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2022-08-01 11:41 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
X7rMeu 内容简介 <_7*67{ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aTt12Sc 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 wp&=$Aa)' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 H-
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讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 :8OZ#D_Hl 目录 Oeok; : Preface 1 .X;3,D[w 内容简介 2 4T ~} 目录 i 2 O%`G+\) 1 引言 1 #)nSr 2 光学薄膜基础 2 }"|K(hq 2.1 一般规则 2 h D/*h*}T> 2.2 正交入射规则 3 `7r@a 2.3 斜入射规则 6 p9x(D/YP0 2.4 精确计算 7 \pVXimam 2.5 相干性 8 Sn|BlXrey 2.6 参考文献 10 "/wyZ 3 Essential Macleod的快速预览 10 *+#8mA( 4 Essential Macleod的特点 32 Ck)*& 4.1 容量和局限性 33 2I,^YWR 4.2 程序在哪里? 33 T:=lz:}I 4.3 数据文件 35 (^Y~/ 4.4 设计规则 35 A|<jX} 4.5 材料数据库和资料库 37 )84 ~ugs 4.5.1材料损失 38 ?k(7 LX0j 4.5.1材料数据库和导入材料 39 {y_98N 4.5.2 材料库 41 q-}Fvel u 4.5.3导出材料数据 43 Tu).K.p: 4.6 常用单位 43 5?]hd*8 4.7 插值和外推法 46 zo4qG+>o 4.8 材料数据的平滑 50 G?Q3/y( 4.9 更多光学常数模型 54 `ojoOB^L 4.10 文档的一般编辑规则 55 ,Y/ g2
4R 4.11 撤销和重做 56 f,018]| 4.12 设计文档 57 )p<ExMIxd 4.10.1 公式 58 hHV";bk 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 2#c<\s|C 4.10.3 沉积密度 59 &E.^jR~* 4.10.4 平行和楔形介质 60 ur:3W6ZKl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 |#]@Z)xa 4.10.4 性能 61 ^\4h<M 4.10.5 保存设计和性能 64 Z{]0jhUyNh 4.10.6 默认设计 64 ;V *l.gr'2 4.11 图表 64 Ab{ K<:l 4.11.1 合并曲线图 67 PoG-Rqe 4.11.2 自适应绘制 68 w9< R#y[A 4.11.3 动态绘图 68 MkfBuW;) 4.11.4 3D绘图 69 /`wvxKX 4.12 导入和导出 73 %C|n9* 4.12.1 剪贴板 73 _V7s#_p 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 j+$rj 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 r]:(Vk]|F 4.13 背景 77 &,{fw@#)_ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ;$.J3! 4.15 生成Rugate 84 _Xk.p_uh 4.16 参考文献 91 Rwz0poG`WG 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 CDQW !XHc 5.1 Jobs 92 -p]1=@A<} 5.2 创建一个新Job(工作) 93 PQ5QA61 5.3 输入材料 94 xhVO3LW' 5.4 设计数据文件夹 95 Enum/O5 5.5 默认设计 95 Q(wx nm 6 细化和合成 97 !dyXJQ 6.1 优化介绍 97 4|riKo) 6.2 细化 (Refinement) 98 6dabU* 6.3 合成 (Synthesis) 100 [q?<Qe 6.4 目标和评价函数 101 6jE| 6.4.1 目标输入 102 6e9,PS 6.4.2 目标 103
D~S<U 6.4.3 特殊的评价函数 104 X' H[7 ^W 6.5 层锁定和连接 104 l;R%= P?'F 6.6 细化技术 104 <D<4BnZ( 6.6.1 单纯形 105 Pg,b-W?n* 6.6.1.1 单纯形参数 106 Wbr|_W 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 8xMEe:}V 6.6.2.1 Optimac参数 108 E ~Sb 6.6.3 模拟退火算法 109 \<JSkr[h!" 6.6.3.1 模拟退火参数 109 yu!h<nfzA 6.6.4 共轭梯度 111 A9I{2qW9+Z 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ^1iSn)& 6.6.5 拟牛顿法 112 $HHs ^tW 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 vQosPS_2L 6.6.6 针合成 113 n.'8A(,r3 6.6.6.1 针合成参数 114 :ubV }; 6.6.7 差分进化 114 S?1AFI9{ 6.6.8非局部细化 115 (eI5_`'VC 6.6.8.1非局部细化参数 115 PF)jdcX 6.7 我应该使用哪种技术? 116 "c3Grfoz 6.7.1 细化 116 S%bCyK%p 6.7.2 合成 117 ALrw\qV 6.8 参考文献 117 "6MVvpy" 7 导纳图及其他工具 118 t3*wjQ3 7.1 简介 118 ZZ2vvtlyG 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 _4"mAPt 7.2.1 四分之一波长规则 119 `eE& | |