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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-03-27 08:45
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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TOt dUO
内容简介
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Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
L0,'mS
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
l#o ~W`
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
1Mzmg[L8
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
qGo.WZ$
)7F/O3Tq
目录
?`s8 pPc4
Preface 1
dPlV>IM$z
内容简介 2
@JMiO^
目录 i
3fj4%P"
1 引言 1
tmq OJ
2 光学薄膜基础 2
iS^QTuk3%
2.1 一般规则 2
`yyG/l
2.2 正交入射规则 3
[y(MCf19
2.3 斜入射规则 6
pBHRa?Y5
2.4 精确计算 7
01]f2.5
2.5 相干性 8
_6Sp QW
2.6 参考文献 10
(`^1Y3&2
3 Essential Macleod的快速预览 10
Sjqpec8
4 Essential Macleod的特点 32
(.:e,l{U%
4.1 容量和局限性 33
e'~3oqSvR
4.2 程序在哪里? 33
>MZ/|`[M
4.3 数据文件 35
="+#W6bZT
4.4 设计规则 35
5m@V#2^P
4.5 材料数据库和资料库 37
#qki
4.5.1材料损失 38
ch]IzdD
4.5.1材料数据库和导入材料 39
kiEa<-]
4.5.2 材料库 41
HMXE$d=[
4.5.3导出材料数据 43
:WEDAFq0
4.6 常用单位 43
F9PxSk_\9
4.7 插值和外推法 46
_BufO7`.
4.8 材料数据的平滑 50
`5*}p#G
4.9 更多光学常数模型 54
dysS9a,
4.10 文档的一般编辑规则 55
00(\ZUj
4.11 撤销和重做 56
)0`C@um
4.12 设计文档 57
\bXa&Lq
4.10.1 公式 58
&oNAv-m^GD
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
$xsd~L&
4.10.3 沉积密度 59
VbYdZCC
4.10.4 平行和楔形介质 60
mh%VrAq
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
43cE`9~
4.10.4 性能 61
&=[WIG+rk
4.10.5 保存设计和性能 64
*. t^MP
4.10.6 默认设计 64
~%oR[B7=|
4.11 图表 64
g)-te+?6
4.11.1 合并曲线图 67
=pNY eR_[
4.11.2 自适应绘制 68
kh<2BOV
4.11.3 动态绘图 68
C!gZN9-
4.11.4 3D绘图 69
Cp N>p.kM
4.12 导入和导出 73
gXU8hTd8
4.12.1 剪贴板 73
+`4A$#$+y
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
sOY:e/_F
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
BT$_@%ea&
4.13 背景 77
@ Qe0! (_=
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
pH;%ELZ
4.15 生成Rugate 84
P?<y%c<
4.16 参考文献 91
SbZ6t$"
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
y_,bu^+*
5.1 Jobs 92
MV"=19]
5.2 创建一个新Job(工作) 93
+ZYn? #IQ
5.3 输入材料 94
)oZ dj`
5.4 设计数据文件夹 95
e20-h3h+
5.5 默认设计 95
`cO:<^%
6 细化和合成 97
gw(z1L5 n
6.1 优化介绍 97
%O<BfIZ
6.2 细化 (Refinement) 98
y`Fw-!'o
6.3 合成 (Synthesis) 100
WIOV2+
6.4 目标和评价函数 101
_F{C\}
6.4.1 目标输入 102
a*;b^Ze`v
6.4.2 目标 103
V&i;\ 9
6.4.3 特殊的评价函数 104
Ac6=(B
6.5 层锁定和连接 104
iLT}oKF2N;
6.6 细化技术 104
6*?F @D2&
6.6.1 单纯形 105
6~{C.No}
6.6.1.1 单纯形参数 106
)jj0^f1!j
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
oU|c.mYe
6.6.2.1 Optimac参数 108
:N@^?q{b
6.6.3 模拟退火算法 109
}G=M2V<L
6.6.3.1 模拟退火参数 109
e!`i3KYn"
6.6.4 共轭梯度 111
C~[,z.FvO
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
[lAp62i5
6.6.5 拟牛顿法 112
@x1-! ~z#
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
c,22*.V/
6.6.6 针合成 113
+p^u^a
6.6.6.1 针合成参数 114
V :eD]zq5
6.6.7 差分进化 114
=sFTxd_"iQ
6.6.8非局部细化 115
!wNO8;(
6.6.8.1非局部细化参数 115
<VcQ{F
6.7 我应该使用哪种技术? 116
fVwUe _Y
6.7.1 细化 116
wzaV;ac4K
6.7.2 合成 117
Mtv?:q
6.8 参考文献 117
H]!"Zq k
7 导纳图及其他工具 118
&zhAh1m
7.1 简介 118
GfG|&VNlz
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
!BI;C(,RL
7.2.1 四分之一波长规则 119
l,:F
7.2.2 导纳图 120
x"(KBEK~
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
*VeRVaBl
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
4YHY7J
7.5 斜入射导纳图 141
zQA`/&=Y
7.6 对称周期 141
HDKbF/
7.7 参考文献 142
07)yG:q*x
8 典型的镀膜实例 143
}Lv;!
8.1 单层抗反射薄膜 145
8Y3I0S
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
5r_|yu
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
-&;TA0~;
8.4 W-膜层 148
"ta x?
8.5 V-膜层 149
fh{`Mz,o
8.6 V-膜层高折射基底 150
C?Ucu]cW
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
J;%Xfx]
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
3F0 N^)@
8.9 四层抗反射薄膜 153
9cgUT@a
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
2%>FR4a
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
-+5>|N#
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
uMv1O{
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
j4b4!^fV
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
&R siVBA
8.15十五层宽带抗反射膜 159
[V!tVDs&'o
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
Ug`djIL
8.17 1/4波长堆栈 162
Wf<LR3
8.18 陷波滤波器 163
>MK98(F
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
]{ kPrey
8.20 褶皱 165
kl,3IKHa
8.21 消偏振分光器1 169
6Iw\c
8.22 消偏振分光器2 171
.KC++\{HE
8.23 消偏振立体分光器 172
V,9cl,z+
8.24 消偏振截止滤光片 173
8D].MI^
8.25 立体偏振分束器1 174
8] ikygt"
8.26 立方偏振分束器2 177
~v83pu1!2s
8.27 相位延迟器 178
Th[dW<