设计和分析GRIN扩散器
1.建模任务 IcP)FB4 gh`m*@ 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 !$2Z-! 设计包括两个步骤: &aM7T_h8 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 "G>3QL+O| - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 A5,t+8`aci 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 4'W '}o|{ sGvIXD R1&unm0 照明光束参数 !=;XBd- =b;>?dP zf3v5Hk 波长:632.8nm 2r$#m* 激光光束直径(1/e2):700um zMIT}$L NvM*h%ChM 理想输出场参数 ceNix!P aq7~QX_0G 5s(1[( JNcYJ[wqv 直径:1° 9@Cv5L?p\ 分辨率:≤0.03° cqxVAzb 效率:>70% Spt?>sm 杂散光:<20% ;#w3{
NB Vh>Z,()>>@ 2. 设计相位函数 P2Vg 4 E*i#?u D7_*k%;@ 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp e%W$*f 设计没有离散相位级的phase-only传输。 "`N-* ;*W !A48TgAeE 3.计算折射率调制 dH( ('u[ LdJYE;k Ju arf8xqR-U] ,@5I:X!rR 最大折射率调制 >M&3Y
XC △n=+0.05 V')0 Mr 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um \l~*PG2 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 qP<Lr)nUH 为得到细节请参见教程Tut565。 ?IpLf\n- 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 sJNFFOz m8.U &0 4.模拟结果 <tioJG{OT NIw\}[-Z0E
角强度分布 (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd) itMg|%B% 5.结论 p)+k=b VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 0]4(:(B 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 4!KoFoZt* 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 ^aW
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