首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 使用特殊介质的光栅结构的配置 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 sBqOcy  
J |UFuD  
h'_$I4e)  
,068IEs  
该用例展示了… vz1I/IdTd  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 4MtRI  
倾斜光栅介质 1rLxF{,  
体光栅介质 o=xMaA  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 {SRD\&J[  
_Vt(Eg_\  
@l5GBsLK  
kf9]nIo  
光栅工具箱初始化 NVB#=!S  
f;Ijl0d@  
vGI)c&C>  
 初始化 HW#@e kh  
开始-> ]v]:8>N  
光栅-> ,Ik~E&Ku2'  
通用光栅光路图 E0DquVrz  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 1&9w]\Ae7l  
光栅结构设置 RUVrX`u*(  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 Neii$  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ]k+(0qxG  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 k5+ Fxf  
{/>uc,8O  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 jtE'T}!d  
U9awN&1([  
堆栈编辑器 wL6G&6]</W  
&Mt0Qa[  
q]SH'Wd  
ltNY8xrdGN  
堆栈编辑器 Z,M2vRj"qT  
|)*!&\Ch  
Ol|fdQ  
涂层倾斜光栅介质 3 +`,'Q9  
S?VKzVDB.S  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 `G:hC5B  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 roe_H>  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 s ;]"LD@  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) sN5Mm8~  
W2M[w_~QE  
w"O;: `|n  
8E9k7  
涂层倾斜光栅介质 Xr88I^F;  
}h8U.k?v  
!0):g/2h  
L6ypn)l  
涂层倾斜光栅介质 s*eM}d.p  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 <DII%7q,6/  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 bBGg4{  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 SbsdunW+?  
~~I]SI k{  
Ay%]l| Gm  
_.%g'=14f  
涂层倾斜光栅介质参数 ~*Y/#kPY  
o? K>ji!  
.SSPJY(  
.G"T;w 6d  
涂层倾斜光栅介质参数 oU*e=uehj  
-Hy> z  
]+ tO  
Hd gABIuX  
高级选项&信息 s5MG#M 9  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 Xd1+?2  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 vy>(?[  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 9C5F#(uY  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 .t{uzDM  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Kf)$/W4  
vB5mOXGNq  
rm|,+ {  
2(Yt`3Go(  
高级选项&信息 %L-{4Z!"sI  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 W v,?xm  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 T/J1 b-  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 A v;NQt8ut  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 zW.Ltz  
*0r!eD   
k9VWyq__  
~uB@oKMru  
高级选项&信息 D(e,R9hPU  
(+BrC`  
%0f*OC  
<N=ow"rD  
高级选项&信息 eq9qE^[Z&  
`;m0GU68  
b8$%=Xp  
x@> ~&eP  
体光栅介质 @9k/od@mW  
?4Rq +  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 8Kn}o@Yd  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 yDpv+6(a  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 ?b(DDQMf  
NxFCVqGb  
?tT89m3_E  
i A'p!l |P  
体光栅介质参数 Ku3NE-)  
i/C0 (!  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 !Uhcjfq`e  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 7EL0!:Pp3  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 90H/Txq  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) wvr`~e  
.wtYost v  
|(Xxi  
oiz]Bd  
体光栅介质参数 ItAC=/(d  
_e|-O>#pl  
ZalL}?E ?  
o+S?j*mv@  
高级选项&信息 ksYPF&l  
I7<UC{Ny  
c&`]O\D-c  
q1/mp){  
高级选项&信息 ;;EFiaA  
,%y!F3m  
grJ(z)c  
SNHAL F  
在探测器位置处的备注 ^)3=WD'!  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 .e5rKkkT  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 G/KTF2wl7  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 SMQC/t]HT  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) j~hvPlho  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 H\|H]:CE  
u$^r(.EV  
g{m~TVm'  
查看本帖完整版本: [-- 使用特殊介质的光栅结构的配置 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2025 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计