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2023-03-20 09:58 |
Macleod镀膜工具书
《Essential Macleod中文手册》 ={maCYlE. 103^\Av8 目 录 I8^z\ef& bk4%lYJ" ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 #On1Q:d 第1章 介绍 ..........................................................1 yMz@-B 第2章 软件安装 ..................................................... 3 <Bu*: O 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 miN(a; Q2P 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ;oR-\;]/. 第5章 软件结构 ............................................................... 21 ;ejC:3yO 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 E?08=$^5%
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 OgfQGGc 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4dfe5\ 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 iv;;GW{2 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 pd X9G 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 )SDGj;j+ 第12章 优化和综合 ..................................................................120 M6?Q w= 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 m?B@VDZ 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 o_G.J4 V 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 U}Hmzb 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 #lVVSrF,- 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ,sLV6DM 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 t9P` nfY 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 54}s:[O 第20章 运行表单 .................................................................... 251
2EE#60 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 I|R9@ 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 #),QWTl3 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 EKoCm)}d 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 80+"
x3r 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 s` S<BX7 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 iSFgFJG^ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 <,cD EN7 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 , H[o.r= 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 6(ja5)sn* D% 50 msoE8YK&tg R6AZIN: ,[Ytl 6s|C:1](b 内容简介 i,bFe&7J Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 pCg0xbc` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 l{y~N 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 zxsnrn;| 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 f'%}{l: ss
Y@.:U* 目录 t~bjD V^` Preface 1 x3M`l| 内容简介 2 74Kl!A 目录 i beIEy(rA 1 引言 1 O~xc>
w 2 光学薄膜基础 2 fitm* 2.1 一般规则 2 @P@t/ 2.2 正交入射规则 3 K, 35* 2.3 斜入射规则 6 'rCwPsI&4 2.4 精确计算 7 Crey}A/N 2.5 相干性 8 0Z@u6{Z9R 2.6 参考文献 10 ZsV'-gu 3 Essential Macleod的快速预览 10 8`*`4m 4 Essential Macleod的特点 32 %Y!lEzB5 4.1 容量和局限性 33 "dkvk7zCP 4.2 程序在哪里? 33 kU#$ 4.3 数据文件 35 #FeM.k6 4.4 设计规则 35 ]*v%(IGK 4.5 材料数据库和资料库 37 %_/_klxnO 4.5.1材料损失 38 |:EUh 4.5.1材料数据库和导入材料 39 X#Hs{J~@p 4.5.2 材料库 41 g4~{#P^i 4.5.3导出材料数据 43 \s)j0F)
4.6 常用单位 43 -aec1+o 4.7 插值和外推法 46 +i
