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2022-11-02 08:40 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
_~!,x.Dbp L@wnzt 内容简介 kcle|B Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 t%)L8%Jr 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ="`y<J P 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4[?Q*f!
讯技科技股份有限公司 f]Vz !hM~
GCrN:+E0FJ sb1/4u/W 目录 wgrYZ^] Preface 1 m5S/T\,X 内容简介 2 aD4ln]sFxG 目录 i XP'KgTF 1 引言 1 -&c@c@dC 2 光学薄膜基础 2 *G9;d0 2.1 一般规则 2 xsfq[}eH< 2.2 正交入射规则 3 z#y<QH 2.3 斜入射规则 6 er53?z7zP. 2.4 精确计算 7 >,DR{A2hSB 2.5 相干性 8 C oaqi`v4T 2.6 参考文献 10 yHCc@`1. 3 Essential Macleod的快速预览 10 E_++yK^= 4 Essential Macleod的特点 32 m'pihFR:f 4.1 容量和局限性 33 pH4i6B*5 4.2 程序在哪里? 33 Ct B>
s7 4.3 数据文件 35 txi
m|) 4.4 设计规则 35 7l?=$q>k" 4.5 材料数据库和资料库 37 .8"o&%$`V 4.5.1材料损失 38 /(q* 4.5.1材料数据库和导入材料 39 62W3W1: W 4.5.2 材料库 41 h.67]U7m 4.5.3导出材料数据 43 c6e?)(V> 4.6 常用单位 43 ar6Z?v$ 4.7 插值和外推法 46 *@O;IiSE 4.8 材料数据的平滑 50 ]Y3ALQr! 4.9 更多光学常数模型 54 z.QW*rW9 4.10 文档的一般编辑规则 55 w'UP#vT5& 4.11 撤销和重做 56 I} j!
! 4.12 设计文档 57 1r;Q5[@ 4.10.1 公式 58 `aCcTs7~]p 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 j*CnnM#n 4.10.3 沉积密度 59 o}[wu:>yk 4.10.4 平行和楔形介质 60 ~ WVrtY Ju 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 0hPm,H*Y] 4.10.4 性能 61 5bgx;z9 4.10.5 保存设计和性能 64 3c6<JW 4.10.6 默认设计 64 *{XbC\j 4.11 图表 64 -q-%)f 4.11.1 合并曲线图 67 RNm/&F1C$ 4.11.2 自适应绘制 68 W{k}ogI; 4.11.3 动态绘图 68 5Eq_L 4.11.4 3D绘图 69 b6#V0bDXHD 4.12 导入和导出 73 `AYHCn 4.12.1 剪贴板 73 `LNRl'Zm 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 r|
YuHm 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Wt_@ vs@.O 4.13 背景 77 _v_ak4m> 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 A H`6)v<f 4.15 生成Rugate 84 dD#A.C,Rz 4.16 参考文献 91 ;0ake%v] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 qg+8i9Y! 5.1 Jobs 92 :[,n`0lH 5.2 创建一个新Job(工作) 93 4O2O0\o: 5.3 输入材料 94 ni9/7 5.4 设计数据文件夹 95 ~~>D=~B0' 5.5 默认设计 95 `2{x8A 6 细化和合成 97 $LKniK 6.1 优化介绍 97 q4Q1Ib-<2 6.2 细化 (Refinement) 98 iQ:]1H s 6.3 合成 (Synthesis) 100 ~Q5L)}8N 6.4 目标和评价函数 101 BsRxD9r 6.4.1 目标输入 102 Fz-Bd*uS 6.4.2 目标 103 R\)pW9) 6.4.3 特殊的评价函数 104 e3&R3{ 6.5 层锁定和连接 104 -fYgTst2 6.6 细化技术 104 ~fEgrF d 6.6.1 单纯形 105 7?e*b(vd 6.6.1.1 单纯形参数 106 7)z^*;x 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 uTngDk 6.6.2.1 Optimac参数 108 tZwZZ0]Z 6.6.3 模拟退火算法 109 |R DPx6!V 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ;ZB[g78%R% 6.6.4 共轭梯度 111 UP^{'eh 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 lkOugjI 6.6.5 拟牛顿法 112 NEJxd%- 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 7@5}WNr 6.6.6 针合成 113 ux'!1mN 6.6.6.1 针合成参数 114 u1(`^^Ml 6.6.7 差分进化 114 ;i> |5tEy 6.6.8非局部细化 115 dFK/ 6.6.8.1非局部细化参数 115 3`$- 6.7 我应该使用哪种技术? 116 dk# LAm0< 6.7.1 细化 116 3Jf_3c 6.7.2 合成 117 hr(E,TAe 6.8 参考文献 117 UOi8>;k` 7 导纳图及其他工具 118 Ak^g#^c* 7.1 简介 118 8 YsDE_ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;i@,TU 7.2.1 四分之一波长规则 119 *{/BPc0* 7.2.2 导纳图 120 rgJKXl;@s 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ??Q'| r 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 =E,^ +`M 7.5 斜入射导纳图 141 TDq(%IW 7.6 对称周期 141 e3}`] 7.7 参考文献 142 M<4~ewWJ 8 典型的镀膜实例 143 B;@7 8.1 单层抗反射薄膜 145 )OS^tG[= 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 >$j?2,Za(V 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 jTH,GF 8.4 W-膜层 148 Z.ky=vCt 8.5 V-膜层 149 pa*bqPi 8.6 V-膜层高折射基底 150 &Rdg07e;> 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 9(V12gn+lk 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 UOC>H%r~M? 8.9 四层抗反射薄膜 153 ]yiwdQ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 _o`+c wc 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 FCgr 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 $F"'=+0 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 Nr8#/H2f 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 B>hf|.GI 8.15十五层宽带抗反射膜 159 B+:/!_ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 FL*qV"r^n 8.17 1/4波长堆栈 162 o'O;69D]tX 8.18 陷波滤波器 163 >Z r f}H 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 wc`UcGO 8.20 褶皱 165 ""q76cx 8.21 消偏振分光器1 169 <[Oe.0SGu 8.22 消偏振分光器2 171 &c>%E%!" 8.23 消偏振立体分光器 172 %38HGjS 8.24 消偏振截止滤光片 173 wrI66R}@ 8.25 立体偏振分束器1 174 4c^WQ>[ 8.26 立方偏振分束器2 177 ;+jz=9Q- 8.27 相位延迟器 178 z-ns@y(f@X 8.28 红外截止器 179 nI]8w6eCV 8.29 21层长波带通滤波器 180 A:!_ & | |