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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-05-15 08:50
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介
*4<Kz{NF
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
JE$aYs<(TF
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
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目录
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Preface 1
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内容简介 2
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目录 i
~ d!F|BH4
1 引言 1
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2 光学薄膜基础 2
NrrnG]#p1
2.1 一般规则 2
=5QP'Qt{O
2.2 正交入射规则 3
ci~pM<+
2.3 斜入射规则 6
tnCGa%M
2.4 精确计算 7
2G9sKg,kL
2.5 相干性 8
+dIO+(&g
2.6 参考文献 10
>PD*)Uq&
3 Essential Macleod的快速预览 10
O=Cz*j
4 Essential Macleod的特点 32
@! gJOy
4.1 容量和局限性 33
'@epiF&
4.2 程序在哪里? 33
%Gk?f=e
4.3 数据文件 35
^3B&E^R
4.4 设计规则 35
$B3<"
4.5 材料数据库和资料库 37
(4WAoye |
4.5.1材料损失 38
`l0&,]
4.5.1材料数据库和导入材料 39
yK #9)W-
4.5.2 材料库 41
NWt `X!
4.5.3导出材料数据 43
nn0`A3
4.6 常用单位 43
5[py{Gq
4.7 插值和外推法 46
8LMO2Wyq
4.8 材料数据的平滑 50
6zGM[2
4.9 更多光学常数模型 54
k{ru<cf
4.10 文档的一般编辑规则 55
:s}6 a23
4.11 撤销和重做 56
? V0!N;
4.12 设计文档 57
G; *jL4
4.10.1 公式 58
PDEeb.(.
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
jBO/1h=
4.10.3 沉积密度 59
gq^j-!Q)Q<
4.10.4 平行和楔形介质 60
/4}B}"`Sl=
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
N`JkEd7TT
4.10.4 性能 61
>4.K>U?0FC
4.10.5 保存设计和性能 64
~_ 8X%uty
4.10.6 默认设计 64
?C[W~m P
4.11 图表 64
aB N^J_
4.11.1 合并曲线图 67
v|&Nh?r
4.11.2 自适应绘制 68
?Bdhn{_
4.11.3 动态绘图 68
cen[|yCtOH
4.11.4 3D绘图 69
/ehmy(zL
4.12 导入和导出 73
p:GB"e9>H
4.12.1 剪贴板 73
%ZajM
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
VJeoO)<j
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
7l%]/`Y-
4.13 背景 77
R.FC3<TTv
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
`k 5'nnyP
4.15 生成Rugate 84
Ob+Rnfx37
4.16 参考文献 91
<;R}dlBASW
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
9uNkd2#
5.1 Jobs 92
Ju"*;/
5.2 创建一个新Job(工作) 93
!m* YPY31
5.3 输入材料 94
1TagQ
5.4 设计数据文件夹 95
" aEk#W
5.5 默认设计 95
Y M<8>d
6 细化和合成 97
=nQgS.D
6.1 优化介绍 97
$E j;CN59
6.2 细化 (Refinement) 98
N}j]S{j}'
6.3 合成 (Synthesis) 100
/oWn0
6.4 目标和评价函数 101
vSOO[.=
6.4.1 目标输入 102
5-3.7CO$
6.4.2 目标 103
X4c|*U=4
6.4.3 特殊的评价函数 104
zXop@"(e
6.5 层锁定和连接 104
(SEE(G35
6.6 细化技术 104
aw\\oN*
6.6.1 单纯形 105
_:B/XZ
6.6.1.1 单纯形参数 106
Vw^2TRU
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
V+A9.KoI
6.6.2.1 Optimac参数 108
vpS&w
6.6.3 模拟退火算法 109
3?d o|>
6.6.3.1 模拟退火参数 109
&$1ifG
6.6.4 共轭梯度 111
. paA0j
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
<?Z [X{
6.6.5 拟牛顿法 112
``zgw\f[%
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
Cj,Yy
6.6.6 针合成 113
\I@hDMqv
6.6.6.1 针合成参数 114
GQ@`qYLZ+
6.6.7 差分进化 114
d3m!34ml
6.6.8非局部细化 115
PQkFzyk
6.6.8.1非局部细化参数 115
B=>VP-:
6.7 我应该使用哪种技术? 116
Cggu#//Z}Q
6.7.1 细化 116
{CO]wqEj
6.7.2 合成 117
<Va7XX%>
6.8 参考文献 117
O ;34~k
7 导纳图及其他工具 118
B#+0jdF;
7.1 简介 118
P?#I9y7iP
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
_+OnH!G0
7.2.1 四分之一波长规则 119
-KuC31s_W
7.2.2 导纳图 120
QgR3kc^7/
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
.qN|.:6a
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
kE8\\}B7
7.5 斜入射导纳图 141
Z~?1xJ&