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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 D8D!16_  
?m_RU  
h@m n GE  
5q_OuZ/6  
该用例展示了… &fd4IO/O  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: y!6:  
倾斜光栅介质 ?#EXG  
体光栅介质 N7I71q|  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 7U[L\1zS  
ssJDaf79  
ZAM+4#@  
W6xjqNU  
光栅工具箱初始化 3P^gP32  
P7k$^n  
3Gd&=IJ  
 初始化 sQw`U{JG  
开始-> 61rh\<bn  
光栅-> C8W`Oly:]  
通用光栅光路图 SX=0f^  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 k-ex<el)#  
光栅结构设置 f~"V  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 $-9@/%Y  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 dK;\`>8  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ?5YmE(v7  
L|1zHDxQ  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 h. (;GJO  
'iISbOM  
堆栈编辑器 nk3<]u  
6L> "m0  
vwH7/+  
!4,xQ ^   
堆栈编辑器 ]vkHU6d  
5<?c_l9X^  
8~Hs3\Hp  
涂层倾斜光栅介质 r=H\4%P4  
[`-O-?=  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 k q.h\[  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 n25tr'=  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 p,u<g JUL  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) ;6 qdOD6  
7C?mD75j  
:+^$?[6]  
Cbg#Yz~/  
涂层倾斜光栅介质 D:vUy*  
~5!TV,>ls  
|wb(rua  
s1\BjSzk  
涂层倾斜光栅介质 rHBjR_L.2  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ,Ve@=<  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 <.(/#=2  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 u&_U CJCf  
0\ w[_H  
k Q(y^tW  
5t#]lg[06'  
涂层倾斜光栅介质参数 49fq6ZhO  
C$ `Y[w  
LbbQ3$@ WD  
`h3}"js  
涂层倾斜光栅介质参数 Jo$Dxa z  
[]3}(8yxGb  
 de47O  
.) ;:K  
高级选项&信息 T>%ny\?tHW  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 GiwA$^Hg\  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 P2JRsZ.  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 Rs[]i;  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 =?Md&%j  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 3(*s|V"  
K/+C6Y?  
r K)  
ld?.o/  
高级选项&信息 "$pg mf2  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 * .VZ(wX  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 S)|b%mVwR  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 nnl9I4-O  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 ~Fb?h%w  
0%NI- Zyo  
m e{SVG{  
O9)}:++T  
高级选项&信息 '\\Cpc_g  
1W<_5 j_  
r['C.S6  
XqH<)B ]  
高级选项&信息 S5a<L_  
rXPx* /C  
4PM`hc  
{=7i}xY]T  
体光栅介质 7e[\0:Z  
82!GM.b  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 + aqo8'a  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 MXV4bgltT  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 fEv36xb2S  
]X|G+[Ujv  
V <pjR@  
S]/ +n>  
体光栅介质参数 C P{h+yCj  
9'h^59  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 KZfRiCZ  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 jloyJ@ck  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ~"Ki2'j)^]  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) Fsj[JE  
3y,?>-  
*=@pdQkR  
lXKZNCL  
体光栅介质参数 5V bNWrw  
@ RBwT  
Q*(o;\s  
Ntiz-qW  
高级选项&信息 1tpD|  
dxWw%_Q  
.y+U7 "?s*  
a"aV&t  
高级选项&信息 K_n%`5  
EPy/6-5b  
B4aZ3.&W  
vrbh+  
在探测器位置处的备注 `Cxe`w4  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 qDAjW)w Jp  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 lZ_k307  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 54w-yY  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) "QS7?=>*F  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 E:k?*l  
>`'9V| 1  
cC.DBYV+-  
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