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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-05-15 08:50
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介
A;u" <KG?
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
DBs*Fx[
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目录
x4#T G
Preface 1
Jj^GWZRu
内容简介 2
!"TZ:"VZU
目录 i
9OfFM9(:
1 引言 1
^-M^gYBR
2 光学薄膜基础 2
TjBY 4
2.1 一般规则 2
jUqy8q&
2.2 正交入射规则 3
i$KpDXP\
2.3 斜入射规则 6
sF+=KH
2.4 精确计算 7
da$BUAqU
2.5 相干性 8
&wetzC)
2.6 参考文献 10
@lUlY2
3 Essential Macleod的快速预览 10
Q^Bt1C
4 Essential Macleod的特点 32
i NWC6y
4.1 容量和局限性 33
v1.q$ f^(
4.2 程序在哪里? 33
0%;146.p
4.3 数据文件 35
@)8]e S7
4.4 设计规则 35
s2v(=
4.5 材料数据库和资料库 37
'7im
4.5.1材料损失 38
W:QwHZ2O
4.5.1材料数据库和导入材料 39
vVs#^"-nW
4.5.2 材料库 41
pD@zmCU
4.5.3导出材料数据 43
!1uzX Kb
4.6 常用单位 43
(a6?s{(
4.7 插值和外推法 46
b]]N{: I
4.8 材料数据的平滑 50
NgB 7?]vu
4.9 更多光学常数模型 54
WIh@y2&R
4.10 文档的一般编辑规则 55
.]}N55M
4.11 撤销和重做 56
i`OrMzL
4.12 设计文档 57
G(1 K9{i$
4.10.1 公式 58
y^FOsr
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
\`,xgC9K
4.10.3 沉积密度 59
"L2 m-e6
4.10.4 平行和楔形介质 60
*N/hc
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
qA/bg
4.10.4 性能 61
#cwCocw
4.10.5 保存设计和性能 64
u=qPzmywt
4.10.6 默认设计 64
{sC=J hs-
4.11 图表 64
$~'Tf>e
4.11.1 合并曲线图 67
=J|sbY"]
4.11.2 自适应绘制 68
M>_ = "atI
4.11.3 动态绘图 68
LN!W(n(
4.11.4 3D绘图 69
V_L[P9
4.12 导入和导出 73
%TK&)Q% h5
4.12.1 剪贴板 73
=V^@%YIn
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
zb2K;%Qs+f
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
f(u&XuZ
4.13 背景 77
S@:B6](D$
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
-rDz~M+
4.15 生成Rugate 84
$ehg@WK}.
4.16 参考文献 91
"'eWn6O(
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
r7)@M%A
5.1 Jobs 92
ZcZ;$*
5.2 创建一个新Job(工作) 93
mPmB6q%)]
5.3 输入材料 94
+*t|yKO>[
5.4 设计数据文件夹 95
e!o(g&wBj
5.5 默认设计 95
IM-`<~(I#
6 细化和合成 97
vg5NY =O
6.1 优化介绍 97
mpef]9
6.2 细化 (Refinement) 98
9)yG.9d1
6.3 合成 (Synthesis) 100
i@$-0%,
6.4 目标和评价函数 101
qiNliJ>40E
6.4.1 目标输入 102
=&0U`P$`
6.4.2 目标 103
Gm&2R4 )EP
6.4.3 特殊的评价函数 104
xtJAMo>g
6.5 层锁定和连接 104
}~*rx7p
6.6 细化技术 104
w6EI{
6.6.1 单纯形 105
X7e/:._SAH
6.6.1.1 单纯形参数 106
hmGdjw t$
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
:k1$g+(lP
6.6.2.1 Optimac参数 108
)bYez
6.6.3 模拟退火算法 109
`Ei"_W
6.6.3.1 模拟退火参数 109
#O</\|aH)i
6.6.4 共轭梯度 111
8t9aHla
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
SLA#= K
6.6.5 拟牛顿法 112
hh&Js'd
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
/`R dQ<($
6.6.6 针合成 113
&"j@79Ym1~
6.6.6.1 针合成参数 114
)Z:m)k>r;
6.6.7 差分进化 114
deM~[1e[
6.6.8非局部细化 115
%vc'{`P
6.6.8.1非局部细化参数 115
nO@+s F
6.7 我应该使用哪种技术? 116
slSR=XOG
6.7.1 细化 116
d[U1.SNL
6.7.2 合成 117
&PWf:y{R`
6.8 参考文献 117
EVSK8T,
7 导纳图及其他工具 118
;xW{Ehq-h
7.1 简介 118
n^6TP'r
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
aL$j/SC
7.2.1 四分之一波长规则 119
s?<!&Y
7.2.2 导纳图 120
HWR&C
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
O<a3DyUa;
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
oUS,+e
7.5 斜入射导纳图 141
2B'^`>+8S
7.6 对称周期 141
Vw?P.4
7.7 参考文献 142
2;R/.xI6v
8 典型的镀膜实例 143
di<B ~:l58
8.1 单层抗反射薄膜 145
Fc{((x s
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
^8\Y`Z0%
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
g _x\T+=
8.4 W-膜层 148
eH `t \n
8.5 V-膜层 149
0hZxN2r
8.6 V-膜层高折射基底 150
ws().IZ
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
6)+9G_
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
$Q,n+ /
8.9 四层抗反射薄膜 153
'Ix5,^M}B
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
)x9]xqoR
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
*p"O*zj
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
R]VTV7D
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
&}|0CR.(
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
(>r|j4$
8.15十五层宽带抗反射膜 159
5EfY9}dl
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
67,3i~
8.17 1/4波长堆栈 162
/W``LK>;?
8.18 陷波滤波器 163
Xi*SDy
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
~W/}:;
8.20 褶皱 165
?PYNE
8.21 消偏振分光器1 169
0.(zTJ
8.22 消偏振分光器2 171
g)nXo:)&