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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 >z% WW&Z'  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ,Ij/ ^EC}  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 &' y}L'  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 b`Jsu!?{  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 NO/5pz}1  
[attachment=120542] glkH??S  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 OB^j b8  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 gNkBHwv  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 B5R7geC  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 !t{  
1. Essential Macleod软件介绍 pX$ X8z%  
1.1 介绍软件 ,% .)mf  
1.2 创建一个简单的设计 [A] +Azc  
1.3 绘图和制表来表示性能 jR+k x:+  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 jfam/LL{V  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) (.wR!l# !  
1.6 特定设计的公式技术 |@f\[v9`  
1.7 交互式绘图 gO@LJ  
2. 光学薄膜理论基础 M6V^ur 1  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 *D`$oK,U  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 ; 3sjTqD  
3. 材料管理 C}pQFL{B5  
3.1 材料模型 =rkW325O  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 F[)tg#}@G  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 T&:~=  
3.4 基板光学常数的提取 PeLzZ'$D  
4. 光学薄膜设计优化方法 t\v~ A0  
4.1 参考波长与g uU-1;m#N?  
4.2 四分之一规则 Bo'v!bI7  
4.3 导纳与导纳图 r029E-  
4.4 斜入射光学导纳 ZqjLZ9?q  
4.5 光学薄膜设计的进展 S/l6c P  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 Ka%#RNW  
4.6.1 优化目标设置 k\g:uIsv$  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) QNxxW2+  
4.6.3 膜层锁定和链接 YTr+"\CkA  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 .&8a ;Q?c  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 @Q&k6.{4Z  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 Wd ga(8t  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 {K:] dO  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 C<w&mFozL  
5.5 如何在Function中编写脚本 Q|U [|U  
6. 光学薄膜系统案例 ]*Kv[%r07c  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 l|;]"&|_]c  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 >Nx4 +|  
6.3 Stack应用范例说明 r$x;rL4  
7. 薄膜性能分析 T#[#w*w/  
7.1 电场分布 dx$+,R~y  
7.2 公差与灵敏度分析 0JqvV  
7.3 反演工程 ,"YTG*ky  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 *D1vla8  
8. 真空技术 Z.s0ddM s  
8.1 常用真空泵介绍 Oq)7XL4  
8.2 真空密封和检漏 ),^pi?  
9. 薄膜制备技术 .kgt? r  
9.1 常见薄膜制备技术 M)H*$!x}>  
10. 薄膜制备工艺 #qK5i1<  
10.1 薄膜制备工艺因素 E Q:6R|L  
10.2 薄膜均匀性修正技术 +AFBTJ  
10.3 光学薄膜监控技术 FJT0lC  
11. 激光薄膜 h R6Pj"@0  
11.1 薄膜的损伤问题 Nu'ox. V  
11.2 激光薄膜的制备流程 d"Zyc(Jk  
11.3 激光薄膜的制备技术 ?0qP6'nWx  
12. 光学薄膜特性测量 3UUN@Tx  
12.1 薄膜光谱测量 %8d]JQ  
12.2 薄膜光学常数测量 Dt iM}=:  
12.3 薄膜应力测量 xLgZtLt9  
12.4 薄膜损伤测量 U\-R'Z>M  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
wrsr U  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
GR_caP  
内容简介 %36@1l-N  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 nyBT4e  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 KleiX7  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 !fjB oK+  
\^jRMIM==  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
jdx T662q  
M Ih\z7gW  
目录 x0)WrDb  
Preface 1 Y%>u.HzL  
内容简介 2 LC\U6J't1  
目录 i Z#YNL-x  
1  引言 1 BO%'/2eV  
2  光学薄膜基础 2 KKWv V4u  
2.1  一般规则 2 IFhS(3 YK[  
2.2  正交入射规则 3 H6U 5-  
2.3  斜入射规则 6 Kx?8 HA[5  
2.4  精确计算 7 z\woTL6D]  
2.5  相干性 8 .N`*jT  
2.6 参考文献 10 ;k ,@^f8  
3  Essential Macleod的快速预览 10 v *`M3jb  
4  Essential Macleod的特点 32 JV_VM{w{K  
4.1  容量和局限性 33 P+QL||>L  
4.2  程序在哪里? 33 7+qKA1t^  
4.3  数据文件 35 |"+Uf w^  
4.4  设计规则 35 9[sOh<W  
4.5  材料数据库和资料库 37 &So1;RR,_M  
4.5.1材料损失 38 ,i8%qm8  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 n=|% H'U  
4.5.2 材料库 41 0?dr(   
4.5.3导出材料数据 43 [AA}P/iW  
4.6  常用单位 43 n7yp6 Db  
4.7  插值和外推法 46 2U( qyC  
4.8  材料数据的平滑 50 o$rF-?  
