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2022-08-01 11:41 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
2C AR2V| 内容简介 tF:AqR:(~ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 KP&$Sl 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 6E{(_i 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ;~GBD] <!q_C5>XJ
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ?UV|m 目录 @y2cC6+'t Preface 1 im@QJ: 内容简介 2 bJcO,M:2 目录 i hrW2#v 1 引言 1 @xeJ$
rlu 2 光学薄膜基础 2 ]oLyvG 2.1 一般规则 2 :n,x?bM 2.2 正交入射规则 3 6w4HJZF~ 2.3 斜入射规则 6 $DW__h 2.4 精确计算 7 oFKTBH:I 2.5 相干性 8 xri(j,mU 2.6 参考文献 10 LSrKi$ 3 Essential Macleod的快速预览 10 cAq5vAqmg 4 Essential Macleod的特点 32 [P`<y#J3F 4.1 容量和局限性 33 |RL\2j| 4.2 程序在哪里? 33 _%u t# 4.3 数据文件 35 "hnvND4= 4.4 设计规则 35 n.XgGT=L 4.5 材料数据库和资料库 37 =~TPrO^ 4.5.1材料损失 38 {_4`0J`3 4.5.1材料数据库和导入材料 39 05Q4$P 4.5.2 材料库 41 4BZ7R,m#. 4.5.3导出材料数据 43 [)?yH3 4.6 常用单位 43 %c@PTpAM 4.7 插值和外推法 46 Q^8/"aV\ 4.8 材料数据的平滑 50 =E62N7_`= 4.9 更多光学常数模型 54 hi/Z>1ZOX 4.10 文档的一般编辑规则 55 Z*'<9l_1 4.11 撤销和重做 56 3oV2Ek<d 4.12 设计文档 57 LIll@2[ 4.10.1 公式 58 Fj46~#ZZ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 KQ^|prN?y 4.10.3 沉积密度 59 n~ZZX={a 4.10.4 平行和楔形介质 60 Z7I\\M 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 n#sK31;yb 4.10.4 性能 61 vX_;Y#uD 4.10.5 保存设计和性能 64 [6Q1yNE 4.10.6 默认设计 64 S9[Y1qH>K 4.11 图表 64 NA$%Up 4.11.1 合并曲线图 67 R$`%<Y3) 4.11.2 自适应绘制 68 \Hw*q| 4.11.3 动态绘图 68 p6&<eMwFA 4.11.4 3D绘图 69 OC)=KV@KE 4.12 导入和导出 73 DOOF--ua 4.12.1 剪贴板 73 j`#H%2W\; 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ' g d=\gV 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ix"BLn]YZ 4.13 背景 77 "wCx]{Di 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 -f*5lkO 4.15 生成Rugate 84 [+L!c}# 4.16 参考文献 91 B|.A6:1g+ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ]WK~`-3C^ 5.1 Jobs 92 +BDW1% 5.2 创建一个新Job(工作) 93 {<1uV']x 5.3 输入材料 94 B4* uS ( 5.4 设计数据文件夹 95 -d-xsP}
s 5.5 默认设计 95 ;p7R~17 6 细化和合成 97 {0% 6.1 优化介绍 97 G7i0P j 6.2 细化 (Refinement) 98 .[+}nA,g%~ 6.3 合成 (Synthesis) 100 UXh%DOq
6.4 目标和评价函数 101 ?vFtv}@\ 6.4.1 目标输入 102 ^Vi{._r 6.4.2 目标 103 ,&
wd 6.4.3 特殊的评价函数 104 hl0\$ 6.5 层锁定和连接 104 uzT+, 6.6 细化技术 104 x3sX=jIW_ 6.6.1 单纯形 105 Cm]\5}Py 6.6.1.1 单纯形参数 106 `q`ah_ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 W>qu~ak?x 6.6.2.1 Optimac参数 108 QNXoAx%I 6.6.3 模拟退火算法 109 {Us^4Xe 6.6.3.1 模拟退火参数 109 \4>w17qng 6.6.4 共轭梯度 111 )~gIJW 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 {jv+ JL"5 6.6.5 拟牛顿法 112 5V~vND*
s 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 JTObyAoW 6.6.6 针合成 113 R"l6|9tmP 6.6.6.1 针合成参数 114 N|%r5% 6.6.7 差分进化 114 ^cE {Uv 6.6.8非局部细化 115 S}cR+d1}h 6.6.8.1非局部细化参数 115 dkY JO! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 a:OM I 6.7.1 细化 116 y4r?M8]"r 6.7.2 合成 117 HAo=t 6.8 参考文献 117 >?_}NZ,y 7 导纳图及其他工具 118 59p'U /| 7.1 简介 118 ;Qi!~VsP; 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 cucmn*o? 7.2.1 四分之一波长规则 119 ? JTTl; 7.2.2 导纳图 120 1GIBqs~- 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ^>>9? 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 F|VKrH. 7.5 斜入射导纳图 141 G
B,O 7.6 对称周期 141 ng~LCffpY 7.7 参考文献 142 R4T@ ]l&W 8 典型的镀膜实例 143 <lNNT6[/r 8.1 单层抗反射薄膜 145 C<(qk _ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 {p$@)b 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 `'*4B_. 8.4 W-膜层 148 Jw#7b[a 8.5 V-膜层 149 bBV03_* 8.6 V-膜层高折射基底 150 J}+N\V~ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 +0j{$MPZ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 Om;aE1sW 8.9 四层抗反射薄膜 153 UbGnU_} 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 p Q!lY 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Lb?q5_ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 [La}h2gz 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 US=K}B=g 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 jl]3B 8.15十五层宽带抗反射膜 159 Q`NdsS2 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 %IE;'aa
} 8.17 1/4波长堆栈 162 j%D{z5,nKm 8.18 陷波滤波器 163 XT*/aa-1' 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 o3eaNYa 8.20 褶皱 165 [b& | |