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使用特殊介质的光栅结构的配置
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infotek
2023-02-20 08:25
使用特殊介质的光栅结构的配置
光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。
-/#VD&MJO=
?P+n0S!
-+'fn$
KtT.WHr(m
该用例展示了…
S~dD ;R
在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如:
#Ub"Ii
倾斜光栅介质
]x8_f6;D
体光栅介质
FS3MR9
如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构
c)d*[OI8
uCc.dluU
%idn7STJ}
N1lhlw6
光栅工具箱初始化
n{>Ge,enP0
(,5oqU9s@
*K9I+t"g
初始化
w/8`]q
开始->
7}r!&Eb
光栅->
E+Jh4$x{
通用光栅光路图
ZZkxEq+D
注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图
AL%gqt]
光栅结构设置
>^1|Mg/!>
首先,需要定义基底(底座)材料和厚度
1v)X]nW
在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义
9uXu V$.
堆栈可以固定到基底的一边或两边
t/;@~jfr@
p!+7F\
这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中
3)F9:Tzw1
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堆栈编辑器
D;f[7Cac
=h?Q.vad
+N161vo7
_(CuuP$`I
堆栈编辑器
?'xTSAn
pK)*{fC$`
A)5-w`1
涂层倾斜光栅介质
@S/PB[%S
:NB,Dz+i
在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。
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这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构
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在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上
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在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高)
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JvA6 kw,
}uI(D&?+h
-ff|Xxar{
涂层倾斜光栅介质
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J`6X6YZ
b&LfL$
o8 A]vaa
涂层倾斜光栅介质
-qki^!Y?
堆栈周期允许控制整个配置的周期
-IBf;"8f
该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件
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在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率
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^*;{Uj+O~Y
5z ebH
F^5<o
涂层倾斜光栅介质参数
~|j :xM(i
j@1rVOmK
A#s`!SNv
NLe+
涂层倾斜光栅介质参数
Sz\"*W;>
T [w]w
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高级选项&信息
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在传输菜单中,多个高级选项可用
H'Mc]zw_,
传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置
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可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量
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这可能是有用的,如果考虑金属光栅
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相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够
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Luxo,Ve
b P>!&s_
高级选项&信息
;T0Y=yC
高级选项标签提供了结构分解的信息
Q AJX7
层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构
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更多地,提供了关于层数和过渡点的信息
q&IO9/[dk
分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述
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高级选项&信息
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高级选项&信息
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S~1>q+<Q
S7-ka{S
体光栅介质
KlgPDV9mg
Si<9Oh
另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
nZ>bOP+,
界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生
t<O5_}R%d
同时,两个平面界面作为介质的边界
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/^~3Ib8Fw+
qC9$xIWq
'hl>pso.
体光栅介质参数
i/rdPbq
DPvM|n`TW
为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案
z\Y+5<