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2023-01-09 09:41 |
Macleod镀膜工具书限时特惠
Essential Macleod中文手册》 !t3)j>h: Vrf2%$g 目 录 p^Kp= z n6ETWjP ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 KwlN 第1章 介绍 ..........................................................1 DQDt*Uj, 第2章 软件安装 ..................................................... 3 i44UqEb 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 36s[hg 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 is}o5\JEL 第5章 软件结构 ............................................................... 21 &n|#jo(gS 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 LS{g=3P0 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 L"rLalUw 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 4tz8^z[Kw 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 =3?t%l;n 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Oj:O-PtN2 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 VZ&>zF 第12章 优化和综合 ..................................................................120 $NJ]2P9L 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 =iC5um: 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 VHsuC$3W 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 mHE4Es0 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 J*F-tRuEw 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 m0t5oO 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 #m1e_[ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 BA' ($D> 第20章 运行表单 .................................................................... 251 [-f0s;F1% 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 S3PW [R@= 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 l7Y^C1hM 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ^2[0cne 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 .J#xlOa- 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 WZ&/l 65J 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 HNxJ`x~Z~ 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 yHLclv 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 PorBB7iL ])!|b2:s3 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 9aD6mp XA5gosq 价 格:400元 e<dFvMO =<s+cM 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元[attachment=115955] -q[T0^eS 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) F IDNhu G1
%c<1Y 内容简介 Hq8<g$ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 V=I au_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 9-eYCg7C| 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 zNuiBLxDs h ^g"FSzP
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Mcj4GjV6:" 目录 4JKB6~Y Preface 1 MI0'ou8l 内容简介 2 $]:I1I 目录 i T/p}Us 1 引言 1 { cnya* 2 光学薄膜基础 2 Kg=TPNf"$ 2.1 一般规则 2 hi"[R@UG 2.2 正交入射规则 3 kEf}yTy 2.3 斜入射规则 6 + _rjA_ 2.4 精确计算 7 aDb@u3X@ 2.5 相干性 8 [bUM x 2.6 参考文献 10 h']RP 3 Essential Macleod的快速预览 10 -20o%t 4 Essential Macleod的特点 32 I7r{&X) D 4.1 容量和局限性 33 PwQW5,,h0 4.2 程序在哪里? 33 iaQ[}'6!$ 4.3 数据文件 35 F\Q)l+c 4.4 设计规则 35 3hab51J 4.5 材料数据库和资料库 37 yBE1mA:x7: 4.5.1材料损失 38 D{Y~kV| 4.5.1材料数据库和导入材料 39 e'[T5HI 4.5.2 材料库 41 -Cd4yWkO 4.5.3导出材料数据 43 VQU [5C 4.6 常用单位 43 x9xb4ZW 4.7 插值和外推法 46 bITOA 4.8 材料数据的平滑 50 ?aEBS 4.9 更多光学常数模型 54 X5U_|XK6Y 4.10 文档的一般编辑规则 55 1>jG*tr 4.11 撤销和重做 56 2!\y0*}K 4.12 设计文档 57 D$q"k" 4.10.1 公式 58 it=L_zu} 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 #x1AZwC 4.10.3 沉积密度 59 0){%4 4.10.4 平行和楔形介质 60 *yKsgH 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 N~{0QewMI' 4.10.4 性能 61 z{pNQ[t1Z 4.10.5 保存设计和性能 64 q~p,A>K 4.10.6 默认设计 64 `IOp*8 4.11 图表 64 p^Ca-+R3 4.11.1 合并曲线图 67 7J~6J.m 4.11.2 自适应绘制 68 .{k(4_Q?I 4.11.3 动态绘图 68 y$r^UjJEO 4.11.4 3D绘图 69 R"6Gm67 t 4.12 导入和导出 73 VH4P|w[YF 4.12.1 剪贴板 73 |xZDc6HDW 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 bR?-B>EB 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (M4~N)7<P5 4.13 背景 77 uYIw ?fXy 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0(|R NV_ 4.15 生成Rugate 84 Jme}{!3m 4.16 参考文献 91 \hdR&f5q 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 r/HKxXT 5.1 Jobs 92 |2CW!is 5.2 创建一个新Job(工作) 93 bv9\Jp0c 5.3 输入材料 94 5
