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2022-08-10 09:51 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
}[|9vF"g.y 内容简介 f@!9~s Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 LyvR].p=5* 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 iTdamu`L 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]XlBV-@b T$0)un
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I@VzH(da\ 目录 tQNc+>7k+u Preface 1 sM)1w- 内容简介 2 e^@ZN9qQ 目录 i :D3:`P>,c 1 引言 1 ]Zh$9YK 2 光学薄膜基础 2 aO}hE2] 2.1 一般规则 2 ^NX;zc 2.2 正交入射规则 3 1l)j(,Zd* 2.3 斜入射规则 6 .'66]QW 2.4 精确计算 7 gp$]0~[tO 2.5 相干性 8 LFi{Q{E) 2.6 参考文献 10 a,4GE' 3 Essential Macleod的快速预览 10 2K/t[.8 4 Essential Macleod的特点 32 -a|b.p 4.1 容量和局限性 33 F(/<ADx 4.2 程序在哪里? 33 `Mg3P_}= 4.3 数据文件 35 E71H=C 4 4.4 设计规则 35 iu<Tv,{8 4.5 材料数据库和资料库 37 l%Ke>9C 4.5.1材料损失 38 X4\T=Q?uLx 4.5.1材料数据库和导入材料 39 +<@1)qZ(E 4.5.2 材料库 41 U9PI#TX
&O 4.5.3导出材料数据 43 ~eP~c"L 4.6 常用单位 43 0 5?`W&:9 4.7 插值和外推法 46 ;,]4A{| 4.8 材料数据的平滑 50 bYQ@! 4.9 更多光学常数模型 54 Sru0j/|H\ 4.10 文档的一般编辑规则 55 I8@leT\9M 4.11 撤销和重做 56 ;{wzw8! 4.12 设计文档 57 ( -q0!]E 4.10.1 公式 58 zobFUFx 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 %/\sn<6C} 4.10.3 沉积密度 59 -0;{ 4.10.4 平行和楔形介质 60 >mvE[iXRG? 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 -@w}}BR 4.10.4 性能 61 7~1Fy{tc 4.10.5 保存设计和性能 64 wO!>kc< 4.10.6 默认设计 64 ncUhCp?' 4.11 图表 64 `%Kj+^|DS 4.11.1 合并曲线图 67 )AieO-4* 4.11.2 自适应绘制 68 IY!.j5q8 4.11.3 动态绘图 68 5IzCQqOPgX 4.11.4 3D绘图 69 ^j.3'}p 4.12 导入和导出 73 s+ *LVfau 4.12.1 剪贴板 73 ;mD!8<~z. 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 nzAySMD_ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Hxac#(,7 4.13 背景 77 8N j} 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 z\,
lPwB2 4.15 生成Rugate 84 ~3Qa-s;g 4.16 参考文献 91 G]xN#O; 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 K0'p*[yO/j 5.1 Jobs 92
rKOa9M 5.2 创建一个新Job(工作) 93 4\V/A+<W 5.3 输入材料 94 d8
v9[4 5.4 设计数据文件夹 95 w0yzC0yBk 5.5 默认设计 95 Oel%lY}m3 6 细化和合成 97 pox;NdX7 6.1 优化介绍 97 oWDn_GnG`h 6.2 细化 (Refinement) 98 ]I/* J^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 -`spu) 6.4 目标和评价函数 101 !3c+}j-j 6.4.1 目标输入 102 %,S:^Rvv 6.4.2 目标 103 eln$,zK/b 6.4.3 特殊的评价函数 104 L1 k 6.5 层锁定和连接 104 MfI+o<{r 6.6 细化技术 104 =NK'xPr 6.6.1 单纯形 105 Om7 '_} 6.6.1.1 单纯形参数 106 h3\(660>$ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 n
sN n>{ 6.6.2.1 Optimac参数 108 S n~P1C 6.6.3 模拟退火算法 109 \G/ZA) t 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Q0ezeo 6.6.4 共轭梯度 111 $_a/!)bP 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 s"tH?m
)6 6.6.5 拟牛顿法 112 HDE5Mg " 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Bbb":c6w0 6.6.6 针合成 113 @YS,)U)4S 6.6.6.1 针合成参数 114 X,8Zn06M 6.6.7 差分进化 114 nhm#_3!6A 6.6.8非局部细化 115 H-m).^ 6.6.8.1非局部细化参数 115 1]8Hpd 6.7 我应该使用哪种技术? 116 3s*mq@~1X 6.7.1 细化 116 $b_~ 6.7.2 合成 117 fgo3Gy*# 6.8 参考文献 117 tB}W
)Eb 7 导纳图及其他工具 118 9CIQRc 7.1 简介 118 =zp{ ^mC 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 yRhD< | |