线上培训 |《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》内含四场培训随心选
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为了方便大家精确主攻学某一部分的光学杂散光的知识,武汉墨光为此开展不同时间段,不同内容课程,此次课程分为基础、散射、鬼像、衍射四场培训,感兴趣小伙伴可以根据自己的需求选择上课,以下是四场培训的具体介绍: -Rvxjy)[N .SsIU\[) 培训主题 \x+DEy'4;5 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 b'&pJ1]]} $-y+97 L=p.@VSZ 培训大纲01基础 l?~ci
;lG <hea%6 yO6i "3 1. 杂散光术语; ~U1iB 3. 杂散光成因; /X:lt^?%I 4. 杂散光影响、杂散光控制; a~%ej.)l 5. 杂散光分析、评价方法、分析软件对比; A/QVotcU 6. ASAP 杂散光分析流程、步骤。 <|8l ; m^=,
RfUUd [backcolor=var(--weui-BG-3)]02散射 DYl^6] i-<=nD&?t bXW)n<y 1. 杂散光特性、散射模型; ~;+vF-]R 2. 消光漆/表面处理; 29]8[Z,4 3. 光学表面污染; QA3l:D}u 4. 散射特性测量仪对比、重点区域采样; <Hp"ZCN 5. 散射特征测试介绍、PST 测试介绍 ^"Y'zIL 6. 杂散光计算器、扩展面源杂散光分析; !G,$:t1-=V 7. 练习1-找关键和被照表面; R',w~1RV' 8. 练习2-散射模型拟合。 epL[PL} 98]t"ny [ 03鬼像 <Z;7=k SQ!lgm1bA `SW
" RLS3 1. 鬼像分析、光学设计中的杂散光控制; w(U/(C7R 2. 练习1-鬼像分析; b[k 1)R" 3. 练习2-重点区域位置和大小计算; @r43F$bcqo 4. 练习3-杂散光路径分析; =gn}_sKNE 5. 练习4-红外系统自身热辐射分析。 jysV%q 3 Id*^H:]C# 04衍射 ;!}SgzSH} h=tu+pn qIT{` hX 1. 衍射杂散光; \,EPsQV0? 2. 辐射度学基础; >(rB[ZJ 3. 练习1-孔径衍射; >2:S v1T 4. 练习2-大角度衍射分析; G"[pr%? 5. 练习3-日冕仪杂散光分析。 qWpC e*C v6VhXV6$| 9O Q4\ 培训详情: 4sQAR6_SW~ 举办单位:武汉墨光科技有限公司 F"H!CJJu& 5Nb_K`Vp* 培训日期:每场培训时间为半天时长(14:00-17:00)共计四个半天(四场) WS/+Yl 培训费用:600元/人/场次 eW)I}z+{ 报名方式:报名咨询请扫描下方“二维码”即可 [attachment=115108] zrO|L|F&P
注:如报名人数未达到最低开课人数,武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。 ;8T=uCi
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