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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 dV Q-k  
4Td{;Y="yF  
"7 v-` i  
-!)xQvagD.  
该用例展示了… :0/q5_t  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: k"N(o(  
倾斜光栅介质 cv(PP-'\  
体光栅介质 (n1Bh~R^  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 qClHP)<  
(Z}>1WRju  
9z I.pv+]  
q\rC5gk >  
光栅工具箱初始化 fgj^bcp-  
)XfzLF7  
X]loJoM9  
 初始化 5*\\J&H  
开始-> 5`]UE7gT  
光栅-> {}o>{&X  
通用光栅光路图 %hN.ktZ/s  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 " v}pdUW  
光栅结构设置 +f0~D(d!_  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 ]hud4i~  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 Jd,)a#<j  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 @h?shW=^  
v_S4hz6w\  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 za'6Y*CGgX  
3jogD  
堆栈编辑器 K\^ 0_F K  
7DKz;o  
81%8{yn!$"  
h7X_S4p/Mg  
堆栈编辑器 0e[d=)XG  
93IFcmO.H@  
\tyg(srw0  
涂层倾斜光栅介质 *[eL~oN.c  
O9(r{Vu7u  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ki;UY~  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 Lz DI0a.  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 @mt0kV9  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) OTB$V k  
'<iK*[NW  
>\<*4J$PZ  
O;HY%  
涂层倾斜光栅介质 +KEkmXZ  
`N/RHb%  
% p?b rc  
@^ ik[9^H  
涂层倾斜光栅介质 ~e@>zoM'^  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 qP*}.Sqk7  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 0(8H;T  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 W2-=U@  
'rb'7=z5  
Wk4.%tpeO7  
?R Fg$Z'^  
涂层倾斜光栅介质参数 vQ@2FZzu>  
kJs^ z  
1on'^8]0  
rAdacnZV  
涂层倾斜光栅介质参数 p3^jGj@  
Uf*EJ1Ei  
T:asm1BC[  
4\ /*jA  
高级选项&信息 _L.n,  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 V_U'P>_I  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 K,xW6DiH  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 P`1EPF  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Lb=W;9;  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 Fs/?  
fvo<(c#Y#  
|-2}j2'  
Ek.&Sf$cd'  
高级选项&信息 Q}2[hB  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 (9fdljl],:  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 }ublR&zlp  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 6er(%4!  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 cm>E[SHr  
7_KhV  
~KIDv;HSb[  
r@)A k  
高级选项&信息 zz$q5[n  
\X}8 q  
!#D=w$@r:  
@y~P&HUN  
高级选项&信息 \Xg?Ug*9w  
%.x@gi q  
73NZ:h%=  
q{4|Kpx@  
体光栅介质 uf)Oy7FQ  
<ZPZk'53<f  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 J0<p4%Cf  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 jPu5nwvUV>  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 Fq,N  
j=sBq.S  
f$xhb3Qn  
')PVGV(D+  
体光栅介质参数 '?/&n8J\  
-]"T^w ib  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 nTnRGf\T  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 j64 4V|z  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 X}JWf<=q  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) KjR4=9MD  
, r+"7$  
0-e  
m3 IP7h'  
体光栅介质参数 Z^6#4Q]YC  
H*U`  
 Q9y*:  
@5Qoi~o  
高级选项&信息 ]if;A)'  
$iJnxqn  
@&R1wr1>I5  
U}P,EP%p  
高级选项&信息 IKm&xzV-  
Yw"P)Zp  
5Hle-FDn9  
h(:<(o@<  
在探测器位置处的备注 ,t~sV@ap  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 l BiovT  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 XJFnih  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 zA{8C];~  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) BjD&> gO)  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ~zMKVM1Q.,  
Mvof%I  
-Cj_B\  
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