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infotek 2023-09-25 08:23

上海|薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25(三)-27日(五)

时间地点主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司 苏州黉论教育咨询有限公司 @5}gsC  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 +CTmcbyOi  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Ls: =A6AGM  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 9[|4[3K  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)特邀专家介绍 )XVh&'(r  
[attachment=120542] ZxS&4>.  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 H|+tC=]4IZ  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 BQjam+u6  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 SQKt}kDbM  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ,sb1"^Wc  
1. Essential Macleod软件介绍 nN ~GP"}  
1.1 介绍软件 U7%28#@  
1.2 创建一个简单的设计 d]M[C[TOX  
1.3 绘图和制表来表示性能 FWTx&Ip  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 If}lJ6jZ  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) '>^Xqn  
1.6 特定设计的公式技术 d~[UXQC  
1.7 交互式绘图 &jJckT  
2. 光学薄膜理论基础 Sa}D.SBg  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {of]/ 3=  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 1-$P0  
3. 材料管理 -fux2?8M  
3.1 材料模型 Uh+jt,RB`  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 m,NMTyJoz  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 La}o(7 =s  
3.4 基板光学常数的提取 *:QXz<_x+  
4. 光学薄膜设计优化方法 gNa#|  
4.1 参考波长与g >RR<eYu7m  
4.2 四分之一规则 YZ[%uArm  
4.3 导纳与导纳图 )Z:m)k>r;  
4.4 斜入射光学导纳 {aJz. `u\  
4.5 光学薄膜设计的进展 %vc'{`P  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 nO@+s F  
4.6.1 优化目标设置 slSR=XOG  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) *tAqt2{48  
4.6.3 膜层锁定和链接 p}8ratmN  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 [s %\.y(q  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 )@c3##Zp)  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 .cw=*<zeg  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 Mw|SH;nM  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 \DyKtrnm%  
5.5 如何在Function中编写脚本 6 ">oo-  
6. 光学薄膜系统案例 gX"T*d>y  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 Q2$/e+   
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 e3rfXhp  
6.3 Stack应用范例说明 nh|EZp]  
7. 薄膜性能分析 -4`sqv ]  
7.1 电场分布 36i_D6  
7.2 公差与灵敏度分析 B'/Icg.T  
7.3 反演工程 P6E1^$e  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真  . X0t"  
8. 真空技术 G4"lZM  
8.1 常用真空泵介绍 feg`(R2  
8.2 真空密封和检漏 (lb`#TTGx  
9. 薄膜制备技术 165WO}(;/  
9.1 常见薄膜制备技术 T Xl\hL\+  
10. 薄膜制备工艺 dAwS<5!  
10.1 薄膜制备工艺因素 9!S^^;PN&  
10.2 薄膜均匀性修正技术 ;.r2$/E  
10.3 光学薄膜监控技术 1G_xP^H!  
11. 激光薄膜 I tgH>L'  
11.1 薄膜的损伤问题 sx90lsu  
11.2 激光薄膜的制备流程 7rPLnB]  
11.3 激光薄膜的制备技术 i/M+t~   
12. 光学薄膜特性测量 T/5nu?v  
12.1 薄膜光谱测量 >2t cEz%  
12.2 薄膜光学常数测量 p1uN ]T7>  
12.3 薄膜应力测量 Z c<]^QR  
12.4 薄膜损伤测量 =*[, *A  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析
[attachment=120543]
eAU"fu6d  
有兴趣的小伙伴可以扫码加微联系[attachment=120541]
书籍——《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=120544]
yx 7loy$[  
内容简介 3v G  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;_w MWl0F  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Cea"qNq=k  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 6e&g$ R v  
C,R,:zR  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
<f[9ju  
uq]iMz>  
目录 3lyQn "  
Preface 1 w4`!Te  
内容简介 2 -D$3!ccX  
目录 i dY 6B%V  
1  引言 1 H.)fO ctbO  
2  光学薄膜基础 2 a'm!M:w  
2.1  一般规则 2 2;O  c^  
2.2  正交入射规则 3 [gTQ-  
2.3  斜入射规则 6 \v.HG] /u  
2.4  精确计算 7 M'b:B*>6  
2.5  相干性 8 [3GKPX:OA/  
2.6 参考文献 10 rkbl/py  
3  Essential Macleod的快速预览 10 =tLU]  
4  Essential Macleod的特点 32 y}Ck zD  
4.1  容量和局限性 33 kA1f[ AL  
4.2  程序在哪里? 33 J,6!7a  
4.3  数据文件 35 $/MY,:*e  
4.4  设计规则 35 B<rPvM7a  
4.5  材料数据库和资料库 37 nz}]C04:-  
4.5.1材料损失 38 wYC9 ~ms-  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 R A*(|n>  
4.5.2 材料库 41 4p*?7g_WVH  
4.5.3导出材料数据 43 a"MTQFm'  
4.6  常用单位 43 Cb+P7[X-  
4.7  插值和外推法 46 1 VPg`+o  
4.8  材料数据的平滑 50 b;SFI^  
4.9 更多光学常数模型 54 [>Ikitow  
4.10  文档的一般编辑规则 55 p<<6}3~  
4.11 撤销和重做 56 K lPm=  
4.12  设计文档 57 ::kpl2r\c  
4.10.1  公式 58 k0gJ('zah  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 y-D>xV)n  
4.10.3  沉积密度 59 Y}85J:q]  
4.10.4 平行和楔形介质 60 Qf/j:  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 &;'w8_K"^  
4.10.4  性能 61 39'X$!  