4.9 更多光学常数模型 54 h_SkX@"/-  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ? Dn}  
4.11 撤销和重做 56 3rjKwh7  
4.12  设计文档 57 +w"?q'SnF  
4.10.1  公式 58 JYv<QsD  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <Y2$'ETD  
4.10.3  沉积密度 59 %%zlqd"0  
4.10.4 平行和楔形介质 60 beSU[  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 Hmnxm gx  
4.10.4  性能 61 < fV][W  
4.10.5  保存设计和性能 64 jL'`M%8O  
4.10.6  默认设计 64 j#Tl\S!m.I  
4.11  图表 64 -4P `:bF  
4.11.1  合并曲线图 67 }W&9}9p"  
4.11.2  自适应绘制 68 &b7_%,Bx4  
4.11.3  动态绘图 68 5;,h8vW  
4.11.4  3D绘图 69 P{yb%@I~J  
4.12  导入和导出 73 x":o*(rSQ  
4.12.1  剪贴板 73 ?_cOU@n  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 `b%lojT.  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 _A] )q  
4.13  背景 77 Z*Gf`d:  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 C,GZ  
4.15  生成Rugate 84 n.z,-H17  
4.16  参考文献 91 DfP-(Lm)  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 qZ&~&f|>e  
5.1  Jobs 92 0U H]  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 (<8}un  
5.3  输入材料 94 v(!:HK0oeT  
5.4  设计数据文件夹 95 w( _42)v]g  
5.5  默认设计 95 9 <{C9  
6  细化和合成 97 R&a$w8  
6.1  优化介绍 97 ??U/Qi180  
6.2  细化 (Refinement) 98 OZnKJ<  
6.3  合成 (Synthesis) 100 &i.sSqSI5  
6.4  目标和评价函数 101 7CvBE;i  
6.4.1  目标输入 102 m[74p  
6.4.2  目标 103 )>S,#_e*b  
6.4.3  特殊的评价函数 104 TlRc8r|  
6.5  层锁定和连接 104 }v4dOGc?  
6.6  细化技术 104 q!?*M?Oz  
6.6.1  单纯形 105 b*M?\ aA  
6.6.1.1 单纯形参数 106 Dfa3&# #{  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 7t:tS7{}  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $2?j2}M  
6.6.3  模拟退火算法 109 VqpC@C$  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 v{fcQb  
6.6.4  共轭梯度 111 !hhL",  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -!:5jfT"  
6.6.5  拟牛顿法 112 RZ xwr  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 5<R m{  
6.6.6  针合成 113 s&(;  
6.6.6.1 针合成参数 114 i >s  
6.6.7 差分进化 114 ,<r&] eC  
6.6.8非局部细化 115 |=m.eU  
6.6.8.1非局部细化参数 115 V L$ T  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 }$4z$&  
6.7.1  细化 116 (r kg0  
6.7.2  合成 117 Wi'}d6c  
6.8  参考文献 117 LzNfMvh  
7  导纳图及其他工具 118 wz*iwd-  
7.1  简介 118 eY5mwJ0K  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 ACdPF_Y]  
7.2.1  四分之一波长规则 119 pX?3inQP%(  
7.2.2  导纳图 120 Es%f@$0uy  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 JHt U"  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 Z,A$h>Z  
7.5  斜入射导纳图 141 e12QYoh  
7.6  对称周期 141 Q>Zc eJ;  
7.7  参考文献 142 MmR6V#@:  
8  典型的镀膜实例 143 oDz|%N2s|  
8.1  单层抗反射薄膜 145 P<<+;']  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 {YzCgf  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 "J1A9|  
8.4  W-膜层 148 AcPLJ!y  
8.5  V-膜层 149 .4)oZ  
8.6  V-膜层高折射基底 150 h @!p:]  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 :aej.>I0  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {_-kwg{"(  
8.9  四层抗反射薄膜 153 jTvcKm|q  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 +*]$PVAFA  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 D=TS IJ@  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 L(VFzPkY%  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 % /VCjuV  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ` 3qf}=Z`  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 alaL/p{O  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ;7QXs39S  
8.17  1/4波长堆栈 162 ZH_$Q$9  
8.18  陷波滤波器 163 /I=|;FGq  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 5@w6pda  
8.20  褶皱 165 h|CZ ~  
8.21  消偏振分光器1 169 hul,Yd) Z  
8.22  消偏振分光器2 171 J rx^  
8.23  消偏振立体分光器 172 $nO~A7  
8.24  消偏振截止滤光片 173 73;Y(uh9  
8.25  立体偏振分束器1 174 x#D%3v"l_*  
8.26  立方偏振分束器2 177 /Sw~<B!8N  
8.27  相位延迟器 178 ub-3/T  
8.28  红外截止器 179 SIJ7Y{\.  
