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2022-09-21 08:50 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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[=JHW 内容简介 5YnTGf& Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 rCgoU
xW` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 a X:,1^ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 :6y;U rnS&^
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 b=Oec%Adx 目录 ;n;bap Preface 1 s(shgI 3g 内容简介 2 _Xzl=j9[ 目录 i <~R{U>zO 1 引言 1 xjg(}w 2 光学薄膜基础 2 XmX{e.<NZ 2.1 一般规则 2 \ 3HB 2.2 正交入射规则 3 fFJu] 2.3 斜入射规则 6 $ {5|{` 2.4 精确计算 7 pF}WMt 2.5 相干性 8 wJu,N(U 2.6 参考文献 10 rJ)8KY> 3 Essential Macleod的快速预览 10 a?ux 4 Essential Macleod的特点 32 bz\-%$^k 4.1 容量和局限性 33 {<y.G1<. 4.2 程序在哪里? 33 %Ae43 4.3 数据文件 35 ?'+kZ| 4.4 设计规则 35 ;FO( mL ( 4.5 材料数据库和资料库 37
k;xIo(: 4.5.1材料损失 38 O[<0\ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 B4 +A 4.5.2 材料库 41 _0E KE 4.5.3导出材料数据 43 4g^Xe- 4.6 常用单位 43 u5E\wRn 4.7 插值和外推法 46 b,):&M~p 4.8 材料数据的平滑 50 6Us*zKgW 4.9 更多光学常数模型 54 +jN%w{^= 4.10 文档的一般编辑规则 55 |h* rkLY 4.11 撤销和重做 56 ~3,k8C"pRq 4.12 设计文档 57 1?,1EYT" 4.10.1 公式 58 O6Mxp- 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 gvu1 4.10.3 沉积密度 59 '4]_~?&x 4.10.4 平行和楔形介质 60 )0N^rw kW 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 zyPc<\HoK 4.10.4 性能 61 EaUO>S 4.10.5 保存设计和性能 64 ds;c\x 4.10.6 默认设计 64 g8L{xwx< 4.11 图表 64 $BUm, 4.11.1 合并曲线图 67 O#72h] 4.11.2 自适应绘制 68 qEajT"? 4.11.3 动态绘图 68 1Zt>andBF 4.11.4 3D绘图 69 pUD(5v*0R 4.12 导入和导出 73 (,OF<<OH 4.12.1 剪贴板 73 q!4eVg* 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ]mT2a8`c.r 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 .-4]FGg3 4.13 背景 77 }C!g x6 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /lDei} 4.15 生成Rugate 84 <tto8Y
j 4.16 参考文献 91 l _g JC. 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 y ]D[JX[ 5.1 Jobs 92 PB?92py& 5.2 创建一个新Job(工作) 93 8~ wP? 5.3 输入材料 94 *"Uf| 5.4 设计数据文件夹 95 7#(0GZN9h% 5.5 默认设计 95 ?&?5x%|.< 6 细化和合成 97 >!Dp'6 6.1 优化介绍 97 nrg$V>pD 6.2 细化 (Refinement) 98 n?*r, )' 6.3 合成 (Synthesis) 100 @Yn+ir0>O 6.4 目标和评价函数 101 9DdR"r'7 6.4.1 目标输入 102 }#h`1 uV 6.4.2 目标 103 |u]IOw&1 6.4.3 特殊的评价函数 104 *vzEfmN:d 6.5 层锁定和连接 104 '0w</g 6.6 细化技术 104 3~1Gts 6.6.1 单纯形 105 AQwai>eL 6.6.1.1 单纯形参数 106 ]=ADX} 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 W*B=j[w 6.6.2.1 Optimac参数 108 >t{-_4Yv? 6.6.3 模拟退火算法 109 9oYE 6.6.3.1 模拟退火参数 109 +xd@un[r< 6.6.4 共轭梯度 111 =Cd{bj.8 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 Eq|5PE^7 6.6.5 拟牛顿法 112 lffw
" 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 td7Of(k' 6.6.6 针合成 113 yLPP6_59$ 6.6.6.1 针合成参数 114 }bSDhMV; 6.6.7 差分进化 114 bYO['ORr@ 6.6.8非局部细化 115 _F8THYg ( 6.6.8.1非局部细化参数 115
nZ)E @ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 n?;h-KKO: 6.7.1 细化 116 (D:-p:q. 6.7.2 合成 117 `hdN 6PgK 6.8 参考文献 117 JIIc4fyy8s 7 导纳图及其他工具 118 rp+]f\]h 7.1 简介 118
T%Bz >K 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 =3ovaP 7.2.1 四分之一波长规则 119 HX)]@qL 7.2.2 导纳图 120 O>'tag 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 70'gVCb 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 a@J/[$5 7.5 斜入射导纳图 141 wJD'q\n 7.6 对称周期 141 ex
BLj
*] 7.7 参考文献 142 a?yU;IKJ 8 典型的镀膜实例 143 {Kf5a
m 8.1 单层抗反射薄膜 145 TB-dV'w 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 pKno~jja 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 /EG'I{oC 8.4 W-膜层 148 Y'5(exW 8.5 V-膜层 149 cUr!U\X[ 8.6 V-膜层高折射基底 150 w51l;2$des 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 N6v?Qzvi 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ~>N63I6 8.9 四层抗反射薄膜 153 k>\v]&|T` 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 :t< | |