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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 2P9gS[Ub  
dI'cZt~n  
?I{pv4G:  
{2<A\nW  
该用例展示了… c,%9Fh?(  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: t2Dx$vT*&  
倾斜光栅介质 '<" eG!O  
体光栅介质 qMT7g LB'1  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 OZ\]6]L  
e573UB  
Afm GA9  
"L^Klk?Vn  
光栅工具箱初始化 8 x$BbK  
o:E+c_^q`  
~e,k71  
 初始化 xBH`=e <  
开始-> \DsP '-t  
光栅-> m1DzU q;  
通用光栅光路图 xE(VyyR  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 7kmU/(8  
光栅结构设置 k2Yh?OH  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 k fER  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 1 FTxbw@  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 q]F2bo  
;O=tSEe  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 H\]ZtSw8-  
QI*Y7R~<  
堆栈编辑器 i=$##  
e(7F| G*  
GtcY){7  
,-7w\%*  
堆栈编辑器 mY9^W2:  
( )1\b  
nb}*IExd  
涂层倾斜光栅介质 6 R}]RuFQ  
y.6D Z  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 P,y*H_@k  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 g.yr) LHt0  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 f\CJ |tKX  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) F9rxm  
rlSar$  
#({0HFSC:j  
}3sj{:z{  
涂层倾斜光栅介质 !yAlb#yu  
pyA;%vJn  
wi'CBfr'z  
3 @XkO  
涂层倾斜光栅介质 c@d[HstBJ  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 5Ug.J{d  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 {+~}iF<%  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 O>]I!n`!!A  
[DS.@97n  
k<p$BZ  
f 7B)iI!  
涂层倾斜光栅介质参数 'TWZ@8h~  
k}T#-Gb  
0k"n;:KM8  
&2-dZK  
涂层倾斜光栅介质参数 b77Iw%x7  
Cf@~W)K  
D:`b61sWi_  
x6Q,$B  
高级选项&信息 LIfQh  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 =7{n 2  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 #- S%aeB  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 9[yW&t;#  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Zpfsh2`  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 OwhMtYq  
Wk1o H  
v@_}R_pX  
{%g]Ym=  
高级选项&信息 QWL$F:9:  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 JC| j*x(k/  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 8nzDLFxp_  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息  )l 0\TF  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 [n%=2*1p  
Ql`N)!  
X>}-UHKV+  
CUIFKM  
高级选项&信息 \F`%vZrKR  
YN.[KQ(!  
sfb)iH|sW  
p0c*)_a*  
高级选项&信息 AQAZ+g(IK  
'3B"@^]  
R@ksYC3 F  
N]yh8"7X  
体光栅介质 D^]g`V*N  
0\W6X;?  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 +5AWX,9,-  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 pBo=omQV  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 v#/k`x\  
p./9^S  
. W ~&d_n  
,O`a_b]  
体光栅介质参数 _.)6~  
CKB~&>xx  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 {|!> {  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 r}?uZ"]=?  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 =r1-M.*a.M  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) JU>F&g/|  
zDakl*  
0oT~6BGm  
!>E$2}Q|]  
体光栅介质参数 ^T>P  
Qs\m"yx  
Pp{Re|.  
_bsAF^ ;  
高级选项&信息  }BFX7X  
Bp:PAy  
l%\p  
W!Qaa(o?  
高级选项&信息 YY4XCkt  
g"}j  
^*g= 65!1  
f;{K+\T  
在探测器位置处的备注 !-tP\%'  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 7T69tQZ<  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 w ]%EJ|'  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 WALK@0E  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) \281X  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 (C9{|T+h  
%(}%#-X  
OCN:{  
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