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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 S_VZ^1X]  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 V9 dRn2- [  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 8AK=FX&@&  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 R>iRnrn:-  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 '*~_!lE5  
[attachment=120542] + S^OzCGk  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 AUm"^-@x#>  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 a$*)d($  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 #MyR:V*a  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 +; P8QZK6  
1. Essential Macleod软件介绍 ;p !|E3o.  
1.1 介绍软件 ke sg]K  
1.2 创建一个简单的设计 -r6cK,WVU  
1.3 绘图和制表来表示性能 4Y)rgLFj  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 G98P<cyD  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) "+g9}g  
1.6 特定设计的公式技术 #JFTD[1  
1.7 交互式绘图 0GtL6M@pP  
2. 光学薄膜理论基础 R;wq  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 p=7{  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 S4m??B  
3. 材料管理 .>Gnb2  
3.1 材料模型 ,dTRM  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 s\k4<d5  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 \pXs&}%1,F  
3.4 基板光学常数的提取 pO* $ '8L  
4. 光学薄膜设计优化方法 p5C:MA~*  
4.1 参考波长与g yM *-e m  
4.2 四分之一规则 !\ IgTt,  
4.3 导纳与导纳图 Df\~ ZWs!  
4.4 斜入射光学导纳 ^u? #fLr  
4.5 光学薄膜设计的进展 B^;P:S<yG  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 5/vfmDt3'G  
4.6.1 优化目标设置 N%hV+># Z  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) xpJ6M<O{8  
4.6.3 膜层锁定和链接 \>T+\?M  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 |a3v!va  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 f4JmY1)@  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 B}PT-S1l  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 .l| [e  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 tl 0_Sd  
5.5 如何在Function中编写脚本 ?s=O6D&   
6. 光学薄膜系统案例 cBZK t  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 $2p=vi 3  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 BB x359  
6.3 Stack应用范例说明 0rt@4"~~w  
7. 薄膜性能分析 _JVFn=  
7.1 电场分布 SdOa#U)  
7.2 公差与灵敏度分析 {X85  
7.3 反演工程 R&>G6jZ?8  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 KASuSg+  
8. 真空技术 ))/NGa  
8.1 常用真空泵介绍 ~  4v  
8.2 真空密封和检漏 e -!6m #0  
9. 薄膜制备技术 YXJreM5  
9.1 常见薄膜制备技术 Z~g6C0  
10. 薄膜制备工艺 )\S3Q  
10.1 薄膜制备工艺因素 TY."?` [FK  
10.2 薄膜均匀性修正技术 3 291"0  
10.3 光学薄膜监控技术 aVg~/  
11. 激光薄膜 50s1o{xwc  
11.1 薄膜的损伤问题  Re=()M  
11.2 激光薄膜的制备流程 Vu0d\l^$  
11.3 激光薄膜的制备技术 q7}rD$  
12. 光学薄膜特性测量 FAkrM?0/  
12.1 薄膜光谱测量 1zGD~[M  
12.2 薄膜光学常数测量 1^f7  
12.3 薄膜应力测量 PBeBI:  
12.4 薄膜损伤测量 S55h}5Y  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
og`rsl  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
Tvd}5~ 5?  
内容简介 TpAE9S  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 j8cIpbp8x  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 L;7u0Yg  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Qe[ejj1o:  
<y S|\Z|  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
b<\2j5  
Udi  
目录 4. =jKj9j  
Preface 1 :F |ll?  
内容简介 2 t3qPocYQ  
目录 i Y>/T+ub  
1  引言 1 =bBV A0y  
2  光学薄膜基础 2 U<YcUmX  
2.1  一般规则 2 rD\)ndPv  
2.2  正交入射规则 3 >1}@Q(n/}{  
2.3  斜入射规则 6 +]3kcm7B  
2.4  精确计算 7 r|_@S[hZg  
2.5  相干性 8 0.aIcc  
2.6 参考文献 10 O"M2*qiH  
3  Essential Macleod的快速预览 10 e9=UTn{!  
4  Essential Macleod的特点 32 dwpE(G y6c  
4.1  容量和局限性 33 _qxBjB4t"a  
4.2  程序在哪里? 33 EED0U?  
4.3  数据文件 35 `<Q[$z  
4.4  设计规则 35 ^ Fnag]qQ  
4.5  材料数据库和资料库 37 nO+-o;DbC  
4.5.1材料损失 38 @!Z1*a.  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 $} @gR] Z  
4.5.2 材料库 41 o"V+W  
4.5.3导出材料数据 43 )ZW[$:wA  
4.6  常用单位 43 n)Zu>  
4.7  插值和外推法 46 68UfuC  
4.8  材料数据的平滑 50 M!/!*,~  
4.9 更多光学常数模型 54 qs%UJ0tR  
4.10  文档的一般编辑规则 55 eJ%b"H!  
