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2022-07-14 14:34 |
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)
2022新书强烈推荐 v0u, :eZ4 v&r\Z @% 内容简介 f <pJ_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 -n~%v0D8c 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 #j4jZBOTM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \Y^GA;AMQQ Wo+^R%K'4
讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 kj/v$m 目录 =cWg39$(I Preface 1 W_RN@O 内容简介 2 G6q*U, 目录 i e_3($pj 1 引言 1 ^k5# {?I 2 光学薄膜基础 2 9^1li2z k{ 2.1 一般规则 2 bT c^huP 2.2 正交入射规则 3
>B$J 2.3 斜入射规则 6 n0%5mTUN 2.4 精确计算 7 >?|c>HGX 2.5 相干性 8 ]:}x 4O# 2.6 参考文献 10 tNC;CP#R+ 3 Essential Macleod的快速预览 10 4;V;8a\A 4 Essential Macleod的特点 32 5Mz6/&` 4.1 容量和局限性 33 :@#6]W 4.2 程序在哪里? 33 w"
,ab j 4.3 数据文件 35 u]MQ(@HHF 4.4 设计规则 35 Z7J4rTA 4.5 材料数据库和资料库 37 Q=h37]U+ 4.5.1材料损失 38 +6Ye'IOG 4.5.1材料数据库和导入材料 39 KSQ*HO)5 4.5.2 材料库 41 4GG0jCNk 4.5.3导出材料数据 43 yII+#?D 4.6 常用单位 43 D8\9nHUD` 4.7 插值和外推法 46 Y{g[LG`U 4.8 材料数据的平滑 50 Ls/*&u 4.9 更多光学常数模型 54 v{pW/Fu~ 4.10 文档的一般编辑规则 55 d-'BT(@: 4.11 撤销和重做 56 >9,:i)m_ 4.12 设计文档 57 BDT"wy8 4.10.1 公式 58 DA^!aJ6iF 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Mk8k,"RG&Z 4.10.3 沉积密度 59 Ib2n Bg>j 4.10.4 平行和楔形介质 60 oq[r+E-]$@ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 n*r Xj{Kt 4.10.4 性能 61 (kL(:P/ 4.10.5 保存设计和性能 64 @BMuov 4.10.6 默认设计 64 c]A @'{7 4.11 图表 64 tu6<> 4.11.1 合并曲线图 67 .s\_H, 4.11.2 自适应绘制 68 m*vz 4.11.3 动态绘图 68 R#4f_9e<Z 4.11.4 3D绘图 69 0.0r?T 4.12 导入和导出 73 (je`sV 4.12.1 剪贴板 73 ZDx1v_xr 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 FYIz_GTk 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Qb8Z+7 4.13 背景 77 <z8z\4Hz 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 cK\'D 4.15 生成Rugate 84 R{UZCFZ 4.16 参考文献 91 6f)7*j~ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 &Y1RPO41J 5.1 Jobs 92 TUq
, 5.2 创建一个新Job(工作) 93 &"d
:+!4h 5.3 输入材料 94 Oar%LSkPRz 5.4 设计数据文件夹 95 V)]lca 5.5 默认设计 95 A9y@v{txN 6 细化和合成 97 *Rgl(Ba 6.1 优化介绍 97 uvJmEBL: 6.2 细化 (Refinement) 98 |}Mt hj9n 6.3 合成 (Synthesis) 100 L~*nI d 6.4 目标和评价函数 101 ubQr[/ 6.4.1 目标输入 102 B/dJj# 6.4.2 目标 103 OmZK~$K_ 6.4.3 特殊的评价函数 104 J3hhh(
6.5 层锁定和连接 104 ?N]G;%3/ 6.6 细化技术 104 &'u%|A@ 6.6.1 单纯形 105 CEJqo8ds 6.6.1.1 单纯形参数 106 "qoJIwl#q 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Lw`}o` D 6.6.2.1 Optimac参数 108 WF-^pfRq~ 6.6.3 模拟退火算法 109 n^` `)" 6.6.3.1 模拟退火参数 109 d(^3S>V|q 6.6.4 共轭梯度 111 (dP9`Na] 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 zz #IY'dwT 6.6.5 拟牛顿法 112 oxLO[js 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 HpS1(%d" 6.6.6 针合成 113 l $0w 9Z^ 6.6.6.1 针合成参数 114 jvhD_L/ 6.6.7 差分进化 114 ;iz3Bf1o 6.6.8非局部细化 115 WS"v"J% 6.6.8.1非局部细化参数 115 tG[v@-O 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ?f*>=;7= 6.7.1 细化 116 `HILsU=| 6.7.2 合成 117 *~^%s+b 6.8 参考文献 117 Q}uh`?t 7 导纳图及其他工具 118 XsX];I{E, 7.1 简介 118 [6)vD@ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 n<Ki.;-ZE 7.2.1 四分之一波长规则 119 eBqF@'DQ 7.2.2 导纳图 120 j.:f=`xf 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 vH@$?b3VP 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 S*%:ID|/C2 7.5 斜入射导纳图 141 0>:`|IGnT2 7.6 对称周期 141 +1Pu29B0 7.7 参考文献 142 7e
/Kh)5G 8 典型的镀膜实例 143 GK&R.R] 8.1 单层抗反射薄膜 145 lM.k*`$ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 a>S-50 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %:y"o_X_ 8.4 W-膜层 148 OT#foP 8.5 V-膜层 149 Pt7C/
qM/ 8.6 V-膜层高折射基底 150 PMe 3Or@ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 B RtT 7 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 le2 v"Y 8.9 四层抗反射薄膜 153 ?uXY 6J" 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ZWx4/G 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 XlJ+:st 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 p<&d | |