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2023-03-10 10:21 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
?"F9~vx&G 内容简介 }SfS\b{|~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 o3"Nxq"U 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 -F. c<@*E 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 U[0x\~[$K >&DC[)28
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 @T"-%L8PL 目录 m?<^b_a} Preface 1 vp32}zeD 内容简介 2 /!#A'#Z 目录 i ~'V&[]nh8 1 引言 1 lw]uH<v 2 光学薄膜基础 2 57fl<IM 2.1 一般规则 2 PglSQ2P 2.2 正交入射规则 3 |(%=zb=?X 2.3 斜入射规则 6 j.&Y'C7GOC 2.4 精确计算 7 /0sw rt. 2.5 相干性 8 eMV{rFmT 2.6 参考文献 10 oVTXn=cYDp 3 Essential Macleod的快速预览 10 S$O5jX 0 4 Essential Macleod的特点 32 yhkKakg,) 4.1 容量和局限性 33 nt]'>eX_} 4.2 程序在哪里? 33 m#$$xG 4.3 数据文件 35 9u6VN]divB 4.4 设计规则 35 Gx7bV}&PN 4.5 材料数据库和资料库 37 /Rf,Rjs 4.5.1材料损失 38 zfD@/kU 4.5.1材料数据库和导入材料 39 6b7c9n Z 4.5.2 材料库 41 ~.tl7wKkR/ 4.5.3导出材料数据 43 x?UAj8z6 4.6 常用单位 43 `;=-71Gn~ 4.7 插值和外推法 46 hj=qWGRgI 4.8 材料数据的平滑 50 dWx@<(`OC 4.9 更多光学常数模型 54 /-knqv 4.10 文档的一般编辑规则 55 4@+']vN4 4.11 撤销和重做 56 zcC:b4 4.12 设计文档 57 x5Ue"RMl+ 4.10.1 公式 58 \@Gcx}Y8h 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 e-Oz`qW~ 4.10.3 沉积密度 59 }rvX} 4.10.4 平行和楔形介质 60 W
]$/qyc&J 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 qSDn 0^y 4.10.4 性能 61 =r)LG,w212 4.10.5 保存设计和性能 64 v, CWE 4.10.6 默认设计 64 C B`7KK 4.11 图表 64 ,(RpBTV 4.11.1 合并曲线图 67 !{4'=+ 4.11.2 自适应绘制 68 ^AShy`o^X 4.11.3 动态绘图 68 `g_r<EY8/ 4.11.4 3D绘图 69 .l hS 4.12 导入和导出 73 y^e3Gyk 4.12.1 剪贴板 73 it-]-=mqb 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 FWB
*=.A9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 d-C%R9 4.13 背景 77 a)4%sX*I
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 OkAgO3>Y/ 4.15 生成Rugate 84 .p]rS
=# 4.16 参考文献 91 l1#.rg 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]61Si~Z 5.1 Jobs 92 F @<h:VVP 5.2 创建一个新Job(工作) 93 2">de/jS 5.3 输入材料 94 E]v]fy" 5.4 设计数据文件夹 95 sq;!5qK 5.5 默认设计 95 /k[8xb 6 细化和合成 97 RH:vd|q+ 6.1 优化介绍 97 1{5t. 6.2 细化 (Refinement) 98 *T#^|<.XG 6.3 合成 (Synthesis) 100 HYmUD74FR 6.4 目标和评价函数 101 @( \R@`# 6.4.1 目标输入 102 6yBd9= 3K 6.4.2 目标 103 Y]*&\Ex"\ 6.4.3 特殊的评价函数 104 (/0dtJ 6.5 层锁定和连接 104 IRdR3X56 6.6 细化技术 104 @)x*6 2r+ 6.6.1 单纯形 105 +*w}H
0Z 6.6.1.1 单纯形参数 106 pGfGGY>i% 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 dF09_nw 6.6.2.1 Optimac参数 108 sYo&@~T 6.6.3 模拟退火算法 109 eM
5#L,Y{ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ok [_Z; 6.6.4 共轭梯度 111 Fw*O ciC 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ML MetRP 6.6.5 拟牛顿法 112 w[D]\>QHa 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 *7-rm 6.6.6 针合成 113 REgM 6.6.6.1 针合成参数 114 YF-A8gXS 6.6.7 差分进化 114 o$Ylqb# 6.6.8非局部细化 115
)#8g<]q 6.6.8.1非局部细化参数 115 xkw=os 6.7 我应该使用哪种技术? 116 r{t6Vv2J 6.7.1 细化 116 -)B_o#2=2 6.7.2 合成 117 $qr6LIKGw 6.8 参考文献 117 =E>P,"D 7 导纳图及其他工具 118 Xz)qtDN|( 7.1 简介 118 }vh4ix 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 n1b:Bv4"]# 7.2.1 四分之一波长规则 119 A)4XQF 7.2.2 导纳图 120 dHTx^1 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 XXhN;-p 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 \'<P~I&p 7.5 斜入射导纳图 141 ~bm'i%$k 7.6 对称周期 141 yNEU/>]>2 7.7 参考文献 142 }IZw6KiN 8 典型的镀膜实例 143 -|^)8 8.1 单层抗反射薄膜 145 \v6lcAL- 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 lZ7
$DGe 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 F81EZ/ 8.4 W-膜层 148 R|'W#"{@ 8.5 V-膜层 149 ^e <E/j{~ 8.6 V-膜层高折射基底 150 n}[S 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 :b(W&iBWhI 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Z]R#F0"U 8.9 四层抗反射薄膜 153 QK#wsw 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 5O d]rE 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 b}ya9tCl; 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 qljsoDG 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 [`qdpzUp& 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ppNMXbXR 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Eyjsbj8 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 K0_gMi+bR 8.17 1/4波长堆栈 162 GF8wKx#J 8.18 陷波滤波器 163 [:#K_EI5% 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 -y$6gCRY 8.20 褶皱 165 D>7J[ Yxg- 8.21 消偏振分光器1 169 Dol{y=(3e 8.22 消偏振分光器2 171 {ri={p]l 8.23 消偏振立体分光器 172 ;Su-Y!& | |