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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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infotek
2022-09-06 08:45
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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内容简介
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Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
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目录
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Preface 1
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内容简介 2
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目录 i
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1 引言 1
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2 光学薄膜基础 2
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2.1 一般规则 2
%k%%3L,
2.2 正交入射规则 3
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2.3 斜入射规则 6
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2.4 精确计算 7
Q":,oZ2
2.5 相干性 8
r>: ~!o*
2.6 参考文献 10
"; 1@f"kw
3 Essential Macleod的快速预览 10
6ChFsteGFr
4 Essential Macleod的特点 32
XHU\;TF
4.1 容量和局限性 33
3rVfBz
4.2 程序在哪里? 33
GP>\3@>
4.3 数据文件 35
O&dBLh!G
4.4 设计规则 35
c@3mfc{
4.5 材料数据库和资料库 37
pfBe24q
4.5.1材料损失 38
g.Tc>?~
4.5.1材料数据库和导入材料 39
:)Pj()Os|
4.5.2 材料库 41
dGyrzuPJ
4.5.3导出材料数据 43
\sBXS.
4.6 常用单位 43
XGuxd
4.7 插值和外推法 46
1=Z!ZY}}e
4.8 材料数据的平滑 50
z$gtGrU
4.9 更多光学常数模型 54
t4iD<{4
4.10 文档的一般编辑规则 55
Brtsig,4
4.11 撤销和重做 56
"(r%`.l=I
4.12 设计文档 57
d-3.7nJ:
4.10.1 公式 58
zO`4W!x&
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
T;G<62`.h
4.10.3 沉积密度 59
Q,K$)bM
4.10.4 平行和楔形介质 60
l`uI K.
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
#M%K82"
4.10.4 性能 61
.TMLg(2hgv
4.10.5 保存设计和性能 64
i;rcgd
4.10.6 默认设计 64
]]0Yh
4.11 图表 64
fat;5XL@
4.11.1 合并曲线图 67
t"zi'9$t
4.11.2 自适应绘制 68
{dXTj 7
4.11.3 动态绘图 68
2x>7>;>
4.11.4 3D绘图 69
U9ZuD40\
4.12 导入和导出 73
M8Vc5
4.12.1 剪贴板 73
2X<%BFsE
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
Jz}`-fU`
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
SJ91(K
4.13 背景 77
'W,*mfB
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
B0U(B\~Y
4.15 生成Rugate 84
cZJ5L>ox
4.16 参考文献 91
[]v$QR&u#v
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
hq&|
5.1 Jobs 92
lb$_$+@Vr
5.2 创建一个新Job(工作) 93
RL:B.Lv/W
5.3 输入材料 94
eF]8Ar1
5.4 设计数据文件夹 95
N>Ih2>8t
5.5 默认设计 95
&?1O D5
6 细化和合成 97
06O_!"GD}
6.1 优化介绍 97
2"HTD|yy
6.2 细化 (Refinement) 98
_RzFh
6.3 合成 (Synthesis) 100
(i L*1f
6.4 目标和评价函数 101
DuNindo8
6.4.1 目标输入 102
q}+zNeC
6.4.2 目标 103
~4pP( JP
6.4.3 特殊的评价函数 104
?2l`%l5(
6.5 层锁定和连接 104
}zks@7kf
6.6 细化技术 104
_Dd>e=v
6.6.1 单纯形 105
Um}AV
6.6.1.1 单纯形参数 106
$|xSM2
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
7Q]c=i cg
6.6.2.1 Optimac参数 108
5D.Sg;\
6.6.3 模拟退火算法 109
d!w3LwZ
6.6.3.1 模拟退火参数 109
`!t-$i
6.6.4 共轭梯度 111
m";..V
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
0PqI^|!
6.6.5 拟牛顿法 112
'da 'WZG
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
V*ao@;sD
6.6.6 针合成 113
J^`5L7CO
6.6.6.1 针合成参数 114
,#FP]$FK
6.6.7 差分进化 114
i(pHJP:a:
6.6.8非局部细化 115
h}!9?:E
6.6.8.1非局部细化参数 115
F|{uA/P{
6.7 我应该使用哪种技术? 116
04jvrde8-O
6.7.1 细化 116
z~X/.>
6.7.2 合成 117
+}N'Xa/Jt
6.8 参考文献 117
~5`oNa
7 导纳图及其他工具 118
hVmnXT 3Z
7.1 简介 118
mE`qA*=?
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
M,S'4Szuk
7.2.1 四分之一波长规则 119
RYA@{.O
7.2.2 导纳图 120
$:%E<j4Dn
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
;xe.0j0h
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
|dqHpogh
7.5 斜入射导纳图 141
OtoM
7.6 对称周期 141
vjS=ZinN"
7.7 参考文献 142
+^lB"OcOX@
8 典型的镀膜实例 143
(bQ3:%nD
8.1 单层抗反射薄膜 145
3r,~-6
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
u*v<