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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-08-07 08:31
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介
$?'z%a{
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
@B1rtw6
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
VW'e&v1 .
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
YjsaTdZ!&
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
`T~M:\^D
.JH3,L"S^
目录
a?D\H5TF-
Preface 1
}~A-ELe:
内容简介 2
0"<gg5
目录 i
"b} ^xy
1 引言 1
l~uRZLx
2 光学薄膜基础 2
qWP1i7]=/
2.1 一般规则 2
.[CXW2k
2.2 正交入射规则 3
bggSYhJ?\#
2.3 斜入射规则 6
_b#9^2o
2.4 精确计算 7
n*-#VKK^
2.5 相干性 8
d;dcLe
2.6 参考文献 10
3K54:
3 Essential Macleod的快速预览 10
) d\Se9!
4 Essential Macleod的特点 32
,@ [Q:fY
4.1 容量和局限性 33
gp$+Qd
4.2 程序在哪里? 33
qk:F6kL\`
4.3 数据文件 35
g3Ff<P P
4.4 设计规则 35
Q_@ Z.{
4.5 材料数据库和资料库 37
Rfgc^ 3:j
4.5.1材料损失 38
!7}5"j ;A
4.5.1材料数据库和导入材料 39
Z\@vN[[
4.5.2 材料库 41
&5zUk++
4.5.3导出材料数据 43
hDz_BvE
4.6 常用单位 43
|e+I5
4.7 插值和外推法 46
KiCZEA
4.8 材料数据的平滑 50
VQLo vt"
4.9 更多光学常数模型 54
d)dIIzv
4.10 文档的一般编辑规则 55
Mu{mj4Y{
4.11 撤销和重做 56
=0 m[
4.12 设计文档 57
3 :f5xF
4.10.1 公式 58
[*50Ng>P`
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
ZtB0:'o;
4.10.3 沉积密度 59
}*?e w
4.10.4 平行和楔形介质 60
d5bj$oH
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
hBN!!a|l
4.10.4 性能 61
85nUR[)h
4.10.5 保存设计和性能 64
Wp>W?'`
4.10.6 默认设计 64
drN^-e
4.11 图表 64
F,4Q
4.11.1 合并曲线图 67
NO6. qWl
4.11.2 自适应绘制 68
~;U!?
4.11.3 动态绘图 68
mp@ JsCU
4.11.4 3D绘图 69
{!E<hQ2<$9
4.12 导入和导出 73
yqCy`TK8
4.12.1 剪贴板 73
uOZ+9x(
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
W.H_G.C%
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
ts)0+x
4.13 背景 77
t6js@Ih
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
GDOaZi
4.15 生成Rugate 84
"jAV7lP
4.16 参考文献 91
+IJpqFH
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
%s<7|,
5.1 Jobs 92
zW+Y{^hf
5.2 创建一个新Job(工作) 93
MA"iM+Ar
5.3 输入材料 94
\Z57U NI
5.4 设计数据文件夹 95
pk"JcUzR
5.5 默认设计 95
qf7.Sh
6 细化和合成 97
"hQV\|!\
6.1 优化介绍 97
xG<S2R2VQh
6.2 细化 (Refinement) 98
f'r/Q2{n
6.3 合成 (Synthesis) 100
<!=TxV>}A
6.4 目标和评价函数 101
c*6o{x}K
6.4.1 目标输入 102
!.p!
6.4.2 目标 103
orTTjV]_m
6.4.3 特殊的评价函数 104
=m-_0xo
6.5 层锁定和连接 104
[i&z_e)
6.6 细化技术 104
~ocd4,d=
6.6.1 单纯形 105
hWDgMmo7
6.6.1.1 单纯形参数 106
Gt- -7S
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
a9D5qj
6.6.2.1 Optimac参数 108
>)5rOU
6.6.3 模拟退火算法 109
d(fgv
6.6.3.1 模拟退火参数 109
t,MK#Ko
6.6.4 共轭梯度 111
a>s v
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
a^sR?.+3
6.6.5 拟牛顿法 112
TTqOAo[-Z
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
b6NttY!3
6.6.6 针合成 113
)rj.WK.
6.6.6.1 针合成参数 114
L@G)K
6.6.7 差分进化 114
Jr1^qY`0+
6.6.8非局部细化 115
,PIdPaV--
6.6.8.1非局部细化参数 115
?g<*1N?:
6.7 我应该使用哪种技术? 116
L.|GC7$0
6.7.1 细化 116
P,wFib^1
6.7.2 合成 117
Q~*A`h#
6.8 参考文献 117
7<N X;Fx
7 导纳图及其他工具 118
oWJ}]ip
7.1 简介 118
w7%N=hL1
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
Y!Z@1V`
7.2.1 四分之一波长规则 119
8vUP{f6 {
7.2.2 导纳图 120
Vy(lyD<6
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
dQizM^j
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
f \4Qp
7.5 斜入射导纳图 141
([$F5 q1TR
7.6 对称周期 141
DJ<e=F!
7.7 参考文献 142
$p9XXZ"*
8 典型的镀膜实例 143
8q0f#/`v
8.1 单层抗反射薄膜 145
zpa'G1v
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
r3*wH1n
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
Jl^oDW
8.4 W-膜层 148
eyo )Su
8.5 V-膜层 149
t+?\4+!<
8.6 V-膜层高折射基底 150
WUqAPN
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
G\P*zzSq
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
xds"n5
8.9 四层抗反射薄膜 153
=%RDT9T.
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
1pz6e8p:m
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
_abVX#5<
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
fSun{?{
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
C g&1
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
7&