| 杜伟 |
2005-11-09 15:25 |
抛光常见疵病产生原因及克服方法
抛光常见疵病产生原因及克服方法 ^y&q5p jj 印迹 4=u+ozCG 1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 Ho|o,XvLv 2)玻璃化学稳定性不好 +<S9E'gT3V 3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 44\!PYf7 克 服 方 法 M:R8<.{ 1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 S:/{ 2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 yJDeX1+, 3)避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 3.Ji5~ 光圈变形 %9t{Z1$ 1)粘结胶粘结力不适 j(0Ilx|7v 2)光圈未稳定既下盘 9 wAA.
-" 3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) j_!bT!8 4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 |:./hdcad 克 服 方 法 J"diFz+20 1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 Ba/RO36&c 2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 t";{1. 3)刚盘定期进行检测和修正 t(}/g 4)严格按工艺和上盘操作规程加工 A/!<kp{S 麻点: y&1%1 #8F 产 生 原 因 >eQbipn 1) 精细磨、抛光时间不够 gh TcB 2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 LyGUvi 3)有粗划痕抛断后的残迹 As0 B\ 4)方形或长方形细磨后塌角 DeH0k[o 5)零件在镜盘上由于加工造成走动 ( : 6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 3FFaEl 7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 /$;,F't#2M 克 服 方 法 5QAdcEcN@O 1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 %Nj #0YF] 2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 doBNghS 3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 S"zk!2@C 4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 27m@|M] R 5)选用适当的粘结胶,控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 H#+\nT2m 6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 (/&;jV2DD[ 7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
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