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2022-08-01 11:41 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
Mp=2}d%P 内容简介 ! 6kLL Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 GE`:bC3 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 <qD/ #$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 P q\m8iS,w )3_I-Ia
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 yvxdl=s 目录 +8e~jf3E1 Preface 1 o9)pOwk7; 内容简介 2 8*rd`k1|g 目录 i 3,~M`~B 1 引言 1 G[4TT# 2 光学薄膜基础 2 yc.Vm[! 2.1 一般规则 2 t+'|&b][Qi 2.2 正交入射规则 3 ?CB*MWjd 2.3 斜入射规则 6 7^|oO~x6 2.4 精确计算 7 [6@{^ 2.5 相干性 8 /+\m7IS 2.6 参考文献 10 Z%3] 3 Essential Macleod的快速预览 10 0be1aY;m& 4 Essential Macleod的特点 32 )clSW 4.1 容量和局限性 33 K ~"J<798{ 4.2 程序在哪里? 33 `UFRv 4.3 数据文件 35 (0s7<&Iu 4.4 设计规则 35 Nx~9Ug 4.5 材料数据库和资料库 37 (are2!Oq 4.5.1材料损失 38 +0U{CmH 4.5.1材料数据库和导入材料 39 a!MhxM5 4.5.2 材料库 41 @OOnO+g 4.5.3导出材料数据 43
laX(?{_ 4.6 常用单位 43 >$=-0?. 4.7 插值和外推法 46 -.A%c(|Q 4.8 材料数据的平滑 50 p<1z!`!P 4.9 更多光学常数模型 54 &fJ92v?%^S 4.10 文档的一般编辑规则 55 Qmxe*@{` 4.11 撤销和重做 56 Jy)E!{#x 4.12 设计文档 57 6e,|HV 4.10.1 公式 58 :34#z.O 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ^R* _Q,o# 4.10.3 沉积密度 59 L/1zG/@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 0z)
8i P 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
,lX5-1H 4.10.4 性能 61 ugexkdgM 4.10.5 保存设计和性能 64 ji(W+tQ2Y' 4.10.6 默认设计 64 &V7@ TZ 4.11 图表 64 QjH;'OVt 4.11.1 合并曲线图 67 :TU;%@7 4.11.2 自适应绘制 68 "p>$^ 4.11.3 动态绘图 68 )(~s-x^\z@ 4.11.4 3D绘图 69 8Xpf|?. 4.12 导入和导出 73 !g}?x3 4.12.1 剪贴板 73 tydD~a 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 %VG;vW\V 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 /(C?3}}L 4.13 背景 77 HRkO.230
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Rd6? , 4.15 生成Rugate 84 1qWIku 4.16 参考文献 91
DDkH`R 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 `>CHE'_ 5.1 Jobs 92 ;h[p " 5.2 创建一个新Job(工作) 93 3`PPTG 5.3 输入材料 94 TWF6YAQm 5.4 设计数据文件夹 95 ~l$u~:4Ob 5.5 默认设计 95 ?>b>LDpx? 6 细化和合成 97 K_/8MLJQ 6.1 优化介绍 97 H..g2;D 6.2 细化 (Refinement) 98 / fBi9=}+ 6.3 合成 (Synthesis) 100 Oo'IeXQ9( 6.4 目标和评价函数 101 UhuEE 6.4.1 目标输入 102 C?@vBM} 6.4.2 目标 103 yl|?+ 6.4.3 特殊的评价函数 104 )N[9r{3 6.5 层锁定和连接 104 6?y<F4
6.6 细化技术 104 C/Vs+aW
n 6.6.1 单纯形 105 2e_ssBbb 6.6.1.1 单纯形参数 106 Il(p!l<Xz# 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 r|$@Wsb?# 6.6.2.1 Optimac参数 108 .?7u'%6x?{ 6.6.3 模拟退火算法 109 }*.S=M]y$ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ~jdvxoX- 6.6.4 共轭梯度 111 _'9("m V 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 i#/,Q1yEn 6.6.5 拟牛顿法 112 x]
[/9e 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 K)z{R n 6.6.6 针合成 113 Yud]s~N 6.6.6.1 针合成参数 114 JCoDe. 6.6.7 差分进化 114 *_G(*yAe( 6.6.8非局部细化 115 /Qh 6.6.8.1非局部细化参数 115 R `}C/'Ty 6.7 我应该使用哪种技术? 116 t']d_Vcza 6.7.1 细化 116 h2kba6rwk 6.7.2 合成 117 yuyI)ebC 6.8 参考文献 117 @<]sW*s 7 导纳图及其他工具 118 O
<;Au|>* 7.1 简介 118 s Xyc _3N 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 6H+'ezM 7.2.1 四分之一波长规则 119 9Q{-4yF9k 7.2.2 导纳图 120 H4%2"w6|! 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ~JjL411pG 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 7!%/vO0m 7.5 斜入射导纳图 141 RbPD3&. 7.6 对称周期 141 Ore>j+ 7.7 参考文献 142 B|%(0j8 8 典型的镀膜实例 143 cj
?aCVa 8.1 单层抗反射薄膜 145 ;Du+C% 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ${(v
Er#}k 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #-76E 8.4 W-膜层 148 Cjh0 .{ 8.5 V-膜层 149 >eX&HS oy 8.6 V-膜层高折射基底 150 >uVo'S. 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 q18IqY*Lo 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 j\W"P_ dpd 8.9 四层抗反射薄膜 153 XY1D< | |