| infotek |
2023-03-20 09:58 |
Macleod镀膜工具书
《Essential Macleod中文手册》 L!|c: 8 \Se>u4~L 目 录 rgWGe6;! _Y40a+hk] ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 =mxmJFA 第1章 介绍 ..........................................................1 C%85Aq* 4 第2章 软件安装 ..................................................... 3 <*<7p{x 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 }Gqx2 )H 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 (x2I*<7P 第5章 软件结构 ............................................................... 21 QHUoAa`6v 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 DI'wZySS^ 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 \SkCsE#H 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 f`*Ip? V- 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 m
jC6(?V 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 CL5u{i5 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 >j{phZ 第12章 优化和综合 ..................................................................120 U<|kA(5 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 B8NOPbT 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 H1N_ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Xhe2 5 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 H,9e<x#own 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 Af pB=3 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 V
lN&Lz 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 IKb 7#Ut 第20章 运行表单 .................................................................... 251 -z)I;R 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 /m%i"kki 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 3rhH0{ 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 \/I@&$"F 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 Dtl381F J 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 |_{-hNiz0 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 g!(j.xe 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Gdq _T* 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 bm*Ell\a. 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 :PuJF`k _V^^%$ }:P/eY <ppM\$ tJy6\~ NdZv* 内容简介 *D!$gfa Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 w+(bkqz] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 +FRXTku( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^P
>; % 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 xw(KSPN S-Mn 目录 JL45!+ Preface 1 OV8Y)%t" 内容简介 2 \^orl9 目录 i N|Mzj|i. 1 引言 1 k;/U6,LQ* 2 光学薄膜基础 2 9IZ}}x 2.1 一般规则 2 gF+Uj( d 2.2 正交入射规则 3 g+|1khS) 2.3 斜入射规则 6 7'uuc]\5> 2.4 精确计算 7 #9uNJla 2.5 相干性 8 l?LwQmq6 2.6 参考文献 10 MX2Zm 3 Essential Macleod的快速预览 10 c L}}^ 4 Essential Macleod的特点 32 s ki'I 4.1 容量和局限性 33 ?G%C}8a 4.2 程序在哪里? 33 h BD .IB 4.3 数据文件 35 musZCg$ 4.4 设计规则 35 *o <S{ 4.5 材料数据库和资料库 37 yU]NgG=z:- 4.5.1材料损失 38 f-&4x_5 4.5.1材料数据库和导入材料 39 \7o&'zEw 4.5.2 材料库 41 Gv?3T Am8 4.5.3导出材料数据 43 E0]B=- 4.6 常用单位 43 +Z99x# 4.7 插值和外推法 46 @."_XL74 4.8 材料数据的平滑 50 <=2\xJfxB 4.9 更多光学常数模型 54 ,xmmS\ 4.10 文档的一般编辑规则 55 ErmlM#u 4.11 撤销和重做 56 r&6X|2@ 4.12 设计文档 57 ahQdBoj 4.10.1 公式 58 vJTdZ p 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 yh~*Kt]9Ya 4.10.3 沉积密度 59 ObJgJr 4.10.4 平行和楔形介质 60 KCEBJ{jM 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 eU/o I} A 4.10.4 性能 61 x-J.*X/aB 4.10.5 保存设计和性能 64 fg"]4&`j- 4.10.6 默认设计 64 mAO$gHQ 4.11 图表 64 Yl}'hRp 4.11.1 合并曲线图 67 ((OQs. 4.11.2 自适应绘制 68 &GMBvmP 4.11.3 动态绘图 68 zl8O @g 4.11.4 3D绘图 69 eQK}J]S< 4.12 导入和导出 73 =
