首页 -> 登录 -> 注册 -> 回复主题 -> 发表主题
光行天下 -> 讯技光电&黉论教育 -> 使用特殊介质的光栅结构的配置 [点此返回论坛查看本帖完整版本] [打印本页]

infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 8 ![|F:  
wDcj,:h`  
1lq(PGX)  
VK}fsOnj0  
该用例展示了… I{ HN67O  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: tDSJpW'd  
倾斜光栅介质 "nZ*{uv  
体光栅介质 6726ac{xz  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 iDMJicW!+F  
pV.Av  
T~QWRBO  
'I_Qb$  
光栅工具箱初始化 6^uq?  
.zS?9MP  
UjaK&K+M?  
 初始化 6WV\}d:  
开始-> !g Z67  
光栅-> =.y~fA!  
通用光栅光路图 ZPiq-q  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 Ne#WI'  
光栅结构设置 }Mo=PWI1?  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 !xP8# |1  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 ZaeqOVp/j  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 *&?c(JU;<  
$tz;<M7B  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 bSsh^Z  
j*F`"df  
堆栈编辑器 7w 37S  
n9@ of  
8i6Ps$T  
,$;yY)x7U  
堆栈编辑器 XpmS{nb  
.gG1kWA-  
350_CN,  
涂层倾斜光栅介质 ktj]:rCkF  
D _/^+H]1  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ObLly%|i  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 :/:.Kb  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 #k_HN}B  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) CLeG<Hi ~  
@kk4]:,w  
L!=4N!j  
!O-C,uSm  
涂层倾斜光栅介质 ]?3un!o3o  
AK\$i$@6  
{z(xFrY  
qtiz a~u  
涂层倾斜光栅介质 (WK&^,zQn  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 <,3^|$c%  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 `kbSu}  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 &krwf ]|  
WA]c=4S  
BhM '@g*  
8'<-:KG  
涂层倾斜光栅介质参数 Sp7ld7c  
vFE;D@bz:  
,Y|^^?'j Q  
;3\3q1oX  
涂层倾斜光栅介质参数 'd+N Vj{C  
0KMctPT]p  
yHHt(GM|o  
JNkwEZhHyg  
高级选项&信息 )K,F]fc+O  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 %Eb%V($  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ,hq)1u  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 *Ho/ZYj3  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 Kw8u`$Ad7  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 R,9[hNHWGs  
.A-]_98Z  
F)s{PCl  
D8>enum  
高级选项&信息 Z^]|o<.<I  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 $aN-Y?U%  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 *uo'VJI7_,  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 uiJS8(Cb  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 ]8icBneA~'  
s3]?8hXd  
d}JP!xf%  
X{we/'>  
高级选项&信息 AC;V m: @{  
_)]+hUw Y  
\MjJ9u `8  
=JKv:</.G  
高级选项&信息 M/):e$S  
INkD=tX  
wE@'ap#  
TQ`Rk;0R  
体光栅介质 ' v\L @"  
#% of;mJv  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 jS+AGE?5e  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 8me ]JRw  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 [Z~ 2  
,RgB$TcE  
8E4mA5@   
D K=cVpN%s  
体光栅介质参数 nK$X[KrV'  
x7vctjM|  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 UN%Vg:=  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 !2z?YZhu  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 0TmR/uUT  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) $uap8nN  
rHf&:~   
hSK;V<$[Z  
rQEyD  
体光栅介质参数 RPIyO  
hUD7_arKF  
`E!N9qI?t$  
Vpr/  
高级选项&信息 o/C\d$i'  
&q`q4g&7  
@&]#uRl|[  
;U<rc'qE  
高级选项&信息 {0;3W7  
H)aQ3T4N5  
=7m}yDs6$  
quvanx V-L  
在探测器位置处的备注 /sr2mt-Q  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 hzI|A~MFB  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 ALEnI@0  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生  f>s?4  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) 6<'rG''  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响  Y!WG)u5  
Fbu5PWhlc  
qim 'dp:  
查看本帖完整版本: [-- 使用特殊介质的光栅结构的配置 --] [-- top --]

Copyright © 2005-2026 光行天下 蜀ICP备06003254号-1 网站统计