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2023-02-27 08:35 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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N+-N 内容简介 @UkcvhH Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 L.l"'=M 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (<itE3P 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 /uW6P3M q,QMvUK:
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 :==kC672 目录 B/i,QBPF] Preface 1 ]rZ"5y 内容简介 2 e>uV8!u 目录 i [^1;8Tbk 1 引言 1 cV&(L]k>` 2 光学薄膜基础 2 7bQ#M )} 2.1 一般规则 2 xqmJPbA
2.2 正交入射规则 3 FL(gwfL 2.3 斜入射规则 6 , $78\B^ 2.4 精确计算 7 "aB]?4 2.5 相干性 8 =WJ*$j( 2.6 参考文献 10 Ds&)0Iwf 3 Essential Macleod的快速预览 10 .6(Bf$E 4 Essential Macleod的特点 32 s@^GjA[6+ 4.1 容量和局限性 33 ib/&8)Y+J 4.2 程序在哪里? 33 pOlQOdl 4.3 数据文件 35 k,X` }AJ6 4.4 设计规则 35 e_\4(4x 4.5 材料数据库和资料库 37 +@usJkxul 4.5.1材料损失 38 DK*2d_ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]*sXISg1 4.5.2 材料库 41 Ij@YOt 4.5.3导出材料数据 43 |+cyb<(V J 4.6 常用单位 43 VP0wa>50! 4.7 插值和外推法 46 ?!Rlp/ 4.8 材料数据的平滑 50 A~h.,<+" 4.9 更多光学常数模型 54 %mtW-drv> 4.10 文档的一般编辑规则 55 ^0~?3t5 4.11 撤销和重做 56 UMx>n18;f9 4.12 设计文档 57 9p>3k&S 4.10.1 公式 58 vRRi"bo 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 'ZTE"KT 4.10.3 沉积密度 59 &P[eA u 4.10.4 平行和楔形介质 60 G)5%f\& 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 kpxd+w 4.10.4 性能 61 E-.M+[ 4.10.5 保存设计和性能 64 m`4Sp#m 4.10.6 默认设计 64 eu^z&R!um 4.11 图表 64 Q4CxtY 4.11.1 合并曲线图 67 FyZw='D 4.11.2 自适应绘制 68 %$!}MxUM 4.11.3 动态绘图 68 kTc'k 4.11.4 3D绘图 69 (`!?p ^>A 4.12 导入和导出 73 p&:RSO 4.12.1 剪贴板 73 L$i&>cF\_> 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 w<-CKM3qe 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 /3'-+bp^= 4.13 背景 77 H.|FEV@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 wEQV"I 4.15 生成Rugate 84 _4x X}Z; 4.16 参考文献 91 J@p[v3W 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 %I&Hx<Hj 5.1 Jobs 92 7=Ew[MOmM 5.2 创建一个新Job(工作) 93 `<b 3e(A 5.3 输入材料 94 h+t{z"Ic= 5.4 设计数据文件夹 95 |a3)U%rUEQ 5.5 默认设计 95 3xp%o5K 6 细化和合成 97 8iqx*8} 6.1 优化介绍 97 L*D-RYW 6.2 细化 (Refinement) 98 UT==x< 6.3 合成 (Synthesis) 100 0Evmq3,9 6.4 目标和评价函数 101 FL/@e$AK 6.4.1 目标输入 102 eaYQyMv@ 6.4.2 目标 103 [0Z
r z+q 6.4.3 特殊的评价函数 104 .!l#z|/x 6.5 层锁定和连接 104 |XLx6E2F 6.6 细化技术 104 5?kF'yksR 6.6.1 单纯形 105 zw7=:<z= 6.6.1.1 单纯形参数 106 V78QV3 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 C8-4 m68" 6.6.2.1 Optimac参数 108 t?QR27cs$ 6.6.3 模拟退火算法 109 $X9-0- 6.6.3.1 模拟退火参数 109 mI@E>VCV[ 6.6.4 共轭梯度 111 kbM 4v G 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 #gUM%$ 6.6.5 拟牛顿法 112 A_CEpG] 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 sn}U4=u 6.6.6 针合成 113 f,)[f M4 6.6.6.1 针合成参数 114 kQsyvE 6.6.7 差分进化 114
[^8*9?i4 6.6.8非局部细化 115 fS w00F{T 6.6.8.1非局部细化参数 115 Q<;f-9q@ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 8ooj) 6.7.1 细化 116 " <m)Fh; 6.7.2 合成 117 (C!u3ke2D 6.8 参考文献 117 .NiPaUzc< 7 导纳图及其他工具 118 :G9.}VrU 7.1 简介 118 n/=&?#m}d 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6}K|eUak/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 4%KNHeaN 7.2.2 导纳图 120 zY bSv~) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 !FA^~ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 5A>W;Q\4 7.5 斜入射导纳图 141 ,fT5I6l 7.6 对称周期 141 H9xxId?3u 7.7 参考文献 142 [6FCbzS_W 8 典型的镀膜实例 143 cPPE8}PVH 8.1 单层抗反射薄膜 145 /H: '(W_b; 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 vMRM/. 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 <fJoHS 8.4 W-膜层 148 ]O,!B''8k 8.5 V-膜层 149 Yih^ZTf]O? 8.6 V-膜层高折射基底 150 : N> 5{ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ]mn(lK 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Fm#4;'x5E 8.9 四层抗反射薄膜 153 B=(m;A#G 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 s~6?p%
2] 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 BikmAa 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 "e&S*8QhM 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 sG%Q?&- 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 OU]!2[7c 8.15十五层宽带抗反射膜 159 /E2/3z 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 c#<v:b 8.17 1/4波长堆栈 162 5$`i)}:s 8.18 陷波滤波器 163 JY"<b6C^ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 >Yl?i&3n 8.20 褶皱 165 9} :n 8.21 消偏振分光器1 169 A%Pjg1(uX 8.22 消偏振分光器2 171 l-Xxur5M' 8.23 消偏振立体分光器 172 17a'C 8.24 消偏振截止滤光片 173 +w?RW^:Q= 8.25 立体偏振分束器1 174 '{5|[ 8.26 立方偏振分束器2 177 4l@*x^F 8.27 相位延迟器 178 ^.& | |