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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 RekTWIspT/  
gUzCDB^.:  
g nJe!E  
J6/Mm7R  
该用例展示了… bvzeU n  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 48Y5ppcS  
倾斜光栅介质 X*VHi  
体光栅介质 sF^3KJ|  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 7F.t>$'  
aN{C86wx  
h.FC:ym"  
C#[YDcp4  
光栅工具箱初始化 +lmMBjDa  
/`#sp  
^%wj6  
 初始化 #+p30?r0y  
开始-> fRC(Yyx  
光栅-> EU.vw0}u8  
通用光栅光路图 IO~d.Ra  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 2 |w;4  
光栅结构设置 I <`9ANe  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 w~@.&  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 Z{RRhJ  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 p*)RP2  
Gjq:-kX\  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 SHS:>V  
aG;6^$H~  
堆栈编辑器 epp ;~(xr  
e|u|b  
Bt4 X  
JCZ"#8M3  
堆栈编辑器 cGiS[-g  
[vb>5EhL!  
d)`XG cx{=  
涂层倾斜光栅介质  uZ][#[u  
4mSL*1j  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 N8|=K_;&  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 yaV=e1W  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 BUB#\v#a  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) D"_~Njf  
Z)Y--`*  
:" Q!Q@>  
-]c5**O}  
涂层倾斜光栅介质 =0 W`tx  
+N1oOcPC>C  
s.+2[R1HF  
f)hs>F  
涂层倾斜光栅介质 '(A)^K>+  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 .CH0P K=l  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Gs%IZo_  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 |1J=wp)#  
T677d.zaT  
^p(t*%LM  
rks+\e}^Z  
涂层倾斜光栅介质参数 Icf 4OAx  
+%(iGI{  
:"? boA#L  
K_j$iHqLF  
涂层倾斜光栅介质参数 3`_jNPV1  
INSI$tA~  
2h0I1a,7  
oZ95)'L,  
高级选项&信息 |eL&hwqzG  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 6$[7t?u  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Cd)e_&  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 r*]0PQ{?  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 :gv`)  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 M$ g%kqa  
}T%;G /W  
-e7|DXj  
7onMKMktM%  
高级选项&信息 rm2"pfs  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 5(bG  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m)9N9Ii#)  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 dq~p]h~,H  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 dgPJte%i  
aVvi_cau  
.CFaBwj  
v<bq1QG  
高级选项&信息 en>d  T  
|8}f  
Frn#?n)S9  
/G`&k{SiK  
高级选项&信息 ut%t`Y( ]  
\W;~[-"#  
h-hU=I8  
~(Gv/x  
体光栅介质 cAC2Xq  
awuUaE  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 NWPL18*C  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 dj4 g  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 Y9~;6fg  
>|SB]'C|  
84tuN  
(WiA  
体光栅介质参数 "{;]T  
B#o(21s  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Pa 2HFy2  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 <K:?<F  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 [bkMl+:/HG  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) 0X+Jj/-ge  
'dM &~L SQ  
(FZL>  
^ cN-   
体光栅介质参数 8 W8ahG}  
A=|LMJMWR  
q]:+0~cz  
wE3^6  
高级选项&信息 /tA$ 'tZ  
o1"U'y-9V  
h *)spwF-  
kac@yQD  
高级选项&信息 YD2M<.U  
>#dNXH]9  
H? N!F7s  
"[@-p  
在探测器位置处的备注 xr!FDfM.K  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 ]g3&gw  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 $f>Mz|j  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 #0`2wuo {  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) CU6rw+Vax  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 r S/Q  
l W'6rat  
s2g}IZfo  
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