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2023-07-07 10:28 |
镀膜工具书系列目录
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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q %l}D. ml 内容简介 C":32_q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Q<^Tl(`/N? 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 '_w=k4 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 2jg- OWjk=u2Lz
P"y`A}Bx
%C~1^9uq 目录 b\vKJ2
Preface 1 wKZ$iGMbz 内容简介 2 ]h* c,. 目录 i EQb7-vhg 1 引言 1 wkA+j9. 2 光学薄膜基础 2 .aAL]-Rj
2.1 一般规则 2 hxVKV?Fl 2.2 正交入射规则 3 ~]pE'\D7Ad 2.3 斜入射规则 6 Xjo5v*P u 2.4 精确计算 7 [F0s!,P 2.5 相干性 8 "?ucO4d 2.6 参考文献 10 P7nc7a 3 Essential Macleod的快速预览 10 iYORu3 4 Essential Macleod的特点 32 @kpv{`Y 4.1 容量和局限性 33 Cjqklb/ 4.2 程序在哪里? 33 DoJ\ q+ 4.3 数据文件 35 l6YtEHNG 4.4 设计规则 35 !%^^ \, 4.5 材料数据库和资料库 37 x }\64 4.5.1材料损失 38 P
`}zlml 4.5.1材料数据库和导入材料 39 *c~T@m~DR 4.5.2 材料库 41 @R/07&lBR 4.5.3导出材料数据 43 0fF(Z0R, 4.6 常用单位 43 -=)+dCyB^ 4.7 插值和外推法 46 e,F1Xi#d 4.8 材料数据的平滑 50 x_|UPF 4.9 更多光学常数模型 54 ORyE`h 4.10 文档的一般编辑规则 55 WG N=Y~E 4.11 撤销和重做 56 %_+2@\ 4.12 设计文档 57 {["\.ZS| 4.10.1 公式 58 t]y
D-3'l& 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 GN ]cDik 4.10.3 沉积密度 59 co~Pyj 4.10.4 平行和楔形介质 60 QrB@cK] 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 r"``QmM 4.10.4 性能 61 ';TT4$(m 4.10.5 保存设计和性能 64 <(-= 'QA 4.10.6 默认设计 64 ),U X4%K= 4.11 图表 64 Bg&i63XL$$ 4.11.1 合并曲线图 67 U}6.h&$ 4.11.2 自适应绘制 68 8TGOx%}i 4.11.3 动态绘图 68 qUjmB sB 4.11.4 3D绘图 69 @y='^DQ* 4.12 导入和导出 73 /tP|b_7O 4.12.1 剪贴板 73 ^* J2'X38I 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 &y3OR1_Sm* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 yRSTk2N@ 4.13 背景 77 _d"b;4l 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 M)eO6oX| 4.15 生成Rugate 84 ~%^
tB 4.16 参考文献 91 ?&|5=>u2}$ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 x^kp^
/f 5.1 Jobs 92 8Eakif0CO 5.2 创建一个新Job(工作) 93 "OQ^U_ 5.3 输入材料 94 0J?~N`#O| 5.4 设计数据文件夹 95 3&u&x( 5.5 默认设计 95 tE@;X= 6 细化和合成 97 zA$k0p 6.1 优化介绍 97 u+'tfFds& 6.2 细化 (Refinement) 98 S{;sUGcu 6.3 合成 (Synthesis) 100 @\|_ 6.4 目标和评价函数 101 NdL,F;^ 6.4.1 目标输入 102 V,q](bg 6.4.2 目标 103 Svondc
4 6.4.3 特殊的评价函数 104 DE%KW:Hug 6.5 层锁定和连接 104 pQshUm"_ 6.6 细化技术 104 ebT:/wu,2 6.6.1 单纯形 105 @!`Xl*l 6.6.1.1 单纯形参数 106 k`0>36 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 EQf[, 6.6.2.1 Optimac参数 108 M[6:p2u 6.6.3 模拟退火算法 109 G'6@+$ppS 6.6.3.1 模拟退火参数 109 POvP]G9'" 6.6.4 共轭梯度 111 RLbKD> 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 9?0^ap,T 6.6.5 拟牛顿法 112 :^kZ.6Q@ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 gW-V=LV ( 6.6.6 针合成 113 =bHD#o|R 6.6.6.1 针合成参数 114 /lo2y?CS* 6.6.7 差分进化 114 =&,]Z6{> 6.6.8非局部细化 115 A9wh(P0\ 6.6.8.1非局部细化参数 115 e6d<dXx 6.7 我应该使用哪种技术? 116 J@4 Bf
6.7.1 细化 116 zx-81fx+k 6.7.2 合成 117 4<% *E{` 6.8 参考文献 117 }
\XfH 7 导纳图及其他工具 118 VO$
iNK 7.1 简介 118 oJ4AIQjB 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 eu(:`uu 7.2.1 四分之一波长规则 119 So0f)`A 7.2.2 导纳图 120 ]`kmjn 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 p4'G$]# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 d5oIH 7.5 斜入射导纳图 141 *.!Np9l,V 7.6 对称周期 141 ;j^H)."A\ 7.7 参考文献 142 t0IEaj75c 8 典型的镀膜实例 143 (+B5|_xQu 8.1 单层抗反射薄膜 145 13@|w1/Z 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 m06ALD_ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 C}_ ojcR 8.4 W-膜层 148 !4^C #{$ 8.5 V-膜层 149 7PtN?;rP 8.6 V-膜层高折射基底 150 M+w=O!dq 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 B]uc<`f 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 tD+9kf2 8.9 四层抗反射薄膜 153 ]=>F.GE 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 bI:zp!-. 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 yt.F\ [1 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 3?1`D/ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 /7}It$|nhy 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 D^=J|7e 8.15十五层宽带抗反射膜 159 P;Ga4Q. 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 `QyO`y=?[Y 8.17 1/4波长堆栈 162 ;4.!H,d 8.18 陷波滤波器 163 1+}{8D_F 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Of4^?`
^ 8.20 褶皱 165 _Em. 8.21 消偏振分光器1 169 %k'!Iq+ 8.22 消偏振分光器2 171 yF"1#{*y 8.23 消偏振立体分光器 172 %?p1d! 8.24 消偏振截止滤光片 173 yuat" Pg 8.25 立体偏振分束器1 174 J2'Nd' 8.26 立方偏振分束器2 177 |Z=^`J 8.27 相位延迟器 178 oxz OA 8.28 红外截止器 179 \lZf< | |