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2023-06-13 08:46 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
LEA;dSf 内容简介 `TAcZl=8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 f{f_g8f[ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 4%%B0[Wo_O 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0|GpZuGO9 #,)PN @P
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 V!H(;Tuuo 目录 F"Uh/EO< Preface 1 !>q?dhw@ 内容简介 2
0&f\7z 目录 i 5nY9Ls(e 1 引言 1 mQFa/7FX 2 光学薄膜基础 2 JUmw$u 2.1 一般规则 2 { _-wG3f| 2.2 正交入射规则 3 m&,bC)} 2.3 斜入射规则 6 "h QV9 [2\ 2.4 精确计算 7 Ko@zk<~"[ 2.5 相干性 8 oEN)Dw
o 2.6 参考文献 10 +_P8'e%Iy 3 Essential Macleod的快速预览 10 dG"K/| 4 Essential Macleod的特点 32 EqVsxwa 4.1 容量和局限性 33 ]v<d0"2 4.2 程序在哪里? 33 ^zKt{a 4.3 数据文件 35 lGl[^
0 4.4 设计规则 35 (21']x 4.5 材料数据库和资料库 37 ,9F*96 4.5.1材料损失 38 _r~!O$2 4.5.1材料数据库和导入材料 39 #aj|vox} 4.5.2 材料库 41 p| Vmdnb 4.5.3导出材料数据 43 #_on{I 4.6 常用单位 43 9e0C3+)CY 4.7 插值和外推法 46 /A0 [_ 4.8 材料数据的平滑 50 vU ?b"n 4.9 更多光学常数模型 54 0S%tsXt+ 4.10 文档的一般编辑规则 55 f<'n5}{RO0 4.11 撤销和重做 56 ~6\& y 4.12 设计文档 57 hEVjeC 4.10.1 公式 58 a|8|@, 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #4Dn@Gqh.Y 4.10.3 沉积密度 59 H&~5sEGa 4.10.4 平行和楔形介质 60 dK[* 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <j{0!J@: 4.10.4 性能 61 E]e,cd 4.10.5 保存设计和性能 64 W^5<XX,ON 4.10.6 默认设计 64 q-A`/9 4.11 图表 64 F_ ,L2J 4.11.1 合并曲线图 67 tZdwy> ; 4.11.2 自适应绘制 68 m(8jSGV 4.11.3 动态绘图 68 eo>/ 4.11.4 3D绘图 69 fui4@ 4.12 导入和导出 73 mrK,Ql 4.12.1 剪贴板 73 Oqd"0Qt- 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 |De!ti 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 sI^@A=.@ 4.13 背景 77 #> 7')G
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 x>U1t!' 4.15 生成Rugate 84 aQl?d<|+lk 4.16 参考文献 91 (45NZBs 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 3'?h;`v\Lo 5.1 Jobs 92 9@$tiDV 5.2 创建一个新Job(工作) 93 "Czz,;0 5.3 输入材料 94 #citwMW 5.4 设计数据文件夹 95 *i=?0M4S 5.5 默认设计 95 "z^BKb5 6 细化和合成 97 qk_p}l-F1 6.1 优化介绍 97 d9`3EP)n 6.2 细化 (Refinement) 98 3~cS}N T 6.3 合成 (Synthesis) 100 ,maAw}= 6.4 目标和评价函数 101 f}L>&^I) 6.4.1 目标输入 102 [z
W_%O kP 6.4.2 目标 103 >P<k[vF 6.4.3 特殊的评价函数 104 +O;OSZ 6.5 层锁定和连接 104 E9L!O.Q 6.6 细化技术 104 8+*g4=ws 6.6.1 单纯形 105 g`%ED0aR 6.6.1.1 单纯形参数 106 n/KI"qa]9 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 N+Q(V*:3v 6.6.2.1 Optimac参数 108 .Ws iOJU 6.6.3 模拟退火算法 109 I}*]m%'-Y 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ^q4l4)8jX 6.6.4 共轭梯度 111 ""25ay 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 >XD02A[ 6.6.5 拟牛顿法 112 ^BF@j4*~ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 sDzD
8as 6.6.6 针合成 113 !~Hafn-1 6.6.6.1 针合成参数 114 OhSt6&+ 6.6.7 差分进化 114 LU-#=1Q 6.6.8非局部细化 115 C5:dO\?O 6.6.8.1非局部细化参数 115 O4 +SD 6.7 我应该使用哪种技术? 116 gt2>nTJz.Z 6.7.1 细化 116 ?=/}Ft 6.7.2 合成 117 "ay,Lr 6.8 参考文献 117 #U",,*2 7 导纳图及其他工具 118 %4|n-`: 7.1 简介 118 (5f5P84x 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 %0ll4" 7.2.1 四分之一波长规则 119 "}]GQt< F 7.2.2 导纳图 120 /{eih]`x( 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 FT|/WZR 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 |1_$!
p 7.5 斜入射导纳图 141 F8|5_214' 7.6 对称周期 141 C:tSCNH[ 7.7 参考文献 142 X]+(c_i:hC 8 典型的镀膜实例 143 bWX[<rh' 8.1 单层抗反射薄膜 145 aIzp\$NWVK 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 >/kPnpJ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 6k@% +<1 8.4 W-膜层 148 V'HlAQr 8.5 V-膜层 149 SU_]C+ 8.6 V-膜层高折射基底 150 yZj}EBa 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 4y]: Gqz~ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ijZydn 8.9 四层抗反射薄膜 153 i(&6ys5 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 T>%uRK$ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 J^s< | |