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2022-11-02 08:38 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
biCX:m+_? &+?JY|u 内容简介 H+:SL $+<o Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 r7z8ICX'q 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &u62@ug#} 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 z
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SbNs# V6.xp{[ 目录 PiD%PBmUl Preface 1 =&QC&CqEi 内容简介 2 <#U9ih
2 目录 i ;-=Q6Ms8 1 引言 1 z~TG~_s 2 光学薄膜基础 2 \Kph?l9Ww 2.1 一般规则 2 E,I*E{nd9 2.2 正交入射规则 3 s? /#8 ` 2.3 斜入射规则 6 2IgTB|2 2.4 精确计算 7 OI3UC=G 2.5 相干性 8 bI)ItC_wf! 2.6 参考文献 10 5T?esF< 3 Essential Macleod的快速预览 10 rlEp&"+|M 4 Essential Macleod的特点 32 mX78Av.z! 4.1 容量和局限性 33 I g/SaEF 4.2 程序在哪里? 33 G3{t{XkV 4.3 数据文件 35 SST1vzm! 4.4 设计规则 35 @1#QbNp# 4.5 材料数据库和资料库 37 .\kcWeC\ 4.5.1材料损失 38 FNpMu3Q 4.5.1材料数据库和导入材料 39 B3V:? # 4.5.2 材料库 41 5BvCP 4.5.3导出材料数据 43 ITj0u&H: 4.6 常用单位 43 o9dqHm 4.7 插值和外推法 46 / ,3,l^kZ 4.8 材料数据的平滑 50 >[ r
TUn; 4.9 更多光学常数模型 54 O$}p}%%y7 4.10 文档的一般编辑规则 55 r<]Db&k
4.11 撤销和重做 56 CmaV> 4.12 设计文档 57 pK=$)<I"6 4.10.1 公式 58 ?{s!.U[T@ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {C>.fg%t 4.10.3 沉积密度 59 808E) 4.10.4 平行和楔形介质 60 "mbcZ5_ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 {R[FwB^7wJ 4.10.4 性能 61 K!/"&RjW. 4.10.5 保存设计和性能 64 S<"M5e 4.10.6 默认设计 64 2s, [DC 4.11 图表 64 x`@!hJc:[e 4.11.1 合并曲线图 67 ^,L vQW4 4.11.2 自适应绘制 68 csg:#-gE 4.11.3 动态绘图 68 z=TaB^-) 4.11.4 3D绘图 69 P-9[,3Zd 4.12 导入和导出 73 z;:c_y!f 4.12.1 剪贴板 73 xaO9?{O 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 1JIL6w_ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 )ndcBwQc" 4.13 背景 77 =5NrkCk#V 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ^6!C":f 4.15 生成Rugate 84 #3@ Du(_n 4.16 参考文献 91 R<VNbm; 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 yjZ]_. 5.1 Jobs 92 uU v yZ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Fw!wSzsk3 5.3 输入材料 94 $:M *$r^u 5.4 设计数据文件夹 95 :[:5^R 5.5 默认设计 95 ^|^ek 6 细化和合成 97 uGm~ Oo 6.1 优化介绍 97 y:Xs/RS 6.2 细化 (Refinement) 98 l2uh"! 6.3 合成 (Synthesis) 100 O)n LV~X 6.4 目标和评价函数 101 VuqN)CE^Uq 6.4.1 目标输入 102 Xg:w;#r, 6.4.2 目标 103
#:0dqD= 6.4.3 特殊的评价函数 104 .'o<.\R8 6.5 层锁定和连接 104 'N$hbl 6.6 细化技术 104 %M{qr!?uj 6.6.1 单纯形 105 H.EgL@;mb 6.6.1.1 单纯形参数 106 <.j `n 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ok;Y xp> 6.6.2.1 Optimac参数 108 [(v?Z`cX\ 6.6.3 模拟退火算法 109 =;DmD?nZ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 }X{#=*$GQ 6.6.4 共轭梯度 111 ' uvTOgP, 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 }ge~Nu>w 6.6.5 拟牛顿法 112 yM$@*od 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 }
DY{> D> 6.6.6 针合成 113 m&/{iCwp 6.6.6.1 针合成参数 114 %bo0-lnp 6.6.7 差分进化 114 C"bG?Mb 6.6.8非局部细化 115 vK2sj1Hzr 6.6.8.1非局部细化参数 115 (.Hiee43 6.7 我应该使用哪种技术? 116 @y%4BU&>0 6.7.1 细化 116 Df;EemCh 6.7.2 合成 117 L/Cp\|~ O 6.8 参考文献 117 R?"sM<3`e 7 导纳图及其他工具 118 "]M:+mH{] 7.1 简介 118 @UCI^a~w 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 JmDi{B? 7.2.1 四分之一波长规则 119 :V1ttRW}52 7.2.2 导纳图 120 ^VsX9 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Jy&O4g/'5 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 q$)$?" 7.5 斜入射导纳图 141 2E~WcB 7.6 对称周期 141 D<}z7W- 7.7 参考文献 142 &YQ 8 典型的镀膜实例 143 :;[pl|}tM 8.1 单层抗反射薄膜 145 tL0<xGI5^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 =zw=Jp 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 \_?A8F 8.4 W-膜层 148 lej-,HX 8.5 V-膜层 149 6*`KC)a 8.6 V-膜层高折射基底 150 gycjIy@t 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 d-e6hI4b 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 *?|LE
C 8.9 四层抗反射薄膜 153 *a_U2}N 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 $4K(AEt[ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 SMHQo/c r 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 e~#;ux 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 2=Sv# 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 eF]`?AeWQ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 H&K(,4u^ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 S/YT
V 8.17 1/4波长堆栈 162 g)7~vm2/, 8.18 陷波滤波器 163 qYD$_a 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 lJaR,, 8.20 褶皱 165 zTtn`j$ 8.21 消偏振分光器1 169 npsDy& | |