招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 <S]KaDu^
\O kc5;kB2
[attachment=120339] 8f?rEI\0GD
以下是本次培训具体详情： %p0b{P j_p
0V zXDb>`
培训大纲 !|B3i_n
✦ 第一天 9nn>O?
光学和光线追迹的入门概念 aXe{U}eow
ASAP 简介 X[V?T>jsM
ASAP 新版本功能 k/G7.) C
程序检查和3D 查看器 4,2(nYF
ASAP 数据输入 CN7 k?JO<
单透镜辐射计示例 !w q4EV
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 ZA0i)(j*Mn
照明系统示例 16I&7=S,
基本脚本操作 UqN{JG:#.
几何规范和通用几何设置 eSl]8BX_
光学特性 7p ^@;@V
光源设置 |G tY*|
光线追迹概念 k, f)2<
系统分析与评价 9b1?W?"
cVp[ Z#B
✦ 第二天 7_DG 5nT
脚本和 ASAP 编辑器 e
RA7 i
几何可视化与验证 "Y7+{
显示模式 V1<ow' ^i
辐射强度分布 7Rnm%8?T
光源切趾 ^IBGYl 5n
光线分裂和接收属性 j' +ELKQ
ASAP 宏语言 ]}kI)34 /
ASAP 优化功能 Va7c#P?
散射模型和重点采样 P+h6!=nD7
光线路径 Y+g,pX
a:A n=NA
✦ 第三天 +'|{1gB
杂散光术语 B/mYoK
辐射度学基础 GM](=|F
杂散光成因 :r&iM b:Ra
杂散光影响、杂散光控制 L\Y KdUL
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 1Hh X /fpq
ASAP 杂散光分析流程、步骤 ~Rs#|JWB2V
练习 1- 找关键和被照表面 ;hwzYXWF
bni) Qw
✦ 第四天 7R,qDp S
散光特性、散射模型 F.<L>
G7{1
练习 2 - 散射模型拟合 f ba&`
光学表面污染 n#BvW, 6J
散射特性测量仪对比、重点区域采样 R vyuGU
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 mQ}Gh_'ps
H?tUC bw
✦ 第五天 1"?]= j:
衍射杂散光、PST 分析 w$j{Hp6m
练习 4 - PST 分析 %x2 uP9
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 /Pvk),c a
练习 5 - 鬼像分析 RNTa XR+Zn
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 hGI+:Js6
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 KY$k`f6?P
SWs3 SYJ\
培训说明 *Yt B )6j
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; CvK3H\.&;k
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; abi[jx C G
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 r<c #nD~K
qZ*f%L(
培训详情 YLOwQj'
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 {~N3D4n^
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) d
yh<pX/$
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 :"QfF@Z{
1.提供服务性发票，项目“培训费”; lpy:3`ti
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; cJDd0(tD !
3.食宿自理。 zrRFn ` B
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 H(|AH;?ou
[attachment=120340] !`&\Lx_
武汉墨光官网 \\:|Odd
(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
|