4.11 撤销和重做 56 /V {1Zw=  
4.12  设计文档 57 ,Y4>$:#n/  
4.10.1  公式 58 hm\UqIt  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *mJ\Tzc)  
4.10.3  沉积密度 59 #z1/VZ  
4.10.4 平行和楔形介质 60 ~n~j2OE  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Dr)jB*yK  
4.10.4  性能 61 j8G$,~v  
4.10.5  保存设计和性能 64 l;SXR <EU  
4.10.6  默认设计 64 I/*^s  
4.11  图表 64 _P` ^B  
4.11.1  合并曲线图 67 .k-t5d  
4.11.2  自适应绘制 68 x[y}{T  
4.11.3  动态绘图 68 G=F_{z\}  
4.11.4  3D绘图 69 vdcPpj^d5  
4.12  导入和导出 73 8 :;]tt  
4.12.1  剪贴板 73 ``-pjD(t  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Sy/Z}H  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 ICEyz| C  
4.13  背景 77 mKqXB\<  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 l>?f+70  
4.15  生成Rugate 84 ~: fSD0  
4.16  参考文献 91 y`i?Qo3  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 jLA)Y [h  
5.1  Jobs 92 5WA:gygB&  
5.2  创建一个新Job(工作) 93  0R,.  
5.3  输入材料 94 `TYC]9  
5.4  设计数据文件夹 95 r1Hh @sxn  
5.5  默认设计 95 c*y*UG  
6  细化和合成 97 ^?2zoS#iw  
6.1  优化介绍 97 XtQwLH+F  
6.2  细化 (Refinement) 98 ~z\a:+  
6.3  合成 (Synthesis) 100 EOZ 6F-':  
6.4  目标和评价函数 101 w~q ]&  
6.4.1  目标输入 102 BCuoFw)  
6.4.2  目标 103 ULhXyItL  
6.4.3  特殊的评价函数 104 sYfm]Faz  
6.5  层锁定和连接 104 MGf*+!y,  
6.6  细化技术 104 D~bx'Wr+  
6.6.1  单纯形 105 ts% n tnvI  
6.6.1.1 单纯形参数 106 )Ii`/I^  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 764eXh  
6.6.2.1 Optimac参数 108 ZXN`8!]&  
6.6.3  模拟退火算法 109 D@O5Gd  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 @u`W(Ow  
6.6.4  共轭梯度 111 kl[(!"p  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 3:G$Y: #P  
6.6.5  拟牛顿法 112 %#o@c  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 -\USDi(  
6.6.6  针合成 113 ?lfyC/  
6.6.6.1 针合成参数 114 Io"3wL)2  
6.6.7 差分进化 114 +_kA&Q(t  
6.6.8非局部细化 115 +!W:gA  
6.6.8.1非局部细化参数 115 y@,PTF  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 E=CAWj\  
6.7.1  细化 116 lXF7)H&T  
6.7.2  合成 117 8#HnV%|N  
6.8  参考文献 117 6.a5%:  
7  导纳图及其他工具 118 op/_ :#&'  
7.1  简介 118 `K:n=hpF  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 IN@o9pUjV  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ~1E!Co  
7.2.2  导纳图 120 IdMwpru(  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 zRd.!Rv  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 F:d2;  
7.5  斜入射导纳图 141 ,(Ol]W}  
7.6  对称周期 141 cWG%>.`5r  
7.7  参考文献 142 SSCs96  
8  典型的镀膜实例 143 H2H[DVKv  
8.1  单层抗反射薄膜 145 V ?'p E  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 \NMqlxp2  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 w;{Q)_A  
8.4  W-膜层 148 _3D9>8tzE7  
8.5  V-膜层 149 sp:4b$zX  
8.6  V-膜层高折射基底 150 =PQ4S2Q  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 JV@G9PT  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 KO7&dM  
8.9  四层抗反射薄膜 153 +lfO4^V  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 Woj5 yr  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 y2#"\5dC  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 Sgv_YoD?-  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 `A%WCd60Tc  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 I*^t!+q$  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 #;~HoOK*#  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 pDYJLh-C  
8.17  1/4波长堆栈 162 (CRx'R  
8.18  陷波滤波器 163 54Rp0o tv  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 J _dgP[  
8.20  褶皱 165 x>B\2;  
8.21  消偏振分光器1 169 Y2XxfZ j  
8.22  消偏振分光器2 171 2"?DaX  
8.23  消偏振立体分光器 172 #) :.1Z?  
