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2022-08-01 11:41 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
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h$Y8 内容简介 (yTz^o$t| Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 *=0r>] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 .s*EV!SE 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 [QqNsco) S{)n0/_
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 [dF=1E>W_J 目录
6p6Tse] Preface 1 z&vms 内容简介 2 *u4X<oBS* 目录 i <C96]}/ ? 1 引言 1 ]XafFr6pe 2 光学薄膜基础 2 WKJL<
D ]: 2.1 一般规则 2 +G[HZ,FL 2.2 正交入射规则 3 (cA|N0 2.3 斜入射规则 6 `"b7y(M 2.4 精确计算 7 GV@E<dg$R 2.5 相干性 8 m#K%dR
2.6 参考文献 10 PXu<4VF 3 Essential Macleod的快速预览 10 _,0!ZP- 4 Essential Macleod的特点 32 C<@1H>S4_ 4.1 容量和局限性 33 l}-`E@w 4.2 程序在哪里? 33 ~)8i5p;P/k 4.3 数据文件 35 jv=f@:[`I 4.4 设计规则 35 -+_aL4. 4.5 材料数据库和资料库 37 Tocdh.H| 4.5.1材料损失 38
nK'8Mo 4.5.1材料数据库和导入材料 39 p'!,F; xX 4.5.2 材料库 41 2Yd~v| 4.5.3导出材料数据 43 2:/MN2 4.6 常用单位 43 bnY8.Lpf| 4.7 插值和外推法 46 8lGgp&ey 4.8 材料数据的平滑 50 <H@!Xw; 4.9 更多光学常数模型 54 {ro!OuA 4.10 文档的一般编辑规则 55 ts\>_/ 4.11 撤销和重做 56 -xgmc-LGo 4.12 设计文档 57 +siNU#! 4.10.1 公式 58 c%/&@vs7 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 gH//
TbS 4.10.3 沉积密度 59
mFoK76 4.10.4 平行和楔形介质 60 B:#0B[ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 vfTG*jG 4.10.4 性能 61 !3Z|!JY 4.10.5 保存设计和性能 64 ]JPPL4wAT 4.10.6 默认设计 64 I5OH=,y` 4.11 图表 64 YIUmCx0a 4.11.1 合并曲线图 67 _"bvT?| 4.11.2 自适应绘制 68 9l_?n@ 4.11.3 动态绘图 68 P(nHXVSUE 4.11.4 3D绘图 69 UMW^0>Z!v 4.12 导入和导出 73 oqHm:u^2 4.12.1 剪贴板 73 ;~$ $WU 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ;U3Vows 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 x2c*k$<p 4.13 背景 77 Wc;D{p?Lb 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Eq;frnw>q 4.15 生成Rugate 84 6U9Fa=%>} 4.16 参考文献 91 Ns8NaD 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 /r@ 5.1 Jobs 92 5nqdY* 5.2 创建一个新Job(工作) 93 +1fOW4!5 5.3 输入材料 94 vS__*}^ 5.4 设计数据文件夹 95 3Il/3\ 5.5 默认设计 95 XXmu|h 6 细化和合成 97 HwMsP$`q 6.1 优化介绍 97 [m[~A|S 6.2 细化 (Refinement) 98 @@mW+16 6.3 合成 (Synthesis) 100 ?ML<o>OKg 6.4 目标和评价函数 101 ~cj:AIF 6.4.1 目标输入 102 MJpTr5Vs 6.4.2 目标 103 ibUPd."W 6.4.3 特殊的评价函数 104 ]!o,S{a& 6.5 层锁定和连接 104 UI|@5:J 6.6 细化技术 104 p: 6.6.1 单纯形 105 Cy'W!qH 6.6.1.1 单纯形参数 106 @$}\S 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 MtTHKp 6.6.2.1 Optimac参数 108 `9{C/qB 6.6.3 模拟退火算法 109 k r^#B^ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 luog_;{h+ 6.6.4 共轭梯度 111 usf(U> 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 *]?YvY 6.6.5 拟牛顿法 112 ,.MG&O 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 vg1s5Yqk 6.6.6 针合成 113 CGl+!t{ 6.6.6.1 针合成参数 114 ;K-t 6.6.7 差分进化 114 O'U,|A 6.6.8非局部细化 115 ZaindX{.1 6.6.8.1非局部细化参数 115 Cms"OkN 6.7 我应该使用哪种技术? 116 IFoN<<7/2$ 6.7.1 细化 116 =H?5fT^
6.7.2 合成 117 ^qr[?ky]& 6.8 参考文献 117 ]r5Xp#q2 7 导纳图及其他工具 118 d0E5 ;3tQ 7.1 简介 118 UpBYL?+L 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 uW_ /7ex 7.2.1 四分之一波长规则 119 S^=/}PT' 7.2.2 导纳图 120 k
rjd:*E 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vA~hkkj{ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 <QLj6#d7Y 7.5 斜入射导纳图 141 NH6!|T 7.6 对称周期 141 o7B+f 7.7 参考文献 142 5*Iz3vTq 8 典型的镀膜实例 143 !gQ(1u|r 8.1 单层抗反射薄膜 145 WTN!2b 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 :$d 3a"] 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ,kuOaaV7K 8.4 W-膜层 148 'Q,<_L" 8.5 V-膜层 149 aKcV39brr 8.6 V-膜层高折射基底 150 T5G+^XDA 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Py<vN! 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 e{S`iO 8.9 四层抗反射薄膜 153 "+Rm4_ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 xF0*q 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 PmTd+Gj$ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 $"1&! 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 NKYyMHv6 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 lph_cY3p 8.15十五层宽带抗反射膜 159 THZ3%o=X 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 Np_6ZUaqz 8.17 1/4波长堆栈 162 y+h=x4t 8.18 陷波滤波器 163 Vdyx74xX 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 "$9ZkADO 8.20 褶皱 165 i?9Lf 8.21 消偏振分光器1 169 NYRNop( N# 8.22 消偏振分光器2 171 Cvy;O~) 8.23 消偏振立体分光器 172 0Z(b/fdS 8.24 消偏振截止滤光片 173 5J3kQ;5Q? 8.25 立体偏振分束器1 174 T3 Fh7S / 8.26 立方偏振分束器2 177 ?Kf@/jv 8.27 相位延迟器 178 6Wp:W1E{` 8.28 红外截止器 179 ]ORat.*0[T 8.29 21层长波带通滤波器 180 VNPdL 8.30 49层长波带通滤波器 181 #xB%v 8.31 55层短波带通滤波器 182 H&+s& | |