4.10.5  保存设计和性能 64 fp`U?S6  
4.10.6  默认设计 64 Vj?*= UL  
4.11  图表 64 X%RQB$  
4.11.1  合并曲线图 67 dO Y lI`4  
4.11.2  自适应绘制 68 {LjK_J'  
4.11.3  动态绘图 68 /5Gnb.zN)  
4.11.4  3D绘图 69 8JQ<LrIt9  
4.12  导入和导出 73 J(H??9(s  
4.12.1  剪贴板 73 _:oMyK'  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 $IZ *|>(  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 O e0KAn  
4.13  背景 77 L5hQdT/b$  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 j 8~Gv=(h  
4.15  生成Rugate 84 ][s*~VK;  
4.16  参考文献 91 BA`kxL/x  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 J@=!w[v+  
5.1  Jobs 92 H620vlC}V  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 Fj[ dO&  
5.3  输入材料 94 %Z-TbOX  
5.4  设计数据文件夹 95 ~hxeD" w  
5.5  默认设计 95 3<V.6'*k  
6  细化和合成 97 w*]_FqE  
6.1  优化介绍 97 TXY  
6.2  细化 (Refinement) 98 /v<e$0~s<  
6.3  合成 (Synthesis) 100 $Qx(aWE0  
6.4  目标和评价函数 101 %3#b6m~  
6.4.1  目标输入 102 ee__3>H"/  
6.4.2  目标 103 b}"vI Rz  
6.4.3  特殊的评价函数 104 O&gy(   
6.5  层锁定和连接 104 (7 ]\p  
6.6  细化技术 104 ;h*"E(P p  
6.6.1  单纯形 105 55u^u F  
6.6.1.1 单纯形参数 106 >?:i6&4o  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 /i7>&ND.r  
6.6.2.1 Optimac参数 108 \!? PhNv  
6.6.3  模拟退火算法 109 AZBY, :>D  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 C5W-B8>  
6.6.4  共轭梯度 111 2=/-d$  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \, X?K  
6.6.5  拟牛顿法 112 kiBOyC!r6  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Z=1,<ydKV  
6.6.6  针合成 113 }K qw\]`  
6.6.6.1 针合成参数 114 .1l[l5$  
6.6.7 差分进化 114 1bFEx_  
6.6.8非局部细化 115 k_.j%  
6.6.8.1非局部细化参数 115 \dQ2[Ek  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 Z:}2F^6  
6.7.1  细化 116 u8$~N$L  
6.7.2  合成 117 k -t,y|N  
6.8  参考文献 117 QvyUd%e'5A  
7  导纳图及其他工具 118 g*\v}6 h  
7.1  简介 118 ).@)t:uNa  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 :7'0:'0$t  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ~T{d9yNW1  
7.2.2  导纳图 120 ek_i{'hFd  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 TO;]9`~;Mu  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 YpbdScz  
7.5  斜入射导纳图 141 ygu?w7  
7.6  对称周期 141 +O%a:d%  
7.7  参考文献 142 K;(|v3g6  
8  典型的镀膜实例 143 xf3/<x!B  
8.1  单层抗反射薄膜 145 |7 W6I$Xl  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 YP@ ?j  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 U7Sl@-#|  
8.4  W-膜层 148 .(.G`aKnF  
8.5  V-膜层 149 zv3<i (  
8.6  V-膜层高折射基底 150 ".7 KEnx  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 e^ K=8IW  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 PSt|!GST  
8.9  四层抗反射薄膜 153 B3i=pcef  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ;L/T}!Dx  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 1OJD\wc  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 1QdB`8in  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 G5Dji_|  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 -a#AE|`  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 [zO(V`S2  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ZYp-dlEXq  
8.17  1/4波长堆栈 162 e?'k[ES^  
8.18  陷波滤波器 163 d+wNGN  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 *1 eTf  
8.20  褶皱 165 & m ";D  
8.21  消偏振分光器1 169 5&7?0h+I  
8.22  消偏振分光器2 171 (Su2 \x  
8.23  消偏振立体分光器 172 ^[,1+WS%  
8.24  消偏振截止滤光片 173 mZ.6Njb  
8.25  立体偏振分束器1 174 M}RFFg  
8.26  立方偏振分束器2 177 gB'Ah-@,P  
8.27  相位延迟器 178 X<bj2 w  
8.28  红外截止器 179 c^/?VmCQ}  
8.29  21层长波带通滤波器 180 &-. eu  
8.30  49层长波带通滤波器 181 b J5z??  