8.29  21层长波带通滤波器 180 QnWE;zN[7A  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ga 5Q  
8.31  55层短波带通滤波器 182   3%kUj  
8.32  47 红外截止器 183 pAE (i7  
8.33  宽带通滤波器 184 fp' '+R[   
8.34  诱导透射滤波器 186 9Da{|FyrD  
8.35  诱导透射滤波器2 188 qzUiBwUi@  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 *[Z`0AgP  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 z1mB Hz6  
8.35  增益平坦滤波器 193 PR%)3  
8.38  啁啾反射镜 1 196 djdTh +>28  
8.39  啁啾反射镜2 198 i%K6<1R;y{  
8.40  啁啾反射镜3 199 V*jl  
8.41  带保护层的铝膜层 200 # )y`Zz{h  
8.42  增加铝反射率膜 201 >1j#XA8  
8.43  参考文献 202 -V/y~/]J  
9  多层膜 204 |g&V? lI  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 TEz;:*,CG  
9.2  内部透过率 204 d@R7b^#g  
9.3 内部透射率数据 205 3W?7hh  
9.4  实例 206 gk%nF  
9.5  实例2 210 |>;PV4])(  
9.6  圆锥和带宽计算 212 |OH*c3~r  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 &=g3J4$z  
10  光学薄膜的颜色 216 c RLw)"|  
10.1  导言 216 a{kJ`fK   
10.2  色彩 216 .4zzPD$1  
10.3  主波长和纯度 220 fDy*dp4z  
10.4  色相和纯度 221 "ko*-FrQ  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ip-X r|Bq  
10.6 色差 226 ^Arv6kD,  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 C+NN.5No  
10.8  颜色渲染指数 234 !mlfG "FE  
10.9  色差计算 235 J@5iD  
10.10  参考文献 236 ?Q"andf  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 <?.eU<+O`S  
11.1  短脉冲 238 d{S'6*`D  
11.2  群速度 239 duG!QS:  
11.3  群速度色散 241  d$$5&a  
11.4  啁啾(chirped) 245 dc)%5fV\  
11.5  光学薄膜—相变 245 %1i:*~g  
11.6  群延迟和延迟色散 246 :^)?AO#J  
11.7  色度色散 246 Jt8;ddz  
11.8  色散补偿 249 tWIOy6`  
11.9  空间光线偏移 256 fd'kv  
11.10  参考文献 258 w"' Pn`T  
12  公差与误差 260 l U/Xi  
12.1  蒙特卡罗模型 260 Nc\DXc-N  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ~B;}jI]d[  
12.2.1  误差工具 267 p1UloG\  
12.2.2  灵敏度工具 271 &>jz[3  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 syX?O'xJ  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Qt.*Z;Gs  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ' [$KG  
12.3  参考文献 276 Z<X=00,wg  
13  Runsheet 与Simulator 277 P]Fb0X  
13.1  原理介绍 277 ~5P9^`KNH  
13.2  截止滤光片设计 277 fpf]qQ W~7  
14  光学常数提取 289 cEL:5*cAU}  
14.1  介绍 289 { )qr3-EM#  
14.2  电介质薄膜 289 [%K6-\S  
14.3  n 和k 的提取工具 295 Qder8I  
14.4  基底的参数提取 302 'h$1 z$X5  
14.5  金属的参数提取 306 l[E^nh>  
14.6  不正确的模型 306 1 uU$V =  
14.7  参考文献 311 cO5F=ZxR  
15  反演工程 313 "1a;);S=*)  
15.1  随机性和系统性 313 9`f@"%h  
15.2  常见的系统性问题 314 V(`]hH0;T  
15.3  单层膜 314 l#[Z$+!09  
15.4  多层膜 314 J 1w[gf]J  
15.5  含义 319 XUP{]w`.Z  
15.6  反演工程实例 319 }d%CZnY&7  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 m"!SyN}&9?  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 A+l(ew5Lw$  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 `rn/H;r!Z  
16.1  光学性质的热致偏移 329 l= {Y[T&  
16.2  应力工具 335 hV@ N -u^  
16.3  均匀性误差 339 ?M:>2wl  
16.3.1  圆锥工具 339 4Fp[94 b  
16.3.2  波前问题 341 ta?NO{*  
16.4  参考文献 343 lAnq2j|  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 _<Ak M"  
17.1  引言 345 ?s2-iuMPd  
17.2  操作数 345 &PJ;B)b  
18  如何在Function中编写脚本 351 KS*,'hvY  
18.1  简介 351 ?|ZbQz(bL  
18.2  什么是脚本? 351 ,7wYa&  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 1m5l((d  
18.4  基础 352 d[6 'w ?  
