首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 《光学光刻和极紫外光刻》 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

cyqdesign 2023-04-12 19:25

《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不繁琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 >!gW]{  
dfa^5`_  
[attachment=117279]
-s!cZ3  
*#| lhf'  
6p}dl>T_y  
第1章光刻工艺概述 rIhe}1  
1.1微型化: 从微电子到纳米技术_1 /7o{%~O  
1.2光刻技术的发展史_3 ~stG2^"[  
1.3投影光刻机的空间成像_5 &~ .n}h&  
1.4光刻胶工艺_10 B7u4e8(E*  
1.5光刻工艺特性_12 3c|u2Pl  
1.6小结_18  9EU0R H  
参考文献_18 u]uUm1Er  
BMJsR0  
第2章投影光刻的成像原理 KB\A<(o,  
2.1投影光刻机_20 F5(DA  
2.2成像理论_21 Yo^9Y@WDW  
2.2.1傅里叶光学描述_21 <`P7^ 'z!  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 'k1vV  
2.2.3其他成像仿真方法_30 +p\+ 15  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 C"[d bh!  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 ro8c-[V  
2.3.2影响_36 GX@=b6#-  
2.4小结_39 bPL.8hX   
参考文献_39 <AN=@`+  
gc"A Tc  
第3章光刻胶 Dx*tolF  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 i9O;D*  
3.1.1光刻胶的分类_42 w dpd`  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45  ()`cW>[  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 -n#fj;.2_  
3.1.4现象学模型_48 }P(<]UF  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 5@/hqOiu  
3.2.1技术方面_50 tsys</E&  
3.2.2曝光_51 v9K=\ j  
3.2.3曝光后烘焙_54 BHrNDpv  
3.2.4化学显影_58 }48 o{\  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 1!"iN~  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 37U$9]  
3.5小结_68 TMAart; <  
参考文献_69 U_oei3QP  
mgL{t"$c  
第4章光学分辨率增强技术 eZ`x[g%1  
4.1离轴照明_74 F*{1, gb  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 h#?)H7ft  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 X6 SqOb\(a  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 71wtO  
4.2光学邻近效应校正_81 1_MaaA;ow"  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 r(i!".Z  
4.2.2线端缩短补偿_84 ZD`p$:pT  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 &$<7]a\dM  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 _fmOTz G  
4.3相移掩模_89 Bm:N@wg  
4.3.1强相移掩模: 交替型相移掩模_90 #Ab,h#f*7  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 =+>^:3cCQ  
4.4光瞳滤波_100 96 P3B}Dk  
4.5光源掩模协同优化_102 hutdw>  
4.6多重曝光技术_106 %YV3-W8S0  
4.7小结_109 nZP%Z=p7  
参考文献_110 -xMM}r y  
Q2jl61d_9  
第5章材料驱动的分辨率增强 $?Z-BD1  
5.1分辨率极限的回顾_115 DFN  
5.2非线性双重曝光_119 .~jn N  
5.2.1双光子吸收材料_119 ?I}0[+)V  
5.2.2光阈值材料_120 Ps=<@,dks  
5.2.3可逆对比增强材料_121 ,.-85isco  
5.3双重和多重成形技术_124 aX,ux9#  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 =Xu(Js-  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 -$@4e|e%a  
5.3.3自对准双重成形_126 OdHl)"#  
5.3.4双色调显影_127 m[E#$JZtG  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 j`LvS  
5.4定向自组装_129 %o4HCzId<  
5.5薄膜成像技术_133 n}!D)Gx  
5.6小结_135 n.tJ-l5[  
参考文献_135 r}~|,O3bc'  
Y&y5^nG  
第6章极紫外光刻  vgbk {  
6.1EUV光源_141 UukHz}(E  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 e_z"<yq  
6.3EUV掩模_146 :j4i(qcF  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 bP3S{Jt-|  
6.5EUV光刻胶_156 ppXt8G3% x  
6.6EUV掩模缺陷_157 * u{CnH  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 xjO((JC  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 81&5g'  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162  EWn\ ]f|  
6.7.3低k1技术: EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 gW_^GrKpI  
6.8小结_167 I$vM )+v=  
参考文献_168 Mg^.~8\d e  
{H$m1=S  
第7章投影成像以外的光刻技术 }Pf7YuUZZ  
7.1非投影式光学光刻: 接触式和接近式光刻_176 69K*]s  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 .>bvI1  
7.1.2技术实现_179 :"e,& %  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 7\p<k/TS  
7.2无掩模光刻_186 @o6^"  
7.2.1干涉光刻_186 ?Rg8u  
7.2.2激光直写光刻_189 3t^r;b  
7.3无衍射限制的光刻_194 wD'LX  
7.3.1近场光刻_195 "i3Q)$"S  
7.3.2利用光学非线性_198 T.R(  
7.4三维光刻_203 Tx!c }  
7.4.1灰度光刻_203 '@Q aeFm  
7.4.2三维干涉光刻_205 8 ?+t+m[  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 .-W_m7&}  
7.5浅谈无光刻印_209 DGllJ_/Z  
7.6小结_210 #w<:H1,4  
参考文献_211 Vg^@6zU  
\JX.)&> -  
第8章光刻投影系统: 高级技术内容 c7$U0JO  
8.1实际投影系统中的波像差_220 2~BId&]  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 &:ib>EB03=  
8.1.2波前倾斜_226 B\z4o\am%  
8.1.3离焦像差_226 7 *#pv}Y  
8.1.4像散_228 rBUdHd9  
8.1.5彗差_229 Axtf,x+lH  
8.1.6球差_231 !Qd4Y=  
8.1.7三叶像差_233 |K%nVcR=  
8.1.8泽尼克像差小结_233 ,'69RL?-Wg  
8.2杂散光_234 1]l m0bfs  
8.2.1恒定杂散光模型_235 Tfba3+V  
8.2.2功率谱密度(PSD)杂散光模型_236 |Skxa\MI  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 &%/kPF~<  
8.3.1掩模偏振效应_240 9G'Q3? z  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 WV'FW)%  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 @'yD(ZMAz  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 X(;,-7Jw  
8.3.5偏振照明_248 b1A8 -![  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 oU.LYz_  
8.5小结_250 I}aiy.l  
参考文献_251 =Qcz:ng  
Jm+hDZrW  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 T"2D<7frbo  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 >/DyR+?>4  
9.1.1时域有限差分法_257 -$]Tn#`Fb  
9.1.2波导法_260 MOIH%lpe  
9.2掩模形貌效应_262 }"'^.FG^_  
9.2.1掩模衍射分析_263 IaU  
9.2.2斜入射效应_266 7xOrG],E  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 N:y3tpG  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 4D`T_l  
9.2.5各种三维掩模模型_277 %-6I  
9.3晶圆形貌效应_279 YAIDSZ&l[  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 +##b}?S%  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ,\|W,N}~  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 l(T CF  
9.4小结_283 C NNyz$  
参考文献_283 pOCLyM9c  
/l,V0+p  
第10章先进光刻中的随机效应 y6lle<SIu  
10.1随机变量和过程_288 SY` U]-h  
10.2现象_291 62&(+'$n  
10.3建模方法_294 DFz,>DM;  
10.4依存性及其影响_297 =-`}(b2N  
10.5小结_299 \S)\~>.`y!  
参考文献_299 ['MG/FKuv  
专业词汇中英文对照表 _M/ckv1q@  
1A4!zqT;  
谭健 2023-05-21 15:58
好书籍,不错的分享 cp0@wC#d  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享,nice
查看本帖完整版本: [-- 《光学光刻和极紫外光刻》 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计