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infotek 2023-08-29 08:31

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要 z5V~m_RO  
N ,8^AUJ3&  
在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 OMl<=;^:|  
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场景 5<Lal^c D  
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在VirtualLab Fusion中构建系统  ZQY]c  
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系统构建块
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C0 RnBu  
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组件求解器 >Y3ZK{b  
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3 P)N,  
系统构建块 d=*&=r0!C{  
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总结 "\CUHr9k  
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R&!{3!V  
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几何光学仿真 5[qCH(6  
通过光线追迹 rQrh(~\:  
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结果:光线追迹 !_a@autj  
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快速物理光学仿真 3-%F)@n  
通过场追迹 Qf$3!O}G  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 V1d{E 0lM  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 =Zt7}V  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 +~Lt;xNFk  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 SI~MTUqt  
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总结 =D}]|ie  
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