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2022-08-18 08:57 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
dpJ_r>NI 内容简介 ,C
K{F Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 u_hD}V^x4 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 5"^en# ?9 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 rEv@YD
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 E4xj?m^(y= 目录 ?u-|>N> Preface 1 1jCLO} 内容简介 2 ~{d$!`|a 目录 i uH/J]zKR 1 引言 1 ?<V?wsp 2 光学薄膜基础 2 YHkn2]^#A 2.1 一般规则 2 \Npxv 2.2 正交入射规则 3 GU4'&# 2.3 斜入射规则 6 Z?}dq-Vh& 2.4 精确计算 7 O9vQp 2.5 相干性 8 ?:
N@!jeJ 2.6 参考文献 10 V}bjK8$$ 3 Essential Macleod的快速预览 10 w0ht 4 Essential Macleod的特点 32 ;LcVr13J/ 4.1 容量和局限性 33 ?a8^1: 4.2 程序在哪里? 33 (gy#js# 4.3 数据文件 35 ,.rs(5.z8/ 4.4 设计规则 35 Z9:-rcr 4.5 材料数据库和资料库 37 YX=a#%vrl 4.5.1材料损失 38 t5[#x4
p 4.5.1材料数据库和导入材料 39 \wo?47+= 4.5.2 材料库 41 %oq{L]C(rf 4.5.3导出材料数据 43 RLw;(*(g 4.6 常用单位 43 " |Xk2U 4.7 插值和外推法 46 2-7IJ\ 4.8 材料数据的平滑 50 8s"%u ) 4.9 更多光学常数模型 54 ^X0P'l&D2 4.10 文档的一般编辑规则 55 '3_]Gu-D 4.11 撤销和重做 56 OTy.VT| 4.12 设计文档 57 hHN'w73z 4.10.1 公式 58 J!0DR4=Xi 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 9bP^`\K[N 4.10.3 沉积密度 59 L0*nm.1X 4.10.4 平行和楔形介质 60 ^oVs+ vC 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 0TCBQ~ " 4.10.4 性能 61 p!>oo1& 4.10.5 保存设计和性能 64 D&/kCi= R 4.10.6 默认设计 64 iJ~Zkd 4.11 图表 64 Du`JaJI 4.11.1 合并曲线图 67 .uuO>: 4.11.2 自适应绘制 68 M4zm,>?K 4.11.3 动态绘图 68 # ,7e
NM" 4.11.4 3D绘图 69 .Si,dc\ 4.12 导入和导出 73 %70~M_ 4.12.1 剪贴板 73 H$@`,{M629 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 "l*Pd$sr 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 !_`&Wks 4.13 背景 77 mX\TD0$d 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 |zR8rqBX; 4.15 生成Rugate 84 ERpnuMb 4.16 参考文献 91 3^R&:|, 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 $>GgB` 5.1 Jobs 92 Y,WuBH 5.2 创建一个新Job(工作) 93 _z'u pb& 5.3 输入材料 94 U'8bdsF_ 5.4 设计数据文件夹 95 lp<g\ 5.5 默认设计 95 Qj,]N@7 6 细化和合成 97 [ JpKSTg[ 6.1 优化介绍 97 lL{5SH<Q 6.2 细化 (Refinement) 98 X}tVmO? 6.3 合成 (Synthesis) 100 vWRju*Z& 6.4 目标和评价函数 101 IIg^FZ*]_ 6.4.1 目标输入 102 ~V&aUDO>/ 6.4.2 目标 103 l%?T2Fm3> 6.4.3 特殊的评价函数 104 j:k[90 6.5 层锁定和连接 104 R($KSui 6.6 细化技术 104 F">Qpgt 6.6.1 单纯形 105 "ul {d(K3 6.6.1.1 单纯形参数 106 0(mkeIzJt/ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Ko;{I?c 6.6.2.1 Optimac参数 108 D[^m{ 9_ 6.6.3 模拟退火算法 109 D$bIo" 6.6.3.1 模拟退火参数 109 CPP`
qt%f 6.6.4 共轭梯度 111 <z]cyXv/ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /wP@2ADB 6.6.5 拟牛顿法 112 pcYG~pZ9 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 5#> 8MU?& 6.6.6 针合成 113 {P{bOe 6.6.6.1 针合成参数 114 I
6<*X 6.6.7 差分进化 114 +w.JpbQ& 6.6.8非局部细化 115 L1ieaKw 6.6.8.1非局部细化参数 115 NbC@z9Q 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Z0 o~+Ct$ 6.7.1 细化 116 5D_fXfx_| 6.7.2 合成 117 h<Ft_#|o[ 6.8 参考文献 117 i|T)p_y(!a 7 导纳图及其他工具 118 ]T;EdK- 7.1 简介 118 31rx-D8o 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e
' 2F# 7.2.1 四分之一波长规则 119 4d8B`Fa9 7.2.2 导纳图 120 Z$0uH* h 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #bl6sa{E 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ?RK]FP"A 7.5 斜入射导纳图 141 o3I Tr'; 7.6 对称周期 141 2_zp:v 7.7 参考文献 142 ZJwrLV 8 典型的镀膜实例 143 ,!dh2xNH^ 8.1 单层抗反射薄膜 145 o'W5|Gy 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Q(<)KZIK 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 s<oNE)xe 8.4 W-膜层 148 ^go7_y 8.5 V-膜层 149
"Qja1TQ 8.6 V-膜层高折射基底 150 q)Fq
i 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 dl~%MWAVb 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 rb1`UG"h$ 8.9 四层抗反射薄膜 153 hjIT_{mk 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 D9FJ 1~ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 m|=H# 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 yto,>Utzg 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 )yTm.F 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 [ {
bV4 8.15十五层宽带抗反射膜 159 &_"]5/"( 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 WHjUR0NZ 8.17 1/4波长堆栈 162 [P 06lIO 8.18 陷波滤波器 163 NGOqy+Ty{f 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2I&o69x? 8.20 褶皱 165 |!"2fI 8.21 消偏振分光器1 169 PB#fP_0C 8.22 消偏振分光器2 171 q|8{@EMT 8.23 消偏振立体分光器 172 91$]Qg,lB 8.24 消偏振截止滤光片 173 < | |