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2022-08-18 08:57 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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^/q7 内容简介 YT8F#t8 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 KCDE{za 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 &]-DqK7 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 j1HW._G S`?!G&[!>
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 kz7(Z'pw 目录 /vb`H>P Preface 1 IdxzE_@ 内容简介 2 pFz`}?c0 目录 i sFTy(A/ 1 引言 1 {cw /!B 2 光学薄膜基础 2 5i{j' {_(8 2.1 一般规则 2 cPc</[x[W 2.2 正交入射规则 3 5 + MS^H 2.3 斜入射规则 6 ~.lPEA %% 2.4 精确计算 7 fLAw12;^ 2.5 相干性 8 Mh
7DV 2.6 参考文献 10 w"&n?L 3 Essential Macleod的快速预览 10 fa2kG&, _ 4 Essential Macleod的特点 32 $]2vvr 4.1 容量和局限性 33 O!bOp= 4.2 程序在哪里? 33 %GIr&V4| 4.3 数据文件 35 01(AK% e 4.4 设计规则 35 _2 osV[e 4.5 材料数据库和资料库 37 <yg F( 4.5.1材料损失 38 njA#@fU 4.5.1材料数据库和导入材料 39 {P#|zp 4C{ 4.5.2 材料库 41 ',5ky{ 4.5.3导出材料数据 43 ^D-/`d 4.6 常用单位 43 n>U5R_T 4.7 插值和外推法 46 U_c *6CK 4.8 材料数据的平滑 50 QoH6 4.9 更多光学常数模型 54 42ivT_H 4.10 文档的一般编辑规则 55 &~U ] ~;@ 4.11 撤销和重做 56 3|Xyl`i4o 4.12 设计文档 57 1D!<'`)AY 4.10.1 公式 58 ^\,E&=/}M 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 hqkz^!rp 4.10.3 沉积密度 59 m/EFHS49 4.10.4 平行和楔形介质 60 0% I=d 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 k2UVm$}u 4.10.4 性能 61 t}tEvh 4.10.5 保存设计和性能 64 ayF\nk4b 4.10.6 默认设计 64 ZO$%[ftb 4.11 图表 64 h;NYdX5 4.11.1 合并曲线图 67 ,L'zRyP 4.11.2 自适应绘制 68 qK&d]6H
R 4.11.3 动态绘图 68 cq4Ipe 4.11.4 3D绘图 69 g_COp"!~9 4.12 导入和导出 73 *%@h(js 4.12.1 剪贴板 73 As<bL:>dE 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 &W6^sj*k5U 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 gEE\y{y 4.13 背景 77 RhLVg~x 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 L5:$U>H( 4.15 生成Rugate 84 ZbAcO/ 4.16 参考文献 91 $z*'fXg 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 B~Xw[q 5.1 Jobs 92 W-zP/]Dh 5.2 创建一个新Job(工作) 93 f^XOUh 5.3 输入材料 94 iTU5l5U z 5.4 设计数据文件夹 95 ,7K`[ 5.5 默认设计 95 mvT(.R ..s 6 细化和合成 97 bhlG,NTP 6.1 优化介绍 97 3n}?bY8@5_ 6.2 细化 (Refinement) 98 (0y~%J 6.3 合成 (Synthesis) 100 Czu\RXJR 6.4 目标和评价函数 101 "o}+Ciul 6.4.1 目标输入 102 N7R!C)!IL 6.4.2 目标 103 Otm0(+YB7 6.4.3 特殊的评价函数 104
t[
C/
6.5 层锁定和连接 104 _[ZO p ~ 6.6 细化技术 104 BbS4m 6.6.1 单纯形 105 O55 xS+3^k 6.6.1.1 单纯形参数 106 D]Xsvv
# 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 $43qME 6.6.2.1 Optimac参数 108 l$bu%SZ 6.6.3 模拟退火算法 109 |64~K\X 6.6.3.1 模拟退火参数 109 W#WV fr 6.6.4 共轭梯度 111 0T5L_%c 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 L AAHEv 6.6.5 拟牛顿法 112 o"R7,N0rB 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ]^K4i)\ 6.6.6 针合成 113 G?/DrnK: 6.6.6.1 针合成参数 114 k-OPU, 6.6.7 差分进化 114 _Qi&J.U> 6.6.8非局部细化 115 9.B
KI/ 6.6.8.1非局部细化参数 115 /,Re"!jh 6.7 我应该使用哪种技术? 116 m<"WDU?y; 6.7.1 细化 116 qE3UO<FA 6.7.2 合成 117 m:o<X K[> 6.8 参考文献 117 `t'W2X 7 导纳图及其他工具 118 mmRJ9OhS 7.1 简介 118 ve2u=eQ1 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ;&-k#PE]/H 7.2.1 四分之一波长规则 119 gz#i.- 7.2.2 导纳图 120 D#JL!A%O 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 }"!I[Ek> y 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 qfRH5)k 7.5 斜入射导纳图 141 d;9FB[MmOJ 7.6 对称周期 141 eu|;eP-+d 7.7 参考文献 142 =`s!; 8 典型的镀膜实例 143 74k dsgQf 8.1 单层抗反射薄膜 145 G.d TvLv 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 dNL(G%Qj+" 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 en*GM}<V 8.4 W-膜层 148 #O}
,`[< 8.5 V-膜层 149 )6,=f.% 8.6 V-膜层高折射基底 150 zz4N5[" 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 "v({, 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ^)*-Bo)I 8.9 四层抗反射薄膜 153 7f!YoW;1 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 y0.8A-2: 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 8jo p_PG' 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 S<@7_I 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 EkNunCls 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 rb+j*5Es 8.15十五层宽带抗反射膜 159 v4c[(& 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 L4z ~B!uvF 8.17 1/4波长堆栈 162 3L}!RB 8.18 陷波滤波器 163 p(`6hWx 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 o{q{!7DH@ 8.20 褶皱 165 ={d>iB yq 8.21 消偏振分光器1 169 (I{rLS!o,L 8.22 消偏振分光器2 171 "8^
Ch{G- 8.23 消偏振立体分光器 172 8hJ%JEzga 8.24 消偏振截止滤光片 173 q[W
0 N> 8.25 立体偏振分束器1 174 wL
4dTc 8.26 立方偏振分束器2 177 5aZ2j26 8.27 相位延迟器 178 cacr=iX 8.28 红外截止器 179 ]J$eDbaEjT 8.29 21层长波带通滤波器 180 ,J^b0@S 8.30 49层长波带通滤波器 181 VZymM< | |