| ueotek | 2023-06-21 10:22 |
第31期 | Ansys Zemax 成像设计线下培训招生预告 01、培训特色 本次培训主题为『Ansys Zemax 成像设计』，由宇熠高级光学工程师主讲，针对序列成像设计，帮助学员们掌握 优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换 等知识点。线下培训学习效率更高、更丰富、更精准，可直接与老师面对面交流提问，当场解决记忆深刻。 02、培训信息 主题：Ansys Zemax 成像设计 主办方：武汉宇熠科技有限公司 时间：2023年7月12日-14日（共三天） 地点：湖北省武汉市 03、培训大纲  注意： 1、本次培训统一发送配套的培训教材。 2、学员自备笔记本电脑，培训结束后将为每位学员颁发培训证书。 3、为提高培训效率，采用小班授课模式。名额有限，欲报从速。 4、如报名人数未达最低开课标准，武汉宇熠将取消或延迟本门课程， 具体情况以开课前一周通知为准。 04、培训费用 费用：¥ 3980元 / 人 · 三人及以上组团报名可享受八折优惠； · 费用含培训、教材、发票和证书，其他费用自理； · 发票统一开“培训服务费”。 报名方式：扫码报名  |
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