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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
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infotek
2023-01-03 08:43
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
KKx&UKjV
.4S^nP
内容简介
J8sJ~FnUj
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
^@|<'g.R-
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
P?Gd}mdX?m
讯技科技股份有限公司
^%K1R;
c]AKeq]
!(MA5L-
目录
,XWay%8{E
Preface 1
"?2
内容简介 2
D\45l
目录 i
&y#\1K
1 引言 1
1=9qAp;?o
2 光学薄膜基础 2
7AGZu?1]M
2.1 一般规则 2
JEK%yMj
2.2 正交入射规则 3
c t2_N
2.3 斜入射规则 6
:,h=2a_ 8
2.4 精确计算 7
;X*K*q
2.5 相干性 8
|kBg8).B
2.6 参考文献 10
7`u A
3 Essential Macleod的快速预览 10
z) ]BV=
4 Essential Macleod的特点 32
z. _C*c
4.1 容量和局限性 33
bBeFL~
4.2 程序在哪里? 33
vc>^.#7
4.3 数据文件 35
^-e3=&
4.4 设计规则 35
+YQ)}v
4.5 材料数据库和资料库 37
J[& 7,}
4.5.1材料损失 38
#GDh/t2@
4.5.1材料数据库和导入材料 39
3&a*]
4.5.2 材料库 41
zCj*:n
4.5.3导出材料数据 43
]Vf8mkDGO
4.6 常用单位 43
D*d 3w
4.7 插值和外推法 46
Zi<Sw
4.8 材料数据的平滑 50
JL]k:i^`A
4.9 更多光学常数模型 54
^V XXq
4.10 文档的一般编辑规则 55
${TB2q}%
4.11 撤销和重做 56
J#Ne:Aj_
4.12 设计文档 57
;:-2~z~~
4.10.1 公式 58
zal3j^
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
(zM+7tJH
4.10.3 沉积密度 59
$dVgFot
4.10.4 平行和楔形介质 60
j-I6QUd
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
Y>dg10=
4.10.4 性能 61
i)`zKbK
4.10.5 保存设计和性能 64
Ybn=Gy
4.10.6 默认设计 64
R uFu,H-
4.11 图表 64
Ivt)Eg
4.11.1 合并曲线图 67
T_oW)G
4.11.2 自适应绘制 68
-pU\"$nuxH
4.11.3 动态绘图 68
}'w^<:RSy
4.11.4 3D绘图 69
M$>WmG1~D
4.12 导入和导出 73
Ow($\,
4.12.1 剪贴板 73
uc"[ qT(X
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
{Gb)Et]<
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
!cFE^VM_;
4.13 背景 77
P :7l#/x_
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
qed!C
4.15 生成Rugate 84
{6=H/g=:i
4.16 参考文献 91
y?R <g^A
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
{C0OrO2:
5.1 Jobs 92
t#D\*:Xi
5.2 创建一个新Job(工作) 93
{7pE9R 5
5.3 输入材料 94
v\?\(Y55Y
5.4 设计数据文件夹 95
um0}`Xq ^
5.5 默认设计 95
C)3$";$5)
6 细化和合成 97
HU'`kimWb
6.1 优化介绍 97
{;z L[AgCg
6.2 细化 (Refinement) 98
KJvJUq
6.3 合成 (Synthesis) 100
3sg)]3jm2
6.4 目标和评价函数 101
ID k:jO
6.4.1 目标输入 102
5@&i:vs5y
6.4.2 目标 103
_6ax{:/Q
6.4.3 特殊的评价函数 104
y3o4%K8
6.5 层锁定和连接 104
'`goy%Wd
6.6 细化技术 104
\tw#pk
6.6.1 单纯形 105
9:Z~}yX
6.6.1.1 单纯形参数 106
+KwF U
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
YDzF( ']o:
6.6.2.1 Optimac参数 108
. =foXN
6.6.3 模拟退火算法 109
r;6YCI=z
6.6.3.1 模拟退火参数 109
7rDRu]
6.6.4 共轭梯度 111
v,.n/@s|X
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
,"MUfZ
6.6.5 拟牛顿法 112
y@8399;l
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
#y9K-}u
6.6.6 针合成 113
W2.1xNWO
6.6.6.1 针合成参数 114
"?0G^zu
6.6.7 差分进化 114
hpi_0lMkI
6.6.8非局部细化 115
?yM/j7Xn
6.6.8.1非局部细化参数 115
"s6_lhu=E7
6.7 我应该使用哪种技术? 116
NwuBe:"@
6.7.1 细化 116
Ky~~Cd$
6.7.2 合成 117
|`D5XRVbi
6.8 参考文献 117
0v)mgrl=,
7 导纳图及其他工具 118
FCB/FtI0
7.1 简介 118
c"&!=@
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
68br
7.2.1 四分之一波长规则 119
FEi,^V
7.2.2 导纳图 120
AkQFb2|ir
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
C%o/
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
wU3ica&[
7.5 斜入射导纳图 141
~S{\wL53
7.6 对称周期 141
,^[37/S
7.7 参考文献 142
$zA[5}{ZtQ
8 典型的镀膜实例 143
x=|@AFI
8.1 单层抗反射薄膜 145
xfQ;5n
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
7n/I'r
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
Y$5v3E\uc
8.4 W-膜层 148
;8Q?`=a
8.5 V-膜层 149
m64\@ [
8.6 V-膜层高折射基底 150
&I_!&m~
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
dOgM9P
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
TbM*?\7
8.9 四层抗反射薄膜 153
AQGE(%X
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
F?Nk:# V
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
*njB fH'
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
rxA)&