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2023-01-09 09:41 |
Macleod镀膜工具书限时特惠
Essential Macleod中文手册》 %kSpMj| wseb]=U 目 录 " }oH3L gyf9D]W ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 ,3~[cE<4 第1章 介绍 ..........................................................1 w:+wx/\ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 cH>3|B*y 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 T(2*P5%& 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 nkii0YB! 第5章 软件结构 ............................................................... 21 CE;J`; 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 O|I)HpG; 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 !aQQq[ 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 v3]mZ}W$ 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 lPO+dm 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Wd<|DmSy 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 fNnX{Wq 第12章 优化和综合 ..................................................................120 V4>qR{5 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 D,sb{N 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 x}B_;&>&"_ 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 lz>>{ 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ~H1ZQ[ 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 %.[jz,;) 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 2SV}mK U 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 b^q8s4( 第20章 运行表单 .................................................................... 251 {sb2r%U!+ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 ngI3.v/R 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 rS&"UH?c7 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 *iwVB^^$ 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 v|
Yh]y 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 dDxb}dx8 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Z0#&D&2sV 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 <7R+p;y 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 2?)8s"Y PqVz^(Wz 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 g;mX {p_@ +pG[
[}/ 价 格:400元 cf`g.9pjlx PPMAj@B}V 镀膜工具书原价400元,限时特惠368元[attachment=115955] On*pI37(\ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) c]1\88 OLs<]0H
内容简介 ScCA8JgY Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 <TQ,7M4X 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ^<OcbOn;O 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 c]]e( /{71JqFis
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 "%E<%g 目录 ,:=g}i Preface 1 tB)nQw7 内容简介 2 iRK&-wn 目录 i pr?k~Bn 1 引言 1 3)0z( 30 2 光学薄膜基础 2 Or3GrZ!H 2.1 一般规则 2 ;6AanwR6 2.2 正交入射规则 3 A!uO7".E 2.3 斜入射规则 6 )&vuT
q'7' 2.4 精确计算 7 wT>~7$=L{ 2.5 相干性 8 cf+EQY 2.6 参考文献 10 Gr8%%]1!0 3 Essential Macleod的快速预览 10 v9"|VhZ 4 Essential Macleod的特点 32 HnsPXF'8g 4.1 容量和局限性 33 cyTBp58
4.2 程序在哪里? 33 M'|?*aNK 4.3 数据文件 35 |A, <m#C 4.4 设计规则 35 4H*M^?h\# 4.5 材料数据库和资料库 37 ?"-1QG 4.5.1材料损失 38 B]#^&89wG) 4.5.1材料数据库和导入材料 39 7#+>1 "\ 4.5.2 材料库 41 k3CHv =U{ 4.5.3导出材料数据 43 U%r|hn3 4.6 常用单位 43 FxdWJ|rN9D 4.7 插值和外推法 46 KD^n7+w% 4.8 材料数据的平滑 50 ~i
UG2 4v 4.9 更多光学常数模型 54 @p%WFNR0 4.10 文档的一般编辑规则 55 DI0Wk^ m 4.11 撤销和重做 56 -Dy":/Bk 4.12 设计文档 57 Uu[dx}y 4.10.1 公式 58 Z>PS>6 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 )<(3 .M 4.10.3 沉积密度 59 j.kv!;Rj= 4.10.4 平行和楔形介质 60 SQT]' 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 eZ8DW6 l*
