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2022-11-02 08:38 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
?hSha)1: s{% fi* 内容简介 rH^/8|}&s Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 gx&7 3f<J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 $pBr
&, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 '!j(u@&! 讯技科技股份有限公司 ]*h&hsS0
B(EtXB9 HU.1":.; 目录 Dpp@*xX> Preface 1 j<|6s,& 内容简介 2 H.;yLL= 目录 i R mgxf/ 1 引言 1 cl#OvQ 2 光学薄膜基础 2 >|S>J+( 2.1 一般规则 2 9/QS0 2.2 正交入射规则 3 ]LY^9eK)>{ 2.3 斜入射规则 6 F_~6n]Sr 2.4 精确计算 7 oYGUjI 2.5 相干性 8 8ST~$!z$ 2.6 参考文献 10 m>+A*M8 3 Essential Macleod的快速预览 10 i!ds {`d 4 Essential Macleod的特点 32 n+S&!PB 4.1 容量和局限性 33 EXH!glR[$ 4.2 程序在哪里? 33 j!"iYtgV 4.3 数据文件 35 >fhSaeN 4.4 设计规则 35 w-8)YJ Y 4.5 材料数据库和资料库 37 KXDz'9_ 4.5.1材料损失 38 4jPwL|# 4.5.1材料数据库和导入材料 39 7a27^b 4.5.2 材料库 41 jFS'I*1+ 4.5.3导出材料数据 43 $R3.yX=[\ 4.6 常用单位 43 c[6 zX#{` 4.7 插值和外推法 46 iu+zw[f 4.8 材料数据的平滑 50 ]
+sSg=N7i 4.9 更多光学常数模型 54 xBt4~q;#sE 4.10 文档的一般编辑规则 55 L_`Xbk y 4.11 撤销和重做 56 -y9Pn>~V 4.12 设计文档 57 T\.7f~3 4.10.1 公式 58 FK?mS>G6 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Rb yF#[} 4.10.3 沉积密度 59 @ICejB< 4.10.4 平行和楔形介质 60 fjF!>Dy
4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Rqt[D @;m 4.10.4 性能 61 >zN"
z) 4.10.5 保存设计和性能 64 ~&vA_/M 4.10.6 默认设计 64 yDDghW'\WU 4.11 图表 64 w@4t$bd7 4.11.1 合并曲线图 67 |A2W8b
{] 4.11.2 自适应绘制 68 &8o : 4.11.3 动态绘图 68 S]Sp Z8 4.11.4 3D绘图 69 zT2F&y
q 4.12 导入和导出 73 DHSU?o#jY 4.12.1 剪贴板 73 -DbH6u3 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 )+VHt
4.12.3 不通过剪贴板导出 76 c
g3Cl[s 4.13 背景 77 ,7WK<0
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ZJ)3GF}4 4.15 生成Rugate 84 -O>^eMWywo 4.16 参考文献 91 s,{RP0| 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 {IF}d*: 5.1 Jobs 92 RcKQER 5.2 创建一个新Job(工作) 93 OYQXi 5.3 输入材料 94 QfKR
pnj(o 5.4 设计数据文件夹 95 00$ @0 5.5 默认设计 95 ..v@Q% 6 细化和合成 97 #r78Ym'aI 6.1 优化介绍 97 1 P(&GYc 6.2 细化 (Refinement) 98 KY;uO 8Te 6.3 合成 (Synthesis) 100 Po2_ 0uX 6.4 目标和评价函数 101 (xjoRbU* 6.4.1 目标输入 102 wliGds 6.4.2 目标 103 q!ulE{ ^ 6.4.3 特殊的评价函数 104 ({ :yw 6.5 层锁定和连接 104 EN5G:hD 6.6 细化技术 104 $cp16 6.6.1 单纯形 105 L<{OBuR 6.6.1.1 单纯形参数 106 d&$.jk8 2 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 uyS^W'fF 6.6.2.1 Optimac参数 108 E.En$'BvB 6.6.3 模拟退火算法 109 EU&6Tg 6.6.3.1 模拟退火参数 109 @U 7#, G 6.6.4 共轭梯度 111 rH
[+/&w5 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 T<9dW?'| 6.6.5 拟牛顿法 112 P22y5z~ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ly[\mGr 6.6.6 针合成 113 +S:u[x 6.6.6.1 针合成参数 114 ~(*co[_ 6.6.7 差分进化 114 6KZ8 .m}: 6.6.8非局部细化 115 Ah8^^h|TPJ 6.6.8.1非局部细化参数 115 r P<d[u 6.7 我应该使用哪种技术? 116 `CTkx?e[ 6.7.1 细化 116 |zRoXO`]-* 6.7.2 合成 117 :_I
wc= 6.8 参考文献 117 E@'CU9Fo 7 导纳图及其他工具 118 5KA
FUR0 7.1 简介 118 ;N> {1 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 3=G5(0 7.2.1 四分之一波长规则 119 }tl8(kjm 7.2.2 导纳图 120 0|wKR|zW 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Np5/lPb1 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Rd@n?qB 7.5 斜入射导纳图 141 b'Piymx 7.6 对称周期 141 leX7(Y;!a7 7.7 参考文献 142 r~Is,.zZ} 8 典型的镀膜实例 143 jmA{rD W 8.1 单层抗反射薄膜 145 <(6-9(zHa 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ??esB& | |