招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 frc AXh9
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以下是本次培训具体详情： VwR\"8r3
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培训大纲 MW wqon|
✦ 第一天 MTYV~S4/
光学和光线追迹的入门概念 `^#Rwn#
ASAP 简介 ^gVQ6=z%
ASAP 新版本功能 b: (+d"S
程序检查和3D 查看器 7w73,r/D8A
ASAP 数据输入 $1=7^v[U
单透镜辐射计示例 9/"&6,
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 g$Tsht(rHD
照明系统示例 u>fs
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基本脚本操作 /K H85/ s
几何规范和通用几何设置 Uz ;^R@
光学特性 RFw0u 0Nrz
光源设置 @3n!5XM{EE
光线追迹概念 N[@~q~v
系统分析与评价 ET[5`z
60{G
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✦ 第二天 C6ql,hR^h`
脚本和 ASAP 编辑器 Z|K HF"
几何可视化与验证 AMrYT+1
显示模式 tM LiG4
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辐射强度分布 % )V=)l.j
光源切趾
R &1>\t
光线分裂和接收属性 WrP+n
ASAP 宏语言 c :Czu
ASAP 优化功能 :{<|,3oNdR
散射模型和重点采样 ] MCH]/
光线路径 a;$V;3C{b&
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✦ 第三天 Ry[7PLn]
杂散光术语 @<DRF P
辐射度学基础 +.djC3^:
杂散光成因 EG4~[5[YgI
杂散光影响、杂散光控制 A8ViJ
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 D*UxPm"pw
ASAP 杂散光分析流程、步骤 G=qlE?j`j
练习 1- 找关键和被照表面 B}q G-}(V
$ `OyGeq"T
✦ 第四天 e# Y{YtE
散光特性、散射模型 h]@'M1D%
练习 2 - 散射模型拟合 C32*RNG?U
光学表面污染 H nPy";{
散射特性测量仪对比、重点区域采样 [fCnq
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 . LAB8bg
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✦ 第五天 ](I||JJa9f
衍射杂散光、PST 分析 ?u CL[
练习 4 - PST 分析 g)f& mQ)
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 "3_X$`v"!
练习 5 - 鬼像分析 :V$\y up
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 5_A*I C]
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析
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培训说明 ]U@~vA#''
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; ^vm6JWwN0B
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; R|@~< *
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 =
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培训详情 %i7U+v(d
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 r5[pT(XT]
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) _zb IS &4
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 =XYc2. t
1.提供服务性发票，项目“培训费”; w\[l4|g `
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; ;t>4VA
3.食宿自理。 X<_HQ
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 {1=|H$wKg
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(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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