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2022-08-18 08:57 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
kLMg|48fdI 内容简介 GBtBmV/` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 "6^tG[G% 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 QW6F24 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Y oNg3 ,$Qa]UN5Q
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 \hQ[5> 目录 \ Preface 1 N\=pH{ 内容简介 2 1""9+4 目录 i |@]J*Kh 1 引言 1 Y fk[mo 2 光学薄膜基础 2 Z}f$KWj 2.1 一般规则 2 [0yKd?e 2.2 正交入射规则 3 sI/Hcm 2.3 斜入射规则 6 tS#EqMf&o 2.4 精确计算 7 ;nji< 2.5 相干性 8 Nz#T)MGO` 2.6 参考文献 10 u@}((V 3 Essential Macleod的快速预览 10 );@Dr!H 4 Essential Macleod的特点 32 Wd~aSz9 4.1 容量和局限性 33 !~04^( 4.2 程序在哪里? 33 yY4*/w7*j4 4.3 数据文件 35 hdW",Bf' 4.4 设计规则 35 uT8/xNB! 4.5 材料数据库和资料库 37 5,I'6$J
4.5.1材料损失 38 &BqRyUM$F 4.5.1材料数据库和导入材料 39 M A} = 4.5.2 材料库 41 Z*.fSmT8) 4.5.3导出材料数据 43 m;WUp{' 4.6 常用单位 43 iN0pYqY* 4.7 插值和外推法 46 { >{|3 4.8 材料数据的平滑 50 cn v4!c0 4.9 更多光学常数模型 54 7S7gU\qOj 4.10 文档的一般编辑规则 55 Km8btS]n 4.11 撤销和重做 56 -_
.f&l8 4.12 设计文档 57 vI{JBWE,S 4.10.1 公式 58 #w*1 ! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 a)MjX<y 4.10.3 沉积密度 59 x6* {@J&5* 4.10.4 平行和楔形介质 60 <>A:Oi3^ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 JHwkLAuz 4.10.4 性能 61 $@FD01h.t3 4.10.5 保存设计和性能 64 Z{EHV7 4.10.6 默认设计 64 -. L)-%wIV 4.11 图表 64 |]RV[S3v 4.11.1 合并曲线图 67 @SDsd^N{2P 4.11.2 自适应绘制 68 xM9EO(u 4.11.3 动态绘图 68 gq*- v:P> 4.11.4 3D绘图 69 Vs]+MAL 4.12 导入和导出 73 BXO(B'1)] 4.12.1 剪贴板 73 v$K`C; 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 lInq= 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 24:;vcb 4.13 背景 77 ;
@
h{-@ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 AEX]_1TG 4.15 生成Rugate 84 iH#~eg 4.16 参考文献 91 ;y%l OYm 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 [Oxmg?W 5.1 Jobs 92 H;k;%Zg; 5.2 创建一个新Job(工作) 93 7fLLV2 5.3 输入材料 94 1Z'cL~9 5.4 设计数据文件夹 95 bESmKe( 5.5 默认设计 95 a^< 6 细化和合成 97 Nb>|9nu
O 6.1 优化介绍 97 R@5jEf 6.2 细化 (Refinement) 98 >T%Jlj3ZG 6.3 合成 (Synthesis) 100 @X>k@M 6.4 目标和评价函数 101 6i(V+ 6.4.1 目标输入 102 Ox8dnPcx 6.4.2 目标 103 $)mq 6.4.3 特殊的评价函数 104 5z~Ji77! 6.5 层锁定和连接 104 /u<lh.
hPW 6.6 细化技术 104 VQZ3&]o 6.6.1 单纯形 105 $JypVA(CX 6.6.1.1 单纯形参数 106 $lOx
6rL 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 _U1~^ucV 6.6.2.1 Optimac参数 108 DifRpj I-0 6.6.3 模拟退火算法 109 #]vq
<Y 6.6.3.1 模拟退火参数 109 >-r\]/^ 6.6.4 共轭梯度 111 rFM`ne<zh 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <]b}R;9v 6.6.5 拟牛顿法 112 nSz Fs(]f 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 'X_iiR8n@p 6.6.6 针合成 113 bS3qX{5 6.6.6.1 针合成参数 114 9xB^dKM3 6.6.7 差分进化 114 {p|OKf 6.6.8非局部细化 115 7OS\j>hb~ 6.6.8.1非局部细化参数 115 z:^Kr"=n 6.7 我应该使用哪种技术? 116 HW|c -\tS 6.7.1 细化 116 yv9~ 6.7.2 合成 117 ]}<.Y[!S 6.8 参考文献 117 ibl^A= 7 导纳图及其他工具 118 -WB?hmx 7.1 简介 118 _c['_HC 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 oB-&ma[ZS 7.2.1 四分之一波长规则 119 7,!Mmu 7.2.2 导纳图 120 '/\@Mc4T 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 %/oOM\}++ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 X8ev uN 7.5 斜入射导纳图 141 U_ V0 7.6 对称周期 141 N;F1Z-9 7.7 参考文献 142 Y6`9:97 8 典型的镀膜实例 143 G#HbiVH9 8.1 单层抗反射薄膜 145 &{7n 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ^OI 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ldM [8 8.4 W-膜层 148 ~4U[p 50 8.5 V-膜层 149 4(R O1VWsb 8.6 V-膜层高折射基底 150 )*G3q/l1u6 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 s^^X.z , 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 @I]uK[qd 8.9 四层抗反射薄膜 153 O*z x{a6 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 %bt2^ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;J2U5Y NO 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 N(dn"`8 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 %\}|& | |