4.10.4 性能 61 au#/Q 4.10.5 保存设计和性能 64 @~&1! 4.10.6 默认设计 64 ;pt.)5 4.11 图表 64 YVLK X}$)( 4.11.1 合并曲线图 67 !QlCt>{ 4.11.2 自适应绘制 68 aIo%~w 4.11.3 动态绘图 68 ok1-`c P 4.11.4 3D绘图 69 k2/t~|5 4.12 导入和导出 73 ov\+&=IRG 4.12.1 剪贴板 73 ijACfl{!:t 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 hdDL92JVg 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Hq
aay 4.13 背景 77
xV"~?vD 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 {sW>J0 4.15 生成Rugate 84 j~Mx^ivwj 4.16 参考文献 91 sL)7MtNwy 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 WI1DL&*B@< 5.1 Jobs 92 wGgeK,*_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 0@wXE\s 5.3 输入材料 94 "Pl.G[Buc- 5.4 设计数据文件夹 95 x}~Z[ bx 5.5 默认设计 95 3,0b<vfSv 6 细化和合成 97 [&sabM`Ul 6.1 优化介绍 97 H"c2kno9 6.2 细化 (Refinement) 98 w ufQyT` 6.3 合成 (Synthesis) 100 2oo\ SmO] 6.4 目标和评价函数 101 pfQ3Y$z 6.4.1 目标输入 102 MIY`"h0* 6.4.2 目标 103 >{[ 6.4.3 特殊的评价函数 104 M44$E4a20 6.5 层锁定和连接 104 (Rsf;VPO 6.6 细化技术 104 %-<6Z9otc 6.6.1 单纯形 105 '.]<lh! 6.6.1.1 单纯形参数 106 K=>j+a5$ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 9^E!2CJ 6.6.2.1 Optimac参数 108 45H9pY w 6.6.3 模拟退火算法 109 5DJ!:QY! 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ujf7r`;u. 6.6.4 共轭梯度 111 S^iT&;, 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 LtGjHB\+ 6.6.5 拟牛顿法 112 T%aM~dp 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ee{K5 G 6.6.6 针合成 113 Z|xgZG{ 6.6.6.1 针合成参数 114 @M6F?; 6.6.7 差分进化 114 j>G|Xv 6.6.8非局部细化 115 0nZQ"{x 6.6.8.1非局部细化参数 115 v oO7W" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 qWS"I+o,S 6.7.1 细化 116 Y*sw;2Z;a 6.7.2 合成 117 erOj(ce 6.8 参考文献 117 ~-UO^$M- 7 导纳图及其他工具 118 .:O($9^Ho 7.1 简介 118 84coi 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 :mhO/Bx 7.2.1 四分之一波长规则 119 "JE->iD 7.2.2 导纳图 120 +&G]\WX< 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 <{i1/"k?X 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 H.[nr: 7.5 斜入射导纳图 141 r}}2Kl 7.6 对称周期 141 "q
KVGd 7.7 参考文献 142 JvkTfTE7 8 典型的镀膜实例 143 :i|Bz6Ht4 8.1 单层抗反射薄膜 145 n<1*cL:8B 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 u/V&1In 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 q2/kegAT 8.4 W-膜层 148 o5:md :\ 8.5 V-膜层 149 iU~xb?,, 8.6 V-膜层高折射基底 150 $4Dr +Z
H 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 <sSH^J4QqX 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ^oR
qu
8.9 四层抗反射薄膜 153 X^rFRk 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Mkr
&30il[ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 dptfIBYc+ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 5}a.< 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 H;0K4|I 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 !w%p Gv.wg 8.15十五层宽带抗反射膜 159 +U4';[LG1C 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 '
H4m" 8.17 1/4波长堆栈 162 "{kE#`c6<n 8.18 陷波滤波器 163 f4VdH#eng` 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 (M<l}pl) 8.20 褶皱 165 Dl,sl>{ 8.21 消偏振分光器1 169 % bKy 8.22 消偏振分光器2 171 6n~)R 8.23 消偏振立体分光器 172 v +o6ZNX 8.24 消偏振截止滤光片 173
^Vf@J 8.25 立体偏振分束器1 174 C~pQJ@bF0 8.26 立方偏振分束器2 177 '6\ZgOO9 8.27 相位延迟器 178 DK20}&RQ 8.28 红外截止器 179 ,3!TyQ\m' 8.29 21层长波带通滤波器 180 g~U<0+&yw% 8.30 49层长波带通滤波器 181 2:<H)oB 8.31 55层短波带通滤波器 182 ) I(9qt>Y 8.32 47 红外截止器 183 g yegdky3 8.33 宽带通滤波器 184 <[w5M?n8 8.34 诱导透射滤波器 186 (xKypc+j 8.35 诱导透射滤波器2 188 brG!TJ 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Pz\ByD 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 s3 fQGbU 8.35 增益平坦滤波器 193 f>e0l'\ 8.38 啁啾反射镜 1 196 `\'V]9wS 8.39 啁啾反射镜2 198 f'*/IG 8.40 啁啾反射镜3 199 )l/
