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2023-07-07 10:28 |
镀膜工具书系列目录
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) ,o)d3g-&g fk_o@
G!0 内容简介 ],P;WPU Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 m!<\WN6g 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 cJ54s} 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `w]s;G[ .A6(D$O k
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"~D]E7Q3y 目录 hWX% 66 Preface 1 xQUu|gtL4 内容简介 2 ANgw"&&>( 目录 i i&VsW7 1 引言 1 8MSC.0 2 光学薄膜基础 2 $m42:a mM 2.1 一般规则 2 D9z|VIw8 2.2 正交入射规则 3 H,b5C_D29 2.3 斜入射规则 6 aG^4BpIP 2.4 精确计算 7 Uw47LP 2.5 相干性 8 Yb E-6|cz 2.6 参考文献 10 ^<e.]F25M 3 Essential Macleod的快速预览 10 0{=`on; 4 Essential Macleod的特点 32 j$+nKc$ 4.1 容量和局限性 33 q5?# 3 T= 4.2 程序在哪里? 33 3D2E?$dX 4.3 数据文件 35 7D<#(CE{ 4.4 设计规则 35 b[`Yi1^]%g 4.5 材料数据库和资料库 37 92EWIHEWZ 4.5.1材料损失 38 Y 'ow 4.5.1材料数据库和导入材料 39 xP [n 4.5.2 材料库 41 p\<u6v ~J 4.5.3导出材料数据 43 ,lyb!k8 4.6 常用单位 43 o_'p3nD 4.7 插值和外推法 46 C+TI]{t 4.8 材料数据的平滑 50 Y./2Ely 4.9 更多光学常数模型 54 XHK70: i 4.10 文档的一般编辑规则 55 cJrmm2.0kD 4.11 撤销和重做 56 vvm0t"|\ 4.12 设计文档 57 +(h\fm7*- 4.10.1 公式 58 5F~'gLH/F- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 dxmE3*b` 4.10.3 沉积密度 59 Bro9YP4< 4.10.4 平行和楔形介质 60 \Cii1\R= 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 UXh9:T'% 4.10.4 性能 61 l6d$V9A 4.10.5 保存设计和性能 64 .,OVzW 4.10.6 默认设计 64 [<6S%s 4.11 图表 64 BW"5Aj 4.11.1 合并曲线图 67 v#!%GEg1r 4.11.2 自适应绘制 68 % ClHCoyA 4.11.3 动态绘图 68 #Y4=J
6 4.11.4 3D绘图 69 IyPwP*A 4.12 导入和导出 73 k3uit+ge} 4.12.1 剪贴板 73 `|/<\ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 }b-g*dn]5 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 w'm;82V:P- 4.13 背景 77 f`;j:O 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =17t-
[ 4.15 生成Rugate 84 ](s'L8(x 4.16 参考文献 91 s#WAR]x0x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 'L8'
'(eZ^ 5.1 Jobs 92 eN^qG
42
5.2 创建一个新Job(工作) 93 'JRvP!] 5.3 输入材料 94 zR{W?_cV 5.4 设计数据文件夹 95 |g//g\dd 5.5 默认设计 95 <?@NRFTe 6 细化和合成 97 ;NHt7p8SE 6.1 优化介绍 97 oIduxbAp 6.2 细化 (Refinement) 98 ]4pkcV
P 6.3 合成 (Synthesis) 100 yI"6Da6|y 6.4 目标和评价函数 101 wf:OK[r9 6.4.1 目标输入 102 zlEX+=3 6.4.2 目标 103 /%;mqrdk 6.4.3 特殊的评价函数 104 [_}J F}6 6.5 层锁定和连接 104 &8vCZN^ 6.6 细化技术 104 ?]}8o}G 6.6.1 单纯形 105 Ym =FgM\ 6.6.1.1 单纯形参数 106 ;u>DNG|. 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 *exS6@N] 6.6.2.1 Optimac参数 108 [@5Ytv H 6.6.3 模拟退火算法 109 HxIIO[h 6.6.3.1 模拟退火参数 109 !y@6Mm 6.6.4 共轭梯度 111 JW3B'_0 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 rv|)n>m 6.6.5 拟牛顿法 112 L:i-BI`J 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 c1E'$-
K@ 6.6.6 针合成 113 PEc=\? 6.6.6.1 针合成参数 114 uLWh| 6.6.7 差分进化 114 L2[f]J% 6.6.8非局部细化 115 0Nnsjh 6.6.8.1非局部细化参数 115 #6CC3TJ'k 6.7 我应该使用哪种技术? 116 3GUZ;jdn 6.7.1 细化 116 Kq;8=xP[ 6.7.2 合成 117 "C I=`= 6.8 参考文献 117 .8by"?** 7 导纳图及其他工具 118 4#:W.]U8 7.1 简介 118 'LO^< 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 j4cwI90= 7.2.1 四分之一波长规则 119 ~2gG(1%At9 7.2.2 导纳图 120 ,uSQNre\j 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 a_'2V; 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 hMykf4 7.5 斜入射导纳图 141 }<9cL' 7.6 对称周期 141 Wwr;-Qa}g 7.7 参考文献 142 N-e @j4WU 8 典型的镀膜实例 143 ~wkj&yVT 8.1 单层抗反射薄膜 145 Y7*U:I+N 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 B>0].CK` 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 e,Uo#T6J 8.4 W-膜层 148 Z2'Bk2 L 8.5 V-膜层 149 @tZ&2RY1 8.6 V-膜层高折射基底 150
(q(~de 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 .O0+H+ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 SV~cJ]F 8.9 四层抗反射薄膜 153 MMx9(`t*. 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 &L,nqc\3D5 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 4}eepJOn 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 B4i!/@0s 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 $Z\.-QE\ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 i5CK*"$Q 8.15十五层宽带抗反射膜 159 0a-0Y&lQm 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 k[:bQ)H 8.17 1/4波长堆栈 162 Na?!;1]_ 8.18 陷波滤波器 163 {;:/-0s 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 1ke g9] 8.20 褶皱 165 & | |