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2022-08-18 08:57 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
Nxt:U{`T' 内容简介 bEcN_7 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 [#Apd1S_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Ld.9.d] 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 '-A;B.GV% xRc+3Z= N
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 W6>t!1oO+ 目录 J(}PvkA Preface 1 )lLeL#]FLO 内容简介 2 *CXc{{ 目录 i h9 DUS,G9, 1 引言 1 F&!vtlV) 2 光学薄膜基础 2 cy@Ri# 2.1 一般规则 2 FW8Zpr!u 2.2 正交入射规则 3 ^=^\=9"
b 2.3 斜入射规则 6 lv/im/]v 2.4 精确计算 7 %bTuE' `b 2.5 相干性 8 oQ-m 2.6 参考文献 10 X[Ufq^fyA 3 Essential Macleod的快速预览 10 *y?6m,38V 4 Essential Macleod的特点 32 ( gg )? 4.1 容量和局限性 33 g|uyQhsg 4.2 程序在哪里? 33 mhrF9&s 4.3 数据文件 35 v@ QnS 4.4 设计规则 35 j"6|$Ze8 4.5 材料数据库和资料库 37 M`al~9 4.5.1材料损失 38 D*2*FDGI 4.5.1材料数据库和导入材料 39 yq|yGf(4& 4.5.2 材料库 41 V5$Gb6?K 4.5.3导出材料数据 43 E0RqY3 4.6 常用单位 43 kiJ=C2'& 4.7 插值和外推法 46 ;SI (5rS? 4.8 材料数据的平滑 50 (" :Dz_ 4.9 更多光学常数模型 54 >ymn&_zlT 4.10 文档的一般编辑规则 55 c=+%][21 4.11 撤销和重做 56 o@gceZuk 4.12 设计文档 57 n*$g1 HG6 4.10.1 公式 58 AP%R*0] 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 QWa@?BO2p 4.10.3 沉积密度 59 y}oA!<#3 4.10.4 平行和楔形介质 60 G7CkP 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 glCpA$;VPu 4.10.4 性能 61 >6yQuB 4.10.5 保存设计和性能 64 y'`7zJ 4.10.6 默认设计 64 D"aK;_W@h 4.11 图表 64 RuYIG?J=/ 4.11.1 合并曲线图 67 ``<#F3 4.11.2 自适应绘制 68 3'x>$5W 4.11.3 动态绘图 68 >)C7IQ/ 4.11.4 3D绘图 69 pLe4dz WA 4.12 导入和导出 73 "{~FEx4 4.12.1 剪贴板 73 Gr\jjf` 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Qq.$!$ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 dakHH@Q 4.13 背景 77 75p9_)>96 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 a]fFR~OY 4.15 生成Rugate 84 Drtg7v{@\ 4.16 参考文献 91 m-4#s 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 &iw,||# 5.1 Jobs 92 Wjq9f; 5.2 创建一个新Job(工作) 93 _4)
t 5.3 输入材料 94 E8Kk)7 5.4 设计数据文件夹 95 |MKR&%Na 5.5 默认设计 95 @C@9Tw2Y 6 细化和合成 97 XdThl 6.1 优化介绍 97 7r?,wM 6.2 细化 (Refinement) 98 *LhwIY 6.3 合成 (Synthesis) 100 3<<wHK;) 6.4 目标和评价函数 101 |DW^bv 6.4.1 目标输入 102 *JX$5bZsI 6.4.2 目标 103 ]vB^% 6.4.3 特殊的评价函数 104 Pi=FnS 6.5 层锁定和连接 104 <2@t~9 6.6 细化技术 104 b+:mV7eX 6.6.1 单纯形 105 MVzj7~+ 6.6.1.1 单纯形参数 106 {J1rjrPo 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 r6\g#} 6.6.2.1 Optimac参数 108 < w}i 6.6.3 模拟退火算法 109 5P #._Em 6.6.3.1 模拟退火参数 109 `:Wyw<^ 6.6.4 共轭梯度 111 j%3$ytf|p 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 5!9y nIC+> 6.6.5 拟牛顿法 112 !-T#dU 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 "k+ :!D 6.6.6 针合成 113 Q(N'Oj:J 6.6.6.1 针合成参数 114 p&Nav,9x 6.6.7 差分进化 114 &u|t{C#0 6.6.8非局部细化 115 vh"';L_*37 6.6.8.1非局部细化参数 115 4J,6cOuW4 6.7 我应该使用哪种技术? 116 "?k'S{; 6.7.1 细化 116 ,[p?u']yZz 6.7.2 合成 117 +Q_xY>ej 6.8 参考文献 117 JfJ ln[ 7 导纳图及其他工具 118 exSwx-zxI 7.1 简介 118 o"RE4s\G~r 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 dk] 7.2.1 四分之一波长规则 119 pHVDug3 7.2.2 导纳图 120 h\#4[/ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 3@eI? (N 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 g- #eMQ%J 7.5 斜入射导纳图 141 xF) .S@ 7.6 对称周期 141 mhIGunK;+ 7.7 参考文献 142 4V@0L 8 典型的镀膜实例 143 :.H@tBi*E 8.1 单层抗反射薄膜 145 V^qBbk%l>D 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ]igCV 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 HWoMzp5="3 8.4 W-膜层 148 uJ=&++[ 8.5 V-膜层 149 .wm<l: 8.6 V-膜层高折射基底 150 u(r
T2 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ~:!& | |