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infotek 2023-01-18 08:30

高NA物镜聚焦的分析

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高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 K`Bq(z?/  
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建模任务 1l/AKI(!  
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概观 0A#*4ap  
7_9+=. +X5  
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光线追迹仿真 s0cs'Rg  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 YBX)eWslK  
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•点击Go! ;asm 0H(  
•获得3D光线追迹结果。 z,pNb%*O  
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光线追迹仿真 X*pZNz&E  
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•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 `6&`wKz  
•单击Go! t]s94 R q  
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 i=oTg  
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场追迹仿真 Da-u-_~  
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•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 zhNQuK,L  
•单击Go! /@VsqD  
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场追迹结果(摄像机探测器) o`idg[l.  
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•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 'e F%  
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 1\/{#c  
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 OY:u',T  
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场追迹结果(电磁场探测器) iQqqs`K  
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 wh%xkXa[ur  
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