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2023-03-20 09:58 |
Macleod镀膜工具书
《Essential Macleod中文手册》 S|RpA'n 0gwm gc/# 目 录 >m2<Nl} k *G!. ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 /P?|4D}< 第1章 介绍 ..........................................................1 Cu
['&_@ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 lgv-)5|O+H 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 sT[av 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 r{/ G\ 第5章 软件结构 ............................................................... 21 5 CY_Ay\ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 y'0dl "Dy\ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 #TW>'lF 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 m>*A0&??[ 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 xnRp/I 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 sw=JUfAhy 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 l~Ie#vak 第12章 优化和综合 ..................................................................120 xZ S\#{ 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 @qO8Jg"Q 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 R[>;_}5"> 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 @sgT[P*ut 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 iX>!ju'V 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 :cmI"Bo 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Hl3XqR 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 .5KC'? 第20章 运行表单 .................................................................... 251 @
(u?=x; 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 Ddm76LS 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 4U! .UNi 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 <*r<+S 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 iw~V_y4 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 |U#w?eE= 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 &JXHDpd$a^ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 $cJN9|$6 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /n(bThDH 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 U$/Hp#~X ]"7DV3_ QS=$#Gp CtC`:!Q O"J.k&C<, {Hp}F!X$ 内容简介 )QSt7g|OF Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 x@ s`;qz 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 _iboTcUF 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \_I)loPc8 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 SJ~I
r# ,~j$rs`Z 目录 /c$Ht Preface 1 0w[0%:R^ 内容简介 2 VG'( 目录 i >NOYa3 1 引言 1 CN$A-sjZ 2 光学薄膜基础 2 gh #w%g1g 2.1 一般规则 2 }DUDA%U 2.2 正交入射规则 3 ad$Qs3)6o 2.3 斜入射规则 6 't]EkH]BC 2.4 精确计算 7 |YGiATD4DG 2.5 相干性 8 oCdOC5 2.6 参考文献 10 M(h H#_$ 3 Essential Macleod的快速预览 10 W$t}3Ru 4 Essential Macleod的特点 32 xu?QK6D: 4.1 容量和局限性 33 ^9*|_\3N 4.2 程序在哪里? 33 xXU/m| 4.3 数据文件 35 <<2b2?aS` 4.4 设计规则 35 s-N?Tzi 4.5 材料数据库和资料库 37 eRx[&-c 4.5.1材料损失 38 vs0H^L 4.5.1材料数据库和导入材料 39 + $a:X 4.5.2 材料库 41 UWWD8~: 4.5.3导出材料数据 43 5G] #yb74 4.6 常用单位 43 {O&liU4 4.7 插值和外推法 46 wpdEI( 4.8 材料数据的平滑 50 ?-F'0-t4% 4.9 更多光学常数模型 54 33KPo0g7 4.10 文档的一般编辑规则 55 UH^wyKbM 4.11 撤销和重做 56 g1*H|nh2 4.12 设计文档 57 uF3p1by 4.10.1 公式 58 WJSHLy<a 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 e$^!~+J7 4.10.3 沉积密度 59 $}UJs <-F 4.10.4 平行和楔形介质 60 'lRHdD}s 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ^R'!\m|FR 4.10.4 性能 61 q\HBAry 4.10.5 保存设计和性能 64 L{0OMyUA 4.10.6 默认设计 64 S,tVOxs^ 4.11 图表 64 @1ta`7# 4.11.1 合并曲线图 67 \HQb#f, 4.11.2 自适应绘制 68 4p.{G%h 4.11.3 动态绘图 68 cf!k
9x9Z 4.11.4 3D绘图 69 vzm4 4.12 导入和导出 73 ,sJfMY 4.12.1 剪贴板 73 =i5:*J 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 F Hcqu_;J 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ,M h/3DPgE 4.13 背景 77 u[|S*(P 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 l/UG+7 4.15 生成Rugate 84 8v=47G 4.16 参考文献 91 /bu<,o 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +\Mm
(Nd 5.1 Jobs 92 {uM{5GSL 5.2 创建一个新Job(工作) 93 $)7f%II 5.3 输入材料 94 h8-tbHgpb 5.4 设计数据文件夹 95 e&4wwP"`< 5.5 默认设计 95 xAz4ZXj=q 6 细化和合成 97 FC(cXPX} 6.1 优化介绍 97 =+=|{l?F 6.2 细化 (Refinement) 98 kGq f@
