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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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infotek
2022-09-06 08:45
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
^E]Xq]vd"
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内容简介
E!rgR5Bd
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
e^%>_U
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
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P&kjtl68Y
目录
Ew, 1*WK!
Preface 1
rb_FBa%
内容简介 2
0YsBAfRG
目录 i
P;' xa^Y
1 引言 1
(^lw<$N
2 光学薄膜基础 2
]Oh8LcE#BF
2.1 一般规则 2
\""sf{S9
2.2 正交入射规则 3
]ucz8('
2.3 斜入射规则 6
qZ=%ru
2.4 精确计算 7
Y;I>rC(
2.5 相干性 8
\:/~IZdzF
2.6 参考文献 10
5&Vp(A[m[
3 Essential Macleod的快速预览 10
aK+jpi4?
4 Essential Macleod的特点 32
0x1#^dII
4.1 容量和局限性 33
I&Dp~aEM]
4.2 程序在哪里? 33
-ufO,tJRLL
4.3 数据文件 35
3v?R"2\qS
4.4 设计规则 35
@gM>Lxj
4.5 材料数据库和资料库 37
5vSJjhS
4.5.1材料损失 38
\2U F J
4.5.1材料数据库和导入材料 39
-1z<,IN+
4.5.2 材料库 41
~9Jlb-*I5
4.5.3导出材料数据 43
9vL n#_
4.6 常用单位 43
GYJ lX
4.7 插值和外推法 46
z%0'v`7
4.8 材料数据的平滑 50
3@*orm>em
4.9 更多光学常数模型 54
40i]I@:JK
4.10 文档的一般编辑规则 55
*= ;M',nx
4.11 撤销和重做 56
G[4$@{
4.12 设计文档 57
W? SFtz
4.10.1 公式 58
:GBM`f@
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
8~@?cy1j!
4.10.3 沉积密度 59
~u^MRe|`
4.10.4 平行和楔形介质 60
a 9H^e<g
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
l2|[
4.10.4 性能 61
]hHL[hoFC
4.10.5 保存设计和性能 64
+[_mSt
4.10.6 默认设计 64
#=V[vbTY
4.11 图表 64
knb 9s`wR
4.11.1 合并曲线图 67
?BA~$|lfxu
4.11.2 自适应绘制 68
</B<=tc
4.11.3 动态绘图 68
At$[&%}
4.11.4 3D绘图 69
kWW$*d$
4.12 导入和导出 73
9Z!|oDP-
4.12.1 剪贴板 73
VxTrL}{(6
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
QHmF,P
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
Yn+d!w<3:
4.13 背景 77
@;1Ym\zc
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
Nfo`Q0\[P
4.15 生成Rugate 84
x<gP5c>zm
4.16 参考文献 91
[,?5}'we
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Spm7kw
5.1 Jobs 92
T P#Hq
5.2 创建一个新Job(工作) 93
i[V\RKH*F
5.3 输入材料 94
QRFBMq}'
5.4 设计数据文件夹 95
2^f6@;=M
5.5 默认设计 95
j.:I{!R#
6 细化和合成 97
i[7<l&K]
6.1 优化介绍 97
2b89th
6.2 细化 (Refinement) 98
@q/E)M?
6.3 合成 (Synthesis) 100
V X"!a
6.4 目标和评价函数 101
K?$|Y-_D^M
6.4.1 目标输入 102
X Z4q{^o
6.4.2 目标 103
<Y"h2#M "
6.4.3 特殊的评价函数 104
UVz}"TRq.
6.5 层锁定和连接 104
!U[/P6 +0
6.6 细化技术 104
Uz$.sa
6.6.1 单纯形 105
jn,_Ncd#
6.6.1.1 单纯形参数 106
7%)KB4(\_
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
=6H
6.6.2.1 Optimac参数 108
AdGDs+at,
6.6.3 模拟退火算法 109
l)K8.(2
6.6.3.1 模拟退火参数 109
_|f_%S8a_=
6.6.4 共轭梯度 111
Zog&:]P'F
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
K|V<e[X[V
6.6.5 拟牛顿法 112
dK d"2+fH
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
H9+[T3b
6.6.6 针合成 113
JZ>E<U9&
6.6.6.1 针合成参数 114
I:=rwnd
6.6.7 差分进化 114
pr.+r?la]
6.6.8非局部细化 115
/+JHnedK
6.6.8.1非局部细化参数 115
hRaX!QcG3
6.7 我应该使用哪种技术? 116
4qvE2W}&
6.7.1 细化 116
'MK"*W8QRM
6.7.2 合成 117
V*j1[d
6.8 参考文献 117
Dhze2q)o
7 导纳图及其他工具 118
S!6 ? b5
7.1 简介 118
,9YgznQ
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
X')t6DQ( I
7.2.1 四分之一波长规则 119
MiN|u
7.2.2 导纳图 120
UB2Ft=
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
pSKwXx
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
$az9Fmta
7.5 斜入射导纳图 141
L&LAh&%{2
7.6 对称周期 141
F|bg2)|du8
7.7 参考文献 142
U-:"Wx%G
8 典型的镀膜实例 143
a1 v%G
8.1 单层抗反射薄膜 145
./i5VBP5
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
ArVW2gL
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
(U([T -H
8.4 W-膜层 148
%@MO5#)NI
8.5 V-膜层 149
^`+Kjhht
8.6 V-膜层高折射基底 150
tb/`*Yl@
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
B1 Y
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
:zp9L/eh
8.9 四层抗反射薄膜 153
rk8Cea
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
.Ge`)_e
8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
<TEDqQ
8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
Zt ;u8O
8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
z*e`2n#\
8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
DDBf89$\
8.15十五层宽带抗反射膜 159
XE($t2x,M
8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
0WQd#l
8.17 1/4波长堆栈 162
}ki6(_
8.18 陷波滤波器 163
K_GqM9
8.19 厚度调制陷波滤波器 164
( q}{;
8.20 褶皱 165
=z*SzG
8.21 消偏振分光器1 169
bZ[ay-f6oK
8.22 消偏振分光器2 171
@d_9NOmNT
8.23 消偏振立体分光器 172
-GODM128 ^
8.24 消偏振截止滤光片 173
mt\pndTy7!
8.25 立体偏振分束器1 174
on.m '-s
8.26 立方偏振分束器2 177
(Qd@Q,@(s
8.27 相位延迟器 178
<tgfbY^nL
8.28 红外截止器 179
Q`!<2i;
8.29 21层长波带通滤波器 180
(sp{.bU
8.30 49层长波带通滤波器 181
&UIS