首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题

光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（第二版精装） [点此返回论坛查看本帖完整版本]

[打印本页]

infotek

2023-08-07 08:31

《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（第二版精装）

0[-@<w ^j
;C5 J^xHI
内容简介 |zp}u(N
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 AR)A <
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 &A&2z l %#
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 xQs._YY

讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
WQNFHRfO*n
0w".o!2\U{
目录 U5;Y o+z
Preface 1 %hA0
内容简介 2 i7O8f^|
目录 i FQB6` M
1  引言 1 ^Zq3K
2  光学薄膜基础 2 .#Lu/w' -M
2.1  一般规则 2 AYoLpes
2.2  正交入射规则 3 sWMY Lo
2.3  斜入射规则 6 5eX+9niY
2.4  精确计算 7 i)MJP*
2.5  相干性 8 NY%=6><t!
2.6 参考文献 10 <)$JA
3  Essential Macleod的快速预览 10 Nj}-"R\u
4  Essential Macleod的特点 32 Y-P?t+l
4.1  容量和局限性 33 QqB9I-_
4.2  程序在哪里？ 33 Hg+bmwM
4.3  数据文件 35 $$---Y
4.4  设计规则 35 wN$u^]
4.5  材料数据库和资料库 37 l7S&s&W @
4.5.1材料损失 38 QjFE
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ;<s0~B#9}
4.5.2 材料库 41 y.WEO>
4.5.3导出材料数据 43 fsV_>5I6
4.6  常用单位 43 (x8D ]a
4.7  插值和外推法 46 'zx1kq1
4.8  材料数据的平滑 50 oedLe9!
4.9 更多光学常数模型 54 \aGTi pB
4.10  文档的一般编辑规则 55 ka| 8 _C^z
4.11 撤销和重做 56 X/<Q3AK
4.12  设计文档 57 @HP7$U"
4.10.1  公式 58 uVLKR PY
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 I:o.%5)
4.10.3  沉积密度 59 .Za)S5U
4.10.4 平行和楔形介质 60 +r 8/\'u-
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 -<@QR8:
4.10.4  性能 61 b,-qyJW6
4.10.5  保存设计和性能 64 E3 aj
4.10.6  默认设计 64 +Am\jsq
4.11  图表 64 %gV~e@|
4.11.1  合并曲线图 67 M>|R&v
4.11.2  自适应绘制 68 8Rd*`]@[pk
4.11.3  动态绘图 68 ;+R
4.11.4  3D绘图 69 wT^QO^.
4.12  导入和导出 73 ~cW,B}
4.12.1  剪贴板 73 6e At`L[K.
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 {Nny.@P)H
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 VK]sK e
4.13  背景 77 LVxR*O
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 vC%8-;8{H
4.15  生成Rugate 84 bv4G!21]*;
4.16  参考文献 91 Zf8_ko;|:-
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 {_>}K
5.1  Jobs 92 l5CFm8%
5.2  创建一个新Job（工作） 93 gSXidh}^
5.3  输入材料 94 ibQN pIz
5.4  设计数据文件夹 95 J=AF`[
5.5  默认设计 95 z3Q#Wmv2
6  细化和合成 97 rnS&^
6.1  优化介绍 97 N9gbj%+
6.2  细化 (Refinement) 98 @0U={qX
6.3  合成 (Synthesis) 100 Eh/Z4pzT
6.4  目标和评价函数 101 ~)IiF.I b
6.4.1  目标输入 102 3.<E{E!F
6.4.2  目标 103 gP:H_nVh
6.4.3  特殊的评价函数 104 0XUWK@)P
6.5  层锁定和连接 104 1_6oM/?'
6.6  细化技术 104 oVja$;>
6.6.1  单纯形 105 ;A;FR3=)
6.6.1.1 单纯形参数 106 kr>H,%3~
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 LV!<vakCK
6.6.2.1 Optimac参数 108 &ub0t9R
6.6.3  模拟退火算法 109 ])H[>.?K
6.6.3.1　模拟退火参数 109 aXRf6:\%
6.6.4  共轭梯度 111 }+ZZO0
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 qCku q
6.6.5  拟牛顿法 112 %Ae43
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 VDy\2-b8d
6.6.6  针合成 113 >Eqr/~Q
6.6.6.1 针合成参数 114 F<LRo}j"9Q
6.6.7 差分进化 114 &(i_s
6.6.8非局部细化 115 XX[CTh?O%
6.6.8.1非局部细化参数 115 U)iq
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 }>< v7
6.7.1 　细化 116 #jd&f,Tt
6.7.2　合成 117 .p$tb2%r
6.8  参考文献 117 JJVdq-k+`
7  导纳图及其他工具 118 ;kb);iT
7.1  简介 118 vG'I|OWg
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 5><KTya?=
