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infotek 2022-09-26 08:54

通过高NA浸没显微镜进行聚焦

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在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 t|Cp<k]B  
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3.M<ATe^  
场景 Ek|#P{!  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 P;o6rQf  
SoZ$1$o2  
系统构建块 tbHU(#~  
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组件求解器 w5 nzS)B:u  
*I)o Dq3  
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     R)% Jr.U  
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系统构建块 h|h-<G?>  
X;Tayb  
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总结 Ox;q +5  
{2<A\nW  
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     P6,~0v(S  
几何光学仿真 B{'x2I#,  
    通过光线追迹 LB}y,-vX>  
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结果:光线追迹 ^:g8mt  
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E6(OEC%,  
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快速物理光学仿真 ad^7t<a}<  
    通过场追迹 bl. y4  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 JBa( O- T  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 -QR&]U+  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )-$Od2u2c  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 RRh0G>*  
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总结 >r+Dl\R  
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