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cyqdesign 2023-04-12 19:25

《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 Jg3OM Ut  
#-76E  
[attachment=117279]
u6hDjN  
Lhg4fuos@)  
N?cvQR{r9  
第1章光刻工艺概述 =MQpYX  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 +NIq}fZn9  
1.2光刻技术的发展史_3 ZL!,s#  
1.3投影光刻机的空间成像_5 Z) nB  
1.4光刻胶工艺_10 pq8XCOllXx  
1.5光刻工艺特性_12 _5<d'fBd  
1.6小结_18 Swugt"`nN  
参考文献_18 {wUbr^  
7Mx F? I  
第2章投影光刻的成像原理 MA}~bfB  
2.1投影光刻机_20 #G</RYM~m  
2.2成像理论_21 ;#'YO1`gf3  
2.2.1傅里叶光学描述_21 71euRIW'5  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 NifD pqjgt  
2.2.3其他成像仿真方法_30 UoD S)(i  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 2~`lvx  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 GnAG'.t-Z  
2.3.2影响_36 m Acny$u  
2.4小结_39 g]kM7,/M  
参考文献_39 ~_l@ _P5yz  
WBb@\|V|  
第3章光刻胶 ?vA)F)MS   
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 e}@VR<h  
3.1.1光刻胶的分类_42 \!O3]k,r  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 :/rl \woA>  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 n $Nw/Vm  
3.1.4现象学模型_48 }kJfTsFS  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 _H{6{!=y  
3.2.1技术方面_50 @;\2 PD  
3.2.2曝光_51 E6 g]EE  
3.2.3曝光后烘焙_54 y!z2+q2  
3.2.4化学显影_58 \[\4= !v  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 E[$"~|7|$  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 @wvgMu  
3.5小结_68 F747K);_  
参考文献_69 d_v]mfUF  
6XP>qI,AJ  
第4章光学分辨率增强技术 Bf5Z  
4.1离轴照明_74 0o2*X|i(  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 s<z`<^hRe  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ON(OYXj  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 Dx)>`yJk$;  
4.2光学邻近效应校正_81 GGM|B}U p  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 <K g=?wb  
4.2.2线端缩短补偿_84 XA b%V'  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 ]|JQH  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 ;C ^!T  
4.3相移掩模_89 ^"dVz.  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 lF*}l  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 %wFz4 :  
4.4光瞳滤波_100 lpq) vKM}^  
4.5光源掩模协同优化_102 %>p[;>jW  
4.6多重曝光技术_106 *|gY7Av*  
4.7小结_109 ]QU 9|1  
参考文献_110 |~K 5]  
O'Mo/ u1-  
第5章材料驱动的分辨率增强 %fT%,( w}t  
5.1分辨率极限的回顾_115 jo-2D[Q{  
5.2非线性双重曝光_119 %`EyG  
5.2.1双光子吸收材料_119 @d&JtA  
5.2.2光阈值材料_120 D%`O.2T Y|  
5.2.3可逆对比增强材料_121 Gye84C2E=  
5.3双重和多重成形技术_124 aM7e?.rU  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 Y9 /`w@"v  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 1+F0$<e}  
5.3.3自对准双重成形_126 P,Z K  
5.3.4双色调显影_127 4,,@o  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 H]P*!q`Ko  
5.4定向自组装_129 !"g2F}n  
5.5薄膜成像技术_133 FNN7[ku!  
5.6小结_135 CL|d>  
参考文献_135 aZ,j1j0p  
@3w6 !Sgh  
第6章极紫外光刻  ?v z[Zi  
6.1EUV光源_141 k/Z]zZC  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 QO/nUl0E  
6.3EUV掩模_146 !V'~<&  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 h]Y,gya[yk  
6.5EUV光刻胶_156 q90 ~)n?  
6.6EUV掩模缺陷_157 lC=-1*WH  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 dc dVB>D  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Z<jC,r  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 Y|l&mK?  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 $$ 9!4  
6.8小结_167 ?NVX# t'  
参考文献_168 R?3N><oh*  
>vR7l&"  
第7章投影成像以外的光刻技术 E5$Fhc   
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 %p(X*mVX  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 @CtnV|  
7.1.2技术实现_179 !C&  ^%a  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 Z,~PW#8<&  
7.2无掩模光刻_186 [$DI!%e|  
7.2.1干涉光刻_186 "C.cU  
7.2.2激光直写光刻_189 hcqg94R#_  
7.3无衍射限制的光刻_194 {UFs1  
7.3.1近场光刻_195 hz+O.k],?  
7.3.2利用光学非线性_198 o?g9Grk  
7.4三维光刻_203 +gyGA/5:d$  
7.4.1灰度光刻_203 n%ypxY0  
7.4.2三维干涉光刻_205 #Q1 |]  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 OJ1MV7&  
7.5浅谈无光刻印_209 K]'t>:G @  
7.6小结_210 c :2w(BVi  
参考文献_211 l*z+<c6$_  
Gn%"B6  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 Y6`^E  
8.1实际投影系统中的波像差_220 J)EL<K$Z[  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 aM4-quaG]  
8.1.2波前倾斜_226 Ie[DTy  
8.1.3离焦像差_226 \iA.{,VX  
8.1.4像散_228 wzF%R {;  
8.1.5彗差_229 Q0%s|8Jc  
8.1.6球差_231 HF<h-gX  
8.1.7三叶像差_233 j6E|j>@u  
8.1.8泽尼克像差小结_233 Ki>XLX,er=  
8.2杂散光_234 2Z-QVwa*U  
8.2.1恒定杂散光模型_235 L1kA AR  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 )S`=y-L$  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239  Cwl:  
8.3.1掩模偏振效应_240 lf\^!E:  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 WFTwFm6  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 m7u" awM^  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 :_h#A }8Xd  
8.3.5偏振照明_248 P9x':I$  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 !xU[BCbfYV  
8.5小结_250 'A9Z ((  
参考文献_251 ?z0W1a  
abp\Ih^b  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 /i{V21(%  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 p || mR  
9.1.1时域有限差分法_257 @SI,V8i  
9.1.2波导法_260 {$V2L4  
9.2掩模形貌效应_262 Hp*N%  
9.2.1掩模衍射分析_263 0]zMb^wo  
9.2.2斜入射效应_266 g""Ep  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 (mioKO )?v  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 \}!/z]u  
9.2.5各种三维掩模模型_277 i v.G  
9.3晶圆形貌效应_279 :sttGXQX  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 1B@7#ozWA?  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 cdN=HM~I  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 l h6N3d  
9.4小结_283 F:~@e(  
参考文献_283 r]U8WM3r  
&Mz]y?k'  
第10章先进光刻中的随机效应 r`pf%9k  
10.1随机变量和过程_288 ]<K"`q2  
10.2现象_291 ,N nh$F  
10.3建模方法_294 RRQIlI<  
10.4依存性及其影响_297 yMC6 Gvp  
10.5小结_299 qFl|q0\ A  
参考文献_299 lBa` nG  
专业词汇中英文对照表 aj/+#G2  
4$81ilBcL  
谭健 2023-05-21 15:58
好书籍，不错的分享 FlUO3rc|  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享，nice
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