7.2.1  四分之一波长规则 119 RgTrj
7.2.2  导纳图 120 q>Kzl/~c.P
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 a5nA'=|}i
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 %+0V0.
7.5  斜入射导纳图 141 \:D"#s%x
7.6  对称周期 141 _fE$KaP
7.7  参考文献 142 LMTz/M
8  典型的镀膜实例 143 %8$ldNhV
8.1  单层抗反射薄膜 145 /+ Q3JS(
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 } za"rU
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9U]j@*QN
8.4  W-膜层 148 5}NTqN0@
8.5  V-膜层 149 O"V;otlC
8.6  V-膜层高折射基底 150 o#9Q
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 lNba[;_
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 jSd[
8.9  四层抗反射薄膜 153 uN+]q qCf
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 S\R5SRE
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g`r4f%O
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 DuI>z?bS
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 UWo*%&J
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 r}i}4K[1
8.15十五层宽带抗反射膜 159 S:8 WBY]M
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 B<\HK:%{
8.17  1/4波长堆栈 162 eI3ZV^_Ps
8.18  陷波滤波器 163 |*n B2
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2wwJ>iR`
8.20  褶皱 165 #6*20w_u
8.21  消偏振分光器1 169 L6Io u
8.22  消偏振分光器2 171 @RXkj-,eC#
8.23  消偏振立体分光器 172 IaT\ymm`
8.24  消偏振截止滤光片 173 Ld?'X=eQ
8.25  立体偏振分束器1 174 vo>i36
8.26  立方偏振分束器2 177 =:BTv[lv
8.27  相位延迟器 178 L%;[tu(*
8.28  红外截止器 179 kJK*wq]U6
8.29  21层长波带通滤波器 180 ?Sr7c|a2
8.30  49层长波带通滤波器 181 DPr~DO`b
8.31  55层短波带通滤波器 182 SW)jDy
8.32  47 红外截止器 183 SZ1yy["
8.33  宽带通滤波器 184 NOFuX9/'w
8.34  诱导透射滤波器 186 t W}"PKv
8.35  诱导透射滤波器2 188 J#xZ.6)
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 7j8lhrM}^
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 .t7ME{
8.35  增益平坦滤波器 193 ?azcWf z0
8.38  啁啾反射镜 1 196 B *%ey?
8.39  啁啾反射镜2 198 6/6{69tnr
8.40  啁啾反射镜3 199 Z rv:uEl
8.41  带保护层的铝膜层 200 V{UY_ e8W
8.42  增加铝反射率膜 201 'P)c'uqd#
8.43  参考文献 202 Jq?Fi'2F%
9  多层膜 204 M $f6.j
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 9,[AfI
9.2  内部透过率 204 3,?LpdTS
9.3 内部透射率数据 205 i>O8q%BnJ
9.4  实例 206 Y_)xytJ$
9.5  实例2 210 P^AI*tH"m
9.6  圆锥和带宽计算 212 RT|1M"?$
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 ;Z); k`j
10  光学薄膜的颜色 216 JOH\K0=e
10.1  导言 216 0D Lw
10.2  色彩 216 'xLXj>
10.3  主波长和纯度 220 8([ MR
10.4  色相和纯度 221 ! (Q[[M
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 vXm'ARj
10.6 色差 226 U"=Lzo.0
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 1,P\dGmu
10.8  颜色渲染指数 234 Fw:_O2
10.9  色差计算 235 hn~btu9h
10.10  参考文献 236 &\%\"Zh
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 q@g#DP+C
11.1  短脉冲 238 6-z(34&N
11.2  群速度 239 g(9kc<`3'D
11.3  群速度色散 241 Gt)ij?~
11.4  啁啾(chirped) 245 }?o4MiLB
11.5  光学薄膜—相变 245 ?)T@qn+
11.6  群延迟和延迟色散 246 e+V8I&%
11.7  色度色散 246 XFYa+]B2q
11.8  色散补偿 249 W1521:
11.9  空间光线偏移 256 O>'tag
11.10  参考文献 258 m/"([Y_
12  公差与误差 260 a@J/[$5
12.1  蒙特卡罗模型 260 wJD'q\n
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 3b|=V
12.2.1  误差工具 267 S*gm[ZLQ
12.2.2  灵敏度工具 271 iL2__TO
12.2.2.1 独立灵敏度 271 JfY(};&
12.2.2.2 灵敏度分布 275 KY}H-
