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2023-09-11 08:27 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
n+ M <\ 内容简介 w,D+j74e$ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <1TAw. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -mh3DhJ, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 cU RxQ *
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 \Vk:93OH21 目录 ;n;p@Uu[
b Preface 1 );YDtGip J 内容简介 2 rPm x 目录 i Q,Eo mt 1 引言 1 uQzXfOq 2 光学薄膜基础 2 VIbq:U 2.1 一般规则 2 ;kKyksxlD 2.2 正交入射规则 3 yf,z$CR 2.3 斜入射规则 6 cWm$;`Q#\ 2.4 精确计算 7 qe\5m.k 2.5 相干性 8 vP,n(reM 2.6 参考文献 10 0n'_{\yz 3 Essential Macleod的快速预览 10 ~$J2g 4 Essential Macleod的特点 32 `d(ThP;g 4.1 容量和局限性 33 fV~[;e;U. 4.2 程序在哪里? 33 RM/ 0A| 4.3 数据文件 35 ?q [T 4.4 设计规则 35 TcoB,Kdce 4.5 材料数据库和资料库 37 cz$2R 4.5.1材料损失 38 7j{?aza 4.5.1材料数据库和导入材料 39 w!XD/jN 4.5.2 材料库 41 !<h)w#>en 4.5.3导出材料数据 43 ugBCBr 4.6 常用单位 43 M3au{6y 4.7 插值和外推法 46 }QmqoCAE~m 4.8 材料数据的平滑 50 GA.8@3 4.9 更多光学常数模型 54 1 -b_~DF 4.10 文档的一般编辑规则 55 pK4)yu+ 4.11 撤销和重做 56 H,NF;QPPC 4.12 设计文档 57 t#yuOUg 4.10.1 公式 58 QsW/X0YBv 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 jb)ZLA;L_c 4.10.3 沉积密度 59 y)<q/ 4.10.4 平行和楔形介质 60 R|Q?KCI& 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 phz&zlD 4.10.4 性能 61 (V@HR9?W) 4.10.5 保存设计和性能 64 _VXN#@y 4.10.6 默认设计 64 dF2RH)Ud 4.11 图表 64 tl>7^hH 4.11.1 合并曲线图 67 o !7va" 4.11.2 自适应绘制 68 C9;kpqNG#u 4.11.3 动态绘图 68 yh=N@Z*zP 4.11.4 3D绘图 69 %jM,W}2 4.12 导入和导出 73 *lb<$E]="! 4.12.1 剪贴板 73 }PpUAt~g 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 6H|S;K+ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 &c #N)U 4.13 背景 77 fXB0j;A 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 S,=|AD 4.15 生成Rugate 84 BJ0?kX@ 4.16 参考文献 91 &m vSiyKX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ,z?':TZ 5.1 Jobs 92 bPMhfK2 % 5.2 创建一个新Job(工作) 93 [00m/fT6 5.3 输入材料 94 -K$)DvV^(E 5.4 设计数据文件夹 95 :hA#m[ 5.5 默认设计 95 yLcEX 6 细化和合成 97 DTs;{c 6.1 优化介绍 97 c`Wa^( 6.2 细化 (Refinement) 98 i6N',&jFU 6.3 合成 (Synthesis) 100 2?i7UvV 6.4 目标和评价函数 101 GKCroyor 6.4.1 目标输入 102 jh$='G n 6.4.2 目标 103 azU"G(6y?+ 6.4.3 特殊的评价函数 104 FPTK`Gd0 6.5 层锁定和连接 104 PaN"sf 6.6 细化技术 104 K+iP6B 6.6.1 单纯形 105 I2DpRMy 6.6.1.1 单纯形参数 106 DL.!G 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ~{gqsuCCL 6.6.2.1 Optimac参数 108 L=h'Qgk% 6.6.3 模拟退火算法 109 T
1t6p& 6.6.3.1 模拟退火参数 109 BORA(, 6.6.4 共轭梯度 111 r_.S>] 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 eiOW#_"\ 6.6.5 拟牛顿法 112 @|)Z"m7 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 H:\k}*w 6.6.6 针合成 113 Ct|A:/z( 6.6.6.1 针合成参数 114 5:Uso{ 6.6.7 差分进化 114 J-4:H
gx 6.6.8非局部细化 115 y!%CffF2 6.6.8.1非局部细化参数 115 3N:D6w-R 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Hr4}3.8 6.7.1 细化 116 A(N4N 6.7.2 合成 117 !VK|u8i 6.8 参考文献 117 GH
xp7H 7 导纳图及其他工具 118 UZ$/Ni 7.1 简介 118 P
}uOJVQ_ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 5M_H
NWi4 7.2.1 四分之一波长规则 119 07 $o;W@ 7.2.2 导纳图 120 fn!KQ`,# 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 39jG8zr=Z[ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 vcd\GN*4f 7.5 斜入射导纳图 141 *9i{,I@ 7.6 对称周期 141 #89!'W 7.7 参考文献 142 lHIM}~#;nd 8 典型的镀膜实例 143 KY N0 8.1 单层抗反射薄膜 145 PYzvCf`? 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ~v"L!=~G;a 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Q3SS/eNP 8.4 W-膜层 148 bJ;'`sw1 8.5 V-膜层 149 sNwI0o 8.6 V-膜层高折射基底 150 bYPK h 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 yiI1x*^ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ,v&(Y Od 8.9 四层抗反射薄膜 153 ],v=]+R 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 RX5dO% 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 IqGdfL6[( 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 xP,hTE 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 OUXR 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Hq 188< 8.15十五层宽带抗反射膜 159 "g#i'"qnW 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 < | |