首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 光电资讯及信息发布 -> 《光学光刻和极紫外光刻》 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

cyqdesign 2023-04-12 19:25

《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著,内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上,涵盖了全面又丰富的内容;在论述光刻技术的物理机制和数学模型时,采用了完整而不繁琐的方法,增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后,还专门开辟章节,介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点,揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点,它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 ]?K. S6  
$k%Z$NSN=  
[attachment=117279]
@PSLs *  
-d=WV:G%e  
a9Y5  
第1章光刻工艺概述 8Vn4.R[vE  
1.1微型化: 从微电子到纳米技术_1 $>q@SJ1q  
1.2光刻技术的发展史_3 a`c:`v2o  
1.3投影光刻机的空间成像_5 ^}$O|t  
1.4光刻胶工艺_10 Im?LIgt$  
1.5光刻工艺特性_12 =RKSag&  
1.6小结_18 8@\7&C(g17  
参考文献_18 i.y)mcB4  
;[ 'a  
第2章投影光刻的成像原理 <02m%rhuW  
2.1投影光刻机_20 K5 KyG  
2.2成像理论_21 iiC!|`k"  
2.2.1傅里叶光学描述_21 GbZ;#^S  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 z5 m>H;P  
2.2.3其他成像仿真方法_30 l#qv 5f  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 7Y( 5]A9=  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 Da1aI]{I  
2.3.2影响_36 Xm!-~n@-m7  
2.4小结_39 KZ:hKY@q  
参考文献_39 '7 )"  
!0}\&<8/m  
第3章光刻胶 <48<86TP  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 0L-!! c3  
3.1.1光刻胶的分类_42 zI;0&  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 ccJM>9  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 ULqoCd%bK  
3.1.4现象学模型_48 nsuX*C7  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 TnH\O$  
3.2.1技术方面_50 nt :N!suP3  
3.2.2曝光_51 3iX?~  
3.2.3曝光后烘焙_54 >Aq:K^D/3F  
3.2.4化学显影_58 iCQ>@P]nE  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 A%bCMP  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 ,H kj1x  
3.5小结_68 !{%:qQiA  
参考文献_69 DXR:1w[^  
E/b"RUv}h  
第4章光学分辨率增强技术 ku&k'V  
4.1离轴照明_74 j?i#L}.I  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 f'Mop= .  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 ,FSrn~-j9  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 !q"cpL'4  
4.2光学邻近效应校正_81 &#{dWObh  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 L"(4R^]  
4.2.2线端缩短补偿_84 V!/:53  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 e@<?zS6  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 7(a2L&k^  
4.3相移掩模_89 Dl\`  
4.3.1强相移掩模: 交替型相移掩模_90 =d`5f@'rl  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 hGTV;eU  
4.4光瞳滤波_100 qSU| =  
4.5光源掩模协同优化_102 PL=^}{r  
4.6多重曝光技术_106 I:j3sy  
4.7小结_109 >bo'Y9C  
参考文献_110 Gu0 ,)jy\  
aAt>QxGQW  
第5章材料驱动的分辨率增强 cntco@  
5.1分辨率极限的回顾_115 Li{~=S@N*  
5.2非线性双重曝光_119 19e8  
5.2.1双光子吸收材料_119 Tny> D0Z#  
5.2.2光阈值材料_120 P5 <vf  
5.2.3可逆对比增强材料_121 }?8uH/+ZA  
5.3双重和多重成形技术_124 $7Jo8^RE  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 KA s1(oG  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 vIGw6BJI  
5.3.3自对准双重成形_126 'fd1Pj9~$  
5.3.4双色调显影_127 J5M+FwZq  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 tOl e>]  
5.4定向自组装_129 uKr1Z2  
5.5薄膜成像技术_133 BRRj$)u  
5.6小结_135 z_|oCT!6  
参考文献_135  Ukz;0q  