I+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 >(ww6vk2 6.4 目标和评价函数 101 ,$qs9b~ 6.4.1 目标输入 102 (l_de)N7 6.4.2 目标 103 nW%=k!'' 6.4.3 特殊的评价函数 104 <r`Jn49 6.5 层锁定和连接 104 lKwT5ma7 6.6 细化技术 104 @Be:+01z 6.6.1 单纯形 105 !X <n:J 6.6.1.1 单纯形参数 106 !skiD}zd1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 hPpXB:(-0 6.6.2.1 Optimac参数 108 S^VV^O5 ^ 6.6.3 模拟退火算法 109 QIV~)`; 6.6.3.1 模拟退火参数 109 GXK?7S0H 6.6.4 共轭梯度 111 3M*[a~ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 oNsx Fi: 6.6.5 拟牛顿法 112 ^k<$N 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 p2vUt 6.6.6 针合成 113 (a!,) 6.6.6.1 针合成参数 114 mT~>4xi0 6.6.7 差分进化 114 w&cyGd D5 6.6.8非局部细化 115 f4I9H0d;! 6.6.8.1非局部细化参数 115 y"-{6{3 6.7 我应该使用哪种技术? 116 c] R![sa 6.7.1 细化 116 uPv?Hq 6.7.2 合成 117 jeFl+K'1 6.8 参考文献 117 uWj-tzu 7 导纳图及其他工具 118 H&IP>8Dk 7.1 简介 118 [:S F(*} 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Q%1;{5 7.2.1 四分之一波长规则 119 G&3<rT3Ib 7.2.2 导纳图 120 h#ot)m|I 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 b}*bgx@< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 O~0
1)% 7.5 斜入射导纳图 141 13kb~'+&r 7.6 对称周期 141 d$~b` 7.7 参考文献 142 PQ1NQy8 8 典型的镀膜实例 143 -y*+G& 8.1 单层抗反射薄膜 145 ,ToEKId 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :{Z^ _;Tf 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8N_rJ)f 8.4 W-膜层 148 ZSt
ww{Z 8.5 V-膜层 149 2A
,36, 8.6 V-膜层高折射基底 150 K3D $
hb 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 K+OU~SED%F 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 {[~,q\M[ 8.9 四层抗反射薄膜 153 i}"JCqo2 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 5c7a\J9> 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 n7uD(cL 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 GTNTx5H 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 @cGql=t 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 JCfToFB 8.15十五层宽带抗反射膜 159 3U$fMLx]k 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 D9C; JD 8.17 1/4波长堆栈 162 O_Q,!&*6 8.18 陷波滤波器 163 ,SwaDWNO 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Wh_c<E}& 8.20 褶皱 165 }!Lr!eALr 8.21 消偏振分光器1 169 QjU"|$ 8.22 消偏振分光器2 171 >C3 9`1 8.23 消偏振立体分光器 172 0pOha(,~ 8.24 消偏振截止滤光片 173 .&.CbE8K[ 8.25 立体偏振分束器1 174 u;g}N'" 8.26 立方偏振分束器2 177 @R{&>Q:. 8.27 相位延迟器 178 0O4mA&&!oK 8.28 红外截止器 179 ,_zt?o\ 8.29 21层长波带通滤波器 180 gMn)<u > 8.30 49层长波带通滤波器 181 p~ItHwiT 8.31 55层短波带通滤波器 182 _0E,@[ 8.32 47 红外截止器 183 tH(#nx8 8.33 宽带通滤波器 184 i( HhL& 8.34 诱导透射滤波器 186 *2;3~8Y 8.35 诱导透射滤波器2 188 E5Jk+6EcMa 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 >,vuC4v- 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 jqedHnx 8.35 增益平坦滤波器 193 r
|/9Dn% 8.38 啁啾反射镜 1 196 h+(s/o?\ 8.39 啁啾反射镜2 198 "O
"@HVF@ 8.40 啁啾反射镜3 199 _P1-d`b0 a 8.41 带保护层的铝膜层 200 /]&1 XT? 8.42 增加铝反射率膜 201 6suc:rp"; 8.43 参考文献 202 +Wc[$,vk 9 多层膜 204 5{TF6 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 ^)~M,rW8c 9.2 内部透过率 204 xW~@V)OH 9.3 内部透射率数据 205 #cb6~AH 9.4 实例 206 D(|$6J 0 9.5 实例2 210 q%Pnx_RB 9.6 圆锥和带宽计算 212 th,qq 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 "(qO}&b> 10 光学薄膜的颜色 216 l/LUwDI{ 10.1 导言 216 w2L)f,X 10.2 色彩 216 WgB,,L, 10.3 主波长和纯度 220 qa0Zgn5 q 10.4 色相和纯度 221 ]3'd/v@fT 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ZT#G:a 10.6 色差 226 Y~!@ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ~Y[1Me 10.8 颜色渲染指数 234 Fu$sfq 10.9 色差计算 235 z16++LKmM 10.10 参考文献 236 K<tg+(3 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 )j'b7)W\ 11.1 短脉冲 238 n>UvRn.7kz 11.2 群速度 239 /o2eKx 11.3 群速度色散 241 (%Rs&/vU~ 11.4 啁啾(chirped) 245 PYe>`X? 11.5 光学薄膜—相变 245 R?Qou!*] 11.6 群延迟和延迟色散 246 9HP--Z= 11.7 色度色散 246 v5o%y:~ 11.8 色散补偿 249 [geY:v_B 11.9 空间光线偏移 256 Jo0x/+?,+ 11.10 参考文献 258 d?n~9_9e 12 公差与误差 260 V*~5*OwB 12.1 蒙特卡罗模型 260 x&d<IU)5 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 _G|6xlO 12.2.1 误差工具 267 p
pq#5t^[) 12.2.2 灵敏度工具 271 xT/&'$@{) 12.2.2.1 独立灵敏度 271 \+\h<D-5 12.2.2.2 灵敏度分布 275 `UR.Rn/x 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 0% /M& N 12.3 参考文献 276 D[mYrWHpn 13 Runsheet 与Simulator 277 J,7\/O(`A 13.1 原理介绍 277 N.?Wev{ 13.2 截止滤光片设计 277 eMwf'*# 14 光学常数提取 289 'Vd>"ti 14.1 介绍 289 ^BZdR<; 14.2 电介质薄膜 289 8
_J:Yg 14.3 n 和k 的提取工具 295 21qhlkdc 14.4 基底的参数提取 302 ]nh)FMo 14.5 金属的参数提取 306 u(R`}C?P' 14.6 不正确的模型 306
EA\~m*k 14.7 参考文献 311 ~xCy(dL^} 15 反演工程 313 yT4|eHl 15.1 随机性和系统性 313 -]e@cevy 15.2 常见的系统性问题 314 sXWMXQ3 15.3 单层膜 314 C6`8dn
15.4 多层膜 314 -vyC,A 15.5 含义 319 ?=l(29tH 15.6 反演工程实例 319 &V"& | |