cQK^$6( 4.12.1 剪贴板 73 K[{hh;7 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 C{Y0}ZrmlF 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 #yPQt! 4.13 背景 77 !' ;1;k); 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c:? tn 4.15 生成Rugate 84 \M$e#^g 4.16 参考文献 91 o_=t9\: 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 .tRp 5.1 Jobs 92 -;T!d 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ITpo:"X g 5.3 输入材料 94 F_C7S 5.4 设计数据文件夹 95 `X;' *E]e 5.5 默认设计 95 XR2Gw4] 6 细化和合成 97 8rZJvE#c
6.1 优化介绍 97 (^),G-] 6.2 细化 (Refinement) 98 YF)uAJ Ak 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~bC-0^/
8| 6.4 目标和评价函数 101 8s+9PE 6.4.1 目标输入 102 YCMXF#1 6.4.2 目标 103 |j2b=0Rpk 6.4.3 特殊的评价函数 104 Mk=M)d` 6.5 层锁定和连接 104 r>o#h+'AV 6.6 细化技术 104 TPE1}8p17 6.6.1 单纯形 105 z?Hi
u6c- 6.6.1.1 单纯形参数 106 >oD,wSYV~ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Z+8Q{|Ev 6.6.2.1 Optimac参数 108 1:Sq?=& 6.6.3 模拟退火算法 109 r^g"%nq9/ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 U!y GZEU"[ 6.6.4 共轭梯度 111 4fR}+[~2 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {e35O(Y 6.6.5 拟牛顿法 112 ?**9hu\BG 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ./7*<W: 6.6.6 针合成 113 H^TU?vz}
< 6.6.6.1 针合成参数 114 W%&gvZre. 6.6.7 差分进化 114 p+.xye U( 6.6.8非局部细化 115 r(qwzUI 6.6.8.1非局部细化参数 115 Qq7%{`<} 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ;#)vw;XR 6.7.1 细化 116 ":I@>t{H* 6.7.2 合成 117 s@$SM,tnn 6.8 参考文献 117 %tK^&rw% 7 导纳图及其他工具 118 FN+x<VXo( 7.1 简介 118 &eA!h 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 )(/Bw&$ 7.2.1 四分之一波长规则 119 @r130eLh 7.2.2 导纳图 120 6?`3zdOeO 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 k00&+C 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 \Bvy~UeE)> 7.5 斜入射导纳图 141 ~9We)FvU4 7.6 对称周期 141 N{}o*K 7.7 参考文献 142 /:=,mWoO 8 典型的镀膜实例 143 ;5dA 8.1 单层抗反射薄膜 145 }+/F?_I=
% 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 -J&
b~t@ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 7*MjQzg-P 8.4 W-膜层 148 HKXtS>7d 8.5 V-膜层 149 )k~{p;Ke 8.6 V-膜层高折射基底 150 Tfytc$aQ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 c,,(s{1 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ^1\[hyZ! 8.9 四层抗反射薄膜 153 LLV1W0VO=P 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 )b=m|A GX 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 b/]@G05>> 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 .-mlV ^ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 _(_U= 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 cT.8&EEW 8.15十五层宽带抗反射膜 159
=7vbcAJ\ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 _8{6&AmIw 8.17 1/4波长堆栈 162 %;ZDw@_< 8.18 陷波滤波器 163 ba"_!D1 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Fo;. 8.20 褶皱 165 +\GuZ5` 8.21 消偏振分光器1 169 krSOS WJ 8.22 消偏振分光器2 171 @|;XDO`k; 8.23 消偏振立体分光器 172 8h{;*Wr- 8.24 消偏振截止滤光片 173 ;kLp}CqV 8.25 立体偏振分束器1 174 8eDKN9kq 8.26 立方偏振分束器2 177 =vD}O@tN 8.27 相位延迟器 178 =rzhaU'A' 8.28 红外截止器 179 q6T>y%|FZ 8.29 21层长波带通滤波器 180 @~j--L 8.30 49层长波带通滤波器 181 j\%m6\{n| 8.31 55层短波带通滤波器 182 KrqO7 8.32 47 红外截止器 183 (@3?JJ]1 8.33 宽带通滤波器 184 7: .bqRu 8.34 诱导透射滤波器 186 d$<1Ma} 8.35 诱导透射滤波器2 188 $1.l| 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 JrJTIUf_ 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 &B@qb?UE1 8.35 增益平坦滤波器 193 [W--%=Ou 8.38 啁啾反射镜 1 196 m'"Ra- 8.39 啁啾反射镜2 198 Vd+5an? 8.40 啁啾反射镜3 199 'U{6LSaCb 8.41 带保护层的铝膜层 200 G1S:hw%rp 8.42 增加铝反射率膜 201 IEQ6J}L 8.43 参考文献 202 *OR(8; 9 多层膜 204 Mw{skK>b 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 *rmwTD" 9.2 内部透过率 204 .