| 杜伟 |
2005-11-09 15:25 |
抛光常见疵病产生原因及克服方法
抛光常见疵病产生原因及克服方法 Qp-nr ]
印迹 DE. Pw+5<.
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 YjsaTdZ!&
2)玻璃化学稳定性不好 6}<PBl%qe
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 -R:1-0I $
克 服 方 法 0 "<g g5
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 CBO8^M<K
2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 t#<q O6& B
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 sG^b_3o)A
光圈变形 d/* [t!
1)粘结胶粘结力不适 blS*H Kw
2)光圈未稳定既下盘 m_St"`6 .
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) (M[Kh ^
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 ;
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克 服 方 法 dnN "
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 E=7" };
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 L5e aQu
3)刚盘定期进行检测和修正 N;s sO,
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 o^>*aQ!7<D
麻点： !8P#t{2_|
产 生 原 因 q A G0t{K
1) 精细磨、抛光时间不够 M/B_-8B_D
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 {k maMP
3)有粗划痕抛断后的残迹 w8@ Ok_fj
4)方形或长方形细磨后塌角 YDDw vk
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5)零件在镜盘上由于加工造成走动 *h]qh20t
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 fHwh 6|
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 "-I>
克 服 方 法 xu_Tocvop
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 2{{M{#}S.
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 i?mDR$X:
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 )B8[ w
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 # Dy;x\a
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 5*4P_q(AxD
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 < Oy%
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
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