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 *nYg-)
12.3  参考文献 276 KaX*) P
13  Runsheet 与Simulator 277 na|sKE;{
13.1  原理介绍 277 U>OAtiq JX
13.2  截止滤光片设计 277 Z~<=I }@
14  光学常数提取 289 )E}@h%d
14.1  介绍 289 J?EDz,
14.2  电介质薄膜 289 d14n>
14.3  n 和k 的提取工具 295 a#k7 aOT0
14.4  基底的参数提取 302 0n'vF&E8
14.5  金属的参数提取 306 #4JLWg
14.6  不正确的模型 306 YWs?2I
14.7  参考文献 311 bkc*it
15  反演工程 313 fERO(o
15.1  随机性和系统性 313 Ctn 4q'Q
15.2  常见的系统性问题 314 wZN_YFwQ
15.3  单层膜 314 ec`re+1r
15.4  多层膜 314 R7U%v"F>`
15.5  含义 319 O@4J=P=w
15.6  反演工程实例 319 gO)":!_n W
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 jCXBp>9$M
15.6.2 反演工程提取折射率 327 c#>(8#'.U
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 zj(V\y&H
16.1  光学性质的热致偏移 329 %1$#fxR
16.2  应力工具 335 J8i,[,KcE
16.3  均匀性误差 339 Sb> &m
16.3.1  圆锥工具 339 IRwtM'%0
16.3.2  波前问题 341 BjagG/sX
16.4  参考文献 343 d$n31F
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 )UM^#<-
17.1  引言 345 \PUJD,9H
17.2  操作数 345 CGzu(@dd\
18  如何在Function中编写脚本 351 NPS*0y/
18.1  简介 351 hxK;f
18.2  什么是脚本？ 351 ~D>pu%F
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 bc4V&
18.4  基础 352 8I*N
18.4.1  Classes（类别） 352 8*@{}O##
18.4.2  对象 352 fggs ;Le
18.4.3  信息（Messages） 352 KyfH8Na?
18.4.4  属性 352 W>i"p~!
18.4.5  方法 353 o.Rv<a5.L
18.4.6  变量声明 353 &e@)yVLL
18.5  创建对象 354 9$Z0mzk
18.5.1  创建对象函数 355 9aY8`B
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 u\L}B!
18.5.3 丢弃对象 356 XC)9aC@s
18.5.4  总结 356 : S3+UT
18.6  脚本中的表格 357 @qan&?-Y
18.6.1  方法1 357 Hj|&P/jY]*
18.6.2  方法2 357 TKv!wKI
18.7 2D Plots in Scripts 358 eu9*3'@A
18.8 3D Plots in Scripts 359 QcW8A ,\q
18.9  注释 360 DegbjqZ#
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 @$T$hMl
18.11  一个更高级的脚本 362 No} U[u.O
18.12  <esc>键 364 N UX |
18.13 包含文件 365 Bskp&NV':
18.14  脚本被优化调用 366 ;_)~h$1%=
18.15  脚本中的对话框 368 +IWH7qRtp
18.15.1  介绍 368 ;//9,x9;t
18.15.2  消息框-MsgBox 368 @)uV Fw"\
18.15.3  输入框函数 370 xNf}f 9l
18.15.4  自定义对话框 371 &<]f-
18.15.5  对话框编辑器 371 wCB*v<*
18.15.6  控制对话框 377 z'_Fg0kR{
18.15.7  更高级的对话框 380 PnA{@n\
18.16 Types语句 384 `.@sux!lu
18.17 打开文件 385 )ZpI%M?)
18.18 Bags 387 c\1X NPGG
18.13  进一步研究 388 |cf-S8pwY
19  vStack 389 r!?ga
19.1  vStack基本原理 389 ?gl&q+mv
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 w,LmAWZ4Y
19.3  五棱镜 393 {uaDpRt
19.4 光束距离 396 oNAnJ+_
19.5 误差 399 w3(|A> s3
19.6  二向分色棱镜 399 hr fF1 >A
19.7  偏振泄漏 404 %-540V{q
19.8  波前误差—相位 405 SQ_?4 s::
19.9  其它计算参数 405 ,Gt!nm_
20  报表生成器 406 {,Q)D$i
20.1  入门 406 7@fS2mu
20.2  指令(Instructions) 406 $u!(F]^
20.3  页面布局指令 406 2!J#XzR0W
20.4  常见的参数图和三维图 407 Nrr}) g
20.5  表格中的常见参数 408 /'rj L<M
20.6  迭代指令 408 Z^&G9I#
20.7  报表模版 408 j8` B
20.8  开始设计一个报表模版 409 {r&mNbz
21  一个新的project 413 S)WxTE9
21.1  创建一个新Job 414 AygdAg'\
21.2  默认设计 415 9:USxFM
21.3  薄膜设计 416 K {' atc
21.4  误差的灵敏度计算 420 SKL4U5D{
21.5  显色指数计算 422 )=[\YfK
21.6  电场分布 424 K6IT$$g
后记 426
X3:z=X&Zd
有兴趣扫码加微联系[attachment=119388]

查看本帖完整版本: [-- 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（第二版精装） --] [-- top --]

《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（第二版 精装）

《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（第二版精装）