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2023-03-20 09:58 |
Macleod镀膜工具书
《Essential Macleod中文手册》 DWevg;_]$( R S_lQ{' 目 录 UHDI9>G~, 5@r Zm4U ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ~k<31 ez 第1章 介绍 ..........................................................1 9tW.}5V 第2章 软件安装 ..................................................... 3 i1H80m s 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 \/dm}' ` 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 Q)i`.mHfFI 第5章 软件结构 ............................................................... 21 5WNRo[`7 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 x@RA1&c 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 o_^d>Klb8 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ezy5Jqk5% 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 X;a{JjN 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 )jZ=/xG 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 4oEq,o_ 第12章 优化和综合 ..................................................................120 ^T1-dw( 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 0GR9C%"] 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ?F), 4Q 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 pD.@&J~ 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 "+JwS 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 1&L){ hg 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Y{:/vOj 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 m6ws#%|[ 第20章 运行表单 .................................................................... 251 CoN/L`.SN 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 $Lbe5d?\ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Br$PL&e~ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 U[ungvU1U 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 `G5wiyH}) 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 Y>m=cqR 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 [<I
`slK 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 2%yJo7f$[ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 %H~gN9Vn#@ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 )'CEWc% <;Z3
5{ 2cL)sP} A0k>Nb\c3 ZVR 9vw28 ?B!ZqJ# 内容简介 "4AQpD Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ._nKM5. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 491I 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 *w,gi.Y3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 "{xv|C<*n 1iW9?=a" 目录 >RnMzH/9 Preface 1 R51!j>[fqM 内容简介 2 +E[)@;T 目录 i 1}M.}G2u/ 1 引言 1 [1MEA; 2 光学薄膜基础 2
>U/g*[> 2.1 一般规则 2 OYy !4Fp 2.2 正交入射规则 3 @O @yJ{(I 2.3 斜入射规则 6 sYP@>tHC 2.4 精确计算 7 xAE@cwg 2.5 相干性 8 vp9<.*h 2.6 参考文献 10 /j@r~mt/pA 3 Essential Macleod的快速预览 10 -{%''(G 4 Essential Macleod的特点 32 291|KG 4.1 容量和局限性 33 j'x{j %U 4.2 程序在哪里? 