.<`| 8.41 带保护层的铝膜层 200 bdfs'udt9 8.42 增加铝反射率膜 201 CIf@G>e- 8.43 参考文献 202 $zF%F.rln 9 多层膜 204 8(\J~I[^ 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 6uKP
BL@, 9.2 内部透过率 204 5z2("[8L& 9.3 内部透射率数据 205 K;w2qc.+ 9.4 实例 206 KP
6vb@(6 9.5 实例2 210 Vbe@S?u- 9.6 圆锥和带宽计算 212 dp&G([ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 F1BXu@~e( 10 光学薄膜的颜色 216 pvb&vtp 10.1 导言 216 78 ]Kv^l^_ 10.2 色彩 216 n-{ d7haOa 10.3 主波长和纯度 220 o^Lq8u;i* 10.4 色相和纯度 221 Vw.)T/B_D 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ZJm$7T)V 10.6 色差 226 1Kr$JIcd 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 >P:U9
b 10.8 颜色渲染指数 234 Dr[;\/|# 10.9 色差计算 235 6 EfBz 10.10 参考文献 236 g^x=y 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 UFu0{rY_ 11.1 短脉冲 238 NHe)$%a=H 11.2 群速度 239 X Q
CE`m 11.3 群速度色散 241 fD3'Ye<R 11.4 啁啾(chirped) 245 :U=3*f.{ 11.5 光学薄膜—相变 245 b)M-q{ 11.6 群延迟和延迟色散 246 "6U@e0ht 11.7 色度色散 246 %d*0"<v 11.8 色散补偿 249 WRwx[[e6z 11.9 空间光线偏移 256 LI&E.(: 11.10 参考文献 258 ^fH)E"qq5 12 公差与误差 260 t_*x.{x- 12.1 蒙特卡罗模型 260 &/-MUKN 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 #sBL E 12.2.1 误差工具 267 $ZZ?*I 12.2.2 灵敏度工具 271 iH@u3[w 12.2.2.1 独立灵敏度 271 Km!ACA&s6 12.2.2.2 灵敏度分布 275 |yz
o|%]3 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 R9Wr? 12.3 参考文献 276 5S_fvW; 13 Runsheet 与Simulator 277 4;3Vc% 13.1 原理介绍 277 V6'u\Ch| 13.2 截止滤光片设计 277 |=0w_)Fa] 14 光学常数提取 289 )UpVGT) 14.1 介绍 289 Bha("kG 14.2 电介质薄膜 289 c
q[nqjC= 14.3 n 和k 的提取工具 295 "Da-e\yA 14.4 基底的参数提取 302 mpCu,l+lo 14.5 金属的参数提取 306 BDzAmrO< 14.6 不正确的模型 306 ,4`Vl<6 14.7 参考文献 311 v\MQ?VC 15 反演工程 313 ;|Hpg_~%> 15.1 随机性和系统性 313 QBH|pr
15.2 常见的系统性问题 314 ^Ifm1$X} 15.3 单层膜 314 a5saN5)H 15.4 多层膜 314 k;`1Ia 15.5 含义 319 TC44*BHq 15.6 反演工程实例 319 F?"Gln~; 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 0Zp5y@V8 15.6.2 反演工程提取折射率 327 ,x!r^YO= 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 qg1\ABH 16.1 光学性质的热致偏移 329 S.B?l_d^ 16.2 应力工具 335 }* }F_Y+ 16.3 均匀性误差 339 _-TW-{7bh 16.3.1 圆锥工具 339 maY.Z<lN 16.3.2 波前问题 341 RticGQy&5 16.4 参考文献 343 s$qc& 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 CGlEc 17.1 引言 345 iY?#R& 17.2 操作数 345 )=X g 18 如何在Function中编写脚本 351 LyNmn.nN 18.1 简介 351 cYe2a" 18.2 什么是脚本? 351 OFmHj]I7= 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 vnVT0)Lel 18.4 基础 352 &+A78I 18.4.1 Classes(类别) 352 a#i|)[ 18.4.2 对象 352 tKcC{ 18.4.3 信息(Messages) 352 MBw;+'93qf 18.4.4 属性 352 ,7:-V<'Yv 18.4.5 方法 353 >o{JG(Rn 18.4.6 变量声明 353 iR./9}Ze 18.5 创建对象 354 Wa.xm_4s2 18.5.1 创建对象函数 355 _yR_u+5 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 8 @(?E[&O> 18.5.3 丢弃对象 356 #Y3-P 18.5.4 总结 356 ot2zY
dWAz 18.6 脚本中的表格 357 >`a^E1) 18.6.1 方法1 357 k'N``. 18.6.2 方法2 357 J?X{NARt 18.7 2D Plots in Scripts 358 febn?|@ 18.8 3D Plots in Scripts 359 2gkN\w6zQ 18.9 注释 360 j<~T:Tk 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 D}X6I#U'/ 18.11 一个更高级的脚本 362 _F`JFMS 18.12 <esc>键 364 Xx[,n-rA 18.13 包含文件 365 /3^XJb$Sa 18.14 脚本被优化调用 366 DCZG'eb 18.15 脚本中的对话框 368 ]Q0bL 18.15.1 介绍 368 4r~K`)/S' 18.15.2 消息框-MsgBox 368 mI DVN 18.15.3 输入框函数 370 `{h)-Y`` 18.15.4 自定义对话框 371 z,E`+a; 18.15.5 对话框编辑器 371 {47l1wV] 18.15.6 控制对话框 377 W^xO/xu1/ 18.15.7 更高级的对话框 380 i/'bpGrQ( 18.16 Types语句 384 TIl 'Z7 18.17 打开文件 385 6)?u8K5%r 18.18 Bags 387 M&29J 18.13 进一步研究 388 7=u
Gf$/ 19 vStack 389 V>Z4gZp5sc 19.1 vStack基本原理 389 p U !: 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 S2Ez}*plp 19.3 五棱镜 393 w|S b`eR 19.4 光束距离 396 ty#6% 19.5 误差 399 ?< | |