首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 使用特殊介质的光栅结构的配置 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 byoP1F%  
SEa'>UG  
+e}v) N  
tBC`(7E}  
该用例展示了… vVQwuV  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: Y S/x;  
倾斜光栅介质 9+H C!Uot  
体光栅介质 Cp4 U`]  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 f 1s3pr??  
Z;Q2tT /F  
$p:RnH\H1  
R8|H*5T?+  
光栅工具箱初始化 _)-t#Ve  
B;x5os  
D1hy:KkAv]  
 初始化 D$@5$./  
开始-> {\zTE1X9  
光栅-> ;Z^\$v9?  
通用光栅光路图 )` ~"o*M  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 q:h7Jik  
光栅结构设置 K#Ia19au5  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 .n$c+{  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 |H-%F?<{  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 #uTNf78X  
[g )HoR=&  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 by07l5  
t5O '7x  
堆栈编辑器 6mp8v`b  
) uM*`%  
^m0nInH  
3.?G,%S5.$  
堆栈编辑器 8XfhXm>~  
nA owFdCD  
/bdL.Y#V  
涂层倾斜光栅介质 mok94XuK)  
xB5qX7*.  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 75v7w  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 F*u"LTH  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 (KG2X  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) e={ ?d6  
-gn!8G1  
74_':,u;]~  
y{>T['"@  
涂层倾斜光栅介质 ?+)>JvWDz  
3+[;  
r:{;HM+  
)6 U6~!k  
涂层倾斜光栅介质 B*Z}=$1j  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ._%8H  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 K<wg-JgA  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 t,NE`LC  
pTB1I3=.u  
-%fc)y&$  
Xsk/U++  
涂层倾斜光栅介质参数 @`mr|-Rp@  
V36u%zdX5n  
HIGTo\]Z  
g3|k-  
涂层倾斜光栅介质参数 J,G/L!Bp  
t $m:  
sA~Ijg"6  
mX/'Fta  
高级选项&信息 ^O.` P  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 VwN=AFk Oj  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 U| T}0  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 |zbM$37 ?k  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 x)R1aq  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Prc (  
we0haK  
<=~*`eWV  
Ddh  
高级选项&信息 g es-nG-  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 :]icW ^%  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 &( ZEs c  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 Aflf]G1  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 !_q=r[D\  
zYxA#TZL  
AvVPPEryal  
j ];#=+  
高级选项&信息 =qvn?I^/  
o\<JG?P  
6&"*{E  
E]Q d5l  
高级选项&信息 FKtG  
rR4?*90vjj  
8UzF*gS  
m2%n:  
体光栅介质 kXWC o6?  
hzk4SOT(  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 d};[^q6X  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 x"7PnN|~  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 a51}~V1  
5g`J}@"k  
e= XC$Jv  
ai<K6)  
体光栅介质参数 [F!h&M0z  
!gL1  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 4j}.=u*X7  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率  Spw^h=o  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 : sG/  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) :*vSC:q  
Rzyaicj^c  
SBaTbY0  
\maj5VlJ  
体光栅介质参数 tb>Q#QB&u  
hltUf5m'b  
8ly Ng w1  
*Z+U}QhHD6  
高级选项&信息 ?Ld:HE  
- i{1h"  
tiy#b8  
&k`/jl;u  
高级选项&信息 O) )j  
v+i==vxg  
6o^O%:0g  
M<x><U#]A  
在探测器位置处的备注 +f}w+  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 f7a"}.D $  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 g2vt(Gf;  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 l$!Z};mw0E  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) &?I3xzvK  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 4<- E0  
-dw/wHf"  
'X\C/8\  
查看本帖完整版本: [-- 使用特殊介质的光栅结构的配置 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计