E2wz(,@  
第6章极紫外光刻 y(jg#7)  
6.1EUV光源_141 ~p1EF;4#  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 f:JlZ&  
6.3EUV掩模_146 /B3R1kNf|  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 },$0&/>ft  
6.5EUV光刻胶_156 ` |Z}2vo;j  
6.6EUV掩模缺陷_157 tfO#vw,@  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 uRV<?y%  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 B^ 7eoW  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 ~l[r a  
6.7.3低k1技术: EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 %r{3wH# D@  
6.8小结_167 )(M7lq.e7  
参考文献_168 D=f7NVc>Q  
OW;tT=ql  
第7章投影成像以外的光刻技术 gk0.zz([  
7.1非投影式光学光刻: 接触式和接近式光刻_176 bzpFbfb  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 9=l.T/?sf  
7.1.2技术实现_179 A;XOT6jv?  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 p zw8T  
7.2无掩模光刻_186 1%[_`J;>Z  
7.2.1干涉光刻_186 8,T4lb<<  
7.2.2激光直写光刻_189 2 !1.E5.I  
7.3无衍射限制的光刻_194 }j5 a[L  
7.3.1近场光刻_195 SuBeNA[&  
7.3.2利用光学非线性_198 ,U,By~s  
7.4三维光刻_203 zk_Eb?mhwV  
7.4.1灰度光刻_203 AEirj /  
7.4.2三维干涉光刻_205 9Ru;`  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 K-vWa2  
7.5浅谈无光刻印_209 /hWd/H]  
7.6小结_210 ^y.nDs%ZT7  
参考文献_211 +]xFoH  
BcWcdr+}9  
第8章光刻投影系统: 高级技术内容 `1` f*d v  
8.1实际投影系统中的波像差_220 9;t]Hp_+K  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 yGBQ0o7E  
8.1.2波前倾斜_226 `NRH9l>B7  
8.1.3离焦像差_226 zR6siAV9  
8.1.4像散_228 l U]un&[N  
8.1.5彗差_229 jF"YTr6  
8.1.6球差_231 @~ Dh'w2q  
8.1.7三叶像差_233 GV|9H]_,I  
8.1.8泽尼克像差小结_233 8ip7^  
8.2杂散光_234 9-1#( Y6S  
8.2.1恒定杂散光模型_235 8kL4~(hY  
8.2.2功率谱密度(PSD)杂散光模型_236 0BPMmk  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 7v}x?I  
8.3.1掩模偏振效应_240 WKM)*@#,  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 V~MiO.B  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 u^W2UE\  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 .\3`2  
8.3.5偏振照明_248 o5o^TW{  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 7k%T<;V  
8.5小结_250 \t4tiCw  
参考文献_251 zJlQ_U-!  
j=+"Qz/hr_  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 mg:!4O$K  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 4NR@u\S  
9.1.1时域有限差分法_257 G* b2,9&F  
9.1.2波导法_260 A~ (l{g  
9.2掩模形貌效应_262 34|a\b}  
9.2.1掩模衍射分析_263 {i~8 :  
9.2.2斜入射效应_266 hjx)D  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 Btt]R  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 9.O8/0w7LV  
9.2.5各种三维掩模模型_277 Bvjl-$m!v  
9.3晶圆形貌效应_279 ygZ  #y L  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 `\Ku]6J]5  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 f7de'^t9  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 dj6*6qX0'^  
9.4小结_283 S]3Ev#>  
参考文献_283 Rhzn/\)|  
~|Y>:M+0Z  
第10章先进光刻中的随机效应 g+8hp@a  
10.1随机变量和过程_288 9a$56GnW1  
10.2现象_291 X26   
10.3建模方法_294 " K*  
10.4依存性及其影响_297 SF ]@|  
10.5小结_299 7sNw  
参考文献_299 lG<hlYckv  
专业词汇中英文对照表 cp Ear  
oT95^y\9  
谭健 2023-05-21 15:58
好书籍,不错的分享 ^D67y%  
helengalaxy 2023-09-14 21:38
感谢分享
头哥给我球 2023-11-03 14:31
非常感谢楼主的分享,nice
查看本帖完整版本: [-- 《光学光刻和极紫外光刻》 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计