33 GP'Y!cl 4.3 数据文件 35 ?zu{&aOX| 4.4 设计规则 35 I@M^Wu]wW 4.5 材料数据库和资料库 37 04d$_1:}a 4.5.1材料损失 38 cN>i3}fq 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -y.AJ~T 4.5.2 材料库 41 _?c.3+;s 4.5.3导出材料数据 43 ,e_# 4.6 常用单位 43 !c($ C 4.7 插值和外推法 46 Q0_W<+` 4.8 材料数据的平滑 50 -Lb^O/ 4.9 更多光学常数模型 54 EQ$9IaY. 4.10 文档的一般编辑规则 55 NyLnE 4.11 撤销和重做 56 ;VRR=p%, 4.12 设计文档 57 *b_54X%3 4.10.1 公式 58 jsQ$.)nO 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 VAt9JE;# 4.10.3 沉积密度 59 y*(j{0yd 4.10.4 平行和楔形介质 60 d]`,}vi#E9 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 )c !S@Hs 4.10.4 性能 61 ~ }22 Dvo 4.10.5 保存设计和性能 64 .Tv(1HAc2l 4.10.6 默认设计 64 (=/;rJ`q 4.11 图表 64 ;#j82 4.11.1 合并曲线图 67 i`'^ zR(`i 4.11.2 自适应绘制 68 R!G7;m'N1 4.11.3 动态绘图 68 EPRs%(w` 4.11.4 3D绘图 69 18`%WUPnT 4.12 导入和导出 73 AgJ~6tK 4.12.1 剪贴板 73 Am
$L 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 H/Q)zDP 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 J7vpCw2ni 4.13 背景 77 qT @IY)e 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 V}-o):dI| 4.15 生成Rugate 84 $t}1|q| 4.16 参考文献 91 I9>*Yy5RNS 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 yRkMR$5& 5.1 Jobs 92 0g-ESf``{n 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ^ni_%`Ag 5.3 输入材料 94 5 ZPUY 5.4 设计数据文件夹 95 "mK (?U!A 5.5 默认设计 95 EZBzQ"" 6 细化和合成 97 eS:e#>( 6.1 优化介绍 97 U^\~{X 6.2 细化 (Refinement) 98 G1tp 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~#\#!H7 6.4 目标和评价函数 101 ?%Fk0E#>2 6.4.1 目标输入 102 k^jCB>b 6.4.2 目标 103 'bPo 5V| 6.4.3 特殊的评价函数 104 8$Yf#;m[ 6.5 层锁定和连接 104 ze N!*VG 6.6 细化技术 104 KW^aARJ) 6.6.1 单纯形 105 IIiN1
Lu,5 6.6.1.1 单纯形参数 106 kELyD(^P` 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 g<%-n, 6.6.2.1 Optimac参数 108 *pp1Wa7O 6.6.3 模拟退火算法 109 g1, 6.6.3.1 模拟退火参数 109 %WR"85 6.6.4 共轭梯度 111 IoOnS) 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !3# }ZC2 6.6.5 拟牛顿法 112 ]M;! ])b$ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 \-w s[ 6.6.6 针合成 113 |>GIPfVT 6.6.6.1 针合成参数 114 ^iS:mt 6.6.7 差分进化 114 oW6<7>1M7 6.6.8非局部细化 115 ZRGZ'+hw 6.6.8.1非局部细化参数 115 vI}S6-"< 6.7 我应该使用哪种技术? 116 8-YrmP2k 6.7.1 细化 116 @8yFM% 6.7.2 合成 117 hATy3*4 6.8 参考文献 117 >nEnX 7 导纳图及其他工具 118 ! -@!u 7.1 简介 118 ,5*xE\9G 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Z]\^.x9S 7.2.1 四分之一波长规则 119 NI:N
W-! 7.2.2 导纳图 120 4LJ}>e 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 :/%xK" 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ][#*h`I 7.5 斜入射导纳图 141 S'p`ECfVMA 7.6 对称周期 141 DNBpIC5&6 7.7 参考文献 142 I.1l 8 典型的镀膜实例 143 Wb4{*~ 8.1 单层抗反射薄膜 145 n ]}2O4j 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 /+O8A} 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 wJ*-K- 8.4 W-膜层 148 @6'E8NFl 8.5 V-膜层 149 $OoN/^kv 8.6 V-膜层高折射基底 150 tN> B$sv 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ;XQ lj?: 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 R9G)X] 8.9 四层抗反射薄膜 153 vaJXX 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 UVUO}B@[S 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;I71_>m 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 l0xFt
~l 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 rss.F3dK 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <dPxy`_ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 m@yVG|eP# 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 C?|3\@7 8.17 1/4波长堆栈 162 Ltd?#HP 8.18 陷波滤波器 163 y@\Q@
