设计和分析GRIN扩散器
1.建模任务 Z4i))%or tM]Gu?6 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。 kf'(u..G 设计包括两个步骤: v;\cM/&5 - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 $sY'=S - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 zwV!6xG 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。 Da 7(jA+ #//xOL3J 7dY_b 照明光束参数 i(|ug_^ y7>3hfn~w rci,&>L" 波长:632.8nm LL
e*|: 激光光束直径(1/e2):700um ];k!*lR) %nkP" Z# 理想输出场参数 (e'8>Pv LG:k}z/T %Lh%bqGz %/uLyCUZ 直径:1° #HgNwM 分辨率:≤0.03° q%x i>H.:{ 效率:>70% 2L&c91=wE 杂散光:<20% Z|C,HF+m. JlnmG<WLT 2. 设计相位函数 ]B )nN': LY0f`RX*& dXxf{|gk> 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp PV#h_X<l% 设计没有离散相位级的phase-only传输。 uMDd Zj& ZRf9 'UwS 3.计算折射率调制
ULt5Zi -u@ ^P7 <\epj=OclV =W7-;& 最大折射率调制 |aLK_]! △n=+0.05 oZ*?Uh * 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um KfjWZ4{v 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。 Z5v_- +K 为得到细节请参见教程Tut565。 "BT M,CB 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。 !M8_PC*a ta{24{?M\ 4.模拟结果 "9P @bA 4tkT\.
角强度分布 (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd) -]^JaQw 5.结论 [TA.|7& VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 E "=4( 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。 SY5}Bu# 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。 OvT[JpV
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