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infotek 2023-08-29 08:31

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 Rde#=>@V  
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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 ,'= Y  
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场景 i:&Y{iPQp  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 #i7!  
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系统构建块
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组件求解器 "#rlL^9v  
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系统构建块 ?fnJ`^|-r  
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总结 d{9rEB?  
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几何光学仿真 JXftQOn  
通过光线追迹 lk}R#n$  
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结果:光线追迹 $$A{|4,aI  
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快速物理光学仿真 VpWax]'  
通过场追迹 $Z+N*w~8  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 4oT2 5VH  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 wx}\0(]Gl  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦  42Gr0+Mb  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 wjq f u /  
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总结 KKGAk\X  
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