{Df"e> 9.3 内部透射率数据 205 G}0fk]%\: 9.4 实例 206 nTH!_S>b(Y 9.5 实例2 210 tOVYA\] 9.6 圆锥和带宽计算 212 .9u,54t 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 &4V"FHy2 10 光学薄膜的颜色 216 L~} 2&w 10.1 导言 216 gLQbA$gB 10.2 色彩 216 ]M.)N.T 10.3 主波长和纯度 220 b 1t7/q 10.4 色相和纯度 221 L}.V`v{zc 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 xO XCCf/ 10.6 色差 226 F<^93a9 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 QAK.Qk?Qu 10.8 颜色渲染指数 234 3I.0uLjg^ 10.9 色差计算 235 R:FyCT_, 10.10 参考文献 236 ' $5o5\ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 J6*B=PX=( 11.1 短脉冲 238 Bg0 aLU)[ 11.2 群速度 239 $C ?G7Vs 11.3 群速度色散 241 hXM2B2[ 11.4 啁啾(chirped) 245 :>GT<PPD; 11.5 光学薄膜—相变 245 "K$
y(}C 11.6 群延迟和延迟色散 246 4j
h4 XdH 11.7 色度色散 246 ^"\.,Y 11.8 色散补偿 249 fP
5!`8 11.9 空间光线偏移 256 *|Fl&`2 11.10 参考文献 258 `Ao;xOJ 12 公差与误差 260 > [|SF%
12.1 蒙特卡罗模型 260 Le':b2o 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 fl18x;^I 12.2.1 误差工具 267 4!r>
^a 12.2.2 灵敏度工具 271 gHzjI[WI 12.2.2.1 独立灵敏度 271 M[ZuXH} 12.2.2.2 灵敏度分布 275 )B'U_* 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ALY%
h!L 12.3 参考文献 276 /,Sd 13 Runsheet 与Simulator 277 &5u[q 13.1 原理介绍 277 59I} 13.2 截止滤光片设计 277 *>XY' -;2e 14 光学常数提取 289 K\GIh8L 14.1 介绍 289 fMFlY%@t 14.2 电介质薄膜 289 07dUBoq 14.3 n 和k 的提取工具 295 E~|`Q6&Y 14.4 基底的参数提取 302 (B zf~#]~ 14.5 金属的参数提取 306 7J%v""\1! 14.6 不正确的模型 306 6@HY+RCx 14.7 参考文献 311 4)3!n*I 15 反演工程 313 oFeflcSz 15.1 随机性和系统性 313 e[@
^UY 15.2 常见的系统性问题 314 "rA:;ntz 15.3 单层膜 314 4IYC;J2L 15.4 多层膜 314 w5(GRAH 15.5 含义 319 {@u}-6:wAT 15.6 反演工程实例 319 5}4MXI4 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 J}.y+b>8\ 15.6.2 反演工程提取折射率 327 =9;jVaEMJL 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Px4zI9;cB 16.1 光学性质的热致偏移 329 aUy=D:\ 16.2 应力工具 335 _u :4y4} 16.3 均匀性误差 339 r} ~l( 16.3.1 圆锥工具 339 6YZ&>`a^ 16.3.2 波前问题 341 6]}Xi:I 16.4 参考文献 343 Hvq< _&2 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 NB&u^8b 17.1 引言 345 8&=+Mw 17.2 操作数 345 1LjYV 18 如何在Function中编写脚本 351 +Hb6j02# 18.1 简介 351 FZ^byIS[ 18.2 什么是脚本? 351 !P!|U/|c 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 Tj{!Fx^H 18.4 基础 352 LE Y Y{G? 18.4.1 Classes(类别) 352 w
I@
lO\ 18.4.2 对象 352 ++13m*fA 18.4.3 信息(Messages) 352 EVj48 18.4.4 属性 352 =k[!p'~jD 18.4.5 方法 353 ]~(Ipz2NP 18.4.6 变量声明 353 %;zWS/JhL 18.5 创建对象 354 Z3R..vy8 18.5.1 创建对象函数 355 b}$m!c:<8 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 kx1-.~)p(z 18.5.3 丢弃对象 356 F
,{nG[PL 18.5.4 总结 356 _ }!Q4K 18.6 脚本中的表格 357 BsB}noN} 18.6.1 方法1 357 ,oP-:q!PC 18.6.2 方法2 357 )}c$n 18.7 2D Plots in Scripts 358 0{PK]qp7 18.8 3D Plots in Scripts 359 EW4XFP4
c 18.9 注释 360 RkLH}`# 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 fINM$ 6 18.11 一个更高级的脚本 362 G-n`X":$DT 18.12 <esc>键 364 7B%@f9g 18.13 包含文件 365 IFPywL{K 18.14 脚本被优化调用 366 !4jS=Lhe> 18.15 脚本中的对话框 368 df1* [ 18.15.1 介绍 368 aXC`yQ? 18.15.2 消息框-MsgBox 368 -"a+<(Y 18.15.3 输入框函数 370 3 XfXMVm 18.15.4 自定义对话框 371 z4-AOTo2y 18.15.5 对话框编辑器 371 >uOc#+5M. 18.15.6 控制对话框 377 m2|0<P@k! 18.15.7 更高级的对话框 380 ^s5.jlZr@ 18.16 Types语句 384 v:6b&wSL3 18.17 打开文件 385 wKY6[ vvF 18.18 Bags 387 iMp)g%Ng 18.13 进一步研究 388 wOi>i`D& 19 vStack 389 ?o.G@- 19.1 vStack基本原理 389 RV(}\JU 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 g'Xl>q 19.3 五棱镜 393 ?$n< | |