K.+B 4.8 材料数据的平滑 50 Z?^AX&F 4.9 更多光学常数模型 54 UHxXa*HyI 4.10 文档的一般编辑规则 55 oFY'Ek;d 4.11 撤销和重做 56 :KW 4.12 设计文档 57 E7 7Au;TL 4.10.1 公式 58 [z Y9"B<3 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 wt RAq/ 4.10.3 沉积密度 59 TT29LC@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 DuCq16'0T 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 1o.]"~0: 4.10.4 性能 61 rVZkG,Q 4.10.5 保存设计和性能 64 &}*[-z 4.10.6 默认设计 64 [Si`pPvl 4.11 图表 64 ON!1lS 4.11.1 合并曲线图 67 K{"+eA>CU 4.11.2 自适应绘制 68 =o9
%) 4.11.3 动态绘图 68 ,@GI3bl 4.11.4 3D绘图 69 /y
NU0/ 4.12 导入和导出 73 %"{SGp 4.12.1 剪贴板 73 Thz&wH`W 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 O~igwFe 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 j1>1vD-`T 4.13 背景 77 [x9eamJ,H 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c!6.D 4.15 生成Rugate 84 ,Y}HP3
4.16 参考文献 91 G;`+MgJ) 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 DQwbr\xy\ 5.1 Jobs 92 [{'` | 5.2 创建一个新Job(工作) 93 <sn^>5Ds 5.3 输入材料 94 +jQW 6k# 5.4 设计数据文件夹 95 l? 7D0
5.5 默认设计 95 9D-PmSnv 6 细化和合成 97 ALPZc: 6.1 优化介绍 97 z!?xz 6.2 细化 (Refinement) 98 !.kj-==s{7 6.3 合成 (Synthesis) 100 joYj`K 6.4 目标和评价函数 101 7!z0)Ai_>= 6.4.1 目标输入 102 td{$c6 6.4.2 目标 103 n{=vP`V_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 2gukK8R$ 6.5 层锁定和连接 104 EtKy?]i 6.6 细化技术 104 | [P!9e 6.6.1 单纯形 105 /_>S0 6.6.1.1 单纯形参数 106 a$"3T 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ,D;d#fJ 6.6.2.1 Optimac参数 108 5_0Eh!sx 6.6.3 模拟退火算法 109 Np+<)q2 6.6.3.1 模拟退火参数 109 E%2]c?N5 6.6.4 共轭梯度 111 arET2(h 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 :[,-wZiT~6 6.6.5 拟牛顿法 112 g2BE-0, R 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 2I>X]r.S!1 6.6.6 针合成 113 (jtrQob 6.6.6.1 针合成参数 114 1H{JT
op 6.6.7 差分进化 114 l*":WzRGvF 6.6.8非局部细化 115 |+f@w/+ 6.6.8.1非局部细化参数 115 4Zo.c*
BZ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 iTwb#Q= 6.7.1 细化 116 6 -N 442 6.7.2 合成 117 RGf&KV/ 6.8 参考文献 117 k`_sKr]9 7 导纳图及其他工具 118 \0).
ODA( 7.1 简介 118 ACc tyGd 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 gwm!Pw j 7.2.1 四分之一波长规则 119 WBK6Ug 7.2.2 导纳图 120 n#|ljC 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 wQEsq< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
kc-=5l 7.5 斜入射导纳图 141 #p*D.We 7.6 对称周期 141 |6v
$!wBi 7.7 参考文献 142 @>cz$##` 8 典型的镀膜实例 143 gF#HNv 8.1 单层抗反射薄膜 145 ose(#n4 0 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 qILb># 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 OD]`oJ| 8.4 W-膜层 148 < KGq 8.5 V-膜层 149 vhIZkz!9 8.6 V-膜层高折射基底 150 xy))}c% 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ^m~&2l\N= 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 t-B5,,` 8.9 四层抗反射薄膜 153 #9zpJ\E 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 4Oo{\&( 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 oq${}n < 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 `,QcOkvbC 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 p>_Qns7W 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 =HMa<"-8 8.15十五层宽带抗反射膜 159 n&OM~Vs 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 BX\/Am11 8.17 1/4波长堆栈 162 Kv0V`}<Yc 8.18 陷波滤波器 163 'b)qP| 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 `OFW^Esc 8.20 褶皱 165 z_93j3# 8.21 消偏振分光器1 169 %5RR<[_/; 8.22 消偏振分光器2 171 e[
