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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 T//+&Sk[  
)uJ`E8>-  
97 X60<  
x-k /rZ  
该用例展示了… UVRV7^eTe  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: X~VZ61vNu  
倾斜光栅介质 |&*rSp2iH  
体光栅介质 #Yb9w3N  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ^O9m11  
GdwHm  
E*]L]vR  
xg!\C@$  
光栅工具箱初始化 3gXUfv2ID  
78A4n C  
b<MMli  
 初始化 ,tc]E45  
开始-> 9GOyVKUv  
光栅-> 5%$kAJZC-  
通用光栅光路图 eh=bClk  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 N^j''siB  
光栅结构设置 M4]|(A  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 E 4(muhY  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 uB9+E%jOdQ  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 n m$G4Q  
V#FLxITk  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 ITOGD  
k.hSN8  
堆栈编辑器 ?|F;x"  
.j,&/y&  
unB "dE  
SQRz8,sqkw  
堆栈编辑器 +DDvM;31w  
+1A<kJ  
@ uWD>(D  
涂层倾斜光栅介质 iTyApLV  
0 N^V&k   
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 }e6:&`a xD  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 T}LJkS~*l  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 CF4y$aC#  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) @J)vuGS  
4 df1)<}U-  
8BdeqgU/_  
DA\O,^49h  
涂层倾斜光栅介质 AY]nc# zz  
nhxl#  
b(,[g>xH   
 ,1kV9_x  
涂层倾斜光栅介质 ZaV@}=Rd8  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 A`8If  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 c }cboe2  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 [O'p&j@  
I!bZ-16X  
 #pK)  
_u!G 6   
涂层倾斜光栅介质参数 2HNS|GHb&  
:zoX Xo  
}9dgm[C[b  
wm4e:&  
涂层倾斜光栅介质参数 C\[UAxZ3X  
' ga2C\)  
S] a$w5ZP  
7]Yd-vA  
高级选项&信息  '%4,!  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 )$i3j 1[;  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 `z.#O\@o  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 c eX*|B@=  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 v|z1nD!?]  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 W525:h52{  
gsH_pG-jU  
^~od*:  
Ws@s(5r  
高级选项&信息 `.XU|J*z,  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 |@F<ajlV  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 v]>(Ps )R  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 +aap/sYp  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 04TV. /uA  
"M]]H^r5  
,#{aAx|]  
o=}?aC3I  
高级选项&信息 sj~'.Zs%  
{s]eXc]K}  
'u~use"  
}^t?v*kcA  
高级选项&信息 g=wnly  
>?tpGEZ\  
l0f6Lxfz  
+$C5V,H ~  
体光栅介质 Y`v&YcX;  
!% Md9Mu!o  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ~}fpe>M:  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 5{UGSz 1  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 KAGq\7  
<Z Ls+|1  
Bb6_['y  
OB:G5B`  
体光栅介质参数 &%<G2x$  
U.\kAEJ  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 <\u%ZB  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 *!r8HV/<  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 xfilxd  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) B(hNBq7  
SrxX-Hir  
LdcP0G\"VG  
a[!':-R`s  
体光栅介质参数 ^B<jMt  
PeOgXg)L`z  
0X;Dr-3<  
3't?%$'5  
高级选项&信息 \I> ,j,c  
(Xx @_  
&Ef'5  
0z .&  
高级选项&信息 Ty>`r n  
`C3F?Lch  
0W@C!mD~  
x~ I cSt  
在探测器位置处的备注 Z|u_DaSrr|  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面  (1ebE  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 }wn GOr  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 NoI=t  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) qzq>C"z\Y$  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 lPjgBp{/  
s`TfNwDvU  
7kO 1d{u6b  
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