18.4.1  Classes(类别) 352 2Hd\>{*  
18.4.2  对象 352 Hhtl~2t!0  
18.4.3  信息(Messages) 352 XZ%[;[  
18.4.4  属性 352 (utP@d^  
18.4.5  方法 353 kN/YnY*J<  
18.4.6  变量声明 353 ~\am%r>  
18.5  创建对象 354 0`E G-Hw  
18.5.1  创建对象函数 355 _*H Hdd5I  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ChK-L6  
18.5.3 丢弃对象 356 T U6s~  
18.5.4  总结 356 LcGKYl(\K  
18.6  脚本中的表格 357 ;O7"!\  
18.6.1  方法1 357 4`8s]X  
18.6.2  方法2 357 g>t1rZ  
18.7 2D Plots in Scripts 358 eKOEOm+  
18.8 3D Plots in Scripts 359 K+)3 LR^  
18.9  注释 360 g**!'T4&o  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 2OoANiX  
18.11  一个更高级的脚本 362 4w+AOWjd  
18.12  <esc>键 364 K/zb6=->  
18.13 包含文件 365 \a+Q5g  
18.14  脚本被优化调用 366 9]v,3'QI  
18.15  脚本中的对话框 368 tU?BR<q  
18.15.1  介绍 368 +q pW"0[  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 "73*0'm  
18.15.3  输入框函数 370 _&]7  
18.15.4  自定义对话框 371 Md4Q.8  
18.15.5  对话框编辑器 371 ^`!+7!  
18.15.6  控制对话框 377 t{c:<nN  
18.15.7  更高级的对话框 380 ND1hZ3(^  
18.16 Types语句 384 H5 z1_O_+  
18.17 打开文件 385 :#g.%&  
18.18 Bags 387  +rv##Z  
18.13  进一步研究 388 z]9t 5I  
19  vStack 389 (d#&m+ g]  
19.1  vStack基本原理 389 :m `D   
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 C&yZ`[K  
19.3  五棱镜 393 d0B`5#4  
19.4 光束距离 396 U@q5`4-!8  
19.5 误差 399 CF>&mXg\  
19.6  二向分色棱镜 399 Ug+ K:YUq  
19.7  偏振泄漏 404 Lk|`\I T  
19.8  波前误差—相位 405 oz=V|7,  
19.9  其它计算参数 405 I8! .n  
20  报表生成器 406 #M~yt`R~  
20.1  入门 406 oh-EEo4,  
20.2  指令(Instructions) 406 }vh <x6  
20.3  页面布局指令 406 Y-bTKSn  
20.4  常见的参数图和三维图 407 hV~M!vFxA  
20.5  表格中的常见参数 408 8XYxyOl  
20.6  迭代指令 408 JOG- i  
20.7  报表模版 408 Pd+*syOM  
20.8  开始设计一个报表模版 409 SZTn=\  
21  一个新的project 413 0UJ6> Rj  
21.1  创建一个新Job 414 VHPqEaR  
21.2  默认设计 415 SZXSVz0j  
21.3  薄膜设计 416 rmggP(  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ?5CE<[  
21.5  显色指数计算 422 6fw7\u  
21.6  电场分布 424 F5X9)9S  
后记 426 WyOav6/*K^  
d-b<_k{p  
1Du5Z9AM  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 8?8V;   
0rL.~2)V  
《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
\)5mO 8w  
sSfP.R  
目  录 7 q!==P=  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 C-A? mIC  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 [_jw8`  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 /:]<z6R  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 4L:O0Ggz}  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 2H w7V3q  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 842v^ 2  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Yr"Of*VNH  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 Pk;/4jt4  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ~ Rk.x +  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 0R? @JC  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 _IdW5G  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Wu* 4r0  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 U"/T`f'H z  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 g%Tokl  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 Mi#i 3y(  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 {St-  
xTu J~$(  
价  格:400元
infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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