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2022-11-02 08:38 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
<v\|@@X PKP(:3| 内容简介 EfOJ%Xr[,l Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ^P[-HA| 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 noacnQ_I$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 kWgxswl7H 讯技科技股份有限公司 v8LKv`I's
@Fo0uy\G 3N;X|pa 目录 ]86U-`p Preface 1 E0GpoG5C 内容简介 2 ]]Wa.P~]O 目录 i *dGW=aM#C 1 引言 1 !?]NMf_ 2 光学薄膜基础 2 t/HE@xPxI5 2.1 一般规则 2 5)0R: 2.2 正交入射规则 3 NJ3b Oq 2.3 斜入射规则 6 pZXva9bE 2.4 精确计算 7 18F7;d N8 2.5 相干性 8 d<xBI,g 2.6 参考文献 10 0nBAO 3 Essential Macleod的快速预览 10 Qd$d*mwg: 4 Essential Macleod的特点 32 p=T]%k*^h# 4.1 容量和局限性 33 wF}/7b54 4.2 程序在哪里? 33 mim]nRd2v 4.3 数据文件 35 ^ygN/a>rr 4.4 设计规则 35 iGM-#{5 4.5 材料数据库和资料库 37 dKhDO`.s 4.5.1材料损失 38 $kg!XT{V 4.5.1材料数据库和导入材料 39 " J$vt` 4.5.2 材料库 41 !DXKn\aQf 4.5.3导出材料数据 43 't2"CPZ 4.6 常用单位 43 m%ak ]rv([ 4.7 插值和外推法 46 ^~?VD 4.8 材料数据的平滑 50 Busxg?= 4.9 更多光学常数模型 54 qa2QS._m 4.10 文档的一般编辑规则 55 xrS;06$ 4.11 撤销和重做 56 aOETms w 4.12 设计文档 57 U8;k6WT| 4.10.1 公式 58 }qRYXjS 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ==~X8k|{E 4.10.3 沉积密度 59 /V^Gn; 4.10.4 平行和楔形介质 60 kO+Y5z6= 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ULNU'6 4.10.4 性能 61 b[%sKl 4.10.5 保存设计和性能 64 aTxss:7] 4.10.6 默认设计 64 cR*D)'/tl 4.11 图表 64 fq48>"g* 4.11.1 合并曲线图 67 VE`5bD+%e 4.11.2 自适应绘制 68 p HXslmrD 4.11.3 动态绘图 68 g ]e^; 4.11.4 3D绘图 69 9LI#&\lba 4.12 导入和导出 73 s3Pr$h 4.12.1 剪贴板 73 pWa'Fd 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 qcSlqWDk 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 dkVF 4.13 背景 77 1Rg tZp% 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9)9p<(b$ 4.15 生成Rugate 84 c07'mgsU 4.16 参考文献 91 (NR8B9qLN 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 .fY1?$*6c 5.1 Jobs 92 <&^P1x<x 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Vb yGr~t 5.3 输入材料 94 v'na{" 5.4 设计数据文件夹 95 ,j E'd'$ 5.5 默认设计 95 n,/eT,48` 6 细化和合成 97 s&&8~
)H 6.1 优化介绍 97 <cS"oBh&u0 6.2 细化 (Refinement) 98 w*#B_6bG 6.3 合成 (Synthesis) 100 J< Ljg<t+ 6.4 目标和评价函数 101 k@:M#?(F 6.4.1 目标输入 102 :x88 6.4.2 目标 103 sT8(f=^)8F 6.4.3 特殊的评价函数 104 M:TN^ rA| 6.5 层锁定和连接 104 T1$=0VSEa+ 6.6 细化技术 104 B\^myg4 6.6.1 单纯形 105 T<XGG_NOl 6.6.1.1 单纯形参数 106 {o>51fXc) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 WX~:Y,l+u 6.6.2.1 Optimac参数 108 im,H|u_f4 6.6.3 模拟退火算法 109 a9LK}xc={ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 qe^d6 6.6.4 共轭梯度 111 ~V34j: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 SfTTB'9 6.6.5 拟牛顿法 112 /6fa
7; 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 oz8z%*9( 6.6.6 针合成 113 bqPaXH
n 6.6.6.1 针合成参数 114 I}^Q u0ub 6.6.7 差分进化 114 {4]sJT 6.6.8非局部细化 115 , B90r7K: 6.6.8.1非局部细化参数 115 v79k{<Ln 6.7 我应该使用哪种技术? 116 b;;mhu[D 6.7.1 细化 116 }R&5Ye 6.7.2 合成 117 L.ML0H- 6.8 参考文献 117 rd_!'pG 7 导纳图及其他工具 118 f[ 'uka.U 7.1 简介 118 Uf,fd 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 aw\0\'} 7.2.1 四分之一波长规则 119 e'l@M$^ 7.2.2 导纳图 120 ITssBB9 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 /gH[|d 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 aam6R/4 7.5 斜入射导纳图 141 alp}p 7.6 对称周期 141 w}rsboU 7.7 参考文献 142 eAl;:0=%L 8 典型的镀膜实例 143 dbsD\\,2%N 8.1 单层抗反射薄膜 145 h uIvXl 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 9aoGptgN 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 dCn'IM1 8.4 W-膜层 148 4:0y\M5u 8.5 V-膜层 149 8!XK[zL 8.6 V-膜层高折射基底 150 & | |