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2022-08-10 09:51 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
Bw2-4K\"kc 内容简介 jUjgxP*7m Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 '@1o M1 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ~nk{\ rWO 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 :G$f)NMK O>e2MT|#k
<4,hrx&.
wYnsd7@I 目录 eqz#KN`n# Preface 1 ()1\b 内容简介 2 #$p&J1 目录 i d~f_wN&r 1 引言 1 iB#xUSkS 2 光学薄膜基础 2 nO^aZmSu 2.1 一般规则 2 SaKaN#C 2.2 正交入射规则 3 UFnz3vc 2.3 斜入射规则 6 @,
v'V! 2.4 精确计算 7 ssbvuTr 2.5 相干性 8 J7:VRf|,?( 2.6 参考文献 10 ZuIr=`"j 3 Essential Macleod的快速预览 10 +4G]!tV6 4 Essential Macleod的特点 32 H8d%_jCr 4.1 容量和局限性 33 3|4jS"t{f 4.2 程序在哪里? 33 $$7Mq*a> 4.3 数据文件 35 qW8sJ= 4.4 设计规则 35 ` #Qlr+X 4.5 材料数据库和资料库 37 rEwEdyK 4.5.1材料损失 38 61e)SIRz9I 4.5.1材料数据库和导入材料 39 -*8 |J; 4.5.2 材料库 41 ~#/NpKHT@A 4.5.3导出材料数据 43 Ua^#.K 4.6 常用单位 43 -a:+ h\K 4.7 插值和外推法 46 v'`VyXetl 4.8 材料数据的平滑 50 5U)Ia>p 4.9 更多光学常数模型 54 E ,5XX;| 4.10 文档的一般编辑规则 55 jd<`W 4.11 撤销和重做 56 aO:wedfl 4.12 设计文档 57 Le#>uWM 4.10.1 公式 58 6Y4sv5G 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 D:`b61sWi_ 4.10.3 沉积密度 59 OwXw9 4.10.4 平行和楔形介质 60 ZmSe>}B= 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 *x[ZN\$`Y 4.10.4 性能 61 'Rbv3U 4.10.5 保存设计和性能 64 Pn:L=* 4.10.6 默认设计 64 ;&mefaFlWp 4.11 图表 64 ph*?y 4.11.1 合并曲线图 67 ~DYUI#x 4.11.2 自适应绘制 68
fFu+P<?" 4.11.3 动态绘图 68 \;&WF1d`ac 4.11.4 3D绘图 69 U .?N
4.12 导入和导出 73 ]%AmX-U 4.12.1 剪贴板 73 iTTUyftHT 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 .Jk[thyU 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 !S6zC > 4.13 背景 77 +T]/4"^M 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 HCOv<k 4.15 生成Rugate 84 $07;gpZt 4.16 参考文献 91 DIrQ5C 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ~>8yJLZ.7 5.1 Jobs 92 CUIFKM 5.2 创建一个新Job(工作) 93 \F`%vZrKR 5.3 输入材料 94 YN.[KQ(! 5.4 设计数据文件夹 95 sfb)iH|sW 5.5 默认设计 95 Zb> UY8 6 细化和合成 97 A HnXN%m 6.1 优化介绍 97 )1#J4 6.2 细化 (Refinement) 98 {O24:'K& 6.3 合成 (Synthesis) 100 `h%(ZG~ 6.4 目标和评价函数 101 )4h4ql W 6.4.1 目标输入 102 f]c{,LFvZ 6.4.2 目标 103 {yXpBS 6.4.3 特殊的评价函数 104 L\)GPTo!x 6.5 层锁定和连接 104 PfF5@W;E; 6.6 细化技术 104 jL^3/0"o 6.6.1 单纯形 105 -8Z;s8ACo 6.6.1.1 单纯形参数 106 >;wh0dBe 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 bF_SD\/ 6.6.2.1 Optimac参数 108 "{TVd>9_ 6.6.3 模拟退火算法 109 @\ udaZc 6.6.3.1 模拟退火参数 109 o03Y w)* 6.6.4 共轭梯度 111 [g<rzhC~= 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 42E%&DF 6.6.5 拟牛顿法 112 ;ZOu-B]q 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 3^!Y9$y1 6.6.6 针合成 113 w|t}.u 6.6.6.1 针合成参数 114 0oT~6BGm 6.6.7 差分进化 114 utSW> 6.6.8非局部细化 115 [2*?b/q3J 6.6.8.1非局部细化参数 115 mz-sazgV 6.7 我应该使用哪种技术? 116 l~mC$>f 6.7.1 细化 116 86 $88`/2 6.7.2 合成 117 5t=7- 6.8 参考文献 117 j Wpm"C
7 导纳图及其他工具 118 H6o_*Y 7.1 简介 118 ;W~H|M 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i#4}xvi 7.2.1 四分之一波长规则 119 HpCTQ\H 7.2.2 导纳图 120 Z'!Ii+'6 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 $?Dcp^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 l&JV.}qGB8 7.5 斜入射导纳图 141 2E0A` 7.6 对称周期 141 )
