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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-08-07 08:31
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介
y/57 >.3
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
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目录
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Preface 1
J?VMQTa/+
内容简介 2
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目录 i
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1 引言 1
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2 光学薄膜基础 2
MYyV{W*T>
2.1 一般规则 2
A=8%2UwI
2.2 正交入射规则 3
o~<ith$A*
2.3 斜入射规则 6
?wM{NVt#-
2.4 精确计算 7
+/+:D9j ,
2.5 相干性 8
fCC^hB]'
2.6 参考文献 10
=^a Ngq
3 Essential Macleod的快速预览 10
EjxzX1:
4 Essential Macleod的特点 32
?r P'PUB
4.1 容量和局限性 33
miWog 8j
4.2 程序在哪里? 33
5dwC~vn}c
4.3 数据文件 35
YU>NGC]}d
4.4 设计规则 35
Cn6<I {`\
4.5 材料数据库和资料库 37
w)xiiO[
4.5.1材料损失 38
]J|]IPXy
4.5.1材料数据库和导入材料 39
f8ucJ.{"
4.5.2 材料库 41
a6Zg~>vX
4.5.3导出材料数据 43
4WspPHj
4.6 常用单位 43
>+}yI}W;e
4.7 插值和外推法 46
Owd{;
4.8 材料数据的平滑 50
f%#q}vK-
4.9 更多光学常数模型 54
Qdt4h$~V"
4.10 文档的一般编辑规则 55
4v[Zhf4JM
4.11 撤销和重做 56
vG X L'k
4.12 设计文档 57
hB[VU ";
4.10.1 公式 58
MKiP3kt8
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
7bk=D~/nSg
4.10.3 沉积密度 59
GN0s`'#"3%
4.10.4 平行和楔形介质 60
:X+!W_xR
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
|FED<
4.10.4 性能 61
rJz`v/:|P
4.10.5 保存设计和性能 64
r2b_$
4.10.6 默认设计 64
uv#."_Va
4.11 图表 64
=&8 Cg
4.11.1 合并曲线图 67
Kg8n3pLAX
4.11.2 自适应绘制 68
8%\0v?a5
4.11.3 动态绘图 68
e-E0Bp
4.11.4 3D绘图 69
:<QmG3F
4.12 导入和导出 73
.#Vup{.
4.12.1 剪贴板 73
yq6Gyoi<
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
sa?Ul)L2
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
W]B75
4.13 背景 77
wf` e3S
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
ov$S
4.15 生成Rugate 84
#ULjK*)R
4.16 参考文献 91
4QZ|e{t
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
_48@o^{
5.1 Jobs 92
Kry^47"
5.2 创建一个新Job(工作) 93
*xV
5.3 输入材料 94
"h\ (a<
5.4 设计数据文件夹 95
'nQQqx%v
5.5 默认设计 95
fVvB8[(;~
6 细化和合成 97
Z%4w{T+[
6.1 优化介绍 97
I?R?rW
6.2 细化 (Refinement) 98
dTTC6?yPXf
6.3 合成 (Synthesis) 100
v$d^>+Y#
6.4 目标和评价函数 101
O[<YYL0
6.4.1 目标输入 102
1}/37\
6.4.2 目标 103
-\I".8"YE
6.4.3 特殊的评价函数 104
*]K/8MbiF
6.5 层锁定和连接 104
Sv>bU4LHf
6.6 细化技术 104
~ TfN*0
6.6.1 单纯形 105
s2kom)
6.6.1.1 单纯形参数 106
NK!#K>AO
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
T*1 `MIkv
6.6.2.1 Optimac参数 108
`:*O8h~i^8
6.6.3 模拟退火算法 109
9D`p2cO
6.6.3.1 模拟退火参数 109
]!'}{[1}
6.6.4 共轭梯度 111
qe_qag9
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
HceZT e@
6.6.5 拟牛顿法 112
o |"iW" +
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
$ISx0l~
6.6.6 针合成 113
~{00moN"m
6.6.6.1 针合成参数 114
w:3CWF4q]
6.6.7 差分进化 114
?'/#Gt`
6.6.8非局部细化 115
S2PPwCU
6.6.8.1非局部细化参数 115
Mh@RO|F
6.7 我应该使用哪种技术? 116
2qDyb]9
6.7.1 细化 116
+Ua.\1"6
6.7.2 合成 117
\J-}Dp\0b
6.8 参考文献 117
,sZ)@?e
7 导纳图及其他工具 118
;=lQMKx0
7.1 简介 118
z/P^Bx]r
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
"?Yf3G: \0
7.2.1 四分之一波长规则 119
/I~(*X
7.2.2 导纳图 120
,8&ND864v
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
j<PpCL_8%
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Xf%wW[~
7.5 斜入射导纳图 141
*5z"Xy3J
7.6 对称周期 141
+2JC**)I
7.7 参考文献 142
W%P$$x5&
8 典型的镀膜实例 143
%T,cR>lw
8.1 单层抗反射薄膜 145
Lgrpy
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
7OdJ&Gzd
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
B#, TdP]/
8.4 W-膜层 148
ZRn!z`.0
8.5 V-膜层 149
PM8*/4Cu.5
8.6 V-膜层高折射基底 150
|0$7{nQ
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
u!TMt8+c
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
/7&WFCc)(
8.9 四层抗反射薄膜 153
xY@<