
O| 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Oe51PEqn 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 C-m*?))go %Tv^GP{}
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ?7
\\e ;j} Q$~n/ 目录 t V03+&jF Preface 1 `9Yn0B. 内容简介 2 +L0w;w T 目录 i ]ab#q= 1 引言 1 3uV4/%U 2 光学薄膜基础 2 2?W7I/F 2.1 一般规则 2 X8i(~
B 2.2 正交入射规则 3 n2{SV 2.3 斜入射规则 6 Pao%pA.< 2.4 精确计算 7 +f>c xA
2.5 相干性 8 ?P/AC$:|I 2.6 参考文献 10 + H_MV=A^ 3 Essential Macleod的快速预览 10 `S3>3 4 Essential Macleod的特点 32 e4`uVq5 4.1 容量和局限性 33 i%-Ld
Ka}" 4.2 程序在哪里? 33 (gwj)?: 4.3 数据文件 35 s
=Umj'1k 4.4 设计规则 35 #]E(N~ 4.5 材料数据库和资料库 37 ";x+1R.d 4.5.1材料损失 38 @%hCAm 4.5.1材料数据库和导入材料 39 JBC$Ku 4.5.2 材料库 41 4nqoZk^R 4.5.3导出材料数据 43 AVl~{k| 4.6 常用单位 43 !2tW$BP^ 4.7 插值和外推法 46 c+kU o$ 4.8 材料数据的平滑 50
fvEAIs 4.9 更多光学常数模型 54 ;apzAF 4.10 文档的一般编辑规则 55 N@xg:xr 4.11 撤销和重做 56 jZpa0g rA 4.12 设计文档 57 )J D(` 4.10.1 公式 58 52d^K0STC 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 QAPu<rdJP 4.10.3 沉积密度 59 .fYZ*=P;c 4.10.4 平行和楔形介质 60 ?F7o!B 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rJJ[X4$ 4.10.4 性能 61 J=W0Xi! 4.10.5 保存设计和性能 64 $w#r"= ) 4.10.6 默认设计 64 w Q+8\ s= 4.11 图表 64 @+LfQY 4.11.1 合并曲线图 67 UPiW73Nu 4.11.2 自适应绘制 68 ({^9<Us 4.11.3 动态绘图 68 Rp9fO?ZjHt 4.11.4 3D绘图 69 MZ>6o5K| 4.12 导入和导出 73 Ge+0-I6Ju 4.12.1 剪贴板 73 G:W>I=^DaR 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 crcA\lJf 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 tV;`fV
4.13 背景 77 c{+A J8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 j;1 -p>z 4.15 生成Rugate 84 3+Qxg+< 4.16 参考文献 91 k S#
CEU7 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 SOZPZUUEJ 5.1 Jobs 92 !v.9"!' N 5.2 创建一个新Job(工作) 93 kq=V4-a[ 5.3 输入材料 94 Sh6JF574T 5.4 设计数据文件夹 95 V'Kgdj 5.5 默认设计 95 <A5]]{9 + 6 细化和合成 97 e({9] 6.1 优化介绍 97 H(
jXI 6.2 细化 (Refinement) 98 /93l74.w 6.3 合成 (Synthesis) 100 Z?P~z07 6.4 目标和评价函数 101 WLa!.v> 6.4.1 目标输入 102 wXMDh$ 6.4.2 目标 103 }A=y=+4j 6.4.3 特殊的评价函数 104 I){\0vb@ 6.5 层锁定和连接 104 /cr}N%HZB 6.6 细化技术 104 TjMe?p 6.6.1 单纯形 105 !" #9<~Q,p 6.6.1.1 单纯形参数 106 WtulTAfN 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Y9=K]GB
6.6.2.1 Optimac参数 108 h^9"i3H 6.6.3 模拟退火算法 109 `;|5 6.6.3.1 模拟退火参数 109 IQ<MyB( 6.6.4 共轭梯度 111 aNn"X y\ k 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 M->*{D@a 6.6.5 拟牛顿法 112 0Sq][W= 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H=*5ASc 6.6.6 针合成 113 aprm0:Q^ 6.6.6.1 针合成参数 114 U[L9*=P; 6.6.7 差分进化 114 oI:o"T77sA 6.6.8非局部细化 115 zya5Jb:Sg 6.6.8.1非局部细化参数 115 `\`> 0hlu 6.7 我应该使用哪种技术? 116 -oeL{9; 6.7.1 细化 116 *-W#G}O0 6.7.2 合成 117 @vL20O. 6.8 参考文献 117 {>LIMG-f 7 导纳图及其他工具 118 {t"+
3zy' 7.1 简介 118 &cWjEx 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 /-bF$)vN 7.2.1 四分之一波长规则 119 8.'#?]a 7.2.2 导纳图 120 Jd\apBIf 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 |Fm6#1A@ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 \^( 0B8|w 7.5 斜入射导纳图 141 NNhL*C[_7 7.6 对称周期 141 }+o:j'jB 7.7 参考文献 142 2?m.45` 8 典型的镀膜实例 143 @`tXKP$so 8.1 单层抗反射薄膜 145 c4&' D;= 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 j'[m:/ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 c_aZ{S 8.4 W-膜层 148 iGB_{F~t4} 8.5 V-膜层 149 8[r9HC 8.6 V-膜层高折射基底 150 1O].v&{ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 b'MSkEiQG 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 r`)L~/ 8.9 四层抗反射薄膜 153 )X4K2~k* 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 h)~=Dm 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 j!7`] 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Hf'G8vW 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 *Av"JAX 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 [."