usfyY]z 5.4 设计数据文件夹 95 )PL'^gRr 5.5 默认设计 95 }U7>_b2 6 细化和合成 97 S+ymdZ)xZ` 6.1 优化介绍 97 Ox?LVRvxI 6.2 细化 (Refinement) 98 #jd?ocoY 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~^lQ[ x 6.4 目标和评价函数 101 +1Si>I 6.4.1 目标输入 102 $JqdI/s 6.4.2 目标 103 "sz LTC]*6 6.4.3 特殊的评价函数 104 mz1Xk ]nE 6.5 层锁定和连接 104 -Hh$3Uv 6.6 细化技术 104 TUJ]u2J8? 6.6.1 单纯形 105 }!0,(<EsV 6.6.1.1 单纯形参数 106 Vyj>&"28 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 C@pDX>~2=b 6.6.2.1 Optimac参数 108 c[!e*n!y 6.6.3 模拟退火算法 109 +6*oO| 6.6.3.1 模拟退火参数 109 E?y0UD[8J 6.6.4 共轭梯度 111 *`ehI_v : 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 6Kh:m-E9 6.6.5 拟牛顿法 112 K).X=2gjY 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 m{mK;D
6.6.6 针合成 113 / Zz2=gDY 6.6.6.1 针合成参数 114 b6bmvHD 6.6.7 差分进化 114 )jR:\fe 6.6.8非局部细化 115 174H@ 6.6.8.1非局部细化参数 115 $MKx\qx} 6.7 我应该使用哪种技术? 116 s.1(- "DU 6.7.1 细化 116 zVxiCyU 6.7.2 合成 117 x?:WR*5w 6.8 参考文献 117 qw%4j9} 7 导纳图及其他工具 118 "M7ry9dDH 7.1 简介 118 >G'
NI?$ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 PHfGl 7.2.1 四分之一波长规则 119 hrZ~7 0r 7.2.2 导纳图 120 \VHi 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (S5'iksx 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 F5:*;E;$ 7.5 斜入射导纳图 141 m{pL<
g^M 7.6 对称周期 141 4E4o=Z|K 7.7 参考文献 142 n.$<D[@ 8 典型的镀膜实例 143 xVfJ]Y 8.1 单层抗反射薄膜 145 s7FqE>#c0 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 @)<uQ S 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 s]L`&fY]O 8.4 W-膜层 148 =!U{vT 8.5 V-膜层 149 '9auQ(2 8.6 V-膜层高折射基底 150 !\y_ik
8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Q;m
.m2 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 TQ=\l*R(A 8.9 四层抗反射薄膜 153 l:+tl/ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 FX}<F0([? 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 F`Q,pBl1p6 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 @=Ly#HuUM 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 tjDVU7um 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 L2{to f 8.15十五层宽带抗反射膜 159 v
bb mmv 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 S31:} 8.17 1/4波长堆栈 162 bn<&Xe 8.18 陷波滤波器 163 )KXLL;] 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 Pl1:d{"d 8.20 褶皱 165 1)u=&t,
8.21 消偏振分光器1 169 w$Dp m.0( 8.22 消偏振分光器2 171 ,:>>04O 8.23 消偏振立体分光器 172 *>_:E6) 8.24 消偏振截止滤光片 173 >:OOuf# 8.25 立体偏振分束器1 174 ;-*4 (3lu 8.26 立方偏振分束器2 177 7:x.08 8.27 相位延迟器 178 %3xH<$Gq5 8.28 红外截止器 179 T]CvfvO5 8.29 21层长波带通滤波器 180 Ao{wd1 8.30 49层长波带通滤波器 181 a Mv 8.31 55层短波带通滤波器 182 }[ AIE[ 8.32 47 红外截止器 183 eWwSD#N# 8.33 宽带通滤波器 184 f$2lq4P{ 8.34 诱导透射滤波器 186 mXhr: e 8.35 诱导透射滤波器2 188 t$\]6RU 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ]~ec]Y 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 Dm 'Q& 8.35 增益平坦滤波器 193
HkEp}R 8.38 啁啾反射镜 1 196 %A82{ 8.39 啁啾反射镜2 198 q".l:T%|C} 8.40 啁啾反射镜3 199 W!IK>IW" 8.41 带保护层的铝膜层 200 'J!P:.=a> 8.42 增加铝反射率膜 201 L x9`y t6 8.43 参考文献 202 Lg Bs<2 9 多层膜 204 3kKXzIh 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 Xj!0jF33 9.2 内部透过率 204 7F+f6(hB 9.3 内部透射率数据 205 B"+Ygvxb 9.4 实例 206 D;Az>]>q 9.5 实例2 210 )K5~r>n& 9.6 圆锥和带宽计算 212 /8Vh G|Wb 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 <~:
g 10 光学薄膜的颜色 216 uX.Aq@j 10.1 导言 216 VaX>tUW 10.2 色彩 216 W9eR3q 10.3 主波长和纯度 220 &mY<e4 10.4 色相和纯度 221 X_%78$N-a` 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 <Xl G :nmY 10.6 色差 226 s[xdID^3. 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 ^]aDLjD 10.8 颜色渲染指数 234 Ma{|+\Q.Z 10.9 色差计算 235 k)S7SbQ 10.10 参考文献 236 Q@d X2 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 F'SOl*v(s5 11.1 短脉冲 238 eQC`e#% 11.2 群速度 239 i ;X'1TN(y 11.3 群速度色散 241 A;2?!i#f 11.4 啁啾(chirped) 245 ;Vp&f%u+v 11.5 光学薄膜—相变 245 Kx< | |