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使用特殊介质的光栅结构的配置
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infotek
2023-02-20 08:25
使用特殊介质的光栅结构的配置
光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。
:A[ Gtc(_
b`^$2RM&
As"'KR
eN/Jb;W
该用例展示了…
h.67]U7m
在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如:
\UXQy{Ex
倾斜光栅介质
y"2c; *7[{
体光栅介质
(vQShe\
如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构
DU;]Q:r{
2W}RXqV<
b&LhydaJ
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光栅工具箱初始化
"DUL} "5T
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&B))3WFy
初始化
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开始->
1f}Dza9
光栅->
m^TkFt<BM
通用光栅光路图
}+SnY8A=KZ
注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图
Ngg (<ZN
光栅结构设置
z8gp<5=
首先,需要定义基底(底座)材料和厚度
g >X!Q
在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义
b+{yF
堆栈可以固定到基底的一边或两边
Z rvb %
]+J]}C]\d
这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中
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堆栈编辑器
V;>p@uE,P
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(Y-7B
堆栈编辑器
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dD#A.C,Rz
涂层倾斜光栅介质
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`2GHB@S"k
在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。
*`|F?wF
这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构
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在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上
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在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高)
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94H 6`
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涂层倾斜光栅介质
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N{f RZN
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涂层倾斜光栅介质
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堆栈周期允许控制整个配置的周期
"`16-g97
该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件
`j@2[XdHu
在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率
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涂层倾斜光栅介质参数
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W$ M4#
涂层倾斜光栅介质参数
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高级选项&信息
B xq(+^T
在传输菜单中,多个高级选项可用
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传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置
o[0Cv*
可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量
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这可能是有用的,如果考虑金属光栅
YrFB~z.V
相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够
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k#&d`?X
pvD\E
&+Xj%x.]
高级选项&信息
V!(Ty%7
高级选项标签提供了结构分解的信息
*C Me:a
层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构
):31!IC
更多地,提供了关于层数和过渡点的信息
ymiOtA Z
分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述
q0&g.=;
:[?hU}9
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=E,^ +`M
高级选项&信息
TDq(%IW
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高级选项&信息
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体光栅介质
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buu~#m1z
另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
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界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生
<k+dJ=f
同时,两个平面界面作为介质的边界
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>|'u:`A
w9Bbvr6
YzNSZJPD
体光栅介质参数
,4M7:=gf
%F_)!M;x
为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案
s]@()?.E$
首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率
^{lcj
其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制
3copJS
更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件)
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>Z r f}H
7u73v+9qn:
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体光栅介质参数
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高级选项&信息
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高级选项&信息
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在探测器位置处的备注
@ >_v/U'
在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面
!1(*D*31
如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的
AH-B/c5
然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生
In13crr4!
因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件)
b?i5C4=K
这避免了这些干涉效应的不必要的影响
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