8.24  消偏振截止滤光片 173 g)^s+Y  
8.25  立体偏振分束器1 174 EnlAgL']|  
8.26  立方偏振分束器2 177 ye=4<b_  
8.27  相位延迟器 178 YC8IwyL'  
8.28  红外截止器 179 \QC{38}  
8.29  21层长波带通滤波器 180 `_1~[t  
8.30  49层长波带通滤波器 181 .4R.$`z4  
8.31  55层短波带通滤波器 182 lH`TF_  
8.32  47 红外截止器 183 `7w-_o %  
8.33  宽带通滤波器 184 ha$1vi}b  
8.34  诱导透射滤波器 186 jk&xzJH.  
8.35  诱导透射滤波器2 188 "FA. T7G  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 *E/ Mf  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 qe#5;#  
8.35  增益平坦滤波器 193 RC[Sa wA  
8.38  啁啾反射镜 1 196 {icTfPR4E  
8.39  啁啾反射镜2 198 GW'v\O  
8.40  啁啾反射镜3 199 5N $XY@  
8.41  带保护层的铝膜层 200 O+|C<;K  
8.42  增加铝反射率膜 201 -*4*hHmb  
8.43  参考文献 202 N10U&L'w  
9  多层膜 204 ws5Ue4g|  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Z3hZy&_I  
9.2  内部透过率 204 I/tMFg  
9.3 内部透射率数据 205 K&%CeUa  
9.4  实例 206 ur8+k4] \"  
9.5  实例2 210 <^Vj1s  
9.6  圆锥和带宽计算 212 =xIZJ8e  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Wj^e)2%  
10  光学薄膜的颜色 216 f0 sGE5  
10.1  导言 216 pg4pfi^__V  
10.2  色彩 216 U< Xdhgo?  
10.3  主波长和纯度 220 5[SwF& zZ  
10.4  色相和纯度 221 Jg[Ao#,==  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 O7VEyQqf5  
10.6 色差 226 ').) 0;  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 C h>F11kC  
10.8  颜色渲染指数 234 O6G'!h\F  
10.9  色差计算 235 }|=/v( D  
10.10  参考文献 236 iO5g30l  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 LZe)_9$  
11.1  短脉冲 238 0?>(H(D^/  
11.2  群速度 239 }Cu[x'J  
11.3  群速度色散 241 `e =IXkt  
11.4  啁啾(chirped) 245  SW#/;|m  
11.5  光学薄膜—相变 245 U[f00m5{HV  
11.6  群延迟和延迟色散 246 zVw5(Tc  
11.7  色度色散 246 `T[@-   
11.8  色散补偿 249 u3+B/ 5x  
11.9  空间光线偏移 256 9m$;C'}Z  
11.10  参考文献 258 e9KD mX_  
12  公差与误差 260 b^d{$eoH?|  
12.1  蒙特卡罗模型 260 W]ca~%r  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Tl2t\z+ps  
12.2.1  误差工具 267 %/ y=_G  
12.2.2  灵敏度工具 271 -Y/i h(I^  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 F,p0OL.  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 f(m, !  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 xrg?{*\  
12.3  参考文献 276 qXW\/NT"p<  
13  Runsheet 与Simulator 277 @Uez2?  
13.1  原理介绍 277 Z*co\ pW  
13.2  截止滤光片设计 277 8O,\8:I#  
14  光学常数提取 289 |g3:+&  
14.1  介绍 289 !g]5y=  
14.2  电介质薄膜 289 Bxm,?=h  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ^b+>r  
14.4  基底的参数提取 302 nL:&G'd  
14.5  金属的参数提取 306 H/O.h@E4X  
14.6  不正确的模型 306 {g%N(2  
14.7  参考文献 311 LN5LT'CE   
15  反演工程 313 C.92FiC  
15.1  随机性和系统性 313 {\l  
15.2  常见的系统性问题 314 j1K3|E  
15.3  单层膜 314 {'O><4  
15.4  多层膜 314 LBK{-(%  
15.5  含义 319 >s{I@#9  
15.6  反演工程实例 319 .r<a Py$  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 Iy9hBAg\y  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 ={:a N)  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 NZq-%bE  
16.1  光学性质的热致偏移 329 :G1ddb&0+  
16.2  应力工具 335 'V:Q :  
16.3  均匀性误差 339 y d 97ys  
16.3.1  圆锥工具 339 < xy@%  
16.3.2  波前问题 341 @N>7+ 4  
16.4  参考文献 343 .zO2g8(VR  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 d+JK")$9C  
17.1  引言 345 &$~fz":1!  
