oyeah |
2023-06-07 09:58 |
理论上可以,但是会有问题: n-DaX
kK 1. 高抛设备通常使用聚氨酯抛光,低抛通常使用沥青盘,做抛光粉循环的话,粉的洁净度不好保证 a 6%@d_A 2. 高抛设备气动加压,低抛压力需要适当小,这个得特别注意控制 3gAR4 MDJc[am 3. 改这个事情,估计是想着高抛机自动加抛光液比较方便,大量的抛光液不断冲在沥青盘上,会破坏沥青盘抛光的作用过程,面形和光洁度都处理不好. 11@]d]v , 要求不高的产品可以蛮折腾,但很难说能做到多好,
|
|