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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 :A[ Gtc(_  
b`^$2RM&  
As"'KR  
eN/Jb;W  
该用例展示了… h.67] U7m  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: \UXQy{Ex  
倾斜光栅介质 y"2c; *7[{  
体光栅介质 (vQShe\  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 DU;]Q:r{  
2W}RXqV<  
b&LhydaJ  
YXmLd'F^3  
光栅工具箱初始化 "DUL} "5T  
ddw!FH2W (  
&B))3WFy  
 初始化 #oHHKl=M  
开始-> 1f}Dza9  
光栅-> m^TkFt<BM  
通用光栅光路图 }+SnY8A=KZ  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 Ngg (<ZN  
光栅结构设置 z8gp<5=  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 g >X!Q  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 b+{yF  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 Z rvb %  
]+J]}C]\d  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 l!GAMK 6o  
0n5N-b?G-@  
堆栈编辑器 V;>p@uE,P  
P*\.dAi  
%R}}1  
(Y-7B  
堆栈编辑器 `>K;S!z  
A H`6)v<f  
dD#A.C,Rz  
涂层倾斜光栅介质 w@hm>6j  
`2GHB@S"k  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 *`|F?wF  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 0'a.Ypf  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 b8>r UGA{  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) kGCd!$fsk  
!)ee{CwNc  
94H 6`  
VNF@)!l  
涂层倾斜光栅介质 x#'# ~EO-G  
EWbFy"=  
N{f RZN  
mlX^5h'  
涂层倾斜光栅介质 sY=$\hj  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 "`16-g97  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 `j@2[XdHu  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 z0a=A:+/  
YMC*<wXN  
7n {uxE#U)  
xoPpu  
涂层倾斜光栅介质参数 EZao\,t  
jeC3}BL }  
L= hPu#&/  
W$  M4#  
涂层倾斜光栅介质参数 Q R;Xj3]v  
$GEY*uIOa  
,{7Z OzA  
V{ECDg P  
高级选项&信息 B xq(+^T  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 iq=<LOx  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 o[0Cv*  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 Fd9ypZs  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 YrFB~z.V  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 WM~@/J  
k#&d`?X  
pvD\E  
&+Xj%x.]  
高级选项&信息 V!(Ty%7  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 *CMe:a  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ):31!IC  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 ymiOtA Z  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 q0&g.=;  
:[?hU}9  
:iP2e+j  
=E,^ +`M  
高级选项&信息 TDq(%IW  
e3}`]  
*shE-w ;C  
y}Oc^Fc  
高级选项&信息 Cj#$WZga%  
V'K1kYb  
by (xv0v;  
 v=R=K  
体光栅介质 TFjb1 a,)  
buu~#m 1z  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 :q/%uca9  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 <k+dJ=f  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 jhOQ)QE|  
>|'u:`A  
w9Bbvr6  
YzNSZJPD  
体光栅介质参数 ,4M7:=gf  
%F_)!M;x  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 s]@()?.E$  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 ^{lcj  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 3copJS  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) pyJY]"UHVE  
>Z r f}H  
7u73v+9qn:  
xkV(E!O  
体光栅介质参数 x]{}y_  
I7,5ID4pn  
ammlUWl  
1fUg  
高级选项&信息 (?4m0Sn>#h  
$P rji  
jkTC/9AE|  
1k"<T7K  
高级选项&信息 UEHJ? }  
}@6ws/5  
Pfi|RTX$'*  
XT+V> H I  
在探测器位置处的备注 @ >_v/U'  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 !1(*D*31  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 AH-B/c5  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 In13crr4!  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) b?i5C4=K  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 rMr:\M]t  
89n\$7Ff9  
b$FK}D5  
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