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cyqdesign 2023-04-12 19:25

《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 TY."?` [FK  
DFgQ1:6[  
[attachment=117279]
~[_u@8l!mN  
0}'xoYv f  
50s1o{xwc  
第1章光刻工艺概述 /|<Pn!}J  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 4YuJ-  
1.2光刻技术的发展史_3 wMW."gM|  
1.3投影光刻机的空间成像_5 #x?Ku\ts  
1.4光刻胶工艺_10 3V(]*\L  
1.5光刻工艺特性_12 *^ZJ&.  
1.6小结_18 .tdaj6x  
参考文献_18 O'm5k l  
 i/vo  
第2章投影光刻的成像原理 *1H8 &  
2.1投影光刻机_20 ty"|yA  
2.2成像理论_21 3X;k c>  
2.2.1傅里叶光学描述_21 e(=() :4is  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 Fb!Ew`;QT  
2.2.3其他成像仿真方法_30 6"h,0rR  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 ]9 JLu8GO  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 \aN*x  
2.3.2影响_36  uc<JF=  
2.4小结_39 |rgp(;iO  
参考文献_39 _VUG!?_D$5  
]<3n;*8k?  
第3章光刻胶 %.h&W;  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 `WUyffS/!  
3.1.1光刻胶的分类_42 yTxrbE  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 _xefFy  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 CN{xh=2qY[  
3.1.4现象学模型_48 qj7 }]T_  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 >\7M f@c  
3.2.1技术方面_50 22T\ -g{  
3.2.2曝光_51 RoFOjCc>D.  
3.2.3曝光后烘焙_54 2q NA\-0i>  
3.2.4化学显影_58 :>|dE%/e$  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 ~n"?*I`  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 Ka_g3  
3.5小结_68 f:K>o .  
参考文献_69 w+wg)$i  
fTOGW`s^  
第4章光学分辨率增强技术 03/mB2|TF(  
4.1离轴照明_74 V0<g$,W=  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 8\X-]Gh\^  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 M!/!*,~  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 qs%UJ0tR  
4.2光学邻近效应校正_81 eJ%b"H!  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 /V {1Zw=  
4.2.2线端缩短补偿_84 IAHQT < ]  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 : 5X^t  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 }G)2HTaZ  
4.3相移掩模_89 64L;np>  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 5SMV3~*P  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 2<T/N  
4.4光瞳滤波_100 .OpG2P  
4.5光源掩模协同优化_102 lu?:1V-  
4.6多重曝光技术_106 I7#^'/  
4.7小结_109 `h'7X(  
参考文献_110 T)I\?hqTB  
Xw#"?B(M]  
第5章材料驱动的分辨率增强 #Dea$  
5.1分辨率极限的回顾_115 3L CT-rp  
5.2非线性双重曝光_119 8RI'Fk{  
5.2.1双光子吸收材料_119 ;:,U]@  
5.2.2光阈值材料_120 @#p6C  
5.2.3可逆对比增强材料_121 I 6'!b/  
5.3双重和多重成形技术_124 ?Dl;DE1  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 ' Tk4P{  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 S"t\LB*'Ls  
5.3.3自对准双重成形_126 Ne)3@?  
5.3.4双色调显影_127 Uc, J+j0F  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 wmA TV/  
5.4定向自组装_129 t#VX#dJ  
5.5薄膜成像技术_133 g%V#Z`*|  
5.6小结_135  sd"eu  
参考文献_135 R,s}<N$  
va:<W H  
第6章极紫外光刻 ifNyVE Hy  
6.1EUV光源_141 T/.UMw  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 =A*a9c2  
6.3EUV掩模_146 Lq62  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 ~Zn|(  
6.5EUV光刻胶_156 H#u N&^+H  
6.6EUV掩模缺陷_157 "L;@qCfhO  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 ))dw[Xa  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 Peo-t*-06  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 k 1a?yH)=  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 l^^Z}3^Rk  
6.8小结_167 #].q jOj  
参考文献_168 :7i x`C2  
Vh1y]#w  
第7章投影成像以外的光刻技术 %JH/|mA&|  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 @u`W(Ow  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 ~ MsHV%  
7.1.2技术实现_179 3:G$Y: #P  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 cs7^#/3<  
7.2无掩模光刻_186 -\USDi(  
7.2.1干涉光刻_186 xkRS?Q g  
7.2.2激光直写光刻_189 B9Mp3[   
7.3无衍射限制的光刻_194 +V(^ "Z~  
7.3.1近场光刻_195 spTz}p^\O  
7.3.2利用光学非线性_198 XdmpfUR,13  
7.4三维光刻_203 [y}h   
7.4.1灰度光刻_203 Td|u-9OM  
7.4.2三维干涉光刻_205 c|(J%@B)  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 Lyf5Yf([-  
7.5浅谈无光刻印_209 8AuE:=?,,  
7.6小结_210 $P#x>#+[A  
参考文献_211 $f _C~O  
 4Y}Nu  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 .vctuy&  
8.1实际投影系统中的波像差_220 .zl[nx[9"D  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 *];QPi~  
8.1.2波前倾斜_226 " dGN0i  
8.1.3离焦像差_226 {* :^K\-  
8.1.4像散_228 oc]:Ty  
8.1.5彗差_229 )hl7)~S<  
8.1.6球差_231 n.qT7d(  
8.1.7三叶像差_233 %[5GGd5w  
8.1.8泽尼克像差小结_233 rM^2yr7H  
8.2杂散光_234 +Adk1N8  
8.2.1恒定杂散光模型_235 iqdU?&.;  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 W!R0:-  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 5jso)`IL  
8.3.1掩模偏振效应_240 \+nV~Pi"A  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 maDWV&Db  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 -.y1]4  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 ,}]v7DD  
8.3.5偏振照明_248 |1tpXpe  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 ZgG~xl\My  
8.5小结_250 VBix8|  
参考文献_251 T9%|B9FeJ  
S5u$I  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 NJE*/_S  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 Hi=</ Wy;  
9.1.1时域有限差分法_257 _k26(rdI@-  
9.1.2波导法_260 q^<HG]  
9.2掩模形貌效应_262 GS=E6  
9.2.1掩模衍射分析_263 = c Z24I  
9.2.2斜入射效应_266 9Q}g Vqn  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 |hw.nY]J  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 n[gE[kw  
9.2.5各种三维掩模模型_277 De^:9<{jc  
9.3晶圆形貌效应_279 :H3/+/x  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 A-:k4] {%P  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 lq"X_M$  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 g hmn3  
9.4小结_283 H7.l)'  
参考文献_283 h2T\%V_j  
+a^gC  
第10章先进光刻中的随机效应 65dMv*{  
10.1随机变量和过程_288 gN />y1{a  
10.2现象_291 7@>/O)>(AS  
10.3建模方法_294 ~WTkX(\  
10.4依存性及其影响_297 GJZjQH-#P  
10.5小结_299 'nGUm[vh  
参考文献_299 ("t'XKP&N  
专业词汇中英文对照表 +pme]V|<  
Ad>81=Z  
谭健 2023-05-21 15:58
好书籍，不错的分享 cjPXrDl{\  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享，nice
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