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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 -/#VD&MJO=  
?P+n0S!  
-+'fn$  
KtT.WHr(m  
该用例展示了… S~ dD;R  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: #Ub"Ii  
倾斜光栅介质 ]x8_f6;D  
体光栅介质 FS3MR9  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 c)d*[OI8  
uCc.dluU  
%idn7STJ}  
N1lhlw6  
光栅工具箱初始化 n{>Ge,enP0  
(,5oqU9s@  
*K9I+t"g  
 初始化 w/8`]q  
开始-> 7}r!&Eb  
光栅-> E+Jh4$x {  
通用光栅光路图 ZZkxEq+D  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 AL%gqt]  
光栅结构设置 >^1|Mg/!>  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 1v)X]nW  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 9uXuV$.  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 t/;@~jfr@  
p!+7F\  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 3)F9:Tzw1  
H-?wEMi)*u  
堆栈编辑器 D;f[7Cac  
=h?Q.vad  
+N161vo7  
_(CuuP$`I  
堆栈编辑器 ?'xTSAn  
pK)*{fC$`  
A)5-w`1  
涂层倾斜光栅介质 @S/PB[%S  
:NB,Dz+i  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 r52X}Y  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 e ~X<+3<  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 64Ot`=A"  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) Cd4a7<-  
JvA6kw,  
}uI(D&?+h  
-ff|Xxar{  
涂层倾斜光栅介质  &cjE+  
J`6X6YZ  
b&LfL$  
o8 A]vaa  
涂层倾斜光栅介质 -qki^!Y?  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 -IBf;"8f  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 !J34yro+s  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 sZ,MNF8i  
^*;{Uj+O~Y  
5zebH  
F^5<o  
涂层倾斜光栅介质参数 ~|j:xM(i  
j@1rVOmK  
A#s`!SNv  
NLe+  
涂层倾斜光栅介质参数 Sz\"*W;>  
T[w]w  
< bHu9D  
m){.{Vn]  
高级选项&信息 -Yaw>$nJ  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 H'Mc]zw_,  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 "K EB0U  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 'qTMY*  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ,"U8Fgf[r  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 7wt2|$Qz  
\V@Hf"=j  
Luxo,Ve  
b P>!&s_  
高级选项&信息 ;T0Y= yC  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Q AJX7  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 lO/<xSjNd  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 q&IO9/[dk  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 7w7mE  
1'5I]D ec  
ICNS+KsI  
^}XKhn.S'  
高级选项&信息 zcrLd={  
0B(<I?a/  
%0]vW;Q5  
"ei*iUBN:  
高级选项&信息 ;!<WL@C~  
=RR225  
S~1>q+<Q  
S7-ka{S  
体光栅介质 KlgPDV9mg  
Si<9O h  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 nZ>bOP+,  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 t<O5_}R%d  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 9I>+Q&   
/^~3Ib8Fw+  
qC9$xIWq  
'hl>pso.  
体光栅介质参数 i/rdPbq  
DPvM|n`TW  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 z\Y+5<a  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 e{edI{g  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ?3!"js B  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) [GeJn\C_?  
q!#e2Dx  
Nw@tlT4  
x^aqnKoJ%\  
体光栅介质参数 4[z a|t  
?2VY ^7N[  
ZF :e6em  
8tWOVLquJ  
高级选项&信息 eqcV70E8cK  
QRnkj]b  
aG7QLCL  
~U&,hFSPY  
高级选项&信息 UhCE.# U  
- |mWi  
@psyO]D=j%  
-;_`>OU{  
在探测器位置处的备注 G#/}_P  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 G l+[ |?N  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 27*u^N*z@  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 gnmKh>0@6o  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) u-Pa:wm0-  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 '~i} 2e.  
&| %<=\  
;bVC7D~~4w  
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