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2023-03-16 14:14 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
%@JNX}Y' 内容简介 VK)1/b=yT Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 oS3}xT "
U 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 OT-!n 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 i"|="O0v5 *6uZ"4rb.
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 S-)mv'Al'F 目录 MLD-uI10{ Preface 1 _m3}0q 内容简介 2 'nH/Z 84 目录 i rzmd`)g 1 引言 1 xDtq@Rb} 2 光学薄膜基础 2 "{a-I=s\C 2.1 一般规则 2 Hj&mwn] 2.2 正交入射规则 3 :0K[fBa 2.3 斜入射规则 6 #XSs.i{ 2.4 精确计算 7 F!v`._] 2.5 相干性 8 ="%nW3e@ 2.6 参考文献 10 y k=o 3 Essential Macleod的快速预览 10 hCXSC*; 4 Essential Macleod的特点 32 k&Z3v. 4.1 容量和局限性 33 iq s 4.2 程序在哪里? 33 > Y7nq\ 4.3 数据文件 35 w.s-T.5.j 4.4 设计规则 35 BI9~%dm 4.5 材料数据库和资料库 37 {O\>"2}m'f 4.5.1材料损失 38 h4@v.GI 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Yt^<^l77D 4.5.2 材料库 41 (#zSVtZ 4.5.3导出材料数据 43 G01 J1Ll} 4.6 常用单位 43 4=]CA O=O 4.7 插值和外推法 46 OGmOk>_ 4.8 材料数据的平滑 50 53y,eLf 4.9 更多光学常数模型 54 DK2m(9/`3 4.10 文档的一般编辑规则 55 5_4Y/2_| 4.11 撤销和重做 56 ;Dl< GW3< 4.12 设计文档 57 %;5AF8# c 4.10.1 公式 58 x9fNIuAQ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 *Q=3v 4.10.3 沉积密度 59 HS1Gy/6' 4.10.4 平行和楔形介质 60 gQ]WNJ~> 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 JzhbuWwF- 4.10.4 性能 61 t\[aU\4-7 4.10.5 保存设计和性能 64 j8lWra\y 4.10.6 默认设计 64 1Ql\aO) 4.11 图表 64 5k&tRg 4.11.1 合并曲线图 67 `1I@tz| 4.11.2 自适应绘制 68 yc|j]? 4.11.3 动态绘图 68 uFd.2,XNP 4.11.4 3D绘图 69 NzRpI5\. 4.12 导入和导出 73 M,0@@: 4.12.1 剪贴板 73 iUcDj: 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 '%!'1si 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ^QX3p,Y 4.13 背景 77 eK
}AVz}k 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GyE-fB4C 4.15 生成Rugate 84 n0o'ns 4.16 参考文献 91 g.CUo:c 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 .(!> *ka| 5.1 Jobs 92 =F>@z4[P- 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ~=W|I:@ 5.3 输入材料 94 ~b}@*fq 5.4 设计数据文件夹 95 9v7l@2/ 5.5 默认设计 95 }m6zu'CV 6 细化和合成 97 (h8M 6.1 优化介绍 97 5w: 6.2 细化 (Refinement) 98 2{t i])
6.3 合成 (Synthesis) 100 A aLj.HR 6.4 目标和评价函数 101 E;l|I
A/7 6.4.1 目标输入 102 B1]5% B 6.4.2 目标 103 j~+<~2%c 6.4.3 特殊的评价函数 104 E\U6n ""] 6.5 层锁定和连接 104 } t4?*:\ 6.6 细化技术 104 ;g[C=yhK`C 6.6.1 单纯形 105 AF5$U8jf 6.6.1.1 单纯形参数 106 u(ep$>[F#_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 _*b1]< 6.6.2.1 Optimac参数 108 x,W)qv 6.6.3 模拟退火算法 109 _C`cO 6.6.3.1 模拟退火参数 109 [da,SM 6.6.4 共轭梯度 111 $ t' . 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 r81YL 6.6.5 拟牛顿法 112 m>4jRr6sF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ["|' f 6.6.6 针合成 113 \79KU 6.6.6.1 针合成参数 114 'I|A*rO 6.6.7 差分进化 114 }wmn v 6.6.8非局部细化 115 r&AX 6.6.8.1非局部细化参数 115 }]w/`TF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 N>z<v\` 6.7.1 细化 116 Yk',a$.S 6.7.2 合成 117 >sAZT:&gv 6.8 参考文献 117 9W$d'IA 7 导纳图及其他工具 118 (P;z*
"q 7.1 简介 118 QG\lXY, 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 "kC uCc 7.2.1 四分之一波长规则 119 ZA@QP1 7.2.2 导纳图 120 0T,Qn{ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ZM oV!lu 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 rM6^pzxe 7.5 斜入射导纳图 141 /s.O3x._' 7.6 对称周期 141 ODn6%fp% 7.7 参考文献 142 _RG!lmJV 8 典型的镀膜实例 143 41luFtE9 8.1 单层抗反射薄膜 145 %AbA(F 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 yYmV^7G 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D`]Lm 24_] 8.4 W-膜层 148 m x@F^ 8.5 V-膜层 149 j I 8.6 V-膜层高折射基底 150 !4uTi [e 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 [9f
TN2'z 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 J%']t$AR 8.9 四层抗反射薄膜 153 }>vf(9sF` 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 )/FB73! 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8U!; 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 t59"[kQ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 /3D!,V, 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 &.ZW1TxE8 8.15十五层宽带抗反射膜 159 &wR | |