8.31  55层短波带通滤波器 182 `oI/;&  
8.32  47 红外截止器 183 XdXS^QA .s  
8.33  宽带通滤波器 184 b`%e{99\  
8.34  诱导透射滤波器 186 )^a#Xn3z  
8.35  诱导透射滤波器2 188 x#xO {  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 !wufoK  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 "r(pK@h  
8.35  增益平坦滤波器 193 V,%5 hl'&  
8.38  啁啾反射镜 1 196 {?M*ZRO'  
8.39  啁啾反射镜2 198 Hw-oh?=  
8.40  啁啾反射镜3 199 IF21T  
8.41  带保护层的铝膜层 200 e Eb1R}@  
8.42  增加铝反射率膜 201 [[Eu?vQ9R  
8.43  参考文献 202 a5g{.:NfO  
9  多层膜 204 }qX&*DU_@  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 |a~&E@0c  
9.2  内部透过率 204 !ES#::;z?  
9.3 内部透射率数据 205 mI*>7?  
9.4  实例 206 [==Z1Q;=  
9.5  实例2 210 gKH"f%lK  
9.6  圆锥和带宽计算 212 a[9OtZX<  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ~8 a>D<b  
10  光学薄膜的颜色 216 Hu!>RSg,,2  
10.1  导言 216 =-& iF  
10.2  色彩 216 ]cY'6'}Hz  
10.3  主波长和纯度 220 dK`O,[}  
10.4  色相和纯度 221 "f$A0RL  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 m<HjL  
10.6 色差 226 tQ<2K*3]  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 ju 6_L<  
10.8  颜色渲染指数 234 PqeQe5  
10.9  色差计算 235 ;SP3nU))  
10.10  参考文献 236 ^mb*w)-p?  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 |?b"my$g$  
11.1  短脉冲 238 aWK7 -n  
11.2  群速度 239 5?Ao9Q]@  
11.3  群速度色散 241 yKy)fn!  
11.4  啁啾(chirped) 245 R^C;D 2  
11.5  光学薄膜—相变 245 P+l^Ep8P  
11.6  群延迟和延迟色散 246 ^]K)V  
11.7  色度色散 246 87*[o  
11.8  色散补偿 249 h$h`XBVZe;  
11.9  空间光线偏移 256 AR2+W^aM3  
11.10  参考文献 258 "N"k8,LH  
12  公差与误差 260 25KZe s)  
12.1  蒙特卡罗模型 260 q.tL'  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 DEp: vlW@  
12.2.1  误差工具 267 FAGVpO[  
12.2.2  灵敏度工具 271 <GR:5pJ%  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ?5M2DLh~  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 P"VLGa  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 b%$C!Tq'  
12.3  参考文献 276 yXmp]9$  
13  Runsheet 与Simulator 277 |pg5m*h  
13.1  原理介绍 277 Nd)o1 {I  
13.2  截止滤光片设计 277 f%l#g]]  
14  光学常数提取 289 jC7XdYp  
14.1  介绍 289 FkkB#Jk4  
14.2  电介质薄膜 289 >U.uRq  
14.3  n 和k 的提取工具 295 a OHAG  
14.4  基底的参数提取 302 >FhBl\oIi  
14.5  金属的参数提取 306 7K4%`O  
14.6  不正确的模型 306 ,~w)@.  
