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2023-02-27 08:35 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
q.c)>=!. 内容简介 X H-_tvB Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 s_'&_>D 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 %up?70 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )h8}{* l4>^79* *
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Q?#I{l)V( 目录 CIjc5^Y2 Preface 1 >2'"}np* 内容简介 2 T$I_nxh[)L 目录 i <s9?9^!!V^ 1 引言 1 zxbfh/= 2 光学薄膜基础 2 Jsz!ro 2.1 一般规则 2 `Mnu<)v 2.2 正交入射规则 3 !sb r!Qt 2.3 斜入射规则 6 |A%9c.DG. 2.4 精确计算 7 v1.3gzR 2.5 相干性 8 c.ow4~> 2.6 参考文献 10 or/gx 3 3 Essential Macleod的快速预览 10 _)M,p@!?=h 4 Essential Macleod的特点 32 A&Y5z[p 4.1 容量和局限性 33 *MP.YI:h 4.2 程序在哪里? 33 Vw;Z0_C 4.3 数据文件 35 MUO<o 4.4 设计规则 35 [9 W@<p 4.5 材料数据库和资料库 37 eTiTS*`u 4.5.1材料损失 38 54gr'qvr 4.5.1材料数据库和导入材料 39 K~N$s"Qx 4.5.2 材料库 41 cHs3:F~~ 4.5.3导出材料数据 43 jJy:/!i 4.6 常用单位 43 K^Awf6% 4.7 插值和外推法 46 Qp>leEs]+6 4.8 材料数据的平滑 50 l8\UO<^fY 4.9 更多光学常数模型 54 tt"<1
z@ 4.10 文档的一般编辑规则 55 g7 \= 4.11 撤销和重做 56 &*C5Nnlv 4.12 设计文档 57 M/zO|-j& 4.10.1 公式 58 E}@C4pS 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 g.lTNQm$u 4.10.3 沉积密度 59 eS`VI+=@0 4.10.4 平行和楔形介质 60 %6UF%dbYH` 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rE3dHJN; 4.10.4 性能 61 w;z7vN~/O 4.10.5 保存设计和性能 64 f7Gn$E|/r; 4.10.6 默认设计 64 ,>GHR{7>( 4.11 图表 64 =!q%
1 mP 4.11.1 合并曲线图 67 B,%Vy!o 4.11.2 自适应绘制 68 T(b9b,ov) 4.11.3 动态绘图 68 /^.|m3 4.11.4 3D绘图 69 oBzl=N3< 4.12 导入和导出 73 2jsbg{QS#_ 4.12.1 剪贴板 73 U!wi;W2 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 dbI>\khI 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ,eXtY}E 4.13 背景 77 T$4{fhV
\ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 RK3 yq$ 4.15 生成Rugate 84 ~>2uRjvkwB 4.16 参考文献 91 g@.$P>Bh 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 .E4*>@M5 5.1 Jobs 92 K7
e~%mY 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ).T&fa" 5.3 输入材料 94 *ByHTd 5.4 设计数据文件夹 95 }3pM,. 5.5 默认设计 95 } M#e\neii 6 细化和合成 97 k6G
_c;V 6.1 优化介绍 97 ys[Li.s: 6.2 细化 (Refinement) 98 p>6`jr 6.3 合成 (Synthesis) 100 D /eH~ 6.4 目标和评价函数 101 ^D yw(>9 6.4.1 目标输入 102 $.G 7Vt 6.4.2 目标 103 K_7pr~D]@r 6.4.3 特殊的评价函数 104 ajYe?z 6.5 层锁定和连接 104 _(W@FS 6.6 细化技术 104 &!!*xv-z 6.6.1 单纯形 105 P3M$&::D- 6.6.1.1 单纯形参数 106 B9v>="F 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 f5jl$H. 6.6.2.1 Optimac参数 108 91-bz^=xO 6.6.3 模拟退火算法 109 N8<J'7% 6.6.3.1 模拟退火参数 109 L@}PW)# 6.6.4 共轭梯度 111 \}j MC 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 @MW@mP)# 6.6.5 拟牛顿法 112 ui8 Q2{z 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 #c"eff 6.6.6 针合成 113 Zk3Pv0c 6.6.6.1 针合成参数 114 m[hL
GD'Fi 6.6.7 差分进化 114 Lvk}% ,S8t 6.6.8非局部细化 115 l_B735 6.6.8.1非局部细化参数 115 la!]Y-s)'4 6.7 我应该使用哪种技术? 116 h Yu6PWK 6.7.1 细化 116 dcz?5O_{, 6.7.2 合成 117 {#,<)wFV\ 6.8 参考文献 117 PEMkx"h + 7 导纳图及其他工具 118 @[GV0*yz$ 7.1 简介 118 p/H.bG!z 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 m]p{]6h 7.2.1 四分之一波长规则 119 .RD<]BxJ 7.2.2 导纳图 120 RLF&-[mr3 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "oP^2|${ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 rhv~H"qzW 7.5 斜入射导纳图 141 9&mSF0q 7.6 对称周期 141 }
ueFy<F 7.7 参考文献 142 eP{srP3 9 8 典型的镀膜实例 143 X.]I4O&_ 8.1 单层抗反射薄膜 145 6].[z+ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 %mI0*YRma 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 1S{Biqi+ 8.4 W-膜层 148 n1[c\1 8.5 V-膜层 149 b)wcGBS 8.6 V-膜层高折射基底 150 6FS%9.Ws 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 AtT7~cVe 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ]5%0EE64 8.9 四层抗反射薄膜 153 pR0[qsQM 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 \Z{tC$|H 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ts]e M1; 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 z^Hc'oVXj: 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 \#sD`O 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 2"/MM2s 8.15十五层宽带抗反射膜 159 1gI7$y+? 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 G gO5=| 8.17 1/4波长堆栈 162 3?OQ-7, 8.18 陷波滤波器 163 (d9~z 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 _]:b@gXUw 8.20 褶皱 165
}{0}$#zu 8.21 消偏振分光器1 169 WMbkKC.{J 8.22 消偏振分光器2 171 _&KqmQ8$7 8.23 消偏振立体分光器 172 RTtKf i} 8.24 消偏振截止滤光片 173 a ~o<>H 8.25 立体偏振分束器1 174 K#"=*p, 8.26 立方偏振分束器2 177 yD[d%w 8.27 相位延迟器 178 c:Ua\$)u3, 8.28 红外截止器 179 +qi& | |