招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 7AwV4r*:
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以下是本次培训具体详情： 3a9%djGq
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培训大纲 K:!){a[
✦ 第一天 j,<3[
光学和光线追迹的入门概念 0$=Uhi
ASAP 简介 -64@}Ts*?
ASAP 新版本功能 ] 5(T{
程序检查和3D 查看器 ~K'e}<-G
ASAP 数据输入 pe^hOzVv
单透镜辐射计示例 7D'-^#S5
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 [3$L}m
照明系统示例 b1+6I_u.
基本脚本操作 $db]b
几何规范和通用几何设置 v[$-)vs*ag
光学特性 L'i0|_
光源设置 }"}
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光线追迹概念 Q?"o.T';
系统分析与评价 8H2zM IB
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✦ 第二天 $'Pn(eZHGv
脚本和 ASAP 编辑器 )-qWcf?
几何可视化与验证 S8=Am7D]1
显示模式 mM`zA%=
辐射强度分布 "n<rP 3y
光源切趾 PK&3nXF%4
光线分裂和接收属性 48}L!m @
ASAP 宏语言 K)-Gv|*t
ASAP 优化功能 XOOWrK7O
散射模型和重点采样 (tZ#E L0
光线路径 J#k 3iE}
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✦ 第三天 B #o/3
杂散光术语 x" N{5
辐射度学基础 "zN2+X"&
杂散光成因 s,5SWdb\v
杂散光影响、杂散光控制 =1!,A
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 Z>897>
ASAP 杂散光分析流程、步骤 M<Gr~RKmAn
练习 1- 找关键和被照表面 6CQ.>M:R
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✦ 第四天 ;N+
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散光特性、散射模型 #9R[%R7Nz
练习 2 - 散射模型拟合 , s=jtK
光学表面污染 It5U=PU
散射特性测量仪对比、重点区域采样 nqp:nw
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 /KL;%:7
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✦ 第五天 WA'& 0i4
衍射杂散光、PST 分析 jw P}{mi*
练习 4 - PST 分析 g Kp5*
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 WO}l&Q
练习 5 - 鬼像分析 fPW|)e"
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 ';'TCb{f *
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 D]n"`< Ho
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培训说明 \hlQu{q.
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; | c:E)S\
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; P M
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•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 )+Nm @+B
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培训详情 mYU7b8x_
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 ZsgJ6
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✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) nZ4JI+Q)~
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 4$5d*7
1.提供服务性发票，项目“培训费”; t)#d R._q
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; \2UtT@3|C
3.食宿自理。 z;c~(o@4
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 ^)JUl!5j]C
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武汉墨光官网 FW~{io]n
(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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