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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ~zF2`.  
J-V49X#  
KzphNHd  
]Bnwk o  
该用例展示了… nWJ:=JQ i"  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ufrqsv]=  
倾斜光栅介质 ;:mu}  
体光栅介质 zN~6HZ_:^  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 }gGkV]  
Puh$%;x  
R^n@.^8s  
y3eHF^K+$  
光栅工具箱初始化 347eis'  
o>?*X(+le  
!kL> ,O>/  
 初始化 zhblLBpeE\  
开始-> 8)yI<`q6  
光栅-> MCc$TttaVz  
通用光栅光路图 7&B$HZ  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 bAwl:l\`  
光栅结构设置 . +  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 PRB{VC<k  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 P"_$uO(5x  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 JC#>Td  
5x8+xw3Eh  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 bh p5<N  
> \Sr{p5KR  
堆栈编辑器 D y-S98Y  
1.U`D\7mb  
>[10H8~bI/  
>~nF=   
堆栈编辑器 H%F>@(U  
8, "yNq  
h"+ `13  
涂层倾斜光栅介质 .dMVoG5  
xdvh-%A4  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 `D$Jv N  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 WjSc/3Qy  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 kgdT7  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) l^MzN  
kzn[ =P  
Q Fm|-j  
mTNB88p8^D  
涂层倾斜光栅介质 Nes=;%&]G  
2i{cQ96  
aUHcYc\u  
8I;XS14Q  
涂层倾斜光栅介质 $Xm6N@  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 bg,9@ }"F  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 RwI[R)k  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Fs_]RfG  
Z/;Xl~  
L|-98]8>  
1923N]b  
涂层倾斜光栅介质参数 G;NF5`*4mc  
]?O2:X  
/S5| wNu  
<f@"HG l  
涂层倾斜光栅介质参数 {@! Kx`(:  
;Gx)Noo/>  
9O{b]=>wq  
y[B>~m8$  
高级选项&信息 _Z5Mw+=19  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 98=wnWX 6$  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 (Yo>Oh4  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 bVP"(H]  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 s,#>m*Rh  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 +)zOer,  
sf&]u;^DY  
A_Frk'{qhB  
8-<:i  
高级选项&信息 4_Dp+^JF  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 wtje(z5IL  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 {uzf"%VtP  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 )95f*wte  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 W9NX=gE4  
Xpzfm7CB/  
McB[|PmC  
9tF9T\jW  
高级选项&信息  : ]C~gc  
(#+^&1  
A}eOFu`  
B)d(TP,>  
高级选项&信息 Lemui)  
8WnwQ%;m?  
ZP{*.]Qu  
vVOh3{e|  
体光栅介质 {<<U^<6}  
,v"YqD+GC5  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 / m=HG^!  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 UFMA:o,  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 |1j["u1  
| Bi!  
l\i)$=d&g  
:OuA)f  
体光栅介质参数 R17?eucZ  
#\=FO>  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 !r<pmr3f@7  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 <Y}R#o1Z  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 WlU0:(d  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) q<M2,YrbAI  
a |X a3E  
&v@a5L  
$` ""  
体光栅介质参数 vX.VfY  
T:~vk.Or  
:> 5@cvc  
j:v@pzTD  
高级选项&信息 uLV#SQ=bZN  
+{oG|r3L  
U>Slc08N  
iUN Ib  
高级选项&信息 Vh4X%b$TV  
<J`0  
X9V*UXTc  
%V7at7>o  
在探测器位置处的备注 EFM5,gB.m  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 T{-CkHf9Q  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 yd d7I&$  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 Tw-;7Ae  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) [<@.eH$hU/  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 &OH={Au  
K  &N  
3EPv"f^V  
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