[pY 8.15十五层宽带抗反射膜 159 DD" $1o" 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 gaA<}Tp, 8.17 1/4波长堆栈 162 ^c~)/F/cF 8.18 陷波滤波器 163 &//wSlL3 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 tiN?/ 8.20 褶皱 165 =@TQ>Qw%b 8.21 消偏振分光器1 169 GgaTn!mJt 8.22 消偏振分光器2 171 ,-x!$VqS 8.23 消偏振立体分光器 172
h:lt<y 8.24 消偏振截止滤光片 173 Oj<S.fi 8.25 立体偏振分束器1 174 dU\%Cq-G) 8.26 立方偏振分束器2 177 iU6Gp-<M, 8.27 相位延迟器 178 8|E'>+ D_- 8.28 红外截止器 179 e><5Pr) 8.29 21层长波带通滤波器 180 BBcV9CGU 8.30 49层长波带通滤波器 181 q+B&orp 8.31 55层短波带通滤波器 182 S+TOSjfis 8.32 47 红外截止器 183 GGhM;%H_99 8.33 宽带通滤波器 184 /1?R?N2>0 8.34 诱导透射滤波器 186 Bgmn2- 8.35 诱导透射滤波器2 188 As+t##gN 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 L[5=h 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 3\T2?w9u( 8.35 增益平坦滤波器 193 42>Ge>#F 8.38 啁啾反射镜 1 196 ~=R SKyzt 8.39 啁啾反射镜2 198 eNiaM6(J 8.40 啁啾反射镜3 199 1-.~7yC 8.41 带保护层的铝膜层 200 <b/~.$a' 8.42 增加铝反射率膜 201 PRNoqi3sY 8.43 参考文献 202 nQ|r"|g 9 多层膜 204 ~b{Gz6u> 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 s,a}?W 9.2 内部透过率 204 Be+0NXLVy 9.3 内部透射率数据 205 qRbf2; 9.4 实例 206 fO#vF.k% 9.5 实例2 210 T{wuj[Q#: 9.6 圆锥和带宽计算 212 (H+'X}1
9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 7)h[Zy,A 10 光学薄膜的颜色 216 p }[zt#v 10.1 导言 216 :$MG*/Q 10.2 色彩 216 &@ JvnO: 10.3 主波长和纯度 220 []s^
10.4 色相和纯度 221 Z$J#| 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 XD"_Iq! 10.6 色差 226 9W5onn 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 o:V|:*1Q 10.8 颜色渲染指数 234 |p$spQ 10.9 色差计算 235 qC'{;ko 10.10 参考文献 236 wgd /(8d 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Fd*8N8Pi 11.1 短脉冲 238 !nAX$i~ 11.2 群速度 239 V`@>MOw^d 11.3 群速度色散 241 'U'yC2BI n 11.4 啁啾(chirped) 245 9)VF 1LD 11.5 光学薄膜—相变 245 |>z3E z 11.6 群延迟和延迟色散 246 }B~If}7 11.7 色度色散 246 imiR/V>N 11.8 色散补偿 249 k%^lF?_0I 11.9 空间光线偏移 256 dK>7fy;mv 11.10 参考文献 258 @?"h
!fyu 12 公差与误差 260 <]G]W/eB' 12.1 蒙特卡罗模型 260 aM4k *|H? 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 r_;9'#&' 12.2.1 误差工具 267 H.UX,O@ 12.2.2 灵敏度工具 271 1{P'7IEj 12.2.2.1 独立灵敏度 271 : _QCfH 12.2.2.2 灵敏度分布 275 |r bWYl.b 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 H:"maS\I 12.3 参考文献 276 Z(!00^ 13 Runsheet 与Simulator 277 .CFa9"< 13.1 原理介绍 277 fw[y+Bi&
? 13.2 截止滤光片设计 277 fxT-j s#S 14 光学常数提取 289 r [K5w 14.1 介绍 289 `mN4_\] 14.2 电介质薄膜 289 eilYA_FL. 14.3 n 和k 的提取工具 295 \(%Y%?dy 14.4 基底的参数提取 302 B-l'vVx 14.5 金属的参数提取 306 YM
DMH"3 14.6 不正确的模型 306 VsA'de!V4[ 14.7 参考文献 311 V%Sy"IG 15 反演工程 313 VWO9=A*Y| 15.1 随机性和系统性 313 VcoOeAKL 15.2 常见的系统性问题 314 + T8B: 15.3 单层膜 314 tr7<]Hm: 15.4 多层膜 314 O eL}EVs8= 15.5 含义 319 IUwm}9Q! 15.6 反演工程实例 319 8n>9;D5n 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ]7e =fM9V; 15.6.2 反演工程提取折射率 327 ZI=v.wa 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 'e6WDC1Am( 16.1 光学性质的热致偏移 329 +a*tO@HG 16.2 应力工具 335 E4hLtc^
