招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 Tg{dIh.Q~O
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以下是本次培训具体详情： J~yd]L>
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培训大纲 =%nqMV(y
✦ 第一天 @]VvqCk
光学和光线追迹的入门概念 -c<1H)W
ASAP 简介 ui#1 +p3G
ASAP 新版本功能 MR l* r K
程序检查和3D 查看器 At^DY!3vx
ASAP 数据输入 V;(* \"O
单透镜辐射计示例 ,{mf+ 3&$,
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 \P tC
照明系统示例 6Kv}2M')+
基本脚本操作 C}DG'z9
几何规范和通用几何设置 GO:1
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光学特性 xz Gsfd
光源设置 n 9-q5X^e>
光线追迹概念 ekk&TTp#
系统分析与评价 #*;fQ&p
h z~CW-47
✦ 第二天 B oiIr[ (
脚本和 ASAP 编辑器 Ll E_{||h
几何可视化与验证 +/_B/[e<>
显示模式 nY5n %>8
辐射强度分布 :Ro"
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光源切趾 RxDxLU2kt
光线分裂和接收属性 !+26a*P
ASAP 宏语言 |EEz>ci
ASAP 优化功能 : z,vJ~PW
散射模型和重点采样 [@l
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光线路径 o!_; H}pq
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✦ 第三天 3b[[2x_UU
杂散光术语 $E@.G1T [
辐射度学基础 DSG +TA"
杂散光成因 fM[fS?W
杂散光影响、杂散光控制 q!h*3mNm
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 (LvOsr~
ASAP 杂散光分析流程、步骤 @aPu}Hi
练习 1- 找关键和被照表面 9oau _ Q#
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✦ 第四天 y8 WXp _\
散光特性、散射模型 .gsu_ N_v
练习 2 - 散射模型拟合 eq 1 4
光学表面污染 L"vG:Mq@D
散射特性测量仪对比、重点区域采样 d~f0]O
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 QO`Sn N}
'*{Rn7B5
✦ 第五天 MVU'GHv
衍射杂散光、PST 分析 O}iKPY8K
练习 4 - PST 分析 <P hr`/
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 ` r0
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练习 5 - 鬼像分析
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遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 wNZS6JF.d
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 &\D<n; 3
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培训说明 \]:NOmI^'
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; }6{ )J v
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; )^2jsy
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•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 ~ 322dG
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培训详情 XK9*,WA9r
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 ia.B@u1/
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) +#"Ic:
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 * wZV*)}
1.提供服务性发票，项目“培训费”;
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2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; [67f; ?b
3.食宿自理。 M]zNW{Xt
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 3K] 0sr
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(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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