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infotek 2022-07-14 09:07

二维周期光栅结构(菱形)光波导的应用

F 6C7k9  
如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导系统,结合微结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、偏振和衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形光栅结构组成。 %OP|%^2  
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建模任务:专利WO2018/178626 zMd><UQP{  
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     ;^|):x+O  
任务描述 oe!4ng[  
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光波导元件 n^*,JL 9@  
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使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 O2"V'(  
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光波导结构 =YD<q:n4  
6~x a^3G:  
使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 Bx6,U4o*  
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光栅#1:一维倾斜周期光栅 5u3KL A  
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S\!vDtD@  
几何布局展示了2个光栅: <FI*A+I4\  
@AK&R~<  
R~fk/T?  
•光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅 u]i%<Yy89  
•光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交) bm4Bq>*=U  
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光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 C[d1n#@r  
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使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。 #M5d,%?+#[  
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}X/YMgJ  
可用参数: Dsb Tx.vA  
•周期:400纳米 VJ_fA}U  
•z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm P ?n k>  
•填充系数(非平行情况下底部或顶部):50% 'GiN^Y9dcc  
•倾斜角度:40o c;06>1=wP5  
jicH94#(]  
\fuz`fK:  
     lnm@DWhf  
     XXA]ukj;r  
总结—元件 99CK [G  
FK`:eP{  
+{C)^!zBK  
具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。 rK`^A  
Q w - z  
H)EL0 Kv/  
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可用参数: _VTpfeL@n  
•周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米) `%"x'B`mM  
•调制深度:100nm ,v#n\LD`  
•填充系数:65% V{w &RJ  
•菱形网格的角度:30° g j]8/~lr  
AO|1m$xf  
-KH"2q  
         m^3j|'mG  
总结——元件 X.[bgvm~C  
AE~@F4MK  
dU2;   
*+2_!=4V  
Oh>hy Y)}  
u86PTp+  
结果:系统中的光线 ~(huUW  
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x(R;xB  
     \ym^~ Q|  
结果 n;$u%2t2  
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结果:场追迹 R[S1<m;  
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VirtualLab Fusion技术 )pT5"{  
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