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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-08-07 08:31
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
{dA#r>z\1
*iYs,4
内容简介
-PxA~((g5
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
Fm*O&6W\@A
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
vK|dP3
%[RLc[pB
目录
Z,ag5 w`]L
Preface 1
wWwY.}j
内容简介 2
hMi[MB7~
目录 i
XO\P4x:c
1 引言 1
-[ F<u
2 光学薄膜基础 2
YT#"HYO
2.1 一般规则 2
Pg5 1}{
2.2 正交入射规则 3
Y0U:i.)
2.3 斜入射规则 6
W<kJ%42^j
2.4 精确计算 7
KO:o GUR
2.5 相干性 8
3q<\ \8Y*
2.6 参考文献 10
#Jg)HU9
3 Essential Macleod的快速预览 10
_t3n<
4 Essential Macleod的特点 32
-p9|l%W
4.1 容量和局限性 33
=`g+3 O;<
4.2 程序在哪里? 33
y\ Zx{A[
4.3 数据文件 35
{ImZ><xe/
4.4 设计规则 35
DN!:Rm uc
4.5 材料数据库和资料库 37
*y7^4I-J
4.5.1材料损失 38
N-;e" g
4.5.1材料数据库和导入材料 39
w,D(zk$
4.5.2 材料库 41
#m|AQr|
4.5.3导出材料数据 43
}F**!%4d
4.6 常用单位 43
'R?;T[s%
4.7 插值和外推法 46
]*Zg(YA
4.8 材料数据的平滑 50
-cEjB%Neo
4.9 更多光学常数模型 54
WM:we*k8h
4.10 文档的一般编辑规则 55
N}Z"$4
4.11 撤销和重做 56
}7k+tJ<
4.12 设计文档 57
03[(dRK>=
4.10.1 公式 58
YWjw`,EA(
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
G[)QGZ}8b
4.10.3 沉积密度 59
Id|38
4.10.4 平行和楔形介质 60
p-r}zc9@
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
E[^66(KR
4.10.4 性能 61
;E(%s=i
4.10.5 保存设计和性能 64
BY72 fy#e
4.10.6 默认设计 64
z`5d,M
4.11 图表 64
wSnY;Z9W_
4.11.1 合并曲线图 67
(+(YO\ng6
4.11.2 自适应绘制 68
5 J61PuH
4.11.3 动态绘图 68
D8qZh1w%A|
4.11.4 3D绘图 69
g#T8WX{(V
4.12 导入和导出 73
gVl%:Ra%
4.12.1 剪贴板 73
MW6d-
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
+QqYf1@F
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
2/x+7F}w5
4.13 背景 77
s=#3f3
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
>y &9!G
4.15 生成Rugate 84
mn)kd
4.16 参考文献 91
C1Slx!}
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
$-EbJ
5.1 Jobs 92
&AG,]#
5.2 创建一个新Job(工作) 93
sTU`@}}
5.3 输入材料 94
Ir }r98lz
5.4 设计数据文件夹 95
;*[nZV>
5.5 默认设计 95
]]J2#mN:n
6 细化和合成 97
6$lj$8\
6.1 优化介绍 97
7kp$C?7K
6.2 细化 (Refinement) 98
YcBY[i0
6.3 合成 (Synthesis) 100
@or&GcQ*
6.4 目标和评价函数 101
HE,# pj(D
6.4.1 目标输入 102
F\yxXOI
6.4.2 目标 103
" +'E
6.4.3 特殊的评价函数 104
rfpeX
6.5 层锁定和连接 104
T&
6.6 细化技术 104
_p"nR
6.6.1 单纯形 105
: 2Ho
6.6.1.1 单纯形参数 106
9#IKb:9k
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Y.$'<1
6.6.2.1 Optimac参数 108
s`B "qw
6.6.3 模拟退火算法 109
nb9qVuAGU
6.6.3.1 模拟退火参数 109
|$`)d87,
6.6.4 共轭梯度 111
PMe bn$(
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
Po#;SG#Ee
6.6.5 拟牛顿法 112
: " 9F.U
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
:n4?
6.6.6 针合成 113
&9g4/c-?$
6.6.6.1 针合成参数 114
hz\Fq1
6.6.7 差分进化 114
hiZE8?0+~N
6.6.8非局部细化 115
D G}} S5
6.6.8.1非局部细化参数 115
-{dsl|Dl
6.7 我应该使用哪种技术? 116
(iXo\y`z
6.7.1 细化 116
(p08jR '5
6.7.2 合成 117
&`[y] E'
6.8 参考文献 117
i Tg?JoE2
7 导纳图及其他工具 118
FIG3P))
7.1 简介 118
rLw3\>y
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
2 | $
7.2.1 四分之一波长规则 119
%]S~PKx
7.2.2 导纳图 120
U ?P5cN
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
dq}60
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
yJkERiJV
7.5 斜入射导纳图 141
Yq-Nk:H|
7.6 对称周期 141
X YO09#>&
7.7 参考文献 142
cLj@+?/
8 典型的镀膜实例 143
Mn7nS:
8.1 单层抗反射薄膜 145
sS/#)/B
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
;3wj(o0
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
!r]elX
8.4 W-膜层 148
_-$O6eZ
8.5 V-膜层 149
&rj3UF@hb
8.6 V-膜层高折射基底 150
mZDL=p
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
0vbiq
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
#-?pY"N,
8.9 四层抗反射薄膜 153
a<9cj@h
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
4)./d2/E
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
&"]Uh
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
H. U wM
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
oace!si
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
T|dQY~n~
8.15十五层宽带抗反射膜 159
>tTNvb5
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
Q|/uL`_ni
8.17 1/4波长堆栈 162
,&[2z!
8.18 陷波滤波器 163
22lC^)`TE
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
mVFz[xI
8.20 褶皱 165
$K1 /^
8.21 消偏振分光器1 169
2gLa4B-
8.22 消偏振分光器2 171
R r7 r5
8.23 消偏振立体分光器 172
d1$3~Xl]
8.24 消偏振截止滤光片 173
7DaMuh~<
8.25 立体偏振分束器1 174
<$!^LKKzA
8.26 立方偏振分束器2 177
A??(}F L
8.27 相位延迟器 178
QB p`r#{I{
8.28 红外截止器 179
MN1 kR
8.29 21层长波带通滤波器 180
<8Y;9N|94!
8.30 49层长波带通滤波器 181
C;7?TZ&x