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2023-04-13 09:10 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[attachment=117284]英文原厂售价100美金,中文版598元 U]d+iz??b [(1O_X(M ["z$rk 内容简介 gDH x+"? Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ??4QDa- 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 X~0P+E# 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 QJ
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 @<P[z[ 目录 m@ ~HHwj Preface 1 7RO=X%0A 内容简介 2 '7$v@Tvnre 目录 i q
/#O :Q 1 引言 1 m{X;|-DK[ 2 光学薄膜基础 2 HH dc[pJ0D 2.1 一般规则 2 ,YH.n>`s+ 2.2 正交入射规则 3 9P]TIV. 2.3 斜入射规则 6 $>+-=XMVB 2.4 精确计算 7 'Mg%G(3 2.5 相干性 8 E:7vm@+ 2.6 参考文献 10 nV'B!q 3 Essential Macleod的快速预览 10 R,(^fM 4 Essential Macleod的特点 32 bF3j* bpO" 4.1 容量和局限性 33 HtMlSgx,8> 4.2 程序在哪里? 33 F"LT\7yjyG 4.3 数据文件 35 =w8*n2 4.4 设计规则 35 &" b0`&l 4.5 材料数据库和资料库 37 9F3`hJZRy> 4.5.1材料损失 38 tZ(Wh 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ar{Yq 4.5.2 材料库 41 T_r[#j 4.5.3导出材料数据 43 M 3^p,[9r# 4.6 常用单位 43 a-7nA 4.7 插值和外推法 46 Od"-w<' 4.8 材料数据的平滑 50 s4w<X}O_ 4.9 更多光学常数模型 54 thOCzGJ$ 4.10 文档的一般编辑规则 55 j,Mp["X& 4.11 撤销和重做 56
3o/f#y 4.12 设计文档 57 9t= erhUr 4.10.1 公式 58 p_qH7W 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 "5{\0CfS 4.10.3 沉积密度 59 D 4@=+ 4.10.4 平行和楔形介质 60 K^Xg^9 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ImgKqp0Z 4.10.4 性能 61 CnAh Ef)b 4.10.5 保存设计和性能 64 e{"d6pF= 4.10.6 默认设计 64 l.C{Ar 4.11 图表 64 Yd]f}5F 4.11.1 合并曲线图 67 bBjVot 4.11.2 自适应绘制 68 w+}KX><r 4.11.3 动态绘图 68 }V`Fz',lZ 4.11.4 3D绘图 69 E]Kd`&^} 4.12 导入和导出 73 2-2'c?% 4.12.1 剪贴板 73 CvlAn7r,@ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 SJw0y[IL6( 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 fE7Kv_N-% 4.13 背景 77 jk) U~KGcg 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0ro)e~_@* 4.15 生成Rugate 84 N:=D@x~] 4.16 参考文献 91 S7-?&[oeJ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 !m78 /[LW 5.1 Jobs 92 0(teplo&P 5.2 创建一个新Job(工作) 93 594$X@!v 5.3 输入材料 94 1298&C@ 5.4 设计数据文件夹 95 H3MT.Cpd 5.5 默认设计 95 CKj3-rcF( 6 细化和合成 97 )00#Rrt9 6.1 优化介绍 97 .nT"f>S&' 6.2 细化 (Refinement) 98 wtMS<$ 6.3 合成 (Synthesis) 100 n1$p
esr 6.4 目标和评价函数 101 @@}A\wA- 6.4.1 目标输入 102 =n%?oLg^ 6.4.2 目标 103 =w,%W^"E 6.4.3 特殊的评价函数 104 U edh4qa 6.5 层锁定和连接 104 &AA u: 6.6 细化技术 104 vrh}X[JEw' 6.6.1 单纯形 105 g`\Vy4w 6.6.1.1 单纯形参数 106 yv,9 0+k 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 >pz/wTOi 6.6.2.1 Optimac参数 108 <4^a(Zh 6.6.3 模拟退火算法 109 dDAdZxd 6.6.3.1 模拟退火参数 109 !i{@B 6.6.4 共轭梯度 111 Xo }w$q5 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Z$Qlr:7 6.6.5 拟牛顿法 112 &9IMZAo 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 F^KoEWj[H 6.6.6 针合成 113 2L ~U^ 6.6.6.1 针合成参数 114 UIbVtJ 6.6.7 差分进化 114 p}N'>+@= 6.6.8非局部细化 115 W>'R<IY4#N 6.6.8.1非局部细化参数 115 (iH5F9WO 6.7 我应该使用哪种技术? 116 .GLotc 6.7.1 细化 116 K@%. T# 6.7.2 合成 117 cYW F)WAog 6.8 参考文献 117 C'kd>LAGu 7 导纳图及其他工具 118 dEns|r 7.1 简介 118 IB(5 &u. 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 u]CW5snz 7.2.1 四分之一波长规则 119 6SW:'u|90 7.2.2 导纳图 120 *T*MLD]Q 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 PJ9JRG7j 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 YgrBIul 7.5 斜入射导纳图 141 RVX-3FvP 7.6 对称周期 141 dAohj
QH: 7.7 参考文献 142 %;9wToyK> 8 典型的镀膜实例 143 8M8=uw~# 8.1 单层抗反射薄膜 145 < | |