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cyqdesign 2023-04-12 19:25

《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 k( l  
I4'mU$)U  
[attachment=117279]
N&g9z{m7  
Yw7+wc8R  
EfA*w/y  
第1章光刻工艺概述 m(Ghe2T:  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 H]e%8w))0  
1.2光刻技术的发展史_3 ;xF5P'T?|  
1.3投影光刻机的空间成像_5 9pAklD4  
1.4光刻胶工艺_10 = 7%1]  
1.5光刻工艺特性_12 H9nVtS{x  
1.6小结_18 Jlgo@?Lc  
参考文献_18 F-i`GMWC  
Vk%[N>  
第2章投影光刻的成像原理 \uxDMKy  
2.1投影光刻机_20 yVA<-PlS<  
2.2成像理论_21 ,>(/}=Z.  
2.2.1傅里叶光学描述_21 /G)Y~1ASA%  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 ?kBi9^)N4  
2.2.3其他成像仿真方法_30 ')C %CAYW  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 cQkH4>C~  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 W vh3Y,|3  
2.3.2影响_36 Gvg)@VNr  
2.4小结_39 ,\*PpcU  
参考文献_39 m$nT#@l5bH  
OO)m{5r,{  
第3章光刻胶 xWkCP2$?P  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 :4 9ttJl  
3.1.1光刻胶的分类_42 (`S32,=TS  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 9 Yv;Dom  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 s7j#Yg  
3.1.4现象学模型_48 8@`"ZzM  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 !uaV6K  
3.2.1技术方面_50 a/ d'(]  
3.2.2曝光_51 N}`.N  
3.2.3曝光后烘焙_54 1J$sIY,Ou  
3.2.4化学显影_58 -$Y@]uf^  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 EPx_xX  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 7WZ).,qxY  
3.5小结_68 "4W@p'  
参考文献_69 Oc\Bu6F  
43cdWd%  
第4章光学分辨率增强技术 EW;R^?Z  
4.1离轴照明_74 Y@)iPK@z  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 osKM3}Sb  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 r>v_NKS]t  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 C@!C='b,  
4.2光学邻近效应校正_81 _T[=7cn  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 $nR1AOm}.B  
4.2.2线端缩短补偿_84 gFk~SJd  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 V6)e Jy  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 4 VtI8f!  
4.3相移掩模_89 W zM9{c  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 &(H;Bin'  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 1pe eecE  
4.4光瞳滤波_100 ?m&?BsW$)  
4.5光源掩模协同优化_102 J*)Vpk  
4.6多重曝光技术_106 j$Ttoo  
4.7小结_109 QbGc 9MM  
参考文献_110 6=V&3|"  
Jt4&%b-T  
第5章材料驱动的分辨率增强 &Nf10%J'<  
5.1分辨率极限的回顾_115 y*ae 5=6(  
5.2非线性双重曝光_119 z+ybtS>pZ  
5.2.1双光子吸收材料_119 . J"g.Q  
5.2.2光阈值材料_120 ')pXQ  
5.2.3可逆对比增强材料_121 KA)9&6  
5.3双重和多重成形技术_124 8K qrB!  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 J23Tst#s  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 >T*/[{L8;  
5.3.3自对准双重成形_126 W,</  
5.3.4双色调显影_127 6nxX~k  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 tb;!2$  
5.4定向自组装_129 f.?p"~!  
5.5薄膜成像技术_133 r^3QDoy  
5.6小结_135 " 9=F/o9  
参考文献_135 *P4G}9B|9:  
<5qXC.{Cyp  
第6章极紫外光刻 O*MC"%T  
6.1EUV光源_141 9NCo0!Fb  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 a]NQlsE}l  
6.3EUV掩模_146 U=_O*n?N-d  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 g'G"`)~ 2  
6.5EUV光刻胶_156 IipG?v0z~  
6.6EUV掩模缺陷_157 @^47Qgj8 U  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 GX4HW \>a  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 H8[ L:VeNT  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ia.95H;  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 _YVp$aKDR  
6.8小结_167 Gc=#  
参考文献_168 c"X`OB  
N?`-$C ]  
第7章投影成像以外的光刻技术 [a~|{~?8  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 cx?XJ)  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 wOH$S=Ba5,  
7.1.2技术实现_179 8BnI0l=\  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 xL,;(F\^  
7.2无掩模光刻_186 j6wdqa9!~  
7.2.1干涉光刻_186 UEeD Nl$^u  
7.2.2激光直写光刻_189 O][R "5d  
7.3无衍射限制的光刻_194 ?+Sjt  
7.3.1近场光刻_195 YEGRM$'`  
7.3.2利用光学非线性_198 --SlxV/x  
7.4三维光刻_203 k@1\ULo  
7.4.1灰度光刻_203 J!sIxwF  
7.4.2三维干涉光刻_205 S]^`Qy)  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 _~m@ SI  
7.5浅谈无光刻印_209 `9;:mR $  
7.6小结_210 1#H=<iJ  
参考文献_211 AH$D./a  
JTuU}nm+  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 VUF^ r7e  
8.1实际投影系统中的波像差_220  uY]nqb  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 . IBy'  
8.1.2波前倾斜_226 @y,pf Wh`  
8.1.3离焦像差_226 |/,XdTSy  
8.1.4像散_228 Bny3j~*U  
8.1.5彗差_229 }?zy*yL  
8.1.6球差_231 Hk'D@(h S  
8.1.7三叶像差_233 -LAYj:4  
8.1.8泽尼克像差小结_233 )H&rr(  
8.2杂散光_234 qx3@]9  
8.2.1恒定杂散光模型_235 }E626d}uA  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 Zo}O,;(F5  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 eh=.Q<N  
8.3.1掩模偏振效应_240 s!* m^zx  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 ay}} v7)GM  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 E/MD]ox  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ?kfLOJQ:I  
8.3.5偏振照明_248 sem:"  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 jqULg iC  
8.5小结_250 APydZ  
参考文献_251 R"NR-iU  
&s.S) 'l4l  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 .!yXto:  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 ]"Y? ZS;H  
9.1.1时域有限差分法_257 *3;H6   
9.1.2波导法_260 6CoDn(+z  
9.2掩模形貌效应_262 $n |)M+d  
9.2.1掩模衍射分析_263 :\I88 -N@'  
9.2.2斜入射效应_266 j9FG)0  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 <Sm@ !yx  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 DEj6 ky  
9.2.5各种三维掩模模型_277 (* WO<V  
9.3晶圆形貌效应_279 DbRq,T  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 < {1'cx  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 0Z.bd=H  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 : b9X?%L~  
9.4小结_283 *&7F(  
参考文献_283 >K<n~;ON|  
hfUN~89;  
第10章先进光刻中的随机效应 mQ# 0c_  
10.1随机变量和过程_288 J9+< 9g4-t  
10.2现象_291 .UJp#/EHs  
10.3建模方法_294 ?];?3X~|  
10.4依存性及其影响_297 ''Lf6S`4X~  
10.5小结_299 =1qM`M   
参考文献_299 )YSS>V  
专业词汇中英文对照表 ]iP  +Y  
o Ho@rGU  
谭健 2023-05-21 15:58
好书籍，不错的分享 ozF173iI  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享，nice
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