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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-03-27 08:45
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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内容简介
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Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
x{rt\OT
04s N4C
目录
*;Vq0a!
Preface 1
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内容简介 2
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目录 i
O1z>A
1 引言 1
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2 光学薄膜基础 2
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2.1 一般规则 2
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2.2 正交入射规则 3
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2.3 斜入射规则 6
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2.4 精确计算 7
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2.5 相干性 8
&5B+8>
2.6 参考文献 10
7 ir T6O<.
3 Essential Macleod的快速预览 10
_u>+H#
4 Essential Macleod的特点 32
|k8;[+
4.1 容量和局限性 33
}Eav@3h6
4.2 程序在哪里? 33
&rn,[w_F[
4.3 数据文件 35
q+K`+& @\
4.4 设计规则 35
5+U~ZW0|+
4.5 材料数据库和资料库 37
IflpM ]
4.5.1材料损失 38
HjK|9
4.5.1材料数据库和导入材料 39
rJAY7/u
4.5.2 材料库 41
l6i 2!&8P%
4.5.3导出材料数据 43
D!:Qy@Zw
4.6 常用单位 43
`p!.K9r7
4.7 插值和外推法 46
h.67]U7m
4.8 材料数据的平滑 50
\UXQy{Ex
4.9 更多光学常数模型 54
L9x,G!
4.10 文档的一般编辑规则 55
`q F:rQ
4.11 撤销和重做 56
iB\d`NUf
4.12 设计文档 57
V@$B>HeK
4.10.1 公式 58
}Iu 6]?|'
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
=/zQJzN
4.10.3 沉积密度 59
O".#B
4.10.4 平行和楔形介质 60
rP*?a~<
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
3,pRmdC
4.10.4 性能 61
&B))3WFy
4.10.5 保存设计和性能 64
#oHHKl=M
4.10.6 默认设计 64
mk[n3oE1
4.11 图表 64
&R 0BuFL8
4.11.1 合并曲线图 67
[\I\).
4.11.2 自适应绘制 68
(j2]:BVu
4.11.3 动态绘图 68
_3)~{dQ+
4.11.4 3D绘图 69
A>X#[qx
4.12 导入和导出 73
towQoqv
4.12.1 剪贴板 73
M,l Ib9
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
`/0FXb 8h
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
-1fT2e
4.13 背景 77
U2G\GU1 X
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
V;>p@uE,P
4.15 生成Rugate 84
Z{%h6""
4.16 参考文献 91
%R}}1
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
P,,@&* :
5.1 Jobs 92
_v_ak4m>
5.2 创建一个新Job(工作) 93
XrYz[h*)!
5.3 输入材料 94
c: _l+CgeH
5.4 设计数据文件夹 95
[~$9n_O94
5.5 默认设计 95
'GAjx{gM
6 细化和合成 97
2 &R-zG
6.1 优化介绍 97
XWK A0
6.2 细化 (Refinement) 98
{AJspLcG
6.3 合成 (Synthesis) 100
*ozeoX'5D
6.4 目标和评价函数 101
ujHqwRh
6.4.1 目标输入 102
~]}7|VN.}
6.4.2 目标 103
ptX;-'j(
6.4.3 特殊的评价函数 104
y+@7k3"
6.5 层锁定和连接 104
iQ:]1H s
6.6 细化技术 104
=EFF2M`F
6.6.1 单纯形 105
&g|-3)A
6.6.1.1 单纯形参数 106
'r3I/qg*m
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
o ;.j_
6.6.2.1 Optimac参数 108
CmM K\R.
6.6.3 模拟退火算法 109
)~rN{W<s`H
6.6.3.1 模拟退火参数 109
k|1/gd5
6.6.4 共轭梯度 111
=! /S |
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
TN(1oJ:
6.6.5 拟牛顿法 112
MH1??vW
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
_bu, 1EM
6.6.6 针合成 113
HjLY\.S
6.6.6.1 针合成参数 114
|R DPx6!V
6.6.7 差分进化 114
]r{y+g|
6.6.8非局部细化 115
GJU84Xn7
6.6.8.1非局部细化参数 115
Wcw$ Zv
6.7 我应该使用哪种技术? 116
`9%@{Ryo
6.7.1 细化 116
B xq(+^T
6.7.2 合成 117
cV=h8F
6.8 参考文献 117
pGzzv{H
7 导纳图及其他工具 118
f8!*4Bw
7.1 简介 118
F:1w%#6av
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
#D&eov?
7.2.1 四分之一波长规则 119
+,f|Y6L<