17.2  操作数 345 YJ _eE  
18  如何在Function中编写脚本 351 '8X>,un  
18.1  简介 351 3^o(\=-JX  
18.2  什么是脚本? 351 p`Pa;=L  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 >j5\J_( ;D  
18.4  基础 352 V,&%[H [  
18.4.1  Classes(类别) 352 t/i I!}  
18.4.2  对象 352 q3$8"Q^  
18.4.3  信息(Messages) 352 c|Ivet>3  
18.4.4  属性 352 ;l@94)@0  
18.4.5  方法 353 K~ eak\=  
18.4.6  变量声明 353 +94)BxrY  
18.5  创建对象 354 > {*cW  
18.5.1  创建对象函数 355 U6]#RxH  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 NfgXOLthM  
18.5.3 丢弃对象 356 r6m^~Wq!}  
18.5.4  总结 356 *'/,  
18.6  脚本中的表格 357 }\"EI<$s  
18.6.1  方法1 357 7Q .Su  
18.6.2  方法2 357 jdxHWkQ   
18.7 2D Plots in Scripts 358 ;'"'|} xn  
18.8 3D Plots in Scripts 359 }Ce9R2  
18.9  注释 360 (g##wa)L  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 RaJTya^  
18.11  一个更高级的脚本 362 m!V,W*RNr  
18.12  <esc>键 364 + Iyyk02V  
18.13 包含文件 365 INg0[Lpc  
18.14  脚本被优化调用 366 :;k?/KU7  
18.15  脚本中的对话框 368 FZe/3sY  
18.15.1  介绍 368 :5t4KcQ  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ;KL7SM%g4  
18.15.3  输入框函数 370 \`n(JV  
18.15.4  自定义对话框 371 = L!&Z  
18.15.5  对话框编辑器 371 I\@r ~]+y  
18.15.6  控制对话框 377 %rW}x[M%w?  
18.15.7  更高级的对话框 380 RM2Ik_IH[l  
18.16 Types语句 384 .a%6A#<X  
18.17 打开文件 385 clE9I<1v  
18.18 Bags 387 (Z),gxt  
18.13  进一步研究 388 S,&LH-ps   
19  vStack 389 c#OxI*,+/  
19.1  vStack基本原理 389 @kYY1mv;  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 @.t +  
19.3  五棱镜 393 22l'kvo4"  
19.4 光束距离 396 /JD}b[J$  
19.5 误差 399 |L<JOQ  
19.6  二向分色棱镜 399 t>bzo6cj  
19.7  偏振泄漏 404 iQG!-.aX  
19.8  波前误差—相位 405 V}E['fzBFV  
19.9  其它计算参数 405 VI! \+A  
20  报表生成器 406 3lUVDNbZ  
20.1  入门 406 ?%O>]s  
20.2  指令(Instructions) 406 +:KZEFY?<  
20.3  页面布局指令 406 T^A(v(^D  
20.4  常见的参数图和三维图 407 s9?mX@>h  
20.5  表格中的常见参数 408 vt EfH  
20.6  迭代指令 408 JX59n%$@  
20.7  报表模版 408 < 5zR-UA>  
20.8  开始设计一个报表模版 409 6{2y$'m8  
21  一个新的project 413 ;z:Rj}l  
21.1  创建一个新Job 414 >.?yz   
21.2  默认设计 415 1iT_mtXK$  
21.3  薄膜设计 416 jFSR+mP!  
21.4  误差的灵敏度计算 420 OM EwGr(  
21.5  显色指数计算 422 1$*8F  
21.6  电场分布 424 +t7HlAXB#  
后记 426 3D|Lb]=  
x\yM|WGL  
)~'UJPK  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 !yNU-/K  
a"(Ws]K  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
1g;2e##)  
F/v.hP_  
目  录 EjPR+m  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 t>[QW`EeP  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 (kL"*y/"p  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 P]+B}))  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ~kc#"^s J  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 m(f`=+lqI`  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 "im5Fnu  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 {|9knP  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 6~dAK3v5  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 z%}"=  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 igu1s}F  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 ekx(i QA  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 eD*764tG  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 8@3=SO  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 a^_K@  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 r/h\>s+N  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 4" ?`p;{Z  
_a&gbSQv  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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