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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-02-06 08:35
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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vi8)U]6
内容简介
<<iwJ U%:
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
muZ6 }&4
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
*y@Xm~ld
e^ ZxU/e
目录
8~6H\.0Q
Preface 1
(;(P3h
内容简介 2
um}%<Cy[
目录 i
i p"LoCE
1 引言 1
mAZfo53
2 光学薄膜基础 2
V!XT=Ou?6
2.1 一般规则 2
GyP.;$NHa[
2.2 正交入射规则 3
jSKhWxL;'
2.3 斜入射规则 6
LagHzCB
2.4 精确计算 7
J =j6rD
2.5 相干性 8
Oh]RIWL
2.6 参考文献 10
mR|;}u;d
3 Essential Macleod的快速预览 10
-w3KBlo
4 Essential Macleod的特点 32
Q.zE}ZS
4.1 容量和局限性 33
f?[0I\V[$
4.2 程序在哪里? 33
+yO^,{8SE
4.3 数据文件 35
WA1h|:Z
4.4 设计规则 35
ynQ+yW74Z
4.5 材料数据库和资料库 37
y2=`NG=
4.5.1材料损失 38
R{R'byre
4.5.1材料数据库和导入材料 39
>anq1Kf
4.5.2 材料库 41
#eZm)KFQg
4.5.3导出材料数据 43
KO''B or
4.6 常用单位 43
+"8-)'
4.7 插值和外推法 46
c1>:|D7w
4.8 材料数据的平滑 50
*41 2)zEy
4.9 更多光学常数模型 54
EH2a
4.10 文档的一般编辑规则 55
FQp@/H^
4.11 撤销和重做 56
5k]xi)%
4.12 设计文档 57
>r8$vQ Gj
4.10.1 公式 58
S`?L\R.:
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
6%Ws>H4@|
4.10.3 沉积密度 59
CG397Y^
4.10.4 平行和楔形介质 60
q8-*3K
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
M%S.Z4D (0
4.10.4 性能 61
R&P}\cf8T
4.10.5 保存设计和性能 64
x4 .Y&Wq#
4.10.6 默认设计 64
yG~7Xo5
4.11 图表 64
R|OY5@
4.11.1 合并曲线图 67
48p< ~#<W\
4.11.2 自适应绘制 68
'qt+.vd
4.11.3 动态绘图 68
+[C><uP
4.11.4 3D绘图 69
"eOFp\vPr
4.12 导入和导出 73
pGHn
4.12.1 剪贴板 73
FsTl@zN
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
1O@y >cV
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
</@3}rfUPg
4.13 背景 77
_ giZ'&l!
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
r@v_hc
4.15 生成Rugate 84
4Y!_tZ>
4.16 参考文献 91
<>I4wqqb
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
jDKL}x
5.1 Jobs 92
CgxGvM4
5.2 创建一个新Job(工作) 93
iLR^ V!
5.3 输入材料 94
/GUbc
5.4 设计数据文件夹 95
_a[)hu8q.
5.5 默认设计 95
bzh`s<+
6 细化和合成 97
s ;N PY
6.1 优化介绍 97
>?yxig:_
6.2 细化 (Refinement) 98
m:4Ec>?e
6.3 合成 (Synthesis) 100
6O9?":3;
6.4 目标和评价函数 101
>||=# ;
6.4.1 目标输入 102
=xX)2h
6.4.2 目标 103
=(%+S<}
6.4.3 特殊的评价函数 104
aNxq_pRb
6.5 层锁定和连接 104
rh+2 7"
6.6 细化技术 104
C;BC@OE
6.6.1 单纯形 105
9X%H$>s
6.6.1.1 单纯形参数 106
SIr^\iiOB
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
g2t'u4>
6.6.2.1 Optimac参数 108
b8$(j2B~
6.6.3 模拟退火算法 109
n k@e#
6.6.3.1 模拟退火参数 109
s J~WzQ
6.6.4 共轭梯度 111
HAOl&\)7"_
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
X@cO`P
6.6.5 拟牛顿法 112
{L9WeosQ
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
+,$ SZ O]
6.6.6 针合成 113
l:?w{'i$
6.6.6.1 针合成参数 114
W:V:Ej7 h
6.6.7 差分进化 114
D @bnm s
6.6.8非局部细化 115
[\ALT8vC?m
6.6.8.1非局部细化参数 115
!GL kAV
6.7 我应该使用哪种技术? 116
6'YsSde".
6.7.1 细化 116
,4`=gKn
6.7.2 合成 117
M+ljg&fy
6.8 参考文献 117
<+iL@'SgF
7 导纳图及其他工具 118
//W7$DYEG
7.1 简介 118
}k7t#O
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
nJ{vO{N
7.2.1 四分之一波长规则 119
PW)Gd +y
7.2.2 导纳图 120
V \4zK$]
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
Okt0b|=`1*
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
FvTc{"w /
7.5 斜入射导纳图 141
t=B>t S.hO
7.6 对称周期 141
r'5~4'o$
7.7 参考文献 142
+#Q\;;FNP
8 典型的镀膜实例 143
b!hs|emo;
8.1 单层抗反射薄膜 145
\u@*FTS
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
/6@~XO)w
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
c"H59 jE
8.4 W-膜层 148
%hM8px4d
8.5 V-膜层 149
@UgZZ
8.6 V-膜层高折射基底 150
_t'S<jTI
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
'Bc{N^
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
o{n)w6P{R,
8.9 四层抗反射薄膜 153
:<w2j6V
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
|?=a84n1l
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
5:r*em
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
a"6AZT"8
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
|:jka
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
E]<Ce;Vj
8.15十五层宽带抗反射膜 159
\4qwLM?E^
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
5&QDZnsl
8.17 1/4波长堆栈 162
S(nZ]QEG
8.18 陷波滤波器 163
+&j