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infotek 2023-01-18 08:30

高NA物镜聚焦的分析

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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 4ebGAg?_  
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建模任务 ;oE4,  
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概观 (FHh,y~v  
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光线追迹仿真 Kfl+8UR5=  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 ]f?LQCTq<b  
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•点击Go! 4F?1,-X  
•获得3D光线追迹结果。 'Ud5;?{  
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光线追迹仿真 V>Cf 8>m  
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 X(9Ff=0.~  
•单击Go! g&V.o5jIhc  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 uPPe"$  
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场追迹仿真 `Ii>w b  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 sh 1fz 6g  
•单击Go! V<7Gd8rDMM  
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场追迹结果(摄像机探测器) 2_Qzc&"[ 4  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 qCMcN<:>  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 moGbBkO  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 '%,Re-8O  
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场追迹结果(电磁场探测器) f  W )  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 T7v8}_"-  
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