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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 \~"#ld(x7  
rS~qi}4X  
}. %s xw  
N&;\PfG  
该用例展示了… 3-Y=EH_0  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: dl[ob,aCK  
倾斜光栅介质 rveVCTbC  
体光栅介质 (iDBhC;/B  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 zg]Drm  
/GsrGX8  
ha'qIT 3&  
B 1w0cS%%:  
光栅工具箱初始化 =g0*MZ;"  
N+>'J23d!  
a%[q |oyR  
 初始化 1*R_"#  
开始-> U6i~A9;  
光栅-> Pc4R!Tc  
通用光栅光路图 GAJ~$AiwHH  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 +>E5X4JC  
光栅结构设置 +#v4B?NR  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 9H$g?';  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 A c:\c7M;  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 75(W(V(q  
)l2P}k7`  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 j:?N!*r=  
cHn;}l!I  
堆栈编辑器 FrR9{YTA .  
~x+Ykq0  
5`UJouHi  
Dh8(HiXf:  
堆栈编辑器 ~j}J<4&OvC  
JTkCk~bX[z  
-RCv7U`  
涂层倾斜光栅介质 (6#M9XL  
n `#+L~X  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 *K!7R2Rat  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 le2/Zs$  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 8 DL hk  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) I3ho(Kdi  
6BPAux.]  
F(G<* lA  
T:@7 S  
涂层倾斜光栅介质 yr{5Rp05=  
*?b@>_1K  
09x+Tko9;*  
p9w%kM?  
涂层倾斜光栅介质 |?|K\UF(Y  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 <!hpfTz*  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 hqWPf  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 -}AE\qXs/  
oEPNN'~3  
7n [12:  
lSs^A@s  
涂层倾斜光栅介质参数 rkP4<E-M  
]#M/$?!]g2  
UJ9q-r  
e7hO;=?b'  
涂层倾斜光栅介质参数 :MdEr//w  
# s,Y% Bce  
uJm#{[  
7rJ9 }/<I  
高级选项&信息 0~:e SWz=  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 y 2cL2c$BT  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 lbG}noqb  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 0\ZaMu #  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 3[iSF5%V*p  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 QQSH +  
~t$mw,  
<XY;fhnB  
'[n)N@h  
高级选项&信息 ''%;EW>  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 c-ttds  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 .O;!W<Ef$  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 EI%M Azj}  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 @-}D7?  
y`\mQ48V  
pqkcf \  
BQ5_s,VM  
高级选项&信息 o- cj&Cv%  
;K>{_k f  
0P3j+? N%  
y @]8Ep  
高级选项&信息 Y>(ZsHu  
A8#.1uEgNb  
#: dR^zr<  
.A )\F",X  
体光栅介质 %_]=i@Y~  
g?w2J6Z.`J  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 xYT#!K1*  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 =I+l=;05Rd  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 l7!U),x%/U  
782[yLyv  
cZCGnzy  
N)9pz?*V  
体光栅介质参数 Y] D7i?3N  
L7i}Ga!8  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 <Gbn PG?  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 uWJ#+XK.  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 L"Qh_+   
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) E1$Hu{  
Usa{J:  
D2>hMc  
% JgRcx  
体光栅介质参数 </K%i;l  
?|%\<h@;  
Z?!JV_K  
^4y(pcD  
高级选项&信息 EX+={U|ua$  
(#f m (@T  
g;u<[>'I  
;zfQ3$@9  
高级选项&信息 >reaIBT  
NB|RZf9M  
&:!ZT=  
Oz4,Y+[#  
在探测器位置处的备注 %igFHh?  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 N/`TrWVF  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 w>`h3;,2  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 ]7XkijNb  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) h|(Z XCH  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 m &0(%  
iBGSBSeL&  
nG4Uk2>  
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