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2023-07-07 10:28 |
镀膜工具书系列目录
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) HI30-$9 FCEFg)c5= 内容简介 t/aT Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 (a i&v 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 beYaQz/@W 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 +H~})PeQ LN?W~^gsR
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_YW1Mk1 目录 G u-#wv5@ Preface 1 /_P5UE( 内容简介 2 hIPU%
目录 i W`^Zb[ 1 引言 1 LMrb
1lg$ 2 光学薄膜基础 2 IPoNAi<b 2.1 一般规则 2 &pD6Qq{ 2.2 正交入射规则 3 n15F4DnP 2.3 斜入射规则 6 ZLJfSnB 2.4 精确计算 7 PI#xRKt 2.5 相干性 8 >8nRP%r[5, 2.6 参考文献 10 bi bjFg 3 Essential Macleod的快速预览 10 S]3t{s#JW7 4 Essential Macleod的特点 32 IgOo2N"^l 4.1 容量和局限性 33 !$x9 s'D 4.2 程序在哪里? 33 bCF"4KXK 4.3 数据文件 35 --S2lN/:T 4.4 设计规则 35 A-&C.g 4.5 材料数据库和资料库 37 mRw &^7r 4.5.1材料损失 38 T^ ^o 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ^[SQw)* 4.5.2 材料库 41 kmm1b ( 4.5.3导出材料数据 43 lmZSsx 4.6 常用单位 43 #AzZ4<;7 4.7 插值和外推法 46 <$LVAy"RD 4.8 材料数据的平滑 50 x-km)2x=W 4.9 更多光学常数模型 54 ! 3O#'CV 4.10 文档的一般编辑规则 55 u+GtH;<; 4.11 撤销和重做 56 ?1Lzbou 4.12 设计文档 57 7Xi)[M?)# 4.10.1 公式 58 u|.L73<j% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Q&;dXE h 4.10.3 沉积密度 59 G _{x)@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 t3.;W/0_ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 X/fk&Cp 4.10.4 性能 61 w^?uBeqR 4.10.5 保存设计和性能 64 (7G5y7wI" 4.10.6 默认设计 64 Cyg\FHs 4.11 图表 64 -aPvls 4.11.1 合并曲线图 67 GQOz\ic 4.11.2 自适应绘制 68 &
Me%ZM0 4.11.3 动态绘图 68 oX@0+*" 4.11.4 3D绘图 69 0 V:z(r 4.12 导入和导出 73 o[W7'1O 4.12.1 剪贴板 73 n0:Y*Op 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 F'DO46 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 0!YB.=\{_q 4.13 背景 77 pt&(c[ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GpV"KVJJ/ 4.15 生成Rugate 84 q[#2` 4.16 参考文献 91 00 Qn1 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 {%ZD^YSA 5.1 Jobs 92 q$Z.5EN 5.2 创建一个新Job(工作) 93 u;m[, 5.3 输入材料 94 2B{~"< 5.4 设计数据文件夹 95 P)Vm4u
1 5.5 默认设计 95 KPIc?|o/6 6 细化和合成 97 7RQ.oee 6.1 优化介绍 97 vkWh2z 6.2 细化 (Refinement) 98 YoV^Y&:9< 6.3 合成 (Synthesis) 100 a,3}
o:f 6.4 目标和评价函数 101 01VEz
8[\ 6.4.1 目标输入 102 fGDR<t3yiQ 6.4.2 目标 103 ^| L@f 6.4.3 特殊的评价函数 104 (5y+g?9d; 6.5 层锁定和连接 104 6\ g-KO 6.6 细化技术 104 !sA[A> 6.6.1 单纯形 105 PMzPe"3M 6.6.1.1 单纯形参数 106 kYBy\ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 pZ?7'+u$L 6.6.2.1 Optimac参数 108 qi7(RL_N 6.6.3 模拟退火算法 109 u/3[6MIp 6.6.3.1 模拟退火参数 109 1@*qz\ YY 6.6.4 共轭梯度 111 og<mFbqkq7 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 AvF:$kG 6.6.5 拟牛顿法 112 M8oCh 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Fp52|w_ 6.6.6 针合成 113 :feU 6.6.6.1 针合成参数 114 al<[iZ 6.6.7 差分进化 114 E^z\b * 6.6.8非局部细化 115 ^a&-GhX; 6.6.8.1非局部细化参数 115 Te=[tx~x 6.7 我应该使用哪种技术? 116 +.gM"JV 6.7.1 细化 116 =~M%zdIXv 6.7.2 合成 117 5}d"nx 6.8 参考文献 117 x_&=IyU0j 7 导纳图及其他工具 118 rxZ%vzVQ> 7.1 简介 118 by z2u 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 UX3
]cr 7.2.1 四分之一波长规则 119 ZPHiR4fQli 7.2.2 导纳图 120 tW4|\-E"s4 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
"LyMw){ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ^V]DQ%v"I 7.5 斜入射导纳图 141 J
ik+t\A 7.6 对称周期 141 <T?H
H$es) 7.7 参考文献 142 2%Bq[SMuN 8 典型的镀膜实例 143 R[Y]B$XO 8.1 单层抗反射薄膜 145 tHlKo0S$0 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 bvY'=
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 <i9pJGW 8.4 W-膜层 148 XRi/O)98o 8.5 V-膜层 149 <xOv0B 8.6 V-膜层高折射基底 150 "RPX_ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 )c
vA}U.z 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 > <cK 8.9 四层抗反射薄膜 153 u2=gG. 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 . C_\xb 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g wM~W 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 6*3J3Lc_< 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Q"UWh~ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 So &c\Ff 8.15十五层宽带抗反射膜 159 @* a'B=7 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 6- H81y3 8.17 1/4波长堆栈 162 *LnY}# 8.18 陷波滤波器 163 f( (p\&y 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 S}zh0`+d'Z 8.20 褶皱 165 (x7AV$N 8.21 消偏振分光器1 169 ^zjQ(ca@"x 8.22 消偏振分光器2 171 Q}#5mf&cD 8.23 消偏振立体分光器 172 QIl![% 8.24 消偏振截止滤光片 173 @o&.]FZs 8.25 立体偏振分束器1 174 < | |