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2022-11-02 08:40 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
_?5$ST@5 ;+) M~2 = 内容简介 97$1na3gq Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 cY}Nr#%s@U 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 jq4'=L$4 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Is87
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@.4e^Km w|"cf{$^x 目录 OMr &f8 Preface 1 }]qx " 内容简介 2 ^'g1? F$_ 目录 i X(b"b:j' 1 引言 1 [vIHYp 2 光学薄膜基础 2 K?y!zy 2.1 一般规则 2 <lx~/3<m 2.2 正交入射规则 3 x8]9Xe:_>O 2.3 斜入射规则 6 p'`SYEY@Z 2.4 精确计算 7 r A*"22v= 2.5 相干性 8 G8JwY\ 2.6 参考文献 10 O_PKS$sz{ 3 Essential Macleod的快速预览 10 &DqeO8?Q 4 Essential Macleod的特点 32 "hwG"3n1 4.1 容量和局限性 33 )N) "O? W9 4.2 程序在哪里? 33 e[3rz%'Q 4.3 数据文件 35 aZe[Nos 4.4 设计规则 35 bS0z\!1 4.5 材料数据库和资料库 37 YWfw%p?n" 4.5.1材料损失 38 ?0UzmJV?8 4.5.1材料数据库和导入材料 39 :Kc}R)6 4.5.2 材料库 41 "TWNit 4.5.3导出材料数据 43 nDR)UR 4.6 常用单位 43 n3-2;xuNKE 4.7 插值和外推法 46 J,8Wo6 4.8 材料数据的平滑 50 67uUeCW 4.9 更多光学常数模型 54 }y-b<J?H 4.10 文档的一般编辑规则 55 jLULf+8& 4.11 撤销和重做 56 ] M"l-A 4.12 设计文档 57 oSb,)k@ 4.10.1 公式 58 [qHLo>HaL 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 eBD7 g- 4.10.3 沉积密度 59 0]v:Ix 4.10.4 平行和楔形介质 60 t"0Z=`Wi 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 G<1awi 4.10.4 性能 61 uT5sLpA|6 4.10.5 保存设计和性能 64 ))M; .b.D 4.10.6 默认设计 64 zc<C %t[~y 4.11 图表 64 k^|P8v+"D 4.11.1 合并曲线图 67 YN\!I 4.11.2 自适应绘制 68 0]dL;~0y. 4.11.3 动态绘图 68 DA[s k7 4.11.4 3D绘图 69 B}=
WxG|) 4.12 导入和导出 73 y;N[#hY#CD 4.12.1 剪贴板 73 k+^-;=u6< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 09Sy-
je*/ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 #+2|ZfCn% 4.13 背景 77 /f!CX|U 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 )~q@2^ 4.15 生成Rugate 84 C<!%VHs 4.16 参考文献 91 XYbc1+C 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 *"N756Cj 5.1 Jobs 92 OUY65K 5.2 创建一个新Job(工作) 93 v3(W4G` 5.3 输入材料 94 *D: wwJ 5.4 设计数据文件夹 95 C0\A 5.5 默认设计 95 zt 1Pu
/e 6 细化和合成 97
1*_wJ 6.1 优化介绍 97 hWGCYkuW 6.2 细化 (Refinement) 98 QdM&M^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 _rQM[{Bkg 6.4 目标和评价函数 101 =sG9]a<I 6.4.1 目标输入 102 )'{:4MX 6.4.2 目标 103 `TBI{q[y 6.4.3 特殊的评价函数 104 `P&L. m]| 6.5 层锁定和连接 104 P)?)H]J" 6.6 细化技术 104 Nl_Sgyx,\ 6.6.1 单纯形 105 .bh>_ W_h 6.6.1.1 单纯形参数 106 &H!#jh\w 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 W
s!N%%g 6.6.2.1 Optimac参数 108 hJ0)"OA5 6.6.3 模拟退火算法 109 U?u0|Y+ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 X@u-n_ 6.6.4 共轭梯度 111 {1^9* 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 1uTbN 6.6.5 拟牛顿法 112 y0Pr[XZ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 jiPV ]aVN 6.6.6 针合成 113 pq`Bg`c 6.6.6.1 针合成参数 114 ;C8'7 6.6.7 差分进化 114 lZTD>$ 6.6.8非局部细化 115 X!0s__IOc 6.6.8.1非局部细化参数 115 hB#z8D 6.7 我应该使用哪种技术? 116 @P: 6.7.1 细化 116 75`*aAZ3 6.7.2 合成 117 u 89u#gCAC 6.8 参考文献 117 CB5 ~!nKv& 7 导纳图及其他工具 118 4
|$|]E 7.1 简介 118 %2=nS<kC 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 N
3)OH6w" 7.2.1 四分之一波长规则 119 zT|]!', 7.2.2 导纳图 120 h(hb?f@1: 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]p(jL7 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 )1H$5h 7.5 斜入射导纳图 141 C'ZF#Z 7.6 对称周期 141 DiF=<} >x 7.7 参考文献 142 }SHF 8 典型的镀膜实例 143 hS4Ljyeg 8.1 单层抗反射薄膜 145 Z7&Bn | |