首页
->
登录
->
注册
->
回复主题
->
发表主题
光行天下
->
讯技光电&黉论教育
->
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
[点此返回论坛查看本帖完整版本]
[打印本页]
infotek
2023-02-06 08:35
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
-ZuzJAA
_#L IG2d
内容简介
'*T7tl
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
/0r2v/0
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
CEUR-LK0
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
8Yj(/S3y
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
'UB<;6wy
&&m%=i.qK
目录
c)lK{DC
Preface 1
o~}q@]]
内容简介 2
MAR;k?d
目录 i
A$ S9 `
1 引言 1
& IDF9B
2 光学薄膜基础 2
rdC(+2+Ay
2.1 一般规则 2
9 ROKueP
2.2 正交入射规则 3
[A3hrSw
2.3 斜入射规则 6
+28FB[W
2.4 精确计算 7
O,bj_CW x
2.5 相干性 8
/yI~(8bO
2.6 参考文献 10
*</;:?
3 Essential Macleod的快速预览 10
W=|B3}C?
4 Essential Macleod的特点 32
>g F
4.1 容量和局限性 33
4];NX
4.2 程序在哪里? 33
eag$i.^aS
4.3 数据文件 35
<oR Nd3d
4.4 设计规则 35
LAr6J
4.5 材料数据库和资料库 37
Q0r_+0[7j
4.5.1材料损失 38
jeJGxfi i
4.5.1材料数据库和导入材料 39
}R>g(q=N
4.5.2 材料库 41
?d_Cy\G
4.5.3导出材料数据 43
r3KV.##u,
4.6 常用单位 43
N7jAPI@a\i
4.7 插值和外推法 46
u?aq' "t
4.8 材料数据的平滑 50
} HvVL}7
4.9 更多光学常数模型 54
bg$e80
4.10 文档的一般编辑规则 55
9@S icqx
4.11 撤销和重做 56
hTy#Q.=
4.12 设计文档 57
=GLsoc-b
4.10.1 公式 58
ikY=}
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
5-+Y2tp}
4.10.3 沉积密度 59
LN7;Yr
4.10.4 平行和楔形介质 60
MjLyB^M
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
T? =jKLPC
4.10.4 性能 61
CUYp(GU
4.10.5 保存设计和性能 64
(C. 1'<]
4.10.6 默认设计 64
1ltoLd\{
4.11 图表 64
;/YSQt)rc>
4.11.1 合并曲线图 67
HFf| >&c&
4.11.2 自适应绘制 68
-nU_eDy
4.11.3 动态绘图 68
$D45X<
4.11.4 3D绘图 69
b|xz`wUH0$
4.12 导入和导出 73
on(W^ocnD
4.12.1 剪贴板 73
VR_1cwKBM
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
3kJAaI8
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
+C+3DwN
4.13 背景 77
htkyywv
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
S#ven&
4.15 生成Rugate 84
_o`'b80;
4.16 参考文献 91
"PlM{ZI\
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
OCX?U50am
5.1 Jobs 92
V6Q[Y>84~a
5.2 创建一个新Job(工作) 93
#ocT4
5.3 输入材料 94
2/h Mx-
5.4 设计数据文件夹 95
V#Wd
5.5 默认设计 95
3"<{YEj8U
6 细化和合成 97
m@yaF: R
6.1 优化介绍 97
Pl 5+Oo
6.2 细化 (Refinement) 98
mT~:k}u~W
6.3 合成 (Synthesis) 100
1ra}^H}
6.4 目标和评价函数 101
yhTe*I=Gk
6.4.1 目标输入 102
|"ck;.)
6.4.2 目标 103
yyZjMnuD
6.4.3 特殊的评价函数 104
578Dl(I#)
6.5 层锁定和连接 104
w%L0mH2]ng
6.6 细化技术 104
()P?f ed
6.6.1 单纯形 105
|_2O:7qe
6.6.1.1 单纯形参数 106
)}/9*
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
y_a~>S
6.6.2.1 Optimac参数 108
8_ju.h[
6.6.3 模拟退火算法 109
:yO)g]KF
6.6.3.1 模拟退火参数 109
";xG[ne$Be
6.6.4 共轭梯度 111
!WrUr]0IP
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
56L>tP
6.6.5 拟牛顿法 112
6KV&E8Gn
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
4cs`R+]o
6.6.6 针合成 113
eyy&JjVs
6.6.6.1 针合成参数 114
Kr8p:$D};
6.6.7 差分进化 114
rYc?y
6.6.8非局部细化 115
lMlXK4-
6.6.8.1非局部细化参数 115
D3MuP p-v
6.7 我应该使用哪种技术? 116
<}B]f1zX
6.7.1 细化 116
CjIkRa@!x
6.7.2 合成 117
Kw'A%7^e
6.8 参考文献 117
R`/nsou
7 导纳图及其他工具 118
8 v&5)0u
7.1 简介 118
zQ7SiRt7*
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
B9+oI cO
7.2.1 四分之一波长规则 119
l&E- H@Pe
7.2.2 导纳图 120
jp2l}C
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
DGp'Xx_8
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
ah~7T~
7.5 斜入射导纳图 141
V_0e/7}Ya
7.6 对称周期 141
"bC8/^
7.7 参考文献 142
O^ f[ugs
8 典型的镀膜实例 143
2)mKcUL-
8.1 单层抗反射薄膜 145
}Z2Y>raA\
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
gpO@xk$
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
KJSN)yn\
8.4 W-膜层 148
(swP#t5S
8.5 V-膜层 149
#{<Jm?sU
8.6 V-膜层高折射基底 150
vsLn@k3
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
oA73\BFfP
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
ynDa4HB
8.9 四层抗反射薄膜 153
c~dX8+
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
(}bP`[@rX!
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
,TP^i 0
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
AvhmN5O=
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
y?Fh%%uNr
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
Qx$Yj
8.15十五层宽带抗反射膜 159
2D&tDX<
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
1jQz%^~
8.17 1/4波长堆栈 162
A2F+$N
8.18 陷波滤波器 163
V .$<