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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 [1{uK&$e  
h*9s^`9)  
*XZlnO  
fB3W} dr  
该用例展示了… qkN{l88  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: k&PxhDf  
倾斜光栅介质 + \AiUY  
体光栅介质 Jx8?x#}  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 2pEr s|r  
o3~ecJ?k  
NiQ_0Y}  
9'|NF<  
光栅工具箱初始化 {m/h3hjFa  
yH0BNz8V  
{@c)!% 2$  
 初始化 \]eB(&nq  
开始-> :Ojsj_Z;;  
光栅-> +84JvOkWi  
通用光栅光路图 eS/4gM7%  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 S-\;f jh  
光栅结构设置 ah\yw  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 xu _:  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 <g|\]\C|  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 VnB"0 "%w  
M/X&zr  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 1 \_S1ZS  
-5~&A6+ILn  
堆栈编辑器 ;LM,<QJ  
WZ a?Xb  
Rs0O4.yi;@  
ySLa4DQf  
堆栈编辑器 +&7D ;wj=  
V]V~q ]  
e==}qQ  
涂层倾斜光栅介质 n:-:LSa+3  
I'M,p<B  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 B1GBQH$Ms  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 1I*b7t  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 Vnu*+  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) J1Ay^*qRU  
DRC2U%[  
y3 vDKZ  
&"(xd@V)]A  
涂层倾斜光栅介质 tp-PE?  
y Q_lJIX  
Ps@a@d"83  
e^?0uVxS1  
涂层倾斜光栅介质 y my/`%  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ?=X G#we  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 '+6SkZ  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 vKv!{>,v9Z  
dvWQ?1l_  
~|_s2T  
]chfa  
涂层倾斜光栅介质参数 a9hK8e  
o& g0 1t  
.""?k[f5Q  
k?%?EsR  
涂层倾斜光栅介质参数 5E|y5|8fb  
gr?[KD l~  
rq;Xcc  
3dlL?+Y#  
高级选项&信息 Q Q3a&  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 Z%]s+V)st  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 8[zux4<m  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ?U\@?@  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 hmfO\gc}y  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 9A@/5Z:v5W  
8reis1]2S  
+j*hbG=  
73b(A|kQ@  
高级选项&信息 >}& :y{z~  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 r5h+_&v,M  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 eI%{/>  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 Sn(e@|!G  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 `1AVw] k  
tVB9kxtE  
}Zs y&K  
rHzwSR@}1  
高级选项&信息 =0Z^q0.  
mBQA~@ }  
Ev adY  
kj$Ks2!W  
高级选项&信息 xc4g`Xi  
#le1 ^ <w7  
_"b[U T}m  
q%g!TFMg  
体光栅介质 G?p !*7N  
}XJA#@  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 3}: (.K  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 g4Y1*`}2f  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 ] LcCom:]  
?Xdb%.   
_,,w>q6K  
4^3}+cJ7j  
体光栅介质参数 FTVV+9.l:  
F$tshe(  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 zSJSus  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 v:$Ka@v6  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制  I&m C  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) NNOemTh  
{`-f<>N3  
hH&A1vUv  
}Kt`du=  
体光栅介质参数 V8Lp%*(3  
aR- ?t14  
3} Xf  
]~YY#I":  
高级选项&信息 $(3mpQAg  
U*p;N,SjQ  
QfdATK P  
f ye=8 r  
高级选项&信息 <"GgqyRzv  
bS1?I@  
_Se0,Uns  
zwLJ|>  
在探测器位置处的备注 >/BMA;`  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 0~/'c0Ho  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 }0y2k7^]  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 jTeHI|b  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) O`M 6 =\  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Lrrc&;  
#YiphR&  
efT@A}sV  
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