9 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 utJVuJw:t 8.20 褶皱 165 NVWeJ+w 8.21 消偏振分光器1 169 #ic 2ofI 8.22 消偏振分光器2 171 (ul-J4E\O 8.23 消偏振立体分光器 172 \OT)KVwO 8.24 消偏振截止滤光片 173 'oQP:*Btl3 8.25 立体偏振分束器1 174 kS#DKo 8.26 立方偏振分束器2 177 13_~)V 8.27 相位延迟器 178 15o
*r 8.28 红外截止器 179 *oX]=u& 8.29 21层长波带通滤波器 180 VD3MJ 8!w 8.30 49层长波带通滤波器 181 _s-HlE?C 8.31 55层短波带通滤波器 182 *u;">H*BW 8.32 47 红外截止器 183 ]O=S2Q 8.33 宽带通滤波器 184 $"{3yLg 8.34 诱导透射滤波器 186 *@n3>$ 8.35 诱导透射滤波器2 188 VN-#R=D 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 uPC qO+f 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 q&dRh 8.35 增益平坦滤波器 193 'L|GClc6) 8.38 啁啾反射镜 1 196 C2=iZ`Z>T 8.39 啁啾反射镜2 198 yki51rOI* 8.40 啁啾反射镜3 199 Y\Qxdq 8.41 带保护层的铝膜层 200 8w8I:* 8.42 增加铝反射率膜 201 ^ lc}FN 8.43 参考文献 202
QXxLe* 9 多层膜 204 Q] yT 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 i,Wm{+H-O 9.2 内部透过率 204 iVi3 :7* 9.3 内部透射率数据 205 ) UDJ[pL@ 9.4 实例 206 /.kna4k 9.5 实例2 210 cov#Z
ux 9.6 圆锥和带宽计算 212 Xtu`5p_Qv 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 Lr?4Y 10 光学薄膜的颜色 216 `KJYm|@ i 10.1 导言 216 u ?G\b{$m 10.2 色彩 216 y.*=Ww+ 10.3 主波长和纯度 220 8Z4?X% 10.4 色相和纯度 221 ZG/8 Ds 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 IgiF,{KE, 10.6 色差 226 [bi3%yWh 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 hi3sOK*r;< 10.8 颜色渲染指数 234 teOBsFy/I 10.9 色差计算 235 ZkB6bji 10.10 参考文献 236 Q
f+p0E; 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 Q),3&4pM 11.1 短脉冲 238 2}Z4a\YX 11.2 群速度 239 ,v}?{pc 11.3 群速度色散 241 Y7kb1UG 11.4 啁啾(chirped) 245 !&a;P,_Fb 11.5 光学薄膜—相变 245 wsJ%*
eYf 11.6 群延迟和延迟色散 246 7moElh v 11.7 色度色散 246 G V:$; 11.8 色散补偿 249 fZ6 fV=HEF 11.9 空间光线偏移 256 5Q$r@&qp 11.10 参考文献 258 A`x
-L 12 公差与误差 260 ?bt`fzX{l 12.1 蒙特卡罗模型 260 q
M_/ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ||=[kjG~ 12.2.1 误差工具 267 Q$fRi[/L 12.2.2 灵敏度工具 271 {7=WU4$ 12.2.2.1 独立灵敏度 271 5i4V 5N>3 12.2.2.2 灵敏度分布 275 hEv=T'*,K) 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 aVQSN 12.3 参考文献 276 .L^pMU+!^ 13 Runsheet 与Simulator 277 !]rETP_ 13.1 原理介绍 277 b'7z DZI] 13.2 截止滤光片设计 277 mWli}j# 14 光学常数提取 289 Q&Z4r9+Z 14.1 介绍 289 ]{,Gf2v;;d 14.2 电介质薄膜 289 *gd?>P7\0 14.3 n 和k 的提取工具 295 crJ7pe9 14.4 基底的参数提取 302 #*Yi4Cn< 14.5 金属的参数提取 306 Xq,UV 14.6 不正确的模型 306 >~5lYD 14.7 参考文献 311 g5tjj. 15 反演工程 313 WxVn&c\ 15.1 随机性和系统性 313 fO^e+Mz 15.2 常见的系统性问题 314 TvunjTpaj 15.3 单层膜 314 RIy5ww}3| 15.4 多层膜 314 t['k%c 15.5 含义 319 yV:EK{E 15.6 反演工程实例 319 8_a$kJJ2 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 sK`~Csb
iB 15.6.2 反演工程提取折射率 327 4<G? 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 t."g\; 16.1 光学性质的热致偏移 329 W\@?e32 16.2 应力工具 335 V#'26@@ 16.3 均匀性误差 339 }+91s'/c 16.3.1 圆锥工具 339 bp]^EVx 16.3.2 波前问题 341 U1,~bO9 16.4 参考文献 343 RzA2*]%a 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 4M @oj 17.1 引言 345 `Yx-~y5X 17.2 操作数 345 Em e'Gk 18 如何在Function中编写脚本 351 jM5_8nS&d 18.1 简介 351 4S,. R 18.2 什么是脚本? 351 1t/dxB; 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 :/C ?FHs9 18.4 基础 352 Sa3I?+ 18.4.1 Classes(类别) 352 =?/N5O( 18.4.2 对象 352 <y@,3DD3A9 18.4.3 信息(Messages) 352 dB@Wn!Y 18.4.4 属性 352 Qq#Ff\|4u( 18.4.5 方法 353 -O|& | |