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使用特殊介质的光栅结构的配置
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infotek
2023-02-20 08:25
使用特殊介质的光栅结构的配置
光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。
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rS~qi}4X
}.%s xw
N&;\PfG
该用例展示了…
3-Y=EH_0
在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如:
dl[ob,aCK
倾斜光栅介质
rveVCTbC
体光栅介质
(iDBhC;/B
如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构
z g]Drm
/GsrGX8
ha'qIT3&
B1w0cS%%:
光栅工具箱初始化
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N+>'J23d!
a%[q |oyR
初始化
1*R_"#
开始->
U6i~A9;
光栅->
Pc4R!Tc
通用光栅光路图
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注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图
+>E5X4JC
光栅结构设置
+#v4B?NR
首先,需要定义基底(底座)材料和厚度
9H$g?';
在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义
A c:\c7M;
堆栈可以固定到基底的一边或两边
75(W(V(q
)l2P}k7`
这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中
j:?N!*r=
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堆栈编辑器
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~x+Ykq0
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Dh8(HiXf:
堆栈编辑器
~j}J<4&OvC
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-RCv7U`
涂层倾斜光栅介质
(6#M9XL
n` #+L~X
在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。
*K!7R2Rat
这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构
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在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上
8DL hk
在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高)
I3ho(Kdi
6BPAux.]
F(G<*lA
T:@7S
涂层倾斜光栅介质
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*?b@>_1K
09x+Tko9;*
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涂层倾斜光栅介质
|?|K\UF(Y
堆栈周期允许控制整个配置的周期
<!hpfTz*
该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件
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在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率
-}AE\qXs/
oEPNN'~3
7n [12:
lSs^A@s
涂层倾斜光栅介质参数
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]#M/$?!]g2
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涂层倾斜光栅介质参数
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# s,Y% Bce
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高级选项&信息
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在传输菜单中,多个高级选项可用
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传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置
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可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量
0\ZaMu #
这可能是有用的,如果考虑金属光栅
3[iSF5%V*p
相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够
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~t$mw,
<XY;fhnB
'[n)N@h
高级选项&信息
''%;EW>
高级选项标签提供了结构分解的信息
c-ttds
层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构
.O;!W<Ef$
更多地,提供了关于层数和过渡点的信息
EI%M Azj}
分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述
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BQ5_s,VM
高级选项&信息
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高级选项&信息
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体光栅介质
%_]=i@Y~
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另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
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界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生
=I+l=;05Rd
同时,两个平面界面作为介质的边界
l7!U),x%/U
782[yLyv
cZCGnzy
N)9pz?*V
体光栅介质参数
Y]D7i?3N
L7i}Ga!8
为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案
<Gb nPG?
首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率
uWJ#+XK.
其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制
L"Qh_+
更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件)
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Usa{J:
D2>hMc
% JgRcx
体光栅介质参数
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高级选项&信息
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(#fm (@T
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高级选项&信息
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NB|RZf9M
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Oz4,Y+[#
在探测器位置处的备注
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在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面
N/`TrWVF
如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的
w>`h3;,2
然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生
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因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件)
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这避免了这些干涉效应的不必要的影响
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