招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 }4 Yz P 4
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以下是本次培训具体详情： 'Nl hLu
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培训大纲 ae s k.
✦ 第一天 H JAiQ[m5s
光学和光线追迹的入门概念 T"z<D+ pN
ASAP 简介 ~|} ]
ASAP 新版本功能 sr6 BC.
程序检查和3D 查看器 r&
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ASAP 数据输入 Vhk M{ O
单透镜辐射计示例 2nkA%^tR
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 += 8wZ]
照明系统示例 6#+&/ "*
基本脚本操作 k\ #;
几何规范和通用几何设置 `MSig)V
光学特性 1X2j%q I&
光源设置 GM%OO)dO}
光线追迹概念 WY!\^| ,
系统分析与评价 ~9+01UU^
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✦ 第二天 7{F\b
脚本和 ASAP 编辑器 M_uk G~/
几何可视化与验证 #-'`Yb w
显示模式 ?@G s7'
辐射强度分布 Gw<D'b) !
光源切趾 A7X
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光线分裂和接收属性 g3$'G hf
ASAP 宏语言 A O:F*%Q u
ASAP 优化功能 TRm#H $
散射模型和重点采样 @JbxGi
光线路径 d&Nnp jH}c
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✦ 第三天 [~{F( Le
杂散光术语 :8)Jnh\5
辐射度学基础
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杂散光成因 u8zL[] >
杂散光影响、杂散光控制 t<8)h8eW
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 d{7ZO#E
ASAP 杂散光分析流程、步骤 xQ FY/Z
练习 1- 找关键和被照表面 7\
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✦ 第四天 |0i{z(B
散光特性、散射模型 @
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练习 2 - 散射模型拟合 ^!\1q<@n
光学表面污染 0/su `
散射特性测量仪对比、重点区域采样
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练习 3 - 重点区域位置和大小计算 5IF5R#
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✦ 第五天 K
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衍射杂散光、PST 分析 dkw.o.e
练习 4 - PST 分析 Gm B&TD m
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 UOZ+ &DL,L
练习 5 - 鬼像分析 UDG1F_& h
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 +7gd1^|$e
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 ./F:]/Mt
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培训说明 A r!0GwE+
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; c7XBZ%D
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; RzqgN*]lY
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 B.; qvuM~
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培训详情 |cU75
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 I<# X#_YP
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) s/7 Z.\
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 fd
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1.提供服务性发票，项目“培训费”; +aOdaNcI
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; q- `& C
3.食宿自理。 d1cp= RbC
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。
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(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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