yN 8.23 消偏振立体分光器 172 .V4- 8.24 消偏振截止滤光片 173 s@Dln
Du. 8.25 立体偏振分束器1 174 I+=+ ,iXhB 8.26 立方偏振分束器2 177
J-#V_TzJ? 8.27 相位延迟器 178 $vrkxn 8.28 红外截止器 179 Jvc:)I1NE7 8.29 21层长波带通滤波器 180 Y<L35
? 8.30 49层长波带通滤波器 181 >)F "lR:o 8.31 55层短波带通滤波器 182 J3 `0i@ 8.32 47 红外截止器 183 /sfJ:KP0 8.33 宽带通滤波器 184 n{u\t+f 8.34 诱导透射滤波器 186 w 5 yOSz 8.35 诱导透射滤波器2 188 %UAF~2]g 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 m g,1*B' 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 _Jy7` 4B. 8.35 增益平坦滤波器 193 &&nbdu 8.38 啁啾反射镜 1 196 SQ_Je+X 8.39 啁啾反射镜2 198 pO_IUkt 8.40 啁啾反射镜3 199 sUF9_W5z 8.41 带保护层的铝膜层 200 `78Bv>[A 8.42 增加铝反射率膜 201 DQT'OZ:w 8.43 参考文献 202 8Qo'[+4; 9 多层膜 204 d]poUN~x 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 rtS' 90` 9.2 内部透过率 204 Y{D%v 9.3 内部透射率数据 205 8[;vC$ 9.4 实例 206 Fvf|m7 9.5 实例2 210 f(Y_<% 9.6 圆锥和带宽计算 212 8l_M 0F, 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 vfc:ok 1 10 光学薄膜的颜色 216 #=t/wAE y: 10.1 导言 216 Q_U.J0 10.2 色彩 216 As< B8e] 10.3 主波长和纯度 220 l|=4FIMD 10.4 色相和纯度 221 %Yj%0 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 RN[I%^$" 10.6 色差 226 ;I&VpAPx 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 yL*]_ 10.8 颜色渲染指数 234 <XIIT-b[ 10.9 色差计算 235 ,Klv[_x7 10.10 参考文献 236 @@)2 12 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 >~SS^I0 11.1 短脉冲 238 <%HRs>4 11.2 群速度 239 &E_a0*)e 11.3 群速度色散 241 7
!$[XD 11.4 啁啾(chirped) 245 CuWJai:nQ; 11.5 光学薄膜—相变 245 %WgN+A0 11.6 群延迟和延迟色散 246 _p^"l2%D/ 11.7 色度色散 246 L-T,[;bl 11.8 色散补偿 249 H+4j.eVzZU 11.9 空间光线偏移 256 qx t0Jr8 11.10 参考文献 258 cg.{oM wa 12 公差与误差 260 q0iJy@?A 12.1 蒙特卡罗模型 260 nN\H'{Wzd 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ZEAUoC1E1 12.2.1 误差工具 267 Ot2o=^Ng 12.2.2 灵敏度工具 271 8NWo)y49H 12.2.2.1 独立灵敏度 271 j{@6y 12.2.2.2 灵敏度分布 275 TxX =(7V 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 D5TDg\E 12.3 参考文献 276 yO q@w!xz 13 Runsheet 与Simulator 277 mHxR4%i5 13.1 原理介绍 277 "2l`XH 13.2 截止滤光片设计 277 7uF|Z( 14 光学常数提取 289 J;C:nE|V
14.1 介绍 289 m^k0j/ 14.2 电介质薄膜 289 Nc;O)K!FH 14.3 n 和k 的提取工具 295 `#N/]4(j 14.4 基底的参数提取 302 ,%M[$S' 14.5 金属的参数提取 306 ~SnUnNDm ` 14.6 不正确的模型 306 q` q;og
` 14.7 参考文献 311 ']r8q % 15 反演工程 313 0NXH449I= 15.1 随机性和系统性 313 CMXF[X)% 15.2 常见的系统性问题 314 v1.3gzR 15.3 单层膜 314 c.ow4~> 15.4 多层膜 314 o4);5~1l 15.5 含义 319 G0E5Y;YIN$ 15.6 反演工程实例 319 n0xGIq 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 S6TNu+2w4 15.6.2 反演工程提取折射率 327 2
T!Tiu 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 [_,as 16.1 光学性质的热致偏移 329 LQ jbEYp 16.2 应力工具 335 e-nA>v 16.3 均匀性误差 339 i[v4[C=WB! 16.3.1 圆锥工具 339 [nTI\17iA 16.3.2 波前问题 341 KK){/I=z 16.4 参考文献 343 6l#x1o; 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 jJy:/!i 17.1 引言 345 rbZbj# 17.2 操作数 345 Lo%n{*if 18 如何在Function中编写脚本 351 F (*B1J2_g 18.1 简介 351 c3$T3Lu1 18.2 什么是脚本? 351 ~r1pO#r- 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 %rzPh<>e 18.4 基础 352 eb62(:=N6 18.4.1 Classes(类别) 352 {.p.? 18.4.2 对象 352 "
kDiK`i 18.4.3 信息(Messages) 352 WYP ;s7_ 18.4.4 属性 352 ^*K=wE}AG 18.4.5 方法 353 (l{vlFWd 18.4.6 变量声明 353 TNX9Z)=>g 18.5 创建对象 354 UUah5$Iy 18.5.1 创建对象函数 355 YW7W6mWspS 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 $>< | |