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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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infotek
2022-09-06 08:45
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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内容简介
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Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。
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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
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薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
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讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
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目录
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Preface 1
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内容简介 2
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目录 i
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1 引言 1
05 ^h"
2 光学薄膜基础 2
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2.1 一般规则 2
)Q JUUn#
2.2 正交入射规则 3
i"=\d
2.3 斜入射规则 6
uHNCS zH(
2.4 精确计算 7
-D:b*D
2.5 相干性 8
PQE=D0
2.6 参考文献 10
/g.U&oI]D
3 Essential Macleod的快速预览 10
o5)<$P43
4 Essential Macleod的特点 32
b\5F ]r
4.1 容量和局限性 33
yWf`rF{
4.2 程序在哪里? 33
y>ktcuML
4.3 数据文件 35
bW:!5"_{H
4.4 设计规则 35
MpOc
4.5 材料数据库和资料库 37
1B\WA8
4.5.1材料损失 38
-tU'yKhn
4.5.1材料数据库和导入材料 39
lk =<A"^S
4.5.2 材料库 41
*yGGBqd
4.5.3导出材料数据 43
lmhLM. 2
4.6 常用单位 43
dgP3@`YS
4.7 插值和外推法 46
@E8+C8'
4.8 材料数据的平滑 50
_(zG?]y0P
4.9 更多光学常数模型 54
#rg6,.I)<
4.10 文档的一般编辑规则 55
A?0Nm{O;3v
4.11 撤销和重做 56
og>uj>H&
4.12 设计文档 57
R^e'}+Z
4.10.1 公式 58
Kf-JcBsrT
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
$Z>'Jp
4.10.3 沉积密度 59
K|s,ru
4.10.4 平行和楔形介质 60
kSo"Ak!
4.10.5 渐变折射率和散射层 60
[.}oyz;}N
4.10.4 性能 61
V G~Vs@c(
4.10.5 保存设计和性能 64
'E.w=7z&
4.10.6 默认设计 64
]JR +ayk7
4.11 图表 64
EBmt9S
4.11.1 合并曲线图 67
d0 /#nz
4.11.2 自适应绘制 68
aQI(Y^&%3
4.11.3 动态绘图 68
LXCx~;{\
4.11.4 3D绘图 69
t3^&;&[
4.12 导入和导出 73
y~HP>~Oh
4.12.1 剪贴板 73
xd0 L{ue.
4.12.2 不通过剪贴板导入 76
>KKMcTOYY
4.12.3 不通过剪贴板导出 76
\.}c9*)
4.13 背景 77
^dxTm1Z
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
BD7Ni^qI$
4.15 生成Rugate 84
Vf1^4t
4.16 参考文献 91
Q=dy<kg']
5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
[1H^3g '
5.1 Jobs 92
8Cv?Z.x5
5.2 创建一个新Job(工作) 93
{(?4!rh
5.3 输入材料 94
-H-~;EzU
5.4 设计数据文件夹 95
7cMv/g^h@
5.5 默认设计 95
3T0"" !Q
6 细化和合成 97
BfiD9ka-z
6.1 优化介绍 97
AkiDL=;w
6.2 细化 (Refinement) 98
z([</D?
6.3 合成 (Synthesis) 100
9-m=*|p
6.4 目标和评价函数 101
ku M$UYTTX
6.4.1 目标输入 102
o[D9I hs
6.4.2 目标 103
_GPl gp:
6.4.3 特殊的评价函数 104
] @fk] ]R
6.5 层锁定和连接 104
E&:,oG2M
6.6 细化技术 104
o3}3p]S\
6.6.1 单纯形 105
r#mx~OVkk
6.6.1.1 单纯形参数 106
q-d:TMkc
6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
( &x['IR
6.6.2.1 Optimac参数 108
6;5Ss?ep
6.6.3 模拟退火算法 109
"5$B>S(Q
6.6.3.1 模拟退火参数 109
Ny)X+2Ae
6.6.4 共轭梯度 111
Z;)%%V%o
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
1[-tD0{H
6.6.5 拟牛顿法 112
ZqO^f*F>h
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
zT-_5uZQ
6.6.6 针合成 113
y1L,0 ]
6.6.6.1 针合成参数 114
,5<Cd,`*
6.6.7 差分进化 114
|]*/R^1>2
6.6.8非局部细化 115
,~W|]/b<q
6.6.8.1非局部细化参数 115
%D "I
6.7 我应该使用哪种技术? 116
o2\8OxcA
6.7.1 细化 116
Wo=jskBrQ
6.7.2 合成 117
&b& ,
6.8 参考文献 117
QkC(uS
7 导纳图及其他工具 118
U:_^#\p
7.1 简介 118
0_t!T'jr7
7.2 薄膜作为导纳的变换 118
uY'HT|@:{
7.2.1 四分之一波长规则 119
"C`Ub
7.2.2 导纳图 120
{.mngRQF
7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
@Do= k
7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
7Hu3>4<
7.5 斜入射导纳图 141
+=8VTCn?
7.6 对称周期 141
$PHvA6D
7.7 参考文献 142
k"w"hg&e
8 典型的镀膜实例 143
3=ymm^
8.1 单层抗反射薄膜 145
Owk |@6!
8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
q> C'BIr
8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
:*\P n!r
8.4 W-膜层 148
_:27]K:
8.5 V-膜层 149
h 9W^[6
8.6 V-膜层高折射基底 150
7D5]G-}x.
8.7 V-膜层高折射率基底b 151
P7~ >mm+
8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
#>+ HlT
8.9 四层抗反射薄膜 153
cYt!n5w~W
8.10 Reichert抗反射薄膜 154
1&Z