招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班
武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 ]1%H.pF
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以下是本次培训具体详情： W!I"rdo;V
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培训大纲 $WnK
✦ 第一天 8;p6~&).C~
光学和光线追迹的入门概念 jN 5Hku[?
ASAP 简介 q+ dY&4&u
ASAP 新版本功能 5 h+g^{BE
程序检查和3D 查看器 u7f ae$:&
ASAP 数据输入 I
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单透镜辐射计示例 W D Y,?
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 l+ b P48
照明系统示例 nWbe=z&y8[
基本脚本操作 iYHD:cg)~
几何规范和通用几何设置 %H~q3|z
光学特性 z >vzXM
光源设置 DM! vB+j+,
光线追迹概念 bU=!~W5
系统分析与评价 Q gEG%YqB
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✦ 第二天 qUx!-DMY
脚本和 ASAP 编辑器 R"!.|fH6
几何可视化与验证 %D\T LY
显示模式 nBaY|
辐射强度分布 iF{eGi
光源切趾 _,NL;66=[
光线分裂和接收属性 /t%IU
ASAP 宏语言 g!V;*[
ASAP 优化功能 ]Tf.KUm
散射模型和重点采样 d'kQE_y2.
光线路径 f 7y1V(t
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✦ 第三天 &y mfA{s
杂散光术语 n+rAbn5o$
辐射度学基础 y{s?]hLk
杂散光成因 EfcoJgX
杂散光影响、杂散光控制 Zdl Z,vK^.
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 +T
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ASAP 杂散光分析流程、步骤 vy[ *xT]
练习 1- 找关键和被照表面
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✦ 第四天 _w Cp.[3?t
散光特性、散射模型 .O3i"X]
练习 2 - 散射模型拟合 MH?|>6
光学表面污染 rV"<1y:g
散射特性测量仪对比、重点区域采样 `w@fxv
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 L<J';#BD
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✦ 第五天 =KmjCz:
衍射杂散光、PST 分析 ;f^.7|
练习 4 - PST 分析 )j4]Y dJ
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 a_L& *%;
练习 5 - 鬼像分析 >9Fs)R]P
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 s)_7*DY
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 6QLWF @
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培训说明 pTST\0?
•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; YCj"^RC^
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; =~?2i)-mC
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 gJ+MoAM"
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培训详情 @%O"P9;s
✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 AG x]srl
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) DCPK1ql
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 LU ?X|{z
1.提供服务性发票，项目“培训费”; H(lq=M0~
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; 0X ~
3.食宿自理。
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✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 U!XC-RA3
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(注：当报名人数低于最低开课标准，或遇其他不可抗力因素时，武汉墨光科技有限公司将酌情延期或取消课程。)
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