| 杜伟 |
2005-11-09 15:25 |
抛光常见疵病产生原因及克服方法
抛光常见疵病产生原因及克服方法
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印迹 d ^`?ed\1
1)抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹 n?V+dC=F}
2)玻璃化学稳定性不好 "yW:\
3)水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净 T1H"\+
克 服 方 法 NFv> B>
1)选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚胺脂)抛光模使之吻合 ={u0_ j
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2)抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护漆 &\_iOw8
3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘干 m4*@o? Ow
光圈变形 Vx-7\NB
1)粘结胶粘结力不适 Dl}$pN
2)光圈未稳定既下盘 0 iJue &
3)刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔脏或变形) dUsx vho
4)刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等 Rn@# d}
克 服 方 法 Sf8{h|71
1)光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法 Q%f|~Kl-hd
2)应按工件大小给予一定的光圈稳定时间 %.vVEy
3)刚盘定期进行检测和修正 c_>f0i
4）严格按工艺和上盘操作规程加工 9 Y Bv|A
麻点： {^N[("`
产 生 原 因 ~ar=P mYV7
1) 精细磨、抛光时间不够 KZeQ47|
2) 精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大 $.bBFWk
3)有粗划痕抛断后的残迹 h\'n**f_x
4)方形或长方形细磨后塌角 4
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5)零件在镜盘上由于加工造成走动 4!wR_@W^El
6) 精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分 'PP #^aI,
7) 抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率 &
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克 服 方 法 ?^N3&ukkyo
1) 精细磨应除去上道粗砂眼, 抛光时间应足够 2;?I>~
2) 精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工 y\x +
3)发现后应作出标识单独摆放或重抛 e$pMsw 'MJ
4)用开槽平模细模、添加砂要均匀 }C|dyyr
5)选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热, 粘结胶厚度应符合标准 5+wAzVA
6)精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作 =J~ x
7)更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性管理
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