招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 Pi=B\=gs
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以下是本次培训具体详情： n4
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培训大纲 Kj* $'('
✦ 第一天 |. LE`
光学和光线追迹的入门概念 cB}6{c$_sW
ASAP 简介 g
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ASAP 新版本功能 `<*
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程序检查和3D 查看器 Ky)*6QOw
ASAP 数据输入 MO_;8v~0
单透镜辐射计示例 S0tPnwco[~
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 D@yu2}F{IY
照明系统示例 a<&GsDw
基本脚本操作 W.TdhJW9
几何规范和通用几何设置 ?V4bz2#!1O
光学特性 L*1yK*
光源设置 U$j?2|v-x
光线追迹概念 (r"2XXR
系统分析与评价 fk(h*L|sI
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✦ 第二天 E,7b=t
脚本和 ASAP 编辑器 IeGVLC
几何可视化与验证 CF/8d6}Vf
显示模式 U
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辐射强度分布 NSQ#\:3:S
光源切趾 a
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光线分裂和接收属性 I=K|1
ASAP 宏语言 v)rQ4
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ASAP 优化功能 SJ8|~,vL
散射模型和重点采样 wU/BRz8 I
光线路径 l&uBEYx
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✦ 第三天 t? [8k&Z
杂散光术语 v42Z&PO
辐射度学基础 0R}F( tjw
杂散光成因 I'%ASZ
杂散光影响、杂散光控制 *[b22a4H(
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 |M(0CYO
ASAP 杂散光分析流程、步骤 3V@!}@y,F6
练习 1- 找关键和被照表面 x^/453Lk
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✦ 第四天 fb D
散光特性、散射模型 z-?WU
练习 2 - 散射模型拟合 ~a`
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光学表面污染 -)p| i~j^A
散射特性测量仪对比、重点区域采样 TV*@h2C"i
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 0i/!nke.
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✦ 第五天 uui3jZ:
衍射杂散光、PST 分析 = K3NKPUI
练习 4 - PST 分析 ~?uch8H
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 MUvgmJsN
练习 5 - 鬼像分析 !r`/vQ #
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 v}BXH4 &Y
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 FmC
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培训说明 )1o<} 7
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; XcM.<Dn3
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; Gc{s?rB_
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 +l(lpp>,
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培训详情 _p\O!y
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 9\KMU@N e
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) b]Z >P{ j
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 ?qR11A};tG
1.提供服务性发票，项目“培训费”; 2*}qQ0J
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; DI7g- h8`
3.食宿自理。 %mMPALN]{
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 Kld#C51X f
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武汉墨光官网 l|5;&(Y+s
(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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