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2022-09-21 08:50 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
V'HlAQr 内容简介 +(I`@5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Hnd9T(UB 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ?c=R"Yg$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 "lv:hz H}jK3;8E
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 %U=S6<lbj; 目录 _Cv[`e. Preface 1 U&Sbm~Qi 内容简介 2 NE;(.. 目录 i V<~_OF 1 引言 1 HdY3DdC%q 2 光学薄膜基础 2 bG?WB,1 2.1 一般规则 2 OIXAjU*N 2.2 正交入射规则 3 m>Z\
rqOK 2.3 斜入射规则 6 Sob $j 2.4 精确计算 7 0bnVIG2q 2.5 相干性 8 ZVL-o<6 2.6 参考文献 10 <u x*r#a!d 3 Essential Macleod的快速预览 10 %/6e"o 4 Essential Macleod的特点 32 !5E%W[ 4.1 容量和局限性 33 SSL%$:l@ 4.2 程序在哪里? 33 P$(iB.& 4.3 数据文件 35 @T,H.#bL 4.4 设计规则 35 -NflaV~ 4.5 材料数据库和资料库 37 l_YdIUl 4.5.1材料损失 38 iZkW+5( 4.5.1材料数据库和导入材料 39 .Kh(F6
s 4.5.2 材料库 41 H(%] Os 4.5.3导出材料数据 43 ?,i#B'Z^ 4.6 常用单位 43 '^-4{Y^2E 4.7 插值和外推法 46 +EiUAs~H 4.8 材料数据的平滑 50 :,}:c%-^" 4.9 更多光学常数模型 54 qy42Y/8' 4.10 文档的一般编辑规则 55 +SuUI-. 4.11 撤销和重做 56 rmg";(I 4.12 设计文档 57 iRj x];:Vu 4.10.1 公式 58 o trTrh 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %)6:eIS 4.10.3 沉积密度 59 BJO~$/R?v 4.10.4 平行和楔形介质 60 wzQdKlV 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 xV n]m9i 4.10.4 性能 61 D
$CY:@ 4.10.5 保存设计和性能 64 .2{C29g 4.10.6 默认设计 64 Y9H *S*n 4.11 图表 64 bKt3x+x( 4.11.1 合并曲线图 67 [Tb3z:UUvf 4.11.2 自适应绘制 68 Pdo5sve 4.11.3 动态绘图 68 QkCoW[sn 4.11.4 3D绘图 69 (g)lv)4P 4.12 导入和导出 73 Eip~~2 4.12.1 剪贴板 73 Xv5Ev@T 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 P B6/<n9# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 1z};"A 4.13 背景 77 0JZq:hUd 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 4}_w4@( 4.15 生成Rugate 84 ^K77V$v 4.16 参考文献 91 cV,03]x 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ?D
)qgH 5.1 Jobs 92 MlC-Aad( 5.2 创建一个新Job(工作) 93 I|3v&E1 5.3 输入材料 94 ]O9f"cj 5.4 设计数据文件夹 95 b1>$sPJ+ 5.5 默认设计 95 x4m_(CtK 6 细化和合成 97 Aya;ycsgE 6.1 优化介绍 97 RH'F<!p 6.2 细化 (Refinement) 98 /w xxcq 6.3 合成 (Synthesis) 100 c"sw@<HG 6.4 目标和评价函数 101 Ff#N|L'9_ 6.4.1 目标输入 102 RoM*Qjw 6.4.2 目标 103 jf)JPa_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 7quwc'! 6.5 层锁定和连接 104 7jg(j~tQ 6.6 细化技术 104 p2NB~t7Z 6.6.1 单纯形 105 @%@^5 6.6.1.1 单纯形参数 106 IO)Ft 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $E~Lu$| 6.6.2.1 Optimac参数 108 OB
i!fLa 6.6.3 模拟退火算法 109 CD<u@l,1 6.6.3.1 模拟退火参数 109 'm!11Phe 6.6.4 共轭梯度 111 wPO@f~[Ji 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 e/ % ; 6.6.5 拟牛顿法 112 zQ|x>3 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 eNC5' Z 6.6.6 针合成 113 (_n8$3T75 6.6.6.1 针合成参数 114 \7tvNa,C 6.6.7 差分进化 114 (PrPH/$ 6.6.8非局部细化 115 ']6#7NU 6.6.8.1非局部细化参数 115 fm:{&( 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ?oDfI 6.7.1 细化 116 -K'84 bZ 6.7.2 合成 117 n_Hnk4 6.8 参考文献 117 +VW]%6+ 7 导纳图及其他工具 118 y $DB 7.1 简介 118 B)cb}.N: 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 m}'@S+k^ 7.2.1 四分之一波长规则 119 j83Y'VJJC 7.2.2 导纳图 120 S+xGHi) 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 I/-w65J] 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 b!HFv;^N 7.5 斜入射导纳图 141 hE#8_3 4%s 7.6 对称周期 141 ]:#$6D" 7.7 参考文献 142 ?'#;Y"RT 8 典型的镀膜实例 143 J&Qy | |