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infotek 2023-02-20 08:25

使用特殊介质的光栅结构的配置

光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 #YABb wH  
zO@7V>2  
UKfC!YR2J8  
bcVzl]9  
该用例展示了… @<n8?"{5S  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ;+86q"&n  
倾斜光栅介质 #b^x!lR  
体光栅介质 rM|] }M=_V  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 L%h Vts'  
GjHV|)^  
\A~r~  
4hymQ3 g  
光栅工具箱初始化 cx+li4v  
4u!<3-3Zy  
F9N/_H*+  
 初始化 @bkZ< Gq  
开始-> GnCO{"n  
光栅-> z_gjC%(y  
通用光栅光路图 kdr?I9kwW  
 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 ,JL Y oE+  
光栅结构设置 =|Q7k+b  
 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 *>=|"ff  
 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 @c >a  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边  Uk2U:  
&,4 3&pFU  
 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 Nt>wzPd)  
JA")L0a_  
堆栈编辑器 l^LYSZg'R8  
1@i 8ASL  
Z'u:Em  
%-A#7\  
堆栈编辑器 b*AL,n?  
}mhD2'E  
WNE=|z#|  
涂层倾斜光栅介质 JQ[~N-  
=P,h5J  
 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 ox}LC, !  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 4mqA*c%6S  
 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 T({]fc!c  
 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) &*w)/W  
g_T[m*  
Q\!0V@$  
PX5K-|R  
涂层倾斜光栅介质 _ +"V5z  
 C0Oe$& _  
_NkVi_UX  
Wej'AR\NX  
涂层倾斜光栅介质 8M"0o}wx  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 xM#+jI  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ya*KA.EGg  
 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 *8a8Ng  
V~9s+>  
vz~QR i*  
gM5`UH|  
涂层倾斜光栅介质参数 <8'-azpJ6<  
u4W2 {  
M^e;WY@ D  
l9zkx'xt.-  
涂层倾斜光栅介质参数 Ki8]+W37  
9"#,X36  
_a?(JzLw5  
7I_1Lnnf  
高级选项&信息 8}Qmhm`_j=  
 在传输菜单中,多个高级选项可用 @N?u{|R:d  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 p>O>^R  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 C5W} o:jE  
 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 )-RI  
 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 RTEzcJ>  
G(;C~kHX  
'JjW5  
3Dm`8Xt  
高级选项&信息 <z=d5g{n  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ]<zjD%Ez  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 h"/y$  
 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 -9f> rH\3  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 V1 H3}  
qZcRK9l]F1  
+TWk}#G   
g aq"+@fH  
高级选项&信息 +@ j@#~=K  
$z"1&y)  
wB~5&:]jr  
qkLp8/G>pO  
高级选项&信息 j~ 'a %P  
C.& R,$  
8d!t"oj68  
{zri6P+s  
体光栅介质 $U]KIHb  
}3Mnq?.-  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 VY@6!9G  
 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 cGE,3dsF[  
 同时,两个平面界面作为介质的边界 Vzs_g]V  
wS)2ymRg  
9CxFj)#5F  
whoQA}X>  
体光栅介质参数 k^Gf2%k  
zo^34wW^  
 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 -fB;pS,  
 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 k v>rv37u  
 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 [@PD[-2QG3  
 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) 1h[xVvo<L  
v95O)cC:W  
^qro0]"LD  
2# 1G)XI  
体光栅介质参数 \a .^5g  
&Se!AcvKF  
GgNqci,  
G|h@O'  
高级选项&信息 C;EC4n+s  
7@6B\':  
C~ r(*nr  
.EXe3!J)!  
高级选项&信息 /|HVp  
z87_/(nu  
,ezC}V0M  
_?YP0GpU  
在探测器位置处的备注 NO%x 2dx0  
 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 .C=I~Z  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 ]((Ix,ggP  
 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 h,(f3Ik0O  
 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ]DO ~7p[  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 O #  
*\M$pUS{  
dh~ cj5  
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