+ 16.3 均匀性误差 339 x.q+uU$^ 16.3.1 圆锥工具 339 2,*M|+W~ 16.3.2 波前问题 341 5ls6t{Ci 16.4 参考文献 343 ;amXY@RmH 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 l<);s 17.1 引言 345 $LU"?aAW 17.2 操作数 345 []D@Q+1 18 如何在Function中编写脚本 351 ttu&@
= 18.1 简介 351 >;[*!<pfK5 18.2 什么是脚本? 351 {D=@n4JO 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 rdJR 2 18.4 基础 352 f%*/cpA) 18.4.1 Classes(类别) 352 &%-73nYw 18.4.2 对象 352 l'eyq}& 18.4.3 信息(Messages) 352 8-O)Xx}cU 18.4.4 属性 352 *M"}z 18.4.5 方法 353 )6aAB| 18.4.6 变量声明 353 _F`lq_C 18.5 创建对象 354 rvw)-=qR[ 18.5.1 创建对象函数 355 Gh}*q|Lz 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 9yfJVg 18.5.3 丢弃对象 356 ~sXcnxLz 18.5.4 总结 356 {E8~Z8tT 18.6 脚本中的表格 357 8e(\%bX 18.6.1 方法1 357 ?5{>;#0Z 18.6.2 方法2 357 j*vYBGD 18.7 2D Plots in Scripts 358 )>Yu!8i 18.8 3D Plots in Scripts 359 o !U
6? 18.9 注释 360 ^N)R=tl 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 Ct>GYk$ 18.11 一个更高级的脚本 362 1Yn
+<I 18.12 <esc>键 364 hzvd t 18.13 包含文件 365 U-3i 18.14 脚本被优化调用 366 X)% A6M 18.15 脚本中的对话框 368 ZEx}$<)_ 18.15.1 介绍 368 hr)B[<9 18.15.2 消息框-MsgBox 368 1 |jt"Hz 18.15.3 输入框函数 370 |/)${*a4n 18.15.4 自定义对话框 371 @qYp>|AF 18.15.5 对话框编辑器 371 i ,/0/?)*_ 18.15.6 控制对话框 377 IqoR7ajA 18.15.7 更高级的对话框 380 Sb82}$sO 18.16 Types语句 384 @8I4[TE 18.17 打开文件 385 #n8IZ3+ 18.18 Bags 387 rQ qW_t% 18.13 进一步研究 388 Ug<#en 19 vStack 389 ]'=)2
.} 19.1 vStack基本原理 389 e(<str> 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 \}|o1Xh2 19.3 五棱镜 393 \r+8qC[, 19.4 光束距离 396 mmk=97 19.5 误差 399 4.5|2\[ 19.6 二向分色棱镜 399 =D<PVGo9 19.7 偏振泄漏 404 TtTj28k7 19.8 波前误差—相位 405 @pRlxkvV 19.9 其它计算参数 405 LF& z 20 报表生成器 406 9eQxit7 20.1 入门 406 ~
r438& 20.2 指令(Instructions) 406 %#xaA'?
[ 20.3 页面布局指令 406 ,tu.2VQc@ 20.4 常见的参数图和三维图 407 MjC_ ( cs 20.5 表格中的常见参数 408 .E8_Oz 20.6 迭代指令 408 oV|4V:G q 20.7 报表模版 408 I!Z_[M 20.8 开始设计一个报表模版 409 wMg0> 21 一个新的project 413 '|8} z4/g 21.1 创建一个新Job 414 Eu@huN*/ 21.2 默认设计 415 |#cm`v 21.3 薄膜设计 416 DrY:9[LP 21.4 误差的灵敏度计算 420 eEv@}1~ 21.5 显色指数计算 422 GQUe!G9 21.6 电场分布 424 .7avpOfz 后记 426 9 %I?).5 n|R J;d30Q U`NjPZe5^ 书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 D!Pq4'd( )9"_J9G 《Essential Macleod中文手册》[attachment=120545] b((M)Gz QLiu2U o 目 录 gf
&Pn ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 SVh 7zh 第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 Ki$MpA3j 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 TE7nJ gm 第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 jN;@=COi 第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ?IqQ-C)6D 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 1q:2\d] 第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ][+#;avU 第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 J$GUB3
G 第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 CR"|^{G 第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 vZaZc}AyL 第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 :*Z4yx 第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 {E9+WFz5 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 QSdHm 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 %InA+5s` 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Ybs\ES'?A 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 F@'Jbd` .ps-4eXF 价 格:400元
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