14.7  参考文献 311 {1c eF  
15  反演工程 313 W%:zvqg v  
15.1  随机性和系统性 313 )Jn80~U|1  
15.2  常见的系统性问题 314 Un+Jz ?Y  
15.3  单层膜 314 4 ETVyK|  
15.4  多层膜 314 );LwWKa  
15.5  含义 319 9)X<}*(qo  
15.6  反演工程实例 319 \rO>F E  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 .;s4T?j@w  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 S?<Qa;  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 MQu6Tm H  
16.1  光学性质的热致偏移 329 ~;` #{$/C&  
16.2  应力工具 335 ],4LvIPD  
16.3  均匀性误差 339 Ss}0.5Bq  
16.3.1  圆锥工具 339 upKrr  
16.3.2  波前问题 341 ('oUcDOFTS  
16.4  参考文献 343 &*SnDuc  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 mer{Jy s  
17.1  引言 345 ,|/$|$'  
17.2  操作数 345 N<%,3W_-_  
18  如何在Function中编写脚本 351 R~([  
18.1  简介 351 a#=-Aj-  
18.2  什么是脚本? 351 :gC2zv  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351  X'<xw  
18.4  基础 352 [5-5tipvWp  
18.4.1  Classes(类别) 352 '@P[fSQ  
18.4.2  对象 352 &B C#u.^!  
18.4.3  信息(Messages) 352 I&c#U+-A'  
18.4.4  属性 352 sjGZ ,?%  
18.4.5  方法 353 :SGQ4@BV  
18.4.6  变量声明 353 ){~.jP=-#  
18.5  创建对象 354 4vphLAm  
18.5.1  创建对象函数 355 ?0X.Ith^.  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 t=#)3C`Q}  
18.5.3 丢弃对象 356 0XNb@ogo  
18.5.4  总结 356 DQ$/0bq   
18.6  脚本中的表格 357 !T)>q%@ai  
18.6.1  方法1 357 5**xU+&  
18.6.2  方法2 357 ~r3g~MCHS  
18.7 2D Plots in Scripts 358 +l\Dp  
18.8 3D Plots in Scripts 359 Heu@{t.[!D  
18.9  注释 360 !/SFEL@_B  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 QNY{ p k  
18.11  一个更高级的脚本 362  V Euv  
18.12  <esc>键 364 P<~ y$B  
18.13 包含文件 365 HYS7=[hv6  
18.14  脚本被优化调用 366 &V$R@~x  
18.15  脚本中的对话框 368 Uan ;}X7@  
18.15.1  介绍 368 ececN{U/  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 4m:E:zVn  
18.15.3  输入框函数 370 %k_JLddlW  
18.15.4  自定义对话框 371 <Coh &g_  
18.15.5  对话框编辑器 371 yI)2:Ca*  
18.15.6  控制对话框 377 <G={V fr  
18.15.7  更高级的对话框 380  hT[O5  
18.16 Types语句 384 5h&8!!$[  
18.17 打开文件 385 t@\0$V \X  
18.18 Bags 387 js j" W&J  
18.13  进一步研究 388 tP9}:gu  
19  vStack 389 JT+P>\\];'  
19.1  vStack基本原理 389 Jx]`!dP3  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 }PVB+i M  
19.3  五棱镜 393 6*E 7}  
19.4 光束距离 396 n"JrjvS  
19.5 误差 399 VQyDd~Za  
19.6  二向分色棱镜 399 BshS@"8r  
19.7  偏振泄漏 404 (Jm_2CN7X  
19.8  波前误差—相位 405 PuWF:'w r  
19.9  其它计算参数 405 .gB*Y!c7  
20  报表生成器 406 7K~=QEc  
20.1  入门 406 )u$A!+fo  
20.2  指令(Instructions) 406 YG_3@`-<  
20.3  页面布局指令 406 I/adzLQ  
20.4  常见的参数图和三维图 407 ;rX4${h  
20.5  表格中的常见参数 408 V>hy5hDpH  
20.6  迭代指令 408 4D8q Gti  
20.7  报表模版 408 <m!\Ma  
20.8  开始设计一个报表模版 409 <_+8c{G  
21  一个新的project 413 TUT>*  
21.1  创建一个新Job 414 ^>>Naid  
21.2  默认设计 415 %}@^[E)  
21.3  薄膜设计 416 CzgLgh;:T  
21.4  误差的灵敏度计算 420 +#O?sI#  
21.5  显色指数计算 422 : v]< h  
21.6  电场分布 424 MkQSq MU=  
后记 426 q8U]Hyp(`  
z;-2xD0&U[  
a}yJ$6xi  
书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 2axH8ONMu  
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《Essential Macleod中文手册》
[attachment=120545]
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G2mv6xK'  
目  录 wi!Ml4Sb  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 x ` $4  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 *@yYqI<1a  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 1:-$mt_*  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 %P?W^mI  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 %FwLFo^v  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111  #/n\C  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 Cu}Rq!9i  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 R{.ku!w  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !=a8^CV  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 # H4dmnV  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 kWWb<WRW:  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ydpsPU?wj5  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 CEwG#fZ  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 N-suBRnW  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 _9<Ko.GVq  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 ) yjHABGJ  
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infotek 2023-10-11 11:55
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infotek 2023-10-20 08:54
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