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2023-01-30 08:51 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
EixAmG 内容简介 6~8dMy;w Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <L3ig%#B 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 #)KQ-x, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 `{S4_' piPV&ytI
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 "LVN:|! 目录 `S=4cS H( Preface 1 9z?B@;lMc 内容简介 2 kjR-p=} 目录 i @'?7au '' 1 引言 1 DEKO]i 2 光学薄膜基础 2 O'W[/\A56M 2.1 一般规则 2 %TQ5#{Y 2.2 正交入射规则 3 V"sm+0J 2.3 斜入射规则 6 e= _7Q.cn 2.4 精确计算 7 ew8Manx 2.5 相干性 8 "eKM<S 2.6 参考文献 10 4p`z%U~=u 3 Essential Macleod的快速预览 10 &-`a` 4 Essential Macleod的特点 32 brt`oR 4.1 容量和局限性 33 A4VVy~sd 4.2 程序在哪里? 33 LGC3"z\= 4.3 数据文件 35 'C1yqkIa` 4.4 设计规则 35 &vS @-K 4.5 材料数据库和资料库 37 'ewVn1ME[ 4.5.1材料损失 38 o}lA\ A 4.5.1材料数据库和导入材料 39 d0 yZ9-t 4.5.2 材料库 41 Cv1CRmqq% 4.5.3导出材料数据 43 JuXuS 4.6 常用单位 43 NE!] 4.7 插值和外推法 46 ^9*Jz{e 4.8 材料数据的平滑 50 BQ77n2(@ 4.9 更多光学常数模型 54 ::G0v 4.10 文档的一般编辑规则 55 [c#?@S_ 4.11 撤销和重做 56 4ew#@ 4.12 设计文档 57 Y>'t)PK 4.10.1 公式 58 hc5iIJ] 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;!/g`*? 4.10.3 沉积密度 59 Pt%EyFG 4.10.4 平行和楔形介质 60 F%e5j9X` 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 &GLe4zEh 4.10.4 性能 61 "Bbd[ZI8 4.10.5 保存设计和性能 64 }VXZM7@u 4.10.6 默认设计 64 ++M%PF [
{ 4.11 图表 64 R//S(eU68\ 4.11.1 合并曲线图 67 ZuQ\Pyx 4.11.2 自适应绘制 68 (e6KSRh2fF 4.11.3 动态绘图 68 /kK:{ 4.11.4 3D绘图 69 BvV!?DY4 4.12 导入和导出 73 A**PGy.Ni 4.12.1 剪贴板 73 F6 c1YI[ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 @c#M^:9Dc 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 y5lhmbl: e 4.13 背景 77 n!t][d/g+ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 CaqMLi% 4.15 生成Rugate 84 qz/d6-0" 4.16 参考文献 91 .LHzaeJCX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 / :@X< 5.1 Jobs 92 R?GF,s<j 5.2 创建一个新Job(工作) 93 jneos~ 'n8 5.3 输入材料 94 xSoXf0zq: 5.4 设计数据文件夹 95 hO}nc$S 5.5 默认设计 95 %oEvp{I 6 细化和合成 97 OLM}en_L 6.1 优化介绍 97 &26H 6.2 细化 (Refinement) 98 xK C{P{: 6.3 合成 (Synthesis) 100 ac??lHtH9 6.4 目标和评价函数 101 @&M$oI$4* 6.4.1 目标输入 102 sOLR *=F{ 6.4.2 目标 103 @s/0 .7 6.4.3 特殊的评价函数 104 v"a.%"oN8 6.5 层锁定和连接 104 |Zrkk>GW: 6.6 细化技术 104 -6u#:pVpU 6.6.1 单纯形 105 <FFaaGiE> 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]w[T_4l 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 mrz@Y0mgL 6.6.2.1 Optimac参数 108 ;NzS;C' 6.6.3 模拟退火算法 109 M~&X?/8 6.6.3.1 模拟退火参数 109 }8cX0mZ1j 6.6.4 共轭梯度 111 PofHe 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 .JkF{&=B 6.6.5 拟牛顿法 112 +O,h<*y 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 qEbzF#a-: 6.6.6 针合成 113 >ey-j\_v 6.6.6.1 针合成参数 114 Du2v,n5@ 6.6.7 差分进化 114 @UidQX"b 6.6.8非局部细化 115 {l -V 6.6.8.1非局部细化参数 115 J6Q}a7I# 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ep3iI77/ 6.7.1 细化 116 L7lRh=D 6.7.2 合成 117 .xp|w^ 6.8 参考文献 117 t,yzqn
7 导纳图及其他工具 118 Z*rA~`@K6 7.1 简介 118 `e!hT@Xxa 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ?hQ,'M2 7.2.1 四分之一波长规则 119 GxIw4m9 7.2.2 导纳图 120 TGJ\f 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _("&jfn
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 1#3 Qa{i 7.5 斜入射导纳图 141 S(f V ,;Z 7.6 对称周期 141 $q6'VLPo 7.7 参考文献 142 $ (gR^L 8 典型的镀膜实例 143 D< | |