dB?Ep| 7.7 参考文献 142 5MX7V4ist 8 典型的镀膜实例 143 ro}WBv 8.1 单层抗反射薄膜 145 NflwmMJ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 xR~9|H9a 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 QgF2f/;! 8.4 W-膜层 148 &x"hM 8.5 V-膜层 149 b )(si/]\ 8.6 V-膜层高折射基底 150 &s0_^5B0 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 I+GP`=\ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ;{j@ia 8.9 四层抗反射薄膜 153 5K#<VU*: 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 r"4&.&6 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 NG+%H1!$_ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 "wi}/,) 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 9O4\DRe5c 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ;;>G}pG 8.15十五层宽带抗反射膜 159 [wkSY>Gu 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 z(dDX%k@ 8.17 1/4波长堆栈 162 <lN=<9 8.18 陷波滤波器 163 k*u4N 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 MhDPf]`
Gg 8.20 褶皱 165 Xh?J"kjof 8.21 消偏振分光器1 169 =WEWs4V5A 8.22 消偏振分光器2 171 P0c6?K6 j 8.23 消偏振立体分光器 172 Hfo/\\ 8.24 消偏振截止滤光片 173 b O9PpOk+z 8.25 立体偏振分束器1 174 {36QZV*P 8.26 立方偏振分束器2 177 Dzr(Fb 8.27 相位延迟器 178 F9J9zs*, 8.28 红外截止器 179
M2Zk1Z 8.29 21层长波带通滤波器 180 SO+J5,)HA 8.30 49层长波带通滤波器 181 j
V'~> 8.31 55层短波带通滤波器 182 D6fGr$(N% 8.32 47 红外截止器 183 lz:+y/+1 8.33 宽带通滤波器 184 yD yMI 8.34 诱导透射滤波器 186 tSX,*cz 8.35 诱导透射滤波器2 188 _]Y9Eoz 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 WqRaD=R->; 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 cnL@j_mb 8.35 增益平坦滤波器 193 j&l2n2z 8.38 啁啾反射镜 1 196 i*61i0 8.39 啁啾反射镜2 198 v$~ZT_"(9 8.40 啁啾反射镜3 199 4c,{Js 8.41 带保护层的铝膜层 200 )YPut. 8.42 增加铝反射率膜 201 #9/S2m2\YG 8.43 参考文献 202 mQ=nU 9 多层膜 204 7e/K YS+!s 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 =
KJ_LE~) 9.2 内部透过率 204 a=r^?q'/ 9.3 内部透射率数据 205 |>dqZ_)v 9.4 实例 206 *?R<gWCF 9.5 实例2 210 Clmz}F 9.6 圆锥和带宽计算 212 h,x'-]q 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 umI6# Vd`= 10 光学薄膜的颜色 216 "vF7b|I 10.1 导言 216 A)HV#T`N 10.2 色彩 216 bnxR)b~ 10.3 主波长和纯度 220 IJ2>\bW_p 10.4 色相和纯度 221 #vPf$y6jCI 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 PbIir= 10.6 色差 226 +8 }p-<a 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 9t"/@CH{ 10.8 颜色渲染指数 234 EViDMp" 10.9 色差计算 235 `y*o-St3 10.10 参考文献 236 gPY Cw?zQ 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 /rzZU} 3[ 11.1 短脉冲 238 pVC;''E 11.2 群速度 239 5@`DS-7h 11.3 群速度色散 241 a3B^RbDP&8 11.4 啁啾(chirped) 245 q/3 )yG6s 11.5 光学薄膜—相变 245 B'-L-]\H 11.6 群延迟和延迟色散 246 !^IAn 11.7 色度色散 246 q:3HU< 11.8 色散补偿 249 cE7IHQ 11.9 空间光线偏移 256 N6uKFQL:{ 11.10 参考文献 258 9RnXp&w 12 公差与误差 260 +*Pj,+;W 12.1 蒙特卡罗模型 260 h%!N!\ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 y R_x:,|g 12.2.1 误差工具 267 S)z5=N(Xz 12.2.2 灵敏度工具 271 X.)D"+xnH 12.2.2.1 独立灵敏度 271 5u^;71 12.2.2.2 灵敏度分布 275 1'YksuYx6f 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 V"W)u#4, 12.3 参考文献 276 BLcsIyq 13 Runsheet 与Simulator 277 t(\P8J 13.1 原理介绍 277 vj+ S 13.2 截止滤光片设计 277 )/4U]c{- 14 光学常数提取 289 |C3~Q{A 14.1 介绍 289 {GKq Ou 14.2 电介质薄膜 289 ZfSAXr "( 14.3 n 和k 的提取工具 295 c@)}zcw* 14.4 基底的参数提取 302 p'YNj3&u 14.5 金属的参数提取 306 @1tv/W
14.6 不正确的模型 306 )NCSO b 14.7 参考文献 311 O
K2|/y 15 反演工程 313 K91.-k3)$ 15.1 随机性和系统性 313 p<AzpkU,A 15.2 常见的系统性问题 314 XE.Y?{,R$ 15.3 单层膜 314 "bk'#?9 15.4 多层膜 314 }@NT#hD 15.5 含义 319 a!*K)x,"< 15.6 反演工程实例 319 $S{]` + 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 #hP&;HZ2>" 15.6.2 反演工程提取折射率 327 $ZfoJR]% 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 hwB>@r2 16.1 光学性质的热致偏移 329
>TQnCG= 16.2 应力工具 335 ,]8$QFf 16.3 均匀性误差 339 E@D}Sqt 16.3.1 圆锥工具 339 ;sfk@ec 16.3.2 波前问题 341 h;Se.{ 16.4 参考文献 343 TP?HxO_C 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 t9+ME| 17.1 引言 345 h;`]rK;g 17.2 操作数 345 t*cVDA&K | |