招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 _L,~WYRo
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以下是本次培训具体详情： 8)>>EN8 R
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培训大纲 Z~:)hwF
✦ 第一天 m"L^tSD~
光学和光线追迹的入门概念 7mt x^
ASAP 简介 enk`I$Xx
ASAP 新版本功能 O>E}Lu;|
程序检查和3D 查看器 |5>Tf6 $(
ASAP 数据输入 yLRe'5#m
单透镜辐射计示例 ,Uh^e]pC
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 {OG1' m6=/
照明系统示例 .7 .G}z1
基本脚本操作 y[J9"k(@
几何规范和通用几何设置 B9(w^l$kZ|
光学特性 >VhZv7 5
光源设置 + S+!:IB
光线追迹概念 E8 C8kH]
系统分析与评价 @ 5d^ C
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✦ 第二天 ?;#Q3Y+
脚本和 ASAP 编辑器 &5}YTKe}|
几何可视化与验证 =1 Plu5
显示模式 k;qS1[a
辐射强度分布 h<L_ =)lH
光源切趾 (
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光线分裂和接收属性 %=z>kU1|
ASAP 宏语言 [kJ;Uxncz~
ASAP 优化功能 xst-zfkH`
散射模型和重点采样 }a OBQsnO
光线路径 (jKqwVs.:
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✦ 第三天 X$xf@|<a
杂散光术语 o^@#pU <
辐射度学基础 'qV lq5.
杂散光成因 ESviWCh0Fl
杂散光影响、杂散光控制 Cuylozj$&
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 M._h=wX{}
ASAP 杂散光分析流程、步骤 aj|3(2;Kp
练习 1- 找关键和被照表面 S))B^). 0-
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✦ 第四天 'oz$uvX
散光特性、散射模型 N 75U.;U0
练习 2 - 散射模型拟合 ,3rsjoKhd
光学表面污染 :@p]~{m :G
散射特性测量仪对比、重点区域采样 Uhu?G0>O
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 aGW O3Nk
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✦ 第五天 H M(X8iNt
衍射杂散光、PST 分析 e O~p"d-|
练习 4 - PST 分析 {^
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鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 R;,5LS&*a
练习 5 - 鬼像分析 {pQ8/Af!
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 4~Q<LEly
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 S%H"i
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培训说明 ?Kmz urG
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; #Br`;hL<T
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; ^?|4<Rm
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 #++:`Z
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培训详情 k
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 ;7[DFlS\P
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) nUs=PD3 )
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 8\nk a5
1.提供服务性发票，项目“培训费”; t .&JPTK-H
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; Cm5L9 9Y
3.食宿自理。 dm[JDVv|
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 lhQMR(w^
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武汉墨光官网 f:nX E&X[
(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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