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2023-02-27 08:35 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
f-g1[!"F 内容简介 zoP%u,XL Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gLQ #4H
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Y-p<qL|_ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \iU] s\{). mJC3@V
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 9s` /~ a@ 目录 alm-
r-Kb3 Preface 1 KrKu7]If6# 内容简介 2 7zDiHac 目录 i - 8bNQU 1 引言 1 :?CQuEv- 2 光学薄膜基础 2 NQ9Ojj{# 2.1 一般规则 2 (][LQ6Pc 2.2 正交入射规则 3 ],lV}Mlg* 2.3 斜入射规则 6 [B^ G- 2.4 精确计算 7 _3>djF_u 2.5 相干性 8 ?znSx}t 2.6 参考文献 10 GBP-V66 3 Essential Macleod的快速预览 10 ZPO|<uR 4 Essential Macleod的特点 32 4nkE IZ 4.1 容量和局限性 33 +.Bmkim 4.2 程序在哪里? 33 7=P^_LcU 4.3 数据文件 35 fSA)G$b] 4.4 设计规则 35 &ZJgQ-Pc(m 4.5 材料数据库和资料库 37 Ip?]K*sq 4.5.1材料损失 38 !gP0ndRJ= 4.5.1材料数据库和导入材料 39 O~@fXMthh 4.5.2 材料库 41
k0H#:c} 4.5.3导出材料数据 43 c
~Fdx 4.6 常用单位 43 h`5)2n+ P 4.7 插值和外推法 46 I*\^,ow 4.8 材料数据的平滑 50 M>l^%` 4.9 更多光学常数模型 54 H?yE3w 4.10 文档的一般编辑规则 55 i0pU!`0 4.11 撤销和重做 56 D>sYPrf 4.12 设计文档 57 orIQ~pF# 4.10.1 公式 58 nr2r8u9r 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 \#dl6:" 4.10.3 沉积密度 59 l1+[ 4.10.4 平行和楔形介质 60 G&9#*<F$c 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 \ijMw 4.10.4 性能 61 ?o[L7JI 4.10.5 保存设计和性能 64 MZv\ C 4.10.6 默认设计 64 S~F` 4.11 图表 64 y79qwM. 4.11.1 合并曲线图 67 .~klG&>aV 4.11.2 自适应绘制 68 |4b)>8TL/ 4.11.3 动态绘图 68 UG[e//m 4.11.4 3D绘图 69 Fu _@!K
4.12 导入和导出 73 smU4jh9S 4.12.1 剪贴板 73 p25Fn`}H 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 TbhH&kG)1 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 '$m7ft} 4.13 背景 77 Q9>U1]\ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 h##WA=1QZ 4.15 生成Rugate 84 wH6u5*$p 4.16 参考文献 91 H[Weu 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 HKmcQM 5.1 Jobs 92 IazkdJX~ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 `
2%6V)s 5.3 输入材料 94 (#Mp 5C'X 5.4 设计数据文件夹 95 >Da~Q WW| 5.5 默认设计 95 >Pal H24] 6 细化和合成 97 *\XH+/]+ 6.1 优化介绍 97 %c/^_. 6.2 细化 (Refinement) 98 d;G~hVu 6.3 合成 (Synthesis) 100 qfL-r,XS`F 6.4 目标和评价函数 101 Ax<\jW< 6.4.1 目标输入 102 mLwY]2T" 6.4.2 目标 103 d'HOpJE 6.4.3 特殊的评价函数 104 7'w0 6.5 层锁定和连接 104 l";'6;g 6.6 细化技术 104 zFhgE*5 6.6.1 单纯形 105 jBtj+TL8 6.6.1.1 单纯形参数 106 6Wf^0ok 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 :Jxh2 6.6.2.1 Optimac参数 108 Z=$T1| 6.6.3 模拟退火算法 109 }NmNanW^ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 `y!/F?o+! 6.6.4 共轭梯度 111 lAASV{s{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 WS0JS' 6.6.5 拟牛顿法 112 Ex(3D[WmMW 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ?&c:q3_-Z 6.6.6 针合成 113 r|R7-HI 6.6.6.1 针合成参数 114 'Cg{_z.~c 6.6.7 差分进化 114 Tj`5L6N;8 6.6.8非局部细化 115 _PXdzeI. 6.6.8.1非局部细化参数 115 G*n2Ii 6.7 我应该使用哪种技术? 116 _
Jc2&(; 6.7.1 细化 116 <$Yi]ty 6.7.2 合成 117 9y] J/1# 6.8 参考文献 117 SBf FZw) 7 导纳图及其他工具 118 1(gfdx9|b 7.1 简介 118 9`Q@'(m 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 B@K[3 7.2.1 四分之一波长规则 119 Fvl`2W94; 7.2.2 导纳图 120 'ZHdV,dd 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 z@h~Vb&I 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 tL(B pL' 7.5 斜入射导纳图 141 _6LoVS 7.6 对称周期 141 =_d%=m 7.7 参考文献 142 [_!O<z_sB 8 典型的镀膜实例 143 665[ 8.1 单层抗反射薄膜 145 u<Xog$esu 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 's%q 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %'ZN`XftG 8.4 W-膜层 148 hC<14 8.5 V-膜层 149 q-AN[_@ 8.6 V-膜层高折射基底 150 D3]BTkMMS; 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 XD%wj 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 uofLhy! 8.9 四层抗反射薄膜 153 N6/T#UVns 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 yYTVXs`fVj 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 JOfV]eCL 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 R}{GwbF_\ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ?J&)W,~ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 kBsXfVs9 8.15十五层宽带抗反射膜 159 1y[B[\ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Y;Y1+jt 8.17 1/4波长堆栈 162 ")`S0n5e 8.18 陷波滤波器 163 m_lrPY- 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 AK/:I>M 8.20 褶皱 165 SkP[|g'56 8.21 消偏振分光器1 169 &RY | |