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2023-02-27 08:35 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
y~cDWD<h 内容简介 vl'2O7 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Gg3cY{7 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :$`"M#vMX 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 wlM"Zt _p~lL<q-K[
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 _Co*"hl>2 目录
'7!b#if Preface 1 (>E70|T 内容简介 2 0pSqk/ 目录 i @GB~rfB[ 1 引言 1 kAEm#oz=g 2 光学薄膜基础 2 #sOkD 2.1 一般规则 2 !XvQm*1 2.2 正交入射规则 3 .5',w"R 2.3 斜入射规则 6 pD+_ K 2.4 精确计算 7 PN!NB. 2.5 相干性 8 `(r[BV|h} 2.6 参考文献 10 3}@!TI 3 Essential Macleod的快速预览 10 <3wfY
#;>< 4 Essential Macleod的特点 32 RE72%w(oM 4.1 容量和局限性 33 V'";u?h#S 4.2 程序在哪里? 33 D=w5Lks 4.3 数据文件 35 Q.q'pJ- 4.4 设计规则 35 Hq{i-z+ 4.5 材料数据库和资料库 37 Wb_'X |"u 4.5.1材料损失 38 wz-#kH5? 4.5.1材料数据库和导入材料 39 6w
d0" 4.5.2 材料库 41 z8SrZ#mg 4.5.3导出材料数据 43 4v"9I( 4.6 常用单位 43 [dK5kO 4.7 插值和外推法 46 <_S>- ;by 4.8 材料数据的平滑 50 _`/:gkZS 4.9 更多光学常数模型 54 1]L 0r 4.10 文档的一般编辑规则 55 Ix;9D'^} 4.11 撤销和重做 56 6n{`t/ 4.12 设计文档 57 T9@W,0# 4.10.1 公式 58 #|\NG 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 H5f>Q0jq
4.10.3 沉积密度 59 kvzGI>H: 4.10.4 平行和楔形介质 60 %"2;i@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 6gLk?^. 4.10.4 性能 61 jpl"KN?X 4.10.5 保存设计和性能 64 73kF=*m 4.10.6 默认设计 64 -.8 nEO3 4.11 图表 64 n5Ad@B g 4.11.1 合并曲线图 67 hJavi>374 4.11.2 自适应绘制 68 ZSKSMI%D 4.11.3 动态绘图 68 3|=9aM^ x^ 4.11.4 3D绘图 69 e12.suv 4.12 导入和导出 73 V^a]@GK: 4.12.1 剪贴板 73 k^
CFu 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 6!|-,t>< 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 a9CY,+z5B 4.13 背景 77 r sf +dC 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 cxBu2(Y 4.15 生成Rugate 84 '!)|;qe 4.16 参考文献 91 Voi`OCut 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 RR u1/nam 5.1 Jobs 92 _b+=q:$/ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 gpB pG 5.3 输入材料 94 T}ZUw;}BL 5.4 设计数据文件夹 95 wf4?{H 5.5 默认设计 95 }B=`nbgIG7 6 细化和合成 97 sLGut7@Sg 6.1 优化介绍 97 ?mdgY1 6.2 细化 (Refinement) 98 l.ri]e 6.3 合成 (Synthesis) 100 F;Q8^C0e*c 6.4 目标和评价函数 101 y$=$Yc&Ub 6.4.1 目标输入 102 )z'LXy8 6.4.2 目标 103 H pHXt78 6.4.3 特殊的评价函数 104 VCzmTnD 6.5 层锁定和连接 104 0ZY.~b'eu 6.6 细化技术 104 >z'kCv 6.6.1 单纯形 105 xXpeo_y' 6.6.1.1 单纯形参数 106 N? r{Y$x 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 % #!`>S)O 6.6.2.1 Optimac参数 108 &,pL3Qos 6.6.3 模拟退火算法 109 Yx4TUA$c' 6.6.3.1 模拟退火参数 109 wAC*D=Qj 6.6.4 共轭梯度 111 KZFnp=i 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <!ewb=[_$ 6.6.5 拟牛顿法 112 #7!P3j 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }@
Nurs)%_ 6.6.6 针合成 113 Q/oe l'O*x 6.6.6.1 针合成参数 114 |5o0N8!b[ 6.6.7 差分进化 114 6xk~Bt 6.6.8非局部细化 115 (1`z16 6.6.8.1非局部细化参数 115 1]wx Ru 6.7 我应该使用哪种技术? 116 "PM!03rb 6.7.1 细化 116 >7yOu!l 6.7.2 合成 117 |D `r o 6.8 参考文献 117 vs3px1Xe# 7 导纳图及其他工具 118 s8,N9o[.~P 7.1 简介 118 W`}C0[%VW 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 t2)S61Vr 7.2.1 四分之一波长规则 119 %UEV['= 7.2.2 导纳图 120 ''+6qH-.|] 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2&st/y(hs 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Q;m:o8Q5 7.5 斜入射导纳图 141 OF^:_%c/ 7.6 对称周期 141 8cq H0{ 7.7 参考文献 142 !&f(Xs 8 典型的镀膜实例 143 *>x~` 8.1 单层抗反射薄膜 145 cVHv>nd# 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 X2avo|6e 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9G7lPK 8.4 W-膜层 148 Gw3H1:yo 8.5 V-膜层 149 V2< 4~J2:9 8.6 V-膜层高折射基底 150 :JBvCyj4PE 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 (DzV3/+p^ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Tk[`kmb 8.9 四层抗反射薄膜 153 s bf\;_! 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ?.&]4z([ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >EQd;Af 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 $O}:*.{(W 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ?nW K s 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 vWbf5? 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ,uEi*s> 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 !!NVx\a 8.17 1/4波长堆栈 162 f0S& | |